KR20150044773A - 몰드 및 이를 이용하여 제조된 터치 윈도우 - Google Patents

Abstract

실시예에 따른 몰드는, 제1 영역 및 제2 영역을 포함하는 기재; 상기 제1 영역 및 상기 제2 영역 각각에 배치되고, 일 방향으로 연장되는 제1 패턴; 및 상기 기재 상에 배치되는 제2 패턴을 포함한다.
실시예에 따른 터치 윈도우는, 기판; 상기 기판 상에 배치되는 제1 서브패턴; 상기 제1 서브패턴에 인접하여 배치되는 제2 서브패턴; 및 상기 제2 서브패턴에 배치되는 전극층을 포함하고, 상기 제1 서브패턴의 일부는 서로 엇갈린다.

Description

몰드 및 이를 이용하여 제조된 터치 윈도우{MOLD AND TOUCH WINDOW MANUFACTURED USING THE SAME}

본 기재는 몰드 및 이를 통해 제조된 터치 윈도우에 관한 것이다.

최근 다양한 전자 제품에서 디스플레이 장치에 표시된 화상에 손가락 또는 스타일러스(stylus) 등의 입력 장치를 접촉하는 방식으로 입력을 하는 터치 패널이 적용되고 있다.

터치 패널은 대표적으로 저항막 방식의 터치 패널과 정전 용량 방식의 터치 패널로 구분될 수 있다. 저항막 방식의 터치 패널은 입력 장치에 압력을 가했을 때 전극 간 연결에 따라 저항이 변화하는 것을 감지하여 위치가 검출된다. 정전 용량 방식의 터치 패널은 손가락이 접촉했을 때 전극 사이의 정전 용량이 변화하는 것을 감지하여 위치가 검출된다. 제조 방식의 편의성 및 센싱력 등을 감안하여 소형 모델에 있어서는 최근 정전 용량 방식이 주목받고 있다.

이러한 터치 패널의 투명 전극으로 가장 널리 쓰이는 인듐 주석 산화물(indium tin oxide, ITO)은 가격이 비싸고, 기판의 굽힘과 휨에 의해 물리적으로 쉽게 타격을 받아 전극으로의 특성이 악화되고, 이에 의해 플렉시블(flexible) 소자에 적합하지 않다는 문제점이 있다. 또한, 대형 크기의 터치 패널에 적용할 경우 높은 저항으로 인한 문제가 발생한다.

이러한 문제점을 해결하기 위해 대체 전극에 대한 활발한 연구가 진행되고 있다. 특히, 금속 물질을 메쉬(mesh) 형상으로 형성하여 ITO를 대체하고자 한다. 메쉬 형성 시, 나노패턴과 마이크로패턴을 갖는 대면적의 몰드를 이용하여 임프린팅할 수 있다. 이러한 대면적의 몰드를 위해 대면적의 나노패턴을 형성하여야 하는데, 대면적의 나노패턴을 한번에 형성하기에는 기술적, 가격적인 면에서 어려움이 있다. 또한, 적층형 터치 패널 제작 시, 셀(cell)이 복수 개로 어레이 되어 있어 정확한 얼라인이 어렵다는 문제가 있다.

실시예는 신뢰성이 향상된 몰드 및 터치 윈도우를 제공하고자 한다.

실시예에 따른 몰드는, 제1 영역 및 제2 영역을 포함하는 기재; 상기 제1 영역 및 상기 제2 영역 각각에 배치되고, 일 방향으로 연장되는 제1 패턴; 및 상기 기재 상에 배치되는 제2 패턴을 포함한다.

실시예에 따른 터치 윈도우는, 기판; 상기 기판 상에 배치되는 제1 서브패턴; 상기 제1 서브패턴에 인접하여 배치되는 제2 서브패턴; 및 상기 제2 서브패턴에 배치되는 전극층을 포함하고, 상기 제1 서브패턴의 일부는 서로 엇갈린다.

실시예는 대면적의 몰드를 제공할 수 있다. 이를 통해, 이로부터 제조되는 터치 스크린 패널의 양산성을 향상할 수 있다.

한편, 실시예는 나노패턴을 복수 개의 소면적의 몰드를 이용하여 형성하므로, 기술적, 가격적인 면에서 유리하다. 또한, 양산성을 향상할 수 있다.

도 1은 실시예에 따른 몰드의 사시도이다.
도 2는 도 1의 A를 확대하여 도시한 확대도이다.
도 3은 도 2의 Ⅰ-Ⅰ’를 따라서 절단한 단면을 도시한 단면도이다.
도 4 내지 도 6은 실시예에 따른 몰드를 제조하기 위한 방법을 설명하기 위한 도면들이다.
도 7 내지 도 15은 실시예에 따른 몰드로부터 제조된 터치 윈도우를 설명하기 위한 단면도들이다.
도 16은 실시예에 따른 몰드로부터 제조된 터치 윈도우의 평면도이다.
도 17은 다른 실시예에 따른 몰드의 사시도이다.
도 18는 도 17의 B를 확대하여 도시한 확대도이다.
도 19 내지 도 21은 다른 실시예에 따른 몰드를 제조하기 위한 방법을 설명하기 위한 도면들이다.
도 22 내지 도 25는 다른 실시예에 따른 몰드로부터 제조된 터치 윈도우를 설명하기 위한 단면도들이다.
도 26은 다른 실시예에 따른 몰드로부터 제조된 터치 윈도우의 평면도이다.
도 27은 도 26의 C를 확대하여 도시한 확대도이다.

실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.

도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.

먼저, 도 1 내지 도 16을 참조하여, 실시예에 따른 몰드 및 이로부터 제조된 터치 윈도우를 설명한다. 도 1은 실시예에 따른 몰드의 사시도이다. 도 2는 도 1의 A를 확대하여 도시한 확대도이다. 도 3은 도 2의 Ⅰ-Ⅰ’를 따라서 절단한 단면을 도시한 단면도이다. 도 4 내지 도 6은 실시예에 따른 몰드를 제조하기 위한 방법을 설명하기 위한 도면들이다. 도 7 내지 도 15은 실시예에 따른 몰드로부터 제조된 터치 윈도우를 설명하기 위한 단면도들이다. 도 16은 실시예에 따른 몰드로부터 제조된 터치 윈도우의 평면도이다.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 실시예에 따른 몰드(10)는 기재(11), 제1 패턴(21), 제2 패턴(31) 및 얼라인(align) 패턴(41)을 포함한다.

상기 기재(11)는 제1 영역(1A), 제2 영역(2A), 제3 영역(3A) 및 제4 영역(4A)을 포함할 수 있다. 상기 제1 영역(1A), 제2 영역(2A), 제3 영역(3A) 및 제4 영역(4A)은 상기 제1 패턴(21)에 따라 구분되는 영역이다. 즉, 각 영역은 단위 제1 패턴(21)을 이루는 영역이다.

상기 제1 영역(1A), 제2 영역(2A), 제3 영역(3A) 및 제4 영역(4A)은 각각 이격되어 배치될 수 있다. 따라서, 상기 제1 영역(1A), 제2 영역(2A), 제3 영역(3A) 및 제4 영역(4A) 내에 배치되는 제1 패턴(21) 각각은 이격되어 배치될 수 있다.

상기 기재(11)의 면적은 30 cm(w) X 30 cm(h) 이상일 수 있다. 구체적으로, 상기 기재(11)의 면적은 30 cm(w) X 30 cm(h) 내지 100 cm(w) X 100 cm(h)일 수 있다. 상기 기재(11)의 면적은, 상기 제1 패턴(21) 및 상기 제2 패턴(31)을 형성하기 위한 노광 공정이 한 번에 진행될 수 있는 면적이다. 이러한 대면적의 기재(11)를 통해, 이로부터 제조되는 터치 스크린 패널의 양산성을 향상할 수 있다.

상기 제1 영역(1A)은 일 방향으로 연장되는 제1 패턴(21)을 포함한다. 상기 제1 패턴(21)은 상기 제1 영역(1A) 내에서 일 방향으로 연장된다. 상기 제1 패턴(21)은 직선형의 패턴일 수 있다. 상기 제1 패턴(21)은 상기 제1 영역(1A) 내에서 전면적으로 배치될 수 있다.

상기 제1 패턴(21)의 선폭(w1)은 수 nm 내지 수백 nm일 수 있다. 상기 제1 패턴(21)의 선폭(w1)은 약 10 nm 내지 500 nm 일 수 있다. 바람직하게 상기 제1 패턴(21)의 선폭(w1)은 약 100 nm 내지 200 nm일 수 있다. 상기 제1 패턴(21)은 음각 형상일 수 있다.

상기 제1 패턴(21)은 각 영역에 해당되는 소면적의 제1 패턴(21) 형성 몰드를 임프린팅(imprinting)하여 형성될 수 있다. 따라서, 상기 제1 영역(1A), 제2 영역(2A), 제3 영역(3A) 및 제4 영역(4A)에 대응되는 네 개의 제1 패턴(21) 형성 몰드를 통해 각 영역에 배치되는 제1 패턴(21)을 형성할 수 있다.

기존에는, 제1 패턴(21)을 형성하기 위해 대면적의 제1 패턴(21) 형성 몰드가 필요하였다. 그러나, 이러한 대면적의 제1 패턴(21) 형성 몰드는 기술적, 가격적인 면에서 매우 불리하다. 즉, 대면적의 몰드를 위해, 대면적의 제1 패턴(21)을 한번에 형성하기에는 매우 어려움이 있었다. 그러나, 실시예에서는 상기 제1 패턴(21)을 분할된 각 영역에 대응되는 소면적의 몰드를 이용하여 형성하므로, 기술적, 가격적인 면에서 유리하다. 즉, 상기 제1 패턴(21)을 복수 개의 소면적의 몰드를 이용하여 형성하므로 대면적의 몰드로 한번에 형성하는 것보다 신뢰성이 향상된다. 또한, 양산성을 향상할 수 있다.

상기 제1 영역(1A)은 제2 패턴(31)을 포함한다. 상기 제2 패턴(31)은 상기 제1 영역(1A) 내에서 매쉬 형상으로 배치될 수 있다. 즉, 상기 제2 패턴(31)은 매쉬 개구부 및 메쉬 선부를 포함할 수 있다. 이때, 상기 메쉬 개구부는 사각형, 다이아몬드형, 오각형, 육각형의 다각형 형상 또는 원형 형상 등 다양한 형상을 가질 수 있다.

상기 제2 패턴(31)은 일 단위를 이루는 단위 제2 패턴(31U1, 31U2, 31U3, 31U4)들을 포함할 수 있다. 일례로, 도 1에 도시한 바와 같이, 상기 제1 영역(1A) 내에서 상기 단위 제2 패턴(31U1, 31U2, 31U3, 31U4)은 4개로 구비될 수 있다. 상기 단위 제2 패턴(31U1, 31U2, 31U3, 31U4) 각각은 추후, 하나의 터치 윈도우에 포함되는 전극부를 이룰 수 있다. 도면에는 상기 제1 영역(1A), 제2 영역(2A), 제3 영역(3A) 및 제4 영역(4A) 내에 각각 4개의 단위 제2 패턴(31U1, 31U2, 31U3, 31U4)들이 배치되는 것으로 도시하였으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니고, 각 영역(1A, 2A, 3A, 4A) 내에 하나의 단위 제2 패턴만 배치될 수도 있다. 따라서, 상기 단위 제2 패턴(31U1, 31U2, 31U3, 31U4)들은 각 영역 내에서 다양한 개수로 구비될 수 있다.

상기 제2 패턴(31)의 선폭(w2)은 수 ㎛일 수 있다. 일례로, 상기 제2 패턴(31)의 선폭(w2)은 약 1㎛ 내지 7㎛일 수 있다. 또한, 상기 제2 패턴(31)의 선폭(w2)은 1㎛ 내지 3㎛일 수 있다. 상기 제2 패턴(31)은 음각 형상일 수 있다.

상기 제2 패턴(31)은 포토리소그래피공정으로 형성될 수 있다. 즉, 상기 제2 패턴(31)은 노광, 현상 및 에칭 등의 일련의 공정을 통해 형성될 수 있다.

또한, 상기 제2 패턴(31)은 레이져 식각 공정으로 형성될 수 있다.

상기 제1 영역(1A)은 얼라인 패턴(41)을 포함한다. 상기 얼라인 패턴(41)은 상기 제1 영역(1A)의 일 끝단에 배치될 수 있다.

상기 제2 영역(2A), 제3 영역(3A) 및 제4 영역(4A)은 상기 제1 영역(1A)과 동일 또는 유사할 수 있다. 한편, 도면에서는 상기 기재(11)가 제1 영역(1A), 제2 영역(2A), 제3 영역(3A) 및 제4 영역(4A)의 네 가지 영역을 갖는 것으로 도시하였으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 상기 기재(11)는 다양한 개수 및 형태의 영역을 포함할 수 있다.

이하, 도 4 내지 도 6을 참조하여, 실시예에 따른 몰드(10)를 제조하기 위한 방법을 설명한다.

먼저, 도 4를 참조하면, 기재(11) 상에 다수 개의 소면적 몰드(1A’, 2A’, 3A’, 4A’)를 위치시킬 수 있다. 각 소면적 몰드(1A’, 2A’, 3A’, 4A’)는 제1 패턴(21’)을 포함할 수 있다. 도 4에서는 소면적 몰드(1A’, 2A’, 3A’, 4A’)가 4개 구비되는 것으로 도시하였으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 다양한 숫자의 소면적 몰드를 통해 제1 패턴(21)을 형성할 수 있다.

도 5를 참조하면, 상기 소면적 몰드(1A’, 2A’, 3A’, 4A’)를 임프린팅하여 제1 패턴(21)을 형성할 수 있다. 즉, 기재(11) 상에 각 소면적 몰드(1A’, 2A’, 3A’, 4A’)와 대응되는 제1 영역(1A), 제2 영역(2A), 제3 영역(3A) 및 제4 영역(4A)에 제1 패턴(21)이 형성될 수 있다.

도 6을 참조하면, 상기 제1 패턴(21)이 형성된 기재(11) 상에 다수 개의 소면적 몰드(1A’’, 2A’’, 3A’’, 4A’’)를 위치시킬 수 있다. 각 소면적 몰드(1A’’, 2A’’, 3A’’, 4A’’)는 제2 패턴(31’)을 포함할 수 있다. 상기 소면적 몰드(1A’’, 2A’’, 3A’’, 4A’’)를 임프린팅하여 제2 패턴(도 1의 도면부호 31 참조)이 형성되 수 있다. 그러나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니고, 앞서 설명한 바와 같이, 상기 제2 패턴(31)은 포토리소그래피공정으로 형성될 수 있다. 즉, 상기 제2 패턴(31)은 노광, 현상 및 에칭 등의 일련의 공정을 통해 형성될 수 있다. 또한, 상기 제2 패턴(31)은 레이져 식각 공정으로 형성될 수 있다.

이하, 상기 몰드(10)를 이용하여 제조되는 터치 윈도우에 대해서 설명한다. 도 7을 참조하면, 수지층(200’) 상에 실시예에 따른 몰드(10)를 위치시킬 수 있다.

도 8을 참조하면 상기 수지층(200’)상에 몰드(10)로 임프린팅(imprinting)할 수 있다. 도 9를 참조하면, 상기 임프린팅 공정을 통해 양각의 제1 서브패턴(211) 및 제2 서브패턴(212)을 제조할 수 있다.

이어서, 도 10을 참조하면, 상기 제1 서브패턴(211) 및 상기 제2 서브패턴(212) 상에 전극물질(220’)을 형성할 수 있다. 상기 전극물질(220’)은 증착 또는 도금 등의 방법으로 형성될 수 있다.

도 11을 참조하면, 상기 전극물질(220’)을 에칭할 수 있다. 이때, 상기 제1 서브패턴(211) 및 상기 제2 서브패턴(212)의 구조와 상기 전극물질(220’)과의 접합면적 차이에 따라 에칭 면적의 차이가 발생한다. 즉, 상기 제2 서브패턴(212) 및 상기 전극물질(220’)과의 접합면적이 상기 제1 서브패턴(211) 및 상기 전극물질(220’)과의 접합면적보다 크기 때문에, 상기 제2 서브패턴(212) 상에 형성되는 전극물질(220’)의 에칭이 적게 일어난다. 즉, 동일한 에칭 속도에 따라, 상기 제2 서브패턴(212) 상에 형성된 전극물질(220’)은 남게되고, 상기 제1 서브패턴(211) 상에 형성된 전극물질(220’)은 에칭되어 제거된다. 따라서, 상기 제2 서브패턴(212) 상에만 전극층(220)이 형성될 수 있고, 이러한 전극층(220)이 제2 패턴형상으로 배치될 수 있다.

따라서, 도 12를 참조하면, 실시예에 따른 몰드(10)와 대응되는 패턴을 가지는 대면적의 제1 셀 어레이(cell array)(200)가 형성될 수 있다.

이어서, 도 13을 참조하면, 상기 제1 셀 어레이(200)에서 상기 전극층(220)을 패터닝할 수 있다. 즉, 상기 전극층(220)을 일 방향으로 연장되는 바(bar) 패턴으로 패터닝할 수 있다.

이어서, 도 14을 참조하면, 상기 도 7 내지 도 13에 따른 공정을 통해 제2 셀 어레이(300)가 제조될 수 있다. 이때, 상기 제2 셀 어레이(300)는 제1 셀 어레이(200)와 달리 전극층(320)을 상기 일 방향과 교차하는 타 방향으로 패터닝할 수 있다.

상기 제1 셀 어레이(200) 및 상기 제2 셀 어레이(300)는 상기 얼라인 패턴들(42, 43)을 통해 쉽고 정확하게 얼라인될 수 있다.

도 15를 참조하면, 얼라인 된 상기 제1 셀 어레이(200) 및 상기 제2 셀 어레이(300)를 라미네이션(lamination) 합착할 수 있다. 이후, 각 단위 셀을 커팅(cutting)함으로써, 터치 윈도우(100)가 제조될 수 있다.

도 16을 참조하면, 이러한 터치 윈도우(100)는 입력 장치(예를 들어, 손가락 등)의 위치를 감지하는 유효 영역(AA)과 이 유효 영역(AA)의 주위에 배치되는 비유효 영역(UA)이 정의되는 기판(110)을 포함한다.

여기서, 유효 영역(AA)에는 입력 장치를 감지할 수 있도록 전극부(210)가 형성될 수 있다. 그리고, 비유효 영역(UA)에는 전극부(210)를 전기적으로 연결하는 배선(400)이 형성될 수 있다. 또한, 비유효 영역(UA)에는 상기 배선(400)에 연결되는 외부 회로 등이 위치할 수 있다.

상기 전극부(210)는 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지 감지할 수 있다. 상기 전극부(210)는 메쉬 형상으로 배치된다. 구체적으로, 상기 전극부(210)는 메쉬 개구부(OA) 및 메쉬 선부(LA)를 포함한다.

상기 전극부(210)가 메쉬 형상을 가짐으로써, 유효 영역(AA) 상에서 상기 전극부(210)의 패턴이 보이지 않게 할 수 있다. 즉, 상기 전극부(210)가 금속으로 형성되어도, 패턴이 보이지 않게 할 수 있다. 또한, 상기 전극부(210)가 대형 크기의 터치 윈도우에 적용되어도 터치 윈도우의 저항을 낮출 수 있다.

상기 전극부는 앞서 도 8에서 설명한 바와 같이, 제1 서브패턴(211), 제2 서브패턴(212) 및 전극층(220)을 포함할 수 있다.

상기 제1 서브패턴(211)은 상기 메쉬 개구부(OA)에 배치된다. 상기 제2 서브패턴(212)은 상기 메쉬 선부(LA)에 배치된다. 따라서, 상기 제2 서브패턴(212)은 메쉬 형상으로 배치된다. 상기 제1 서브패턴(211) 및 제2 서브패턴(212)은 양각일 수 있다.

상기 전극층(220)은 상기 제2 서브패턴(212) 상에 배치된다. 상기 전극층(220)은 상기 제2 서브패턴(212) 상에 전면적으로 배치될 수 있다. 즉, 상기 전극층(220)은 상기 제2 서브패턴(212)을 둘러싸면서 배치될 수 있다.

상기 전극층(220)은 상기 메쉬 선부(LA)에 배치되고, 상기 전극층(220)은 메쉬 형상으로 배치된다. 상기 전극층(220)은 전기 전도성이 우수한 다양한 금속을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 전극층(220)은 Cu, Au, Ag, Al, Ti, Ni 또는 이들의 합금을 포함할 수 있다.

이어서, 상기 배선(400)은 상기 비유효 영역(UA)에 형성된다. 상기 배선(400)은 상기 전극부(210)에 전기적 신호를 인가할 수 이다. 상기 배선(400)은 상기 비유효 영역(UA)에 형성되어 보이지 않게 할 수 있다.

또한, 상기 배선(400)은 몰드를 이용하여 상기 제1 서브패턴(211) 및 상기 제2 서브패턴(212) 형성 시, 함께 형성될 수도 있다.

한편, 도면에 도시하지 않았으나, 상기 배선(400)과 연결되는 회로 기판이 더 위치할 수 있다. 회로 기판으로는 다양한 형태의 인쇄 회로 기판이 적용될 수 있는데, 일례로 플렉서블 인쇄 회로 기판(flexible printed circuit board, FPCB) 등이 적용될 수 있다.

이하, 도 17 내지 도 27을 참조하여, 다른 실시예에 따른 몰드 및 이로부터 제조된 터치 윈도우에 대해서 설명한다. 명확하고 간략한 설명을 위해 앞서 설명한 부분과 동일 또는 유사한 부분에 대해서는 상세한 설명을 생략한다. 도 17은 다른 실시예에 따른 몰드의 사시도이다. 도 18는 도 17의 B를 확대하여 도시한 확대도이다. 도 19 내지 도 21은 다른 실시예에 따른 몰드를 제조하기 위한 방법을 설명하기 위한 도면들이다. 도 22 내지 도 25는 다른 실시예에 따른 몰드로부터 제조된 터치 윈도우를 설명하기 위한 단면도들이다. 도 26은 다른 실시예에 따른 몰드로부터 제조된 터치 윈도우의 평면도이다. 도 27은 도 26의 C를 확대하여 도시한 확대도이다.

도 17 및 도 18을 참조하면, 다른 실시예에 따른 몰드의 기재(11)는 제1 영역(1B) 및 제2 영역(2B)을 포함할 수 있다. 상기 제1 영역(1B)은 일 방향으로 연장되는 제1 패턴(25)을 포함한다. 상기 제2 영역(2B)은 일 방향으로 연장되는 제1 패턴(26)을 포함한다.

상기 제1 영역(1B) 및 상기 제2 영역(2B)은 서로 접할 수 있다. 따라서, 상기 제1 영역(1B) 및 상기 제2 영역(2B)이 접하는 접선(L1)이 정의될 수 있다.

상기 제1 영역(1B)에 배치되는 제1 패턴(25) 및 상기 제2 영역(2B)에 배치되는 제1 패턴(26)은 상기 접선(L1)을 기준으로 엇갈리게 배치될 수 있다. 즉, 상기 제1 영역(1B)에 배치되는 상기 제1 패턴(25) 및 상기 제2 영역(2B)에 배치되는 상기 제1 패턴(26)이 서로 엇갈린다.

상기 제1 영역(1B) 및 상기 제2 영역(2B)에는 단위 제2 패턴(35)이 걸쳐서 배치될 수 있다. 즉, 상기 단위 제2 패턴(35)은 상기 제1 영역(1B) 및 상기 제2 영역(2B) 모두에 배치될 수 있다.

이하, 도 19 내지 도 21을 참조하여, 다른 실시예에 따른 몰드를 제조하기 위한 방법을 설명한다.

먼저, 도 19를 참조하면, 기재(11) 상에 다수 개의 소면적 몰드(1B’, 2B’…)를 위치시킬 수 있다. 각 소면적 몰드(1B’, 2B’…)는 제1 패턴(25’, 26’)을 포함할 수 있다. 도 4에서는 소면적 몰드(1B’, 2B’…)가 8개 구비되는 것으로 도시하였으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 다양한 숫자의 소면적 몰드를 통해 제1 패턴(25, 26)을 형성할 수 있다.

도 20을 참조하면, 상기 소면적 몰드((1B’, 2B’…)를 임프린팅하여 제1 패턴(25, 26)을 형성할 수 있다. 즉, 기재(11) 상에 각 소면적 몰드(1B’, 2B’…)와 대응되는 제1 영역(1B), 제2 영역(2B) 등에 제1 패턴(25, 26)이 형성될 수 있다.

도 21을 참조하면, 상기 제1 패턴(25, 26)이 형성된 기재(11) 상에 다수 개의 소면적 몰드(1B’’, 2B’’, 3B’’, 4B’’)를 위치시킬 수 있다. 각 소면적 몰드(1B’’, 2B’’, 3B’’, 4B’’)는 제2 패턴(35’)을 포함할 수 있다. 상기 소면적 몰드(1A’’, 2A’’, 3A’’, 4A’’)를 임프린팅하여 제2 패턴(도 17의 도면부호 35 참조)이 형성되 수 있다. 그러나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니고, 앞서 설명한 바와 같이, 상기 제2 패턴(35)은 포토리소그래피공정으로 형성될 수 있다. 즉, 상기 제2 패턴(35)은 노광, 현상 및 에칭 등의 일련의 공정을 통해 형성될 수 있다. 또한, 상기 제2 패턴(35)은 레이져 식각 공정으로 형성될 수 있다.

도 22를 참조하면, 상기 몰드를 통해 제1 셀 어레이(250)가 제조될 수 있다. 상기 제1 셀 어레이(250)는 기판(130), 제1 서브패턴(251, 253), 제2 서브패턴(252) 및 전극층(260)을 포함한다.

상기 기판(130)은 제1 영역(1C) 및 제2 영역(2C)을 포함한다. 이때, 상기 제1 영역(1C)과 상기 제2 영역(2C)에 접하는 접선(L2)이 정의될 수 있다.

상기 제1 서브패턴(251, 253)의 일부는 서로 엇갈릴 수 있다. 구체적으로, 상기 제1 영역(1C)에 배치되는 상기 제1 서브패턴(251) 및 상기 제2 영역(2C)에 배치되는 상기 제1 서브패턴(253)은 상기 접선(L2)에서 서로 어긋날 수 있다.

이어서, 도 23을 참조하면, 상기 제1 셀 어레이(250)에서 상기 전극층(260)을 패터닝할 수 있다. 즉, 상기 전극층(260)을 일 방향으로 연장되는 바(bar) 패턴으로 패터닝할 수 있다.

이어서, 도 24를 참조하면, 제2 셀 어레이(270)가 제조될 수 있다. 이때, 상기 제2 셀 어레이(270)는 제1 셀 어레이(250)와 달리 전극층(360)을 상기 일 방향과 교차하는 타 방향으로 패터닝할 수 있다.

상기 제1 셀 어레이(250) 및 상기 제2 셀 어레이(270)는 상기 얼라인 패턴들(42, 43)을 통해 쉽고 정확하게 얼라인될 수 있다.

도 25를 참조하면, 얼라인 된 상기 제1 셀 어레이(250) 및 상기 제2 셀 어레이(270)를 라미네이션(lamination) 합착할 수 있다. 이후, 각 단위 셀을 커팅(cutting)함으로써, 터치 윈도우(120)가 제조될 수 있다.

도 26 및 도 27을 참조하면, 터치 윈도우(120)는 제1 영역(1C) 및 제2 영역(2C)을 포함한다. 이때, 상기 제1 영역(1C)과 상기 제2 영역(2C)에 접하는 접선(L2)이 정의될 수 있다.

상기 제1 서브패턴(251, 253)의 일부는 서로 엇갈릴 수 있다. 구체적으로, 상기 제1 영역(1C)에 배치되는 상기 제1 서브패턴(251) 및 상기 제2 영역(2C)에 배치되는 상기 제1 서브패턴(253)은 상기 접선(L2)에서 서로 어긋날 수 있다.

상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (12)

1. 제1 영역 및 제2 영역을 포함하는 기재;
   상기 제1 영역 및 상기 제2 영역 각각에 배치되고, 일 방향으로 연장되는 제1 패턴; 및
   상기 기재 상에 배치되는 제2 패턴을 포함하는 몰드.
2. 제1항에 있어서,
   상기 제1 패턴의 선폭은 상기 제2 패턴의 선폭보다 얇은 몰드.
3. 제1항에 있어서,
   상기 제1 영역 및 상기 제2 영역 각각에 배치되는 얼라인(align) 패턴을 더 포함하는 몰드.
4. 제1항에 있어서,
   상기 제1 패턴 및 상기 제2 패턴은 음각 형상인 몰드.
5. 제1항에 있어서,
   상기 제1 영역 및 상기 제2 영역은 이격되는 몰드.
6. 제1항에 있어서,
   상기 제1 영역 및 상기 제2 영역과 이격되어 배치되고, 제1 패턴 및 제2 패턴을 포함하는 제3 영역을 더 포함하는 몰드.
7. 제1항에 있어서,
   상기 기재의 면적은 30 cm X 30 cm 내지 100 cm X 100 cm 인 몰드.
8. 제1항에 있어서,
   상기 제1 영역 및 상기 제2 영역이 접하는 몰드.
9. 제1항에 있어서,
   상기 제1 영역에 배치되는 상기 제1 패턴 및 상기 제2 영역에 배치되는 상기 제1 패턴이 서로 엇갈리는 몰드.
10. 제9항에 있어서,
    상기 단위 제2 패턴은 상기 제1 영역 및 상기 제2 영역에 걸쳐서 배치되는 몰드.
11. 기판;
    상기 기판 상에 배치되는 제1 서브패턴;
    상기 제1 서브패턴에 인접하여 배치되는 제2 서브패턴; 및
    상기 제2 서브패턴에 배치되는 전극층을 포함하고,
    상기 제1 서브패턴의 일부는 서로 엇갈리는 터치 윈도우.
12. 터치 윈도우; 및
    상기 터치 윈도우 상에 배치되는 구동부를 포함하고,
    상기 터치 윈도우는,
    기판;상기 기판 상에 배치되는 제1 서브패턴;
    상기 제1 서브패턴에 인접하여 배치되는 제2 서브패턴; 및
    상기 제2 서브패턴에 배치되는 전극층을 포함하고,
    상기 제1 서브패턴의 일부는 서로 엇갈리는 디스플레이.

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