KR20150037445A - Retadation film and preparing method for retadation film - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 위상차 필름 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름 상에 부의 위상차 특성을 가지는 고분자 물질이 코팅되어 있는 위상차 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a retardation film and a method of manufacturing the same, and more particularly to a retardation film in which a polymer material having negative retardation characteristics is coated on an amide film having a negative C type or negative B type retardation, .
액정표시장치는 음극선관 디스플레이에 비해 소비 전력이 낮고, 부피가 작고, 가벼워 휴대가 용이하기 때문에 광학 디스플레이 소자로서 보급이 확산되고 있다. 일반적으로 액정표시장치는 액정 셀의 양측에 편광판을 설치한 기본 구성을 가지며, 구동회로의 전계 인가 여부에 따라 액정 셀의 배향이 변하게 되고, 그에 따라 편광판을 통해 나온 투과광의 특성이 달라지게 됨으로써 빛의 가시화가 이루어진다. 이 때 입사광의 입사 각도에 따라 빛의 경로와 복굴절성이 변화하게 되는데, 이는 액정이 두 개의 상이한 굴절률을 가지는 이방성 물질이기 때문이다.
The liquid crystal display device is spreading as an optical display device because its power consumption is lower than that of a cathode ray tube display, its volume is small, its weight is light and it is easy to carry. In general, a liquid crystal display device has a basic structure in which a polarizing plate is provided on both sides of a liquid crystal cell, and the orientation of the liquid crystal cell changes depending on whether an electric field is applied to the driving circuit, and the characteristics of light transmitted through the polarizing plate are changed, Is visualized. At this time, the path of light and the birefringence change depending on the incident angle of the incident light because the liquid crystal is an anisotropic material having two different refractive indices.
이와 같은 특성으로 인해, 액정표시장치는 시야각(viewing angle)에 따라 상이 얼마나 뚜렷하게 보이는지를 가늠하는 척도인 콘트라스트 비(contrast ratio)가 달라지고 계조 반전(gray scale inversion) 현상이 발생하여 시인성이 떨어진다는 단점을 지닌다. 상기와 같은 단점을 극복하기 위하여 액정표시장치 장치에는 액정 셀에서 발생하는 광학 위상차를 발현시켜 주는 광학 위상차 필름(compensation film)이 사용되고 있다.
Due to such characteristics, the liquid crystal display device has a problem that the contrast ratio, which is a measure for how much the image is seen clearly according to the viewing angle, is changed and the gray scale inversion phenomenon occurs, It has disadvantages. In order to overcome such disadvantages, an optical compensation film for developing an optical retardation generated in a liquid crystal cell is used for a liquid crystal display device.
한편, 액정표시장치에 있어서 선명한 화질 및 넓은 광시야각을 확보하기 위해 다양한 액정 모드가 개발되고 있으며, 대표적으로는 Double Domain TN(Twisted Nematic), ASM(axially sy㎜etric aligned microcell), OCB(optically compensated blend), VA(vertical alig㎚ent), MVA(multidomain VA), SE(surrounding electrode), PVA(patterned VA), IPS(in-plane switching), FFS(fringe-field switching) 모드 등을 들 수 있다. 이들 각각의 모드는 고유한 액정 배열을 하고 있으며, 고유한 광학 이방성을 갖고 있다.
Various liquid crystal modes have been developed in order to secure a clear image quality and a wide viewing angle in a liquid crystal display device. Typical examples thereof include Double Domain TN (Twisted Nematic), ASM (axially symmetric aligned microcell), OCB blend, VA, multidomain VA, SE, surrounding electrode, patterned VA, in-plane switching (IPS), and fringe-field switching (FFS) . Each of these modes has a unique liquid crystal arrangement and has inherent optical anisotropy.
따라서, 이들 액정 모드의 광학 이방성으로 인한 위상차를 발현하기 위해서는 각각의 모드에 대응하는 광학 이방성의 위상차 필름이 요구된다. 특히 IPS 모드의 경우에는 양의 유전률 이방성을 가지는 액정이 수평 배향되어 있기 때문에 비구동 상태에서 경사각에서의 광학 이방성이 타 모드 대비 크지 않아 등방성 보호필름 사용만으로도 우수한 광시야각을 확보할 수 있다는 장점이 있다. 하지만 이 경우 고경사각에서 편광자의 흡수축에 대한 보상은 전혀 이루어지지 않아 여전히 시야각에 따른 콘트라스트 저하, 색상 변조 등이 일어날 수 있으며, 따라서 완벽한 광시야각 확보를 위해서는 IPS 모드 액정디스플레이 또한 적절한 위상차 필름을 사용해야 한다.
Therefore, in order to manifest the phase difference due to the optical anisotropy of these liquid crystal modes, an optically anisotropic phase difference film corresponding to each mode is required. Especially, in the case of the IPS mode, since the liquid crystal having a positive dielectric anisotropy is horizontally aligned, the optical anisotropy at the oblique angle in the non-driven state is not greater than that of the other modes, so that an excellent viewing angle can be obtained by using the isotropic protective film alone . In this case, however, compensation for the absorption axis of the polarizer at the high inclination angle is not performed at all, so that the contrast may be deteriorated due to the viewing angle and color modulation may occur. Therefore, in order to secure a perfect viewing angle, the IPS mode liquid crystal display should also use an appropriate retardation film do.
한편, IPS 모드 액정표시장치의 경우, 일축 또는 이축 연신 필름을 단독으로 사용하는 경우 보상 효과를 충분히 구현하기가 어려워, 현재 IPS 모드용 위상차 필름으로는 두 층 이상으로 구성된 다층 필름이나, 기재 필름 상에 액정층을 코팅한 액정 필름 등이 일반적으로 사용되고 있다. 대표적으로 일축 연신 된 COP(cyclic olefin polymer)필름 상에 별도로 네마틱(nematic) 액정을 코팅하여 시야각 보상을 하는 방법을 들 수 있다. 그러나, 이와 같은 액정 필름의 경우, 액정의 배향과 코팅 두께가 조금만 변해도 전체 보상 필름의 위상차가 크게 변해, 위상차 조절이 어려운 문제점이 있고, 또한 액정 배향 공정의 경우 여러 단계를 거치기 때문에 제조 공정이 복잡하며, 비싼 액정 단가로 인해 제조원가가 높아 일반 상용화가 어렵다는 단점이 있다.
On the other hand, in the case of the IPS mode liquid crystal display device, it is difficult to sufficiently realize the compensating effect when the uniaxial or biaxially stretched film is used alone. Currently, the IPS mode retardation film is a multilayer film composed of two or more layers, A liquid crystal film on which a liquid crystal layer is coated, and the like are generally used. Typically, nematic liquid crystal is coated on a uniaxially stretched COP (cyclic olefin polymer) film to compensate the viewing angle. However, in the case of such a liquid crystal film, even if the alignment of the liquid crystal and the thickness of the coating slightly change, the retardation of the entire compensating film is greatly changed to make it difficult to control the retardation. In addition, And it is disadvantageous in that it is difficult to commercialize it because of high manufacturing cost due to expensive liquid crystal unit price.
또한, 아크릴계 위상차 필름에 네가티브 C 특성을 가지는 비액정성 위상차 발현물질을 코팅하여 면 방향 위상차값 및 두께 방향 위상차값을 조절하는 위상차 필름도 개발이 되었으나, 아크릴계 필름은 통상적으로 코팅공정에서 사용되는 방향족 탄화수소계 또는 유기염소계 등의 유기 용제에 취약하여, 이들 용제를 이용하여 상기 위상차 발현 물질을 코팅하는 경우, 접착성 불량, 취성(brittleness) 증가, 위상차 저하 및 얼룩 발생 등이 발생할 수 있는 문제점이 있다.
Further, although a retardation film for coating a non-liquid crystalline retardation developing material having a negative C characteristic to an acrylic retardation film and controlling a retardation value in a plane direction and a retardation value in a thickness direction has been developed, an acrylic film is usually used in an aromatic Hydrocarbon, or organic chlorine, and when such a retardation developing substance is coated using such a solvent, problems such as poor adhesion, increase in brittleness, decrease in phase difference and occurrence of stain may occur .
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름에 부의 위상차 특성을 가지는 고분자 물질을 코팅함으로써, 면 방향 위상차 값 및 두께 방향 위상차 값의 조절이 용이하고, 내구성이 우수하며, 박막화가 가능하고, IPS 모드 용으로도 이용이 가능한 위상차 필름 및 간소한 공정으로 이러한 위상차 필름을 제조할 수 있는 위상차 필름의 제조 방법을 제공하고자 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been accomplished in order to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a polarizing film having negative phase difference characteristic by coating a polymer material having a negative retardation characteristic on an amide film having a negative C type or negative B type phase difference, And which can be used for an IPS mode, and a simple process for producing such a retardation film. The present invention also provides a method for manufacturing such a retardation film.
일 측면에서, 본 발명은 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름; 및 상기 아마이드계 필름의 적어도 일면에 형성되며, 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층을 포함하는 위상차 필름을 제공한다.
In one aspect, the present invention provides an amide-based film having a negative C type or negative B type phase difference; And a coating layer formed on at least one surface of the amide-based film and having a negative retardation characteristic.
이때, 상기 위상차 필름은 하기 식 (1) 및 (2)를 만족하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the retardation film satisfies the following formulas (1) and (2).
식 (1): 50nm < Rin , total < 300nm(1): 50 nm < R in , total < 300 nm
식 (2): 10nm < Rth , total < 300nm(2): 10 nm < R th , total < 300 nm
상기 식 (1) 및 (2)에서,In the above formulas (1) and (2)
Rin , total은 가시광 파장대역에서 측정한 위상차 필름 전체의 면 방향 위상차값이고,R in and total are plane retardation values of the entire retardation film measured in the visible light wavelength band,
Rth , total은 가시광 파장대역에서 측정한 위상차 필름 전체의 두께 방향 위상차값임.
Rth , total is the thickness direction retardation value of the entire retardation film measured in the visible light wavelength band.
또한, 상기 위상차 필름은 하기 식 (3)으로 표시되는 Nz 값이 1 미만인 것이 바람직하다.It is preferable that the retardation film has an Nz value of less than 1, which is represented by the following formula (3).
식 (3): Nz = Rth , total/Rin , total Equation (3): Nz = R th , total / R in, total
상기 식 (3)에서,In the above formula (3)
Rin , total은 위상차 필름 전체의 면 방향 위상차값이고,R in , total is the retardation value in the plane direction of the entire retardation film,
Rth , total은 위상차 필름 전체의 두께 방향 위상차값이며, Rth , total is the retardation value in the thickness direction of the entire retardation film,
이때, 상기 Rin , total 및 Rth , total은 모두 가시광 파장대역에서 측정한 위상차값임.
In this case, R in , total and R th , total are the retardation values measured in the visible light wavelength band.
또한, 상기 위상차 필름은 상기 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층이 하기 식 (4) 및 (5)를 만족하는 것이 바람직하다.In the retardation film, it is preferable that the coating layer having the negative retardation characteristics satisfies the following expressions (4) and (5).
식 (4): 50nm < Rin ,a < 250nm(4): 50 nm < R in , a < 250 nm
식 (5): 80nm < Rth ,a < 300nm(5): 80 nm < R th , a < 300 nm
상기 식 (4) 및 (5)에서,In the above formulas (4) and (5)
Rin ,a은 가시광 파장대역에서 측정한 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층의 면 방향 위상차값이고,R in , a is the retardation value in the plane direction of the coating layer having a negative retardation characteristic measured in the visible light wavelength band,
Rth ,a은 가시광 파장대역에서 측정한 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층의 두께 방향 위상차값임.
Rth , a is the thickness direction retardation value of the coating layer having a negative retardation characteristic measured in a visible light wavelength band.
또한, 상기 위상차 필름은 상기 네가티브 C 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름이 하기 식 (6) 및 (7)을 만족하는 것이 바람직하다.It is preferable that the retardation film satisfies the following formulas (6) and (7) as the amide-based film having the negative C type retardation.
식 (6): -50nm < Rin , b1 < 50nm(6): -50 nm <R in , b 1 <50 nm
식 (7): -200nm < Rth , b1 < 0nm(7): -200 nm < R th , b 1 < 0 nm
상기 식 (6) 및 (7)에서,In the above formulas (6) and (7)
Rin , b1은 가시광 파장대역에서 측정한 네가티브 C 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 면 방향 위상차값이고,R in and b 1 are retardation values in the plane direction of an amide-based film having a negative C-type retardation measured in a visible light wavelength band,
Rth , b1은 가시광 파장대역에서 측정한 네가티브 C 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 두께 방향 위상차값임.
Rth and b1 are retardation values in the thickness direction of the amide type film having the negative C type retardation measured in the visible light wavelength band.
또한, 상기 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름이 하기 식 (8) 및 (9)을 만족하는 것이 바람직하다.It is also preferable that the amide-based film having the negative B-type retardation satisfies the following formulas (8) and (9).
식 (8): 0nm < Rin , b2 < 100nmEquation (8): 0nm <R in , b2 <100nm
식 (9): -200nm < Rth , b2 < 0nmEquation (9): -200nm <R th , b2 <0nm
상기 식 (8) 및 (9)에서,In the above formulas (8) and (9)
Rin , b2은 가시광 파장대역에서 측정한 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 면 방향 위상차값이고,R in, b2 is the plane retardation value of the amide-based film having a retardation of the negative type B measured in the visible light wavelength band,
Rth , b2은 가시광 파장대역에서 측정한 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 두께 방향 위상차값임.
Rth and b2 are retardation values in the thickness direction of an amide type film having a negative B type retardation measured in a visible light wavelength band.
또한, 상기 위상차 필름은 하기 식 (10)을 만족하는 것이 바람직하다.It is preferable that the retardation film satisfies the following formula (10).
(10): nx , total > nz , total > ny , total (10): n x , total > n z , total > n y , total
상기 식 (10)에 있어서,In the above formula (10)
nx , total은 위상차 필름 전체의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절율이고,n x , total is a refractive index in a direction in which the refractive index in the plane direction of the entire retardation film becomes the maximum (that is, in the slow axis direction)
ny , total은 위상차 필름 전체의 상기 지상축에 수직인 방향인 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절율이며,n y , total is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis of the entire retardation film (i.e., the fast axis direction)
nz , total은 위상차 필름 전체의 두께 방향의 굴절율이고,n z , total is the refractive index in the thickness direction of the entire retardation film,
이때, 상기 nx , total, ny , total, nz , total는 가시광 파장대역에서 측정한 값임.
At this time, the n x , total , n y , total , n z , total is the value measured in the visible light wavelength band.
한편, 상기 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름은 하기 화학식 1 또는 2로 표시되는 단위를 포함하는 폴리아마이드계 수지를 포함하는 것일 수 있다.On the other hand, the amide-based film having the negative C type or negative B type retardation may include a polyamide type resin containing units represented by the following formula (1) or (2).
[화학식 1][Chemical Formula 1]
상기 화학식 1에 있어서,In Formula 1,
A는 C2 -16 지방족 탄화수소 사슬, C5 -14 지방족 탄화수소 고리 또는 C6 -14 방향족 탄화수소 고리이고,A is a C 2 -16 aliphatic hydrocarbon chain, a C 5 -14 aliphatic hydrocarbon ring or a C 6 -14 aromatic hydrocarbon ring,
X1은 할로겐원자 또는 C1 -6 알킬기이고,X 1 is a halogen atom or a C 1 -6 alkyl group,
a는 0~3의 정수이고,a is an integer of 0 to 3,
n는 5~10,000의 정수임.
n is an integer of 5 to 10,000.
[화학식 2](2)
상기 화학식 2에 있어서,In Formula 2,
B 및 C는 각각 독립적으로 C2 -16 지방족 탄화수소 사슬, C5 -14 지방족 탄화수소 고리 또는 C6 -14 방향족 탄화수소 고리이고,B and C are each independently a C 2 -16 aliphatic hydrocarbon chain, a C 5 -14 aliphatic hydrocarbon ring or a C 6 -14 aromatic hydrocarbon ring,
X2 및 X3는 각각 독립적으로 할로겐원자 또는 C1 -6 알킬기이고,X 2 and X 3 are each independently a halogen atom or a C 1 -6 alkyl group,
b 및 c는 각각 독립적으로 0~3의 정수이고,b and c are each independently an integer of 0 to 3,
m은 5~10,000의 정수임.
and m is an integer of 5 to 10,000.
한편, 상기 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름은 하기 화학식 3으로 표시되는 단위를 포함하는 폴리아마이드계 수지를 포함하는 것이 보다 바람직하다.On the other hand, it is more preferable that the amide-based film having the negative C type or negative B type retardation includes a polyamide type resin containing a unit represented by the following formula (3).
[화학식 3](3)
상기 화학식 3에 있어서,In Formula 3,
D는 C2 -16 지방족 탄화수소 사슬이고,D is a C 2 -16 aliphatic hydrocarbon chain,
E1 및 E2는 각각 독립적으로 시클로헥산 고리 또는 벤젠 고리이고,E 1 and E 2 are each independently a cyclohexane ring or a benzene ring,
X4, X5 및 X6은 각각 독립적으로 할로겐원자 또는 C1 -6 알킬기이고,And X 4, X 5 and X 6 is an alkyl group each independently a halogen atom or a C 1 -6,
X7은 단일결합, 메틸렌기 또는 디메틸메틸렌기이고,X 7 is a single bond, a methylene group or a dimethylmethylene group,
d, e1 및 e2는 각각 독립적으로 0~2의 정수이고,d, e1 and e2 are each independently an integer of 0 to 2,
k는 5~10,000의 정수임.
and k is an integer of 5 to 10,000.
한편, 상기 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층은 스티렌계 수지, 폴리비닐카바졸(polyvinylcarbazole) 또는 폴리비닐나프탈렌(polyvinylnaphthalene)을 포함하는 것일 수 있다.
On the other hand, the coating layer having the negative retardation characteristics may include a styrene resin, polyvinylcarbazole, or polyvinylnaphthalene.
한편, 상기 위상차 필름은 두께는 10 내지 60㎛인 것이 바람직하다.
The thickness of the retardation film is preferably 10 to 60 mu m.
한편, 상기 위상차 필름은 면상 스위칭(IPS) 모드 액정표시장치용인 것이 바람직하다.
Meanwhile, the retardation film is preferably used for a liquid crystal display device of a planar switching (IPS) mode.
한편, 본 발명은 상기 위상차 필름을 포함하는 액정표시장치 역시 제공한다.
The present invention also provides a liquid crystal display device including the retardation film.
다른 측면에서, 본 발명은 아마이드계 필름을 길이 방향(MD)으로 일축 연신 하는 단계; 상기 길이 방향으로 일축 연신된 아마이드계 필름의 적어도 일면에 부의 위상차 특성을 가지는 고분자 물질을 이용하여 코팅층을 형성하는 단계; 및 상기 코팅층이 형성된 아마이드계 필름을 폭 방향(TD)으로 일축 연신 하는 단계를 포함하는 위상차 필름의 제조 방법을 제공한다.
In another aspect, the present invention provides a method for producing an amide-based film, comprising: uniaxially stretching an amide-based film in a longitudinal direction (MD); Forming a coating layer on at least one surface of the amide-based film uniaxially stretched in the longitudinal direction by using a polymer material having a negative retardation characteristic; And uniaxially stretching the amide-based film formed with the coating layer in the transverse direction (TD).
이때, 상기 길이 방향(MD)으로 일축 연신 하는 단계는 상기 아마이드계 필름을 1.1 내지 5.0배 연신 하는 것이 바람직하다.
At this time, in the step of uniaxially stretching in the longitudinal direction (MD), the amide-based film is preferably stretched by 1.1 to 5.0 times.
또한, 상기 길이 방향(MD)으로 일축 연신 하는 단계는, 상기 아마이드계 필름을 20 내지 120㎛ 두께로 연신 하는 것이 바람직하다.
In the uniaxially stretching in the longitudinal direction (MD), the amide-based film is preferably stretched to a thickness of 20 to 120 탆.
한편, 상기 코팅층을 형성하는 단계는, 상기 코팅층을 1 내지 30㎛ 두께로 코팅하는 것이 바람직하다.
Meanwhile, in the step of forming the coating layer, it is preferable that the coating layer is coated to a thickness of 1 to 30 탆.
한편, 상기 폭 방향(TD)으로 일축 연신 하는 단계는, 상기 코팅층이 형성된 아마이드계 필름을 1.1 내지 5.0배 연신 하는 것이 바람직하다.
On the other hand, in the step of uniaxially stretching in the transverse direction (TD), it is preferable that the amide-based film formed with the coating layer is stretched by 1.1 to 5.0 times.
또한, 상기 폭 방향(TD)으로 일축 연신 하는 단계는, 상기 코팅층이 형성된 아마이드계 필름을 10 내지 60㎛ 두께로 연신 하는 것이 바람직하다.
Also, in the step of uniaxially stretching in the transverse direction (TD), the amide-based film formed with the coating layer is preferably stretched to a thickness of 10 to 60 탆.
본 발명에 따른 위상차 필름은 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 필름으로 아마이드계 필름을 사용하기 때문에 내구성이 매우 우수하고, 아마이드계 필름의 높은 위상차 특성으로 인해 얇은 두께로도 원하는 위상차 발현이 가능하여 박막화 역시 가능하며, 상기한 접착성 불량, 취성(brittleness) 증가, 위상차 저하 및 얼룩 발생 등이 문제가 발생하지 않는다.
The retardation film according to the present invention is excellent in durability because it uses an amide-based film as a film having a retardation of negative C type or negative B type, and because of the high retardation property of the amide type film, a desired retardation As a result, it is possible to form a thin film, and problems such as adhesion failure, increase in brittleness, decrease in phase difference and occurrence of stain do not occur.
또한, 본 발명에 따른 위상차 필름은 면 방향 위상차 값 및 두께 방향 위상차 값의 조절이 용이하고, 시야각 개선 효과가 우수한바, IPS 모드용 위상차 필름 등으로 사용될 수 있다.
Also, the retardation film according to the present invention can easily adjust the retardation value in the plane direction and the retardation value in the thickness direction, and is excellent in the viewing angle improving effect, and can be used as an IPS mode retardation film or the like.
또한, 본 발명에 따른 위상차 필름은 일축 연신 한 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름 상에 부의 위상차 특성을 가지는 고분자 물질을 코팅하고 동시에 연신 함으로써 제조 하는바 별도의 배향 공정 등이 불필요하며, 따라서 종래의 액정 및 위상차 발현 물질을 코팅하는 방법에 비하여 제조 방법이 매우 간단하다.
The retardation film according to the present invention can be produced by coating a polymer material having negative retardation characteristics on an uniaxially stretched amide film having a negative C type or negative B type retardation and simultaneously stretching the film, Therefore, the manufacturing method is very simple as compared with the conventional method of coating the liquid crystal and the phase difference developing material.
먼저 본 명세서에 사용되는 용어를 정의한다.
First, terms used in this specification are defined.
(1) nx는 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절율이며, ny는 면 방향에 있어서 지상축에 수직인 방향인 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절율이며, nz는 두께 방향의 굴절율을 의미한다. 상기 nx, ny, nz는 일반적으로 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm의 파장의 광에서 측정한다. 예를 들면, 450nm, 550nm 또는 650nm의 광에서 측정할 수 있다.
(1) where n x is the refractive index in the direction in which the refractive index in the plane direction is the maximum (that is, the slow axis direction), and n y is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the plane direction , and n z means the refractive index in the thickness direction. The above n x , n y , and n z are generally measured in a visible light wavelength band, more specifically, light having a wavelength of 400 to 780 nm. For example, it can be measured at 450 nm, 550 nm or 650 nm.
한편, nx , total는 위상차 필름 전체의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절율이고, ny , total는 위상차 필름 전체의 상기 지상축에 수직인 방향인 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절율이며, nz , total는 위상차 필름 전체의 두께 방향의 굴절율이다.
On the other hand, n x and total are refractive indices in the direction in which the refractive index in the plane direction of the entire retardation film becomes the maximum (that is, in the slow axis direction), and n y and total are the directions in the direction perpendicular to the slow axis of the entire retardation film , The phase in the fast axis direction), and n z , total is the refractive index in the thickness direction of the entire retardation film.
한편, 상기 nx , ny , nz은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, Axomatrics社의 Axoscan 장비를 이용하여 측정할 수 있다.
On the other hand, the n x, n y, n z, and is possible to measure by the conventional method well known in the art, for example, can be measured using the equipment of Axoscan Axomatrics社.
(2) Rin은 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm의 파장의 광에서의 면 방향 위상차값을 의미하는 것으로, 면 방향 위상차값 Rin=(nx-ny)×d에 의해 구해진다. 이때, nx는 상기 파장에 있어서, 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향이며, ny는 상기 x축에 수직이 되는 되는 방향이고, d는 위상차값을 측정하고자 하는 아마이드계 필름, 위상차 필름 또는 코팅층의 두께를 나타낸다.
(2) R in denotes a retardation value in the visible direction in a visible light wavelength band, more specifically, in a light having a wavelength of 400 to 780 nm. The retardation value R in = (n x -n y ) It becomes. In this case, n x is the direction in which the refractive index in the plane direction becomes maximum at the wavelength, n y is the direction perpendicular to the x axis, d is the retardation value of the amide-based film, the retardation film, .
한편, Rin ,a는 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm의 파장의 광에서의 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층의 면 방향 위상차값을 나타내며, Rin , b1은 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm의 파장의 광에서의 네가티브 C 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 면 방향 위상차값을 나타내고, Rin , b2은 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm의 파장의 광에서의 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 면 방향 위상차값을 나타내며, Rin , total는 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm의 파장의 광에서의 위상차 필름 전체의 면 방향 위상차값을 나타낸다.
On the other hand, R in , a represents the in-plane retardation value of the coating layer having a negative retardation characteristic in a visible light wavelength band, more specifically, light having a wavelength of 400 to 780 nm, R in and b 1 are visible light wavelength bands, to indicate a plane direction retardation value of the amide-based film having a phase difference of a negative C-type at the 780nm wavelength light, R in, b2 are negative type B in the visible light wavelength region, more specifically in the 400 to 780nm wavelength And R in and total represent the retardation value of the entire retardation film in the visible light wavelength band, more specifically, in the wavelength range of 400 to 780 nm.
한편, 상기 Rin은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, Axomatrics社의 Axoscan 장비를 이용하여 측정할 수 있다.
On the other hand, in the R it can be measured by a known method known in the art and, for example, can be measured using the equipment of Axoscan Axomatrics社.
(3) Rth은 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm의 파장의 광에서의 두께 방향 위상차값을 의미하는 것으로, 두께 방향 위상차값 Rth=(nz-ny)×d에 의해 구해진다. 이때, nx는 상기 파장에 있어서, 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향이며, ny는 상기 x축에 수직이 되는 되는 방향이고, nz는 두께 방향이고, d는 위상차값을 측정하고자 하는 아마이드계 필름, 위상차 필름 또는 코팅층의 두께를 나타낸다.
(3) R th is obtained by the visible light wavelength region, and more specifically by means of the thickness retardation value of from 400 to 780nm wavelength light, the thickness retardation value R th = × d (n z -n y) It becomes. In this case, n x is the direction in which the refractive index in the plane direction is the maximum, n y is the direction perpendicular to the x axis, n z is the thickness direction, d is the amide to be measured, Based film, a retardation film, or a coating layer.
한편, Rth ,a는 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm의 파장의 광에서의 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층의 두께 방향 위상차값을 나타내며, Rin , b1은 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm의 파장의 광에서의 네가티브 C 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 두께 방향 위상차값을 나타내고, Rin,b2은 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm의 파장의 광에서의 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 두께 방향 위상차값을 나타내며, Rin,total는 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm의 파장의 광에서의 위상차 필름 전체의 면 방향 위상차값을 나타낸다.
R th , a represents the retardation value in the thickness direction of the coating layer having a negative retardation characteristic in the visible light wavelength band, more specifically, light having a wavelength of 400 to 780 nm, R in , b 1 is the visible light wavelength band, more specifically 400 Type retardation film of the amide type film having a negative C-type retardation in the light of a wavelength of 780 nm to 780 nm, and R in and b 2 represent the thickness direction retardation value in the visible light wavelength band, more specifically negative B type And R in and total denote the retardation values of the entire retardation film in the visible light wavelength band, more specifically, light having a wavelength of 400 to 780 nm.
한편, 상기 Rth은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, Axomatrics社의 Axoscan 장비를 이용하여 측정할 수 있다.
On the other hand, the R th can be determined by well-known methods known in the art and, for example, can be measured using the equipment of Axoscan Axomatrics社.
(4) Nz는 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm의 파장의 광에서의 면 방향 위상차값에 대한 두께 방향 위상차값의 비를 의미하는 것으로, Nz = Rth,total/Rin,total에 의해 구해진다. 예를 들어, Nz는 파장 450nm, 550nm 또는 650nm의 광에서의 면 방향 위상차값에 대한 두께 방향 위상차 값의 비일 수 있다.
(4) Nz is in a visible light wavelength band, than that specifically means a ratio of the retardation value in the thickness direction to the retardation value in the plane direction in the 400 to 780nm wavelength light, Nz = R th, total / R in, total . For example, Nz may be a ratio of the retardation value in the thickness direction to the retardation value in the plane direction in the light having a wavelength of 450 nm, 550 nm, or 650 nm.
(5) 정의 위상차 특성이란, 연신 시에 연신 방향을 따라 최대 굴절율이 발현되는 것을 의미하며, 부의 위상차 특성이란, 연신 시에 연신 방향에 대해 수직인 방향을 따라 최대 굴절율이 발현되는 것을 의미한다.
(5) The positive retardation property means that the maximum refractive index is expressed along the stretching direction at the time of stretching, and the negative retardation property means that the maximum refractive index is expressed along the direction perpendicular to the stretching direction at the time of stretching.
(6) 네가티브 C 타입이란 nx≒ny>nz 를 만족하는 것을 의미하며, 네가티브 B 타입이란 nx>ny>nz 를 만족하는 것을 의미한다. 이 때, 상기한 바와 같이, nx는 필름의 면 방향에 있어서, 가장 굴절율이 큰 방향의 굴절율이고, ny는 필름의 면 방향에 있어서 nx방향의 수직 방향의 굴절율이며, nz는 두께 방향의 굴절율이다.
(6) The negative C type means that n x ? N y > n z is satisfied, and the negative B type means that n x > n y > n z is satisfied. At this time, as described above, n x is in the plane of the film, and the refractive index of the refractive index of the large direction, n y is a refractive index in the direction perpendicular to the n x direction in the plane of the film, n z is the thickness Lt; / RTI >
이하, 본 발명의 바람직한 실시 형태들을 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당해 기술분야에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. However, the embodiments of the present invention can be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. Further, the embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art.
본 발명의 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위하여 연구를 거듭한 결과, 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 적어도 일면에 부의 위상차 특성을 가지는 고분자 물질을 코팅하여 위상차 필름으로 사용하는 경우, 면 방향 위상차값 및 두께 방향 위상차값의 조절이 용이하고, 내구성이 우수하며, 박막화가 가능하고, IPS 모드 액정표시장치에 적용이 가능하다는 것을 알아내고 본 발명을 완성하였다.
The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above problems and found that an amide-based film having a negative C type or negative B type phase difference is coated on a surface of at least one side with a polymer material having negative retardation characteristics and used as a retardation film It is possible to easily adjust the retardation value in the plane direction and the retardation value in the thickness direction, to have excellent durability, to be thin, and to be applied to an IPS mode liquid crystal display device.
보다 구체적으로, 본 발명에 따른 위상차 필름은 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름; 및 상기 아마이드계 필름의 적어도 일면에 형성되며, 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이때, 상기 아마이드계 필름은 길이 방향(MD) 및 폭 방향(TD)으로 이축 연신 된 것이 바람직하고, 상기 코팅층은 폭 방향(TD)으로 일축 연신 된 것이 바람직하다.
More specifically, the retardation film according to the present invention is an amide-based film having a retardation of negative C type or negative B type; And a coating layer formed on at least one surface of the amide-based film and having a negative retardation characteristic. At this time, the amide-based film is preferably biaxially stretched in the longitudinal direction (MD) and the transverse direction (TD), and the coating layer is preferably uniaxially stretched in the width direction (TD).
한편, 상기 위상차 필름은 하기 식 (1) 및 (2)를 만족하는 것이 바람직하다. 본 발명자들의 연구에 따르면, 본 발명의 위상차 필름이 하기 식 (1) 및 (2)를 만족하는 경우, IPS 모드 액정표시장치에 위상차 필름으로 이용시 시야각 개선 효과가 우수한 것으로 나타났다.On the other hand, the retardation film preferably satisfies the following formulas (1) and (2). According to the studies of the present inventors, when the retardation film of the present invention satisfies the following formulas (1) and (2), it has been shown that the IPS mode liquid crystal display device has excellent viewing angle improving effect when used as a retardation film.
식 (1): 50nm < Rin , total < 300nm(1): 50 nm < R in , total < 300 nm
식 (2): 10nm < Rth , total < 300nm(2): 10 nm < R th , total < 300 nm
상기 식 (1) 및 (2)에서, Rin , total은 가시광 파장대역에서 측정한 위상차 필름 전체의 면 방향 위상차값이고, Rth , total은 가시광 파장대역에서 측정한 위상차 필름 전체의 두께 방향 위상차값이다. 즉, 본 발명의 위상차 필름은 상기 Rin , total 및 Rth,total이 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm 파장 중 어느 임의의 파장의 광, 예를 들면 450nm, 550nm, 또는 650nm의 파장의 광에서 측정하여도 상기 식 (1) 및 (2)를 만족하는 것을 특징으로 한다.
In the above formulas (1) and (2), R in , total is the retardation value of the entire retardation film measured in the visible light wavelength band, R th and total are the retardation values of the entire retardation film measured in the visible light wavelength band Value. That is, in the retardation film of the present invention, R in , total and R th, total are light in a visible light wavelength band, more specifically, light of any wavelength of 400 to 780 nm, for example, 450 nm, 550 nm, or 650 nm (1) and (2) even when measured by light.
한편, 상기 위상차 필름은 가시광 파장대역에서 측정한 위상차 필름 전체의 면 방향 위상차값이 60 내지 250nm 또는 70 내지 200nm인 것이 보다 바람직하다. 또한, 상기 위상차 필름은 가시광 파장대역에서 측정한 위상차 필름 전체의 두께 방향 위상차값이 20 내지 250nm 또는 30 내지 200nm인 것이 보다 바람직하다. 이 경우 상기한 시야각 개선 효과가 더욱 효과적으로 발현될 수 있다.
It is more preferable that the phase retardation film has a retardation value in the range of 60 to 250 nm or 70 to 200 nm as measured in the visible light wavelength band. It is more preferable that the thickness direction retardation value of the entire retardation film measured in the visible light wavelength band is 20 to 250 nm or 30 to 200 nm. In this case, the above-described viewing angle improving effect can be more effectively expressed.
또한, 상기 위상차 필름은 하기 식 (3)으로 표시되는 Nz 값이 1 미만인 것이 바람직하고, 0.1 내지 0.9인 것이 보다 바람직하며, 0.2 내지 0.8인 것이 특히 바람직하다. 이 경우 다양한 모드의 액정표시장치, 특히 IPS 모드의 액정표시장치의 위상차 필름으로서 사용하기에 매우 적합하다.The retardation film preferably has an Nz value of less than 1, more preferably 0.1 to 0.9, particularly preferably 0.2 to 0.8, expressed by the following formula (3). In this case, it is very suitable for use as a retardation film of a liquid crystal display device of various modes, in particular, an IPS mode liquid crystal display device.
식 (3): Nz = Rth , total/Rin , total Equation (3): Nz = R th , total / R in, total
상기 식 (3)에서, Rin , total은 위상차 필름 전체의 면 방향 위상차값이고, Rth , total은 위상차 필름 전체의 두께 방향 위상차값이며, 이때, 상기 Rin , total 및 Rth , total은 모두 가시광 파장대역에서 측정한 위상차값이다. 즉, 본 발명의 위상차 필름은 상기 Nz가 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm 파장 중 어느 임의의 파장의 광, 예를 들면 450nm, 550nm, 또는 650nm의 파장의 광에서 측정하여도 상기 범위를 만족하는 것이 바람직하다.
In the formula (3), R in, total is the plane retardation value of the entire retardation film, R th, total is the retardation value of the entire retardation film thickness direction, wherein said R in, total and R th, total is All of which are retardation values measured in the visible light wavelength band. That is, even if the retardation film of the present invention measures Nz in the visible light wavelength band, more specifically, light having any wavelength of 400 to 780 nm, for example, light having a wavelength of 450 nm, 550 nm, or 650 nm, It is preferable to satisfy it.
또한, 상기 위상차 필름은 상기 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층이 하기 식 (4) 및 (5)를 만족하는 것이 바람직하다. 이 경우, 위상차 필름 전체의 면 방향 위상차값 및 두께 방향 위상차값을 IPS 모드용 위상차 필름으로 적용하기 위한 적절한 수치로 조절할 수 있다.In the retardation film, it is preferable that the coating layer having the negative retardation characteristics satisfies the following expressions (4) and (5). In this case, the retardation value in the plane direction and the thickness direction retardation value of the entire retardation film can be adjusted to appropriate values for application to the retardation film for IPS mode.
식 (4): 50nm < Rin ,a < 250nm(4): 50 nm < R in , a < 250 nm
식 (5): 80nm < Rth ,a < 300nm(5): 80 nm < R th , a < 300 nm
상기 식 (4) 및 (5)에서, Rin ,a은 가시광 파장대역에서 측정한 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층의 면 방향 위상차값이고, Rth ,a은 가시광 파장대역에서 측정한 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층의 두께 방향 위상차값이다. 즉, 본 발명의 위상차 필름은 상기 Rin ,a 및 Rth ,a가 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm 파장 중 어느 임의의 파장의 광, 예를 들면 450nm, 550nm, 또는 650nm의 파장의 광에서 측정하여도 상기 식 (4) 및 (5)를 만족하는 것이 바람직하다.
In the above formulas (4) and (5), R in , a is the surface direction retardation value of the coating layer having a negative retardation characteristic measured in a visible light wavelength band, and R th , a is a negative retardation characteristic measured in the visible light wavelength band Is a thickness direction retardation value of the coating layer. That is, in the retardation film of the present invention, R in , a and R th , a are light in any wavelength range of visible light wavelength band, more specifically 400 to 780 nm wavelength, for example, 450 nm, 550 nm, or 650 nm (4) and (5) even when measured by light.
한편, 상기 위상차 필름은 가시광 파장대역에서 측정한 상기 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층의 면 방향 위상차값이 70 내지 200nm 이고, 두께 방향 위상차값이 100 내지 250nm인 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 위상차 필름 전체의 면 방향 위상차값 및 두께 방향 위상차값을 IPS 모드용 위상차 필름으로 적용하기 위한 적절한 수치로 더욱 효과적으로 조절할 수 있다.
The retardation film preferably has a retardation value in the range of 70 to 200 nm and a thickness retardation value of 100 to 250 nm in the coating layer having the negative retardation characteristic measured in the visible light wavelength band. In this case, the retardation value in the plane direction and the retardation value in the thickness direction of the entire retardation film can be more effectively adjusted to appropriate values for application as an IPS mode retardation film.
또한, 상기 위상차 필름은 상기 네가티브 C 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름이 하기 식 (6) 및 (7)을 만족하는 것이 바람직하다. 이 경우, 위상차 필름 전체의 면 방향 위상차값 및 두께 방향 위상차값을 IPS 모드용 위상차 필름으로 적용하기 위한 적절한 수치로 조절할 수 있다.It is preferable that the retardation film satisfies the following formulas (6) and (7) as the amide-based film having the negative C type retardation. In this case, the retardation value in the plane direction and the thickness direction retardation value of the entire retardation film can be adjusted to appropriate values for application to the retardation film for IPS mode.
식 (6): -50nm < Rin , b1 < 50nm(6): -50 nm <R in , b 1 <50 nm
식 (7): -200nm < Rth , b1 < 0nm(7): -200 nm < R th , b 1 < 0 nm
상기 식 (6) 및 (7)에서, Rin , b1은 가시광 파장대역에서 측정한 네가티브 C 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 면 방향 위상차값이고, Rth , b1은 가시광 파장대역에서 측정한 네가티브 C 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 두께 방향 위상차값이다. 즉, 본 발명의 위상차 필름은 상기 Rin , b1 및 Rth , b1가 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm 파장 중 어느 임의의 파장의 광, 예를 들면 450nm, 550nm, 또는 650nm의 파장의 광에서 측정하여도 상기 식 (6) 및 (7)을 만족하는 것이 바람직하다.
In the formulas (6) and (7), R in and b 1 are plane retardation values of an amide type film having a negative C type retardation measured in a visible light wavelength band, R th and b 1 are measured in a visible light wavelength band Is a thickness direction retardation value of an amide type film having a negative C type retardation. That is, in the retardation film of the present invention, R in , b 1 and R th , b 1 are visible light wavelength bands, more specifically light of any wavelength of 400 to 780 nm, for example, 450 nm, 550 nm, or 650 nm It is preferable to satisfy the above-mentioned expressions (6) and (7) even when measured by light.
한편, 상기 위상차 필름은 가시광 파장대역에서 측정한 상기 네가티브 C 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 면 방향 위상차값이 -20 내지 20nm이고, 두께 방향 위상차값이 -150 내지 0nm인 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 위상차 필름 전체의 면 방향 위상차값 및 두께 방향 위상차값을 IPS 모드용 위상차 필름으로 적용하기 위한 적절한 수치로 더욱 효과적으로 조절할 수 있다.
It is more preferable that the phase difference film has a retardation value in the plane direction of -20 to 20 nm and a retardation in the thickness direction of -150 to 0 nm of the amide type film having the negative C type retardation measured in the visible light wavelength band. In this case, the retardation value in the plane direction and the retardation value in the thickness direction of the entire retardation film can be more effectively adjusted to appropriate values for application as an IPS mode retardation film.
또한, 상기 위상차 필름은 상기 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름이 하기 식 (8) 및 (9)을 만족하는 것이 바람직하다. 이 경우, 위상차 필름 전체의 면 방향 위상차값 및 두께 방향 위상차값을 IPS 모드용 위상차 필름으로 적용하기 위한 적절한 수치로 조절할 수 있다.It is preferable that the retardation film satisfies the following formulas (8) and (9) for the amide-based film having the negative B-type retardation. In this case, the retardation value in the plane direction and the thickness direction retardation value of the entire retardation film can be adjusted to appropriate values for application to the retardation film for IPS mode.
식 (8): 0nm < Rin , b2 < 100nmEquation (8): 0nm <R in , b2 <100nm
식 (9): -200nm < Rth , b2 < 0nmEquation (9): -200nm <R th , b2 <0nm
상기 식 (8) 및 (9)에서, Rin , b2은 가시광 파장대역에서 측정한 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 면 방향 위상차값이고, Rth , b2은 가시광 파장대역에서 측정한 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 두께 방향 위상차값이다. 즉, 본 발명의 위상차 필름은 상기 Rin , b2 및 Rth , b2가 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm 파장 중 어느 임의의 파장의 광, 예를 들면 450nm, 550nm, 또는 650nm의 파장의 광에서 측정하여도 상기 식 (8) 및 (9)를 만족하는 것이 바람직하다.
In the above formula (8) and (9), R in, b2 is the plane retardation value of the amide-based film having a retardation of the negative type B measured in the visible light wavelength range, R th, b2 is measured in the visible light wavelength band Is the thickness direction retardation value of the amide type film having the negative B type phase difference. That is, the retardation film of the invention wherein R in, b2 and R th, b2 is the visible light wavelength region, and more specifically, from 400 to 780nm in which any of the wavelengths of the wavelength of light, for example, of 450nm, 550nm, or 650nm wavelength (8) and (9) are satisfied even when measured by light.
한편, 상기 위상차 필름은 상기 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 면 방향 위상차값이 0 내지 80nm이고, 두께 방향 위상차값이 -150 내지 0nm인 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 위상차 필름 전체의 면 방향 위상차값 및 두께 방향 위상차값을 IPS 모드용 위상차 필름으로 적용하기 위한 적절한 수치로 더욱 효과적으로 조절할 수 있다.
It is more preferable that the phase difference film has a retardation value in the plane direction of 0 to 80 nm and a retardation value in the thickness direction of -150 to 0 nm of the amide type film having the negative B type retardation. In this case, the retardation value in the plane direction and the retardation value in the thickness direction of the entire retardation film can be more effectively adjusted to appropriate values for application as an IPS mode retardation film.
또한, 상기 위상차 필름은 하기 식 (10)을 만족하는 것이 바람직하다. 이 경우 IPS 모드 액정표시장치에 위상차 보상 필름으로 매우 유용하게 적용될 수 있다.It is preferable that the retardation film satisfies the following formula (10). In this case, it can be very usefully applied to the IPS mode liquid crystal display as a retardation compensation film.
(10): nx , total > nz , total > ny , total (10): n x , total > n z , total > n y , total
상기 식 (10)에 있어서, nx , total는 위상차 필름 전체의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절율이고, ny , total는 위상차 필름 전체의 상기 지상축에 수직인 방향인 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절율이며, nz , total는 위상차 필름 전체의 두께 방향의 굴절율이다. 즉, 본 발명의 위상차 필름은 가시광 파장대역, 보다 구체적으로 400 내지 780nm 파장 중 어느 임의의 파장의 광, 예를 들면 450nm, 550nm, 또는 650nm의 파장의 광에서 측정하여도 상기 식 (10)을 만족하는 것이 바람직하다.
In the formula (10), n x, total is the refractive index of a phase difference film plane direction and the refractive index of the entire direction is maximum (that is, the direction of the slow axis), n y, total is perpendicular to the slow axis of the entire retardation film in a direction which is the direction of the refractive index (that is, fast axis direction), n z, the total refractive index of the entire retardation film thickness direction. That is, even when the retardation film of the present invention is measured in the visible light wavelength band, more specifically, light having any wavelength of 400 to 780 nm, for example, light having a wavelength of 450 nm, 550 nm, or 650 nm, It is preferable to satisfy it.
한편, 상기와 같은 식 (1) 내지 (10) 중 하나 이상을 만족하는 본 발명의 위상차 필름은, 상기 코팅층과 아마이드계 필름을 형성하는 원료 물질 및 연신 조건 등을 적절하게 제어함으로써 제조될 수 있다.
On the other hand, the retardation film of the present invention satisfying at least one of the above-mentioned formulas (1) to (10) can be produced by appropriately controlling the raw material for forming the coating layer and the amide-based film, .
먼저, 본 발명에 있어서 상기 코팅층의 원료 물질은 부의 위상차 특성을 가지는 고분자 물질이면 되고, 그 종류가 특별히 한정되지 않는다. 예컨대, 폴리비닐카바졸(polyvinylcarbazole), 폴리비닐나프탈렌(polyvinylnaphthalene), 스티렌계 수지 등을 사용할 수 있다.
First, in the present invention, the raw material of the coating layer may be a polymer material having negative retardation characteristics, and the kind thereof is not particularly limited. For example, polyvinylcarbazole, polyvinylnaphthalene, styrene resin and the like can be used.
이때, 상기 스티렌계 수지는 스티렌계 단량체를 주 성분으로 포함하는 것이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하다. 이때 상기 스티렌계 단량체의 예로는, 이에 한정되는 것은 아니나, 스티렌, α-메틸스티렌, 3-메틸스티렌, 4-메틸스티렌, 2,4-디메틸스티렌, 2,5-디메틸스티렌, 2-메틸-4-클로로스티렌, 2,4,6-트리메틸스티렌, cis-β-메틸스티렌, trans-β-메틸스티렌, 4-메틸-α-메틸스티렌, 4-플루오르-α-메틸스티렌, 4-클로로-α-메틸스티렌, 4-브로모-α-메틸스티렌, 4-t-부틸스티렌, 2-플루오르스티렌, 3-플루오르스티렌, 4-플루오로스티렌, 2,4-디플루오로스티렌, 2,3,4,5,6-펜타플루오로스티렌, 2-클로로스티렌, 3-틀로로스티렌, 4-틀로로스티렌, 2,4-디클로로스티렌, 2,6-디클로로스티렌, 옥타클로로스티렌, 2-브로모스티렌, 3-브로모스티렌, 4-브로모스티렌, 2,4-디브로모스티렌, α-브로모스티렌, β-브로모스티렌, 2-하이드록시스티렌, 4-하이드록시스티렌 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 스티렌 및 α-메틸스티렌인 것이 보다 바람직하다. 이들은 단독으로 또는 혼합하여 사용될 수 있다.
At this time, the styrenic resin may be used without particular limitation as long as it contains a styrene-based monomer as a main component. Examples of the styrenic monomer include but are not limited to styrene,? -Methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,5-dimethylstyrene, ? -Methylstyrene, 4-fluoro-? -Methylstyrene, 4-chlorostyrene, 2,4,6-trimethylstyrene, cis-? -Methylstyrene, trans-? methylstyrene, 4-t-butylstyrene, 2-fluorostyrene, 3-fluorostyrene, 4-fluorostyrene, 2,4-difluorostyrene, 2,3 2-chlorostyrene, 4-fluorostyrene, 4-fluorostyrene, 2,4-dichlorostyrene, 2,6-dichlorostyrene, octachlorostyrene, 2- Hydroxystyrene, 2-hydroxystyrene, 4-hydroxystyrene, and the like can be used in combination. Among them, And more preferably in the α- methyl styrene. These may be used alone or in combination.
또한, 상기 스티렌계 수지에는 상기한 스티렌계 단량체 외에 말레산 무수물계 단량체, 말레이미드계 단량체, 아크릴로니트릴계 단량체 등이 2종 이상 혼합되어 스티렌계 단량체와 함께 사용될 수도 있다. 예컨대, 상기 스티렌계 수지에는 스티렌계 단량체; 및 말레산 무수물계 단량체, 말레이미드계 단량체 및 아크릴로니트릴계 단량체로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 단량체가 포함될 수 있다.
In addition to the above styrene type monomer, the styrene type resin may also be used in combination with a styrene type monomer in combination of two or more kinds of maleic anhydride type monomer, maleimide type monomer, acrylonitrile type monomer and the like. For example, the styrene-based resin includes styrene-based monomers; And at least one monomer selected from the group consisting of maleic anhydride-based monomer, maleimide-based monomer and acrylonitrile-based monomer.
이때, 상기 말레산 무수물계 단량체로는 말레산 무수물, 메틸 말레산 무수물, 에틸 말레산 무수물, 프로필 말레산 무수물, 이소프로필 말레산 무수물, 시클로헥실 말레산 무수물, 페닐 말레산 무수물 등을 그 예로 들 수 있고; 상기 말레이미드계 단량체로는 말레이미드, N-메틸 말레이미드, N-에틸 말레이미드, N-프로필 말레이미드, N-이소프로필 말레이미드, N-시클로헥실 말레이미드, N-페닐 말레이미드 등을 그 예로 들 수 있으며; 상기 아크릴로니트릴계 단량체로는 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 에타크릴로니트릴, 페닐아크릴로니트릴 등을 그 예로 들 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
Examples of the maleic anhydride monomer include maleic anhydride, methyl maleic anhydride, ethyl maleic anhydride, propyl maleic anhydride, isopropyl maleic anhydride, cyclohexyl maleic anhydride and phenyl maleic anhydride. Can be; Examples of the maleimide-based monomer include maleimide, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-propylmaleimide, N-isopropylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, For example; Examples of the acrylonitrile-based monomer include acrylonitrile, methacrylonitrile, ethacrylonitrile, and phenyl acrylonitrile. However, the present invention is not limited thereto.
보다 구체적으로, 상기 스티렌계 수지는, 이에 한정되는 것은 아니나, 스티렌-말레산 무수물 공중합체, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, α-메틸스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, N-페닐 말레이미드-α-메틸스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, N-페닐 말레이미드-스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, N-페닐 말레이미드-α-메틸스티렌-스티렌-아크릴로니트릴 공중합체 등일 수 있다.
More specifically, the styrenic resin includes, but is not limited to, styrene-maleic anhydride copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer,? -Methylstyrene-acrylonitrile copolymer, N-phenylmaleimide-? -Methylstyrene-acrylonitrile copolymer, N-phenylmaleimide-styrene-acrylonitrile copolymer, N-phenylmaleimide-a-methylstyrene-styrene-acrylonitrile copolymer and the like.
또한, 상기 폴리비닐카보졸은, 폴리(9-비닐카바졸)과 같이 분자 내에 카바졸 골격을 가지는 것으로, 당해 기술분야에서 일반적으로 사용되는 폴리비닐카바졸이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하다.
In addition, the polyvinylcarbazole has a carbazole skeleton in the molecule such as poly (9-vinylcarbazole), and polyvinylcarbazole generally used in the art can be used without any particular limitation.
또한, 상기 폴리비닐나프탈렌은, 폴리(2-비닐나프탈렌)과 같이 분자 내에 나프탈렌 골격을 가지는 것으로, 당해 기술분야에서 일반적으로 사용되는 폴리비닐나프탈렌이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하다.
The polyvinylnaphthalene has a naphthalene skeleton in the molecule such as poly (2-vinylnaphthalene), and polyvinylnaphthalene generally used in the art can be used without particular limitation.
한편, 상기 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층은 두께가 1 내지 20㎛인 것이 바람직하며, 예를 들면, 1.2 내지 15㎛ 또는 1.5 내지 10㎛ 정도일 수 있다. 1㎛ 미만의 두께인 경우, 부의 위상차 발현이 떨어져 원하는 수준의 위상차를 발현하지 못할 수 있으며, 반대로 20㎛를 초과하는 두께인 경우, 부의 위상차 발현이 너무 커질 수 있고, 필름의 두께가 두꺼워져 위상차 필름의 박막화가 어려울 수 있다.
On the other hand, the thickness of the coating layer having the negative retardation characteristics is preferably 1 to 20 μm, for example, 1.2 to 15 μm or 1.5 to 10 μm. When the thickness is less than 1 탆, the negative retardation is lowered and the retardation of the desired level may not be exhibited. On the contrary, when the thickness exceeds 20 탆, the negative retardation may become too large, It may be difficult to make the film thinner.
다음으로, 본 발명에 있어서 상기 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름은 폴리아마이드계 수지를 주 성분으로 포함하는 것이 바람직하며, 상기 폴리아마이드계 수지는 주쇄에 아마이드기를 가지는 것이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하다. 예컨대, 이에 한정되는 것은 아니나, 상기 아마이드계 필름은 하기 화학식 1 또는 2로 표시되는 단위를 포함하는 폴리아마이드계 수지를 포함하는 것일 수 있다.
Next, in the present invention, the amide-based film having the negative C type or negative B type retardation preferably contains a polyamide-based resin as a main component, and the polyamide-based resin is not particularly limited as long as it has an amide group in the main chain Can be used without limit. For example, although not limited thereto, the amide-based film may include a polyamide-based resin containing a unit represented by the following general formula (1) or (2).
[화학식 1][Chemical Formula 1]
상기 화학식 1에 있어서, A는 C2 -16 지방족 탄화수소 사슬, C5 -14 지방족 탄화수소 고리 또는 C6 -14 방향족 탄화수소 고리이고, X1은 할로겐원자 또는 C1 -6 알킬기이고, a는 0~3의 정수이고, n는 5~10,000의 정수이다.
In the above Formula 1, A is C 2 -16 aliphatic hydrocarbon chains, C 5 -14 aliphatic hydrocarbon ring or an aromatic C 6 -14 hydrocarbon chain, X 1 is a halogen atom or a C 1 -6 alkyl group, a is 0 to 3, and n is an integer of 5 to 10,000.
이때, 상기 화학식 1의 A에 있어서, C2 -16 지방족 탄화수소 사슬은 2 내지 16개, 또는 4 내지 14개, 또는 6 내지 12개의 탄소 원자의 탄화수소 부위를 의미하며, 이에 한정되는 것은 아니나, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기, 헵타메틸렌기, 노나메틸렌기, 데카메틸렌기, 운데카메틸렌기, 도데카메틸렌기, 트리데카메틸렌기, 테트라데카메틸렌기, 펜타데카메틸렌기, 헥사데카메틸렌기 등을 그 예로 들 수 있다.
In the formula (1), the C 2 -16 aliphatic hydrocarbon chain means a hydrocarbon moiety having 2 to 16, 4 to 14, or 6 to 12 carbon atoms, and includes, but is not limited to, methylene An ethylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, a heptamethylene group, a nonanemethylene group, a decamethylene group, an undecamethylene group, a dodecamethylene group, a tridecamethylene group, A methylene group, a pentadecamethylene group, a hexadecamethylene group, and the like.
또한, 상기 화학식 1의 A에 있어서, C5 -14 지방족 탄화수소 고리는 5 내지 14개, 또는 5 내지 10개, 또는 5 내지 6개의 고리 탄소의 포화된 또는 불포화된 비방향족 모노시클릭, 바이시클릭, 트리시클릭 탄화수소 부위를 의미하며, 이에 한정된는 것은 아니나, 시클로펜탄 고리, 시클로헥산 고리 등의 시클로알칸(cycloalkane) 고리와 시클로펜텐 고리, 시클로헥센 고리, 시클로옥텐 고리 등의 시클로알켄(cycloalkene) 고리 등을 예로 들 수 있다.
Further, in A of Formula 1, C 5 -14 aliphatic hydrocarbon ring of 5 to 14, or 5 to 10, or 5 to 6 ring carbon cyclic saturated or unsaturated non-aromatic mono-, bicyclic Refers to a tricyclic hydrocarbon moiety and includes, but is not limited to, a cycloalkane ring such as a cyclopentane ring or a cyclohexane ring, a cycloalkene ring such as a cyclopentene ring, a cyclohexene ring, or a cyclooctene ring, And the like.
또한, 상기 화학식 1의 A에 있어서, C6 -14 방향족 탄화수소 고리는 6 내지 14개, 또는 6 내지 12개의 고리 원자를 가지는 모노시클릭, 바이시클릭 또는 트리시클릭 방향족 탄화수소 부위를 의미하며, 이에 한정되는 것은 아니나, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 비페닐 고리 등을 그 예로 들 수 있다.
In the formula (A), the C 6 -14 aromatic hydrocarbon ring means a monocyclic, bicyclic or tricyclic aromatic hydrocarbon moiety having 6 to 14 or 6 to 12 ring atoms, But are not limited to, benzene rings, naphthalene rings, anthracene rings, biphenyl rings, and the like.
한편, 상기 화학식 1에 있어서 A의 폴리아마이드계 수지의 주쇄와의 결합 위치는 특별히 제한되지 않으며, 비대칭 위치라도 좋고, 대칭 위치라도 좋다. 예컨대, 상기 A가 시클로헥산 고리인 경우, 1,3번 탄소가 주쇄와 결합하는 시클로헥산 고리이어도 좋고, 1,4번 탄소가 주쇄와 결합하는 시클로헥산 고리이어도 좋다.
On the other hand, in the above formula (1), the bonding position of the polyamide resin of A with the main chain is not particularly limited and may be an asymmetric position or a symmetric position. For example, when A is a cyclohexane ring, it may be a cyclohexane ring in which the 1,3 carbon is bonded to the main chain, or a cyclohexane ring in which the 1,4 carbon is bonded to the main chain.
또한, 상기 화학식 1의 X1에 있어서, C1 - 6알킬기로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, t-부틸기 등을 그 예로 들 수 있다. 이때, 상기 X1은 A의 임의의 위치의 수소에 치환되어 결합된다.
Further, in X 1 of Formula 1, C 1 - 6 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t- butyl group can be given. Examples. At this time, X 1 is substituted with hydrogen at an arbitrary position of A.
[화학식 2](2)
상기 화학식 2에 있어서, B 및 C는 각각 독립적으로 C2 -16 지방족 탄화수소 사슬, C5 -14 지방족 탄화수소 고리 또는 C6 -14 방향족 탄화수소 고리이고, X2 및 X3는 각각 독립적으로 할로겐원자 또는 C1 -6 알킬기이고, b 및 c는 각각 독립적으로 0~3의 정수이고, m은 5~10,000의 정수이다.
In Formula 2, B and C are each independently a C 2 -16 aliphatic hydrocarbon chain, a C 5 -14 aliphatic hydrocarbon ring, or a C 6 -14 aromatic hydrocarbon ring, and X 2 and X 3 are each independently a halogen atom or a c 1 -6 alkyl group, b and c are each independently an integer of 0 ~ 3, m is an integer of 5 to 10,000.
이때, 상기 화학식 2의 B 및 C에 있어서, C2 -16 지방족 탄화수소 사슬은 2 내지 16개, 또는 4 내지 14개, 또는 6 내지 12개의 탄소 원자의 탄화수소 부위를 의미하며, 이에 한정되는 것은 아니나, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기, 헵타메틸렌기, 노나메틸렌기, 데카메틸렌기, 운데카메틸렌기, 도데카메틸렌기, 트리데카메틸렌기, 테트라데카메틸렌기, 펜타데카메틸렌기, 헥사데카메틸렌기 등을 그 예로 들 수 있다.
Herein, in B and C of the above formula (2), the C 2 -16 aliphatic hydrocarbon chain means a hydrocarbon part of 2 to 16, or 4 to 14, or 6 to 12 carbon atoms, , Methylene group, ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, heptamethylene group, nonamethylene group, decamethylene group, undecamethylene group, dodecamethylene group, tridecamethylene group, Tetradecamethylene group, tetradecamethylene group, pentadecamethylene group, hexadecamethylene group and the like.
또한, 상기 화학식 2의 B 및 C에 있어서, C5 -14 지방족 탄화수소 고리는 5 내지 14개, 또는 5 내지 10개, 또는 5 내지 6개의 고리 탄소의 포화된 또는 불포화된 비방향족 모노시클릭, 바이시클릭, 트리시클릭 탄화수소 부위를 의미하며, 이에 한정된는 것은 아니나, 시클로펜탄 고리, 시클로헥산 고리 등의 시클로알칸(cycloalkane) 고리와 시클로펜텐 고리, 시클로헥센 고리, 시클로옥텐 고리 등의 시클로알켄(cycloalkene) 고리 등을 예로 들 수 있다.
Further, in the B and C in the formula 2, C 5 -14 aliphatic hydrocarbon ring of 5 to 14, or 5 to 10, or 5 to 6 ring carbon cyclic saturated or unsaturated non-aromatic mono, Bicyclic and tricyclic hydrocarbon moieties, and includes, but is not limited to, cycloalkane rings such as cyclopentane rings and cyclohexane rings, cycloalkane rings such as cyclopentene rings, cyclohexene rings, and cyclooctene rings, ) Rings, and the like.
또한, 상기 화학식 2의 B 및 C에 있어서, C6 -14 방향족 탄화수소 고리는 6 내지 14개, 또는 6 내지 12개의 고리 원자를 가지는 모노시클릭, 바이시클릭 또는 트리시클릭 방향족 탄화수소 부위를 의미하며, 이에 한정되는 것은 아니나, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 비페닐 고리 등을 그 예로 들 수 있다.
In the above formulas (B) and (C), the C 6 -14 aromatic hydrocarbon ring means a monocyclic, bicyclic or tricyclic aromatic hydrocarbon moiety having 6 to 14, or 6 to 12, ring atoms But are not limited to, benzene rings, naphthalene rings, anthracene rings, biphenyl rings, and the like.
한편, 상기 화학식 2에 있어서 B 및 C의 폴리아마이드계 수지의 주쇄와의 결합 위치는 특별히 제한되지 않으며, 비대칭 위치라도 좋고, 대칭 위치라도 좋다. 예컨대, 상기 B 또는 C가 시클로헥산 고리인 경우, 1,3번 탄소가 주쇄와 결합하는 시클로헥산 고리이어도 좋고, 1,4번 탄소가 주쇄와 결합하는 시클로헥산 고리이어도 좋다.
On the other hand, in the formula (2), the bonding position of the polyamide resin of B and C to the main chain is not particularly limited and may be an asymmetric position or a symmetric position. For example, when B or C is a cyclohexane ring, it may be a cyclohexane ring in which the 1,3 carbon is bonded to the main chain, or a cyclohexane ring in which the 1,4 carbon is bonded to the main chain.
또한, 상기 화학식 2에 있어서, X2 및 X3의 C1 - 6알킬기로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, t-부틸기 등을 그 예로 들 수 있다. 이때, 상기 X2는 B의 임의의 위치의 수소에 치환되어 결합되며, X3는 C의 임의의 위치의 수소에 치환되어 결합된다.
In the above Formula 2, X 2 and X 3 of the C 1 - 6 alkyl group as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t- butyl group can be given. Examples . X 2 is substituted and bonded to hydrogen at any position of B, and X 3 is substituted and bonded to hydrogen at any position of C;
한편, 이에 한정되는 것은 아니나, 상기 폴리아마이드계 수지는 하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 이 경우 보다 효과적으로 정의 위상차 특성을 구현할 수 있다.
On the other hand, although not limited thereto, it is more preferable that the polyamide resin includes a repeating unit represented by the following formula (3). In this case, the positive phase difference characteristic can be realized more effectively.
[화학식 3](3)
상기 화학식 3에 있어서, D는 C2 -16 지방족 탄화수소 사슬이고, E1 및 E2는 각각 독립적으로 시클로헥산 고리 또는 벤젠 고리이고, X4, X5 및 X6은 각각 독립적으로 할로겐원자 또는 C1 -6 알킬기이고, X7은 단일결합, 메틸렌기 또는 디메틸메틸렌기이고, d, e1 및 e2는 각각 독립적으로 0~2의 정수이고, k는 5~10,000의 정수이다.
In the general formula 3, D is a C 2 -16 aliphatic hydrocarbon chain, E 1 and E 2 are each independently a cyclohexane ring or a benzene ring, X 4, X 5 and X 6 is a halogen atom or a C each independently 1 and -6 alkyl group, X 7 is a single bond, a methylene group or a dimethylmethylene group, d, e1 and e2 are each independently an integer of 0 ~ 2, k is an integer of 5 to 10,000.
이때, 상기 화학식 3의 D에 있어서, C2 -16 지방족 탄화수소 사슬은 2 내지 16개, 또는 4 내지 14개, 또는 6 내지 12개의 탄소 원자의 탄화수소 부위를 의미하며, 이에 한정되는 것은 아니나, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기, 헵타메틸렌기, 노나메틸렌기, 데카메틸렌기, 운데카메틸렌기, 도데카메틸렌기, 트리데카메틸렌기, 테트라데카메틸렌기, 펜타데카메틸렌기, 헥사데카메틸렌기 등을 그 예로 들 수 있다.
In the formula (D), the C 2 -16 aliphatic hydrocarbon chain refers to a hydrocarbon moiety of 2 to 16, or 4 to 14, or 6 to 12 carbon atoms, including, but not limited to, methylene An ethylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, a heptamethylene group, a nonanemethylene group, a decamethylene group, an undecamethylene group, a dodecamethylene group, a tridecamethylene group, A methylene group, a pentadecamethylene group, a hexadecamethylene group, and the like.
또한, 상기 화학식 3의 E1 및 E2에 있어서, 상기 E1 및 E2는 그 중에서도 특히 시클로헥산 고리인 것이 보다 바람직하며, 이때, 상기 E1 및 E2의 폴리아마이드계 수지의 주쇄와의 결합 위치는 특별히 제한되지 않으며, 비대칭 위치라도 좋고, 대칭 위치라도 좋다. 예컨대, 상기 E1 및 E2가 시클로헥산 고리인 경우, 1,3번 탄소가 주쇄와 결합하는 시클로헥산 고리이어도 좋고, 1,4번 탄소가 주쇄와 결합하는 시클로헥산 고리이어도 좋다.
Further, in the above Formula 3 E 1 and E 2, wherein E 1 and E 2 are, and among them more preferable, especially cyclohexane ring, wherein, with the E 1 and E 2 of poly amide-based resin main chain of the The bonding position is not particularly limited and may be an asymmetric position or a symmetric position. For example, when E 1 and E 2 are cyclohexane rings, they may be a cyclohexane ring in which the 1,3 carbon is bonded to the main chain, or a cyclohexane ring in which the 1,4 carbon is bonded to the main chain.
또한, 상기 화학식 3에 있어서, X4, X5 및 X6의 C1 - 6알킬기로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, t-부틸기 등을 그 예로 들 수 있다. 이때, 상기 X4는 D의 임의의 위치의 수소에 치환되어 결합되고, X5는 E1의 임의의 위치의 수소에 치환되어 결합되며, X6는 E2의 임의의 위치의 수소에 치환되어 결합된다.
In Formula 3, X 4 and X 5 And C 1 of X 6 - 6 in an alkyl group is a methyl group, may be mentioned an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t- butyl group. Examples. At this time, the X 4 is bonded is substituted on hydrogen from any desired position of D, X 5 is bonded is substituted on hydrogen from any desired position of E 1, X 6 is optionally substituted on hydrogen from any desired position of the E 2 .
한편, 본 발명의 상기 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름은 아마이드계 필름의 높은 위상차 특성으로 인해 얇은 두께로도 원하는 위상차 발현이 가능하여 박막화가 가능한바, 두께가 5 내지 40㎛, 바람직하게는 10 내지 35㎛ 또는 10 내지 30㎛의 범위일 수 있다. 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 두께가 상기 범위를 만족하는 경우 위상차 필름의 박막화가 가능하며, 이를 포함하는 액정표시장치의 소형화, 경량화 등이 가능하다.
On the other hand, the amide-based film having the negative C type or negative B type retardation of the present invention can be thinned because of its high retardation property due to the high retardation property of the amide type film, Mu] m, preferably 10 to 35 [mu] m or 10 to 30 [mu] m. When the thickness of the amide-based film having the negative C type or negative B type phase difference satisfies the above-mentioned range, the phase difference film can be made thinner, and the liquid crystal display including the same can be downsized and lightweight.
또한, 본 발명의 상기 위상차 필름은 상기 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 높은 위상차 특성으로 인해 얇은 두께로도 원하는 위상차 발현이 가능한바, 위상차 필름 전체의 두께가 10 내지 60㎛, 바람직하게는 13 내지 50㎛, 15 내지 40㎛ 또는 15 내지 30㎛의 범위일 수 있다. 이때, 상기 위상차 필름의 두께가 10㎛ 미만일 경우에는 필름의 두께가 너무 얇아져 필름 및 편광판의 취급성이 불량하게 될 수 있어, 필름 및 편광판의 제조 공정이나 제품의 취급 과정에서 꺾임, 파단 등이 발생할 수 있으며, 60㎛를 초과할 경우에는 편광판의 박형화가 어려운 문제점이 발생할 수 있다.
Also, since the retardation film of the present invention can exhibit a desired retardation with a thin thickness due to the high retardation property of the amide-based film having the negative C type or negative B type retardation, the thickness of the entire retardation film is preferably 10 to 60 Mu] m, preferably from 13 to 50 [mu] m, from 15 to 40 [mu] m or from 15 to 30 [mu] m. If the thickness of the retardation film is less than 10 탆, the thickness of the film becomes too thin, which may result in poor handling properties of the film and the polarizing plate. As a result, the film or the polarizing plate may be bent or broken If it is more than 60 탆, it may be difficult to make the polarizer thinner.
다음으로 본 발명의 상기 위상차 필름의 제조 방법에 대해 설명한다.
Next, a method for producing the retardation film of the present invention will be described.
본 발명에 따른 위상차 필름의 제조 방법은 아마이드계 필름을 길이 방향(MD)으로 일축 연신 하는 단계; 상기 길이 방향으로 일축 연신된 아마이드계 필름의 적어도 일면에 부의 위상차 특성을 가지는 고분자 물질을 이용하여 코팅층을 형성하는 단계; 및 상기 코팅층이 형성된 아마이드계 필름을 폭 방향(TD)으로 일축 연신 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이때, 상기 아마이드계 필름은 상기 길이 방향으로 일축 연신 하는 단계와 폭 방향으로 일축 연신 하는 단계를 거친 후 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지게 된다.
The method for producing a retardation film according to the present invention comprises the steps of uniaxially stretching an amide-based film in a longitudinal direction (MD); Forming a coating layer on at least one surface of the amide-based film uniaxially stretched in the longitudinal direction by using a polymer material having a negative retardation characteristic; And uniaxially stretching the amide-based film formed with the coating layer in the transverse direction (TD). At this time, the amide-based film has a negative C type or negative B type phase difference after being uniaxially stretched in the longitudinal direction and uniaxially stretched in the width direction.
본 발명의 위상차 필름 제조 방법은 이와 같이 2회의 축차 연신만으로 원하는 위상차 필름을 얻을 수 있어, 보다 간소화된 공정으로 IPS 모드 액정표시장치에도 적용이 가능한 위상차 필름을 제조할 수 있다.
The method of producing a retardation film of the present invention can obtain a desired retardation film only by two consecutive stretches, and can produce a retardation film which can be applied to an IPS mode liquid crystal display device by a simpler process.
먼저, 상기 아마이드계 필름은 상술한 폴리아마이드계 수지를 포함하는 수지 조성물을 용액 캐스터법이나 압출법과 같은 당해 기술 분야에 잘 알려진 방법에 따라 필름 형태로 제조함으로써 제조될 수 있다. 경제적인 면을 고려할 때 압출법을 사용하는 것이 더 바람직하다. 경우에 따라 필름 제조 공정 시에, 필름의 물성을 해하지 않는 범위 내에서 개량제와 같은 첨가제를 추가로 첨가할 수 있다.
First, the amide-based film can be produced by preparing a resin composition comprising the polyamide-based resin described above in the form of a film according to a method well known in the art, such as a solution casting method or an extrusion method. It is more preferable to use the extrusion method in view of the economical aspect. In some cases, an additive such as a modifying agent may be added to the film within a range that does not impair the physical properties of the film.
한편, 본 발명의 상기 아마이드계 필름을 길이 방향(MD)으로 일축 연신 하는 단계는, 당해 기술분야에서 널리 알려진 연신 방법으로 수행될 수 있다. 예컨대, 상기 아마이드계 필름의 유리전이온도를 Tg라 할 때, (Tg-20)℃ 내지 (Tg+30)℃ 온도에서 길이 방향으로 롤투롤(roll-to-toll) 방식으로 1.1 내지 5.0배 연신하는 방법으로 수행될 수 있다.
On the other hand, the step of uniaxially stretching the amide-based film of the present invention in the longitudinal direction (MD) can be carried out by a stretching method well known in the art. For example, when the glass transition temperature of the amide-based film is Tg, the film is stretched by 1.1 to 5.0 times in a roll-to-roll manner at a temperature of (Tg-20) ° C to (Tg + 30) . ≪ / RTI >
보다 구체적으로, 본 발명에 있어서 상기 길이 방향으로 일축 연신 하는 단계는, 상기 아마이드계 필름을 1.1 내지 5.0배 연신 하는 것이 바람직하며, 예를 들면, 1.3배 내지 4.0배 또는 1.5배 내지 3.0배 정도로 연신 할 수 있다. 이때, 연신비가 1.1배 미만인 경우에는 필름의 인성이 저하되어, 제조된 위상차 필름이 편광판에 적용하기 어려울 수 있으며, 연신비가 5.0배를 초과하는 경우는 연신 과정에서 필름의 파단이 발생할 수 있어, 안정적인 필름 생산이 어려울 수 있다.
More specifically, in the present invention, the step of uniaxially stretching in the longitudinal direction is preferably a step of stretching the amide-based film to 1.1 to 5.0 times It is preferably stretched to, for example, 1.3 to 4.0 times or 1.5 to 3.0 times. If the stretching ratio is less than 1.1 times, toughness of the film is lowered, and the produced retardation film may be difficult to apply to the polarizing plate. If the stretching ratio is more than 5.0 times, the film may be broken during stretching, Film production can be difficult.
또한, 본 발명에 있어서 상기 길이 방향으로 일축 연신 하는 단계는, 상기 아마이드계 필름의 두께가 20 내지 120㎛이 되도록 연신 하는 것이 바람직하며, 예를 들면, 두께가 25 내지 80㎛ 또는 30 내지 60㎛가 되도록 연신 할 수 있다. 이때, 길이 방향으로 일축 연신 후의 필름의 두께가 20㎛ 미만일 경우에는 폭 방향으로 연신을 진행하였을 때 필름의 두께가 너무 얇아져 필름 및 편광판의 취급성이 불량하게 될 수 있어, 필름 및 편광판의 취급과정에서 꺾임이나 파단 등이 발생할 수 있으며, 120㎛를 초과할 경우에는 편광판의 박형화가 어려운 문제점이 발생할 수 있다.
In the present invention, the uniaxially stretching in the longitudinal direction is preferably performed such that the thickness of the amide-based film is 20 to 120 탆. For example, the thickness is 25 to 80 탆 or 30 to 60 탆 As shown in Fig. If the thickness of the film after uniaxial stretching in the longitudinal direction is less than 20 占 퐉, the thickness of the film becomes too thin when the film is stretched in the width direction, and the handling properties of the film and the polarizing plate may become poor, And if it exceeds 120 탆, it may be difficult to make the polarizer thinner.
또한, 본 발명에 있어서 상기 길이 방향으로 일축 연신 하는 단계는, 상기 아마이드계 필름의 유리전이온도를 Tg라 할 때, (Tg-20)℃ 내지 (Tg+30)℃의 온도에서 수행되는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 (Tg)℃ 내지 (Tg+20)℃ 정도의 온도에서 수행될 수 있다. 이때, 길이 방향으로 일축 연신 하는 단계가 (Tg-20)℃ 미만의 온도에서 수행될 경우, 필름의 저장 탄성율이 저하될 수 있으며, 이에 따라 손실 탄성율이 저장 탄성률보다 커질 수 있다. 또한, (Tg+30)℃ 초과의 온도에서 수행될 경우, 고분자 사슬의 배향이 완화되어 소실될 수 있다. 한편, (Tg)℃ 내지 (Tg+20)℃ 의 온도에서 수행되는 것이 필름의 안정적인 생산과 필름의 인성을 고려하여 보다 바람직하다. 한편, 상기 유리전이온도는 시차주사형 열량계(DSC)에 의해 측정될 수 있다. 예컨대, 시차주사형 열량계(DSC)를 이용하는 경우, 약 10mg의 시료를 전용 펜(pan)에 밀봉하고 일정 승온 조건으로 가열할 때 상변이가 일어남에 따른 물질의 흡열 및 발열량을 온도에 따라 그려 유리전이온도를 측정할 수 있다.
In the present invention, the step of uniaxially stretching in the longitudinal direction is preferably performed at a temperature of (Tg-20) ° C to (Tg + 30) ° C, where Tg is the glass transition temperature of the amide-based film , And more preferably at a temperature of about (Tg) ° C to (Tg + 20) ° C. In this case, when the uniaxial stretching in the longitudinal direction is performed at a temperature lower than (Tg-20) DEG C, the storage elastic modulus of the film may be lowered, and thus the loss elastic modulus may become larger than the storage elastic modulus. Further, when the polymerization is carried out at a temperature higher than (Tg + 30) DEG C, the orientation of the polymer chain may be alleviated and lost. On the other hand, it is more preferable to perform at a temperature of (Tg) ° C to (Tg + 20) ° C in view of stable production of the film and toughness of the film. On the other hand, the glass transition temperature can be measured by a differential scanning calorimeter (DSC). For example, in the case of using a differential scanning calorimeter (DSC), when a sample of about 10 mg is sealed in a special pen and heated at a constant temperature, the endothermic heat and the heat generation amount of the material due to the phase change occur, The transition temperature can be measured.
상기 아마이드계 필름을 길이 방향으로 일축 연신 한 후, 상기 아마이드계 필름의 적어도 일면에 일면에 부의 위상차 특성을 가지는 고분자 물질을 이용하여 코팅층을 형성하는 단계를 수행한다. 상기 코팅층을 형성하는 단계는 당해 기술분야에서 널리 알려진 방법에 의해 수행될 수 있다. 예컨대, 부의 위상차를 가지는 고분자 물질과 용매를 포함하는 조성물을 마이크로 그라비아 코팅법, 콤마 코팅법, 바 코팅법, 롤러 코팅법, 스핀 코팅법, 프린트법, 딥 코팅법, 유연 성막법, 다이 코팅법, 블레이드 코팅법, 그라비아 인쇄 법 등의 방법을 이용하여 도포하여 건조하는 방법으로 수행될 수 있다. 이때, 상기 부의 위상차를 가지는 고분자 물질의 구체적인 예는 상기한 바와 동일하며, 사용 가능한 용매로는 메틸렌클로라이드, 클로로포름, 테트라하이드로퓨란(THF), 1,3-디옥살레인, 시클로펜타논, N-메틸 피롤리돈(NMP), 디메틸폼아마이드(DMF), 디메틸아세트아마이드(DMAc) 에탄올, 메탄올 등의 알코올류, 물 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 이용해도 되고 2종 이상을 병행해도 된다.
The amide-based film is uniaxially stretched in the longitudinal direction, and then a coating layer is formed on at least one surface of the amide-based film using a polymer material having a negative retardation characteristic on one side. The step of forming the coating layer may be performed by a method well known in the art. For example, a composition including a polymer material having a negative phase difference and a solvent may be applied to the substrate by a microgravure coating method, a comma coating method, a bar coating method, a roller coating method, a spin coating method, a printing method, a dip coating method, , A blade coating method, a gravure printing method, and the like, followed by drying. Specific examples of the polymer material having a negative phase difference are as described above, and examples of the usable solvent include methylene chloride, chloroform, tetrahydrofuran (THF), 1,3-dioxane, cyclopentanone, N- Alcohols such as methylpyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc) ethanol and methanol, and water. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
한편, 상기 부의 위상차 특성을 가지는 고분자 물질을 이용하여 코팅층을 형성하는 단계는, 코팅층의 두께가 1 내지 30㎛ 정도가 되도록 코팅하는 것이 바람직하며, 예를 들면, 코팅층의 두께가 2 내지 15㎛ 또는 3 내지 13㎛ 정도가 되도록 코팅 할 수 있다. 이때, 코팅층의 두께는 위상차를 발현하는 특성과 관련이 있는 것으로, 1㎛ 미만의 두께로 코팅하였을 경우, 부의 위상차를 발현하는 특성이 떨어져 원하는 수준의 위상차를 발현하지 못할 수 있으며, 반대로 30㎛를 초과하는 두께로 코팅하였을 경우, 부의 위상차를 발현하는 특성이 너무 커질 수 있는 문제점이 발생할 수 있고, 필름의 두께가 두꺼워져 위상차 필름의 박막화가 어려울 수 있다.
Meanwhile, in the step of forming the coating layer using the polymer material having the negative retardation characteristic, it is preferable to coat the coating layer so that the thickness of the coating layer is about 1 to 30 탆. For example, the thickness of the coating layer is 2 to 15 탆, 3 to 13 mu m. In this case, the thickness of the coating layer is related to the property of exhibiting the retardation. When the coating layer is coated to a thickness of less than 1 탆, the negative retardation may not be exhibited and the retardation of the desired level may not be exhibited. If the thickness of the retardation film is more than the thickness of the retardation film, the property of exhibiting a negative retardation may become too large, and the thickness of the retardation film may become thin.
한편, 필요에 따라, 상기 아마이드계 필름과 코팅층 사이의 접착력을 향상시키기 위하여, 상기 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름을 길이 방향으로 일축 연신하는 단계와 상기 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층을 형성하는 단계 사이에서 상기 아마이드계 필름의 표면을 코로나 처리 할 수도 있다.
On the other hand, if necessary, in order to improve the adhesion between the amide-based film and the coating layer, a step of uniaxially stretching the amide-based film having the negative C type or negative B type phase difference in the longitudinal direction, The surface of the amide-based film may be corona treated between the steps of forming the coating layer.
상기와 같은 과정을 거쳐 상기 아마이드계 필름 상에 코팅층이 형성되면, 상기 코팅층이 형성된 아마이드계 필름을 폭 방향(TD)으로 연신한다. 폭 방향으로 연신 할 경우, 상기 아마이드계 필름과 상기 코팅층을 한 번의 연신 과정으로 동시에 연신 할 수 있다. 따라서, 상기 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름은 길이 방향 및 폭 방향으로 이축 연신 되고, 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층은 폭 방향으로 일축 연신 된다.
When the coating layer is formed on the amide-based film through the above process, the amide-based film formed with the coating layer is stretched in the transverse direction (TD). When the film is stretched in the width direction, the amide-based film and the coating layer can be simultaneously stretched by a single stretching process. Therefore, the amide-based film having the negative C type or negative B type phase difference is biaxially stretched in the longitudinal direction and the width direction, and the coating layer having the negative retardation property is uniaxially stretched in the width direction.
한편, 본 발명의 상기 코팅층이 형성된 아마이드계 필름을 폭 방향(TD)으로 일축 연신 하는 단계는, 마찬가지로 당해 기술분야에서 널리 알려진 연신 방법으로 수행될 수 있다. 예컨대, 상기 아마이드계 필름의 유리전이온도를 Tg라 할 때, (Tg-20)℃ 내지 (Tg+30)℃ 온도에서 폭 방향으로 텐터 연신기를 이용하여 1.1 내지 5.0배 연신하는 방법으로 수행될 수 있다.
On the other hand, the step of uniaxially stretching the amide-based film in which the coating layer of the present invention is formed in the transverse direction (TD) can likewise be carried out by a stretching method well known in the art. For example, when the glass transition temperature of the amide-based film is Tg, the film may be stretched in the width direction at a temperature of (Tg-20) ° C to (Tg + 30) ° C using a tenter stretcher at a stretching ratio of 1.1 to 5.0 times have.
보다 구체적으로, 본 발명에 있어서 상기 폭 방향으로 일축 연신 하는 단계는, 상기 코팅층이 형성된 아마이드계 필름을 1.1 내지 5.0배 연신 하는 것이 바람직하며, 예를 들면, 1.3배 내지 4.0배 또는 1.5배 내지 3.0배 정도로 연신 할 수 있다. 이때, 연신비가 1.1배 미만인 경우에는 필름의 인성이 저하되어, 제조된 위상차 필름이 편광판에 적용하기 어려울 수 있으며, 연신비가 5.0배를 초과하는 경우는 연신 과정에서 필름의 파단이 발생할 수 있어, 안정적인 필름 생산이 어려울 수 있다.
More specifically, in the present invention, the step of uniaxially stretching in the transverse direction may be carried out by heating the amide-based film formed with the coating layer at 1.1 to 5.0 times It is preferably stretched to, for example, 1.3 to 4.0 times or 1.5 to 3.0 times. If the stretching ratio is less than 1.1 times, toughness of the film is lowered, and the produced retardation film may be difficult to apply to the polarizing plate. If the stretching ratio is more than 5.0 times, the film may be broken during stretching, Film production can be difficult.
또한, 본 발명에 있어서 상기 폭 방향으로 일축 연신 하는 단계는, 상기 코팅층이 형성된 아마이드계 필름의 두께가 10 내지 60㎛가 되도록 연신 하는 것이 바람직하며, 예컨대, 13 내지 50㎛, 15 내지 40㎛ 또는 15 내지 30㎛ 정도일 수 있다. 이때, 상기 폭 방향으로 일축 연신 이후의 위상차 필름의 두께는 최종 필름의 두께가 되며, 상기 최종 필름의 두께가 10㎛ 미만일 경우에는 필름의 두께가 너무 얇아져 필름 및 편광판의 취급성이 불량하게 될 수 있어, 필름 및 편광판의 제조 공정이나 제품의 취급 과정에서 꺾임, 파단 등이 발생할 수 있으며, 60㎛를 초과할 경우에는 편광판의 박형화가 어려운 문제점이 발생할 수 있다.
In the present invention, the uniaxially stretching in the transverse direction is preferably performed such that the thickness of the amide-based film formed with the coating layer is 10 to 60 탆, for example, 13 to 50 탆, 15 to 40 탆 or And may be about 15 to 30 mu m. At this time, the thickness of the retardation film after the uniaxially stretching in the width direction is the thickness of the final film, and when the thickness of the final film is less than 10 탆, the thickness of the film becomes too thin and the handling property of the film and the polarizing plate becomes poor And may be bent or broken during the manufacturing process of the film or the polarizing plate or during the handling of the product. If it exceeds 60 탆, it may be difficult to make the polarizing plate thin.
또한, 본 발명에 있어서 상기 폭 방향으로 일축 연신 하는 단계는, 상기 아마이드계 필름의 유리전이온도를 Tg라 할 때, (Tg-20)℃ 내지 (Tg+30)℃의 온도에서 수행되는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 (Tg)℃ 내지 (Tg+20)℃ 정도의 온도에서 수행될 수 있다. 이때, 길이 방향으로 일축 연신 하는 단계가 (Tg-20)℃ 미만의 온도에서 수행될 경우, 필름의 저장 탄성율이 저하될 수 있으며, 이에 따라 손실 탄성율이 저장 탄성률보다 커질 수 있다. 또한, (Tg+30)℃ 초과의 온도에서 수행될 경우, 고분자 사슬의 배향이 완화되어 소실될 수 있다. 한편, (Tg)℃ 내지 (Tg+20)℃ 의 온도에서 수행되는 것이 필름의 안정적인 생산과 필름의 인성을 고려하여 보다 바람직하다. 한편, 상기 유리전이온도는 시차주사형 열량계(DSC)에 의해 측정될 수 있다. 예컨대, 시차주사형 열량계(DSC)를 이용하는 경우, 약 10mg의 시료를 전용 펜(pan)에 밀봉하고 일정 승온 조건으로 가열할 때 상변이가 일어남에 따른 물질의 흡열 및 발열량을 온도에 따라 그려 유리전이온도를 측정할 수 있다.
In the present invention, the step of uniaxially stretching in the transverse direction is preferably carried out at a temperature of (Tg-20) ° C to (Tg + 30) ° C, where Tg is the glass transition temperature of the amide-based film , And more preferably at a temperature of about (Tg) ° C to (Tg + 20) ° C. In this case, when the uniaxial stretching in the longitudinal direction is performed at a temperature lower than (Tg-20) DEG C, the storage elastic modulus of the film may be lowered, and thus the loss elastic modulus may become larger than the storage elastic modulus. Further, when the polymerization is carried out at a temperature higher than (Tg + 30) DEG C, the orientation of the polymer chain may be alleviated and lost. On the other hand, it is more preferable to perform at a temperature of (Tg) ° C to (Tg + 20) ° C in view of stable production of the film and toughness of the film. On the other hand, the glass transition temperature can be measured by a differential scanning calorimeter (DSC). For example, in the case of using a differential scanning calorimeter (DSC), when a sample of about 10 mg is sealed in a special pen and heated at a constant temperature, the endothermic heat and the heat generation amount of the material due to the phase change occur, The transition temperature can be measured.
한편, 본 발명에 따른 상기 위상차 필름은 IPS 모드 액정표시장치에서 적용되는 경우 시야각 개선 효과가 매우 우수한바, IPS 모드 액정표시장치용 위상차 필름으로 매우 적합하게 사용될 수 있다.
Meanwhile, when the retardation film according to the present invention is applied to an IPS mode liquid crystal display device, the retardation film has an excellent viewing angle improving effect and can be suitably used as a retardation film for an IPS mode liquid crystal display device.
한편, 본 발명은 상기 위상차 필름을 적어도 하나 이상 포함하는 편광판을 제공한다. 이 경우, 본 발명에 따른 상기 위상차 필름은 편광자의 일면 또는 양면에 직접 부착 되거나, 편광자의 양면에 보호 필름이 부착된 편광판의 보호 필름 상에 부착되어, 유용하게 사용될 수 있다.
Meanwhile, the present invention provides a polarizing plate comprising at least one or more of the retardation films. In this case, the retardation film according to the present invention may be directly attached to one side or both sides of the polarizer, or may be attached to a protective film of a polarizing plate having a protective film on both sides of the polarizer.
상기 위상차 필름을 편광자의 일면 또는 양면에 직접 부착시키는 경우, 예를 들어, 그 구조는 상 보호필름/편광자/위상차 필름, 위상차 필름/편광자/하 보호필름, 위상차 필름/상 보호필름/편광자/하 보호필름 또는 상 보호필름/편광자/하 보호필름/위상차 필름 일 수 있다.
When the retardation film is directly attached to one surface or both surfaces of the polarizer, for example, the structure may be a structure of an upper protective film / polarizer / retardation film, retardation film / polarizer / lower protective film, retardation film / Protective film or an upper protective film / polarizer / lower protective film / retardation film.
한편, 본 발명은 상기 위상차 필름을 적어도 하나 이상 포함하는 액정표시장치를 제공한다. 예컨대 본 발명은 상기 위상차 필름을 적어도 하나 이상 포함하는 면상 스위칭(IPS) 모드 액정표시장치를 제공한다.
Meanwhile, the present invention provides a liquid crystal display device including at least one or more of the retardation films. For example, the present invention provides a planar switching (IPS) mode liquid crystal display including at least one or more retardation films.
이때, 상기 액정표시장치는 액정 셀 및 상기 액정 셀의 양면에 각각 구비된 제 1 편광판 및 제 2 편광판을 포함하는 것일 수 있으며, 상기 위상차 필름은 상기 액정 셀과 상기 제 1 편광판 및/또는 제 2 편광판 사이에 구비될 수 있다. 즉, 제 1 편광판과 액정 셀 사이에 위상차 필름이 구비될 수 있고, 제 2 편광판과 액정 셀 사이에, 또는 제 1 편광판과 액정 셀 사이와 제 2 편광판과 액정 셀 사이 모두에 위상차 필름이 하나 또는 2 이상 구비될 수 있다.
The liquid crystal display may include a liquid crystal cell and a first polarizing plate and a second polarizing plate respectively provided on both surfaces of the liquid crystal cell, and the retardation film may be disposed between the liquid crystal cell and the first polarizing plate and / And may be provided between the polarizing plates. That is, a retardation film may be provided between the first polarizing plate and the liquid crystal cell, and a retardation film may be provided between the second polarizing plate and the liquid crystal cell, or between the first polarizing plate and the liquid crystal cell, 2 or more .
이하에서는 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나, 이하의 실시예는 본 발명의 예시를 위한 것이며, 하기 실시예에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것으로 의도되지 않는다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. However, the following examples are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the invention by the following examples.
실시예Example 1 One
주쇄에 아마이드 결합을 가지는 폴리아마이드 수지(Evonik社 CX9704)를 245℃ 조건 하에서 T-다이 제막기를 이용하여 폭 800mm, 두께 60㎛의 미연신 필름을 제조하였다. 상기 미연신 필름을 145℃의 온도에서 MD 방향으로 롤투롤(roll-to-roll) 방식으로 2배 연신하여 두께 40㎛의 일축 연신 필름을 제조하였다.
An unoriented film having a width of 800 mm and a thickness of 60 탆 was prepared using a polyamide resin having an amide bond in the main chain (Evonik CX9704) under a condition of 245 캜 by using a T-die kneader. The unstretched film was stretched twice in a roll-to-roll manner at a temperature of 145 캜 in the MD direction to prepare a uniaxially stretched film having a thickness of 40 탆.
다음으로, 상기 일축 연신 필름 상에 폴리(2-비닐카르바졸)(Aldrich社 製品)이 7중량% 포함되어 있는 용액(용매: 1,3-dioxolane)을 도포하고, 바 코터를 이용하여 4㎛의 두께로 코팅하였다.
Next, a solution (solvent: 1,3-dioxolane) containing 7% by weight of poly (2-vinylcarbazole) (product of Aldrich) was coated on the above uniaxially stretched film, Lt; / RTI >
다음으로, 상기 코팅된 필름을 145℃의 온도에서 폭 방향으로 2배 연신하여 두께 22㎛의 박막의 위상차 필름을 제조하였다.
Next, the coated film was stretched twice in the width direction at a temperature of 145 캜 to prepare a thin film of a retardation film having a thickness of 22 탆.
실시예Example 2 2
주쇄에 아마이드 결합을 가지는 폴리아마이드 수지(Evonik社 CX9704)를 245℃ 조건 하에서 T-다이 제막기를 이용하여 폭 800mm, 두께 60㎛의 미연신 필름을 제조하였다. 상기 미연신 필름을 145℃의 온도에서 MD 방향으로 롤투롤(roll-to-roll) 방식으로 2배 연신하여 두께 40㎛의 일축 연신 필름을 제조하였다.
An unoriented film having a width of 800 mm and a thickness of 60 탆 was prepared using a polyamide resin having an amide bond in the main chain (Evonik CX9704) under a condition of 245 캜 by using a T-die kneader. The unstretched film was stretched twice in a roll-to-roll manner at a temperature of 145 캜 in the MD direction to prepare a uniaxially stretched film having a thickness of 40 탆.
다음으로, 상기 일축 연신 필름 상에 폴리(2-비닐나프탈렌)(Aldrich社 製品)이 12중량% 포함되어 있는 용액(용매: 1,3-dioxolane)을 도포하고, 바 코터를 이용하여 12㎛의 두께로 코팅하였다.
Next, a solution (solvent: 1,3-dioxolane) containing 12% by weight of poly (2-vinylnaphthalene) (product of Aldrich) was coated on the uniaxially stretched film, Lt; / RTI >
다음으로, 상기 코팅된 필름을 145℃의 온도에서 폭 방향으로 2배 연신하여 두께 26㎛의 박막의 위상차 필름을 제조하였다.
Next, the coated film was stretched twice in the width direction at a temperature of 145 캜 to prepare a thin film retardation film having a thickness of 26 탆.
실시예Example 3 3
주쇄에 아마이드 결합을 가지는 폴리아마이드 수지(Arkema社 G350)를 245℃ 조건 하에서 T-다이 제막기를 이용하여 폭 800mm, 두께 60㎛의 미연신 필름을 제조하였다. 상기 미연신 필름을 152℃의 온도에서 MD 방향으로 롤투롤(roll-to-roll) 방식으로 2배 연신하여 두께 40㎛의 일축 연신 필름을 제조하였다. 다음으로, 상기 일축 연신 필름 상에 폴리(2-비닐카르바졸)(Aldrich社 製品)이 7중량% 포함되어 있는 용액(용매: 1,3-dioxolane)을 도포하고, 바 코터를 이용하여 4㎛의 두께로 코팅하였다. 다음으로, 상기 코팅된 필름을 152℃의 온도에서 폭 방향으로 2배 연신하여 두께 21㎛의 박막의 위상차 필름을 제조하였다.
An unoriented film having a width of 800 mm and a thickness of 60 탆 was produced using a polyamide resin having an amide bond in the main chain (Arkema G350) under a condition of 245 캜 by using a T-die film. The unstretched film was stretched twice in a roll-to-roll manner at a temperature of 152 캜 in the MD direction to prepare a uniaxially stretched film having a thickness of 40 탆. Next, a solution (solvent: 1,3-dioxolane) containing 7% by weight of poly (2-vinylcarbazole) (product of Aldrich) was coated on the above uniaxially stretched film, Lt; / RTI > Next, the coated film was stretched twice in the width direction at a temperature of 152 캜 to prepare a thin film retardation film having a thickness of 21 탆.
실시예Example 4 4
주쇄에 아마이드 결합을 가지는 폴리아마이드 수지(Arkema社 G350)를 245℃ 조건 하에서 T-다이 제막기를 이용하여 폭 800mm, 두께 60㎛의 미연신 필름을 제조하였다. 상기 미연신 필름을 152℃의 온도에서 MD 방향으로 롤투롤(roll-to-roll) 방식으로 2배 연신하여 두께 40㎛의 일축 연신 필름을 제조하였다. 다음으로, 상기 일축 연신 필름 상에 폴리(2-비닐나프탈렌)(Aldrich社 製品)이 12중량% 포함되어 있는 용액(용매: 1,3-dioxolane)을 도포하고, 바 코터를 이용하여 12㎛의 두께로 코팅하였다. 다음으로, 상기 코팅된 필름을 152℃의 온도에서 폭 방향으로 2배 연신하여 두께 25㎛의 박막의 위상차 필름을 제조하였다.
An unoriented film having a width of 800 mm and a thickness of 60 탆 was produced using a polyamide resin having an amide bond in the main chain (Arkema G350) under a condition of 245 캜 by using a T-die film. The unstretched film was stretched twice in a roll-to-roll manner at a temperature of 152 캜 in the MD direction to prepare a uniaxially stretched film having a thickness of 40 탆. Next, a solution (solvent: 1,3-dioxolane) containing 12% by weight of poly (2-vinylnaphthalene) (product of Aldrich) was coated on the uniaxially stretched film, Lt; / RTI > Next, the coated film was stretched twice in the width direction at a temperature of 152 캜 to prepare a thin film retardation film having a thickness of 25 탆.
비교예Comparative Example 1 One
폴리(시클로헥실말레이미드-co-메틸메타크릴레이트)((주)LG MMA, 830HR)와 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체((주)LG화학, LGC 82TR, 아크릴로니트릴 함량 20 중량%)를 각각 80:20의 중량비로, 트윈 압출기를 이용하여 250℃, 200rpm 조건으로 컴파운딩하여 수지 조성물을 제조하였다. 상기 수지 조성물을 가지고 250℃ 조건 하에서 T-다이 제막기를 이용하여 폭 800mm, 두께 185㎛의 미연신 필름을 제조하였다. 상기 미연신 필름을 125℃의 온도에서 MD 방향으로 롤투롤(roll-to-roll) 방식으로 1.4 배 연신한 후, 동일 온도에서 텐더 연신기를 이용하여 TD 방향으로 2.9 배 연신하여 부의 위상차 특성을 가지는 아크릴계 필름을 제조하였다. 제조된 연신 필름의 두께는 50㎛ 이었다.
Acrylonitrile copolymer (LG Chem, LGC 82TR, acrylonitrile content 20% by weight) and poly (cyclohexylmaleimide-co-methyl methacrylate) (LGMMA, 830HR) At a weight ratio of 80:20, respectively, using a twin extruder at 250 DEG C and 200 rpm to prepare a resin composition. An undrawn film having a width of 800 mm and a thickness of 185 탆 was produced using the resin composition at 250 캜 by using a T-die kneader. The unstretched film was stretched 1.4 times in a roll-to-roll manner at a temperature of 125 ° C in the MD direction, and then stretched 2.9 times in the TD direction using a tenter stretcher at the same temperature to obtain a film having a negative retardation To prepare an acrylic film. The thickness of the prepared stretched film was 50 탆.
비교예Comparative Example 2 2
상기 비교예 1에서 제조한 부의 위상차 특성을 가지는 아크릴계 필름 위에 네가티브 C 코팅액을 직접 코팅하여 복합 위상차 필름을 제조하였다. 이때 사용한 네가티브 C 코팅액은 에틸 셀룰로오스(Dow사 EC100, Mw 18만, Ethoxyl content: 49%)를 톨루엔/에탄올(3/7) 혼합 용매에 상온에서 서서히 교반하면서 고형분 함량이 10%가 되도록 용해시킨 것이다. 완전히 용해된 코팅액을 부의 위상차 특성을 가지는 아크릴 필름 위에 최종 코팅 두께가 10㎛가 되도록 코팅한 후 80℃에서 5분간 건조하였다. 제조한 위상차 필름의 두께는 60㎛ 이었다.
The negative C coating liquid was directly coated on the acrylic film having negative phase difference characteristics prepared in Comparative Example 1 to prepare a composite retardation film. The negative C coating solution used herein was prepared by dissolving ethylcellulose (Dow EC100, Mw 180,000, Ethoxyl content: 49%) in a mixed solvent of toluene / ethanol (3/7) at a room temperature with gentle stirring at a solid content of 10% . The completely dissolved coating liquid was coated on an acrylic film having negative retardation characteristics to a final coating thickness of 10 mu m and dried at 80 DEG C for 5 minutes. The thickness of the produced retardation film was 60 탆.
비교예Comparative Example 3 3
상기 비교예 1에서 제조한 부의 위상차 특성을 가지는 아크릴계 필름 위에 아크릴계 네가티브 C 필름을 적층하여 복합 위상차 필름을 제조하였다. 이때 사용한 아크릴계 네가티브 C 필름은 다음과 같은 방법으로 제조하였다. 먼저, 메틸 메타크릴레이트 77중량%, 시클로 헥실 메타크릴레이트 15중량%, 알파 메틸 스티렌 2중량%, 시클로 헥실 말레이미드 6중량%인 아크릴계 수지, 폴리 카보네이트 수지(LGPC 상품명 DVD1080)를 각각 85:15의 중량비로, 트윈 압출기를 이용하여 250℃, 200rpm 조건으로 컴파운딩 하여 수지 조성물을 제조하였다. 얻어진 원료 펠렛을 진공 건조하고 250℃에서 압출기로 용융, 코트 행거 타입의 T-다이에 통과시키고 크롬 도금 캐스팅 롤 및 건조 롤 등을 거쳐 두께 185㎛ 의 필름을 제조하였다. 제조된 필름을 MD방향으로 2.3배, TD방향으로 2.5배 순차적으로 2축 연장하여, 두께 42㎛ 의 위상차 필름을 얻었다. 이때 MD방향 연신 시 온도는 128℃, TD방향 연신 시 온도는 138℃이다. 제조한 복합 위상차 필름의 두께는 94㎛ 이었다.
An acrylic negative C film was laminated on the acrylic film having the negative retardation characteristics prepared in Comparative Example 1 to prepare a composite retardation film. The acrylic negative C film used here was prepared by the following method. First, an acrylic resin and a polycarbonate resin (LGPC trade name DVD1080) each containing 77% by weight of methyl methacrylate, 15% by weight of cyclohexyl methacrylate, 2% by weight of alphamethylstyrene and 6% by weight of cyclohexylmaleimide, At a weight ratio of 250 and 200 rpm using a twin extruder to prepare a resin composition. The obtained raw material pellets were dried in vacuo, melted in an extruder at 250 占 폚, passed through a coat hanger type T-die, and a film having a thickness of 185 占 퐉 was produced through a chrome casting roll and a drying roll. The prepared film was biaxially stretched 2.3 times in the MD direction and 2.5 times in the TD direction in this order to obtain a retardation film having a thickness of 42 占 퐉. At this time, the temperature in the MD direction stretching is 128 占 폚 and the stretching temperature in the TD direction is 138 占 폚. The thickness of the produced composite phase difference film was 94 탆.
실험예Experimental Example 1 One
상기 실시예 1 ~ 4 및 비교예 1에서 제조된 위상차 필름을 Axometrics 社의 Axoscan장비를 이용하여 파장 550nm에서의 면 방향 위상차값(Rin), 두께 방향 위상차값(Rth) 및 Nz(Rth/Rin)을 측정하여 하기 [표 1]에 나타내었다.
The retardation films prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 were measured using a Axoscan equipment of Axometrics Co. in the plane direction retardation value (R in ), the thickness direction retardation value (R th ) and Nz (R th / R in ) was measured and shown in Table 1 below.
위상차를 갖는 층-C type or -B type
Layer having a phase difference
위상차 필름complex
Phase difference film
상기 [표 1]에서 확인할 수 있는 바와 같이, 실시예 1 ~ 4의 복합 위상차 필름은 면 방향 위상차값(Rin)이 50 내지 300nm 범위 내이고, 두께 방향 위상차값(Rth)이 10 내지 300nm 범위 내이며, Nz(Rth/Rin)이 1 미만으로, IPS 모드 액정표시장치에 위상차 필름으로 적용하기에 적합하다는 것을 알 수 있다. 그러나, 비교예 1의 경우 Nz(Rth/Rin)값이 1 이상으로 IPS 모드 액정표시장치 등에 위상차 필름으로 적용하기에 부적합한 것을 알 수 있다.
As can be seen from the above Table 1, the composite retardation films of Examples 1 to 4 had a retardation value (R in ) in the range of 50 to 300 nm and a thickness retardation value (R th ) in the range of 10 to 300 nm range and, Nz (R th / R in) to less than 1, it can be seen that it is suitable for application to the phase difference film of the IPS mode liquid crystal display device. However, in Comparative Example 1 For it can be seen that unsuitable to the value Nz (R th / R in) applied to the phase difference film or the like IPS-mode liquid crystal display device 1 or more.
실험예Experimental Example 2 2
상기 실시예 1 ~ 4 및 비교예 1 ~ 3에서 제조된 위상차 필름의 취성을 비교하기 위하여, 충격 에너지를 측정하여 하기 [표 2]에 나타내었다. 여기서 충격 에너지란 필름이 외부 충격에 견디는 정도를 나타내는 것으로, 본 발명에서는 일정 무게의 쇠공을 일정 높이에서 필름 표면에 낙하시켰을 때 견디는 정도로 측정하였다. 보다 구체적으로 본 발명에서 충격에너지 IE는 하기 식 (11)에 따라 정의되는 값이다.
In order to compare the embrittlement properties of the retardation films produced in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3, the impact energy was measured and shown in Table 2 below. Here, the impact energy refers to the degree to which the film can withstand an external impact. In the present invention, the impact energy is measured to such an extent that a constant weight of the apparatus is able to withstand a drop of the film at a predetermined height. More specifically, in the present invention, the impact energy IE is a value defined according to the following equation (11).
식 (11): IE = (중력가속도 * 쇠공의 무게 * 높이)/(필름 두께 * 필름 면적)
Eq. (11): IE = (gravitational acceleration * weight of gravity * height) / (film thickness * film area)
상기 [표 2]에서 확인할 수 있는 바와 같이 아마이드계 필름을 사용한 복합 위상차 필름의 경우 박막이고, 나아가 취성이 매우 우수한 것을 확인할 수 있다. 그러나 비교예 1 ~ 3에서와 같이 아크릴계 필름만을 포함하는 복합 위상차 필름 등의 경우에는 취성이 매우 약한 것을 확인할 수 있다.
As can be seen from the above [Table 2], it is confirmed that the compound phase difference film using the amide type film is a thin film and further excellent in brittleness. However, as in Comparative Examples 1 to 3, in the case of a compound phase difference film including only an acrylic film, it is confirmed that the embrittlement is very weak.
이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게는 자명할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, It will be obvious to those of ordinary skill in the art.
Claims (19)
상기 아마이드계 필름의 적어도 일면에 형성되며, 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층을 포함하는 위상차 필름.
An amide-based film having a negative C type or negative B type phase difference; And
And a coating layer formed on at least one side of the amide-based film and having negative retardation characteristics.
상기 위상차 필름은 하기 식 (1) 및 (2)를 만족하는 위상차 필름.
식 (1): 50nm < Rin , total < 300nm
식 (2): 10nm < Rth , total < 300nm
상기 식 (1) 및 (2)에서,
Rin , total은 가시광 파장대역에서 측정한 위상차 필름 전체의 면 방향 위상차값이고,
Rth , total은 가시광 파장대역에서 측정한 위상차 필름 전체의 두께 방향 위상차값임.
The method according to claim 1,
Wherein the retardation film satisfies the following expressions (1) and (2).
(1): 50 nm < R in , total < 300 nm
(2): 10 nm < R th , total < 300 nm
In the above formulas (1) and (2)
R in and total are plane retardation values of the entire retardation film measured in the visible light wavelength band,
Rth , total is the thickness direction retardation value of the entire retardation film measured in the visible light wavelength band.
상기 위상차 필름은 하기 식 (3)으로 표시되는 Nz 값이 1 미만인 위상차 필름.
식 (3): Nz = Rth , total/Rin , total
상기 식 (3)에서,
Rin , total은 위상차 필름 전체의 면 방향 위상차값이고,
Rth , total은 위상차 필름 전체의 두께 방향 위상차값이며,
이때, 상기 Rin , total 및 Rth , total은 모두 가시광 파장대역에서 측정한 위상차값임.
The method according to claim 1,
Wherein the retardation film has a Nz value of less than 1, represented by the following formula (3).
Equation (3): Nz = R th , total / R in, total
In the above formula (3)
R in , total is the retardation value in the plane direction of the entire retardation film,
Rth , total is the retardation value in the thickness direction of the entire retardation film,
In this case, R in , total and R th , total are the retardation values measured in the visible light wavelength band.
상기 위상차 필름은 상기 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층이 하기 식 (4) 및 (5)를 만족하는 것인 위상차 필름.
식 (4): 50nm < Rin ,a < 250nm
식 (5): 80nm < Rth ,a < 300nm
상기 식 (4) 및 (5)에서,
Rin ,a은 가시광 파장대역에서 측정한 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층의 면 방향 위상차값이고,
Rth ,a은 가시광 파장대역에서 측정한 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층의 두께 방향 위상차값임.
The method of claim 1, wherein
Wherein the retardation film satisfies the following expressions (4) and (5) as the coating layer having the negative retardation characteristics.
(4): 50 nm < R in , a < 250 nm
(5): 80 nm < R th , a < 300 nm
In the above formulas (4) and (5)
R in , a is the retardation value in the plane direction of the coating layer having a negative retardation characteristic measured in the visible light wavelength band,
Rth , a is the thickness direction retardation value of the coating layer having a negative retardation characteristic measured in a visible light wavelength band.
상기 위상차 필름은 상기 네가티브 C 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름이 하기 식 (6) 및 (7)을 만족하는 것인 위상차 필름.
식 (6): -50nm < Rin , b1 < 50nm
식 (7): -200nm < Rth , b1 < 0nm
상기 식 (6) 및 (7)에서,
Rin , b1은 가시광 파장대역에서 측정한 네가티브 C 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 면 방향 위상차값이고,
Rth , b1은 가시광 파장대역에서 측정한 네가티브 C 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 두께 방향 위상차값임.
The method of claim 1, wherein
Wherein the retardation film satisfies the following expressions (6) and (7) when the amide-based film having the negative C-type retardation satisfies the following expressions (6) and (7).
(6): -50 nm <R in , b 1 <50 nm
(7): -200 nm < R th , b 1 < 0 nm
In the above formulas (6) and (7)
R in and b 1 are retardation values in the plane direction of an amide-based film having a negative C-type retardation measured in a visible light wavelength band,
Rth and b1 are retardation values in the thickness direction of the amide type film having the negative C type retardation measured in the visible light wavelength band.
상기 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름이 하기 식 (8) 및 (9)을 만족하는 것인 위상차 필름.
식 (8): 0nm < Rin , b2 < 100nm
식 (9): -200nm < Rth , b2 < 0nm
상기 식 (8) 및 (9)에서,
Rin , b2은 가시광 파장대역에서 측정한 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 면 방향 위상차값이고,
Rth , b2은 가시광 파장대역에서 측정한 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름의 두께 방향 위상차값임.
The method of claim 1, wherein
Wherein the amide-based film having the negative B type phase difference satisfies the following formulas (8) and (9).
Equation (8): 0nm <R in , b2 <100nm
Equation (9): -200nm <R th , b2 <0nm
In the above formulas (8) and (9)
R in, b2 is the plane retardation value of the amide-based film having a retardation of the negative type B measured in the visible light wavelength band,
Rth and b2 are retardation values in the thickness direction of an amide type film having a negative B type retardation measured in a visible light wavelength band.
상기 위상차 필름은 하기 식 (10)을 만족하는 위상차 필름.
(10): nx , total > nz , total > ny , total
상기 식 (10)에 있어서,
nx , total은 위상차 필름 전체의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절율이고,
ny , total은 위상차 필름 전체의 상기 지상축에 수직인 방향인 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절율이며,
nz , total은 위상차 필름 전체의 두께 방향의 굴절율이고,
이때, 상기 nx , total, ny , total, nz , total는 가시광 파장대역에서 측정한 값임.
The method according to claim 1,
Wherein the retardation film satisfies the following formula (10).
(10): n x , total > n z , total > n y , total
In the above formula (10)
n x , total is a refractive index in a direction in which the refractive index in the plane direction of the entire retardation film becomes the maximum (that is, in the slow axis direction)
n y , total is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis of the entire retardation film (i.e., the fast axis direction)
n z , total is the refractive index in the thickness direction of the entire retardation film,
At this time, the n x , total , n y , total , n z , total is the value measured in the visible light wavelength band.
상기 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름은 하기 화학식 1 또는 2로 표시되는 단위를 포함하는 폴리아마이드계 수지를 포함하는 것인 위상차 필름.
[화학식 1]
상기 화학식 1에 있어서,
A는 C2 -16 지방족 탄화수소 사슬, C5 -14 지방족 탄화수소 고리 또는 C6 -14 방향족 탄화수소 고리이고,
X1은 할로겐원자 또는 C1 -6 알킬기이고,
a는 0~3의 정수이고,
n는 5~10,000의 정수임.
[화학식 2]
상기 화학식 2에 있어서,
B 및 C는 각각 독립적으로 C2 -16 지방족 탄화수소 사슬, C5 -14 지방족 탄화수소 고리 또는 C6 -14 방향족 탄화수소 고리이고,
X2 및 X3는 각각 독립적으로 할로겐원자 또는 C1 -6 알킬기이고,
b 및 c는 각각 독립적으로 0~3의 정수이고,
m은 5~10,000의 정수임.
The method according to claim 1,
Wherein the amide-based film having the negative C type or negative B type phase difference comprises a polyamide type resin containing a unit represented by the following formula (1) or (2).
[Chemical Formula 1]
In Formula 1,
A is a C 2 -16 aliphatic hydrocarbon chain, a C 5 -14 aliphatic hydrocarbon ring or a C 6 -14 aromatic hydrocarbon ring,
X 1 is a halogen atom or a C 1 -6 alkyl group,
a is an integer of 0 to 3,
n is an integer of 5 to 10,000.
(2)
In Formula 2,
B and C are each independently a C 2 -16 aliphatic hydrocarbon chain, a C 5 -14 aliphatic hydrocarbon ring or a C 6 -14 aromatic hydrocarbon ring,
X 2 and X 3 are each independently a halogen atom or a C 1 -6 alkyl group,
b and c are each independently an integer of 0 to 3,
and m is an integer of 5 to 10,000.
상기 네가티브 C 타입 또는 네가티브 B 타입의 위상차를 가지는 아마이드계 필름은 하기 화학식 3으로 표시되는 단위를 포함하는 폴리아마이드계 수지를 포함하는 것인 위상차 필름.
[화학식 3]
상기 화학식 3에 있어서,
D는 C2 -16 지방족 탄화수소 사슬이고,
E1 및 E2는 각각 독립적으로 시클로헥산 고리 또는 벤젠 고리이고,
X4, X5 및 X6은 각각 독립적으로 할로겐원자 또는 C1 -6 알킬기이고,
X7은 단일결합, 메틸렌기 또는 디메틸메틸렌기이고,
d, e1 및 e2는 각각 독립적으로 0~2의 정수이고,
k는 5~10,000의 정수임.
The method according to claim 1,
Wherein the amide-based film having the negative C type or negative B type phase difference comprises a polyamide type resin containing a unit represented by the following formula (3).
(3)
In Formula 3,
D is a C 2 -16 aliphatic hydrocarbon chain,
E 1 and E 2 are each independently a cyclohexane ring or a benzene ring,
And X 4, X 5 and X 6 is an alkyl group each independently a halogen atom or a C 1 -6,
X 7 is a single bond, a methylene group or a dimethylmethylene group,
d, e1 and e2 are each independently an integer of 0 to 2,
and k is an integer of 5 to 10,000.
상기 부의 위상차 특성을 가지는 코팅층은 스티렌계 수지, 폴리비닐카바졸(polyvinylcarbazole) 또는 폴리비닐나프탈렌(polyvinylnaphthalene)을 포함하는 것인 위상차 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the coating layer having a negative retardation characteristic comprises a styrene resin, polyvinylcarbazole, or polyvinylnaphthalene.
상기 위상차 필름은 두께는 10 내지 60㎛인 위상차 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the retardation film has a thickness of 10 to 60 mu m.
상기 위상차 필름은 면상 스위칭(IPS) 모드 액정표시장치용인 것인 위상차 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the retardation film is for a planar switching (IPS) mode liquid crystal display device.
A liquid crystal display device comprising the retardation film of any one of claims 1 to 12.
상기 길이 방향으로 일축 연신된 아마이드계 필름의 적어도 일면에 부의 위상차 특성을 가지는 고분자 물질을 이용하여 코팅층을 형성하는 단계; 및
상기 코팅층이 형성된 아마이드계 필름을 폭 방향(TD)으로 일축 연신 하는 단계;
를 포함하는 위상차 필름의 제조 방법.
Uniaxially stretching the amide-based film in the longitudinal direction (MD);
Forming a coating layer on at least one surface of the amide-based film uniaxially stretched in the longitudinal direction by using a polymer material having a negative retardation characteristic; And
Uniaxially stretching the amide-based film formed with the coating layer in the transverse direction (TD);
Wherein the retardation film has a thickness of 100 to 500 nm.
상기 길이 방향(MD)으로 일축 연신 하는 단계는 상기 아마이드계 필름을 1.1 내지 5.0배 연신 하는 것인 위상차 필름의 제조 방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the step of uniaxially stretching in the longitudinal direction (MD) comprises stretching the amide-based film by 1.1 to 5.0 times.
상기 길이 방향(MD)으로 일축 연신 하는 단계는, 상기 아마이드계 필름을 20 내지 120㎛ 두께로 연신 하는 것인 위상차 필름의 제조 방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the step of uniaxially stretching in the longitudinal direction (MD) comprises stretching the amide-based film to a thickness of 20 to 120 탆.
상기 코팅층을 형성하는 단계는, 상기 코팅층을 1 내지 30㎛ 두께로 코팅하는 것인 위상차 필름의 제조방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the step of forming the coating layer comprises coating the coating layer with a thickness of 1 to 30 탆.
상기 폭 방향(TD)으로 일축 연신 하는 단계는, 상기 코팅층이 형성된 아마이드계 필름을 1.1 내지 5.0배 연신 하는 것인 위상차 필름의 제조 방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the step of uniaxially stretching in the transverse direction (TD) comprises stretching the amide-based film formed with the coating layer by 1.1 to 5.0 times.
상기 폭 방향(TD)으로 일축 연신 하는 단계는, 상기 코팅층이 형성된 아마이드계 필름을 10 내지 60㎛ 두께로 연신 하는 것인 위상차 필름의 제조 방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the step of uniaxially stretching in the transverse direction (TD) comprises stretching the amide-based film formed with the coating layer to a thickness of 10 to 60 占 퐉.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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---|---|---|---|
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20150037445A true KR20150037445A (en) | 2015-04-08 |
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---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101666702B1 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20090017437A (en) * | 2007-08-14 | 2009-02-18 | 주식회사 엘지화학 | Optical film and method of manufacturing the same |
JP2010513054A (en) * | 2006-12-13 | 2010-04-30 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | Transparent member |
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JP2011002726A (en) * | 2009-06-22 | 2011-01-06 | Nitto Denko Corp | Protective film for polarizing plate, polarizing plate and liquid crystal display device |
-
2013
- 2013-09-30 KR KR1020130117055A patent/KR101666702B1/en active IP Right Grant
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR101666702B1 (en) | 2016-10-17 |
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