KR20140047684A - 수지 조성물, 그것을 이용한 광학 보상 필름 및 광학 보상 필름의 제조 방법 - Google Patents

수지 조성물, 그것을 이용한 광학 보상 필름 및 광학 보상 필름의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

광학 보상 필름에 적합한 수지 조성물, 그것을 이용한 위상차 특성이 우수한 광학 보상 필름 및 광학 보상 필름의 제조 방법을 제공한다. 수지 조성물은 특정의 셀룰로오스계 수지 및 특정의 푸마르산 디에스테르 중합체를 특정의 배합으로 함유하거나, 또한 수지 조성물로서 특정의 셀룰로오스계 수지 및 특정의 푸마르산 디에스테르 중합체를 특정의 배합으로 함유하고, 또한 그 수지 성분 및 방향족 탄화수소환 등을 갖는 첨가제를 특정의 배합으로 함유하는 것을 특징으로 하고, 그 수지 조성물을 이용하여 광학 보상 필름을 제조할 수 있다.

Description

수지 조성물, 그것을 이용한 광학 보상 필름 및 광학 보상 필름의 제조 방법{RESIN COMPOSITION, OPTICAL COMPENSATION FILM USING SAME, AND METHOD FOR PRODUCING OPTICAL COMPENSATION FILM}
본 발명은 수지 조성물 및 그것을 이용한 광학 보상 필름에 관한 것이고, 보다 상세하게는 수지 조성물 및 위상차 특성이 우수한 액정 디스플레이용 광학 보상 필름에 관한 것이다.
액정 디스플레이는 멀티미디어 사회에 있어서의 가장 중요한 표시 디바이스로서 휴대 전화, 컴퓨터용 모니터, 노트북, TV까지 폭넓게 사용되고 있다. 액정 디스플레이에는 표시 특성 향상을 위한 많은 광학 필름이 이용되고 있다. 특히, 광학 보상 필름은 정면이나 경사에서 봤을 경우의 콘트라스트 향상, 색조의 보상 등 큰 역할을 하고 있다.
액정 디스플레이에는 수직 배향형(VA-LCD), 면내 배향형 액정(IPS-LCD), 슈퍼 트위스트 네마틱형 액정(STN-LCD), 반사형 액정 디스플레이, 반투과형 액정 디스플레이 등의 많은 방식이 있고, 디스플레이에 맞춘 광학 보상 필름이 필요해지고 있다.
종래의 광학 보상 필름으로는 셀룰로오스계 수지, 폴리카보네이트나 환상 폴리올레핀 등의 연신 필름이 이용되고 있다. 특히, 트리아세틸셀룰로오스 필름 등의 셀룰로오스계 수지로 이루어지는 필름은 편광자인 폴리비닐알코올과의 접착성도 양호하기 때문에 폭넓게 사용되고 있다.
그러나, 셀룰로오스계 수지로 이루어지는 광학 보상 필름은 몇 가지의 과제가 있다. 예를 들면, 셀룰로오스계 수지 필름은 연신 조건을 조정함으로써 각종 디스플레이에 맞춘 위상차 값을 갖는 광학 보상 필름으로 가공되지만, 셀룰로오스계 수지 필름의 1축 또는 2축 연신에 의해 얻어지는 필름의 3차원 굴절률은 ny≥nx＞nz이고, 그것 이외의 3차원 굴절률, 예를 들면 ny＞nz＞nx나 ny=nz＞nx 등의 3차원 굴절률을 갖는 광학 보상 필름을 제조하기 위해서는 필름의 단면 또는 양면에 열 수축성 필름을 접착하고, 그 적층체를 가열 연신 처리하여 고분자 필름의 두께 방향으로 수축력을 가하는 등 특수한 연신 방법이 필요하고, 굴절률(위상차 값)의 제어도 곤란하다(예를 들면, 특허문헌 1~특허문헌 3 참조). 여기서, nx는 필름 면내의 진상축 방향(가장 굴절률이 작은 방향)의 굴절률, ny는 필름 면내의 지상축 방향(가장 굴절률이 큰 방향)의 굴절률, nz는 필름 면외(두께 방향)의 굴절률을 나타낸다.
또한, 셀룰로오스계 수지 필름은 일반적으로 용제 캐스팅법에 의해 제조되지만, 캐스팅법에 의해 성막된 셀룰로오스계 수지 필름은 필름 두께 방향으로 40㎚ 정도의 면외 위상차(Rth)를 갖기 때문에 IPS 모드의 액정 디스플레이 등에서는 컬러 시프트가 일어나는 등의 문제가 있다. 여기서, 면외 위상차(Rth)는 이하의 식으로 나타내어지는 위상차 값이다.
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d
(식 중, nx는 필름 면내의 진상축 방향의 굴절률, ny는 필름 면내의 지상축 방향의 굴절률, nz는 필름 면외의 굴절률을 나타내고, d는 필름 두께를 나타낸다.)
또한, 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어지는 위상차 필름이 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 4 참조).
그러나, 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어지는 연신 필름의 3차원 굴절률은 nz＞ny＞nx이고, 상기 3차원 굴절률을 나타내는 광학 보상 필름을 얻기 위해서는 다른 광학 보상 필름 등과의 적층 등이 필요하다.
일본국 특허 2818983호 공보 일본국 특허 공개 평5-297223호 공보 일본국 특허 공개 평5-323120호 공보 일본국 특허 공개 2008-64817호 공보
본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이고, 그 목적은 광학 보상 필름에 적합한 수지 조성물 및 그것을 이용한 위상차 특성이 우수한 광학 보상 필름을 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토한 결과, 1) 셀룰로오스계 수지 및 푸마르산 디에스테르 중합체를 함유하는 수지 조성물, 2) 셀룰로오스계 수지, 푸마르산 디에스테르 중합체 및 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제를 함유하는 수지 조성물, 그것들을 이용한 광학 보상 필름 및 그것들의 제조 방법이 상기 과제를 해결하는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명은 1) 소정의 식으로 나타내어지는 셀룰로오스계 수지 10~99중량% 및 소정의 식으로 나타내어지는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 60몰% 이상을 포함하는 푸마르산 디에스테르 중합체 90~1중량%를 함유하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물, 2) 수지 성분으로서 소정의 식으로 나타내어지는 셀룰로오스계 수지 10~99중량% 및 소정의 식으로 나타내어지는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 60몰% 이상을 포함하는 푸마르산 디에스테르 중합체 99~1중량%를 함유하고, 또한 그 수지 성분 70~99.99중량% 및 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제 0.01~30중량%를 함유하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물, 그것들을 이용한 광학 보상 필름 및 그것들의 제조 방법이다.
이하, 본 발명에 대해서 상세하게 설명한다.
본 발명의 수지 조성물은 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 셀룰로오스계 수지 10~99중량% 및 하기 일반식(2)으로 나타내어지는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 60몰% 이상을 포함하는 푸마르산 디에스테르 중합체 90~1중량%를 함유한다.
Figure pct00001
(식 중, R1, R2, R3은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1~12의 아실기를 나타낸다.)
Figure pct00002
(식 중, R4, R5는 각각 독립적으로 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.)
본 발명의 수지 조성물이 함유하는 셀룰로오스계 수지는 β-글루코오스 단위가 직쇄상으로 중합된 고분자이고, 글루코오스 단위의 2위치, 3위치 및 6위치의 수산기의 일부 또는 전부를 아실기에 의해 에스테르화한 폴리머이며, 예를 들면 셀룰로오스아세테이트, 셀룰로오스프로피오네이트, 셀룰로오스부티레이트, 셀룰로오스아세테이트부티레이트 등이 예시된다.
아실화도는 2위치, 3위치 및 6위치의 각각에 대해서 셀룰로오스의 수산기가 에스테르화되어 있는 비율(100%의 에스테르화는 치환도 1)을 의미하고, 아실기의 전체 치환도 DS는 바람직하게는 1.5≤DS≤3.0이고, 더욱 바람직하게는 1.8~2.8이다. 셀룰로오스계 수지는 탄소수 2~12의 아실기를 치환기로서 갖는 것이 바람직하다. 탄소수 2~12의 아실기로서는, 예를 들면 아세틸기, 프로피오닐기, 부티릴기, 헵타노일기, 헥사노일기, 옥타노일기, 데카노일기, 도데카노일기, 이소부타노일기, t-부티릴기, 시클로헥산카르보닐기, 벤조일기, 나프틸카르보닐기, 신나모일기 등을 예시할 수 있다. 이들 중에서도 탄소수 2~5의 아실기인 아세틸기, 프로피오닐기, 부티릴기가 특히 바람직하다. 본 발명에서 이용되는 셀룰로오스계 수지에 사용되는 아실기는 1종류만이어도 좋고, 2종류 이상의 아실기가 사용되고 있어도 좋다. 2종류 이상의 아실기를 이용할 때에는 그 하나가 아세틸기인 것이 바람직하다.
셀룰로오스계 수지의 아실화에 있어서, 아실화제로서는 산 무수물이나 산 클로라이드를 이용한 경우, 반응 용매인 유기용매로서는 유기산, 예를 들면 아세트산, 메틸렌클로라이드 등이 사용된다. 촉매로서는 아실화제가 산 무수물인 경우에는 황산과 같은 양성자성 촉매가 바람직하게 이용되고, 아실화제가 산 클로라이드(예를 들면, CH3CH2COCl)인 경우에는 염기성 화합물이 바람직하게 이용된다. 가장 일반적인 셀룰로오스의 혼합 지방산 에스테르의 공업적 합성 방법은 셀룰로오스를 아세틸기 및 다른 아실기에 대응하는 지방산(아세트산, 프로피온산, 발레르산 등) 또는 그것들의 산 무수물을 포함하는 혼합 유기산 성분으로 아실화하는 방법이다.
셀룰로오스계 수지는 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 용출 곡선으로부터 얻어지는 표준 폴리스티렌 환산의 수 평균 분자량(Mn)이 1×103~1×106인 것이 바람직하고, 기계 특성이 우수하고, 제막시의 성형 가공성이 우수한 것으로 되기 때문에 1×104~2×105인 것이 더욱 바람직하다.
본 발명의 수지 조성물이 함유하는 푸마르산 디에스테르 중합체(이하, 푸마르산 디에스테르 중합체라고 함)는 상기 일반식(2)으로 나타내어지는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 60몰% 이상을 포함하는 것이고, 상기 일반식(2)으로 나타내어지는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 75몰% 이상을 포함하는 것이 바람직하다. 푸마르산 디에스테르 중합체로서는, 예를 들면 푸마르산 디이소프로필 중합체, 푸마르산 디시클로헥실 중합체, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 공중합체 등이 예시된다. 일반식(2)으로 나타내어지는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위가 60몰% 미만의 경우에는 위상차의 발현성이 저하된다. 푸마르산 디에스테르 잔기 단위의 에스테르 치환기인 R4, R5는 탄소수 1~12의 알킬기이고, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, s-부틸기, t-부틸기, s-펜틸기, t-펜틸기, s-헥실기, t-헥실기, 2-에틸헥실기, 시클로프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등이 예시된다. 일반식(2)으로 나타내어지는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위로서는, 예를 들면 푸마르산 디메틸 잔기, 푸마르산 디에틸 잔기, 푸마르산 디-n-프로필 잔기, 푸마르산 디이소프로필 잔기, 푸마르산 디-n-부틸 잔기, 푸마르산 디-s-부틸 잔기, 푸마르산 디-t-부틸 잔기, 푸마르산 디-n-펜틸 잔기, 푸마르산 디-s-펜틸 잔기, 푸마르산 디-t-펜틸 잔기, 푸마르산 디-n-헥실 잔기, 푸마르산 디-s-헥실 잔기, 푸마르산 디-t-헥실 잔기, 푸마르산 디-2-에틸헥실, 푸마르산 디시클로프로필 잔기, 푸마르산 디시클로펜틸 잔기, 푸마르산 디시클로헥실 잔기 등이 예시되고, 이들 중 푸마르산 디이소프로필 잔기가 바람직하다. 푸마르산 디에스테르 중합체는 푸마르산 디이소프로필 잔기 단위 60~95몰%, 푸마르산 디에틸 잔기 단위, 푸마르산 디-n-프로필 잔기 단위, 푸마르산 디-n-부틸 잔기 단위, 푸마르산 디-2-에틸헥실 잔기 단위에서 선택되는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 5~40몰%를 포함하는 공중합체가 바람직하다.
푸마르산 디에스테르 중합체는 일반식(2)으로 나타내어지는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 60몰% 이상이고, 푸마르산 디에스테르류와 공중합 가능한 단량체의 잔기 단위 40몰% 이하를 포함하는 것이 바람직하고, 푸마르산 디에스테르 잔기 단위가 75몰% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 푸마르산 디에스테르류와 공중합 가능한 단량체의 잔기 단위로서는, 예를 들면 스티렌 잔기, α-메틸스티렌 잔기 등의 스티렌류 잔기; 아크릴산 잔기; 아크릴산 메틸 잔기, 아크릴산 에틸 잔기, 아크릴산 부틸 잔기 등의 아크릴산 에스테르류 잔기; 메타크릴산 잔기; 메타크릴산 메틸 잔기, 메타크릴산 에틸 잔기, 메타크릴산 부틸 잔기 등의 메타크릴산 에스테르류 잔기; 아세트산 비닐 잔기, 프로피온산 비닐 잔기 등의 비닐에스테르류 잔기; 아크릴로니트릴 잔기; 메타크릴로니트릴 잔기; 에틸렌 잔기, 프로필렌 잔기 등의 올레핀류 잔기, 비닐피롤리돈 잔기, 비닐피리딘 잔기 등의 1종 또는 2종 이상을 예시할 수 있다.
푸마르산 디에스테르 중합체는 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 용출 곡선으로부터 얻어지는 표준 폴리스티렌 환산의 수 평균 분자량(Mn)이 1×103~5×106의 것인 것이 바람직하고, 특히 기계 특성이 우수하고, 제막시의 성형 가공성이 우수한 것으로 되기 때문에 1×104~2×105인 것이 더욱 바람직하다.
본 발명의 수지 조성물에 있어서의 셀룰로오스계 수지와 푸마르산 디에스테르 중합체의 조성의 비율은 셀룰로오스계 수지 10~99중량% 및 푸마르산 디에스테르 중합체 90~1중량%이다. 셀룰로오스계 수지가 10중량% 미만인 경우(푸마르산 디에스테르 중합체가 90중량%를 초과하는 경우), 또는 셀룰로오스계 수지가 99중량%를 초과하는 경우(푸마르산 디에스테르 중합체가 1중량% 미만인 경우)에는 위상차의 제어가 곤란하다. 바람직하게는 셀룰로오스계 수지 30~90중량% 및 푸마르산 디에스테르 중합체 70~10중량%이며, 더욱 바람직하게는 셀룰로오스계 수지 50~90중량% 및 푸마르산 디에스테르 중합체 50~10중량%이다.
푸마르산 디에스테르 중합체의 제조 방법으로서는 그 푸마르산 디에스테르 중합체가 얻어지는 한에 있어서 어떠한 방법에 의해 제조하여도 좋고, 예를 들면 푸마르산 디에스테르류, 경우에 따라서는 푸마르산 디에스테르류와 공중합 가능한 단량체를 병용하여 라디칼 중합을 행함으로써 제조할 수 있다. 이 때의 푸마르산 디에스테르류로서는, 예를 들면 푸마르산 디메틸, 푸마르산 디에틸, 푸마르산 디-n-프로필, 푸마르산 디이소프로필, 푸마르산 디-n-부틸, 푸마르산 디-s-부틸, 푸마르산 디-t-부틸, 푸마르산 디-s-펜틸, 푸마르산 디-t-펜틸, 푸마르산 디-s-헥실, 푸마르산 디-t-헥실, 푸마르산 디-2-에틸헥실, 푸마르산 디시클로프로필, 푸마르산 디시클로펜틸, 푸마르산 디시클로헥실 등이 예시되고, 푸마르산 디에스테르와 공중합 가능한 단량체로서는, 예를 들면 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌류; 아크릴산; 아크릴산 메틸, 아크릴산 에틸, 아크릴산 부틸 등의 아크릴산 에스테르류; 메타크릴산; 메타크릴산 메틸, 메타크릴산 에틸, 메타크릴산 부틸 등의 메타크릴산 에스테르류; 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 비닐에스테르류; 아크릴로니트릴; 메타크릴로니트릴; 에틸렌, 프로필렌 등의 올레핀류; 비닐피롤리돈; 비닐피리딘 등의 1종 또는 2종 이상을 예시할 수 있다.
라디칼 중합의 방법으로서는, 예를 들면 괴상 중합법, 용액 중합법, 현탁 중합법, 침전 중합법, 유화 중합법 등 중 어느 것이나 채용 가능하다.
라디칼 중합을 행할 때의 중합 개시제로서는, 예를 들면 벤조일퍼옥시드, 라우릴퍼옥시드, 옥타노일퍼옥시드, 아세틸퍼옥시드, 디-t-부틸퍼옥시드, t-부틸쿠밀퍼옥시드, 디쿠밀퍼옥시드 등의 유기 과산화물; 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2-부티로니트릴), 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 디메틸-2,2'-아조비스이소부티레이트, 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴) 등의 아조계 개시제 등이 예시된다.
그리고, 용액 중합법 또는 침전 중합법에 있어서 사용 가능한 용매로서 특별히 제한은 없고, 예를 들면 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 용매; 메탄올, 에탄올, 프로필알코올, 부틸알코올 등의 알코올계 용매; 시클로헥산, 디옥산, 테트라히드로푸란, 아세톤, 메틸에틸케톤, 디메틸포름아미드, 아세트산 이소프로필 등이 예시되고, 이것들의 혼합 용매도 예시된다.
또한, 라디칼 중합을 행할 때의 중합 온도는 중합 개시제의 분해 온도에 따라서 적절하게 설정할 수 있고, 일반적으로는 30~150℃의 범위에서 행하는 것이 바람직하다.
본 발명의 수지 조성물은 보다 우수한 광학 특성으로 되기 위해, 상기한 셀룰로오스계 수지 및 푸마르산 디에스테르 중합체 외에 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제를 함유하는 것이 바람직하다.
이 경우, 본 발명의 수지 조성물은 수지 성분으로서 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 셀룰로오스계 수지 10~99중량% 및 하기 일반식(2)으로 나타내어지는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 60몰% 이상을 포함하는 푸마르산 디에스테르 중합체 90~1중량%를 함유하고, 또한 그 수지 성분 70~99.99중량% 및 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제 0.01~30중량%를 함유한다.
Figure pct00003
(식 중, R1, R2, R3은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1~12의 아실기를 나타낸다.)
Figure pct00004
(식 중, R4, R5는 각각 독립적으로 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.)
이 경우, 본 발명의 수지 조성물에 있어서의 셀룰로오스계 수지와 푸마르산 디에스테르 중합체의 조성 비율은 셀룰로오스계 수지 10~99중량% 및 푸마르산 디에스테르 중합체 90~1중량%이다. 셀룰로오스계 수지가 10중량% 미만인 경우(푸마르산 디에스테르 중합체가 90중량%를 초과하는 경우) 또는 셀룰로오스계 수지가 99중량%를 초과하는 경우(푸마르산 디에스테르 중합체가 1중량% 미만인 경우)에는 위상차의 제어가 곤란하다. 바람직하게는 셀룰로오스계 수지 30~97중량% 및 푸마르산 디에스테르 중합체 70~3중량%이며, 더욱 바람직하게는 셀룰로오스계 수지 50~95중량% 및 푸마르산 디에스테르 중합체 50~5중량%이다.
본 발명의 수지 조성물이 함유하는 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제는 하기 식(1)으로 나타내어지는 복굴절 Δn에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 광학 특성이 우수한 광학 보상 필름으로 되기 때문에 바람직하게는 0.05 이상이고, 더욱 바람직하게는 0.05~0.5, 특히 바람직하게는 0.1~0.5이다. 첨가제의 Δn은 분자 궤도 계산에 의해서 구할 수 있다.
Δn=ny-nx (1)
(식 중, nx는 첨가제 분자의 진상축 방향의 굴절률을 나타내고, ny는 첨가제 분자의 지상축 방향의 굴절률을 나타낸다.)
본 발명의 수지 조성물에 있어서의 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제는 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환의 분자내의 개수에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 광학 특성이 우수한 광학 보상 필름으로 되기 때문에 바람직하게는 1~12개이며, 더욱 바람직하게는 1~8개이다. 방향족 탄화수소환으로서는, 예를 들면 5원환, 6원환, 7원환 또는 2개 이상의 방향족환으로 이루어지는 축합환 등이 예시되고, 방향족성 헤테로환으로서는, 예를 들면 푸란환, 티오펜환, 피롤환, 옥사졸환, 티아졸환, 이미다졸환, 트리아졸환, 피리딘환, 피리미딘환, 피라진환, 1,3,5-트리아진환 등이 예시된다.
방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환은 치환기를 갖고 있어도 좋고, 치환기로서는 예를 들면 수산기, 에테르기, 카르보닐기, 에스테르기, 카르복실산 잔기, 아미노기, 이미노기, 아미도기, 이미도기, 시아노기, 니트로기, 술포닐기, 술폰산 잔기, 포스포닐기, 포스폰산 잔기 등이 예시된다.
본 발명에서 이용하는 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제로서는, 예를 들면 트리크레실포스페이트, 트리크실레닐포스페이트, 트리페닐포스페이트, 2-에틸헥실디페닐포스페이트, 크레실디페닐포스페이트, 비스페놀 A 비스(디페닐포스페이트) 등의 인산 에스테르계 화합물, 디메틸프탈레이트, 디에틸프탈레이트, 디부틸프탈레이트, 디헥실프탈레이트, 디노말옥틸프탈레이트, 2-에틸헥실프탈레이트, 디이소옥틸프탈레이트, 디카프릴프탈레이트, 디노닐프탈레이트, 디이소노닐프탈레이트, 디데실프탈레이트, 디이소데실프탈레이트 등의 프탈산 에스테르계 화합물, 트리부틸트리멜리테이트, 트리-노말헥실트리멜리테이트, 트리(2-에틸헥실)트리멜리테이트, 트리-노말옥틸트리멜리테이트, 트리-이소옥틸트리멜리테이트, 트리-이소데실트리멜리테이트 등의 트리멜리트산 에스테르계 화합물, 트리(2-에틸헥실)피로멜리테이트, 테트라부틸피로멜리테이트, 테트라-노말헥실피로멜리테이트, 테트라(2-에틸헥실)피로멜리테이트, 테트라-노말-옥틸피로멜리테이트, 테트라-이소옥틸피로멜리테이트, 테트라-이소데실피로멜리테이트 등의 피로멜리산 에스테르계 화합물, 벤조산 에틸, 벤조산 이소프로필, 파라옥시벤조산 에틸 등의 벤조산 에스테르계 화합물, 페닐살리실레이트, p-옥틸페닐살리실레이트, p-tert-부틸페닐살리실레이트 등의 살리실산 에스테르계 화합물, 메틸프탈릴에틸글리콜레이트, 에틸프탈릴에틸글리콜레이트, 부틸프탈릴부틸글리콜레이트 등의 글리콜산 에스테르계 화합물, 2-(2'-히드록시-5'-t-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)벤조트리아졸 등의 벤조트리아졸계 화합물, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,4-디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시-5-술포벤조페논 등의 벤조페논계 화합물, N-벤젠술폰아미드 등의 술폰아미드계 화합물, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-에톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-(2-히드록시-4-프로폭시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-디페닐-(2-히드록시-4-부톡시페닐)-1,3,5-트리아진 등의 트리아진계 화합물 등이 예시되고, 바람직하게는 트리크레실포스페이트, 2-에틸헥실디페닐포스페이트, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논 등이 예시되고, 이것들은 필요에 따라서 1종 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
본 발명의 수지 조성물에 있어서의 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제의 비율은 0.01~30중량%이며(상기의 수지 성분: 70~99.99중량%), 바람직하게는 0.5~20중량%, 더욱 바람직하게는 1~15중량%이다. 0.01중량% 미만인 경우에는 광학 특성의 향상 효율이 작고, 30중량%를 초과하는 경우에는 기계적 특성이 떨어지게 된다.
본 발명의 수지 조성물은 열 안정성을 향상시키기 위해서 산화 방지제를 함유하고 있어도 좋다. 산화 방지제로서는, 예를 들면 힌더드페놀계 산화 방지제, 인계 산화 방지제, 황계 산화 방지제, 락톤계 산화 방지제, 아민계 산화 방지제, 히드록실아민계 산화 방지제, 비타민 E계 산화 방지제, 기타 산화 방지제가 예시되고, 이들 산화 방지제는 각각 단독이어도 좋고, 2 이상이어도 좋다.
본 발명의 수지 조성물은 내후성을 높이기 위해 힌더드아민계 광 안정제나 자외선 흡수제를 함유하고 있어도 좋다. 자외선 흡수제로서는, 예를 들면 벤조트리아졸, 벤조페논, 트리아진, 벤조에이트 등이 예시된다.
본 발명의 수지 조성물은 발명의 취지를 벗어나지 않는 범위에서 기타 폴리머, 계면활성제, 고분자 전해질, 도전성 착체, 안료, 염료, 대전 방지제, 안티블로킹제, 활제 등을 함유하고 있어도 좋다.
본 발명의 수지 조성물은 셀룰로오스계 수지와 푸마르산 디에스테르 중합체, 또는 셀룰로오스계 수지와 푸마르산 디에스테르 중합체와 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제를 블렌딩함으로써 얻을 수 있다.
블렌딩의 방법으로서는 용융 블렌딩, 용액 블렌딩 등의 방법을 이용할 수 있다. 용융 블렌딩법이란 가열에 의해 수지, 또는 수지와 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제를 용융시켜서 혼련함으로써 제조하는 방법이다. 용액 블렌딩법이란 수지, 또는 수지와 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제를 용제에 용해하여 블렌딩하는 방법이다. 용액 블렌딩에 이용되는 용매로서는, 예를 들면 염화 메틸렌, 클로로포름 등의 염소계 용제, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 용제, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올 용제, 디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈 등을 이용할 수 있다. 각 수지, 또는 각 수지 및 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제를 용제에 용해한 후에 블렌딩하는 것도 가능하고, 각 수지의 분체, 펠릿 등을 혼련 후 용제에 용해시키는 것도 가능하다. 얻어진 블렌딩 수지 용액을 빈용제에 투입하여 수지 조성물을 석출시키는 것도 가능하고, 또한 블렌딩 수지 용액인 채 광학 보상 필름의 제조에 이용하는 것도 가능하다.
블렌딩시의 셀룰로오스계 수지와 푸마르산 디에스테르 중합체의 비율은 10~99중량% : 90~1중량%이고, 또한 셀룰로오스계 수지와 푸마르산 디에스테르 중합체 및 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제의 비율은 셀룰로오스계 수지 : 푸마르산 디에스테르 중합체 10~99중량% : 90~1중량%이고, 수지 성분(셀룰로오스계 수지와 푸마르산 디에스테르 중합체) : 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제가 70~99.99중량% : 0.01~30중량%이다. 첨가제의 비율이 이 범위를 벗어난 경우에는 위상차의 제어가 곤란해지는 경우가 있다.
본 발명의 수지 조성물을 이용한 광학 보상 필름은 두께가 5~200㎛ 인 것이 바람직하고, 10~100㎛가 더욱 바람직하고, 30~80㎛가 특히 바람직하다. 또한, 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제를 함유하는 본 발명의 수지 조성물을 이용한 광학 보상 필름의 경우에는 두께가 5~200㎛이고, 10~100㎛가 바람직하고, 30~80㎛가 더욱 바람직하고, 30~75㎛가 특히 바람직하다. 수지 조성물이 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제를 함유하는 경우, 두께가 5㎛ 미만인 경우에는 필름의 취급이 곤란해지는 경우가 있고, 200㎛를 초과하는 경우에는 광학 부재의 박막화에 적합하지 않은 경우가 있다.
본 발명의 수지 조성물을 이용한 광학 보상 필름의 위상차 특성은 목적으로 하는 광학 보상 필름에 따라 다를 것이고, 1) 하기 식(2)으로 나타내어지는 면내 위상차(Re)가 바람직하게는 80~300㎚, 더욱 바람직하게는 100~300㎚, 특히 바람직하게는 200~280㎚이고, 하기 식(3)으로 나타내어지는 Nz 계수가 바람직하게는 0.35~0.65, 더욱 바람직하게는 0.45~0.55인 것, 2) 면내 위상차(Re)가 바람직하게는 50~200㎚, 더욱 바람직하게는 80~160㎚이며, Nz 계수가 바람직하게는 -0.2~0.2, 더욱 바람직하게는 -0.1~0.1인 것, 3) 면내 위상차(Re)가 바람직하게는 0~20㎚, 더욱 바람직하게는 0~5㎚, 하기 식(4)으로 나타내어지는 면외 위상차(Rth)가 바람직하게는 -150~10㎚, 더욱 바람직하게는 -120~0㎚이다. 측정은 전자동 복굴절계(오지케이소쿠키키가부시키가이샤제, 상품명 KOBRA-21ADH)를 이용하여 측정 파장 589㎚의 조건에서 측정했다.
이것들은 종래의 셀룰로오스계 수지를 이용한 광학 보상 필름에서는 발현이 곤란한 위상차 특성을 갖고 있다.
Re=(ny-nx)×d (2)
Nz=(ny-nz)/(ny-nx) (3)
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (4)
(식 중, nx는 필름 면내의 진상축 방향의 굴절률을 나타내고, ny는 필름 면내의 지상축 방향의 굴절률을 나타내고, nz는 필름 면외의 굴절률을 나타내고, d는 필름 두께를 나타낸다.)
본 발명의 광학 보상 필름은 휘도 향상을 위해 광선 투과율이 바람직하게는 85% 이상, 더욱 바람직하게는 90% 이상이다.
본 발명의 광학 보상 필름은 콘트라스트 향상을 위한 헤이즈가 바람직하게는 2% 이하, 더욱 바람직하게는 1% 이하이다.
본 발명의 수지 조성물을 이용한 광학 보상 필름의 제조 방법으로서는 본 발명의 광학 보상 필름의 제조가 가능하다면 어떠한 방법을 이용해도 좋지만, 광학 특성, 내열성, 표면 특성 등이 우수한 광학 보상 필름이 얻어지기 때문에 용액 캐스팅법에 의해 제조하는 것이 바람직하다. 여기서, 용액 캐스팅법이란 수지 용액(일반적으로는 도프라고 칭함)을 지지 기판 상에 유연한 후, 가열함으로써 용매를 증발시켜서 광학 보상 필름을 얻는 방법이다. 유연하는 방법으로서는, 예를 들면 T 다이법, 닥터 블레이드법, 바 코터법, 롤 코터법, 립 코터법 등이 이용되고, 공업적으로는 다이로부터 도프를 벨트 형상 또는 드럼 형상의 지지 기판에 연속적으로 압출하는 방법이 가장 일반적으로 이용되고 있다. 또한, 이용되는 지지 기판으로서는, 예를 들면 유리 기판, 스테인레스나 페로타입 등의 금속 기판, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 플라스틱 기판 등이 있다. 고도로 표면성, 광학 균질성이 우수한 기판을 공업적으로 연속 제막하기 위해서는 표면을 경면 마무리한 금속 기판이 바람직하게 이용된다. 용액 캐스팅법에 있어서, 두께 정밀도, 표면 평활성이 우수한 광학 보상 필름을 제조할 때에는 수지 용액의 점도는 매우 중요한 인자이고, 수지 용액의 점도는 수지의 농도, 분자량, 용매의 종류에 의존하는 것이다. 본 발명의 수지 조성물을 이용한 광학 보상 필름을 제조할 때의 수지 용액은 셀룰로오스계 수지와 푸마르산 디에스테르 중합체를 용매에 용해시켜 조정한다. 수지 용액의 점도는 중합체의 분자량, 중합체의 농도, 용매의 종류에 의해 조정 가능하다. 수지 용액의 점도로서는 특별히 제한은 없지만, 필름 도공성을 보다 용이하게 하기 위해 바람직하게는 100~10,000cps, 더욱 바람직하게는 300~5,000cps, 특히 바람직하게는 500~3,000cps다.
본 발명의 수지 조성물을 이용한 광학 보상 필름의 제조 방법으로서는, 예를 들면 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 셀룰로오스계 수지 10~99중량% 및 하기 일반식(2)으로 나타내어지는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 60몰% 이상을 포함하는 푸마르산 디에스테르 중합체 90~1중량%를 용제에 용해하여 얻어진 수지 용액을 기재에 캐스팅하고, 건조 후 기판으로부터 박리하는 것이 예시된다.
Figure pct00005
(식 중, R1, R2, R3은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1~12의 아실기를 나타낸다.)
Figure pct00006
(식 중, R4, R5는 각각 독립적으로 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.)
본 발명의 수지 조성물을 이용하여 얻어진 광학 보상 필름은 면내 위상차(Re)를 발현하기 위해서 적어도 1축 방향으로 연신하는 것이 바람직하다. 연신은 50~200℃에서 행하는 것이 바람직하고, 100~160℃에서 행하는 것이 더욱 바람직하고, 연신 배율은 1.05배~3배가 바람직하고, 1.1배~2.0배가 더욱 바람직하다. 연신 온도, 연신 배율에 의해 면내 위상차(Re)를 제어할 수 있다.
본 발명의 수지 조성물이 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제를 함유하는 경우의 본 발명의 수지 조성물을 이용한 광학 보상 필름의 제조 방법으로서는, 예를 들면 수지 성분으로서 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 셀룰로오스계 수지 10~99중량% 및 하기 일반식(2)으로 나타내어지는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 60몰% 이상을 포함하는 푸마르산 디에스테르 중합체 90~1중량%와, 상기 수지 성분 70~99.99중량% 및 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제 0.01~30중량%를 용제에 용해하여 얻어진 수지 용액을 기재에 캐스팅하고, 건조 후 기재로부터 박리하는 것이 예시된다.
Figure pct00007
(식 중, R1, R2, R3은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1~12의 아실기를 나타낸다.)
Figure pct00008
(식 중, R4, R5는 각각 독립적으로 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.)
본 발명의 수지 조성물이 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제를 함유하는 경우, 본 발명의 수지 조성물을 이용하여 얻어진 광학 보상 필름은 면내 위상차(Re)를 발현하기 위해서 1축 연신 또는 언밸런스 2축 연신하는 것이 바람직하다. 광학 보상 필름을 연신하는 방법으로서는 롤 연신에 의한 종 1축 연신법이나 텐터 연신에 의한 횡 1축 연신법, 이것들의 조합에 의한 언밸런스 순차 2축 연신법이나 언밸런스 동시 2축 연신법 등을 이용할 수 있다. 또한, 본 발명에서는 열 수축성 필름의 수축력의 작용하에 연신을 행하는 특수 연신법을 이용하지 않고, 위상차 특성을 발현시킬 수 있다.
본 발명의 수지 조성물이 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제를 함유하는 경우, 연신할 때의 광학 보상 필름의 두께는 40~200㎛이고, 바람직하게는 50~180㎛, 더욱 바람직하게는 60~160㎛이다. 두께가 40㎛ 미만인 경우에는 연신이 곤란해지는 경우가 있고, 200㎛를 초과하는 경우에는 광학 부재의 박막화에 적합하지 않은 경우가 있다.
연신 온도는 특별히 제한은 없지만, 양호한 위상차 특성이 얻어지기 때문에 바람직하게는 50~200℃, 더욱 바람직하게는 100~160℃이다. 1축 연신의 연신 배율은 특별히 제한은 없지만, 양호한 위상차 특성이 얻어지기 때문에 1.05~3배가 바람직하고, 1.1~2.0배가 더욱 바람직하다. 언밸런스 2축 연신의 연신 배율은 특별히 제한은 없지만, 광학 특성이 우수한 광학 보상 필름으로 되기 때문에 길이 방향으로는 1.05~3배가 바람직하고, 1.1~2.0배가 더욱 바람직하고, 광학 특성이 우수한 광학 보상 필름으로 되기 때문에 폭 방향으로는 1.01~1.2배가 바람직하고, 1.05~1.1배가 더욱 바람직하다. 연신 온도, 연신 배율에 따라 면내 위상차(Re)를 제어할 수 있다.
본 발명의 수지 조성물을 이용한 광학 보상 필름은 필요에 따라서 다른 수지를 포함하는 필름과 적층할 수 있다. 다른 수지로서는, 예를 들면 폴리에테르술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리나프탈렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 환상 폴리올레핀, 말레이미드계 수지, 불소계 수지, 폴리이미드 등이 예시된다. 또한, 하드코트층이나 가스 배리어층을 적층하는 것도 가능하다.
(발명의 효과)
본 발명의 수지 조성물을 이용한 광학 보상 필름은 특정의 위상차 특성을 나타내기 때문에 액정 디스플레이용 광학 보상 필름이나 반사 방지용 필름으로서 유용하다.
(실시예)
이하, 본 발명을 실시예에 의해 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
또한, 실시예에 의해 나타내는 여러 가지의 물성은 이하의 방법에 의해 측정 했다.
<중합체의 분석＞
중합체의 구조 분석은 핵자기 공명 측정 장치(니혼덴시제, 상품명: JNM-GX270)를 이용하여 프로톤 핵자기 공명 분광(1H-NMR) 스펙트럼 분석으로 구했다.
<수 평균 분자량의 측정＞
겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC) 장치(도소제, 상품명: C0-8011(컬럼 GMHHR-H를 장착))를 이용하여 테트라히드로푸란 또는 디메틸포름아미드를 용매로 해서 40℃에서 측정하고, 표준 폴리스티렌 환산값으로서 구했다.
<광학 보상 필름의 광선 투과율 및 헤이즈의 측정＞
작성된 필름의 광선 투과율 및 헤이즈는 헤이즈 미터(니폰덴쇼쿠고교제, 상품명: NDH2000)를 사용하고, 광선 투과율의 측정은 JIS K 7361-1(1997판)에, 헤이즈의 측정은 JIS-K 7136(2000년판)에 각각 준거해서 측정했다.
<위상차 특성의 측정＞
시료 경사형 자동 복굴절계(오지케이소쿠키키제, 상품명: KOBRA-WR)를 이용하여 파장 589㎚의 광을 이용하여 광학 보상 필름의 위상차 특성을 측정했다.
합성예 1
5리터 오토클레이브 내에 히드록시프로필메틸셀룰로오스 0.2중량%를 포함하는 증류수 2,400g, 푸마르산 디이소프로필 1,388g, 푸마르산 디에틸 212g, 중합 개시제(니치유제, 상품명: 퍼부틸 PV) 12.7g을 투입하고, 중합 온도 48℃, 중합 시간 30시간의 조건에서 현탁 라디칼 중합 반응을 행했다. 얻어진 중합체 입자를 여과 회수하여 물, 메탄올로 충분히 세정하고, 80℃에서 건조시킴으로써 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체를 얻었다. 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체의 수 평균 분자량은 98,000, 푸마르산 디이소프로필 단위 83몰%, 푸마르산 디에틸 단위 17몰%였다.
합성예 2
1리터 오토클레이브 내에 푸마르산 디이소프로필 200g, 푸마르산 디에틸 17g, 비닐피롤리돈 32g, 중합 개시제(니치유제, 상품명: 퍼부틸 PV) 0.2g을 투입하고, 중합 온도 45℃, 중합 시간 8시간 조건에서 라디칼 중합 반응을 행했다. 얻어진 중합체를 포함하는 용액을 대과잉의 메탄올에 투입하여 중합체를 석출시켰다. 얻어진 중합체를 여과하여 80℃에서 건조시킴으로써 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸·비닐피롤리돈 중합체를 얻었다. 얻어진 중합체의 수 평균 분자량 45,000, 푸마르산 디이소프로필 단위 80몰%, 푸마르산 디에틸 단위 6몰%, 비닐피롤리돈 단위 14몰%였다.
합성예 3
1리터 오토클레이브 내에 히드록시프로필메틸셀룰로오스 0.2중량%를 포함하는 증류수 480g, 푸마르산 디이소프로필 208g, 푸마르산 디에틸 85g, 중합 개시제(니치유제, 상품명: 퍼부틸 PV) 12.7g을 투입하고, 중합 온도 48℃, 중합 시간 30시간의 조건에서 현탁 라디칼 중합 반응을 행했다. 얻어진 중합체 입자를 여과 회수하여 물, 메탄올로 충분히 세정하고, 80℃에서 건조시킴으로써 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체를 얻었다. 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체의 수 평균 분자량은 63,000, 푸마르산 디이소프로필 단위 64몰%, 푸마르산 디에틸 단위 36몰%였다.
합성예 4
5리터 오토클레이브 내에 히드록시프로필메틸셀룰로오스 0.2중량%를 포함하는 증류수 2,600g, 푸마르산 디이소프로필 1,232g, 푸마르산 디-n-부틸 168g, 중합 개시제(니치유제, 상품명: 퍼부틸 PV) 11g을 투입하고, 중합 온도 47℃, 중합 시간 36시간의 조건에서 현탁 라디칼 중합 반응을 행했다. 얻어진 중합체 입자를 여과 회수하여 물, 메탄올로 충분히 세정하고, 80℃에서 건조시킴으로써 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디-n-부틸 중합체를 얻었다. 얻어진 중합체의 수 평균 분자량은 88,000, 푸마르산 디이소프로필 단위 88몰%, 푸마르산 디-n-부틸 단위 12몰%였다.
합성예 5
5리터 오토클레이브 내에 히드록시프로필메틸셀룰로오스 0.2중량%를 포함하는 증류수 2,600g, 푸마르산 디이소프로필 1,200g, 푸마르산 디-2-에틸헥실 184g, 중합 개시제(니치유제, 상품명: 퍼부틸 PV) 11g을 투입하고, 중합 온도 47℃, 중합 시간 36시간의 조건에서 현탁 라디칼 중합 반응을 행했다. 얻어진 중합체 입자를 여과 회수하여 물, 메탄올로 충분히 세정하고, 80℃에서 건조시킴으로써 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디-2-에틸헥실 중합체를 얻었다. 얻어진 중합체의 수 평균 분자량은 85,000, 푸마르산 디이소프로필 단위 92.5몰%, 푸마르산 디-2-에틸헥실 단위 7.5몰%였다.
실시예 1
셀룰로오스아세테이트(아세틸기=82몰%, 전체 치환도 DS=2.46, 수 평균 분자량=30,000) 261g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 39g을 염화 메틸렌 1,700g에 용해하여 15중량% 용액으로 한 후, 대량의 메탄올에 투입함으로써 고체를 석출시켰다. 얻어진 고체를 여과, 건조하여 수지 조성물 298g을 얻었다. 얻어진 수지 조성물은 셀룰로오스아세테이트 87중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 13중량%를 포함하는 수지 조성물이었다. 얻어진 수지 조성물 200g을 염화 메틸렌 800g에 용해하고, T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 80℃로 단계적으로 건조하여 광학 보상 필름(폭 150㎜, 두께 80㎛)을 얻었다.
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.
Figure pct00009
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 두께 방향의 면외 위상차(Rth)가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 2
셀룰로오스아세테이트(아세틸기=82몰%, 전체 치환도 DS=2.46, 수 평균 분자량=30,000) 283g, 합성예 2에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸·비닐피롤리돈 중합체 50g을 염화 메틸렌 1,500g에 용해시킨 후, 대량의 메탄올에 투입함으로써 고체를 석출시켰다. 얻어진 고체를 여과, 건조하여 수지 조성물 305g을 얻었다. 얻어진 수지 조성물은 셀룰로오스아세테이트 85중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸·비닐피롤리돈 중합체 15중량%를 포함하는 수지 조성물이었다. 얻어진 수지 조성물 200g을 염화 메틸렌 800g에 용해하고, T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 80℃로 단계적으로 건조하여 광학 보상 필름(폭 150㎜, 두께 80㎛)을 얻었다.
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 1에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 뛰어나고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 두께 방향의 면외 위상차(Rth)가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 3
셀룰로오스아세테이트프로피오네이트(아세틸기=7몰%, 프로피오닐기=80몰%, 전체 치환도 DS=2.6, 수 평균 분자량=25,000) 279g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 21g을 테트라히드로푸란 1,700g에 용해하여 15중량% 용액으로 한 후, 대량의 메탄올에 투입함으로써 고체를 석출시켰다. 얻어진 고체를 여과, 건조하여 수지 조성물 295g을 얻었다. 얻어진 수지 조성물은 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 93중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 7중량%를 포함하는 수지 조성물이었다. 얻어진 수지 조성물 200g을 메틸에틸케톤 800g에 용해하고, T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 80℃로 단계적으로 승온, 건조하여 광학 보상 필름(폭 150㎜, 두께 77㎛)을 얻었다.
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 1에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 두께 방향의 면외 위상차(Rth)가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 4
셀룰로오스아세테이트부티레이트(아세틸기 5몰%, 부티릴기=82몰%, 전체 치환도 DS=2.6, 수 평균 분자량=43,000) 210g, 합성예 3에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 90g을 메틸에틸케톤 1,700g에 용해하여 15중량% 용액으로 한 후, 대량의 메탄올에 투입함으로써 고체를 석출시켰다. 얻어진 고체를 여과, 건조하여 수지 조성물 278g을 얻었다. 얻어진 수지 조성물은 셀룰로오스아세테이트부티레이트 70중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 30중량%를 포함하는 수지 조성물이었다. 얻어진 수지 조성물 200g을 메틸에틸케톤 800g에 용해하고, T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 190㎛의 필름을 얻었다. 얻어진 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 145℃에서 세로 1.3배, 가로 1.1배로 연신하여 광학 보상 필름을 얻었다.
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 1에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 5
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=87몰%, 전체 치환도 DS=2.6, 수 평균 분자량=30,000) 240g, 합성예 2에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸·비닐피롤리돈 중합체 60g을 메틸에틸케톤 1,700g에 용해시켜 15중량% 용액으로 한 후, 대량의 메탄올에 투입함으로써 고체를 석출시켰다. 얻어진 고체를 여과, 건조하여 수지 조성물 278g을 얻었다. 얻어진 수지 조성물은 셀룰로오스부티레이트 81중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸·비닐피롤리돈 중합체 19중량%를 포함하는 수지 조성물이었다. 얻어진 수지 조성물 200g을 메틸에틸케톤 800g에 용해하고, T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 200㎛의 필름을 얻었다. 얻어진 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 150℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신하여 광학 보상 필름을 얻었다.
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 1에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 6
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=91몰%, 전체 치환도 DS=2.7, 수 평균 분자량=35,000) 250g, 합성예 4에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디-n-부틸 중합체 50g을 테트라히드로푸란 1,700g에 용해시켜 15중량% 용액으로 한 후, 대량의 메탄올에 투입함으로써 고체를 석출시켰다. 얻어진 고체를 여과, 건조하여 수지 조성물 280g을 얻었다. 얻어진 수지 조성물은 셀룰로오스부티레이트 83중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디-n-부틸 중합체 17중량%를 포함하는 수지 조성물이었다. 얻어진 수지 조성물 200g을 테트라히드로푸란 800g에 용해하고, T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 200㎛의 필름을 얻었다. 얻어진 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 140℃에서 세로 1.3배, 가로 1.0배로 연신하여 광학 보상 필름을 얻었다.
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 1에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 7
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=87몰%, 전체 치환도 DS=2.6, 수 평균 분자량=30,000) 100g, 합성예 5에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디-2-에틸헥실 중합체 200g을 메틸에틸케톤 1,700g에 용해시켜 15중량% 용액으로 한 후, 대량의 메탄올에 투입함으로써 고체를 석출시켰다. 얻어진 고체를 여과, 건조하여 수지 조성물 286g을 얻었다. 얻어진 수지 조성물은 셀룰로오스부티레이트 32중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디-2-에틸헥실 중합체 68중량%를 포함하는 수지 조성물이었다. 얻어진 수지 조성물 200g을 메틸에틸케톤 800g에 용해하고, T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 180㎛의 필름을 얻었다. 얻어진 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내어 150℃에서 세로 1.25배, 가로 1.05배로 연신하여 광학 보상 필름을 얻었다.
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 1에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
비교예 1
실시예 1에서 이용한 셀룰로오스아세테이트 200g을 염화 메틸렌 800g에 용해하고, T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 80℃로 단계적으로 건조하여 폭 150㎜, 두께 80㎛의 필름을 얻었다.
얻어진 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 1에 함께 나타낸다.
얻어진 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작지만, 두께 방향의 면외 위상차(Rth)가 커서 목적으로 하는 광학 특성을 갖고 있지 않았다.
비교예 2
실시예 3에서 이용한 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 200g을 테트라히드로푸란 800g에 용해하고, T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 80℃로 단계적으로 건조하여 폭 150㎜, 두께 77㎛의 필름을 얻었다.
얻어진 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 1에 함께 나타낸다.
얻어진 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작지만, 두께 방향의 면외 위상차(Rth)가 커서 목적으로 하는 광학 특성을 갖고 있지 않았다.
비교예 3
합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 200g을 염화 메틸렌 800g에 용해하고, T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 80℃로 단계적으로 건조하여 폭 150㎜, 두께 80㎛의 필름을 얻었다.
얻어진 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 1에 함께 나타낸다.
얻어진 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작지만, 두께 방향의 면외 위상차(Rth)가 커서 목적으로 하는 광학 특성을 갖고 있지 않았다.
비교예 4
실시예 4에서 사용된 셀룰로오스아세테이트부티레이트 200g을 메틸에틸케톤 800g에 용해하고, T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 200㎛의 필름을 얻었다. 얻어진 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 150℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신했다.
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 1에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작지만, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖고 있지 않았다.
실시예 8
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=82몰%, 전체 치환도 DS=2.46, 수 평균 분자량=70,000) 130g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 30g과 트리크레실포스페이트(Δn=0.18) 10g을 염화 메틸렌 640g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 150㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 81중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체: 19중량%): 94중량%, 트리크레실포스페이트: 6중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 122㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.
Figure pct00010
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 9
셀룰로오스아세테이트부티레이트(아세틸기=15몰%, 부티릴기=70몰%, 전체 치환도 DS=2.55, 수 평균 분자량=72,000) 130g, 합성예 2에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸·비닐피롤리돈 중합체 30g과 트리크레실포스페이트(Δn=0.18) 10g을 염화 메틸렌 640g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 150㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스아세테이트부티레이트: 81중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸·비닐피롤리돈 중합체: 19중량%): 94중량%, 트리크레실포스페이트: 6중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 123㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 10
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=87몰%, 전체 치환도 DS=2.61, 수 평균 분자량=70,000) 158g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 12g과 2-에틸헥실디페닐포스페이트(Δn=0.23) 10g을 메틸에틸케톤 800g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 150㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 93중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체: 7중량%): 95중량%, 2-에틸헥실디페닐포스페이트: 5중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 125㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 11
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=86몰%, 전체 치환도 DS=2.58, 수 평균 분자량=70,000) 138g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 32g과 2-히드록시-4-메톡시벤조페논(Δn=0.11) 10g을 메틸에틸케톤 800g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 150㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 80중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체: 20중량%): 94중량%, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논: 6중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 120㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 12
셀룰로오스아세테이트프로피오네이트(아세틸기=5몰%, 프로피오닐기=80몰%, 전체 치환도 DS=2.55, 수 평균 분자량=75,000) 54g, 합성예 5에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디-2-에틸헥실 중합체 116g과 트리크레실포스페이트 (Δn=0.18) 10g을 메틸에틸케톤 800g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 180㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스아세테이트프로피오네이트: 32중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디-2-에틸헥실 중합체: 68중량%): 94중량%, 트리크레실포스페이트: 6중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 1.25배, 가로 1.05배로 연신했다(연신 후의 두께 160㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 13
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=82몰%, 전체 치환도 DS=2.46, 수 평균 분자량=70,000) 153g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 17g과 트리크레실포스페이트(Δn=0.18) 20g을 염화 메틸렌 800g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 150㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 90중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체: 10중량%): 89중량%, 트리크레실포스페이트: 11중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 2.0배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 106㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 14
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=82몰%, 전체 치환도 DS=2.46, 수 평균 분자량=70,000) 153g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 17g과 트리크레실포스페이트(Δn=0.18) 10g을 염화 메틸렌 800g에 용해했다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 80㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 90중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체: 10중량%): 94중량%, 트리크레실포스페이트: 6중량%].
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 두께 방향의 면외 위상차(Rth)가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 15
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=86몰%, 전체 치환도 DS=2.58, 수 평균 분자량=70,000) 153g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 17g과 트리크레실포스페이트(Δn=0.18) 20g을 염화 메틸렌 800g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 100㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 90중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체: 10중량%): 89중량%, 트리크레실포스페이트: 11중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 2.0배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 70㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 16
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=86몰%, 전체 치환도 DS=2.58, 수 평균 분자량=70,000) 171g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 9g과 트리크레실포스페이트(Δn=0.18) 20g을 염화 메틸렌 800g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 100㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 95중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체: 5중량%): 90중량%, 트리크레실포스페이트: 10중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 2.0배로 1축 연신했다(연신 후의 두께 70㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 17
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=82몰%, 전체 치환도 DS=2.46, 수 평균 분자량=70,000) 130g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 30g과 트리부틸트리멜리테이트(Δn=0.11) 10g을 염화 메틸렌 800g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 180㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 81중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체: 19중량%): 94중량%, 트리부틸트리멜리테이트: 6중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 145㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 18
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=82몰%, 전체 치환도 DS=2.46, 수 평균 분자량=70,000) 130g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 30g과 테트라부틸피로멜리테이트(Δn=0.13) 10g을 염화 메틸렌 800g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 180㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 81중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체: 19중량%): 94중량%, 테트라부틸피로멜리테이트: 6중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 143㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 19
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=82몰%, 전체 치환도 DS=2.46, 수 평균 분자량=70,000) 130g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 30g과 2-(2'-히드록시-5'-t-부틸페닐)벤조트리아졸(Δn=0.13) 7g을 염화 메틸렌 800g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 180㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 81중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체: 19중량%): 96중량%, 2-(2'-히드록시-5'-t-부틸페닐)벤조트리아졸: 4중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 141㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 20
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=82몰%, 전체 치환도 DS=2.46, 수 평균 분자량=70,000) 130g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 30g과 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진(Δn=0.21) 7g을 염화 메틸렌 800g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 180㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 81중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체: 19중량%): 96중량%, 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진: 4중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 140㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 21
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=82몰%, 전체 치환도 DS=2.46, 수 평균 분자량=70,000) 130g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 30g과 벤조산 에틸(Δn=0.08) 20g을 염화 메틸렌 800g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 180㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 81중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체: 19중량%): 89중량%, 벤조산 에틸: 11중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 148㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 22
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=82몰%, 전체 치환도 DS=2.46, 수 평균 분자량=70,000) 130g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 30g과 디에틸프탈레이트(Δn=0.07) 20g을 염화 메틸렌 800g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 180㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 81중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체: 19중량%): 89중량%, 디에틸프탈레이트: 11중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 149㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
실시예 23
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=82몰%, 전체 치환도 DS=2.46, 수 평균 분자량=70,000) 130g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 30g과 트리크레실포스페이트 53g을 염화 메틸렌 640g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 150㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 81중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체: 19중량%): 75중량%, 트리크레실포스페이트: 25중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 120℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 121㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작고, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖는 것이었다.
비교예 5
실시예 8에서 이용한 셀룰로오스부티레이트 200g 및 트리크레실포스페이트 (Δn=0.18) 10g을 염화 메틸렌 800g에 용해하고, T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 80℃로 단계적으로 건조하여 폭 150㎜, 두께 80㎛의 필름(수지 조성물)을 얻었다(셀룰로오스부티레이트: 95중량%, 트리크레실포스페이트: 5중량%).
얻어진 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 3에 나타낸다.
Figure pct00011
얻어진 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작지만, 두께 방향의 위상차(Rth)가 커서 목적으로 하는 광학 특성을 갖고 있지 않았다.
비교예 6
실시예 9에서 이용한 셀룰로오스아세테이트부티레이트 200g 및 트리크레실 포스페이트(Δn=0.18) 10g을 테트라히드로푸란 800g에 용해하고, T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 80℃로 단계적으로 건조하여 폭 150㎜, 두께 77㎛의 필름(수지 조성물)을 얻었다(셀룰로오스아세테이트부티레이트: 95중량%, 트리크레실포스페이트: 5중량%).
얻어진 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 3에 함께 나타낸다.
얻어진 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작지만, 두께 방향의 면외 위상차(Rth)가 커서 목적으로 하는 광학 특성을 갖고 있지 않았다.
비교예 7
실시예 8에서 이용한 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 200g 및 트리크레실포스페이트(Δn=0.18) 10g을 염화 메틸렌 800g에 용해하고, T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 80℃로 단계적으로 건조하여 폭 150㎜, 두께 80㎛의 필름(수지 조성물)을 얻었다 (수지 성분: 95중량%, 트리크레실포스페이트: 5중량%).
얻어진 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 3에 함께 나타낸다.
얻어진 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작지만, 두께 방향의 면외 위상차(Rth)가 커서 목적으로 하는 광학 특성을 갖고 있지 않았다.
비교예 8
실시예 9에서 사용된 셀룰로오스아세테이트부티레이트 200g 및 트리크레실포스페이트(Δn=0.18) 10g을 메틸에틸케톤 800g에 용해하고, T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 200㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다 (셀룰로오스아세테이트부티레이트: 95중량%, 트리크레실포스페이트: 5중량%). 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 163㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 3에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작지만, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖고 있지 않았다.
비교예 9
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=82몰%, 전체 치환도 DS=2.46, 수 평균 분자량=70,000) 11g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 159g과 트리크레실포스페이트(Δn=0.18) 10g을 염화 메틸렌 800g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 200㎛의 광학 보상 필름(수지 조성물)을 얻었다[수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 6중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 94중량%): 94중량%, 트리크레실포스페이트: 6중량%]. 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 164㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 3에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작지만, Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖고 있지 않았다.
비교예 10
셀룰로오스부티레이트(부티릴기=82몰%, 전체 치환도 DS=2.46, 수 평균 분자량=70,000) 145g, 합성예 1에 의해 얻어진 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체 25g과 트리크레실포스페이트(Δn=0.18) 91g을 염화 메틸렌 800g에 용해시켰다. 용해한 것을 T 다이법에 의해 용액 유연 장치의 지지체에 유연하고, 건조 온도 30℃, 이어서 100℃로 단계적으로 건조한 후, 폭 150㎜, 두께 200㎛의 수지 조성물(광학 보상 필름)을 얻었다(수지 성분(셀룰로오스부티레이트: 85중량%, 푸마르산 디이소프로필·푸마르산 디에틸 중합체: 15중량%): 65중량%, 트리크레실포스페이트: 35중량%). 얻어진 광학 보상 필름을 50㎜×50㎜로 잘라내고, 125℃에서 세로 1.5배, 가로 1.1배로 연신했다(연신 후의 두께 162㎛).
얻어진 광학 보상 필름의 전광선 투과율, 헤이즈, 위상차 특성을 측정했다. 그 결과를 표 3에 함께 나타낸다.
얻어진 광학 보상 필름은 전광선 투과율이 높아 투명성이 우수하고, 헤이즈가 작지만, 면내 위상차(Re) 및 Nz 계수가 목적으로 하는 광학 특성을 갖고 있지 않았다.
본 발명을 특정의 실시형태를 참조하여 상세하게 설명했지만, 본 발명의 정신과 범위를 벗어나지 않는 다양한 변경 및 수정이 가능한 것은 당업자에게 명확하다.
또한, 본 출원은 2011년 7월 29일자로 출원된 일본 특허 출원(특원 2011-166594) 및 2012년 6월 22일자로 출원된 일본 특허 출원(특원 2012-141108)에 의거하고 있으며, 그 전체가 인용에 의해 원용된다. 또한, 여기에 인용되는 모든 참조는 전체로서 포함된다.
(산업상 이용가능성)
본 발명의 수지 조성물을 이용한 광학 보상 필름은 특정의 위상차 특성을 나타내기 때문에, 액정 디스플레이용 광학 보상 필름이나 반사 방지용 필름으로서 유용하다. 따라서, 본 발명의 공업적 가치는 현저하다.

Claims (20)

  1. 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 셀룰로오스계 수지 10~99중량% 및 하기 일반식(2)으로 나타내어지는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 60몰% 이상을 포함하는 푸마르산 디에스테르 중합체 90~1중량%를 함유하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
    Figure pct00012

    (식 중, R1, R2, R3은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1~12의 아실기를 나타낸다.)
    Figure pct00013

    (식 중, R4, R5는 각각 독립적으로 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.)
  2. 수지 성분으로서 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 셀룰로오스계 수지 10~99중량% 및 하기 일반식(2)으로 나타내어지는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 60몰% 이상을 포함하는 푸마르산 디에스테르 중합체 90~1중량%를 함유하고, 또한 그 수지 성분 70~99.99중량% 및 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제 0.01~30중량%를 함유하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
    Figure pct00014

    (식 중, R1, R2, R3은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1~12의 아실기를 나타낸다.)
    Figure pct00015

    (식 중, R4, R5는 각각 독립적으로 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.)
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    일반식(1)으로 나타내어지는 셀룰로오스계 수지의 아실화도가 1.5~3.0인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    푸마르산 디에스테르 중합체는 푸마르산 디이소프로필 잔기 단위 60~95몰% 및 푸마르산 디에틸 잔기 단위, 푸마르산 디-n-프로필 잔기 단위, 푸마르산 디-n-부틸 잔기 단위, 푸마르산 디-2-에틸헥실 잔기 단위에서 선택되는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 5~40몰%를 포함하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
  5. 제 2 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제는 하기 식(1)으로 나타내어지는 복굴절 Δn이 0.05 이상인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
    Δn=ny-nx (1)
    (식 중, nx는 첨가제 분자의 진상축 방향의 굴절률을 나타내고, ny는 첨가제 분자의 지상축 방향의 굴절률을 나타낸다.)
  6. 제 2 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제는 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 분자 내에 1개 이상 12개 이하로 갖는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
  7. 제 1 항, 제 3 항 또는 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물을 이용하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름.
  8. 제 7 항에 있어서,
    두께가 5~200㎛인 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름.
  9. 제 2 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물을 이용하여 이루어지고, 두께가 5~200㎛인 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름.
  10. 제 7 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    하기 식(2)으로 나타내어지는 면내 위상차(Re)가 80~300㎚이고, 하기 식(3)으로 나타내어지는 Nz 계수가 0.35~0.65인 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름.
    Re=(ny-nx)×d (2)
    Nz=(ny-nz)/(ny-nx) (3)
    (식 중, nx는 필름 면내의 진상축 방향의 굴절률을 나타내고, ny는 필름 면내의 지상축 방향의 굴절률을 나타내고, nz는 필름 면외의 굴절률을 나타내고, d는 필름 두께를 나타낸다.)
  11. 제 7 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    식(2)으로 나타내어지는 면내 위상차(Re)가 50~200㎚이고, 식(3)으로 나타내어지는 Nz 계수가 -0.2~0.2인 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름.
  12. 제 7 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    식(2)으로 나타내어지는 면내 위상차(Re)가 0~20㎚이고, 하기 식(4)으로 나타내어지는 면외 위상차(Rth)가 -150~10㎚인 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름.
    Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (4)
    (식 중, nx는 필름 면내의 진상축 방향의 굴절률을 나타내고, ny는 필름 면내의 지상축 방향의 굴절률을 나타내고, nz는 필름 면외의 굴절률을 나타내며, d는 필름 두께를 나타낸다.)
  13. 제 7 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    광선 투과율이 85% 이상인 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름.
  14. 제 7 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    헤이즈가 2% 이하인 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름.
  15. 제 7 항, 제 8 항, 제 10 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 보상 필름을 제조하기 위한 방법으로서,
    하기 일반식(1)으로 나타내어지는 셀룰로오스계 수지 10~99중량% 및 하기 일반식(2)으로 나타내어지는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 60몰% 이상을 포함하는 푸마르산 디에스테르 중합체 90~1중량%를 용제에 용해하고, 얻어진 수지 용액을 기재에 캐스팅하고, 건조 후 기재로부터 박리하는 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름의 제조 방법.
    Figure pct00016

    (식 중, R1, R2, R3은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1~12의 아실기를 나타낸다.)
    Figure pct00017

    (식 중, R4, R5는 각각 독립적으로 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.)
  16. 제 9 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 보상 필름을 제조하기 위한 방법으로서,
    수지 성분으로서 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 셀룰로오스계 수지 10~99중량% 및 하기 일반식(2)으로 나타내어지는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 60몰% 이상을 포함하는 푸마르산 디에스테르 중합체 90~1중량%이며, 또한 그 수지 성분 70~99.99중량% 및 방향족 탄화수소환 또는 방향족성 헤테로환을 갖는 첨가제 0.01~30중량%를 용제에 용해하고, 얻어진 수지 용액을 기재에 캐스팅하고, 건조 후 기판으로부터 박리하는 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름의 제조 방법.
    Figure pct00018

    (식 중, R1, R2, R3은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1~12의 아실기를 나타낸다.)
    Figure pct00019

    (식 중, R4, R5는 각각 독립적으로 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.)
  17. 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,
    일반식(1)으로 나타내어지는 셀룰로오스계 수지의 아실화도가 1.5~3.0인 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름의 제조 방법.
  18. 제 15 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
    푸마르산 디에스테르 중합체는 푸마르산 디이소프로필 잔기 단위 60~95몰% 및 푸마르산 디에틸 잔기 단위, 푸마르산 디-n-프로필 잔기 단위, 푸마르산 디-n-부틸 잔기 단위, 푸마르산 디-2-에틸헥실 잔기 단위에서 선택되는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 5~40몰%를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름의 제조 방법.
  19. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
    캐스팅하여 얻어진 필름을 적어도 1축 방향으로 연신하는 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름의 제조 방법.
  20. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
    캐스팅하여 얻어진 두께 40~200㎛의 필름을 1축 연신 또는 언밸런스 2축 연신시키는 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름의 제조 방법.
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