KR20130026921A - 투명 도전성 필름, 그 제조방법 및 그것을 구비한 터치 패널 - Google Patents

투명 도전성 필름, 그 제조방법 및 그것을 구비한 터치 패널 Download PDF

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Abstract

본 발명은 투명 도전성 필름, 그 제조방법 및 그것을 구비한 터치 패널에 대한 것으로, 투명 필름; 상기 투명 필름의 일면에서 형성되는 전도성 박막을 포함하며, 상기 전도성 박막은 은나노 와이어 박막 및 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막을 포함하는 투명 도전성 필름을 제공한다. 본 발명에 의하여 투명 도전성 필름의 구조적인 변화없이도 경제적인 공정에 의하여 헤이즈 및 비저항 특성이 개선되면서도 유연성이 우수하고 저렴한 도전성 필름 및 이를 이용한 터치 패널 및 디스플레이를 제공할 수 있다.

Description

투명 도전성 필름, 그 제조방법 및 그것을 구비한 터치 패널{TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, METHOD FOR MAKING THE SAME AND TOUCH PANEL WITH IT}
본 발명은 투명 도전성 필름, 그 제조방법 및 그것을 구비한 터치 패널에 대한 것이다.
투명 도전성 필름은 유리 기판 또는 플라스틱 필름 등의 일면에 ITO와 같은 투명한 도전성 박막을 형성하여 가시광선 영역에서 투명하고, 도전성을 갖는 필름을 말하는 것으로, 현재 터치 패널 등에 널리 사용되고 있다.
이러한 투명 도전성 필름에 있어서, 중요한 성능은 도전성과 투명성으로, 도전성이 떨어지면 원활한 구동이 어렵고, 투명성이 저하되면 디스플레이 성능이 떨어지게 된다. 또한 최근에는 상기 투명 도전성 필름을 이용한 터치 패널 등을 적용하는 디바이스의 용도 및 형태가 다양해 지면서 디바이스 자체는 물론 상기 터치 패널 또한 유연성이 요구되고 있다.
그러나, 산화인듐(ITO: Indium Tin Oxide) 등을 도전성 박막으로 주로 이용하는 필름의 경우, 박막이 무기몰루 이루어져 있어 휘어지는 성질이 취약하여 최종 제품의 유연성 구현에 불리하며, 아울러, 상기 인듐은 희소금솜이므로 미래의 자원 고갈의 문제가 우려되고 있다.
이에 최근에는 고투명, 고전도성의 은나노 와이어 잉크 기술에 필름 가공 기술을 조합함으로써 이러한 문제를 해결하려는 노력이 지속적으로 있었다.
상기 은나노 와이어 잉크를 이용하여 코팅층을 형성하는 경우, 코팅 두께의 제어가 가능하고 다층으로 적층이 가능하며 가격 절감을 이룰 수 있는 장점이 있기 때문에 ITO를 대체하기 위한 기술로 연구가 진행 중이나, 상기 은나노 와이어 잉크에 의한 코팅층은 헤이즈(Haze) 및 비저항 값 등이 아직 ITO를 대체할 만큼의 성능을 구현하지 못하고 있어 이를 해결하기 위한 기술에 대한 연구가 시급하다.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점과 과거로부터 요청되어온 기술적 과제를 해결하는 것을 목적으로 한다.
구체적으로, 본 발명은 상기 은나노 와이어 코팅층 상에 전도성 고분자인 PEDOT 코팅층을 더 포함하여, 도전성 필름을 제공하여 헤이즈 및 비저항 특성을 개선하면서도 유연성이 우수하고 저렴한 도전성 필름을 제공하다.
본 발명은 또한 상기 도전성 필름의 제조방법을 제공한다.
본 발명은 상기와 같은 과제를 해결하기 위한 것으로,
투명 필름;
상기 투명 필름의 일면에서 형성되는 전도성 박막을 포함하며,
상기 전도성 박막은 은나노 와이어 박막 및 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막을 포함하는 투명 도전성 필름을 제공한다.
상기 은나노 와이어 박막은 상기 투명 필름의 일면에 형성되며, 상기 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막은 상기 은나노 와이어 박막 위에 형성되는 것을 특징으로 한다.
나아가, 상기 은나노 와이어 박막은 2 이상의 다층으로 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막은 2 이상의 다층으로 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 은나노 와이어 박막은 건조 건 5 ~ 10 ㎛의 두께를 갖는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막은 건조 전 5 ~ 10 ㎛의 두께를 갖는 것을 특징으로 한다.
나아가, 상기 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막은 상기 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)와 PSS(polystyrenesulfonate)를 1:1로 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막은 계면활성제를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 은나노 와이어 박막은 하기 화학식 1의 구조단위가 반복되어 이루어지고, 인접한 은 원자들이 공유 결합하여 와이어를 형성하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름인 것을 특징으로 한다.
화학식 1 [Ag4]
또한, 상기 은나노 와이어 박막은 증점제 및 계면 활성제를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 또한, 상기 투명 도전성 필름을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널을 더 제공한다.
나아가 상기 터치 패널을 포함하는 디스플레이 장치를 더 제공한다.
상기 디스플레이 장치는 LCD, PDP, LED, OLED 또는 E-paper인 디스플레이 장치일 수 있다.
한편, 본 발명은 투명 필름의 어느 일면에 은나노 와이어 박막 및 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막을 포함하는 도전성 박막을 형성하는 단계를 포함하는 투명 도전성 필름의 제조방법을 더 제공한다.
상기 도전성 박막을 형성하는 단계는 상기 투명 필름의 어느 일면에 은나노 와이어 박막을 형성하는 단계; 및 상기 은나노 와이어 박막 위에 PEDOT-PSS 박막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 은나노 와이어 박막을 형성하는 단계는 하기 화학식 1의 은나노 와이어및 물, 증점제, 계면활성제를 포함하는 은나노 와이어 잉크를 투명 필름의 어느 일면에 코팅하고, 100℃ 내지 160℃의 온도에서 5 ~ 40초간 가건조하는 것을 특징으로 한다.
화학식 1 [Ag4]
또한, 상기 은나노 와이어 박막을 형성하는 단계는 1회 이상 수행되는 것을 특징으로 하며,
나아가, 상기 PEDOT-PSS 박막을 형성하는 단계는 PEDOT와 PSS, 물 및 계면활성제를 포함하는 PEDOT 수분산액을 코팅하고 100℃ 내지 160℃의 온도에서 5 ~ 40초간 건조하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 PEDOT-PSS 박막을 형성하는 단계는 1회 이상 수행되는 것을 특징으로 한다.
상기 투명 도전성 필름의 제조방법은 은나노 와이어 박막 및 PEDOT-PSS 박막을 포함하는 도전성 박막을 형성하는 단계 이후 필름 건조 단계를 더 포함하는 것일 수 있으며, 또한, 상기 필름 건조 단계를 100℃ ~ 160℃에서 5초 ~ 40분간 수행하는 것일 수 있다.
본 발명에 의하여 투명 도전성 필름의 구조적인 변화없이도 경제적인 공정에 의하여 헤이즈 및 비저항 특성이 개선되면서도 유연성이 우수하고 저렴한 도전성 필름 및 이를 이용한 터치 패널 및 디스플레이를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 투명 도전성 기재의 구성을 설명하기 위한 도면이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다.
도 1은 본 발명의 투명 도전성 기재의 일례를 보여주는 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 투명 도전성 필름은 투명 필름(10)과, 상기 투명 필름상에 적층되는 도전성 박막(20, 30)을 포함한다.
이때 상기 도전성 박막은 은나노 와이어 박막(20) 및 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막(30)을 포함한다.
투명 필름(10)은 도전성 박막의 형성면과 기계적 강도를 제공하고, 도전성 박막 및 투명 박막을 지지하기 위한 것으로, 유리, 투명 고분자 필름과 같이 투명성을 갖는 기재이기만 하면되며, 그 소재나 재질이 특별히 제한되지는 않는다.
예를 들면, 본 발명의 투명 기재로는 폴리아크릴계, 폴리우레탄계, 폴리에스테르계, 폴리에폭시계, 폴리올레핀계, 폴리카보네이트계 및 셀룰로오스계 등으로 이루어진 군으로부터 선택된 플라스틱 필름 또는 유리 등이 사용될 수 있다.
상기 투명 필름의 두께는 기계적 강도 등을 고려할 때 20 ~ 1000㎛ 정도인 것이 바람직하다. 투명 필름의 두께가 20㎛ 미만이면 기계적 강도가 부족하고, 도전성 박막 형성 등의 공정 작업시 다루기 어려우며, 투명 필름의 두께가 1000㎛를 초과하면, 터치 패널 등에 적용되었을 때, 타점 특성 등이 나쁘고, 두께가 두꺼워져 투과율을 저하시키는 문제점이 있다.
한편, 본 발명에 따른 상기 도전성 박막은 은나노와이어 박막과 PEDOT-PSS박막을 포함하며, 바람직하게는 상기 투명필름의 어느 일면에 은나노와이어 박막을 형성하고, 상기 은나노 와이어 박막 상에 상기 PEDOT-PSS 박막을 형성하도록 한다.
상기 은나노 와이어 박막은 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위가 반복되어 포함되어 있는 것으로, 직경 약 10 ~ 50㎛, 길이 10 ~ 40㎛의 은나노 와이어(Ag Nanowire)를 포함하며, 하기 화학식 1의 구조단위가 반복되어 인접한 은 원자들이 공유 결합하여 와이어를 형성하는 것을 특징으로 한다.
화학식 1 [Ag4]
바람직하게는 증점제 또는 계면활성제와 같은 첨가제를 더 포함할 수 있다.
상기 은나노 와이어 박막은 은나노와이어 잉크를 도전성 필름상에 코팅하고 건조함으로써 형성된다.
상기 은나노 와이어 잉크는 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위가 반복되어 포함되는 것으로, 은나노 와이어 0.05 ~ 0.5 중량%, 증점제 0.5 ~ 1중량%, 계면활성제 0.0001 ~ 0.001중량% 및 물 98 ~ 99.5중량% 를 포함하는 것일 수 있다.
상기 은나노 와이어가 0.05 중량% 이하로 포함되는 경우, 박막의 도전성을 약화시키는 문제가 있으며, 0.5 중량%를 넘어서 포함되는 경우에는 (Haze 및 milkiness) 문제가 있기 때문이다.
상기 은나노 와이어 잉크는 당해 기술 분야에 잘 알려진 도전성 박막의 형성 방법, 예를 들면, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅, 스프레이 열분해법, 화학도금법, 전기 도금법, 웨트 코팅법, 바(bar) 코팅법 또는 이들의 조합을 사용하여 형성될 수 있다.
이 중에서도 특히, 상기 은나노 와이어의 형성속도나 생산성 등을 고려할 때, 바(Bar)코팅법을 사용하는 것이 바람직하다.
이때 상기 은나노 와이어 잉크의 코팅 두께는 건조 전 5 ~ 10㎛로 형성되도록 함이 바람직하다. 상기 코팅 두께가 5㎛ 미만의 두께로 형성되는 경우에는 은나노 와이어의 컨택이 잘 이루어지지 않아 전도성이 낮아지는 문제가 있으며, 10㎛ 코팅 두께 이상으로 형성되는 경우에는 은 나노와이어의 함량이 높아 Haze의 문제가 있기 때문이다.
이와 같은 방법은 투명 필름상에 코팅된 은나노 와이어 잉크는 건조단계를 거쳐 박막으로 형성된다.
이때 상기 건조단계는 100℃ 내지 160℃의 온도에서 5 ~ 40초간 가건조하는 하는 것이 바람직하다.
본 발명의 투명 도전성 필름은 상기 은나노 와이어 잉크를 코팅 및 건조 단계 1회 이상 수차례 진행함으로서 멀티층으로 형성된 은나노 와이어를 포함하는 것일 수도 있다.
한편, 본 발명은 상기와 같은 방법으로 형성된 은나노 와이어 박막 상에 PEDOT-PSS 박막층을 형성한다.
상기 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막은 전도성이 우수한 고분자인 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)과 PSS(polystyrenesulfonate)를 포함하는 수분산액을 코팅 및 건조함으로써 제조할 수 있다.
일반적으로 PEDOT는 거의 대부분의 용매에 녹지 않지만, 반대 이온으로써 PSS를 이용하면 물에 분산시킬 수 있다. PSS는 아주 좋은 산화제, 전하보상자, 그리고 폴리머화를 위한 판으로 작용한다. 이에 따라 상기 수분산액에는 PEDOT과 PSS가 70 : 30 ~ 30 : 70의 비율로 포함하는 것일 수 있으며, 바람직하게는 50 : 50 으로 포함함으로서 박막층의 전도성을 보다 개선시킬 수 있다.
한편 상기 수분산액은 상기와 같은 조성비로 이루어지는 PEDOT-PSS 고분자를 1 ~ 5 중량%로 포함하고, 계면활성제를 0.1 중량% 미만으로 포함하며, 물을 94 ~ 99 중량%로 포함하는 것일 전도성 및 비저항을 개선하는 측면에서 가장 바람직하다.
상기 PEDOT-PSS 고분자를 포함하는 수분산액은 당해 기술 분야에 잘 알려진 도전성 박막의 형성 방법, 예를 들면, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅, 스프레이 열분해법, 화학도금법, 전기 도금법, 웨트 코팅법, 바(bar) 코팅법 또는 이들의 조합을 사용하여 형성될 수 있다.
이 중에서도 특히, 상기 은나노 와이어의 형성속도나 생산성 등을 고려할 때, 바(Bar)코팅법을 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 PEDOT-PSS 고분자를 포함하는 수분산액의 코팅 두께는 건조 전 5 ~ 10 ㎛로 형성되도록 함이 바람직하다. 상기 코팅 두께가 5㎛ 미만의 두께로 형성되는 경우에는 전도성 및 구조 안정성의 문제가 있으며, 10㎛ 코팅 두께 이상으로 형성되는 경우에는 Haze 및 bluish한 문제가 있기 때문이다.
나아가 상기 PEDOT-PSS 고분자를 포함하는 수분산액 코팅층은 건조단계를 거쳐 박막으로 형성된다. 이때 상기 건조단계는 100℃ 내지 160℃의 온도에서 5 ~ 40초간 가 건조하는 하는 것이 바람직하다.
한편, 상기 PEDOT-PSS 고분자를 포함하는 수분산액은 은나노 와이어 박막 상에 코팅 및 건조 단계를 1회 이상 수회 진행하여 멀티층으로 형성됨으로써 광학 및 전기적 특성을 더욱 향상시킬 수 있다.
상기와 같이 은나노와이어 박막 위에 PEDOT-PSS 박막을 더 형성한 본 발명의 투명도전성 필름은 이후 필름 건조 단계를 거쳐, 박막의 기계적 물성을 더욱 강화할 수 있다.
이때, 상기 필름 건조 단계는 100도 ~ 160℃에서 5초 ~ 40분간 수행하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 120 ~ 140℃의 온도에서 20 ~ 30분간 건조를 진행하도록 한다.
상기와 같은 방법으로 제조된 본 발명의 투명 도전성 필름은 종래의 도전성 필름과 동등한 수준의 도전성, 헤이즈 및 비저항을 가지면서도 유연성, 색감, 투명도가 뛰어나며 종래 필름의 구조적 변화나 추가적인 공정의 필요없는 바, 더욱 저렴한 비용으로 제조할 수 있다.
한편, 상기와 같이 이루어진 투명 도전성 필름은 터치 패널, 특히 저항막 방식의 터치 패널의 상부 기판 및/또는 하부 기판으로 유용하다. 저항막 방식의 터치 패널은 한 쌍의 투명 도전성 필름이 스페이서를 개재하여 배향 배치되어 있으며, 손가락이나 펜 등으로 상부 패널을 가압하면, 상기 투명 도전성 필름이 굴곡되면서, 상부 기판과 하부 기판의 도전성 박막이 접촉되어 통전함으로써, 위치를 검지한다.
한편, 상기한 바와 같이, 본 발명의 투명 도전성 필름은 도전성과 투명성이 우수하기 때문에, 본 발명의 투명 도전성 기재를 터치 패널의 상부 기판 및 하부 기판으로 사용할 경우, 보다 우수한 투명성 및 유연성을 갖는 터치 패널을 구현할 수 있다.
한편, 상기와 같은 본 발명의 터치 패널은 LCD, PDP, LED, OLED 또는 E-Paper와 같은 디스플레이 장치에 장착되어 사용될 수 있다.
이하, 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다.
실시예 1
은나노 와이어 0.1 중량%, 물 99중량%, 증점제 0.5중량%, 계면활성제 0.0005중량%를 포함하는 은나노 와이어 잉크를 제조한 후, 두께 188㎛인 한성 산업사 PET 필름(제품명: HA450-188-0-188A-H)의 어느 한 면에 상기 은나노와이어 잉크를 바(bar) 코팅한 후, 드라이기를 이용하여 130℃에서 30초가 가건조하여 두께 약 7㎛의 은나노 와이어 박막을 형성하였다.
PEDOT-PSS(중량비 1:1)를 포함하는 고분자 2 중량%, 물 97중량%, 및 계면활성제 0.05중량%로 이루어진 수분산액을 제조한 후, 상기 은나노 와이어 박막 상에 바(bar) 코팅한 후, 드라이기를 이용하여 130℃에서 30초가 가건조하여 두께 약 7㎛의 PEDOT-PSS 박막을 형성하였다.
이후, 상기 도전성 박막이 형성된 필름을 오븐에 넣고 120℃에서 10분간 필름 건조 단계를 수행하여 투명 도전성 필름을 제조하였다.
실시예 2
필름 건조 단계를 140℃에서 30분간 수행한 것을 제외하고 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 투명 도전성 필름을 제조하였다.
비교예 1
상기 실시예 1의 은나노 와이어 박막 및 PEDOT-PSS 박막 대신 ITO 박막을 PET 필름상에 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 투명 도전성 필름을 제조하였다.
비교예 2
상기 실시예 1에서 PEDOT-PSS 박막을 형성하지 않은 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 투명 도전성 필름을 제조하였다.
상기 실시예 및 비교예에 의해 제조된 투명 도전성 필름들을 대상으로 아래와 같은 광학 및 전기적 특성을 평가하였으며, 그 결과를 표 1에 기재하였다.
실험예 1 - Haze 평가
Haze와 투과율(T) 및 b* 값 모두 Haze meter를 사용하여 측정하였다.
실험예 2 - 투과율(T) 평가
상기 실시예 1~2 및 비교예 1 ~2에서 준비된 투명 도전성 필름에 대해 US-Vis 스펙트로미터로 측정하였다. 결과는 하기 표 1에 나타내었다
실험예 3 - 색 좌표(b*) 평가
상기 실시예 1~2 및 비교예 1 ~2에서 준비된 투명 도전성 필름에 대해 CIE 색좌표 측정법과 D 75 소스를 사용하여 측정하였다. 결과는 하기 표 1에 나타내었다
실험예 4 - 면저항 (R) 평가
상기 실시예 1~2 및 비교예 1 ~2에서 준비된 투명 도전성 필름에 대해 4-프로브(Probe) 측정법(Loresta EP MCP-T360)으로 측정하였다. 측정 결과는 표 1에 나타내었다.
실시예 1 실시예 2 비교예 1 비교예 2
Haze(%) 0.54 0.48 0.64 0.81
T(%) 90.06 89.72 89.73 90.96
b* 0.65 0.61 1.02 0.73
R(kΩ/sq) 1.01 0.18 0.16 18.47
상기 [표 1]에서 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 투명 도전성 필름은 ITO를 이용한 필름(비교예1)에 비하여 헤이즈 및 투명성 등에서 보다 우수한 성능을 나타내고 있으며, 나아가 은나노와이어 박막만을 포함하는 필름(비교예 2)에 비해서는 헤이즈, 투과율에서 보다 우수하고, 특히 면저항에 있어서는 현저하게 개선된 결과가 나타나는바, 본 발명에 따른 투명 전도성 필름은 ITO를 대체하여 전기, 광학적 성질이 우수함은 물론 유연성 및 경제적 측면에서 유리한 투명 도전성 필름의 제공이 가능하게 된다.
이상, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의하여 해석되어야 하며 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
10 투명 필름
20 은나노와이어 박막
30 PEDOT-PSS 박막

Claims (21)

  1. 투명 필름;
    상기 투명 필름의 일면에서 형성되는 전도성 박막을 포함하며,
    상기 전도성 박막은 은나노 와이어 박막 및 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 은나노 와이어 박막은 상기 투명 필름의 일면에 형성되며, 상기 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막은 상기 은나노 와이어 박막 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 은나노 와이어 박막은 2 이상의 다층으로 구성되는 것을 특징으로 하는투명 도전성 필름.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막은 2 이상의 다층으로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 은나노 와이어 박막은 건조 건 5 ~ 10 ㎛의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막은 건조 전 5 ~ 10 ㎛의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막은 상기 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)와 PSS(polystyrenesulfonate)를 1:1로 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막은 계면활성제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 은나노 와이어 박막은 하기 화학식 1의 구조단위가 반복되어 이루어지고, 인접한 은 원자들이 공유 결합하여 와이어를 형성하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름:
    화학식 1 [Ag4]
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 은나노 와이어 박막은 증점제 및 계면 활성제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항의 투명 도전성 필름을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  12. 제 11 항의 터치 패널을 포함하는 디스플레이 장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 디스플레이 장치는 LCD, PDP, LED, OLED 또는 E-paper인 디스플레이 장치.
  14. 투명 필름의 어느 일면에 은나노 와이어 박막 및 PEDOT(poly-3,4-ethylene dioxythiophene)-PSS(polystyrenesulfonate) 박막을 포함하는 도전성 박막을 형성하는 단계를 포함하는 투명 도전성 필름의 제조방법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 도전성 박막을 형성하는 단계는 상기 투명 필름의 어느 일면에 은나노 와이어 박막을 형성하는 단계; 및 상기 은나노 와이어 박막 위에 PEDOT-PSS 박막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름의 제조방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 은나노 와이어 박막을 형성하는 단계는 하기 화학식 1의 은나노 와이어및 물, 증점제, 계면활성제를 포함하는 은나노 와이어 잉크를 투명 필름의 어느 일면에 코팅하고, 100℃ 내지 160℃의 온도에서 5 ~ 40초간 가건조하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름의 제조방법.
    화학식 1 [Ag4]
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 은나노 와이어 박막을 형성하는 단계는 1회 이상 수행되는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름의 제조방법.
  18. 제 15 항에 있어서,
    상기 PEDOT-PSS 박막을 형성하는 단계는 PEDOT와 PSS, 물 및 계면활성제를 포함하는 PEDOT 수분산액을 코팅하고 100℃ 내지 160℃의 온도에서 5 ~ 40초간 건조하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름의 제조방법.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 PEDOT-PSS 박막을 형성하는 단계는 1회 이상 수행되는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름의 제조방법.
  20. 제 14 항에 있어서,
    상기 투명 도전성 필름의 제조방법은 은나노 와이어 박막 및 PEDOT-PSS 박막을 포함하는 도전성 박막을 형성하는 단계 이후 필름 건조 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름의 제조방법.
  21. 제 19 항에 있어서,
    상기 필름 건조 단계를 100℃ ~ 160℃에서 5초 ~ 40분간 수행하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름의 제조방법.
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