KR20120136029A - 양면 스퍼터링 진공 증착 장치 및 방법 - Google Patents

양면 스퍼터링 진공 증착 장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 유연 기판 필름을 공급하는 언와인딩롤; 상기 유연 기판 필름의 일면에 ITO를 증착하는 제 1 스퍼터 캐소드; 상기 ITO가 증착된 상기 유연 기판 필름을 안내하면서 냉각하는 제 1 냉각드럼; 상기 제 1 냉각드럼으로부터 안내되는 상기 유연 기판 필름의 방향을 전환하는 제 1 방향 전환롤; 상기 제 1 방향 전환롤에 의해 방향이 전환된 상기 유연 기판 필름에서 상기 ITO가 증착된 일면을 결정화 처리하는 제 1 가열수단; 상기 제 1 가열 수단에 의해서 결정화 처리된 유연 기판 필름의 방향을 전환하는 제 2 방향 전환롤; 상기 제 2 방향 전환롤에 의해 방향이 전환된 상기 플라스틱 필름의 타면에 ITO를 증착시키는 하나 이상의 제 2 스퍼터 캐소드; 상기 플라스틱 필름을 안내하면서 ITO가 증착된 상기 플라스틱 필름의 타면을 냉각하는 제 2 냉각드럼; 상기 제 2 냉각드럼에 의해 안내된 상기 유연 기판 필름의 타면을 결정화 처리하는 제 2 가열 수단; 및 양면에 ITO가 증착된 상기 유연 기판 필름을 감기 위한 와인딩롤;을 포함하는 것을 특징으로 하는 양면 스퍼터링 진공 증착 장치에 관한 것이다.

Description

양면 스퍼터링 진공 증착 장치 및 방법{AN APPARATUS AND METHOD FOR BOTH SIDES SPUTERING VACUUM DEPOSITION}
본 발명은 유연 기판을 연속으로 양면 스퍼터링 진공 증착을 하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 특히 롤 투 롤 코팅 장치를 이용하여 유연 기판 필름을 진공 중에 이동시키면서 유연 기판 필름의 방향을 전환시키는 방향전환롤을 구비하여 연속으로 유연 기판 필름의 양쪽 면에 코팅막을 형성하는 양면 스퍼터링 진공 증착 장치 및 방법에 관한 것이다.
종래에는 유연 기판 필름의 양면을 증착하는 장치는 습식 및 인쇄를 이용하는 경우이고, 진공 증착 설비 중에는 비연속적인 방법에 의해서 양면 증착을 수행하고 있다.
최근 터치 패널의 발달에 의해 정전 용량 및 셀 형태의 터치를 구현하는 기술이 개발되고 있다. 이를 위해서 투명한 ITO(Indium Tin Oxide) 전극층이 이중층으로 필요하다.
유연 기판 필름에 투명 전극을 형성하기 위해서, 유연 기판 필름 상에 ITO를 스퍼터링 방식으로 수백 나노미터(nm) 정도의 두께로 증착한다. 그러나 PET(Polyethylene terephtalate)와 같은 플라스틱 필름의 유리 천이 온도가 80℃ 정도이고, 최고 사용 온도가 160℃ 정도로 낮기 때문에 투명 전극의 제작 공정 중에 받는 열에 의해 시간이 지남에 따라 증착된 ITO 박막의 전기적, 기계적 특성이 변하기 쉬운 문제점이 있다.
따라서, 비진공 상태가 아닌 채로 연속 공정에 의해서 ITO 코팅막을 형성하는 장치에 대한 필요성이 증대되고 있는 실정이다.
본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 유연 기판 필름의 양쪽면에 비진공 상태 없이 연속 공정에 의해서 ITO 코팅막을 형성함으로써, 유연 기판 필름의 열적 변형을 최소화하면서 증착할 수 있는 양면 스퍼터링 진공 증착 장치 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 따른 양면 스퍼터링 진공 증착 장치는, 유연 기판 필름을 공급하는 언와인딩롤; 상기 유연 기판 필름의 일면에 ITO를 증착하는 제 1 스퍼터 캐소드; 상기 ITO가 증착된 상기 유연 기판 필름을 안내하면서 냉각하는 제 1 냉각드럼; 상기 제 1 냉각드럼으로부터 안내되는 상기 유연 기판 필름의 방향을 전환하는 제 1 방향 전환롤; 상기 제 1 방향 전환롤에 의해 방향이 전환된 상기 유연 기판 필름에서 상기 ITO가 증착된 일면을 결정화 처리하는 제 1 가열수단; 상기 제 1 가열 수단에 의해서 결정화 처리된 유연 기판 필름의 방향을 전환하는 제 2 방향 전환롤; 상기 제 2 방향 전환롤에 의해 방향이 전환된 상기 플라스틱 필름의 타면에 ITO를 증착시키는 하나 이상의 제 2 스퍼터 캐소드; 상기 플라스틱 필름을 안내하면서 ITO가 증착된 상기 플라스틱 필름의 타면을 냉각하는 제 2 냉각드럼; 상기 제 2 냉각드럼에 의해 안내된 상기 유연 기판 필름의 타면을 결정화 처리하는 제 2 가열 수단; 및 양면에 ITO가 증착된 상기 유연 기판 필름을 감기 위한 와인딩롤;을 포함한다.
본 발명에 따른 양면 스퍼터링 진공 증착 장치는, 상기 양면 스퍼터링 진공 증착 장치가, 진공 챔버 내에서 포함되고, 상기 제 1 방향 전환롤과 상기 제 2 방향 전환롤 사이의 상기 진공 챔버에 진공 격벽을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 양면 스퍼터링 진공 증착 장치는, 상기 유연 기판 필름은 상기 제 1 방향 전환롤에서부터 상기 제 2 방향 전환롤까지 상기 진공 격벽을 통과하여 이동할 수 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 양면 스퍼터링 진공 증착 장치는, 상기 유연 기판 필름이, PI, PET, PP, PES, OPP 중 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 양면 스퍼터링 진공 증착 장치는, 상기 제 1 가열수단 또는 상기 제 2 가열수단이 적외선 히터를 사용하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 양면 스퍼터링 진공 증착 방법은, 언와인딩롤이 유연 기판 필름을 공급하는 단계(S10); 제 1 스퍼터 캐소드가 상기 유연 기판 필름의 일면에 ITO를 증착하는 단계(S20); 제 1 냉각드럼이 상기 ITO가 증착된 상기 유연 기판 필름을 안내하면서 냉각하는 단계(S30); 제 1 방향 전환롤이 상기 제 1 냉각드럼으로부터 안내되는 상기 유연 기판 필름의 방향을 전환하는 단계(S40); 제 1 가열수단이 상기 제 1 방향 전환롤에 의해 방향이 전환된 상기 유연 기판 필름에서 상기 ITO가 증착된 일면을 결정화 처리하는 단계(S50); 제 2 방향 전환롤이 상기 제 1 가열 수단에 의해서 결정화 처리된 유연 기판 필름의 방향을 전환하는 단계(S60); 제 2 스퍼터 캐소드가 상기 제 2 방향 전환롤에 의해 방향이 전환된 상기 유연 기판 필름의 타면에 ITO를 증착하는 단계(S70); 제 2 냉각드럼이 상기 유연 기판 필름을 안내하면서 ITO가 증착된 상기 유연 기판 필름의 타면을 냉각하는 단계(S80); 제 2 가열 수단이 상기 제 2 냉각드럼에 의해 안내된 상기 유연 기판 필름의 타면을 결정화 처리하는 단계(S90); 및 와인딩롤이 양면에 ITO가 증착된 상기 유연 기판 필름을 감는 단계(S100); 을 포함한다.
본 발명에 따른 양면 스퍼터링 진공 증착 장치는 유연 기판 필름의 양쪽면에 비진공 상태 없이 연속 공정에 의해서 ITO 코팅막을 형성함으로써 유연 기판 필름의 열적 변형을 최소화하면서 ITO 코팅막을 증착할 수 있는 효과를 제공한다.
도 1은 본 발명에 따른 양면 유연 기판 증착 장치의 구성도를 나타내는 도면이며,
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 양면 유연 기판 증착 방법의 흐름도를 나타내는 도면이다.
본 발명은 첨부된 도면을 참고하여 이하에서 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 양면 유연 기판 증착 장치의 구성도를 나타내는 도면이다. 도 1을 참고하여 보다 구체적으로 양면 유연 기판 증착 장치를 살펴보면 다음과 같다. 양면 유연 기판 증착 장치는 언와이딩롤(10), 제 1 스퍼터 캐소드(11), 제 1 냉각드럼(12), 제 1 방향 전환롤(13), 제 1 가열수단(14), 제 2 방향 전환롤(15), 제 2 스퍼터 캐소드(16), 제 2 냉각드럼(17) , 제 2 가열수단(18) 및 와인딩롤(19)을 포함할 수 있다.
언와인딩롤(10)은 유연 기판 필름을 감고 있고, 유연 기판 필름을 공급하는 역할을 수행한다. 이대 유연 기판 필름은 PI, PET, PP, PES, OPP 중 어느 하나 또는 이들의 조합으로 구성될 수 있다.
본 발명에서는 유연 기판 필름을 플라스마를 이용하여 전처리한다. 전처리과정은 플라즈마 처리기(미도시)를 통하여 유연 기판 필름의 표면을 개질하는 과정으로서 이는 유연 기판 필름 표면에 박막을 증착하기 위한 부착력 향상 및 강도를 향상시키는 전처리 과정이다.
제 1 스퍼터 캐소드(11)는 스퍼터링 방식으로 유연 기판 필름에 ITO 박막을 증착하는 기능을 수행한다.
제 1 스퍼터 캐소드(11)는 극히 얇은 알루미늄 산화막의 박막을 코팅한다. 굴절율이 1.7 정도로 기판과 유사하고, Al+3 이온이 ITO의 캐리어로 작용하는 산소 정공의 이동도를 증가시켜 전극 특성을 향상한다. 그리고 산화막 위에 ITO 박막을 형성하는 데, ITO 성막시에는 증착되는 필름 표면의 온도를 120℃로 유지하는 동시에 120℃정도로 가열된 Ar 가스와 산소를 일정량 주입시켜 플라스마 내의 ITO 성분과 산소와의 반응 속도를 증가시킨다.
제 1 냉각 드럼(12)은 유연 기판 필름의 일면에 ITO 적층이 마무리되면 이를 냉가시키면서 안내하는 역할을 수행한다.
제 1 방향 전환롤(13)은 제 1 냉각 드럼(12)으로부터 안내된 일면에 ITO 적층이 된 유연 기판 필름의 방향을 전환시키는 역할을 수행한다. 즉, 제 1 방향 전환롤(13)의 회전 방향의 바깥쪽에는 ITO 적층면이 위치하고, 안쪽면에는 ITO가 적층되지 않은 면이 위치하도록 하면서 유연 기판 필름의 진행 방향을 바람직하게는 90°전환시킨다.
제 1 가열수단(14)은 제 1 방향 전환롤(13)에 의해서 방향이 전환된 ITO 적층된 유연 기판 필름의 일면에 위치하고, ITO 및 TCO(IZO, AZO, GZO, IGZO) 코팅막의 내구성 및 결정성을 증가시키기 위해서 적외선 히터(IR heater)를 이용하여 열처리하는 기능을 한다.
제 2 방향 전환롤(15)은 제 1 가열수단(14)에 의해서 일면이 열처리된 유연 기판 필름의 방향을 전환시키는 역할을 수행한다. 즉, 제 2 방향 전환롤(15)의 회전 방향의 바깥쪽에는 ITO가 적층되고 열처리된 일면이 위치하고, 안쪽면에는 ITO가 적층되지 않은 면이 위치하도록 하면서 유연 기판 필름의 진행 방향을 바람직하게는 90°전환시킨다.
제 2 스퍼터 캐소드(16)는 스퍼터링 방식으로 유연 기판 필름에 ITO 박막을 증착하는 기능을 수행한다. 즉, ITO가 증착되지 않은 타면에 스퍼터링 방식으로 ITO 박막을 증착한다.
제 2 냉각 드럼(17)은 유연 기판 필름의 타면에 ITO 적층이 마무리되면 이를 냉가시키면서 다음 단계로 안내하는 역할을 수행한다.
제 2 가열수단(18)은 제 2 냉각 드럼(17)에 의해서 안내된 양면이 ITO 증착된 유연 기판 필름을 공급 받아서, 열처리되지 않은 타면의 ITO 및 TCO(IZO, AZO, GZO, IGZO) 코팅막의 내구성 및 결정성을 증가시키기 위해서 적외선 히터(IR heater)를 이용하여 열처리하는 기능을 한다.
와인딩롤(19)은 양면이 ITO 코팅이 된 유연 기판 필름을 감는 기능을 수행한다.
진공 챔버(20)는 상기 장비들이 내부에 설치되고 ITO막 형성을 위한 분위기를 조성하여 스퍼터링 방법을 이용하여 ITO 막을 유연 기판 필름 표면에 증착시키고 진공펌프(미도시)를 이용하여 배기시킬 수 있도록 기능을 한다.
진공 격벽(21)은 제 1 방향 전환롤(13)과 제 2 방향 전환롤(15) 사이에 위치하고, 진공 챔버(20) 내에서 제 1 냉각 드럼(12)과 제 2 냉각 드럼(15)을 공간적으로 분리하는 역할을 수행한다. 이는 유연 기판 필름의 일면에 ITO를 증착하는 과정에서 다른 타면에 ITO가 코팅되는 것을 방지하는 역할을 수행한다.
바람직하게는 진공 격벽(21)은 제 1 방향 전환롤(13)에서부터 제 2 방향 전환롤(15) 사이에서 유연 기판 필름이 통과할 수 있도록 구성될 수 있다.
이렇게 본 발명에 따른 연속적인 양면 스퍼터링 진공 증착 장치는 제 1 및 제 2 방향 전환롤(13 및 15)을 이용하여 유연 기판 필름의 양면에 대해서 ITO 성막을 할 수 있도록 방향을 전환할 수 있다.
또한, 냉각 드럼을 2개로 구성함으로써 한쪽 면의 ITO 증착이 마무리 되면 이를 냉각시키도록 함으로써 연속 공정의 일괄 증착이 이루어질 수 있다.
유연 기판 필름에 ITO 증착이 마무리되어서 각면의 코팅이 완료된 후에 가열수단을 통해서 결정화 처리를 함으로써 내구성 및 결정성을 증가시킬 수 있다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 양면 유연 기판 증착 방법의 흐름도를 나타내는 도면이다.
도 2를 참고하여 보다 구체적으로 양면 유연 기판 증착 방법을 살펴보면 다음과 같다. 양면 유연 기판 증착 방법은 유연 기판 필름을 공급하는 단계(S10), ITO를 증착하는 단계(S20), 냉각하는 단계(S30), 유연 기판 필름의 방향을 전환하는 단계(S40), 일면을 결정화 처리하는 단계(S50), 방향을 전환하는 단계(S60), ITO를 증착하는 단계(S70), 타면을 냉각하는 단계(S80), 타면을 결정화 처리하는 단계(S90) 및 유연 기판 필름을 감는 단계(S100)을 포함한다.
유연 기판 필름 공급하는 단계(S10)는 언와인딩롤(10)에 의해서 감겨진 유연 기판 필름이 장치로 공급된다.
ITO를 증착하는 단계(S200)는 제 1 스퍼터 캐소드(11)에 의해서 유연 기판 필름의 일면에 ITO를 증착한다.
냉각하는 단계(S30)는 제 1 냉각드럼(12)이 상기 ITO가 증착된 상기 유연 기판 필름을 안내하면서 유연 기판 필름을 냉각한다.
유연 기판 필름의 방향을 전환하는 단계(S40)는 제 1 방향 전환롤(13)이 제 1 냉각드럼(12)으로부터 안내되는 상기 유연 기판 필름의 방향을 바람직하게는 90°전환시킨다. 이렇게 방향을 전환하여 ITO가 코팅된 면이 제 1 방형 전환롤(13)의 회전 방향의 바깥쪽에 위치하게 된다.
일면을 결정화 처리하는 단계(S50)는 제 1 가열수단(14)이 상기 제 1 방향 전환롤(13)에 의해 방향이 전환된 유연 기판 필름에서 ITO가 증착된 일면을 가열함으로써 결정화 처리를 한다. 이러한 결정화 처리를 통해서 코팅막의 내구성 및 결정성을 증가시키게 된다.
유연 기판 필름의 방향을 전환하는 단계(S60)는 제 2 방향 전환롤(15)이 제 1 가열 수단(14)에 의해서 결정화 처리된 유연 기판 필름의 방향을 전환시킨다. 즉, 유연 기판 필름에서 ITO가 증착되고 결정화처리가 된 일면은 제 2 방향 전환롤(15)의 회전 방향의 바깥쪽에 위치하게 된다.
ITO를 증착하는 단계(S70)는 제 2 스퍼터 캐소드(16)가 상기 제 2 방향 전환롤(15)에 의해 방향이 전환된 상기 유연 기판 필름의 타면에 ITO를 증착한다.
타면을 냉각하는 단계(S80)는 제 2 냉각드럼(17)이 상기 유연 기판 필름을 안내하면서 ITO가 증착된 상기 유연 기판 필름의 타면을 냉각한다.
타면을 결정화 처리하는 단계(S90)는 제 2 가열 수단(18)이 제 2 냉각드럼(17)에 의해 안내된 유연 기판 필름의 타면을 결정화 처리한다. 이러한 결정화 처리를 통해서 증착된 ITO 및TCO 코팅막의 내구성 및 결정성이 증가하게 된다.
유연 기판 필름을 감는 단계(S100)는 와인딩롤(19)이 양면에 ITO 증착이 완료된 유연 기판 필름을 감는다.
1 : 유연 기판 필름 10 : 언와인딩롤
11 : 제 1 스퍼터 캐소드 12 : 제 1 냉각 드럼
13 : 제 1 방향 전환롤 14 : 제 1 가열수단
15 : 제 2 방향 전환롤 16 : 제 2 스퍼터 캐소드
17 : 제 2 냉각 드럼 18 : 제 2 가열수단
19 : 와인딩롤 20 : 진공 챔버
21 : 진공 격벽

Claims (6)

  1. 유연 기판 필름을 공급하는 언와인딩롤;
    상기 유연 기판 필름의 일면에 ITO를 증착하는 제 1 스퍼터 캐소드;
    상기 ITO가 증착된 상기 유연 기판 필름을 안내하면서 냉각하는 제 1 냉각드럼;
    상기 제 1 냉각드럼으로부터 안내되는 상기 유연 기판 필름의 방향을 전환하는 제 1 방향 전환롤;
    상기 제 1 방향 전환롤에 의해 방향이 전환된 상기 유연 기판 필름에서 상기 ITO가 증착된 일면을 결정화 처리하는 제 1 가열수단;
    상기 제 1 가열 수단에 의해서 결정화 처리된 유연 기판 필름의 방향을 전환하는 제 2 방향 전환롤;
    상기 제 2 방향 전환롤에 의해 방향이 전환된 상기 플라스틱 필름의 타면에 ITO를 증착시키는 하나 이상의 제 2 스퍼터 캐소드;
    상기 플라스틱 필름을 안내하면서 ITO가 증착된 상기 플라스틱 필름의 타면을 냉각하는 제 2 냉각드럼;
    상기 제 2 냉각드럼에 의해 안내된 상기 유연 기판 필름의 타면을 결정화 처리하는 제 2 가열 수단; 및
    양면에 ITO가 증착된 상기 유연 기판 필름을 감기 위한 와인딩롤;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 양면 스퍼터링 진공 증착 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 양면 스퍼터링 진공 증착 장치는, 진공 챔버 내에서 포함되고,
    상기 제 1 방향 전환롤과 상기 제 2 방향 전환롤 사이의 상기 진공 챔버에 진공 격벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 양면 스퍼터링 진공 증착 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 유연 기판 필름은 상기 제 1 방향 전환롤에서부터 상기 제 2 방향 전환롤까지 상기 진공 격벽을 통과하여 이동할 수 있는 것을 특징으로 하는 양면 스퍼터링 진공 증착 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 유연 기판 필름은, PI, PET, PP, PES, OPP 중 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 양면 스퍼터링 진공 증착 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 가열수단 또는 상기 제 2 가열수단은 적외선 히터를 사용하는 것을 특징으로 하는 앙면 스퍼터링 진공 증착 장치.
  6. 언와인딩롤이 유연 기판 필름을 공급하는 단계(S10);
    제 1 스퍼터 캐소드가 상기 유연 기판 필름의 일면에 ITO를 증착하는 단계(S20);
    제 1 냉각드럼이 상기 ITO가 증착된 상기 유연 기판 필름을 안내하면서 냉각하는 단계(S30);
    제 1 방향 전환롤이 상기 제 1 냉각드럼으로부터 안내되는 상기 유연 기판 필름의 방향을 전환하는 단계(S40);
    제 1 가열수단이 상기 제 1 방향 전환롤에 의해 방향이 전환된 상기 유연 기판 필름에서 상기 ITO가 증착된 일면을 결정화 처리하는 단계(S50);
    제 2 방향 전환롤이 상기 제 1 가열 수단에 의해서 결정화 처리된 유연 기판 필름의 방향을 전환하는 단계(S60);
    제 2 스퍼터 캐소드가 상기 제 2 방향 전환롤에 의해 방향이 전환된 상기 유연 기판 필름의 타면에 ITO를 증착하는 단계(S70);
    제 2 냉각드럼이 상기 유연 기판 필름을 안내하면서 ITO가 증착된 상기 유연 기판 필름의 타면을 냉각하는 단계(S80);
    제 2 가열 수단이 상기 제 2 냉각드럼에 의해 안내된 상기 유연 기판 필름의 타면을 결정화 처리하는 단계(S90); 및
    와인딩롤이 양면에 ITO가 증착된 상기 유연 기판 필름을 감는 단계(S100);
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 양면 스퍼터링 진공 증착 방법.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101697604B1 (ko) * 2015-11-19 2017-02-02 주식회사 석원 코팅면 비접촉 유연기판 증착 코팅 장치 및 코팅면 비접촉 유연기판 증착 코팅 방법
CN110004423A (zh) * 2019-05-14 2019-07-12 南京汇金锦元光电材料有限公司 Cigs制备用强化隔离膜及制备方法
KR20190132056A (ko) * 2018-05-18 2019-11-27 (주)이노시아 스퍼터링 장치 및 스퍼터링 방법
CN112011779A (zh) * 2019-05-30 2020-12-01 兰州空间技术物理研究所 一种真空磁控溅射卷绕镀制低残余应力厚铜膜的方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180072531A (ko) 2016-12-20 2018-06-29 주식회사 석원 롤투롤 증착 시스템 및 이를 이용한 고밀도의 유무기 하이브리드 박막 증착 방법
KR102274884B1 (ko) * 2019-02-18 2021-07-08 주식회사 테토스 롤투롤 스퍼터링 장치

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4568994B2 (ja) * 2000-12-04 2010-10-27 東洋紡績株式会社 ロールコーター式連続スパッタリング装置
JP2004011023A (ja) * 2002-06-05 2004-01-15 Res Inst Electric Magnetic Alloys 磁性薄膜フィルムの連続製造方法および装置
KR100701641B1 (ko) * 2004-08-02 2007-03-30 도레이새한 주식회사 진공증착에 의해 구리도금층을 형성하는 연성회로기판용 적층구조체의 제조방법 및 그 장치
KR20090034193A (ko) * 2007-10-02 2009-04-07 주식회사 쏠리스 진공 롤투롤 증착장치 및 그 증착방법

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101697604B1 (ko) * 2015-11-19 2017-02-02 주식회사 석원 코팅면 비접촉 유연기판 증착 코팅 장치 및 코팅면 비접촉 유연기판 증착 코팅 방법
KR20190132056A (ko) * 2018-05-18 2019-11-27 (주)이노시아 스퍼터링 장치 및 스퍼터링 방법
CN110004423A (zh) * 2019-05-14 2019-07-12 南京汇金锦元光电材料有限公司 Cigs制备用强化隔离膜及制备方法
CN112011779A (zh) * 2019-05-30 2020-12-01 兰州空间技术物理研究所 一种真空磁控溅射卷绕镀制低残余应力厚铜膜的方法
CN112011779B (zh) * 2019-05-30 2022-09-23 兰州空间技术物理研究所 一种真空磁控溅射卷绕镀制低残余应力厚铜膜的方法

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