JP4396578B2 - 巻取式複合真空表面処理装置及びフィルムの表面処理方法 - Google Patents
巻取式複合真空表面処理装置及びフィルムの表面処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4396578B2 JP4396578B2 JP2005153646A JP2005153646A JP4396578B2 JP 4396578 B2 JP4396578 B2 JP 4396578B2 JP 2005153646 A JP2005153646 A JP 2005153646A JP 2005153646 A JP2005153646 A JP 2005153646A JP 4396578 B2 JP4396578 B2 JP 4396578B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- surface treatment
- vacuum
- roll
- processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
真空容器周壁にキャンロールに対向して固定された複数の表面処理手段と、真空容器周壁とキャンロールの間をほぼ遮蔽するように真空容器底板に固定され、表面処理手段が配置された処理ゾーンを一対のフィルム巻取巻出ロールから分離する一対の第1遮蔽板と、真空容器周壁に固定されてキャンロール近くまで延長し、処理ゾーン内を少なくとも2つの表面処理手段を含む複数の処理室に区画する複数の第2遮蔽板と、各処理室ごとにキャンロール前の真空容器底板に固定され、各処理室内において1つの表面処理手段に対向するフィルム処理位置以外を覆うマスク板とを備えると共に、
真空容器周壁が真空状態を保持したまま回動可能であって、真空容器周壁を回動させることにより各処理室内のフィルム処理位置に対向する表面処理手段を変えることができることを特徴とするものである。
図3〜4の巻取式複合真空表面処理装置において、内部に加熱冷却手段を備えたキャンロール13に対向されている各処理室A、B、Cごとに、処理室Aにはスパッタリング手段16aとヒータ手段14を、処理室Bにはスパッタリング手段16bとプラズマ発生手段15aを、処理室Cにはスパッタリング手段16cとプラズマ発生手段15cを、それぞれ取り付けた。また、スパッタリング手段16aと16bには共にCuのスパッタリングターゲットを、スパッタリング手段16cにはCrのスパッタリングターゲットを装着した。
図5〜6の巻取式複合真空表面処理装置において、内部に加熱冷却手段を備えたキャンロール13に対向されている各処理室A、B、Cごとに、処理室用真空ポンプ23aを備えた処理室Aにはスパッタリング手段16aとヒータ手段14を、処理室用真空ポンプ23bを備えた処理室Bにはスパッタリング手段16bとプラズマ発生手段15aを、処理室用真空ポンプ23cを備えた処理室Cにはスパッタリング手段16cとプラズマ発生手段15cを、それぞれ取り付けた。また、スパッタリング手段16aと16bには共にCuのスパッタリングターゲットを、スパッタリング手段16cにはCrのスパッタリングターゲットを装着した。
途中で真空状態を破らなければ複数の表面処理を行うことができない従来一般の巻取式真空表面処理装置での処理例として、上記実施例1と同じ構造を有する図3〜4の表面処理装置を用いて、下記のごとく表面処理を実施した。
3 薄膜形成部
7、7a、7b 成膜ドラム
8 カソード組立体
10 フィルム
11、21 真空容器
11a、21a 真空容器底板
11b、21b 真空容器周壁
12a、12b 巻取巻出ロール
13 キャンロール
14 ヒータ手段
15a、15b プラズマ発生手段
16a、16b、16c スパッタリング手段
17 第1遮蔽板
18、22 第2遮蔽板
19 マスク板
23a、23b、23c 処理室用真空ポンプ
Claims (5)
- 真空容器全体を真空引きする真空ポンプを備えた略円筒状の真空容器内に、一対のフィルム巻取巻出ロールと、真空容器と軸中心をほぼ一致させた回転可能なフィルム搬送用のキャンロールとを備え、キャンロールの回転に合わせフィルム巻取巻出ロール間で巻き出し又は巻き取られてキャンロールに沿って移動するフィルムに表面処理を施す表面処理装置であって、
真空容器周壁にキャンロールに対向して固定された複数の表面処理手段と、真空容器周壁とキャンロールの間をほぼ遮蔽するように真空容器底板に固定され、表面処理手段が配置された処理ゾーンを一対のフィルム巻取巻出ロールから分離する一対の第1遮蔽板と、真空容器周壁に固定されてキャンロール近くまで延長し、処理ゾーン内を少なくとも2つの表面処理手段を含む複数の処理室に区画する複数の第2遮蔽板と、各処理室ごとにキャンロール前の真空容器底板に固定され、各処理室内において1つの表面処理手段に対向するフィルム処理位置以外を覆うマスク板とを備えると共に、
真空容器周壁が真空状態を保持したまま回動可能であって、真空容器周壁を回動させることにより各処理室内のフィルム処理位置に対向する表面処理手段を変えることができる巻取式複合真空表面処理装置。 - 前記複数の第2遮蔽板によって各処理室がほぼ気密状態に遮蔽されると共に、各処理室は真空容器周壁にそれぞれ設置された処理室用真空ポンプを有し、各々の処理室において互いに異なる圧力やガス種の表面処理を行うことができることを特徴とする、請求項1に記載の巻取式複合真空表面処理装置。
- 前記表面処理手段が、フィルム乾燥用のヒータ手段、フィルム前処理用のプラズマ発生手段、薄膜形成用のスパッタリング手段のいずれかであることを特徴とする、請求項1又は2に記載の巻取式複合真空表面処理装置。
- 前記キャンロールは内部に加熱冷却手段を備えていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の巻取式複合真空表面処理装置。
- 請求項1〜3に記載のいずれかの巻取式複合真空表面処理装置を用いて、フィルムをキャンロールに沿って一方向に移動させながら、各処理室内でフィルム処理位置に対向する1つの表面処理手段によりフィルムの表面処理を行うと共に、その表面処理の終了後に真空容器周壁を回動させることによって各処理室内のフィルム処理位置に対向する表面処理手段を変え、再びフィルムをキャンロールに沿って移動させながら、各処理室内のフィルム処理位置で対向する表面処理手段によりフィルムの表面処理を行うことを特徴とするフィルムの表面処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005153646A JP4396578B2 (ja) | 2005-05-26 | 2005-05-26 | 巻取式複合真空表面処理装置及びフィルムの表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005153646A JP4396578B2 (ja) | 2005-05-26 | 2005-05-26 | 巻取式複合真空表面処理装置及びフィルムの表面処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006328478A JP2006328478A (ja) | 2006-12-07 |
JP4396578B2 true JP4396578B2 (ja) | 2010-01-13 |
Family
ID=37550476
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005153646A Expired - Fee Related JP4396578B2 (ja) | 2005-05-26 | 2005-05-26 | 巻取式複合真空表面処理装置及びフィルムの表面処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4396578B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102104388B1 (ko) * | 2017-09-26 | 2020-04-24 | 주식회사 에프이엠 | 스마트폰 커버유리 보호용 색상필름 제조방법 및 이로부터 제조된 색상필름 |
JP6595658B1 (ja) * | 2018-05-09 | 2019-10-23 | キヤノントッキ株式会社 | 電子部品の製造方法 |
-
2005
- 2005-05-26 JP JP2005153646A patent/JP4396578B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006328478A (ja) | 2006-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6724967B2 (ja) | プラズマを使った前処理装置を有した蒸着装置 | |
US4204942A (en) | Apparatus for multilayer thin film deposition | |
JP4725253B2 (ja) | 巻取式複合真空表面処理装置及びフィルムの表面処理方法 | |
EP2290127B1 (en) | Film deposition device | |
EP2753960B1 (en) | Method and system for manufacturing a transparent body for use in a touch panel | |
US4298444A (en) | Method for multilayer thin film deposition | |
US20110052891A1 (en) | Gas barrier film and method of producing the same | |
JP6028711B2 (ja) | 両面成膜方法と金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法 | |
JP2008007790A (ja) | 巻取式複合真空表面処理装置及びフィルムの表面処理方法 | |
JP4924939B2 (ja) | 巻取式複合真空表面処理装置及びフィルムの表面処理方法 | |
JP5892056B2 (ja) | 長尺樹脂フィルムの冷却装置と冷却方法および長尺樹脂フィルムの表面処理装置 | |
JP2007182601A (ja) | 巻取式複合真空表面処理装置及びフィルムの表面処理方法 | |
TWI728283B (zh) | 沉積設備、塗佈軟質基材的方法、及具有塗層的軟質基材 | |
JP4396578B2 (ja) | 巻取式複合真空表面処理装置及びフィルムの表面処理方法 | |
JP2001073133A (ja) | 真空薄膜形成装置および真空薄膜形成方法 | |
JP2006328479A (ja) | 巻取式複合真空表面処理装置及びフィルムの表面処理方法 | |
Ludwig et al. | Vacuum web coating-state of the art and potential for electronics | |
JP2017066429A (ja) | スパッタリング装置および薄膜の製造方法 | |
WO2019154490A1 (en) | Deposition apparatus, method of coating a flexible substrate and flexible substrate having a coating | |
CN111593309A (zh) | 溅射成膜装置及其溅射成膜方法、化合物薄膜 | |
TWI713937B (zh) | 用以塗佈撓性基板的沉積設備、塗佈撓性基板之方法及具有塗佈之撓性基板 | |
WO2016152488A1 (ja) | ガスバリアーフィルム | |
KR100920901B1 (ko) | 다층박막 제조장치 및 이를 이용한 다층박막 제조방법 | |
KR20020008352A (ko) | 박막형 전계 발광 표시소자 | |
KR20200138000A (ko) | 진공 성막 장치와 진공 성막 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070808 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090918 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090929 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091012 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131030 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |