KR20120041758A - 금속의 비피복 부식 방지 및 부식 방지용 수성 실란 시스템 - Google Patents

금속의 비피복 부식 방지 및 부식 방지용 수성 실란 시스템 Download PDF

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Abstract

본 발명은 수성 조성물, 이의 용도 및 상기 수성 조성물을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 간략히 말해서, 특수한 실란계 모 용액을 필요에 따라 물 및/또는 수성 산을 첨가함으로써 2 내지 <7의 pH 값으로 조정한 후에, 알루미늄, 아연, 산화 상태가 2+ 또는 5+인 바나듐, 산화 상태가 6+인 몰리브데넘, 산화 상태가 6+인 텅스텐, 산화 상태가 2+인 망가니즈, 산화 상태가 3+인 크로뮴, 산화 상태가 2+인 구리, 및 산화 상태가 3+ 또는 4+인 세륨으로 이루어진 군으로부터의 1종 이상의 수용성 금속 염을 첨가하고/하거나, 1종 이상의 상기 금속 염의 수용액을 첨가한다. 본 발명에 의한 조성물은 특히 금속 상의 부식 방지 코팅이며 휘발성 유기 화합물(VOC) 함량이 매우 낮다는 점을 특징으로 한다.

Description

금속의 비피복 부식 방지 및 부식 방지용 수성 실란 시스템{AQUEOUS SILANE SYSTEMS FOR BARE CORROSION PROTECTION AND CORROSION PROTECTION OF METALS}
본 발명은 신규의 수성 실란계 조성물 및 이의 제조 방법과 용도, 특히 금속의 부식 방지에 사용하는 용도에 관한 것이다.
알루미늄, 스틸, 아연도금된(galvanized) 스틸 및 기타 금속은 대기에 노출될 때 부식된다. 특히 스틸의 아연도금된 표면은 대기에 단 몇 시간 노출된 후에도 백색 녹의 형성을 나타낸다. 백색 녹의 형성은 바람직하지 못한데, 그 이유는 예컨대, 이러한 표면에 페인트를 칠하는데 매우 불리하기 때문이다. 그러므로, 아연도금된 표면을 스틸의 아연도금 직후에 미네랄 오일로 처리하거나 부동화시킨다.
오래전부터 실란이 무기 기재와 유기 코팅 사이의 프라이머/접착 촉진제로서 사용되어 왔다. 금속, 실란 및 유기 코팅 사이의 접착 결합의 품질은 많은 변수에 의해 영향을 받는다. 이러한 접착 결합의 품질은 특히 금속 합금에 좌우되는데, 그 이유는 금속 표면의 조성이 Si-O-금속 결합을 결정하고 Si-O-금속 결합의 안정성은 금속의 종류에 좌우되기 때문이다.
종래 실란 및 졸-겔 시스템이 부식 방지에 사용되어 왔다. 이러한 목적으로, 실란을 프라이머/접착 촉진제로서 뿐만 아니라 상도층/부식 억제 코팅으로서도 사용한다. 실란 및 수계 시스템은 일반적으로 친환경적이라는 큰 장점을 갖는다.
US 6 955 728호는 금속 표면을 아세톡시실란과 비스(트리알콕시실릴알킬)아민의 수용액으로 처리하는 방법을 개시하고 있으며, 금속 기재의 비피복 부식 방지 및 유기 코팅과 조합되는 부식 방지 방법을 특허청구하고 있다.
US 9 931 324호는 비스(트리알콕시실릴알킬)아민, 비스(트리알킬옥시실릴알킬)폴리술폰 및 유기 용매와 물로 이루어진 실란 시스템의 용도를 개시하고 있다. 금속의 실란처리된 표면을 제2 단계에서 전착도장한다. 이어서, 샘플을 심화된 부식 테스트에 노출시키고, 새김눈에서 필름 하부 이동을 조사한다. 특허청구된 시스템은 새김눈에서 극소한 필름 하부 이동을 나타낸다.
DE 101 49 148호는 금속 표면, 특히 알루미늄, 철, 구리, 마그네슘을 수성 조성물로 코팅하는 방법을 특허청구하고 있다. 상기 수성 조성물은 물뿐만 아니라, 유기 필름 형성제, 무기 입자, 슬립제(slip agent), 임의로 유기 용매, 임의로 실란/실록산, 임의로 1종 이상의 유기 부식 억제제 및 임의로 염기성 화합물계 가교제를 함유한다. 상기 특허의 발명에 의한 제제는 10회의 사이클 이후에도 응결 사이클링 테스트에서 표면 부식을 나타내지 않는다.
DE 10 2004 037 045호는 글리시딜옥시프로필알콕시실란과 수성 실리카 졸, 유기 산 및 n-프로필 지르코네이트, 부틸 티타네이트 또는 티타늄 아세틸아세토네이트의 반응에 기초한 조성물에 관한 것이다. 상기 조성물은 금속 및 다른 기재 상에 소수성이고 소유성인 코팅을 제공한다.
WO 2004/076718호는 금속 표면을 수성이거나 유기 용매를 함유하고 Cr(VI) 화합물이 거의 없는 조성물로 코팅하는 방법에 관한 것이다. 상기 조성물은 1종 이상의 가수분해가능한 플루오르없는 실란 및 1종 이상의 가수분해가능한 플루오르 함유 실란을 함유하는 것으로 설명되어 있다. 상기 조성물은 무기 미립자 형태의 1종 이상의 화합물, 슬립제, 유기 부식 억제제, 부식 억제 안료 및 추가의 성분들을 더 함유하는 것으로 설명되어 있다. 세륨이 농후한 희토류 화합물을 주성분으로 하는 전환 코팅으로 먼저 처리된 후에 상기 조성물로 후처리된 알루미늄 합금은 통상적인 황색 크로메이트 코팅에 필적할만한 내부식성을 나타내었다.
WO 2004/076717호는 금속 표면을, 다른 코팅으로 처리하거나 전처리하기 위해 금속 표면을 수성 조성물로 코팅하는 방법을 특허청구하고 있다. 상기 수성 조성물은 1종 이상의 가수분해가능한 실란 및 1종 이상의 금속 킬레이트를 함유한다. 상기 조성물은 1종 이상의 유기 필름 형성제, 무기 입자, 슬립제, 유기 부식 억제제, 부식 억제 안료 및 추가의 성분들을 더 함유한다. 상기 조성물은 층 두께가 단 0.5 내지 2.0 ㎛임에도 불구하고 우수한 품질을 갖는 것으로 알려진 크로뮴없는 코팅을 제공한다.
US 2008/02135598호는 유기관능성 실란, 유기 가교제, 유기금속 화합물, 가수분해 촉매, 가교가능한 프리폴리머, 유기 및 무기 부식 억제제 및 추가의 성분들로 이루어진 코팅 물질을 특허청구하고 있다. 상기 코팅 시스템을 3 내지 15 ㎛의 층 두께로 도포하여 실온에서 24 시간 동안 또는 60 내지 120℃에서 1 시간 동안 경화시킬 수 있다. 상기 코팅 시스템은 염 분무 테스트에서 500 시간 이후에도 AA2024 알루미늄 합금상의 새김눈에서 필름 하부 이동을 전혀 나타내지 않는다. 그러나, 상기 코팅 시스템은 제조 직후에 금속 표면에 도포하여야 한다는 점에 유의해야 한다.
WO 2009/055020호는 마찰이 적고, 내마모성이 우수하며 내부식성이 우수한 코팅에 관한 것이다. 상기 시스템은 두 성분으로 이루어진다. 성분 1은 유기관능성 알콕시실란, 가수분해 촉매, 예컨대 티타늄 또는 지르코늄 알콕시드, 접착 촉진제 및 흐름 조절제로 이루어진다. 제2 성분은 슬립제로 이루어진다.
JP 2005290534호는 알루미늄-아연이 코팅된 스틸상의 부식 억제층을 특허청구하고 있다. 상기 조성물은 바나듐(IV) 화합물, 포스페이트/인산, 수용성/분산성 수지, 메타크릴산 및 추가의 성분들로 이루어진다. 상기 수지는 에폭시 관능성 및 아미노 관능성 실란으로부터 합성된다.
JP 1996232618호는 스틸의 아연도금된 표면을 코팅하기 위한 제제를 개시하고 있다. 코팅은 중합체 에멀젼, 유기관능성 실란 및 Al, Mg, Ca, Zn, Ni, Co, Fe, Zr, Ti, W 및 Mn으로 이루어진 군으로부터의 1종 이상의 금속으로 이루어진다. 상기 제제는 저장시에 안정하지 않으며, 표면 상에 백색 녹을 방지하는 것으로 설명된 연속된 필름을 형성한다.
WO 2004/009714호는 금속 기재에 프라이머로서 또는 비피복 부식 방지제로서 도포될 수 있는 조성물을 특허청구하고 있다. 상기 조성물은 수용성 유기관능성 실란 및 침출 가능한 억제제로 이루어진다. 크로메이트(VI) 및 세륨(III) 이온이 억제제로서 예시되어 있다.
DE 197 45 801호는 금속을 코팅하는 방법을 개시하고 있다. 언급된 금속 기재로서는, 스틸, 주석도금 스틸, 아연도금 스틸 또는 알루미늄을 들 수 있다. 용액 또는 분산액으로부터, 2가 내지 4가 금속 및/또는 포스페이트 이온을 유기 필름 형성제의 존재하에서 금속 표면에 도포한다. 상기 조성물은 글리시딜옥시프로필트리메톡시실란, 테트라에톡시실란 또는 아미노프로필트리에톡시실란을 첨가제로서 더 함유할 수 있다. 실란을 첨가제로서 함유하는 제제는 특히 새김눈에서 낮은 필름 하부 이동을 나타낸다.
JP 63186777호는 금속 표면 상의 부식방지 프라이머로서 유용한 조성물을 특허청구하고 있다. 상기 제제는 수용성/분산성 유기/무기 반응 생성물, 수용성/분산성 유기 수지, 트리알콕시실란 및 Cr(VI) 및 Cr(III) 염/화합물로 이루어진다. 상기 조성물은 혼합한 후에 도포하여야 한다.
US 4 450 255호는 금속 기재 상의 부식 억제 코팅용 수성 조성물을 특허 청구하고 있다. 상기 제제는 알콕시알루미늄으로부터 동일계상에서 유도된 콜로이드질 알루미나, 알킬트리메톡시실란, 아세트산, 이소프로판올, 물 및 콜로이드질 실리카를 함유한다. 알루미늄을 코팅하고 졸-겔 시스템을 120℃에서 6 시간 동안 경화시켰다. 구리-심화 부식 테스트에서, 72 시간 후에 부식이 관찰되었다.
EP 2 009 073호는 알콕시실란 올리고머로 이루어진 알콜성의 크로뮴없는 용액을 개시하고 있다. 상기 올리고머내의 규소 원자는 부분적으로 티타늄 원자로 치환된다. 상기 용액을 침지 코팅 및 스핀 코팅에 의해서 아연도금된 표면에 도포한다. 층 두께는 0.5 내지 3.0 mm이고 경화는 120℃에서 수행한다.
JP 2007177314호는 금속 표면, 특히 스틸 및 아연도금 스틸을 부식 방지 처리하기 위한 조성물을 특허 청구하고 있다. 상기 조성물은 실리카 졸, 에폭시실란, 및/또는 아미노실란, 올리고머 알콕시실란(테트라알콕시실란), 포스페이트 이온, 플루오라이드 이온, 및 V, Ti, Zr, Zn, Mn, Mg, Al, Co, Ni, Mo, W 및 Ce 계열로부터의 금속 이온으로 이루어진다. 상기 제제는 저장시 우수한 안정성 뿐만 아니라 우수한 부식 억제성을 제공하는 것으로 설명되어 있다. 또한, 상기 코팅은 산, 염기 및 마모에 대하여 내성이 있는 것으로 설명되어 있다.
WO 2008/003273호는 각각 Cr(VI)이 없는 세 개의 층들로 이루어진 내부식성 코팅을 특허청구하고 있다. 기재 물질은 인산염화된 스틸 또는 인산염화가능한 Fe계 합금을 주성분으로 한다. 인산염화 층에, 습식 화학적인 방법으로 실란 층을 도포하고, 상기 실란층에 변형된 폴리실록산 층을 도포한다. 스틸의 아연-인산염화된 기재를 코팅하고 응결 사이클 기후 테스트(DIN ISO 3231)을 사용해서 이산화황 대기중에서 내부식성을 테스트하였다. 단일층 코팅보다 우수한 내성이 밝혀졌다.
JP 1996206042호는 수용성 금속 염과 첨가제로 이루어진 수성 제제를 개시하고 있다. 아세테이트는 원소주기율표의 전이 금속 IIB 족의 4주기와 5주기, 전이 금속 IB 족의 4주기와 6주기, 주족 IVA, VA, VIA의 4주기 내지 6주기로부터의 금속 이온 및 추가의 금속 이온을 함유한다. 제제는 수용성 수지 및 감마-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란을 더 함유한다. 상기 코팅은 특히 가장자리 필름 하부 이동을 억제하고 부식을 방지하는 것으로 설명되어 있다.
WO 2005/078026호는 금속 부품의 부식방지 코팅용 제제를 개시하고 있다. 상기 제제는 유기 티타네이트 및/또는 지르코네이트, 금속 분말 또는 금속 분말의 혼합물 및 실란계 결합제와 물을 함유한다. 코팅된 금속 부품을 표준 염 분무 테스트(ISO 9227)에 따라 테스트하였다. 종래의 시스템과 비교해서, 상기 특허 출원의 코팅은 염 분무 미스트(mist)에서 2 내지 3배 더 높은 내성을 갖는 것으로 설명되어 있다.
WO 2007/119023호는 금속 표면에 대한 보호 코팅으로서 유용한 나노입자를 포함하는 제제를 특허청구하고 있다. 결합제는 예컨대, 감마-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란과 테트라메톡시실란을 함유하는 공중합체로 이루어진다. 설명에 따르면, 상기 나노입자의 크기는 2 내지 100 nm이고, Al-, Ce-, Si-, Zr-, Sn-알콕시드로 이루어질 수 있다. 상기 코팅은 우수한 내스크래치성 뿐만 아니라 우수한 부식 억제성을 갖는다고 설명되어 있다.
문헌 [Electrochimica Acta (2009), 54(9), 2655-2662]에서는, 세륨(IV) 이온이 1,2-비스(트리에톡시실릴)에탄의 축중합에 미치는 영향을 조사하였다. 이는 임피던스 분광분석, 원자력 현미경 분석, IR 분광분석, 핵자기 공명 분광분석 및 열중량분석과 같은 다양한 방법을 사용해서 수행하였다. 세륨(IV) 이온은 더욱 균일한 실란의 필름 형성의 원인인 것으로 밝혀졌다.
문헌 [Surface and Coatings Technology (2004), 187 (2-3), 216-224]에서는, 알루미늄 합금 2024-T3을 Cr(VI) 용액으로 또는 4% 1,2-비스(트리에톡시실릴)에탄 용액으로 세정한 후에 아연 인산염화하였다. 4% 1,2-비스(트리에톡시실릴)에탄 용액으로 처리할 경우, Cr(VI) 용액과 대등한 부식 테스트 결과가 제공되는 것으로 관찰되었다. 1,2-비스(트리에톡시실릴)에탄 용액은 유기 용매계 용액이다.
본 발명에서 고려한 과제는 금속상에서 우수한 비피복 부식 방지 효과를 제공하는 친환경적인 수계 저장 안정성 시스템을 제공하는 것이다. 또한, 비피복 부식 방지는 통상의 코팅 시스템을 사용해서 내구성 부식 방지 효과를 제공해야 한다. 특히 스틸의 아연도금 표면을 다른 방법으로 처리하는데 주의를 기울였는데, 그 이유는 스틸의 아연도금 표면이 주로 Cr(VI) 용액으로 처리되기에 Cr(VI) 화합물의 사용을 피하고자 한 것이다. 또한, Cr(III)을 주성분으로 하는 부식 방지 시스템은 일반적으로 Co(II) 이온을 더 함유한다. 그러므로, 본 발명의 목적은 수성 실란 시스템에 의해서 존재 가능한 추가의 독성 중금속 이온을 대체하는 것이다. 더욱 구체적으로, Cr(III) 코팅 중의 독성 코발트 이온을 부식 방지 면에서의 단점이라는 불이익을 당하는 일 없이 대체하는 것이다.
상기 과제는 첨부된 특허청구의 범위에 의해 정해지는 보호 범위를 갖는 본 발명에 의해 해결되었다.
예기치 않게, 저장 안정성이 있는 수성이고 VOC가 거의 없는 실란 시스템에 첨가된 금속 염이 금속 기재 상에서 비피복 부식 방지 효과를 실질적으로 증가시킨다는 사실이 밝혀졌다. 이러한 사실은 일반 금속 표면 뿐만 아니라 예를 들면 인산염화 또는 크로뮴화(III)된 금속 표면에도 적용된다. 유리하게 사용되는 금속 염은 크로뮴(III), 알루미늄(III), 아연(II), 바나듐(II), 바나듐(V), 망가니즈(II), 구리(II), 세륨(III), 세륨(IV) 및 몰리브데넘(VI) 및 텅스텐(VI)의 니트레이트 또는 아세테이트 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물인 것이 바람직하다. 바나듐(V), 몰리브데넘(VI) 및 텅스텐(VI)의 경우에, 상기 "금속 염"은 상응하는 바나데이트, 몰리브데이트, 텅스테이트, 예컨대 암모늄의 상응하는 염들 및 몰리브데넘산과 텅스텐산도 포함하는 의미이다. 특히 사용되는 금속 염은 Cr3 + 염 또는 2종 이상의 금속 염의 혼합물, 바람직하게는 Cr3 +와 Al3 + 염들의 혼합물, Cr3 +와 Ce3 + 염들의 혼합물, Cr3 +와 Ce4 + 염들의 혼합물, Cr3 +, Ce3 + 및 Ce4 + 염들의 혼합물, Cr3 +, Al3 + 및 Ce3 + 염들의 혼합물, 또는 Cr3+, Al3 +, Ce4 + 및 Ce3 + 염들의 혼합물이며, 니트레이트과 아세테이트 계열로부터의 금속 염을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 상기 염/금속 염 또는 이들의 수용액을 적절한 농도로 수성 실란 제제에 첨가하여 용액을 잘 혼합한 후에 유리하게 사용할 수 있다. 또한, 이와 같은 용액을 사용하기 전에 하루 동안 20℃에서 숙성시키는 것이 유리할 수도 있다. 처리하고자 하는 기재를 일반적으로 먼저 세척한다. 금속 표면을 세척하는 방법은 금속 기재 및 오염도에 좌우된다. 예컨대, 아연 표면은 계면활성제의 알칼리조에서 세척한 다음에 탈이온수로 세정할 수 있다.
본 발명에 의해 처리하고자 하는 기재와 기재 표면, 구체적으로 기재 표면을 실온에서 또는 보다 높은 온도에서 용액에 침지시킬 수 있다. 그러나, 기재를 분무에 의해 처리할 수도 있다. 과잉량의 분무액은 수집하여 재사용할 수 있다. 본 발명에 의한 조성물을 도포한 후에, 처리된 기재를 주위 온도에서, 바람직하게는 20℃ 초과, 더욱 바람직하게는 40℃ 내지 120℃ 범위의 온도 또는 120℃를 넘는 보다 높은 온도에서 건조시켜서 본 발명의 제제를 경화시킬 수 있다. 상기 건조/경화/가교 단계는 오븐에서 고온 기류 송풍기, 송풍기 또는 IR 방사기를 사용해서 수행할 수 있다. 건조 및 경화 시간은 일반적으로 기재 유형, 크기, 금속 부품의 기하학적 형태 및 건조 및 경화 온도에 좌우되며, 수 초 내지 수 분 또는 몇 일이 소요될 수도 있다.
본 발명에 의한 수성 조성물은 실란 시스템에 금속 이온이 첨가됨에도 불구하고 3개월을 넘는 기간 동안 실온에서 저장하는 동안에 탁월한 안정성을 나타내고, 본 발명에 의한 조성물로 처리된 금속 표면 부분 및 비피복 금속 표면 상에서 뛰어난 성질을 나타낸다. 특히 철 또는 철 합금, 스틸, 아연도급 스틸, 인산염화 스틸, 크로뮴화(VI)/크로뮴화(III) 스틸, 알루미늄, 알루미늄 합금, 티타늄, 티타늄 합금, 마그네슘, 마그네슘 합금, 구리, 아연 및 전술한 금속 1종 이상을 함유하는 합금, 예컨대 마그네슘 합금 또는 알루미늄 합금의 금속 표면을 본 발명의 조성물로 간단하고 경제적인 방식으로 유리하게 처리할 수 있으나, 이들에 제한되는 것은 아니다. 이와 같이 처리된 금속 표면은 내부식성이 탁월하고 지속적이라는 것이 특징이다. 또한, 이로써 코팅된 금속 표면은, 다른 코팅 시스템, 예컨대 액상 페인트 또는 분말 페인트, 더욱 구체적으로 수계 또는 용매계 액상 페인트를 사용할 경우, 추가의 코팅의 매우 우수한 접착력을 달성할 수 있다는 점에서, 우수하게 코팅할 수 있다. 또한, 본 발명에 의한 조성물은 독성 코발트 및 크로뮴(VI)이 없다. 본 발명에 의한 수성 조성물에는 휘발성 유기 화합물(VOC)이 적거나 거의 없으므로 친환경적 및/또는 친기후적이다.
따라서, 본 발명은
(i) 모노아미노알킬알콕시실란, 비스아미노알킬알콕시실란 및 트리스아미노알킬알콕시실란 계열로부터의 1종 이상의 아미노알킬알콕시실란, 및 임의로 플루오로알킬알콕시실란, 알킬알콕시실란 및 테트라알콕시실란 계열로부터의 1종 이상의 알콕시실란의 특이적인 가수분해 및 축합/공축합(본 명세서에서, 용어 축합/공축합은 블록 축합/공축합을 포함함)을,
(ii) 1종 이상의 가수분해/축합 촉매 및 물(여기서, 단계 (i)에 따라 사용된 실란 1몰당 사용되는 물의 양은 물 0.5 내지 100 몰 범위인 것이 바람직하고, 물 1.5 내지 50 몰 범위인 것이 더욱 바람직하며, 물 2 내지 30 몰 범위인 것이 가장 바람직함)의 존재하에, 및 또한 1종 이상의 용매/희석제의 임의적인 존재하에,
(iii) 이어서, 반응 혼합물로부터 용매/희석제, 및 가수분해 및 축합/공축합 과정에서 형성된 가수분해 알콜을 적어도 부분적으로 제거하고(이하에서 A로 나타낸 원료 용액 또는 원료 용액 A 또는 원료 용액으로도 간단히 언급한 용액을 제공함),
(iv) 임의로, (iii)에서의 반응 혼합물에 물 및/또는 수성 산을 첨가하고(여기서, 반응 혼합물의 pH는 2 내지 <7의 범위의 값으로 정해짐),
(v) 이어서, 아연, 산화 상태 2+ 또는 5+의 바나듐, 산화 상태 6+의 몰리브데넘, 산화 상태 6+의 텅스텐, 산화 상태 2+의 망가니즈, 알루미늄, 산화 상태 3+의 크로뮴, 산화 상태 2+의 구리 및 산화 상태 3+ 또는 4+의 세륨 계열로부터의 1종 이상의 금속 염을 첨가하고/하거나, 상기 금속 염들 중 1종 이상의 수용액을 첨가함으로써
수성 조성물을 제조하는 방법을 제공한다.
본 발명의 방법은 니트레이트 또는 아세테이트 계열로부터의 금속 염을 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명에 사용하는데 특히 유리한 금속 염으로는 질산알루미늄(III), 아세트산알루미늄(III), 질산크로뮴(III), 아세트산크로뮴(III), 질산아연(II), 아세트산아연(II), 질산구리(II), 아세트산구리(II), 질산망가니즈(II), 아세트산망가니즈(II), 질산바나듐(II), 아세트산바나듐(II), 아세트산바나듐(V), 질산바나듐(V), 질산바나딜(V), 아세트산바나딜(V), 질산세륨(III), 아세트산세륨(III) 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다.
그러나, 전술한 바와 같이 선택된 금속들의 다른 수용성 금속 염을 사용할 수도 있다.
본 발명의 방법에 사용되는 아미노알콕시실란은, 모노아미노알킬알콕시실란, 예컨대 아미노프로필트리메톡시실란, 아미노프로필트리에톡시실란, 아미노에틸트리메톡시실란, 아미노에틸트리에톡시실란, 아미노메틸트리메톡시실란, 아미노메틸트리에톡시실란, 아미노프로필메틸디메톡시실란, 아미노프로필메틸디에톡시실란, N-n-부틸아미노프로필트리메톡시실란, N-n-부틸아미노프로필트리에톡시실란, 아미노에틸아미노프로필트리메톡시실란, 아미노에틸아미노프로필트리에톡시실란, 소위 트리아미노알킬알콕시실란, 예컨대 아미노에틸아미노에틸아미노프로필트리메톡시실란 또는 아미노에틸아미노에틸아미노프로필트리에톡시실란, 비스아미노알킬알콕시실란 또는 비스(트리메톡시실릴메틸)아민, 예컨대 비스(트리에톡시실릴메틸)아민, 비스(트리메톡시실릴에틸)아민, 비스(트리에톡시실릴에틸)아민, 비스(트리메톡시실릴프로필)아민, 비스(트리에톡시실릴프로필)아민, 비스(트리메톡시실릴이소프로필)아민, 비스(트리에톡시실릴이소프로필)아민, 및 트리스아미노알킬알콕시실란 또는 트리스(트리메톡시실릴메틸)아민, 예컨대 트리스(트리에톡시실릴메틸)아민, 트리스(트리메톡시실릴에틸)아민, 트리스(트리에톡시실릴에틸)아민, 트리스(트리메톡시실릴프로필)아민, 트리스(트리에톡시실릴프로필)아민, 트리스(트리메톡시실릴이소프로필)아민, 트리스(트리에톡시실릴이소프로필)아민, 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물을 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 플루오로알킬알콕시실란, 알킬알콕시실란 및 테트라알콕시실란 계열로부터의 1종 이상의 알콕시실란, 예를 들면 트리데카플루오로-1,1,2,2-테트라히드로옥틸트리메톡시실란, 트리데카플루오로-1,1,2,2-테트라히드로옥틸트리에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, n-프로필트리에톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 옥틸트리메톡시실란, 옥틸트리에톡시실란, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물을 사용할 수도 있다.
그러나, 상응하는 부분적으로 가수분해된/예비축합된(precondensed) 실란/실란 혼합물을 사용할 수도 있다.
적당한 용매 또는 희석제의 예로는 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올 또는 이소프로판올을 들 수 있으나, 이들에 제한되는 것은 아니다.
사용되는 가수분해/축합 촉매는 예컨대, 유기산 또는 무기산, 예를 들면 포름산, 아세트산, 수성 질산, 인산 또는 포스폰산일 수 있으나, 이들에 제한되는 것은 아니다.
본 발명에 의한 조성물은, 바람직하게는 원료 용액 A 0.5 내지 50 중량부, 더욱 바람직하게는 1 내지 30 중량부, 보다 더 바람직하게는 2 내지 20 중량부, 훨씬 더 바람직하게는 5 내지 15 중량부, 특히 7 내지 12 중량부, 완전 탈이온수 1 내지 100 중량부, 바람직하게는 10 내지 90 중량부, 수성 산 0 내지 100 중량부, 및 금속 염 0.01 내지 5 중량부, 바람직하게는 0.1 내지 3 중량부, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 2 중량부, 보다 더 바람직하게는 0.3 내지 1.5 중량부, 특히 0.5 내지 1 중량부로부터 제조된다.
최종 조성물에 사용되는 금속 염의 농도는 바람직하게는 0.01 중량% 내지 6 중량%, 더욱 바람직하게는 0.05 중량% 내지 3 중량%, 보다 더 바람직하게는 0.1 중량% 내지 2 중량%, 특히 0.2 중량% 내지 1.0 중량%이지만, 0.3 중량%, 0.4 중량%, 0.5 중량%, 0.6 중량%, 0.7 중량%, 0.8 중량% 및 0.9 중량%도 적당하다.
또한, 본 발명에 의한 조성물은 최종 조성물을 기준으로 하여, 휘발성 유기 화합물(VOC), 예컨대 메탄올 또는 에탄올을 10 중량% 미만으로 함유하는 것이 유리하고, 바람직하게는 5 중량% 미만, 더욱 바람직하게는 3 중량% 미만, 보다 더 바람직하게는 2 중량% 미만, 특히 0.001 중량% 내지 1 중량%로 함유한다. VOC 함량은 예를 들어 GC 또는 GC/MS를 사용해서 측정할 수 있으며, 내부 표준물질을 이용할 수 있다.
본 발명에 의한 조성물은 추가의 첨가제를 구비할 수 있다. 유용한 추가의 첨가제로서는 미립자 형태의 무기 화합물, 슬립제, 부식 억제제, 습윤 보조제, pH를 중화/조절하는 물질 및 수성 실란 시스템을 안정화시키는 물질, 및 착물 형성제, 예컨대 옥살레이트를 들 수 있다. 또한, 아크릴산 에스테르, 아크릴-폴리에스테르-폴리우레탄 공중합체, 에틸렌-아크릴 공중합체, 유리 카르복실기를 가진 폴리에스테르 수지 및 추가의 중합체 또는 중합체 분산액을 주성분으로 하는 유기 필름 형성제를 사용할 수도 있다. 본 발명에 의한 조성물은 수성 분산액, 예를 들면 SiO2 분산액, Al2O3 분산액 또는 TiO2 분산액을 포함하는 것이 유리할 수 있다. 여기서 입자 크기는 1 nm 내지 ㎛ 영역내의 범위일 수 있다.
또한, 본 발명은 본 발명의 방법에 의해 수득가능한 수성 조성물을 제공한다.
일반적으로, 본 발명에 의한 조성물을 제조하는 방법은 먼저, 아미노알킬알콕시실란 및 임의로 (i)에서 언급한 추가의 알콕시실란 또는 상응하는 예비축합물을, 용매/희석제의 존재 또는 부재하에, 정해진 양의 완전 탈이온수의 존재하에서 일반적으로 효율적인 교반하에 가수분해 및 (블록)축합/공축합시키는 단계를 포함한다. 물은 1회 이상의 분량으로 첨가할 수 있다. 일반적으로, 사용된 알콕시실란 및 이에 필요한 양의 물의 거의 완전한 가수분해를 수행한다. 반응은 일반적으로 실온 내지 환류 조건에 대한 온도에서 수행할 수 있다. 또한, 반응은 가수분해/축합 촉매의 존재하에서 수행할 수 있다. 과량의 휘발성 유기 화합물, 특히 형성된 가수분해 알콜 및 사용된 용매/희석제를 형성된 반응/생성물 혼합물로부터 적당히, 예를 들면 감압하에 증류에 의해서 제거한다. 또한, 반응/생성물 혼합물을 완전 탈이온수를 첨가함으로써 희석하고 소정의 농도로 조정할 수 있다. 이 상태에서 원료 용액의 pH를 점검하는 것도 좋다. 이 pH를 필요에 따라 유기 또는 무기 수성 산을 첨가함으로써 pH <7로 조정할 수 있다. 이어서, 정해진 양의 금속 염을 그 자체로 또는 수용액으로 본 발명에 따라 효율적인 교반하에 상기 원료 용액에 첨가할 수 있다. 이것은 본 발명에 의한 일반적으로 즉석 사용 가능한 조성물을 수득하는 유리한 방법 중 하나이다. 일부의 경우에는, 용액을 20℃에서 1일 동안 "숙성"시키는 것이 유리하다. 용액을 예를 들면 10분 동안 60℃로 가열할 수 있다.
그러나, 본 발명에 의한 조성물을 특히 EP 0 716 127호, EP 0 846 716호, EP 1 101 787호, WO 06/010666호 및 WO 2009/030538호(이들의 내용은 본원에 참고로 포함됨)에 개시된 바와 같은 실란 시스템의 원료 용액 A를 제조하고, 필요에 따라서 상기 원료 용액을 물로 희석함으로써 소정의 농도로 조정하고/하거나 수성 유기산 또는 무기산, 특히 아세트산 또는 질산을 첨가함으로써 pH<7, 바람직하게는 <6, 더욱 바람직하게는 <5, 특히 2 내지 4 또는 pH 3으로 조정한 후에, 본 발명에 의해 선택된 1종 이상의 금속 염 또는 상기 금속 염의 상응하는 수용액을 정해진 양으로 효율적인 교반하에 첨가함으로써 제조할 수도 있다. 전술한 바와 같은 원료 용액들중 하나를 사용해서 방법을 수행하므로, 방법이 의외로 간단하고 문제도 없다. 부수적으로, 예를 들면 메르크(Merck) pH 시험지를 사용해서 pH를 측정할 수 있다. 상기 조성물은 특히 금속 및 금속 합금의 기재를, 예를 들면 유리된 히드록시기를 사용해서, 소수성화하거나 보다 정밀한 기재 표면으로 만드는데 유리하게 사용될 수 있다. 히드록시 작용기에 의한 가교 및/또는 임의의 착물형성 및/또는 아미노 작용기의 반응은 기재 표면 상에 도포된 층에 높은 견고함을 제공한다. 일반적으로, 상기 조성물 및/또는 혼합물은 특히 기재 표면 상의 배리어 층을 제작하기 위해 기재 표면을 처리 또는 변형하는데 사용될 수 있다. 상기 조성물/혼합물은 기재 또는 금속 표면, 예를 들면 스테인레스 스틸, 알루미늄, 알루미늄 합금, 스틸, 즉 철 합금 또는 스틸 합금, 티타늄, 마그네슘, 마그네슘 합금, 구리, 구리 합금, 아연, 아연도금 스틸, 특히 고온 침지 아연도금 스틸/철 및 아연-전해도금된 스틸/철, 또는 유리 표면, 유기 재료, 특히 플라스틱 표면, 예컨대 폴리카보네이트, PMMA, PA, 에폭시 수지 또는 UP 수지로부터 형성된 복합체의 소수성화, 또는 더욱 구체적으로 천연 섬유, 예컨대 종이, 면 또는 목재의 소수성화, 무기 표면, 예컨대 콘크리트, 벽돌, 사암, 석고 및 다른 무기 표면의 소수성화에 사용되는 것이 바람직하다. 조성물이 공축합물 또는 혼합물 형태의 플루오로실란을 포함하는 규소 화합물을 주성분으로 할 경우에는, 심지어 소유성 및 낙서방지 특성을 얻을 수 있다는 장점이 있다. 또한, 유리한 사용 분야가 표면, 유리, 금속, 무기 표면, 예컨대 콘크리트, 모르타르, 스크리드(screed), 석고보드 또는 사암 또는 유기 재료, 더욱 구체적으로 천연 섬유, 예컨대 종이, 면 또는 목재의 프라이밍에도 개방된다. 예를 들어서 금속 표면에 프라이밍을 하면 접착력이 개선되므로 특히 탁월한 부식 억제를 제공할 수 있다. 유용한 코팅으로는, 액체 페인트, 특히 용매계 또는 수계 페인트, 예를 들면 에폭시 페인트, 2액성 PU 페인트 또는 다른 액체 페인트를 들 수 있다. 또한, 본 발명의 조성물은 분말 페인트, 예를 들면 폴리에스테르 분말 페인트, 에폭시 분말 페인트 또는 PVDF 분말 페인트로 코팅될 수도 있다.
또한, 본 발명에 의한 조성물 또는 이와 같은 조성물을 주성분으로 하는 혼합물은 전술한 바와 같은 금속 및 합금, 예컨대 철, 스틸, 스테인레스 스틸, 알루미늄, 알루미늄 합금, 은, 구리 등에서 부식을 억제하는데 유리하게 사용될 수 있지만, 이러한 예에 제한되는 것은 아니다. 부식을 방지하고자 하는 금속, 더욱 정확하게는 금속 표면은 전처리되거나 미처리된 것일 수 있으며, 처리된 금속 표면의 예로서는 구체적으로 인산염화, 크로뮴화(VI), 크로뮴화(III), 아연도금된 금속 표면 또는 추가로 크로뮴화(VI), 크로뮴화(III) 또는 인산염화된 아연도금된 금속 표면을 들 수 있다. 크로뮴화(VI)된 금속 표면은 일반적으로 크로뮴(VI) 함유 물질로 처리/부동화된 금속 표면이다. 이와 유사하게, 크로뮴화(III)된 금속 표면은 크로뮴(III) 함유 물질로 처리/부동화된 금속 표면이다. 또한, 수성 조성물은 석유 생산에서 암석 강화용으로, 예를 들면 즉석 콘크리트 및/또는 모르타르 건축 용품, 예컨대 파이프 등의 제조에, 또는 수성 페인트 또는 수지 제제에 사용될 수 있다. 또 다른 가능한 용도에 의하면, 본 발명의 조성물은 첨가제 및/또는 특히 충전제의 첨가에 의해 그 제품 성질이 추가로 달라질 수 있다. 예를 들면, 유동 보조제를 첨가하여 표면 상에서 분포를 개선할 수 있다. 촉매, 예를 들면 지르코늄 n-프로폭시드를 첨가하거나 pH를 조정하면 최종 조성물의 경화를 촉진할 수 있다.
또한, 본 발명은 본 발명의 조성물 및/또는 혼합물을 사용함으로써 수득되는 코팅 또는 강화된 제품을 제공한다. 특히 코팅된 유리, 코팅된 아크릴 유리, 부식 방지된 금속 또는 부식 방지된 무기 기재, 예컨대 경화된 콘크리트 또는 모르타르, 또는 전술한 바와 같은 유기 물질, 특히 처리 또는 코팅된 천연 섬유의 제품을 언급할 수 있다. 그 예로서는, 콘크리트에 사용하기 전에 본 발명의 조성물로 코팅된, 본 발명에 의한 조성물로 처리된 강화재를 들 수 있다. 또한, 불완전 경화된 콘크리트 혼합물을 본 발명에 의한 조성물과 혼합하고 가공한 후에 경화시킬 수 있다. 여기서는, 올바른 pH 또는 다른 파라미터를 선택함으로써 조성물이 사용 가능한 상태를 유지할 수 있게 확보하도록 주의를 기울여야 한다. 예를 들면, 이와 같은 방법에 의해서 소수성 내부식성 콘크리트 또는 콘크리트로 구성된 제품, 예컨대 배수파이프 또는 즉석 제조된 건물 건축 자재를 제공할 수 있다. 이와 같이 처리된 콘크리트는 환경의 영향에 대하여 상당히 우수한 내부식성을 갖는다.
그러므로, 본 발명은 또한 본 발명에 의한 조성물을 기재 표면의 처리에 사용하는 용도를 제공하며, 여기서 금속 표면을 부식 방지 처리하는데 본 발명에 의한 조성물을 사용하여, 처리된 금속 기재 상에서 유리한 방식으로 부식 억제 코팅을 수득하는 것이 바람직하다.
따라서, 본 발명은 또한 본 발명에 의한 조성물로 처리함으로써 수득되는 부식 억제 코트/코팅을 제공한다. 또한, 이와 같은 부식 억제 코트는 본 발명에 의한 조성물을 주성분으로 하는 층 및 하나 이상의 추가의 층, 예를 들면 분말 페인트 또는 액상 페인트를 기초로 할 수 있다.
상기 금속의 표면을 갖는 물품/제품은 내구성 있고 특히 유리한 방식으로부터 부식 방지된다. 전술한 바와 같은 부식 억제 코팅이 알루미늄 합금에서 점식( pitting corrosion)을 방지한다는 것이 매우 주목할 만하다.
그러므로, 본 발명에 의한 조성물로 처리된 물품 또는 제품도 본 발명의 기술 요지의 일부를 이룬다.
이하에서는 실시예에 의거하여 본 발명을 설명하고자 한다.
실시예
비교예 조성물 VL1 :
85% 포름산 60.0 g을 HCl 대신에 사용한 것을 제외하고는, EP 0 716 127 B1호의 실시예 5에 설명된 바와 같이 원료 용액(VL1 원료 용액) 1 kg을 제조하였다. 비교 테스트를 수행하기 위해서, VL1 원료 용액 2.53 g을 교반하에 완전 탈이온수 97.47 g으로 희석하였다(VL1).
비교예 조성물 VL2 :
85% 포름산 13.0 g을 85% 포름산 17.16 g 대신에 사용한 것을 제외하고는, WO 2009/030538 A1호의 실시예 1에 설명된 바와 같이 원료 용액(VL2 원료 용액) 1 kg을 제조하였다. 비교 테스트를 수행하기 위해서, VL2 원료 용액 10 g을 교반하에 완전 탈이온수 90 g으로 희석하였다(VL2).
비교예 조성물 VL3 :
WO 2007/085339 A2호의 실시예 1에 설명된 바와 같이 원료 용액(VL3 원료 용액) 1 kg을 제조하였다. 비교 테스트를 수행하기 위해서, VL3 원료 용액 9.0 g을 BYK 348 0.02 g과 혼합하고 교반하에 완전 탈이온수 90.98 g으로 희석하였다(VL3).
비교예 조성물 VL4 :
0.5%(w/w) Cr(III) 니트레이트 x 9 H2O, H2O 99.5%
비교예 조성물 VL5 :
서텍(Surtec) LC 680 1.25%, H2O 98.75%(수용액은 Cr3 + 이온과 Co2 + 이온을 함유함).
비교예 조성물 VL6 :
완전 탈이온수 930 g을 물 126 g과 HCl 114 g (수중 32 중량%) 대신에 첨가한 후에 2 시간 동안 55℃에서 교반시킨 것을 제외하고는, EP 0 716 127 B1호의 실시예 1에 설명된 바와 같이 원료 용액(VL6 원료 용액) 1 kg을 제조하였다. 이어서, 에탄올-물 혼합물을 증류 제거하였다. 생성물의 최종 중량은 984 g이었다. 비교 테스트를 수행하기 위해서, VL6 원료 용액 7.5 g을 교반하에 완전 탈이온수 92.5 g으로 희석하였다(VL6).
비교예 조성물 VL7 :
[ VL2 원료 용액 16.6%(w/w), H 2 O 83.4%]
VL-2 원료 용액 16.6 g을 완전 탈이온수 83.4 g으로 희석하였다.
비교예 조성물 VL8 :
[ VL2 원료 용액 13.3%(w/w), H 2 O 86.7%]
VL-2 원료 용액 13.3 g을 완전 탈이온수 86.7 g으로 희석하였다.
실시예 1:
본 발명의 조성물 A1의 제조
조성물 A1a1:
VL1 원료 용액 2.53 g을 완전 탈이온수 50 g으로 희석하였다. Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5 g을 완전 탈이온수 46.97 g에 용해시키고 교반하에 희석된 원료 용액에 첨가하였다.
조성물 A1a2:
VL6 원료 용액 7.5 g을 완전 탈이온수 50 g으로 희석하였다. Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5 g을 완전 탈이온수 46.25 g에 용해시키고 교반하에 희석된 원료 용액에 첨가하였다.
실시예 2a:
본 발명의 조성물 A2의 제조
조성물 A2a1:
VL2 원료 용액 16.6 g을 완전 탈이온수 40 g으로 희석하였다. Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5 g을 완전 탈이온수 42.9 g에 용해시키고 교반하에 희석된 원료 용액에 첨가하였다.
조성물 A2a2:
VL2 원료 용액 10.0 g을 완전 탈이온수 40 g으로 희석하였다. Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5 g을 완전 탈이온수 49.5 g에 용해시키고 교반하에 희석된 원료 용액에 첨가하였다.
실시예 2b:
본 발명의 조성물 A2의 제조
조성물 A2b1:
VL2 원료 용액 5.5 g을 완전 탈이온수 40 g으로 희석하였다. Al(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5 g을 완전 탈이온수 54.0 g에 용해시키고 교반하에 희석된 원료 용액에 첨가하였다.
조성물 A2b2:
VL2 원료 용액 16.6 g을 완전 탈이온수 40 g으로 희석하였다. Al(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5 g을 완전 탈이온수 42.9 g에 용해시키고 교반하에 희석된 원료 용액에 첨가하였다.
실시예 2c:
본 발명의 조성물 A2의 제조
조성물 A2c:
VL2 원료 용액 5.5 g을 완전 탈이온수 40 g으로 희석하였다. Ce(III) 니트레이트 x 6H2O 0.5 g을 완전 탈이온수 42.9 g에 용해시키고 교반하에 희석된 원료 용액에 첨가하였다.
실시예 3:
본 발명의 조성물 B1의 제조
조성물 B1:
VL3 원료 용액 2.53 g을 BYK 348 0.02g과 혼합하고 완전 탈이온수 40 g으로 희석하였다. Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5 g을 완전 탈이온수 50.48 g에 용해시키고 교반하에 사전에 희석된 원료 용액에 첨가하였다.
실시예 1 내지 3에 의한 본 발명의 조성물은 모두 실온에서 3개월을 넘는 기간 동안 저장시 안정하였다.
실시예 4:
조성물 A2aX
[ VL2 원료 용액 13.3%(w/w), Cr ( III ) 니트레이트 x 9 H 2 O 0.5%]
VL2 원료 용액 13.3 g을 완전 탈이온수 40 g으로 희석하였다. Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5 g을 완전 탈이온수 46.2 g에 용해시키고 교반하에 희석된 원료 용액에 첨가하였다.
이와 같이 제조된 조성물을 가용 시간 1일후에 사용하였다.
용도 실시예 :
고온 침지 아연도금 스틸 패널의 세척( HDG 4 케메탈 ( Chemetall ))
아연도금된 스틸 패널을 유기 용매(에틸 아세테이트)로 세척한 후에 알칼리 세척조(조성: 10.0 g/l의 S 5610(케메탈), pH 11.5, 60℃, 30초)에 넣었다. 알칼리 세척후에, 금속 기재를 먼저 고온수로 세정한 후에 완전 탈이온수로 세정하였다.
부식 테스트
염 분무 미스트에서 부식 테스트를 수행하였다(DIN 50021-SS에 의한 테스트)
용도 실시예 1:
고온 침지 아연도금 스틸 패널
상기 패널을 앞에서 "고온 침지 아연도금 스틸 패널의 세척"이라는 제목 아래 설명한 바와 같이 세척하였다. 세척된 샘플 패널을 다음과 같은 용액들로 처리하였다:
a) 무처리 대조군
b) 조성물 A2a1[VL2 원료 용액 16.6%(w/w), Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5%, H2O 82.9%]
c) 조성물 A2a2[VL2 원료 용액 10.0%(w/w), Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5%, H2O 89.5%]
d) 비교예 조성물 VL2[VL2 원료 용액 10.0%(w/w), H2O 90.0%]
금속 기재를 20℃에서 30초 동안 용액에 침지하고, 20℃에서 5분 동안 건조시킨 후에, 최종적으로 80℃에서 10분 동안 경화시켰다.
24 시간 후에 코팅된 금속 기재를 염 분무 미스트 챔버에 놓았다. 도 1은 염 분무 미스트에서 211 시간 경과 후 결과를 나타낸 것이다.
결과:
a) 대조군은 전체 표면 상에서 백색 녹을 나타내었다.
b) 가장자리에 미량의 백색 녹
c) 가장자리 및 중앙의 몇 개소에 미량의 백색 녹
d) 거의 전체 면적이 백색 녹으로 덮임
용도 실시예 2:
고온 침지 아연도금 스틸 패널
상기 패널을 앞에서 "고온 침지 아연도금 스틸 패널의 세척"이라는 제목 아래 설명한 바와 같이 세척하였다. 세척된 샘플 패널을 다음과 같은 용액들로 처리하였다:
a) 무처리 대조군
b) 조성물 A2b1[VL2 원료 용액 5.5%(w/w), Al(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5%, H2O 94.0%]
c) 조성물 A2b2[VL2 원료 용액 16.6%(w/w), Al(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5%, H2O 82.9%]
d) 비교예 조성물 VL2[VL2 원료 용액 10.0%(w/w), H2O 90.0%]
e) 비교예 조성물 VL4[Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5%(w/w), H2O 99.5%]
f) 조성물 A2c[VL2 원료 용액 5.5%(w/w), 세륨(III) 니트레이트 x 6H2O 0.5%]
금속 기재를 20℃에서 30초 동안 용액에 침지하고, 20℃에서 5분 동안 건조시킨 후에, 최종적으로 80℃에서 10분 동안 가열하였다.
24 시간 후에 코팅된 금속 기재를 염 분무 미스트 챔버에 놓았다. 도 2는 염 분무 미스트에서 66 시간 경과 후 결과를 나타낸 것이다.
결과:
a) 전체 표면 상에 백색 녹 형성
b) 전체 표면 상에 부분적으로 백색 녹 형성
c) 백색 녹 거의 없음
d) 전체 표면 상에 백색 녹 형성
e) 전체 표면 상에 백색 녹 형성
f) 상부에 백색 녹 형성
용도 실시예 3:
아연 인산염화된 스틸 패널
상기 패널을, 완전 탈이온수의 pH를 S5610을 사용해서 10으로 조정하는 것을 제외하고는, 앞에서 "고온 침지 아연도금 스틸 패널의 세척"이라는 제목 아래 설명한 바와 같이 세척하였다. 세척된 샘플 패널을 다음과 같은 용액들로 처리하였다:
a) 무처리 대조군
b) 조성물 A2a2[VL2 원료 용액 10.0%(w/w), Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5%, H2O 82.9%]
c) 비교예 조성물 VL4[Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5%, H2O 99.5%]
d) 비교예 조성물 VL5[서텍 LC 680 1.25%, H2O 98.75%]
e) 비교예 조성물 VL2[VL2 원료 용액 10.0%(w/w), H2O 90.0%]
금속 기재를 20℃에서 30초 동안 용액에 침지하고, 총합 24 시간 동안 20℃에서 건조시키고 20℃에 보관하였다.
24 시간 후에 코팅된 금속 기재를 염 분무 미스트 챔버에 놓았다. 도 3은 염 분무 미스트에서 180 시간 경과 후 결과를 나타낸 것이다.
결과:
a) 전체 표면 상에 적색 녹
b) 백색 녹이 섬 형태로 존재
c) 매우 많은 양의 적색 녹과 소량의 백색 녹
d) 백색 녹이 다수 개의 섬 형태로 존재
e) 주로 적색 녹
용도 실시예 4:
아연도금 스틸 패널
상기 패널을 앞에서 "고온 침지 아연도금 스틸 패널의 세척"이라는 제목 아래 설명한 바와 같이 세척하였다. 세척된 샘플 패널을 다음과 같은 용액들로 처리하였다:
a) 무처리 대조군
b) 비교예 조성물 VL3[VL3 원료 용액 9.0%(w/w), BYK 348 0.02%, H2O 90.98%]
c) 조성물 B1[VL3 원료 용액 9.0%(w/w), BYK 348 0.02%, Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5%, H2O 90.48%]
금속 기재를 20℃에서 30초 동안 용액에 침지하고, 20℃에서 5분 동안 건조시킨 후에, 최종적으로 200℃에서 10분 동안 가열하였다.
24 시간 후에 코팅된 금속 기재를 염 분무 미스트 챔버에 놓았다. 도 4는 염 분무 미스트에서 55 시간 경과 후 결과를 나타낸 것이다.
결과:
a) 단편 전체가 백색 녹으로 덮임
b) 단편 내에도 백색 녹 존재
c) 단편 내에도 백색 녹이 존재하지만 b)보다 양호함
용도 실시예 5:
아연도금 스틸 패널
상기 패널을 앞에서 "고온 침지 아연도금 스틸 패널의 세척"이라는 제목 아래 설명한 바와 같이 세척하였다. 세척된 샘플 패널을 다음과 같은 용액들로 처리하였다:
a) 무처리 대조군
b) 비교예 조성물 VL1[VL1 원료 용액 2.53%(w/w), H2O 97.47%]
c) 조성물 A1a1[VL1 원료 용액 2.53%(w/w), Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5%, H2O 96.97%]
금속 기재를 20℃에서 30초 동안 용액에 침지하고, 20℃에서 5분 동안 건조시킨 후에, 최종적으로 120℃에서 10분 동안 가열하였다.
24 시간 후에 코팅된 금속 기재를 염 분무 미스트 챔버에 놓았다. 도 5는 염 분무 미스트에서 50 시간 경과 후 결과를 나타낸 것이다.
결과:
a) 단편 전체가 백색 녹으로 피복됨
b) 전체 단편상에 백색 녹이 분포됨
c) 백색 녹이 덜하지만, 전체 단편상에 분포됨
용도 실시예 6:
아연도금 스틸 패널
상기 패널을 앞에서 "고온 침지 아연도금 스틸 패널의 세척"이라는 제목 아래 설명한 바와 같이 세척하였다. 세척된 샘플 패널을 다음과 같은 용액들로 처리하였다:
a) 무처리 대조군
b) 비교예 조성물 VL1[VL1 원료 용액 2.53%(w/w), H2O 97.47%]
c) 조성물 A1a1[VL1 원료 용액 2.53%(w/w), Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5%, H2O 96.97%]
d) 비교예 조성물 VL6[교반하에 완전 탈이온수 92.5 g으로 희석된 VL6 원료 용액 7.5 g(VL6)]
e) 조성물 A1a2[VL6 원료 용액 7.5%(w/w), Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5%, 완전 탈이온수 92%]
금속 기재를 20℃에서 30초 동안 용액에 침지하고, 20℃에서 5분 동안 건조시킨 후에, 최종적으로 180℃에서 10분 동안 가열하였다.
24 시간 후에 코팅된 금속 기재를 염 분무 미스트 챔버에 놓았다. 도 6은 염 분무 미스트에서 55 시간 경과 후 결과를 나타낸 것이다.
결과:
a) 전체 단편이 백색 녹으로 피복됨
b) 단편의 대부분이 백색 녹을 포함함
c) 극소수의 섬 형태의 백색 녹
d) 전체 표면 상에 백색 녹이 거의 없음
e) 몇개의 섬 형태의 백색 녹
용도 실시예 7:
알루미늄 패널의 세척(합금 5005 H24 , 크기 76 x 152 mm )
알루미늄 패널을 알칼리 세척조(조성: 10 g의 리돌린(Ridoline) C72 RS, pH 약 13, 60℃, 30초)에 넣었다. 알칼리 세척후에, 패널을 먼저 고온수로 세정한 후에 완전 탈이온수로 세정하였다. 이어서, 패널을 산성 제석조(조성: 10% HNO3, 2분, 실온)에 넣었다. 이어서, 제석된 패널을 완전 탈이온수로 세정하고 질소로 송풍 건조시켰다.
알루미늄 패널의 코팅
상기 패널을 앞에서 "알루미늄 패널의 세척"이라는 제목 아래 설명한 바와 같이 세척하였다. 세척된 알루미늄 패널을 다음과 같은 용액들로 처리하였다:
a) 무처리 대조군
b) 조성물 A2a1[VL2 원료 용액 16.6%(w/w), Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5%, H2O 82.9%]
c) 조성물 A2aX[VL2 원료 용액 13.3%(w/w), Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5%, H2O 86.2%]
d) 조성물 A2a2[VL2 원료 용액 10.0%(w/w), Cr(III) 니트레이트 x 9H2O 0.5%, H2O 89.5%]
e) 비교예 조성물 1[VL2 원료 용액 16.6%(w/w), H2O 83.4%]
f) 비교예 조성물 2[VL2 원료 용액 13.3%(w/w), H2O 86.7%]
g) 비교예 조성물 3[VL2 원료 용액 10.0%(w/w), H2O 90.0%]
알루미늄 패널을 20℃에서 30초 동안 용액에 침지한 후에 80℃에서 10분 동안 경화시켰다.
24 시간 후에 코팅된 알루미늄 패널을 염 분무 미스트 챔버에 놓았다. 도 7은 염 분무 미스트에서 145 시간 경과 후 결과를 나타낸 것이다.
결과:
a) 대조군은 전체 표면 상에 녹을 나타냄
b) 전체 표면 상에 약간의 부식
c) 부식 없음
d) 부식 없음
e) 내지 g) 전체 표면 상에서 부식

Claims (10)

  1. (i) 모노아미노알킬알콕시실란, 비스아미노알킬알콕시실란 및 트리스아미노알킬알콕시실란 계열로부터의 1종 이상의 아미노알킬알콕시실란, 및 임의로 플루오로알킬알콕시실란, 알킬알콕시실란 및 테트라알콕시실란 계열로부터의 1종 이상의 알콕시실란의 특이적인 가수분해 및 축합/공축합을,
    (ii) 1종 이상의 가수분해/축합 촉매 및 물의 존재하에, 및 또한 1종 이상의 용매/희석제의 임의적인 존재하에 수행하고,
    (iii) 이어서, 반응 혼합물로부터 용매/희석제, 및 또한 가수분해 및 축합/공축합 과정에서 형성된 가수분해 알콜을 적어도 부분적으로 제거하고,
    (iv) 임의로, (iii)에서의 반응 혼합물에 물 및/또는 수성 산을 첨가하고 (여기서, 반응 혼합물의 pH는 2 내지 <7의 범위의 값으로 정해짐),
    (v) 이어서, 알루미늄, 아연, 산화 상태 2+ 또는 5+의 바나듐, 산화 상태 6+의 몰리브데넘, 산화 상태 6+의 텅스텐, 산화 상태 2+의 망가니즈, 산화 상태 3+의 크로뮴, 산화 상태 2+의 구리 및 산화 상태 3+ 또는 4+의 세륨 계열로부터의 1종 이상의 금속 염을 첨가하고/하거나, 상기 금속 염들 중 1종 이상의 수용액을 첨가함으로써
    수성 조성물을 제조하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 니트레이트 또는 아세테이트 계열로부터의 1종 이상의 금속 염을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 사용되는 금속 염이 Cr3 + 염 또는 2종 이상의 금속 염의 혼합물, 바람직하게는 Cr3 +와 Al3 + 염들의 혼합물, Cr3 +와 Ce3 + 염들의 혼합물, Cr3 +와 Ce4 + 염들의 혼합물, Cr3 +, Ce3 + 및 Ce4 + 염들의 혼합물, Cr3 +, Al3 + 및 Ce3 + 염들의 혼합물, 또는 Cr3 +, Al3 +, Ce4 + 및 Ce3 + 염들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 금속 염이 최종 조성물을 기준으로 하여 0.01 중량% 내지 6 중량%의 농도로 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따라 수득가능한 수성 조성물.
  6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따라 수득되거나 또는 제5항에 따라 수득가능한 조성물의, 기재 표면 처리를 위한 용도.
  7. 제6항에 있어서, 상기 조성물을 금속 표면의 부식 방지 처리에 사용하는 용도.
  8. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따라 수득되는 조성물 또는 제5항에 따라 수득가능한 조성물로 처리하는 것에 기초하는, 부식 억제 코트/코팅.
  9. 제8항에 있어서, 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따라 수득되거나 제5항에 따라 수득가능한 조성물을 기재로 하는 층 및 하나 이상의 추가의 층, 보다 특히 페인트 층에 기초하는 부식 억제 코트/코팅.
  10. 제5항에 따른 조성물 또는 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따라 수득되는 조성물로 처리하는 것에 기초하는 물품 또는 제품.
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