KR20110113877A - 균일한 크기를 가지는 은 나노입자의 대량 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 균일한 크기를 가지는 은 나노입자를 대량으로 제조하는 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 i) 비활성 분위기에서 은 전구체 및 계면활성제의 혼합물을 가열하여 은 나노입자를 제조하는 단계; 그리고 ii) 상기 은 나노입자를 분리하는 단계를 포함하는, 은 나노입자 제조 방법에 대한 것이다.

Description

균일한 크기를 가지는 은 나노입자의 대량 제조 방법{PROCESS FOR LARGE-SCALE PRODUCTION OF UNIFORM SILVER NANOPARTICLE}
본 발명은 균일한 크기를 가지는 은 나노입자를 대량으로 제조하는 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 i) 비활성 분위기에서 은 전구체 및 계면활성제의 혼합물을 가열하여 은 나노입자를 제조하는 단계; 그리고 ii) 상기 은 나노입자를 분리하는 단계를 포함하는, 은 나노입자 제조 방법에 대한 것이다.
최근 급속히 발전하는 나노기술 분야에서 은 나노입자는 여러가지로 유용하게 응용되고 있다. 은 나노입자의 강력한 표면 플라즈몬 흡수(surface plasmon absorption) 현상으로 인하여, 예를 들면 바이오센서와 같은 분야에 응용될 수 있다. 은 나노입자는 광-형광 표지자(photo-fluorescence marker)이기 때문에, 다양한 의학적 및 이와 유사한 용도로 사용될 수 있다.
또한, 은 나노입자는 환경 및 생물학적으로 해롭지 아니하다. 은 나노입자는 스마트 윈도우(smart window), 재기록가능 전자종이(rewritable electronic paper), 전자 패널 디스플레이(electronic panel display), 메모리 구성요소(memory component) 및 이와 유사한 제품에 사용될 수 있다. 더욱이, 은 나노입자는 전자 장치용 전도성 소자로서 특히 중요한 데, 이는 은이 금보다 값싸고 구리보다 안정하기 때문이다.
은 나노입자는 스타이렌의 선택적 산화를 위한 촉매, 실시간 광학 센서 및 전도성 잉크 등에 응용할 수 있다. 더욱이, 은 나노입자는 그 크기가 2 nm 이하로 작아지면 양자 구속 효과에 의해 밴드 갭(band gap)이 형성되어 형광성질을 갖게 되는데, 이러한 은 나노입자의 성질은 바이오이미징(bioimaging) 등에 유용하다.
종래기술에 따르면, 은 나노입자는, 수용액 내에서의 공침전 방법, 전기화학적 방법, 에어로졸 방법, 역 마이크로에멀션 방법, 화학적 액상 증착법, 광화학적 환원법, 용액 내 화학적 환원법 및 자외선 조사법과 같은 다양한 방법에 의하여 제조되고 있다. 그러나 상기 종래기술은 입자의 크기 조절 및 산업적 규모로 입자를 제조하는 데 제약이 있다.
나노미터 크기의 금속 입자를 제조하는 다양한 방법이 있다. 예를 들면, 미합중국 특허 제6,572,673호는 적절한 금속염과, 환원제로서 카르복시기, 설페이트기 또는 설포네이트기와 같은 음이온성 작용기를 함유하는 음이온 계면활성제 수용액을 50-140℃의 온도에서 환류시키면서 반응시키는 단계를 포함하는 금속 나노입자 제조 방법을 개시하고 있다. 그런데, 본 발명의 방법과 달리, 상기 US 6,572,673는 물을 사용하여 은 나노입자를 제조한다.
또한, 미합중국 특허공개 US 2006/0045916은 은 염과 포스펜 아미노산(phosphene amino acid)을 반응시키는 단계를 포함하는 은 나노입자 제조 방법을 개시하고 있다. 그런데, 본 발명의 방법과 달리, US 2006/0045916은 포스펜 아미노산이라는 값비싼 원료를 사용한다는 단점이 있다.
또한, 미합중국 특허공개 US 2009/0013825는 상온의 물에서 은 염, 음이온 계면활성제 또는 비이온 계면활성제, 및 환원제를 반응시킴으로써 상기 은 염을 은 입자로 환원시키는 단계를 포함하는 은 나노입자 제조 방법을 개시하고 있다. 그런데, 본 발명의 방법과 달리, US 2009/0013825는 수용액 기반의 제조 방법이며 환원제를 사용한다.
또한, 국제특허공개 WO 2009/133446은 계면활성제를 에탄올에 용해시켜 제1용액을 제조하는 단계; 은 전구체를 물에 녹여 제2용액을 제조하는 단계; 상기 제2용액을 상기 제1용액에 가하여 제3용액을 제조하는 단계; 환원제를 물에 용해시켜 환원제 용액을 제조하는 단계; 그리고 상기 환원제 용액을 상기 제3용액에 첨가하여 은 나노입자를 제조하는 단계를 포함하는, 은 나노입자 제조 방법을 개시하고 있다. 그런데, 본 발명의 방법과 달리, WO 2009/133446은 에탄올, 물 및 환원제를 사용하여 은 나노입자를 제조한다.
따라서, 은 나노입자를 단순하고, 신속하며, 용이하게, 값싼 원료를 사용하여 균일한 크기로 제조할 수 있는 방법이 요구되고 있다.
본 발명의 목적은 i) 비활성 분위기에서 은 전구체 및 계면활성제의 혼합물을 가열하여 은 나노입자를 제조하는 단계; 그리고 ii) 상기 은 나노입자를 분리하는 단계를 포함하는, 균일한 크기를 가지는 은 나노입자의 대량 제조 방법을 제공하는 것이다.
전술한 본 발명의 목적은 i) 비활성 분위기에서 은 전구체 및 계면활성제의 혼합물을 가열하여 은 나노입자를 제조하는 단계; 그리고 ii) 상기 은 나노입자를 분리하는 단계를 포함하는, 은 나노입자 제조 방법을 제공함으로써 달성될 수 있다.
상기 은 전구체는 AgBF4, AgCF3SO3, AgClO4, AgNO3, Ag(CH3COO), AgPF6 또는 Ag(CF3COO)로부터 선택되는 어느 하나, 또는 이들의 혼합물일 수 있다.
또한, 상기 계면활성제는 C8 내지 C22 카르복시산이 바람직하고, 상기 C8 내지 C22 카르복시산은 옥탄산(octanoic acid), 데칸산(decanoic acid), 라우르산(lauric acid), 헥사데칸산(hexadecanoic acid), 올레산(oleic acid), 에루신산(erucic acid), 스테아르산(stearic acid), 벤조산(benzoic acid) 또는 바이페닐카르복시산(biphenylcarboxylic acid)으로 선택되는 어느 하나, 또는 이들의 혼합물일 수 있다.
더욱이, 상기 계면활성제는 C8 내지 C24 아민을 추가로 포함할 수 있고, 상기 C8 내지 C24 아민은 옥틸아민(octylamine), 트리옥틸아민(trioctylamine), 데실아민(decylamine), 도데실아민(dodecylamine), 테트라데실아민(tetradecylamine), 헥사데실아민(hexadecylamine), 올레일아민(oleylamine), 옥타데실아민(octadecylamine), 트리벤질아민(tribenzylamine) 또는 트리페닐아민(triphenylamine)으로부터 선택되는 어느 하나, 또는 이들의 혼합물일 수 있다.
상기 i)단계에서 상기 혼합물을 0.5 ℃/min 내지 50 ℃/min의 속도로 50℃ 내지 상기 용매의 비등점까지 가열한 후, 이 온도에서 30초 내지 3일 동안 유지하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 i)단계에서의 압력은 0.5 기압 내지 10 기압인 것이 바람직하다.
상기 은 전구체와 상기 계면활성제의 몰비는 1:0.5 내지 1:100인 것이 바람직하다.
본 발명의 방법에 의하여 제조되는 은 나노입자의 크기는, 은 전구체와 계면활성제의 몰비, 사용되는 계면활성제, 가열 속도, 가열 온도 및 가열 시간 등에 의하여 변화될 수 있다.
본 발명의 방법에 따르면, 나노미터 크기, 특히 4 nm 이하이며 균일한 크기를 가지는 은 나노입자를 대량으로 간단하게 제조할 수 있다. 본 발명의 방법에 따라 제조된 은 나노입자는 전도성 잉크나 효율이 높은 촉매에 응용될 수 있을 뿐만 아니라, 특히 2 nm 이하의 은 나노입자는 양자구속 효과에 의해 밴드갭(band gap)을 형성하여 형광성질을 지니게 되고, 이는 바이오이미징(bioimaging) 등에 이용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예 1에서 제조된 은 나노입자에 대한 고배율(도 1A) 및 저배율(도 1B) 투과전자현미경(TEM) 사진이다. 도 1A에 따르면, 상기 은 나노입자가 규칙적인 초격자 배열을 이루고 있다. 도 1B에 삽입된 FTT(fast Fourier transform) 사진에 따르면, 상기 은 나노입자의 배열이 높은 규칙성을 갖는다는 사실을 알 수 있고, 이는 은 나노입자의 크기가 매우 균일하다는 사실을 확인해 준다.
도 2는 본 발명의 실시예 1에서 제조된 은 나노입자에 대한 X-선회절(XRD) 측정 결과이다.
도 3은 본 발명의 실시예 1에서 제조된 은 나노입자에 대한 UV/Vis 흡광스펙트럼 결과이다.
도 4는 발명의 실시예 1에서 제조된 은 나노입자에 대한 형광(PL photoluminescence) 스펙트럼이다.
도 5는 발명의 실시예 1에서 제조된 은 나노입자에 대한 PLE(PL photoluminescence excitation) 스펙트럼이다.
도 6은 발명의 실시예 2에서 제조된 은 나노입자에 대한 TEM 사진이다.
도 7은 발명의 실시예 3에서 제조된 은 나노입자에 대한 TEM 사진이다.
도 8은 발명의 실시예 4에서 제조된 은 나노입자에 대한 TEM 사진이다.
이하, 다음의 실시예 및 도면을 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 한다. 그러나 다음의 실시예 및 도면에 대한 설명은 본 발명의 구체적인 실시 태양을 특정하여 설명하고자 하는 것일 뿐이며, 본 발명의 권리범위를 이들에 기재된 내용으로 한정하거나 제한해석하고자 의도하는 것은 아니다.
실시예 1. 2 nm 크기의 은 나노입자의 제조
질산은(0.17 g, 1 mmol)을 올레일아민(0.5 ml)과 올레산(4.5 ml)의 혼합물에 첨가하였다. 상기 혼합용액을 1시간 30분 동안 교반하면서 70℃에서 진공펌프를 사용하여 잔류 공기를 제거하였다. 그 후 상기 용액을 10 ℃/min의 승온 속도로 180 ℃까지 가열하고 180℃에서 1분 동안 유지하였다. 상기 가열된 혼합용액을 100℃까지 냉각한 후 톨루엔과 메탄올의 혼합물로 세척하였다. 상기 세척된 용액을 원심분리하여 2 nm 크기의 은 나노입자를 얻었다(도 1). 이렇게 제조된 은 나노입자에 대한 XRD 측정 결과, UV/Vis 흡광스펙트럼, 형광(PL photoluminescence) 스펙트럼 및 PLE(PL photoluminescence excitation) 스펙트럼을 각각 도 2 내지 도 5에 나타내었다.
실시예 2. 3 nm 크기의 은 나노입자의 제조
승온 속도를 1 ℃/min으로 한 것을 제외하고 다른 조건을 실시예 1과 동일하게 하였을 때, 3 nm 크기의 은 클러스터를 얻었다(도 6).
실시예 3. 4 nm 크기의 은 나노입자의 제조
올레산 대신 에루신산(4 g)을 첨가한 것을 제외하고 다른 조건을 실시예 1과 동일하게 하였을 때, 4 nm 크기의 은 나노입자를 얻었다(도 7).
실시예 4. 2 nm 크기의 은 나노입자의 대용량 제조
질산은(1.7 g, 10 mmol)을 올레일아민(5 ml)과 올레산(5 ml)의 혼합물에 첨가하였다. 상기 혼합용액을 1시간 30분 동안 교반하면서 70℃에서 진공펌프를 사용하여 잔류 공기를 제거하였다. 그 후 상기 용액을 10 ℃/min의 승온 속도로 180 ℃까지 가열하고 180℃에서 1분 동안 유지하였다. 상기 가열된 혼합용액을 100℃까지 냉각한 후 톨루엔과 메탄올의 혼합물로 세척하였다. 상기 세척된 용액을 원심분리하여 2 nm 크기의 은 나노입자를 얻었다(도 8).

Claims (11)

  1. i) 비활성 분위기에서 은 전구체 및 계면활성제의 혼합물을 가열하여 은 나노입자를 제조하는 단계; 그리고
    ii) 상기 은 나노입자를 분리하는 단계를 포함하는, 은 나노입자 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 은 전구체가 AgBF4, AgCF3SO3, AgClO4, AgNO3, Ag(CH3COO), AgPF6 및 Ag(CF3COO)로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물인 것임을 특징으로 하는 은 나노입자 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 계면활성제가 C8 내지 C22 카르복시산인 것임을 특징으로 하는 은 나노입자 제조 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 C8 내지 C22 카르복시산이 옥탄산, 데칸산, 라우르산, 헥사데칸산, 올레산, 에루신산, 스테아르산, 벤조산 및 바이페닐카르복시산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물인 것임을 특징으로 하는 은 나노입자 제조 방법.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 계면활성제가 C8 내지 C24 아민을 추가로 포함하는 것임을 특징으로 하는 은 나노입자 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 C8 내지 C24 아민이 옥틸아민, 트리옥틸아민, 데실아민, 도데실아민, 테트라데실아민, 헥사데실아민, 올레일아민, 옥타데실아민, 트리벤질아민 및 트리페닐아민으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물인 것임을 특징으로 하는 은 나노입자 제조 방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 i)단계의 가열 온도가 50℃ 내지 상기 용매의 비등점인 것을 특징으로 하는 은 나노입자 제조 방법.
  8. 제1항에 있어서, 상기 i)단계의 반응 압력이 0.5 기압 내지 10 기압인 것을 특징으로 하는 은 나노입자 제조 방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 i)단계의 가열 속도가 0.5 ℃/min 내지 50 ℃/min인 것을 특징으로 하는 은 나노입자 제조 방법.
  10. 제1항에 있어서, 상기 i)단계의 가열 유지 시간이 30초 내지 3일인 것을 특징으로 하는 은 나노입자 제조 방법.
  11. 제1항에 있어서, 상기 은 전구체와 상기 계면활성제의 몰비가 1:0.5 내지 1:100인 것을 특징으로 하는 은 나노입자 제조 방법.
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