KR20100106304A - 조명장치, 노광장치, 노광방법 및 디바이스 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 제1 실시형태에 관한 조명장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 3은 제1 실시형태에 관한 부분투영광학계의 구성을 나타내는 도면이다.
도 4는 제1 실시형태에 관한 라이트 가이드 파이버의 입사구의 구성을 나타내는 도면이다.
도 5는 제1 실시형태에 관한 조명장치의 일부 구성을 나타내는 도면이다.
도 6은 제1 실시형태에 관한 조명장치의 일부 구성을 나타내는 도면이다.
도 7은 제1 실시형태에 관한 플라이아이(fly-eye)렌즈의 입사 측에서의 광량분포를 나타내는 도면이다.
도 8은 제2 실시형태에 관한 조명장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 9는 본 실시형태에 관한 반도체 디바이스의 제조방법을 나타내는 플로우차트이다.
도 10은 본 실시형태에 관한 액정디바이스의 제조방법을 나타내는 플로우차트이다.
Claims (16)
- 광원(光源)수단으로부터 발(發)하게 되는 조명광을 복수의 입사구(入射口)로부터 수광(受光)하고, 이 입사구마다 수광한 각 조명광의 적어도 일부를 공통의 사출구(射出口)로부터 사출시키는 광전송수단과,
상기 광원수단으로부터의 상기 조명광 중 제1 부분조명광을 광학적으로 릴레이하여 제1 입사각을 가지는 제1 광속(光束)으로 하고, 복수의 상기 입사구 중 제1 입사구에 도입하는 제1 릴레이 광학계와,
상기 광원수단으로부터의 상기 조명광 중 제2 부분조명광을 광학적으로 릴레이하여 상기 제1 입사각과 다른 제2 입사각을 가지는 제2 광속으로 하고, 복수의 상기 입사구 중 제2 입사구에 도입하는 제2 릴레이 광학계를 구비한 것을 특징으로 하는 조명장치. - 청구항 1에 있어서,
상기 제1 입사각은 상기 광원수단의 발광부에서의 상기 조명광의 발산각(發散角)에 대응하는 각도인 것을 특징으로 하는 조명장치. - 청구항 2에 있어서,
상기 제1 릴레이 광학계는,
상기 발광부의 상(像)을 상기 제1 입사구 안에 투사(投射)하는 것을 특징으로 하는 조명장치. - 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제2 입사각은 상기 광원수단의 발광부의 크기 혹은 이 발광부의 상의 크기에 대응하는 각도인 것을 특징으로 하는 조명장치. - 청구항 4에 있어서,
상기 제2 릴레이 광학계는 상기 제2 부분조명광을 이 제2 릴레이 광학계의 초점면(焦点面)에 마련된 상기 제2 입사구에 도입하는 것을 특징으로 하는 조명장치. - 청구항 4 또는 5에 있어서,
상기 제2 릴레이 광학계는 상기 발광부에 대응하는 푸리에(Fourier) 변환상(變換像)을 상기 제2 입사구 안에 투사하는 것을 특징으로 하는 조명장치. - 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광원수단은 복수의 발광부를 가지고,
상기 제1 릴레이 광학계 및 상기 제2 릴레이 광학계는 각각 다른 상기 발광부로부터 발하게 되는 상기 조명광을 상기 제1 부분조명광 및 상기 제2 부분조명광으로서 광학적으로 릴레이하는 것을 특징으로 하는 조명장치. - 청구항 1 내지 7 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광원수단은 이 광원수단의 발광부의 상을 형성하는 발광상 형성수단을 가지고,
상기 제1 릴레이 광학계 및 상기 제2 릴레이 광학계는 각각 상기 발광부의 상으로부터 발하게 되는 상기 조명광을 광학적으로 릴레이하는 것을 특징으로 하는 조명장치. - 청구항 8에 있어서,
상기 발광상 형성수단은 상기 발광부의 근방에 제1 초점을 가지는 타원거울을 포함하고,
상기 제2 입사구는 윤대(輪帶) 모양으로 형성되는 것을 특징으로 하는 조명장치. - 청구항 1 내지 9 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 입사구 및 상기 제2 입사구는 광파이버 묶음을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 조명장치. - 청구항 1 내지 10 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제2 릴레이 광학계는 상기 제2 부분조명광을 광학적으로 릴레이하여 상기 제1 입사각을 가지는 광속으로서 상기 제2 입사구에 도입하는 제3 릴레이 광학계와 교환 가능하게 설치되는 것을 특징으로 하는 조명장치. - 청구항 1 내지 11 중 어느 한 항에 있어서,
상기 공통의 사출구로부터 사출되는 상기 조명광 중 상기 제1 입사구를 통한 상기 조명광과 상기 제2 입사구를 통한 상기 조명광과의 광량비(光量比)를 변화시키는 광량비 조정수단을 구비한 것을 특징으로 하는 조명장치. - 청구항 12에 있어서,
상기 광원수단은 상기 제1 입사구 또는 상기 제2 입사구에 대응된 복수의 발광부를 가지고,
상기 광량비 조정수단은 상기 제1 입사구에 대응된 상기 발광부에 공급하는 전력과, 상기 제2 입사구에 대응된 상기 발광부에 공급하는 전력과의 전력비를 변화시키는 것을 특징으로 하는 조명장치. - 청구항 1 내지 13 중 어느 한 항에 기재한 조명장치와,
상기 조명장치가 사출하는 조명광에 의해서 조명되는 물체의 투영상(投影像)을 감광(感光)기판상에 형성하는 투영광학계를 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치. - 청구항 1 내지 13 중 어느 한 항에 기재한 조명장치가 사출하는 조명광에 의해서 물체를 조명하는 조명공정과,
상기 조명광에 의해서 조명된 상기 물체의 투영상을 감광기판상에 형성하는 투영공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광방법. - 청구항 1 내지 13 중 어느 한 항에 기재한 조명장치가 사출하는 조명광에 의해서 물체를 조명하고, 이 물체의 투영상을 감광기판에 전사(轉寫)하는 노광공정과,
상기 투영상이 전사된 상기 감광기판을 현상(現像)하고, 상기 투영상에 대응하는 형상의 전사패턴층을 상기 감광기판상에 생성하는 현상공정과,
상기 전사패턴층을 통하여 상기 감광기판을 가공하는 가공공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0757986A (ja) | 1993-06-30 | 1995-03-03 | Nikon Corp | 露光装置 |
KR960001905A (ko) * | 1994-06-29 | 1996-01-26 | 오노 시게오 | 조명 광학 장치 및 그를 사용하는 주사형 노광 장치 |
JP2001330964A (ja) * | 2000-05-22 | 2001-11-30 | Nikon Corp | 露光装置および該露光装置を用いたマイクロデバイス製造方法 |
JP2003295459A (ja) * | 2002-04-02 | 2003-10-15 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
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Patent Citations (5)
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JP2001330964A (ja) * | 2000-05-22 | 2001-11-30 | Nikon Corp | 露光装置および該露光装置を用いたマイクロデバイス製造方法 |
JP2003295459A (ja) * | 2002-04-02 | 2003-10-15 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2006330441A (ja) * | 2005-05-27 | 2006-12-07 | Nikon Corp | 投影露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
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