KR20100104911A - 반도체 패키지 - Google Patents

반도체 패키지 Download PDF

Info

Publication number
KR20100104911A
KR20100104911A KR1020090023629A KR20090023629A KR20100104911A KR 20100104911 A KR20100104911 A KR 20100104911A KR 1020090023629 A KR1020090023629 A KR 1020090023629A KR 20090023629 A KR20090023629 A KR 20090023629A KR 20100104911 A KR20100104911 A KR 20100104911A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
conductive pattern
conductive
pattern
signal
ground
Prior art date
Application number
KR1020090023629A
Other languages
English (en)
Inventor
조영준
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020090023629A priority Critical patent/KR20100104911A/ko
Priority to US12/659,435 priority patent/US8692133B2/en
Publication of KR20100104911A publication Critical patent/KR20100104911A/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49838Geometry or layout
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/50Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor for integrated circuit devices, e.g. power bus, number of leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • H01L2224/48228Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item the bond pad being disposed in a recess of the surface of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49171Fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92Specific sequence of method steps
    • H01L2224/922Connecting different surfaces of the semiconductor or solid-state body with connectors of different types
    • H01L2224/9222Sequential connecting processes
    • H01L2224/92242Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
    • H01L2224/92247Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01078Platinum [Pt]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/06Polymers
    • H01L2924/078Adhesive characteristics other than chemical
    • H01L2924/07802Adhesive characteristics other than chemical not being an ohmic electrical conductor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1517Multilayer substrate
    • H01L2924/15172Fan-out arrangement of the internal vias
    • H01L2924/15173Fan-out arrangement of the internal vias in a single layer of the multilayer substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1517Multilayer substrate
    • H01L2924/15182Fan-in arrangement of the internal vias
    • H01L2924/15183Fan-in arrangement of the internal vias in a single layer of the multilayer substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 패키지를 제공한다. 이 패키지는 서로 대향하는 전면 및 배면을 갖는 절연 기판, 절연 기판의 전면 상에 배치되는 제 1 신호 도전패턴과 서로 이격되어 배치되는 제 1 및 제 2 접지 도전패턴를 포함하는 회로 패턴, 제 1 신호 도전패턴을 덮되, 제 1 접지 도전패턴의 제 1 일부를 노출하며 제 2 접지 도전패턴의 일부를 노출하는 제 1 절연막 및 제 1 절연막을 덮어 상기 제 1 접지 도전패턴의 제 1 일부와 제 2 접지 도전패턴의 일부와 접촉하여 제 1 및 제 2 접지 도전패턴을 전기적으로 연결하고, 제 1 신호 도전패턴 상에 배치되는 제 1 도전 부재를 포함한다.
반도체 패키지, 배선, 반도체 칩

Description

반도체 패키지{Semiconductor Package}
본 발명은 반도체 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 반도체 패키지에 관한 것이다.
반도체 산업에 있어서 반도체 소자 및 이를 이용한 전자 제품의 고용량, 박형화, 소형화에 대한 수요가 많아져 이에 관련된 다양한 패키지 기술이 속속 등장하고 있다. 패키지 기술은 인쇄 회로 기판과 관계된 박형화 하는 기술을 포함한다.
인쇄 회로 기판(Printed Circuit Board:PCB)은 기판 및 기판 상에 형성되고 전기적 신호를 전달할 수 있는 도전배선을 포함할 수 있다. 인쇄회로기판의 도전배선은 전기회로를 구성하고, 전기회로를 이용하여 인쇄회로기판에 탑재된 전자부품이 구동될 수 있다.
본 발명은 인접한 신호 도전패턴 간의 간섭 현상이 저감된 반도체 패키지를 제공함에 있다.
본 발명은 높이가 낮은 반도체 패키지를 제공함에 있다.
상술한 기술적 과제들을 해결하기 위한 반도체 패키지를 제공한다. 이 패키지는 서로 대향하는 전면 및 배면을 갖는 절연 기판; 상기 절연 기판의 전면 상에 배치되는 제 1 신호 도전패턴과 서로 이격되어 배치되는 제 1 및 제 2 접지 도전패턴를 포함하는 회로 패턴; 상기 제 1 신호 도전패턴을 덮되, 상기 제 1 접지 도전패턴의 제 1 일부를 노출하며 상기 제 2 접지 도전패턴의 일부를 노출하는 제 1 절연막; 및 상기 제 1 절연막을 덮어 상기 제 1 접지 도전패턴의 제 1 일부와 상기 제 2 접지 도전패턴의 일부와 접촉하여 상기 제 1 및 제 2 접지 도전패턴을 전기적으로 연결하고, 상기 제 1 신호 도전패턴 상에 배치되는 제 1 도전 부재를 포함한다.
본 발명의 제 1 실시예에 따르면, 상기 제 1 접지 도전패턴은 상기 전면의 일측의 가장 자리에 배치되고, 상기 제 2 접지 도전패턴은 상기 일측과 마주보는 다른 측의 가장 자리에 배치되거나 상기 전면의 중심부에 배치될 수 있다.
본 발명의 제 1 실시예에 따르면, 상기 제 1 신호 도전패턴은 상기 전면의 가장 자리에 배치되며 상기 제 1 및 제 2 접지 도전패턴 사이로 연장되거나 상기 제 1 및/또는 제 2 접지 도전패턴에 따라 인접하여 연장될 수 있다.
본 발명의 제 1 실시예에 따르면, 상기 전면 상에 상기 제 1 도전 부재의 개재 하에 실장되며 상기 회로 패턴과 전기적으로 연결되는 반도체 칩을 더 포함할 수 있다. 상기 제 1 도전 부재는 도전성 접착층을 포함하되, 상기 반도체 칩은 상기 제 1 도전 부재에 의해 상기 절연 기판에 고정될 수 있다.
본 발명의 제 2 실시예에 따르면, 상기 회로 패턴은 상기 전면 상에 상기 제 1 신호 도전패턴과 이격되는 제 2 신호 도전패턴 및 서로 이격되어 배치되는 제 1 및 제 2 전원 도전패턴을 더 포함할 수 있다. 상기 제 1 절연막은 상기 제 2 신호 도전패턴을 덮되, 상기 제 1 전원 도전패턴의 제 1 일부를 노출하며 상기 제 2 전원 도전패턴의 일부를 노출할 수 있다.
본 발명의 제 2 실시예에 따르면, 상기 제 1 절연막을 덮어 상기 제 1 전원 도전패턴의 제 1 일부와 상기 제 2 전원 도전패턴의 일부와 전기적으로 접촉하고, 상기 제 2 신호 도전패턴 상에 배치되는 제 2 도전 부재 및 상기 제 2 도전 부재를 덮어 상기 반도체 칩과 상기 제 2 도전 부재를 전기적으로 분리시키는 절연 부재를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 제 2 실시예에 따르면, 상기 제 1 도전 부재 및 상기 제 2 도전 부재는 서로 이격되어 전기적으로 분리되되, 상기 반도체 칩은 상기 반도체 칩은 상기 제 1 도전 부재 상 및 상기 절연 부재 상에 적층될 수 있다.
본 발명의 제 2 실시예에 따르면, 상기 제 2 도전 부재는 도전성 접착층을 포함하고, 상기 절연 부재는 절연성 접착층을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 절연 기판을 관통하고, 상기 회로 패턴과 전기적으로 연결되는 관통 도전패턴; 및 상기 절연 기판의 배면 상에 배치되고, 관통 도전패턴과 전기적으로 연결되는 외부 연결부재를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 제 1 신호 도전패턴의 신호 리턴 패스의 길이 가 짧아 질 수 있다. 인접한 제 1 신호 도전패턴 간의 간섭 현상(cross talk)이 저감될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 레퍼런스 플레인의 형성을 위해 회로 패턴을 다층으로 갖는 인쇄회로기판을 사용할 필요가 없다. 이에 따라, 높이가 낮은 반도체 패키지를 제공할 수 있다.
첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
(제 1 실시예)
도 1 및 도 2를 참조하여, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 패키지를 설명한다. 상기 반도체 패키지(500)는 절연 기판(100), 절연 기판(100) 상에 실장된 반도체 칩(200) 및 절연 기판(100)과 반도체 칩(200) 사이에 개재되는 도전 부재(140)를 포함한다.
절연 기판(100)은 서로 대향하는 전면(102) 및 배면(104)을 갖는다. 절연 기판(100)은 가령, 에폭시 수지 및 유리섬유를 포함할 수 있다. 관통 도전패턴(130)이 절연 기판(100)을 관통할 수 있다. 관통 도전패턴(130)은 복수개로 서로 이격되 어 배치될 수 있다. 관통 도전패턴(130)은 도전성이 좋은 금속 가령, 구리를 포함할 수 있다. 제 1 및 제 2 접지 도전패턴(112A, 112B), 제 1 신호 도전패턴(116), 및 제 1 전원 도전패턴(117)이 절연 기판(100)의 전면(102) 상에 배치될 수 있다. 제 1 및 제 2 접지 도전패턴(112A, 112B), 제 1 신호 도전패턴(116), 및 제 1 전원 도전패턴(117)은 제 1 회로 패턴을 구성할 수 있다. 제 1 회로 패턴은 전도성이 좋은 금속 가령, 구리를 포함할 수 있다.
제 1 및 제 2 접지 도전패턴(112A, 112B)은 서로 이격된다. 제 1 접지 도전패턴(112A)은 절연 기판(100)의 전면(102)의 양측의 가장자리 및/또는 다른 양측의 가장 자리에 배치될 수 있다. 제 2 접지 도전패턴(112B)은 절연 기판(100)의 전면(102)의 양측의 가장자리 및/또는 다른 양측의 가장 자리에 배치될 수 있다. 제 1 및 제 2 접지 도전패턴(112A, 112B) 각각은 전면의 중심부에 배치될 수 있다. 예를 들면, 제 1 접지 도전패턴(112A)은 절연 기판(100)의 전면(102)의 일측의 가장자리에 배치되고, 제 2 접지 도전패턴(112B)은 일측을 마주보는 다른 측의 가장자리에 배치될 수 있다. 제 1 접지 도전패턴(112A)은 절연 기판(100)의 전면(102)의 일측의 가장자리에 배치되고, 제 2 접지 도전패턴(112B)은 그 전면의 중심부에 배치될 수 있다. 제 1 및 제 2 접지 도전패턴(112A, 112B) 각각의 길이는 제 1 신호 도전패턴(116)의 길이에 비해 짧을 수 있다.
제 1 신호 도전패턴(116)은 절연 기판(100)의 전면(102)의 양측의 가장자리 및/또는 다른 양측의 가장 자리에 배치될 수 있다. 예를 들면, 제 1 신호 도전패턴(116)은 상기 가장자리에서 배치되며 제 1 및 제 2 접지 도전패턴(112A, 112B) 사이에 연장될 수 있다. 제 1 신호 도전패턴(116)은 제 1 또는/및 제 2 접지 도전패턴(112B)에 따라 인접하여 연장될 수 있다. 제 1 및 제 2 접지 도전패턴(112A, 112B)의 길이가 짧음에 따라, 제 1 신호 도전패턴(116)은 보다 많은 수로 또는 그 길이가 연장되어 배치될 수 있다. 제 1 전원 도전패턴(117)은 절연 기판(100)의 전면(102)의 양측의 가장자리 및/또는 다른 양측의 가장 자리에 배치될 수 있다.
제 1 절연막(106)이 절연 기판(100)의 전면(102)을 덮되, 제 1 접지 도전패턴(112A)의 제 1 일부(112AB), 제 1 신호 도전패턴(116)의 일부(116B) 및 제 1 전원 도전패턴(117)의 일부(117B)를 노출할 수 있다. 제 1 절연막(106)은 가령, 포토 솔더 레지스트(photo solder resist)막을 포함할 수 있다. 제 1 접지 도전패턴(112A)의 제 1 일부(112AB), 제 1 신호 도전패턴(116)의 일부(116B) 및 제 1 전원 도전패턴(117)의 일부(117B)는 절연 기판(100)의 전면(102)의 서로 마주보는 양측에 인접할 수 있다. 제 1 절연막(106)은 제 1 접지 도전패턴(112A)의 제 1 일부(112AB)와 이격되는 제 1 접지 도전패턴(112A)의 제 2 일부(112AC) 및 제 2 접지 도전패턴(112B)의 일부(112BC)를 노출한다. 제 1 접지 도전패턴(112A)의 제 2 일부(112AC)와 제 2 접지 도전패턴(112B)의 일부(112BC) 사이에 연장된 제 1 신호 도전패턴(116)이 배치될 수 있다.
도전 부재(140)가 제 1 절연막(106)을 덮어 제 1 접지 도전패턴(112A)의 제 2 일부(112AC) 및 제 2 접지 도전패턴(112B)의 일부(112BC)와 전기적으로 접촉한다. 도전 부재(140)는 도전성 접착층을 포함할 수 있다. 도전 부재(140)는 가령, 에폭시 계열의 고분자 물질 및 상기 고분자 물질에 첨가된 전도성 물질을 포함할 수 있다. 도전 부재(140)에 의해, 서로 이격된 제 1 및 제 2 접지 도전패턴(112A, 112B)이 전기적으로 연결된다. 도전 부재(140)는 넓은 면적을 가지며 제 1 절연막(106)의 개재 하에 제 1 신호 도전패턴(116)을 덮는다.
반도체 칩(200)은 도전 부재(140) 상에 적층된다. 제 1 반도체 칩(200)은 메모리 칩 또는 로직 칩일 수 있다. 적층된 반도체 칩(200)의 상면은 위를 향하고, 반도체 칩(200)의 배면은 절연 기판(100)의 전면(102)을 향한다. 반도체 칩(200)의 상면에 접지 패드, 전원 패드 및 신호 패드를 포함하는 칩 패드(미도시)가 배치될 수 있다. 반도체 칩(200)의 칩 패드는 도전성 연결부재(160) 가령, 본딩 와이어에 의해, 제 1 회로 패턴 가령, 제 1 접지 도전패턴(112A)의 제 1 일부(112AB), 제 1 신호 도전패턴(116)의 일부(116B) 및 제 1 전원 도전패턴(117)의 일부(117B)와 전기적으로 연결된다.
제 3 접지 도전패턴(122), 제 2 신호 도전패턴(126) 및 제 2 전원 도전패턴(미도시)이 절연 기판(100)의 배면(104) 상에 배치될 수 있다. 제 3 접지 도전패턴(122), 제 2 신호 도전패턴(126) 및 제 2 전원 도전패턴은 제 2 회로 패턴을 구성할 수 있다. 제 2 회로 패턴은 도전성이 좋은 금속 가령, 구리를 포함할 수 있다. 제 2 회로 패턴은 관통 도전패턴(130)에 의해 제 1 회로 패턴과 전기적으로 연결된다. 가령, 제 3 접지 도전패턴(122)은 관통 도전패턴(130)에 의해 제 1 접지 도전패턴(112A)과 전기적으로 연결될 수 있다. 제 2 신호 도전패턴(126)은 관통 도전패턴(130)에 의해 제 1 신호 도전패턴(116)과 전기적으로 연결될 수 있다.
제 2 절연막(108)이 절연 기판(100)의 배면(104)을 덮되, 제 3 접지 도전패 턴(122)의 일부, 제 2 신호 도전패턴(126)의 일부, 및 제 2 전원 도전패턴(미도시)의 일부를 노출할 수 있다. 제 2 절연막(108)은 가령, 포토 솔더 레지스트를 포함할 수 있다. 외부 접속 단자(170), 가령 솔더 볼이 제 3 접지 도전패턴(122)의 일부 상, 제 2 신호 도전패턴(126)의 일부 상 및 제 2 전원 도전패턴(미도시)의 일부 상에 패드(168)를 개재하여 배치될 수 있다. 절연 기판(100)의 배면(104) 상에 외부 접속 단자(170)를 자유로이 배치하기 위해, 제 2 회로 패턴은 재배선 도전패턴으로 사용될 수 있다. 제 2 회로 패턴과 외부 접속 단자(170)은 외부 연결 부재를 구성할 수 있다. 이와 달리, 제 3 접지 도전패턴(122), 제 2 신호 도전패턴(126) 및 제 2 전원 도전패턴을 배치하지 않고, 관통 도전패턴(130)의 하면 상에 패드(168)를 개재하여 외부 접속 단자(170)를 배치할 수 있다.
본 발명의 제 1 실시예에 따르면, 제 1 및 제 2 접지 도전패턴(112A, 112B)와 전기적으로 연결되는 도전 부재(140)는 제 1 절연막(106)의 개재 하에 제 1 신호 도전패턴(116) 상에 배치된다. 따라서, 제 1 신호 도전패턴(116)의 신호 리턴 패스(signal return path, P)는 제 1 신호 도전패턴(116) 바로 위에 인접한 도전 부재(140)의 부분에 형성될 수 있다. 이에 따라, 제 1 신호 도전패턴(116)의 신호 리턴 패스의 길이가 도전 부재(140) 없는 경우에 비해, 짧아 질 수 있다. 게다가, 제 1 신호 도전패턴(116) 상의 도전 부재(140)에 제 1 신호 도전패턴(116) 간에 발생하는 전자기장을 집중시키는 레퍼런스 플레인(reference plane)이 형성될 수 있다. 도전 부재(140)는 넓은 면적을 가지며 제 1 신호 도전패턴(116) 상에 배치되므로, 인접하는 제 1 신호 도전패턴(116) 간의 전자기장의 영향이 적어질 수 있다. 이에 따라, 제 1 신호 도전패턴(116) 간의 간섭 현상(cross talk)이 저감될 수 있다.
본 발명의 제 1 실시예에 따르면, 제 1 신호 도전패턴(116) 상의 도전 부재(140)에 레퍼런스 플레인이 형성될 수 있으므로, 레퍼런스 플레인의 형성을 위해 회로 패턴을 다층으로 갖는 인쇄회로기판을 사용할 필요가 없다. 이에따라, 높이가 낮은 반도체 패키지(500)를 제공할 수 있다.
도 3a 내지 도 6a와 도 3b 내지 도 6b를 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 패키지의 제조 방법을 설명한다.
도 3a 및 도 3b를 참조하면, 서로 대향하는 전면(102) 및 배면(104)을 갖는 절연 기판(100)을 제공한다. 절연 기판(100)은 가령, 에폭시 수지 및 유리섬유를 포함할 수 있다. 절연 기판(100)을 관통하는 관통 도전패턴(130)을 형성할 수 있다. 관통 도전패턴(130)은 가령, 절연 기판(100)을 관통하는 홀 형성한 후, 홀을 채우는 도금 공정을 수행하여 형성될 수 있다. 관통 도전패턴(130)은 도전성이 좋은 금속 가령, 구리를 포함할 수 있다. 관통 도전패턴(130)은 복수개로 서로 이격되어 배치될 수 있다.
절연 기판(100)의 전면(102) 상에 제 1 및 제 2 접지 도전패턴(112A, 112B), 제 1 신호 도전패턴(116), 및 제 1 전원 도전패턴(117)을 형성할 수 있다. 제 1 및 제 2 접지 도전패턴(112A, 112B), 제 1 신호 도전패턴(116), 및 제 1 전원 도전패턴(117)은 제 1 회로 패턴을 구성할 수 있다. 제 1 회로 패턴은 가령, 구리 도금 후 에칭하여 형성되거나, 선택적으로 필요한 부분만을 도금하여 형성될 수 있다. 제 1 회로 패턴은 도전성이 좋은 금속 가령, 구리를 포함할 수 있다.
제 1 및 제 2 접지 도전패턴(112A, 112B)은 서로 이격된다. 제 1 접지 도전패턴(112A)은 절연 기판(100)의 전면(102)의 양측의 가장자리 및/또는 다른 양측의 가장 자리에 배치될 수 있다. 제 2 접지 도전패턴(112B)은 절연 기판(100)의 전면(102)의 양측의 가장자리 및/또는 다른 양측의 가장 자리에 배치될 수 있다. 제 1 및 제 2 접지 도전패턴(112A, 112B)은 전면의 중심부에 배치될 수 있다. 예를 들면, 제 1 접지 도전패턴(112A)은 절연 기판(100)의 전면(102)의 일측의 가장자리에 배치되고, 제 2 접지 도전패턴(112B)은 일측을 마주보는 다른 측의 가장자리에 배치될 수 있다. 제 1 접지 도전패턴(112A)은 절연 기판(100)의 일측의 가장자리에 배치되고, 제 2 접지 도전패턴(112B)은 전면의 중심부에 배치될 수 있다. 제 1 신호 도전패턴(116)은 절연 기판(100)의 전면(102)의 양측의 가장자리 및/또는 다른 양측의 가장 자리에 배치될 수 있다. 예를 들면, 제 1 신호 도전패턴(116)은 상기 가장자리에서 배치되며 제 1 및 제 2 접지 도전패턴(112A, 112B) 사이에 연장될 수 있다. 제 1 신호 도전패턴(116)은 제 1 또는/및 제 2 접지 도전패턴(112B)에 따라 인접하여 연장될 수 있다. 제 1 전원 도전패턴(117)은 절연 기판(100)의 전면(102)의 양측의 가장자리 및/또는 다른 양측의 가장 자리에 배치될 수 있다.
절연 기판(100)의 배면(104) 상에 제 3 접지 도전패턴(122), 제 2 신호 도전패턴(126) 및 제 2 전원 도전패턴(미도시)을 형성할 수 있다. 제 3 접지 도전패턴(122), 제 2 신호 도전패턴(126) 및 제 2 전원 도전패턴은 제 2 회로 패턴을 구성할 수 있다. 제 2 회로 패턴은 전도성이 좋은 금속 가령, 구리를 포함할 수 있 다. 제 2 회로 패턴은 가령, 구리 도금 후 에칭하여 형성되거나, 선택적으로 필요한 부분만을 도금하여 형성될 수 있다. 제 2 회로 패턴은 관통 도전패턴(130)에 의해 제 1 회로 패턴과 전기적으로 연결된다. 가령, 제 3 접지 도전패턴(122)은 관통 도전패턴(130)에 의해 제 1 접지 도전패턴(112A)과 전기적으로 연결될 수 있다. 제 2 신호 도전패턴(126)은 관통 도전패턴(130)에 의해 제 1 신호 도전패턴(116)과 전기적으로 연결될 수 있다.
도 4a 및 도 4b를 참조하면, 절연 기판(100)의 전면(102)을 덮되, 제 1 접지 도전패턴(112A)의 제 1 일부(112AB), 제 1 신호 도전패턴(116)의 일부(116B) 및 제 1 전원 도전패턴(117)의 일부(117B)를 노출하며, 제 1 접지 도전패턴(112A)의 제 2 일부(112AC)와 제 2 접지 도전패턴(112B)의 일부(112BC)를 노출하는 제 1 절연막(106)을 형성할 수 있다. 제 1 절연막(106)은 가령, 포토 솔더 레지스트(photo solder resist)막으로 형성될 수 있다. 제 1 절연막(106)의 형성 공정은 노광 및 현상 공정을 포함할 수 있다. 제 1 접지 도전패턴(112A)의 제 1 일부(112AB), 제 1 신호 도전패턴(116)의 일부(116B) 및 제 1 전원 도전패턴(117)의 일부(117B)는 절연 기판(100)의 전면(102)의 서로 마주보는 양측에 인접할 수 있다. 제 1 접지 도전패턴(112A)의 제 2 일부(112AC)와 제 2 접지 도전패턴(112B)의 일부(112BC) 사이에 연장된 제 1 신호 도전패턴(116)이 배치될 수 있다.
절연 기판(100)의 배면(104)을 덮되, 제 3 접지 도전패턴(122)의 일부, 제 2 신호 도전패턴(126)의 일부, 및 제 2 전원 도전패턴(미도시)의 일부를 노출하는 제 2 절연막(108)을 형성할 수 있다. 제 2 절연막(108)은 가령, 포토 솔더 레지스트로 형성될 수 있다. 제 2 절연막(108)은 제 1 절연막(106)과 동시에 형성될 수 있다.
도 5a 및 도 5b를 참조하면, 제 1 절연막(106) 상에 도전 부재(140)를 형성하여 제 1 접지 도전패턴(112A)의 제 2 일부(112AC) 및 제 2 접지 도전패턴(112B)의 일부(112BC)와 전기적으로 접촉시킨다. 도전 부재(140)는 도전성 접착층을 포함할 수 있다. 도전 부재(140)는 가령, 에폭시 계열의 고분자 물질 및 상기 고분자 물질에 첨가된 전도성 물질을 포함할 수 있다. 도전 부재(140)에 의해, 서로 이격된 제 1 및 제 2 접지 도전패턴(112A, 112B)이 전기적으로 연결된다.
도 6a 및 도 6b를 참조하면, 반도체 칩(200)을 도전 부재(140) 상에 적층하여 절연 기판(100)의 전면(102) 상에 실장한다. 반도체 칩(200)은 도전 부재(140) 가령, 도전성 접착층을 경화시켜 절연 기판(100)의 전면(102) 상에 고정된다. 반도체 칩(200)의 상면은 위를 향하고, 반도체 칩(200)의 배면은 절연 기판(100)의 전면(102)을 향한다. 반도체 칩(200)의 상면에 접지 패드, 전원 패드 및 신호 패드를 포함하는 칩 패드(미도시)가 배치될 수 있다. 반도체 칩(200)의 칩 패드는 도전성 연결부재(160) 가령, 본딩 와이어에 의해, 제 1 회로 패턴 가령, 제 1 접지 도전패턴(112A)의 제 1 일부(112AB), 제 1 신호 도전패턴(116)의 일부(116B) 및 제 1 전원 도전패턴(117)의 일부(117B)와 전기적으로 연결된다.
절연 기판(100)의 배면(104)의 노출된 제 2 회로 패턴의 일부 상 가령, 제 3 접지 도전패턴(122)의 일부 상, 제 2 전원패턴(미도시)의 일부 상, 및 제 2 신호 도전패턴(126)의 일부 상에 패드(168)를 개재하여 외부 접속 단자(170) 가령, 솔더 볼을 형성한다. 이에 따라, 제 1 신호 도전패턴(116) 상에 형성된 도전 부재(140) 를 구비한 반도체 패키지를 완성한다.
(제 2 실시예)
도 7 내지 도 9를 참조하여, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 패키지를 설명한다. 제 1 영역(10)은 절연 기판(300)의 전면(302) 일부 상에 제 1 신호 도전패턴(316) 및 서로 이격되는 제 1 및 제 2 접지 도전패턴(312A, 312B)이 배치되는 영역일 수 있다. 제 2 영역(20)은 절연 기판(300)의 전면(302)의 다른 일부 상에 제 1 신호 도전패턴(316) 및 서로 이격되는 제 1 및 제 2 전원 도전패턴(314A, 314B)이 배치되는 영역일 수 있다. 제 1 영역(10)에 배치되는 구성들은 도 8에 도시되나 제 1 실시예과 유사하므로 이에 대한 설명은 간략히 하고, 제 2 영역(20)에 배치되는 구성들이 설명된다.
상기 반도체 패키지(600)는 절연 기판(300), 반도체 칩(400), 제 1 도전 부재(342), 제 2 도전 부재(344) 및 제 2 도전 부재(344) 상의 절연 부재(350)를 포함할 수 있다. 절연 기판(300)은 서로 대향하는 전면 및 배면을 갖는다. 관통 도전패턴(330)이 절연 기판(300)을 관통할 수 있다.
제 1 및 제 2 전원 도전패턴(314A, 314B)과 제 2 영역(20)의 제 1 신호 도전패턴(316)이 제 2 영역(20)의 절연 기판(300)의 전면(302) 상에 배치될 수 있다.
제 1 및 제 2 전원 도전패턴(314A, 314B)은 서로 이격된다. 제 1 전원 도전패턴(314A)은 제 2 영역(20)의 절연 기판(300)의 전면(302)의 일측의 가장자리에 배치되고, 제 2 전원 도전패턴(314B)은 일측을 마주보는 다른 측의 가장자리에 배치될 수 있다. 제 1 및 제 2 전원 도전패턴(314A, 314B) 각각의 길이는 제 2 영 역(20)의 제 1 신호 도전패턴(316)의 길이에 비해 짧을 수 있다.
제 2 영역(20)의 제 1 신호 도전패턴(316)은 제 2 영역(20)의 절연 기판(300)의 전면(302)의 양측의 가장자리에서 배치되며, 제 1 및 제 2 전원 도전패턴(314A, 314B) 사이에 연장될 수 있다. 제 1 및 제 2 전원 도전패턴(314A, 314B)에 길이가 짧음에 따라, 제 2 영역(20)의 제 1 신호 도전패턴(316)은 보다 많은 수로 또는 그 길이가 연장되어 배치될 수 있다.
제 1 절연막(306)이 절연 기판(300)의 전면(302)을 덮되, 제 1 전원 도전패턴(314A)의 제 1 일부(314AB), 제 2 영역(20)의 제 1 신호 도전패턴(316)의 일부(316B)를 노출할 수 있다. 제 1 절연막(306)은 가령, 포토 솔더 레지스트(photo solder resist)막을 포함할 수 있다. 제 1 전원 도전패턴(314A)의 제 1 일부(314AB) 및 제 2 영역(20)의 제 1 신호 도전패턴(316)의 일부(316B)는 제 2 영역(20)의 절연 기판(300)의 전면(302)의 서로 마주보는 양측에 인접할 수 있다. 제 1 절연막(306)은 제 1 전원 도전패턴(314A)의 제 1 일부(314AB)와 이격되는 제 1 전원 도전패턴(314A)의 제 2 일부(314AC) 및 제 2 전원 도전패턴(314B)의 일부(314BC)를 노출할 수 있다. 제 1 전원 도전패턴(314A)의 제 2 일부(314AC)와 제 2 전원 도전패턴(314B)의 일부(314BC) 사이에 연장된 제 2 영역(20)의 제 1 신호 도전패턴(316)이 배치될 수 있다.
제 2 도전 부재(344)가 제 2 영역(20)의 제 1 절연막(306)을 덮어 제 1 전원 도전패턴(314A)의 제 2 일부(314AC) 및 제 2 전원 도전패턴(314B)의 일부(314BC)와 전기적으로 접촉한다. 제 2 도전 부재(344)는 도전성 접착층을 포함할 수 있다. 제 2 도전 부재(344)에 의해, 서로 이격된 제 1 및 제 2 전원 도전패턴(314A, 314B)이 전기적으로 연결된다. 제 2 도전 부재(344)는 넓은 면적을 가지며 제 1 절연막(306)의 개재 하에 제 2 영역(20)의 제 1 신호 도전패턴(316)을 덮는다. 제 2 도전 부재(344)는 제 1 영역의 제 1 도전 부재(342)와 이격되어 전기적으로 분리된다. 절연 부재(350)가 제 2 도전 부재(344) 상에 배치된다. 절연 부재(350)는 절연성 접착층를 포함할 수 있다. 절연 부재(350)는 가령, 수지를 포함할 수 있다. 절연 부재(350)는 제 2 도전 부재(344)를 덮어 반도체 칩(400)과 제 2 도전 부재(344)와 전기적으로 절연시킨다. 절연 부재(350)는 반도체 칩(400)의 면적에 대응하여 제 2 도전 부재(344)의 일부를 덮을 수 있다.
반도체 칩(400)은 제 1 도전 부재(342) 상 및 절연 부재(350) 상에 적층될 수 있다. 적층된 반도체 칩(400)의 상면은 위를 향하고, 반도체 칩(400)의 배면은 절연 기판(300)의 전면(302)을 향한다. 반도체 칩(400)은 도전성 연결부재(360) 가령, 본딩 와이어에 의해, 제 1 전원 도전패턴(314A)의 제 1 일부(314AB) 및 제 2 영역(20)의 제 1 신호 도전패턴(316)의 일부(316B)와 전기적으로 연결될 수 있다.
제 3 전원 도전패턴(322) 및 제 2 신호 도전패턴(326)이 제 2 영역(20)의 절연 기판(300)의 배면(304) 상에 배치될 수 있다. 제 3 전원 도전패턴(322)은 관통 도전패턴(330)에 의해 제 1 전원 도전패턴(314A)과 전기적으로 연결될 수 있다. 제 2 신호 도전패턴(326)은 관통 도전패턴(330) 의해 제 2 영역(20)의 제 1 신호 도전패턴(316)과 전기적으로 연결될 수 있다.
제 2 절연막(306)이 절연 기판(300)의 배면(304)을 덮되, 제 3 전원 도전패 턴(322)의 일부 및 제 2 신호 도전패턴(326)의 일부를 노출할 수 있다. 외부 접속 단자(360), 가령 솔더 볼이 제 3 전원 도전패턴(322)의 일부 상, 제 2 신호 도전패턴(326)의 일부 상에 패드(368)를 개재하여 배치될 수 있다.
본 발명의 제 1 실시예와 달리, 제 1 및 제 2 전원 도전패턴(314A, 314B)에 전기적으로 연결되는 제 2 도전 부재(344)는 절연 부재(350)에 의해 반도체 칩(400)과 절연된다. 이에 따라, 제 2 도전 부재(344)는 제 2 영역(20)의 제 2 영역(20)의 제 1 신호 도전패턴(316) 상에 배치될 수 있다. 결과적으로, 제 2 영역(20)의 제 1 신호 도전패턴(316)의 신호 리턴 패스(signal return path, P)는 제 2 영역(20)의 제 1 신호 도전패턴(316) 바로 위에 인접한 제 2 도전 부재(344)의 부분에 형성될 수 있다.
도 10을 참조하여, 본 발명의 실시예들에 따른 반도체 패키지(500, 600)를 포함하는 메모리 카드 시스템(800)이 설명된다. 상기 메모리 카드 시스템(800)은 컨트롤러(810), 메모리(820) 및 인터페이서(830)를 포함할 수 있다. 상기 메모리(820)는, 예를 들어, 상기 컨트롤러(810)에 의해 실행되는 명령어(command), 및/또는 사용자의 데이터(data)를 저장하는 데 사용될 수 있다. 상기 컨트롤러(810)와 상기 메모리(820)는 상기 명령어 및/또는 데이터를 주고 받을 수 있도록 구성될 수 있다. 상기 인터페이서(830)는 외부와의 데이터의 입출력을 담당할 수 있다. 본 발명의 실시예들에 따른, 인접한 신호 도전패턴 간의 간섭 현상이 저감되고 높이가 낮은 반도체 패키지(500, 600)는 컨트롤러(810) 및 메모리(820)의 기능을 수행할 수 있다.
상기 메모리 카드 시스템(800)은 멀티 미디어 카드(multimedia card: MMC), 시큐어 디지털 카드(secure digital card: SD) 또는 휴대용 데이터 저장장치일 수 있다.
도 11을 참조하여, 본 발명의 실시예들에 따른 반도체 패키지(500, 600)를 포함하는 전자장치(1000)가 설명된다. 상기 전자장치(1000)는 프로세서(1010), 메모리(1010) 및 입출력 장치(I/O, 1030)를 포함할 수 있다. 상기 프로세서(1010), 메모리(1010) 및 입출력 장치(1030)는 버스(1040)를 통하여 연결될 수 있다. 상기 메모리(1020)는 상기 프로세서(1010)로부터, RAS*, WE*, CAS* 등의 제어 신호를 받을 수 있다. 상기 메모리(1010)는 버스(1040)를 통하여 액세스 되는 데이터를 저장하도록 사용될 수 있다. 발명의 구체적인 실현 및 변형을 위하여, 추가적인 회로 및 제어 신호들이 제공될 수 있음은 통상의 지식을 가진 자에게 자명할 것이다.
상기 전자 장치(1000)는 컴퓨터 시스템, 무선통신 장치 예를 들어, PDA, 랩톱(laptop) 컴퓨터, 휴대용 컴퓨터, 웹 태블릿(web tablet), 무선 전화기, 휴대폰, 디지털 음악 재생기(digital music player), MP3 플레이어, 네비게이션, 솔리드 스테이트 디스크(solid state disk: SSD), 가전제품(household appliance) 또는 정보를 무선환경에서 송수신할 수 있는 모든 소자에 사용될 수 있다.
상기한 실시예들의 설명은 본 발명의 더욱 철저한 이해를 제공하기 위하여 도면을 참조로 예를 든 것에 불과하므로, 본 발명을 한정하는 의미로 해석되어서는 안될 것이다. 그리고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 기본적 원리를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화와 변경이 가능함은 물론 이다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 패키지의 평면도이다.
도 2는 도 1의 점선 A-A'를 따라 자른 단면도이다.
도 3a는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 패키지의 제조 방법을 보여주는 평면도이다.
도 3b는 도 3a의 점선 A-A'를 따라 자른 단면도이다.
도 4a는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 패키지의 제조 방법을 보여주는 평면도이다.
도 4b는 도 4a의 점선 A-A'를 따라 자른 단면도이다.
도 5a는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 패키지의 제조 방법을 보여주는 평면도이다.
도 5b는 도 5a의 점선 A-A'를 따라 자른 단면도이다.
도 6a는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 패키지의 제조 방법을 보여주는 평면도이다.
도 6b는 도 6a의 점선 A-A'를 따라 자른 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 패키지의 평면도이다.
도 8은 도 7의 점선 A-A'를 따라 자른 단면도이다.
도 9는 도 1의 점선 B-B'를 따라 자른 단면도이다.
도 10은 본 발명의 실시예들에 따른 반도체 패키지를 포함하는 메모리 카드 시스템을 보여주기 위한 도면이다.
도 11은 본 발명의 실시예들에 따른 반도체 패키지를 포함하는 전자장치를 설명하기 위한 블럭도이다.

Claims (10)

  1. 서로 대향하는 전면 및 배면을 갖는 절연 기판;
    상기 절연 기판의 전면 상에 배치되는 제 1 신호 도전패턴과 서로 이격되어 배치되는 제 1 및 제 2 접지 도전패턴를 포함하는 회로 패턴;
    상기 제 1 신호 도전패턴을 덮되, 상기 제 1 접지 도전패턴의 제 1 일부를 노출하며 상기 제 2 접지 도전패턴의 일부를 노출하는 제 1 절연막; 및
    상기 제 1 절연막을 덮어 상기 제 1 접지 도전패턴의 제 1 일부와 상기 제 2 접지 도전패턴의 일부와 접촉하여 상기 제 1 및 제 2 접지 도전패턴을 전기적으로 연결하고, 상기 제 1 신호 도전패턴 상에 배치되는 제 1 도전 부재를 포함하는 반도체 패키지.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 접지 도전패턴은 상기 전면의 일측의 가장 자리에 배치되고, 상기 제 2 접지 도전패턴은 상기 일측과 마주보는 다른 측의 가장 자리에 배치되거나 상기 전면의 중심부에 배치되는 반도체 패키지.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 신호 도전패턴은 상기 전면의 가장 자리에 배치되며 상기 제 1 및 제 2 접지 도전패턴 사이로 연장되거나 상기 제 1 및/또는 제 2 접지 도전패턴에 따라 인접하여 연장되는 반도체 패키지.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 전면 상에 상기 제 1 도전 부재의 개재 하에 실장되며 상기 회로 패턴과 전기적으로 연결되는 반도체 칩을 더 포함하는 반도체 패키지.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 1 도전 부재는 도전성 접착층을 포함하되,
    상기 반도체 칩은 상기 제 1 도전 부재에 의해 상기 절연 기판에 고정되는 반도체 패키지.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 회로 패턴은 상기 전면 상에 상기 제 1 신호 도전패턴과 이격되는 제 2 신호 도전패턴 및 서로 이격되어 배치되는 제 1 및 제 2 전원 도전패턴을 더 포함하되,
    상기 제 1 절연막은 상기 제 2 신호 도전패턴을 덮되, 상기 제 1 전원 도전패턴의 제 1 일부를 노출하며 상기 제 2 전원 도전패턴의 일부를 노출하는 반도체 패키지.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 1 절연막을 덮어 상기 제 1 전원 도전패턴의 제 1 일부와 상기 제 2 전원 도전패턴의 일부와 전기적으로 접촉하고, 상기 제 2 신호 도전패턴 상에 배치되는 제 2 도전 부재; 및
    상기 제 2 도전 부재를 덮어 상기 반도체 칩과 상기 제 2 도전 부재를 전기적으로 분리시키는 절연 부재를 더 포함하는 반도체 패키지.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 1 도전 부재 및 상기 제 2 도전 부재는 서로 이격되어 전기적으로 분리되되,
    상기 반도체 칩은 상기 제 1 도전 부재 상 및 상기 절연 부재 상에 적층되는 반도체 패키지.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 도전 부재는 도전성 접착층을 포함하고, 상기 절연 부재는 절연성 접착층을 포함하는 반도체 패키지.
  10. 제 7 항에 있어서,
    상기 절연 기판을 관통하고, 상기 회로 패턴과 전기적으로 연결되는 관통 도전패턴; 및
    상기 절연 기판의 배면 상에 배치되고, 관통 도전패턴과 전기적으로 연결되 는 외부 연결부재를 더 포함하는 반도체 패키지.
KR1020090023629A 2009-03-19 2009-03-19 반도체 패키지 KR20100104911A (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090023629A KR20100104911A (ko) 2009-03-19 2009-03-19 반도체 패키지
US12/659,435 US8692133B2 (en) 2009-03-19 2010-03-09 Semiconductor package

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090023629A KR20100104911A (ko) 2009-03-19 2009-03-19 반도체 패키지

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20100104911A true KR20100104911A (ko) 2010-09-29

Family

ID=42737415

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090023629A KR20100104911A (ko) 2009-03-19 2009-03-19 반도체 패키지

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8692133B2 (ko)
KR (1) KR20100104911A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101229649B1 (ko) * 2011-04-21 2013-02-04 한국과학기술원 측면을 이용한 칩 적층방법, 이에 의하여 적층된 칩 어셈블리 및 이를 위한 칩 제조방법

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012173206A (ja) * 2011-02-23 2012-09-10 Yamanashi Nippon Denki Kk 磁気センサ及びその製造方法
US10354957B2 (en) * 2015-11-25 2019-07-16 Intel Corporation Electrical interconnect for a flexible electronic package

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4000054A (en) * 1970-11-06 1976-12-28 Microsystems International Limited Method of making thin film crossover structure
NL158025B (nl) * 1971-02-05 1978-09-15 Philips Nv Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze.
US4141055A (en) * 1977-04-27 1979-02-20 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Crossover structure for microelectronic circuits
US4118595A (en) * 1977-06-06 1978-10-03 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Crossovers and method of fabrication
US4289846A (en) * 1979-12-28 1981-09-15 General Electric Company Process for forming low-reactance interconnections on semiconductors
US5001542A (en) * 1988-12-05 1991-03-19 Hitachi Chemical Company Composition for circuit connection, method for connection using the same, and connected structure of semiconductor chips
US5086336A (en) * 1990-04-27 1992-02-04 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device card
JP2516314Y2 (ja) * 1990-10-15 1996-11-06 日本シイエムケイ株式会社 電磁波シールドプリント配線板
WO1996042107A1 (en) * 1995-06-13 1996-12-27 Hitachi Chemical Company, Ltd. Semiconductor device, wiring board for mounting semiconductor and method of production of semiconductor device
JPH09321165A (ja) * 1996-05-27 1997-12-12 Toshiba Corp 半導体装置用基板、半導体装置、カード型モジュール、及び情報記憶装置
US5686743A (en) * 1996-07-10 1997-11-11 Trw Inc. Method of forming airbridged metallization for integrated circuit fabrication
US6057600A (en) * 1997-11-27 2000-05-02 Kyocera Corporation Structure for mounting a high-frequency package
EP1156520A4 (en) * 1999-01-29 2004-08-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd METHOD AND DEVICE FOR MOUNTING ELECTRONIC PARTS
US6208031B1 (en) * 1999-03-12 2001-03-27 Fraivillig Technologies Circuit fabrication using a particle filled adhesive
JP2001035957A (ja) 1999-07-19 2001-02-09 Mitsubishi Electric Corp 電子部品収納用パッケージならびに半導体装置およびパッケージ製造方法
KR100335716B1 (ko) * 2000-05-23 2002-05-08 윤종용 메모리 카드
JP3488888B2 (ja) * 2000-06-19 2004-01-19 アムコー テクノロジー コリア インコーポレーティド 半導体パッケージ用回路基板の製造方法及びそれを用いた半導体パッケージ用回路基板
US6798064B1 (en) * 2000-07-12 2004-09-28 Motorola, Inc. Electronic component and method of manufacture
JP2005277389A (ja) 2004-02-23 2005-10-06 Toppan Printing Co Ltd 多層配線基板及び半導体パッケージ
US7645941B2 (en) * 2006-05-02 2010-01-12 Multi-Fineline Electronix, Inc. Shielded flexible circuits and methods for manufacturing same
KR20080020392A (ko) 2006-08-31 2008-03-05 주식회사 하이닉스반도체 Bga 패키지
KR100876899B1 (ko) * 2007-10-10 2009-01-07 주식회사 하이닉스반도체 반도체 패키지

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101229649B1 (ko) * 2011-04-21 2013-02-04 한국과학기술원 측면을 이용한 칩 적층방법, 이에 의하여 적층된 칩 어셈블리 및 이를 위한 칩 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
US20100238638A1 (en) 2010-09-23
US8692133B2 (en) 2014-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9633973B2 (en) Semiconductor package
US8791554B2 (en) Substrates for semiconductor devices including internal shielding structures and semiconductor devices including the substrates
CN108091643B (zh) 半导体封装及其制造方法
US8937370B2 (en) Memory device and fabricating method thereof
US9355969B2 (en) Semiconductor package
KR102116979B1 (ko) 적층 반도체 패키지
US9202796B2 (en) Semiconductor package including stacked chips and a redistribution layer (RDL) structure
US20160056127A1 (en) Semiconductor package
KR20140128536A (ko) 반도체 패키지
US20140374901A1 (en) Semiconductor package and method of fabricating the same
KR102108087B1 (ko) 반도체 패키지
KR20160072420A (ko) 복수 개의 칩을 적층한 반도체 패키지
US9620492B2 (en) Package-on-package type stack package and method for manufacturing the same
KR20100104910A (ko) 반도체 패키지
KR20100104911A (ko) 반도체 패키지
US8907451B2 (en) Semiconductor chip and semiconductor apparatus with embedded capacitor
US9905540B1 (en) Fan-out packages including vertically stacked chips and methods of fabricating the same
KR101539402B1 (ko) 반도체 패키지
KR20140148273A (ko) 반도체 패키지 및 그 제조 방법
KR102578797B1 (ko) 반도체 패키지
US8828795B2 (en) Method of fabricating semiconductor package having substrate with solder ball connections
US8872340B2 (en) Substrate for semiconductor package which can prevent the snapping of a circuit trace despite physical deformation of a semiconductor package and semiconductor package having the same
KR20140085874A (ko) 적층 반도체 패키지
KR20140010861A (ko) 반도체 패키지용 기판 및 이를 갖는 반도체 패키지
KR20100002723A (ko) 반도체 패키지 및 그 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid