KR20100094364A - Colored radiation-sensitive composition, color filter and color liquid crystal display device - Google Patents

Colored radiation-sensitive composition, color filter and color liquid crystal display device Download PDF

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히로유키 고마츠
요시타카 야마다
료헤이 쇼다
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Abstract

PURPOSE: A colored radiation sensitive composition, a color filter using thereof, a manufacturing method of the color filter, and a color liquid crystal display device are provided to secure the excellent solvent resistance of pixels. CONSTITUTION: A colored radiation sensitive composition contains a coloring agent, an alkali soluble resin, a poly functional monomer, and a photopolymerization initiator. The poly functional monomer has a caprolactone structure. The photopolymerization initiator contains 2-(4-methylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholino phenyl) butane-1-on. The photopolymerization initiator additionally contains more than one compound selected from the group consisting of a thioxanthone compound, or an O-acyloxim compound.

Description

착색 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정 표시 소자{COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COLOR FILTER AND COLOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}Colored radiation-sensitive composition, color filter and color liquid crystal display device {COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COLOR FILTER AND COLOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}

본 발명은 착색 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정 표시 소자에 관한 것으로, 보다 상세하게는 투과형 또는 반사형의 컬러 액정 표시 장치, 컬러 촬상관 소자, 유기 EL 표시 소자, 전자 페이퍼 등에 이용되는 컬러 필터에 유용한 착색층의 형성에 이용되는 감방사선성 조성물, 해당 감방사선성 조성물로부터 형성된 착색층을 갖는 컬러 필터, 및 해당 컬러 필터를 구비하는 컬러 액정 표시 소자에 관한 것이다. The present invention relates to a colored radiation-sensitive composition, a color filter, and a color liquid crystal display device, and more particularly, a color filter used for a transmissive or reflective color liquid crystal display device, a color image tube device, an organic EL display device, an electronic paper, and the like. The radiation sensitive composition used for formation of the colored layer useful for the application, the color filter which has a colored layer formed from this radiation sensitive composition, and the color liquid crystal display element provided with this color filter.

종래, 착색 감방사선성 조성물을 이용하여 컬러 필터를 제조하는 데에 있어서는 기판 상 또는 미리 원하는 패턴의 차광층을 형성한 기판 상에, 착색 감방사선성 조성물을 도포하여 건조한 후, 건조 도막을 원하는 패턴 형상으로 방사선을 조사(이하, 「노광」이라고 함)하고, 현상함으로써 각 색의 화소를 얻는 방법(예를 들면, 특허 문헌 1 및 2 참조)이 알려져 있다.Conventionally, in manufacturing a color filter using a colored radiation-sensitive composition, after applying and drying a colored radiation-sensitive composition on a substrate or on a substrate on which a light shielding layer having a desired pattern is formed in advance, a pattern desired for a dry coating film is dried. The method (for example, refer patent document 1 and 2) of obtaining the pixel of each color is known by irradiating radiation to a shape (henceforth "exposure"), and developing.

그리고, 최근의 컬러 필터의 기술 분야에서는 노광량을 떨어뜨려 택트 타임(tact time)을 단축하는 것이 주류로 되어있는 데 더하여, 컬러 액정 표시 소자에 대한 높은 색 순도화의 요구에 대응하기 위해, 착색 감방사선성 조성물 중에서 차지하는 안료의 함유 비율이 점점 더 높아지는 경향에 있다. 이러한 상황하에, 화소 패턴의 단면 형상이 역테이퍼(돌출)가 되어 화소 패턴 상에 형성되는 ITO 등의 투명 전극이 단선되어 버리거나, 화소의 내용제성이 저하되는 등, 다양한 문제가 현재화되고 있다. 그러나, 이들 문제를 해결하는 유효한 수단은 아직 발견되지 않았다.In addition, in recent years, in the technical field of color filters, it has become mainstream to reduce the exposure amount and shorten the tact time, and to satisfy the demand of high color purity for color liquid crystal display elements. There exists a tendency for the content rate of the pigment to occupy in a radioactive composition to become increasingly high. Under such a situation, various problems are presently present, such that the cross-sectional shape of the pixel pattern becomes reverse taper (protrusion), such that a transparent electrode such as ITO formed on the pixel pattern is disconnected, or the solvent resistance of the pixel is degraded. However, no effective means have been found to solve these problems.

일본 특허 공개 (평)2-144502호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2-144502 일본 특허 공개 (평)3-53201호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 3-53201

본 발명은 이상과 같은 사정에 기초하여 이루어진 것으로, 그의 과제는 저노광량에서도 순테이퍼 형상이며 내용제성도 우수한 화소를 형성할 수 있는 신규한 착색 감방사선성 조성물을 제공하는 데에 있다.The present invention has been made on the basis of the above circumstances, and its object is to provide a novel colored radiation-sensitive composition capable of forming pixels having a forward taper shape and excellent solvent resistance even at a low exposure amount.

본 발명자들은 예의 검토한 결과, 착색 감방사선성 조성물 중에 카프로락톤 구조를 갖는 분산제 또는 다관능성 단량체와, 특정한 광 중합 개시제를 함유시킴으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining, the present inventors discovered that the said subject can be solved by containing the dispersing agent or polyfunctional monomer which has a caprolactone structure in a colored radiation-sensitive composition, and a specific photoinitiator, and to complete this invention, Reached.

즉, 본 발명은 (A) 착색제, (C) 알칼리 가용성 수지, (D) 다관능성 단량체, 및 (E) 광 중합 개시제를 함유하는 착색 감방사선성 조성물이며, (D) 다관능성 단량체가 카프로락톤 구조를 갖는 것이고, (E) 광 중합 개시제가 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온을 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 감방사선성 조성물을 제공하는 것이다.That is, this invention is a colored radiation-sensitive composition containing (A) a coloring agent, (C) alkali-soluble resin, (D) polyfunctional monomer, and (E) photoinitiator, (D) polyfunctional monomer is caprolactone (E) photoinitiator contains 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one It is providing a colored radiation-sensitive composition.

또한, 본 발명은 (A) 착색제, (B) 분산제, (C) 알칼리 가용성 수지, (D) 다관능성 단량체 및 (E) 광 중합 개시제를 함유하는 착색 감방사선성 조성물이며, (B) 분산제가 카프로락톤 구조를 갖는 것이고, (E) 광 중합 개시제가 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온을 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 감방사선성 조성물을 제공하는 것이다.Moreover, this invention is a coloring radiation sensitive composition containing (A) a coloring agent, (B) dispersing agent, (C) alkali-soluble resin, (D) polyfunctional monomer, and (E) photoinitiator, (B) dispersing agent It has a caprolactone structure, (E) The photoinitiator contains 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, It is characterized by the above-mentioned. It is to provide a colored radiation-sensitive composition.

또한, 본 발명은 상기 착색 감방사선성 조성물을 이용하여 형성된 착색층을 구비하여 이루어지는 컬러 필터, 및 상기 컬러 필터를 구비하여 이루어지는 컬러 액정 표시 소자도 제공하는 것이다.Moreover, this invention also provides the color filter which comprises the colored layer formed using the said colored radiation sensitive composition, and the color liquid crystal display element provided with the said color filter.

본 발명에서 말하는 「방사선」은 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등을 포함하는 것을 의미한다."Radiation" as used in the present invention means visible rays, ultraviolet rays, far ultraviolet rays, electron beams, X rays and the like.

본 발명에서 말하는 「착색층」은 컬러 필터에 이용되는 화소 및/또는 블랙 매트릭스를 포함하는 층을 의미한다.The term "colored layer" as used in the present invention means a layer containing a pixel and / or a black matrix used in the color filter.

본 발명의 착색 감방사선성 조성물을 이용하면, 저노광량에서도 순테이퍼 형상이며 내용제성도 우수한 화소를 형성할 수 있다.By using the colored radiation-sensitive composition of the present invention, it is possible to form a pixel having a forward taper shape and excellent solvent resistance even at a low exposure amount.

따라서, 본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 컬러 액정 표시 소자용 컬러 필터, 고체 촬상 소자의 색 분해용 컬러 필터, 유기 EL 표시 소자용 컬러 필터, 전자 페이퍼용 컬러 필터를 비롯한 각종 용도의 컬러 필터의 제조에 매우 바람직하게 사용할 수 있다.Therefore, the colored radiation-sensitive composition of the present invention is a color filter for various uses, including color filters for color liquid crystal display elements, color filters for color separation of solid-state imaging elements, color filters for organic EL display elements, color filters for electronic paper, and the like. It can be used very preferably for manufacture.

[도 1] 화소 패턴의 단면 형상을 나타내는 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the cross-sectional shape of a pixel pattern.

이하, 본 발명에 대해서 상세히 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail.

착색 감방사선성 조성물Colored radiation-sensitive composition

본 발명의 착색 감방사선성 조성물(이하, 단순히 「감방사선성 조성물」이라는 경우가 있음)의 구성 성분에 대해서 설명한다.The structural component of the colored radiation-sensitive composition of the present invention (hereinafter sometimes referred to simply as "radiation-sensitive composition") will be described.

-(A) 착색제--(A) colorant-

본 발명에 있어서의 착색제는 색조가 특별히 한정되는 것은 아니고, 얻어지는 컬러 필터의 용도에 따라서 적절하게 선정되고, 안료, 염료 또는 천연 색소 중 어느 것이어도 좋다. 컬러 필터에는 내열성이 요구되는 점에서, 본 발명에 있어서의 착색제로서는 유기 안료 또는 무기 안료가 바람직하다.The coloring agent in this invention is not specifically limited in color tone, According to the use of the color filter obtained, it is suitably selected, Any of a pigment, dye, or a natural pigment may be sufficient. Since heat resistance is required for a color filter, as a coloring agent in this invention, an organic pigment or an inorganic pigment is preferable.

상기 유기 안료로서는, 예를 들면 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에 있어서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물, 구체적으로는 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.) 명칭이 붙여진 것을 들 수 있다.As said organic pigment, the compound classified as a pigment in the color index (The Society of Dyers and Colorists, Inc., for example), specifically, the thing attached the following color index (CI) name is mentioned. .

C.I. 피그먼트 옐로우 12, C.I. 피그먼트 옐로우 13, C.I. 피그먼트 옐로우 14, C.I. 피그먼트 옐로우 17, C.I. 피그먼트 옐로우 20, C.I. 피그먼트 옐로우 24, C.I. 피그먼트 옐로우 31, C.I. 피그먼트 옐로우 55, C.I. 피그먼트 옐로우 83, C.I. 피그먼트 옐로우 93, C.I. 피그먼트 옐로우 109, C.I. 피그먼트 옐로우 110, C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 153, C.I. 피그먼트 옐로우 154, C.I. 피그먼트 옐로우 155, C.I. 피그먼트 옐로우 166, C.I. 피그먼트 옐로우 168, C.I. 피그먼트 옐로우 180, C.I. 피그먼트 옐로우 211;C.I. Pigment Yellow 12, C.I. Pigment Yellow 13, C.I. Pigment Yellow 14, C.I. Pigment Yellow 17, C.I. Pigment Yellow 20, C.I. Pigment Yellow 24, C.I. Pigment Yellow 31, C.I. Pigment Yellow 55, C.I. Pigment Yellow 83, C.I. Pigment Yellow 93, C.I. Pigment Yellow 109, C.I. Pigment Yellow 110, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 153, C.I. Pigment Yellow 154, C.I. Pigment Yellow 155, C.I. Pigment Yellow 166, C.I. Pigment Yellow 168, C.I. Pigment Yellow 180, C.I. Pigment yellow 211;

C.I. 피그먼트 오렌지 5, C.I. 피그먼트 오렌지 13, C.I. 피그먼트 오렌지 14, C.I. 피그먼트 오렌지 24, C.I. 피그먼트 오렌지 34, C.I. 피그먼트 오렌지 36, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 오렌지 40, C.I. 피그먼트 오렌지 43, C.I. 피그먼트 오렌지 46, C.I. 피그먼트 오렌지 49, C.I. 피그먼트 오렌지 61, C.I. 피그먼트 오렌지 64, C.I. 피그먼트 오렌지 68, C.I. 피그먼트 오렌지 70, C.I. 피그먼트 오렌지 71, C.I. 피그먼트 오렌지 72, C.I. 피그먼트 오렌지 73, C.I. 피그먼트 오렌지 74;C.I. Pigment Orange 5, C.I. Pigment Orange 13, C.I. Pigment Orange 14, C.I. Pigment Orange 24, C.I. Pigment Orange 34, C.I. Pigment Orange 36, C.I. Pigment Orange 38, C.I. Pigment Orange 40, C.I. Pigment Orange 43, C.I. Pigment Orange 46, C.I. Pigment Orange 49, C.I. Pigment Orange 61, C.I. Pigment Orange 64, C.I. Pigment Orange 68, C.I. Pigment Orange 70, C.I. Pigment Orange 71, C.I. Pigment Orange 72, C.I. Pigment Orange 73, C.I. Pigment orange 74;

C.I. 피그먼트 레드 1, C.I. 피그먼트 레드 2, C.I. 피그먼트 레드 5, C.I. 피그먼트 레드 17, C.I. 피그먼트 레드 31, C.I. 피그먼트 레드 32, C.I. 피그먼트 레드 41, C.I. 피그먼트 레드 122, C.I. 피그먼트 레드 123, C.I. 피그먼트 레드 144, C.I. 피그먼트 레드 149, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 168, C.I. 피그먼트 레드 170, C.I. 피그먼트 레드 171, C.I. 피그먼트 레드 175, C.I. 피그먼트 레드 176, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 178, C.I. 피그먼트 레드 179, C.I. 피그먼트 레드 180, C.I. 피그먼트 레드 185, C.I. 피그먼트 레드 187, C.I. 피그먼트 레드 202, C.I. 피그먼트 레드 206, C.I. 피그먼트 레드 207, C.I. 피그먼트 레드 209, C.I. 피그먼트 레드 214, C.I. 피그먼트 레드 220, C.I. 피그먼트 레드 221, C.I. 피그먼트 레드 224, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 243, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 255, C.I. 피그먼트 레드 262, C.I. 피그먼트 레드 264, C.I. 피그먼트 레드 272;C.I. Pigment Red 1, C.I. Pigment Red 2, C.I. Pigment Red 5, C.I. Pigment Red 17, C.I. Pigment Red 31, C.I. Pigment Red 32, C.I. Pigment Red 41, C.I. Pigment Red 122, C.I. Pigment Red 123, C.I. Pigment Red 144, C.I. Pigment Red 149, C.I. Pigment Red 166, C.I. Pigment Red 168, C.I. Pigment Red 170, C.I. Pigment Red 171, C.I. Pigment Red 175, C.I. Pigment Red 176, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 178, C.I. Pigment Red 179, C.I. Pigment Red 180, C.I. Pigment Red 185, C.I. Pigment Red 187, C.I. Pigment Red 202, C.I. Pigment Red 206, C.I. Pigment Red 207, C.I. Pigment Red 209, C.I. Pigment Red 214, C.I. Pigment Red 220, C.I. Pigment Red 221, C.I. Pigment Red 224, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red 243, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 255, C.I. Pigment Red 262, C.I. Pigment Red 264, C.I. Pigment red 272;

C.I. 피그먼트 바이올렛 1, C.I. 피그먼트 바이올렛 19, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 바이올렛 29, C.I. 피그먼트 바이올렛 32, C.I. 피그먼트 바이올렛 36, C.I. 피그먼트 바이올렛 38;C.I. Pigment Violet 1, C.I. Pigment Violet 19, C.I. Pigment Violet 23, C.I. Pigment Violet 29, C.I. Pigment violet 32, C.I. Pigment Violet 36, C.I. Pigment violet 38;

C.I. 피그먼트 블루 15, C.I. 피그먼트 블루 15:3, C.I. 피그먼트 블루 15:4, C.I. 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 블루 60, C.I. 피그먼트 블루 80;C.I. Pigment Blue 15, C.I. Pigment Blue 15: 3, C.I. Pigment Blue 15: 4, C.I. Pigment Blue 15: 6, C.I. Pigment Blue 60, C.I. Pigment blue 80;

C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 58;C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment green 58;

C.I. 피그먼트 브라운 23, C.I. 피그먼트 브라운 25;C.I. Pigment Brown 23, C.I. Pigment brown 25;

C.I. 피그먼트 블랙 1, C.I. 피그먼트 블랙 7.C.I. Pigment Black 1, C.I. Pigment Black 7.

본 발명에 있어서, 유기 안료를 재결정법, 재침전법, 용제 세정법, 승화법, 진공 가열법이나 이들의 조합에 의해 정제하여 사용할 수도 있다.In the present invention, the organic pigment may be purified by recrystallization, reprecipitation, solvent washing, sublimation, vacuum heating, or a combination thereof.

또한, 상기 무기 안료로서는, 예를 들면 산화티탄, 황산바륨, 탄산칼슘, 산화아연, 황산납, 황색납, 아연황, 벵갈라(적색 산화철(III)), 카드뮴적, 군청, 감청, 산화크롬녹, 코발트녹, 앰버, 티탄 블랙, 합성 철흑, 카본 블랙 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic pigment include titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, zinc oxide, lead sulfate, yellow lead, zinc sulfur, bengal (red iron oxide (III)), cadmium, ultramarine blue, royal blue, and chromium oxide. And cobalt rust, amber, titanium black, synthetic iron black, carbon black and the like.

이들 착색제는 원한다면, 그의 입자 표면을 수지로 개질하여 사용할 수도 있다.If desired, these colorants may be used by modifying the particle surface thereof with a resin.

안료의 입자 표면을 개질하는 수지로서는, 예를 들면 일본 특허 공개 제2001-108817호 공보에 기재된 비히클 수지나, 시판되고 있는 각종 안료 분산용의 수지를 들 수 있다. 카본 블랙 표면의 수지 피복 방법에 대해서는, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)9-71733호 공보, 일본 특허 공개 (평)9-95625호 공보, 일본 특허 공개 (평)9-124969호 공보 등에 개시되어 있다.As resin which modifies the particle surface of a pigment, the vehicle resin of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-108817, and resin for disperse | distributing various pigments marketed are mentioned, for example. As for the resin coating method of the carbon black surface, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 9-71733, Japanese Patent Laid-Open No. 9-95625 and Japanese Patent Laid-Open No. 9-124969 are disclosed. It is.

상기 착색제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The said coloring agent can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명의 감방사선성 조성물을 화소의 형성에 이용하는 경우, 화소에는 고정밀한 발색이 요구되는 점에서, (A) 착색제로서는 발색성이 높은 착색제가 바람직하고, 구체적으로는 유기 안료가 바람직하게 이용된다.When the radiation sensitive composition of this invention is used for formation of a pixel, since high color development is calculated | required by a pixel, the coloring agent with high color development property is preferable as a coloring agent (A), and an organic pigment is specifically used preferably.

한편, 본 발명의 감방사선성 조성물을 블랙 매트릭스의 형성에 이용하는 경우, 블랙 매트릭스에는 차광성이 요구되는 점에서, (A) 착색제로서는 유기 안료 또는 카본 블랙이 바람직하게 이용된다.On the other hand, when the radiation sensitive composition of this invention is used for formation of a black matrix, since a light shielding property is calculated | required by a black matrix, organic pigment or carbon black is used suitably as (A) coloring agent.

본 발명의 감방사선성 조성물은 착색제의 함유량이 감방사선성 조성물의 전 고형분 중 30 중량% 이상이 되는 경우에서도, 순테이퍼 형상이며 내용제성도 우수한 화소를 형성할 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서, 착색제의 함유량의 상한은 현상성을 확보하는 관점에서, 감방사선성 조성물의 전 고형분 중, 바람직하게는 70 중량% 이하, 특히 바람직하게는 60 중량% 이하이다. 여기서 고형분이란, 후술하는 용매 이외의 성분이다.The radiation sensitive composition of this invention can form the pixel which is pure taper shape and excellent in solvent resistance also when content of a coloring agent becomes 30 weight% or more in the total solid of a radiation sensitive composition. In addition, in this invention, the upper limit of content of a coloring agent is 70 weight% or less in total solids of a radiation sensitive composition from a viewpoint of ensuring developability, Preferably it is 60 weight% or less. Solid content is components other than the solvent mentioned later here.

-(B) 분산제--(B) dispersant-

본 발명의 감방사선성 조성물은 카프로락톤 구조를 갖는 (B) 분산제 및 후술하는 카프로락톤 구조를 갖는 (D) 다관능성 단량체의 적어도 한쪽을 함유하는 것이다. 이에 따라, 저노광량에서도 순테이퍼 형상인 화소를 형성할 수 있다.The radiation sensitive composition of this invention contains at least one of the (B) dispersing agent which has a caprolactone structure, and the (D) polyfunctional monomer which has a caprolactone structure mentioned later. As a result, it is possible to form pixels having a forward taper shape even at a low exposure amount.

카프로락톤 구조를 갖는 분산제는 그의 분자 내에 카프로락톤 구조를 갖는 한 특별히 한정되는 것은 아니지만, 주쇄 또는 측쇄에 폴리카프로락톤 쇄를 갖는 고분자 분산제인 것이 바람직하다. 이 경우, 폴리카프로락톤 쇄의 분자량은 원하는 효과를 높이는 점에서, 100 이상인 것이 바람직하고, 200 이상인 것이 더욱 바람직하고, 200 내지 5,000인 것이 특히 바람직하다.The dispersant having a caprolactone structure is not particularly limited as long as it has a caprolactone structure in its molecule, but is preferably a polymer dispersant having a polycaprolactone chain in the main chain or the side chain. In this case, the molecular weight of the polycaprolactone chain is preferably 100 or more, more preferably 200 or more, and particularly preferably 200 to 5,000 in terms of enhancing the desired effect.

폴리카프로락톤 쇄를 갖는 고분자 분산제로서는, 예를 들면 폴리(알킬렌이민)이나 폴리(알릴아민)과, 폴리ε-카프로락톤을 반응시킨 그래프트 중합체, 폴리카프로락톤 쇄를 갖는 (메트)아크릴계 단량체의 공중합체, 폴리카프로락톤 쇄를 갖는 인산에스테르, 폴리카프로락톤 쇄를 갖는 분지 우레탄 수지 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는 일본 특허 공개 (소)61-174939호 공보, 일본 특허 공개 (평)9-169821호 공보, 일본 특허 공개 제2000-95827호 공보, 일본 특허 공개 제2000-95992호 공보, 일본 특허 공개 제2000-104005호 공보, 일본 특허 공개 제2007-231106호 공보, 일본 특허 공개 제2007-269873호 공보 등에 기재된 분산제를 들 수 있다.As a polymeric dispersing agent which has a polycaprolactone chain, the graft polymer which made poly (alkylene imine) and poly (allylamine), and poly (epsilon) -caprolactone react, and the (meth) acrylic-type monomer which has a polycaprolactone chain, for example And copolymers, phosphate esters having polycaprolactone chains, and branched urethane resins having polycaprolactone chains. More specifically, Japanese Patent Laid-Open No. 61-174939, Japanese Patent Laid-Open No. 9-169821, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-95827, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-95992 and Japanese Patent The dispersing agent as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-104005, Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-231106, Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-269873, etc. are mentioned.

폴리카프로락톤 쇄를 갖는 고분자 분산제는 상업적으로 입수할 수도 있고, 예를 들면 아지스퍼 PB821(아지노모또 파인테크노 가부시끼가이샤 제조) 등을 들 수 있다. 본 발명에 있어서, 카프로락톤 구조를 갖는 분산제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The polymeric dispersing agent which has a polycaprolactone chain can also be obtained commercially, For example, Azisper PB821 (made by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) etc. is mentioned. In this invention, the dispersing agent which has a caprolactone structure can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명의 감방사선성 조성물에 있어서는 카프로락톤 구조를 갖는 (D) 다관능성 단량체를 사용하고, 카프로락톤 구조를 갖는 분산제를 사용하지 않은 경우, 카프로락톤 구조를 갖지 않는, 양이온계, 음이온계, 비이온계나 양쪽성 등의 적절한 분산제를 사용할 수 있다. 이러한 분산제로서는, 예를 들면 변성 아크릴계 공중합체, 아크릴계 공중합체, 폴리우레탄, 고분자 공중합체의 알킬암모늄염 또는 인산에스테르염 등을 들 수 있다. 본 발명에 있어서, 카프로락톤 구조를 갖지 않는 분산제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In the radiation-sensitive composition of the present invention, when a (D) polyfunctional monomer having a caprolactone structure is used and a dispersant having a caprolactone structure is not used, cationic, anionic, and non-capacitive structures do not have a caprolactone structure. Suitable dispersants such as ionic or amphoteric compounds can be used. As such a dispersing agent, the alkyl ammonium salt or the phosphate ester salt of a modified acrylic copolymer, an acryl-type copolymer, a polyurethane, a high molecular copolymer, etc. are mentioned, for example. In this invention, the dispersing agent which does not have a caprolactone structure can be used individually or in mixture of 2 or more types.

물론, 카프로락톤 구조를 갖는 분산제와 함께, 카프로락톤 구조를 갖지 않는 이들 분산제를 병용할 수도 있다.Of course, these dispersants which do not have a caprolactone structure can also be used together with the dispersing agent which has a caprolactone structure.

본 발명에 있어서, 분산제의 함유량은 (A) 착색제 100 질량부에 대하여, 통상 0.5 내지 100 질량부, 바람직하게는 1 내지 70 질량부, 더욱 바람직하게는 10 내지 50 질량부이다. 이 경우, 분산제의 함유량이 너무 많으면, 현상성 등이 손상될 우려가 있다.In this invention, content of a dispersing agent is 0.5-100 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (A) coloring agents, Preferably it is 1-70 mass parts, More preferably, it is 10-50 mass parts. In this case, when there is too much content of a dispersing agent, there exists a possibility that developability etc. may be impaired.

또한, 카프로락톤 구조를 갖는 (D) 다관능성 단량체를 사용하지 않고, 카프로락톤 구조를 갖는 분산제를 사용하는 경우, 그의 함유 비율은 원하는 효과를 높이는 점에서 전 분산제 중, 바람직하게는 25 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 50 질량% 이상이다.In addition, when using the dispersing agent which has a caprolactone structure, without using the (D) polyfunctional monomer which has a caprolactone structure, the content rate is 25 mass% or more in all the dispersing agents from the point which raises a desired effect. More preferably, it is 50 mass% or more.

본 발명에 있어서는 분산제와 함께 분산 보조제를 병용할 수도 있다. 분산 보조제로서는, 예를 들면 안료 유도체를 들 수 있고, 구체적으로는 구리 프탈로시아닌, 디케토피롤로피롤, 퀴노프탈론의 술폰산 유도체 등을 들 수 있다.In this invention, a dispersal adjuvant can also be used together with a dispersing agent. Examples of the dispersion aid include pigment derivatives, and specific examples thereof include copper phthalocyanine, diketopyrrolopyrrole, and sulfonic acid derivatives of quinophthalone.

-(C) 알칼리 가용성 수지--(C) alkali-soluble resin-

본 발명의 감방사선성 조성물에 함유되는 (C) 알칼리 가용성 수지는 착색층을 형성할 때의 현상 처리 공정에서 이용되는 알칼리 현상액에 대하여 가용성을 갖는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상 카르복실기, 페놀성 수산기 등의 산성 관능기를 갖는 중합체이다. 그 중에서도, 카르복실기를 갖는 중합체(「카르복실기 함유 중합체」라는 경우가 있음)를 함유하는 것이 바람직하고, 상기 중합체로서는, 예를 들면 1개 이상의 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체(이하, 「불포화 단량체 (c1)」이라는 경우가 있음)와 다른 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체(이하, 「불포화 단량체 (c2)」라는 경우가 있음)의 공중합체를 들 수 있다.(C) Alkali-soluble resin contained in the radiation sensitive composition of this invention is not specifically limited as long as it has solubility with respect to the alkaline developing solution used at the image development process at the time of forming a colored layer, but is usually a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group. It is a polymer which has acidic functional groups, such as these. Especially, it is preferable to contain the polymer (which may be called "carboxyl group-containing polymer") which has a carboxyl group, As said polymer, For example, ethylenically unsaturated monomer which has 1 or more carboxyl groups (Hereinafter, "unsaturated monomer (c1). And a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer (hereinafter, sometimes referred to as an "unsaturated monomer (c2)") which is copolymerizable with another).

상기 불포화 단량체 (c1)로서는, 예를 들면 (메트)아크릴산, 말레산, 무수 말레산, 숙신산모노〔2-(메트)아크릴로일옥시에틸〕, ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 불포화 단량체 (c1)은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the unsaturated monomer (c1) include (meth) acrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, monosuccinic acid [2- (meth) acryloyloxyethyl], and ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate. Etc. can be mentioned. These unsaturated monomers (c1) can be used individually or in mixture of 2 or more types.

불포화 단량체 (c1)과 불포화 단량체 (c2)의 공중합체에 있어서, 불포화 단량체 (c1)의 공중합 비율은 바람직하게는 5 내지 50 질량%, 더욱 바람직하게는 10 내지 40 질량%이다. 이러한 범위에서 불포화 단량체 (c1)을 공중합시킴으로써, 알칼리 현상성이 우수한 감방사선성 조성물을 얻을 수 있다.In the copolymer of the unsaturated monomer (c1) and the unsaturated monomer (c2), the copolymerization ratio of the unsaturated monomer (c1) is preferably 5 to 50 mass%, more preferably 10 to 40 mass%. By copolymerizing an unsaturated monomer (c1) in such a range, the radiation sensitive composition excellent in alkali developability can be obtained.

또한, 상기 불포화 단량체 (c2)로서는, 예를 들면Moreover, as said unsaturated monomer (c2), for example

N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드와 같은 N-위치 치환 말레이미드;N-position substituted maleimides such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide;

스티렌, α-메틸스티렌, p-히드록시-α-메틸스티렌과 같은 방향족 비닐 화합물;Aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, p-hydroxy-α-methylstyrene;

메틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메트)아크릴레이트, 글리세롤모노(메트)아크릴레이트, 4-히드록시페닐(메트)아크릴레이트, 파라쿠밀페놀의 에틸렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트와 같은 불포화 카르복실산에스테르;Methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate , Cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, 4-hydride Unsaturated carboxylic acid esters such as oxyphenyl (meth) acrylate and ethylene oxide modified (meth) acrylate of paracumylphenol;

폴리스티렌, 폴리메틸(메트)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메트)아크릴레이트, 폴리실록산과 같은 중합체 분자쇄의 말단에 모노(메트)아크릴로일기를 갖는 거대 단량체 등을 들 수 있다.And macromonomers having a mono (meth) acryloyl group at the ends of polymer molecular chains such as polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, poly-n-butyl (meth) acrylate, and polysiloxane.

이들 불포화 단량체 (c2)는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These unsaturated monomers (c2) can be used individually or in mixture of 2 or more types.

불포화 단량체 (c1)과 불포화 단량체 (c2)의 공중합체의 구체예로서는, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)7-140654호 공보, 일본 특허 공개 (평)10-31308호 공보, 일본 특허 공개 (평)10-300922호 공보, 일본 특허 공개 (평)11-174224호 공보, 일본 특허 공개 (평)11-258415호 공보, 일본 특허 공개 제2000-56118호 공보, 일본 특허 공개 제2004-101728호 공보 등에 개시되어 있는 공중합체를 들 수 있다.As a specific example of the copolymer of an unsaturated monomer (c1) and an unsaturated monomer (c2), For example, Unexamined-Japanese-Patent No. 7-140654, Unexamined-Japanese-Patent No. 10-31308, Unexamined-Japanese-Patent ) 10-300922, Japanese Patent Laid-Open No. 11-174224, Japanese Patent Laid-Open No. 11-258415, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-56118, Japanese Patent Laid-Open No. 2004-101728 The copolymer disclosed in these etc. are mentioned.

또한, 본 발명에 있어서는, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)5-19467호 공보, 일본 특허 공개 (평)6-230212호 공보, 일본 특허 공개 (평)7-207211호 공보, 일본 특허 공개 (평)11-140144호 공보, 일본 특허 공개 제2008-181095호 공보 등에 개시되어 있는 바와 같이, 측쇄에 (메트)아크릴로일기 등의 중합성 불포화 결합을 갖는 카르복실기 함유 중합체를 알칼리 가용성 수지로서 사용할 수도 있다.In addition, in this invention, for example, Unexamined-Japanese-Patent No. 5-19467, Unexamined-Japanese-Patent No. 6-230212, Unexamined-Japanese-Patent No. 7-207211, Unexamined-Japanese-Patent ( As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-140144, Japanese Patent Laid-Open No. 2008-181095, and the like, a carboxyl group-containing polymer having a polymerizable unsaturated bond such as a (meth) acryloyl group in the side chain may be used as the alkali-soluble resin. have.

본 발명에 있어서의 알칼리 가용성 수지의 겔 투과 크로마토그래피(GPC, 용출 용매: 테트라히드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(이하, 「Mw」라고 함)은 통상 1,000 내지 100,000, 바람직하게는 3,000 내지 50,000이다. 이 경우, Mw가 너무 작으면, 얻어지는 피막의 잔막률 등이 저하되거나, 패턴 형상, 내열성 등이 손상되거나, 또한 전기 특성이 악화될 우려가 있고, 한편 너무 크면, 해상도가 저하되거나, 패턴 형상이 손상되거나, 또한 슬릿 노즐 방식에 의한 도포시에 건조 이물질이 발생하기 쉬워질 우려가 있다.The polystyrene reduced weight average molecular weight (hereinafter referred to as "Mw") measured by gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) of the alkali-soluble resin in the present invention is usually 1,000 to 100,000, preferably 3,000 To 50,000. In this case, if Mw is too small, the remaining film ratio or the like of the resulting film may be lowered, the pattern shape, heat resistance, or the like may be impaired, or the electrical characteristics may be deteriorated. There is a risk of being damaged or easily causing dry foreign matters during application by the slit nozzle method.

또한, 본 발명에 있어서의 알칼리 가용성 수지의 Mw와, 겔 투과 크로마토그래피(GPC, 용출 용매: 테트라히드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산 수 평균 분자량(이하, 「Mn」이라고 함)의 비(Mw/Mn)는 바람직하게는 1.0 내지 5.0, 보다 바람직하게는 1.0 내지 3.0이다.In addition, the ratio (Mw /) of Mw of alkali-soluble resin in this invention and the polystyrene conversion number average molecular weight (henceforth "Mn") measured by gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran). Mn) is preferably 1.0 to 5.0, more preferably 1.0 to 3.0.

본 발명에 있어서의 알칼리 가용성 수지는 공지된 방법에 의해 제조할 수 있지만, 예를 들면 일본 특허 공개 제2003-222717호 공보, 일본 특허 공개 제2006-259680호 공보, 국제 공개 제07/029871호 공보 등에 개시되어 있는 방법에 의해, 그의 구조나 Mw, Mw/Mn을 제어할 수도 있다.Although alkali-soluble resin in this invention can be manufactured by a well-known method, For example, Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-222717, Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-259680, International Publication No. 07/029871. The structure, Mw, and Mw / Mn can also be controlled by the method disclosed in these.

본 발명에 있어서, 알칼리 가용성 수지는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In this invention, alkali-soluble resin can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명에 있어서, 알칼리 가용성 수지의 함유량은 (A) 착색제 100 질량부에 대하여, 통상 10 내지 1,000 질량부, 바람직하게는 20 내지 500 질량부이다. 이 경우, 알칼리 가용성 수지의 함유량이 너무 적으면, 예를 들면 알칼리 현상성이 저하되거나, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 잔사나 바탕 오염이 발생할 우려가 있고, 한편 너무 많으면, 상대적으로 안료 농도가 저하되기 때문에, 박막으로서 목적으로 하는 색 농도를 달성하는 것이 곤란해질 우려가 있다.In this invention, content of alkali-soluble resin is 10-1,000 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (A) coloring agents, Preferably it is 20-500 mass parts. In this case, when there is too little content of alkali-soluble resin, alkali developability may fall, for example, residue or ground contamination may arise on the board | substrate or light-shielding layer of an unexposed part, and when too much, a pigment relatively Since concentration falls, there exists a possibility that it may become difficult to achieve the target color density as a thin film.

-(D) 다관능성 단량체-(D) polyfunctional monomer

본 발명에 있어서의 다관능성 단량체는 2개 이상의 중합성 불포화 결합을 갖는 단량체이다. 본 발명의 감방사선성 조성물은 카프로락톤 구조를 갖는 분산제 및 카프로락톤 구조를 갖는 다관능성 단량체의 적어도 한쪽을 함유하는 것이지만, 카프로락톤 구조를 갖는 다관능성 단량체를 함유하는 것이 보다 바람직하다.The polyfunctional monomer in the present invention is a monomer having two or more polymerizable unsaturated bonds. Although the radiation sensitive composition of this invention contains at least one of the dispersing agent which has a caprolactone structure, and the polyfunctional monomer which has a caprolactone structure, it is more preferable to contain the polyfunctional monomer which has a caprolactone structure.

카프로락톤 구조를 갖는 다관능성 단량체로서는 그의 분자 내에 카프로락톤 구조를 갖는 한 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 트리메틸올에탄, 디트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 트리펜타에리트리톨, 글리세린, 디글리세롤, 트리메틸올멜라민 등의 다가 알코올과, (메트)아크릴산 및 ε-카프로락톤을 에스테르화함으로써 얻어지는 ε-카프로락톤 변성 다관능 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 그 중에서도 하기 화학식 1로 표시되는 카프로락톤 구조를 갖는 다관능성 단량체가 바람직하다.The polyfunctional monomer having a caprolactone structure is not particularly limited as long as it has a caprolactone structure in its molecule, but for example, trimethylolethane, ditrimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, di Ε-caprolactone-modified polyfunctional (meth) acrylates obtained by esterifying polyhydric alcohols such as pentaerythritol, tripentaerythritol, glycerin, diglycerol, trimethylolmelamine, and (meth) acrylic acid and ε-caprolactone Can be mentioned. Especially, the polyfunctional monomer which has the caprolactone structure represented by following General formula (1) is preferable.

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 중, 6개의 R은 모두가 하기 화학식 2로 표시되는 기이거나, 또는 6개의 R 중 1 내지 5개가 하기 화학식 2로 표시되는 기이고, 나머지가 하기 화학식 3으로 표시되는 기임)(In the formula, all 6 R is a group represented by the following formula (2), or 1 to 5 of the six R is a group represented by the formula (2), the rest is a group represented by the formula (3)

Figure pat00002
Figure pat00002

(식 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, m은 1 또는 2의 수를 나타내고, 「*」는 결합손인 것을 나타냄)(In formula, R <1> represents a hydrogen atom or a methyl group, m represents the number of 1 or 2, and it shows that "*" is a bond.)

Figure pat00003
Figure pat00003

(식 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 「*」는 결합손인 것을 나타냄)(In formula, R <1> represents a hydrogen atom or a methyl group, and "*" represents a bond.)

이러한 카프로락톤 구조를 갖는 다관능성 단량체는, 예를 들면 닛본 가야꾸(주)로부터 KAYARAD DPCA 시리즈로서 시판되어 있고, DPCA-20(상기 화학식 1 내지 3에 있어서 m=1, 화학식 2로 표시되는 기의 수=2, R1이 전부 수소 원자인 화합물), DPCA-30(상기 화학식 1 내지 3에 있어서, m=1, 화학식 2로 표시되는 기의 수=3, R1이 전부 수소 원자인 화합물), DPCA-60(상기 화학식 1 내지 3에 있어서, m=1, 화학식 2로 표시되는 기의 수=6, R1이 전부 수소 원자인 화합물), DPCA-120(상기 화학식 1 내지 3에 있어서 m=2, 화학식 2로 표시되는 기의 수=6, R1이 전부 수소 원자인 화합물) 등을 들 수 있다.The polyfunctional monomer which has such a caprolactone structure is marketed as a KAYARAD DPCA series from Nippon Kayaku Co., Ltd., for example, and is represented by DPCA-20 (m = 1 in Formulas 1-3, Formula 2 above). = 2, a compound in which all R 1 are hydrogen atoms, DPCA-30 (in the above formulas 1 to 3, m = 1, the number of groups represented by the formula (2) = 3, R 1 are all hydrogen atoms) ), DPCA-60 (in the above formulas (1) to (3), m = 1, the number of groups represented by the formula (2) = 6, R 1 are all hydrogen atoms), DPCA-120 (in the above formulas (1 to 3)) m = 2, the number of groups represented by General formula (2) = 6, and R <1> is a hydrogen atom in all), etc. are mentioned.

본 발명에 있어서, 카프로락톤 구조를 갖는 다관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In this invention, the polyfunctional monomer which has a caprolactone structure can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명의 감방사선성 조성물에 있어서, 카프로락톤 구조를 갖는 분산제를 사용하고 카프로락톤 구조를 갖는 다관능성 단량체를 사용하지 않은 경우, 카프로락톤 구조를 갖지 않는 적절한 다관능성 단량체를 사용할 수 있다. 또한, 카프로락톤 구조를 갖는 다관능성 단량체와 함께, 카프로락톤 구조를 갖지 않는 다관능성 단량체를 병용하는 것이 잔막률을 높이는 점에서 바람직하다. 이러한 다관능성 단량체로서는, 예를 들면In the radiation sensitive composition of the present invention, when a dispersant having a caprolactone structure is used and no polyfunctional monomer having a caprolactone structure is used, an appropriate polyfunctional monomer having no caprolactone structure can be used. Moreover, it is preferable to use together the polyfunctional monomer which does not have a caprolactone structure with the polyfunctional monomer which has a caprolactone structure in the point which raises a residual film ratio. As such a polyfunctional monomer, for example

에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트류;Di (meth) acrylates of alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol;

폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등의 폴리알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트류;Di (meth) acrylates of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol;

글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 등의 3가 이상의 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트류나, 이들의 디카르복실산 변성물;Poly (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and these dicarboxylic acid modified substances;

폴리에스테르, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 실리콘 수지, 스피란 수지 등의 올리고(메트)아크릴레이트류;Oligo (meth) acrylates such as polyester, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, silicone resin and spiran resin;

양쪽 말단 히드록시폴리-1,3-부타디엔, 양쪽 말단 히드록시폴리이소프렌 등의 양쪽 말단 히드록실화 중합체의 디(메트)아크릴레이트류;Di (meth) acrylates of both terminal hydroxylated polymers such as both terminal hydroxypoly-1,3-butadiene and both terminal hydroxypolyisoprene;

트리스〔2-(메트)아크릴로일옥시에틸〕포스페이트나,Tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate,

이소시아누르산에틸렌옥사이드 변성 트리아크릴레이트;Isocyanurate ethylene oxide modified triacrylate;

우레탄 구조를 갖는 폴리(메트)아크릴레이트Poly (meth) acrylate with urethane structure

등을 들 수 있다.Etc. can be mentioned.

이들 카프로락톤 구조를 갖지 않는 다관능성 단량체 중, 3가 이상의 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트류나 이들의 디카르복실산 변성물, 및 우레탄 구조를 갖는 폴리(메트)아크릴레이트가 바람직하다. 3가 이상의 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트류나 이들의 디카르복실산 변성물로서는 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트와 숙신산의 모노에스테르화물, 펜타에리트리톨트리메타크릴레이트와 숙신산의 모노에스테르화물, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 숙신산의 모노에스테르화물, 디펜타에리트리톨펜타메타아크릴레이트와 숙신산의 모노에스테르화물이 바람직하고, 특히 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트와 숙신산의 모노에스테르화물, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 숙신산의 모노에스테르화물이 착색층의 강도가 높고, 착색층의 표면 평활성이 우수하고, 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 바탕 오염, 막 잔여물 등을 발생하기 어려운 점에서 바람직하다.Among the polyfunctional monomers having no caprolactone structure, poly (meth) acrylates of trivalent or higher polyhydric alcohols, their dicarboxylic acid modified substances, and poly (meth) acrylates having a urethane structure are preferable. Examples of the poly (meth) acrylates of the trihydric or higher polyhydric alcohols and their dicarboxylic acid modified substances include trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, and pentaerythritol trimethacryl. Late, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate , Monoester of pentaerythritol triacrylate and succinic acid, monoester of pentaerythritol trimethacrylate and succinic acid, monoester of dipentaerythritol pentaacrylate and succinic acid, dipentaerythritol pentamethacrylate And monoesters of succinic acid Particularly preferred are trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol triacrylate and succinic acid monoester, dipentaerythrate The monoester of rititol pentaacrylate and succinic acid has high strength of the colored layer, excellent surface smoothness of the colored layer, and difficult to generate background contamination and film residue on the substrate and the light shielding layer of the unexposed part. desirable.

본 발명에 있어서, 카프로락톤 구조를 갖지 않는 다관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In this invention, the polyfunctional monomer which does not have a caprolactone structure can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명에 있어서의 다관능성 단량체의 함유량은 (B) 알칼리 가용성 수지 100 질량부에 대하여, 통상 20 내지 400 질량부, 바람직하게는 50 내지 300 질량부이다. 다관능성 단량체의 함유량을 이러한 범위로 함으로써, 강도나 표면 평활성, 내용제성이 우수한 착색층을 형성할 수 있고, 더구나 알칼리 현상성도 우수한 감방사선성 조성물을 얻을 수 있다.Content of the polyfunctional monomer in this invention is 20-400 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (B) alkali-soluble resin, Preferably it is 50-300 mass parts. By making content of a polyfunctional monomer into such a range, the colored layer excellent in strength, surface smoothness, and solvent resistance can be formed, Furthermore, the radiation sensitive composition excellent also in alkali developability can be obtained.

또한, 카프로락톤 구조를 갖는 분산제를 사용하지 않고, 카프로락톤 구조를 갖는 다관능성 단량체를 사용하는 경우, 그의 함유 비율은 원하는 효과를 높이는 점에서, 전 다관능성 단량체 중 10 질량% 이상인 것이 바람직하다.In addition, when using the polyfunctional monomer which has a caprolactone structure, without using the dispersing agent which has a caprolactone structure, it is preferable that the content rate is 10 mass% or more in all the polyfunctional monomers from the point which raises a desired effect.

-(E) 광 중합 개시제--(E) photoinitiator-

본 발명에 있어서의 광 중합 개시제는 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등의 방사선의 노광에 의해, 상기 (D) 다관능성 단량체의 중합을 개시할 수 있는 활성종을 발생하는 화합물이다.The photoinitiator in this invention is a compound which generate | occur | produces the active species which can start superposition | polymerization of the said (D) polyfunctional monomer by exposure of radiation, such as visible light, an ultraviolet-ray, an ultraviolet-ray, an electron beam, X-rays. .

본 발명에 있어서, 광 중합 개시제는 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온을 함유하는 것이다. 이 광 중합 개시제를 상기 카프로락톤 구조를 갖는 분산제 및/또는 카프로락톤 구조를 갖는 다관능성 중량체와 조합하여 함유시킴으로써, 순테이퍼 형상이며 내용제성이 우수한 화소를 형성하는 것이 가능해진다. 그의 함유 비율은 착색층의 내용제성을 높이는 점에서, 전 광 중합 개시제 중 25% 질량 이상인 것이 바람직하다.In the present invention, the photopolymerization initiator contains 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one. By containing this photoinitiator in combination with the dispersing agent which has the said caprolactone structure, and / or the polyfunctional weight body which has a caprolactone structure, it becomes possible to form the pixel which is pure tapered and excellent in solvent resistance. Since the content rate improves the solvent resistance of a colored layer, it is preferable that it is 25% mass or more in all the photoinitiators.

본 발명에 있어서는 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온과 함께, 티오크산톤계 화합물 및 O-아실옥심계 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 병용함으로써, 놀랍게도 원하는 효과를 더욱 높일 수 있다. 티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 들 수 있다.In the present invention, a thioxanthone compound and an O-acyl oxime compound together with 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one By using together 1 or more types chosen from the group which consists of, surprisingly, a desired effect can further be heightened. As a thioxanthone type compound, the compound represented by following formula (4) is mentioned, for example.

Figure pat00004
Figure pat00004

(식 중, R2 내지 R5는 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 18의 알킬기 또는 탄소수 1 내지 18의 알콕시기를 나타냄)(Wherein, R 2 to R 5 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms)

상기 화학식 4 중, R2 및 R4로서는 수소 원자가 바람직하고, R3 및 R5로서는 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기가 바람직하다. 또한, R3 및 R5로서는 그의 양쪽이 탄소수 1 내지 6의 알킬기인 것이 바람직하다.In said Formula (4), a hydrogen atom is preferable as R <2> and R <4> , and a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1-C12 alkyl group is preferable as R <3> and R <5> . Moreover, as R <3> and R <5> , it is preferable that both are C1-C6 alkyl groups.

상기 화학식 4로 표시되는 티오크산톤계 화합물의 구체예로서는 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 4-이소프로필티오크산톤, 2-도데실티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.Specific examples of the thioxanthone compound represented by Formula 4 include thioxanthone, 2-methyl thioxanthone, 2-isopropyl thioxanthone, 4-isopropyl thioxanthone, 2-dodecyl thioxanthone, 2, 4-dimethyl thioxanthone, 2, 4- diethyl thioxanthone, 2, 4- diisopropyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, etc. are mentioned.

이들 티오크산톤계 화합물 중, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤이 바람직하고, 특히 2,4-디에틸티오크산톤이 바람직하다.Among these thioxanthone compounds, 2,4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone and 2,4-diisopropyl thioxanthone are preferable, and particularly 2,4-diethyl thioxide Santon is preferred.

본 발명에 있어서, 티오크산톤계 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In this invention, a thioxanthone type compound can be used individually or in mixture of 2 or more types.

원하는 효과를 보다 높이는 점에서, 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온과 티오크산톤계 화합물의 배합 질량비는 바람직하게는 1:1 내지 20:1, 더욱 바람직하게는 2:1 내지 15:1이다.In order to further enhance the desired effect, the blending mass ratio of 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and thioxanthone compound is preferable Preferably 1: 1 to 20: 1, more preferably 2: 1 to 15: 1.

또한, O-아실옥심계 화합물은 아실옥심 구조(>C=N-O-CO-)를 갖는 광 중합 개시제인 한 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 국제 공개 제2002/100903호 공보, 국제 공개 제2006/018973호 공보, 국제 공개 제2008/078678호 공보 등에 기재된 화합물을 들 수 있다. O-아실옥심계 화합물의 바람직한 구체예로서는 1,2-옥탄디온,1-〔4-(페닐티오)페닐〕-,2-(O-벤조일옥심), 에타논,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(O-아세틸옥심), 에타논,1-〔9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로푸라닐메톡시벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-,1-(O-아세틸옥심), 에타논,1-〔9-에틸-6-{2-메틸-4-(2,2-디메틸-1,3-디옥솔라닐)메톡시벤조일}-9H-카르바졸-3-일〕-,1-(O-아세틸옥심)을 들 수 있다.The O-acyl oxime compound is not particularly limited as long as it is a photopolymerization initiator having an acyl oxime structure (> C = NO-CO-). For example, International Publication No. 2002/100903, International Publication 2006 And the compounds described in / 018973, International Publication No. 2008/078678, and the like. Preferred specific examples of the O-acyl oxime compound include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) phenyl]-, 2- (O-benzoyloxime), ethanone, 1- [9-ethyl-6 -(2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime), ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofura Nylmethoxybenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime), ethanone, 1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl -1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl} -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime).

본 발명에 있어서, O-아실옥심계 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In this invention, O-acyl oxime type compound can be used individually or in mixture of 2 or more types.

원하는 효과를 보다 높이는 점에서, 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온과 O-아실옥심계 화합물의 배합 질량비는 바람직하게는 1:1 내지 20:1, 더욱 바람직하게는 1:1 내지 10:1이다.In order to further enhance the desired effect, the blending mass ratio of 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and an O-acyl oxime compound is It is preferably 1: 1 to 20: 1, more preferably 1: 1 to 10: 1.

본 발명에 있어서는, 추가로In the present invention, further

2-메틸-1-〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등의 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 이외의 아세토페논계 화합물;2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butane-1- Acetophenone compounds other than 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, such as ions;

2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등의 비이미다졸계 화합물;2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl)- 4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4', 5,5'- Biimidazole-based compounds such as tetraphenyl-1,2'-biimidazole;

2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-〔2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐〕-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-〔2-(푸란-2-일)에테닐〕-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-〔2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐〕-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-〔2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐〕-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등의 트리아진계 화합물 등의 공지된 광 중합 개시제를 사용할 수도 있다.2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2 -Yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4 -Dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine , 2- (4-ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) Known photoinitiators, such as triazine type compounds, such as -s-triazine, can also be used.

또한, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논, 7-디에틸아미노-3-(4-디에틸아미노벤조일)쿠마린, 4-(디에틸아미노)칼콘 등의 공지된 증감제를 병용할 수도 있다.4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, 4-dimethylaminobenzoic acid Ethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, 2,5-bis (4-diethylaminobenzal) cyclohexanone, 7-diethylamino-3- (4-diethylaminobenzoyl) coumarin, 4- ( Known sensitizers, such as diethylamino) chalcone, can also be used together.

본 발명에 있어서, 광 중합 개시제의 함유량은 (D) 다관능성 단량체 100 질량부에 대하여, 통상 0.01 내지 120 질량부, 바람직하게는 1 내지 100 질량부, 더욱 바람직하게는 1 내지 70 질량부이다. 이 경우, 광 중합 개시제의 함유량이 너무 적으면, 노광에 의한 경화가 불충분해질 우려가 있고, 한편 너무 많으면, 착색층이 현상시에 기판으로부터 탈락되기 쉬워지는 경향이 있다.In this invention, content of a photoinitiator is 0.01-120 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (D) polyfunctional monomers, Preferably it is 1-100 mass parts, More preferably, it is 1-70 mass parts. In this case, when there is too little content of a photoinitiator, there exists a possibility that hardening by exposure may become inadequate, and when too large, there exists a tendency for a colored layer to fall easily from a board | substrate at the time of image development.

-첨가제--additive-

본 발명의 감방사선성 조성물은 상기 (A) 내지 (E) 성분을 함유하는 것이지만, 필요에 따라서 다른 첨가제를 추가로 함유할 수도 있다.Although the radiation sensitive composition of this invention contains the said (A)-(E) component, it may further contain other additive as needed.

상기 다른 첨가제로서는, 예를 들면 유리, 알루미나 등의 충전제; 폴리비닐알코올, 폴리(플루오로알킬아크릴레이트)류 등의 고분자 화합물; 비이온계 계면활성제, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제 등의 계면활성제; 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등의 밀착 촉진제; 2,2-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸페놀 등의 산화 방지제; 2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논류 등의 자외선 흡수제; 폴리아크릴산나트륨 등의 응집 방지제; 말론산, 아디프산, 이타콘산, 시트라콘산, 푸마르산, 메사콘산 등의 잔사 개선제; 숙신산모노〔2-(메트)아크릴로일옥시에틸〕, 프탈산모노〔2-(메트)아크릴로일옥시에틸〕, ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트 등의 현상성 개선제 등을 들 수 있다.As said other additive, For example, fillers, such as glass and an alumina; Polymer compounds such as polyvinyl alcohol and poly (fluoroalkyl acrylate) s; Surfactants such as nonionic surfactants, cationic surfactants, and anionic surfactants; Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclo Hexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc. Adhesion promoter; Antioxidants such as 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2,6-di-t-butylphenol; Ultraviolet absorbers such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenones; Aggregation inhibitors such as sodium polyacrylate; Residue improving agents such as malonic acid, adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid and mesaconic acid; Developability improvement agents, such as succinic acid mono [2- (meth) acryloyl oxyethyl], phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxy ethyl], (omega) -carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate, etc. are mentioned. Can be.

-용매--menstruum-

본 발명의 감방사선성 조성물은 상기 (A) 내지 (E) 성분을 필수 성분으로 하고, 필요에 따라서 상기 첨가제 성분을 함유하지만, 통상 용매를 배합하여 액상 조성물로서 제조된다.Although the radiation sensitive composition of this invention makes the said (A)-(E) component an essential component, and contains the said additive component as needed, it is normally manufactured as a liquid composition by mix | blending a solvent.

상기 용매로서는 감방사선성 조성물을 구성하는 (A) 내지 (E) 성분이나 첨가제 성분을 분산 또는 용해하고, 이들 성분과 반응하지 않고, 적합한 휘발성을 갖는 것인 한, 적절히 선택하여 사용할 수 있다.As said solvent, as long as it is disperse | distributing or melt | dissolving or dissolving the component and the additive component which comprise a radiation sensitive composition, and it does not react with these components, it can select suitably and can use it.

이러한 용매로서는, 예를 들면As such a solvent, for example

에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르류;Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n -Propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene Glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tri (Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol monoethyl ether;

에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류;Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as 3-methyl-3-methoxybutyl acetate;

디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라히드로푸란 등의 그 밖의 에테르류;Other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether and tetrahydrofuran;

메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등의 케톤류;Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, and 3-heptanone;

프로필렌글리콜디아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산디올디아세테이트 등의 디아세테이트류; 락트산메틸, 락트산에틸 등의 락트산알킬에스테르류;Diacetates such as propylene glycol diacetate, 1,3-butylene glycol diacetate and 1,6-hexanediol diacetate; Lactic acid alkyl esters such as methyl lactate and ethyl lactate;

2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 히드록시아세트산에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산에틸, 아세트산 n-프로필, 아세트산 i-프로필, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 포름산 n-아밀, 아세트산 i-아밀, 프로피온산 n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산 n-프로필, 부티르산 i-프로필, 부티르산 n-부틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산 n-프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-옥소부탄산에틸 등의 다른 에스테르류;Ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, 2 Hydroxy-3-methylbutyrate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n- formic acid Amyl, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, butyric acid i-propyl, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, 2 Other esters such as ethyl oxobutyrate;

톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류;Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene;

N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드 또는 락탐류 등을 들 수 있다.Amides or lactams such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like.

이들 용매 중, 용해성, 안료 분산성, 도포성 등 측면에서, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논, 프로필렌글리콜디아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 락트산에틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 포름산 n-아밀, 아세트산 i-아밀, 프로피온산 n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산 i-프로필, 부티르산 n-부틸, 피루브산에틸 등이 바람직하다.Among these solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, Diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, propylene glycol diacetate, 1,3-butylene glycol diacetate, ethyl lactate, 3-methoxypropionic acid Ethyl, 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-amyl acetate, i-amyl acetate, propionic acid n-butyl, ethyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, ethyl pyruvate and the like are preferred.

상기 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The said solvent can be used individually or in mixture of 2 or more types.

또한, 상기 용매와 같이, 벤질에틸에테르, 디-n-헥실에테르, 아세토닐아세톤, 이소포론, 카프로산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 아세트산벤질, 벤조산에틸, 옥살산디에틸, 말레산디에틸, γ-부티로락톤, 탄산에틸렌, 탄산프로필렌, 에틸렌글리콜모노페닐에테르아세테이트 등의 고비점 용매를 병용할 수도 있다.In addition, benzyl ethyl ether, di-n-hexyl ether, acetonyl acetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, and ethyl benzoate are used as the solvent. And high boiling point solvents such as diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and ethylene glycol monophenyl ether acetate.

이들 고비점 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These high boiling point solvents can be used individually or in mixture of 2 or more types.

용매의 함유량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 얻어지는 감방사선성 조성물의 도포성, 보존 안정성 등의 측면에서, 해당 조성물의 용매를 제외한 각 성분의 합계 농도가 5 내지 50 질량%가 되는 양이 바람직하고, 특히 10 내지 40 질량%가 되는 양이 바람직하다.Although content of a solvent is not specifically limited, From the viewpoint of the applicability | paintability of a radiation sensitive composition obtained, storage stability, etc., the quantity which the total concentration of each component except the solvent of the said composition becomes 5-50 mass% is preferable, In particular, the amount which becomes 10-40 mass% is preferable.

컬러 필터의 형성 방법Formation method of the color filter

다음으로, 본 발명의 감방사선성 조성물을 이용하여, 본 발명의 컬러 필터를 형성하는 방법에 대해서 설명한다.Next, the method of forming the color filter of this invention using the radiation sensitive composition of this invention is demonstrated.

컬러 필터를 형성하는 방법은, 통상 적어도 하기 (1) 내지 (4)의 공정을 포함하고 있다.The method of forming a color filter normally includes the process of following (1)-(4) at least.

(1) 기판 상에 본 발명의 감방사선성 조성물의 도막을 형성하는 공정.(1) Process of forming the coating film of the radiation sensitive composition of this invention on a board | substrate.

(2) 상기 도막의 적어도 일부에 노광하는 공정.(2) The process of exposing to at least one part of the said coating film.

(3) 노광 후의 도막을 현상하는 공정.(3) The process of developing the coating film after exposure.

(4) 현상 후의 도막을 후-베이킹하는 공정.(4) The process of post-baking the coating film after image development.

이하, 이들 공정에 대해서 순차 설명한다.Hereinafter, these processes are demonstrated one by one.

-(1) 공정-(1) process

우선, 기판의 표면 상에 필요에 따라서, 화소를 형성하는 부분을 구획하도록 차광층(블랙 매트릭스)을 형성하고, 이 기판 상에 예를 들면 적색의 (A) 착색제를 함유하는 본 발명의 감방사선성 조성물을 통상 액상 조성물로서 도포한 후, 예비 베이킹하여 용매를 증발 제거함으로써, 도막을 형성한다.First, as needed, the light-shielding layer (black matrix) is formed so that the part which forms a pixel may be divided on the surface of a board | substrate, and the radiation of the present invention which contains a red (A) colorant, for example on this board | substrate. After apply | coating a sexual composition as a liquid composition normally, it pre-bakes and evaporates and removes a solvent, and a coating film is formed.

이 공정에서 사용되는 기판으로서는, 예를 들면 유리, 실리콘, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 방향족 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드, 폴리에테르술폰 이외에, 환상 올레핀의 개환 중합체나 그의 수소 첨가물 등을 들 수 있다.As a board | substrate used at this process, a ring-opening polymer of cyclic olefin, its hydrogenated substance, etc. other than glass, silicone, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, polyimide, polyether sulfone are mentioned, for example. have.

또한, 이들 기판에는 원한다면, 실란 커플링제 등에 의한 약품 처리, 플라즈마 처리, 이온 플레이팅, 스퍼터링, 기상 반응법, 진공 증착 등의 적절한 전처리를 실시하여 놓을 수도 있다.If desired, these substrates may be subjected to appropriate pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment, ion plating, sputtering, vapor phase reaction, vacuum deposition, or the like.

액상 조성물을 기판에 도포할 때에는 회전 도포법, 유연 도포법, 롤 도포법, 슬릿 다이 코터를 이용하는 도포법 등의 적절한 도포법을 채용할 수 있지만, 회전 도포법, 슬릿 다이 코터를 이용하는 도포법이 바람직하다.When applying a liquid composition to a board | substrate, the appropriate coating methods, such as a spin coating method, the flexible coating method, the roll coating method, and the coating method using a slit die coater, can be employ | adopted, but the spin coating method and the coating method using a slit die coater are employ | adopted. desirable.

예비 베이킹은 통상 감압 건조와 가열 건조를 조합하여 행해진다. 감압 건조는 통상 50 내지 200 Pa에 도달할 때까지 행한다. 또한, 가열 건조의 조건은 통상 70 내지 110 ℃에서 1 내지 10분 정도이다.Prebaking is normally performed combining a reduced pressure drying and heat drying. Drying under reduced pressure is usually performed until it reaches 50-200 Pa. In addition, the conditions of heat drying are about 1 to 10 minutes at 70-110 degreeC normally.

도포 두께는 예비 베이킹 후의 막 두께로서, 통상 1.0 내지 10 μm, 바람직하게는 1.0 내지 8.0 μm, 특히 바람직하게는 1.0 내지 6.0 μm이다.The coating thickness is a film thickness after prebaking, which is usually 1.0 to 10 µm, preferably 1.0 to 8.0 µm, particularly preferably 1.0 to 6.0 µm.

-(2) 공정-(2) process

그 후, 형성된 도막의 적어도 일부에 노광한다. 이 경우, 도막의 일부에 노광할 때에는 통상 소정의 패턴을 갖는 포토마스크를 통해 노광한다.Then, it exposes to at least one part of the formed coating film. In this case, when exposing to a part of coating film, it exposes normally through the photomask which has a predetermined pattern.

노광에 사용되는 방사선의 광원으로서는, 예를 들면 크세논 램프, 할로겐 램프, 텅스텐 램프, 고압 수은등, 초고압 수은등, 메탈할라이드 램프, 중압 수은등, 저압 수은등 등의 램프 광원이나 아르곤 이온 레이저, YAG 레이저, XeCl 엑시머 레이저, 질소 레이저 등의 레이저 광원 등을 들 수 있지만, 파장이 190 내지 450 nm의 범위에 있는 방사선이 바람직하다.As a light source of radiation used for exposure, for example, lamp light sources such as xenon lamps, halogen lamps, tungsten lamps, high pressure mercury lamps, ultrahigh pressure mercury lamps, metal halide lamps, medium pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, argon ion lasers, YAG lasers, XeCl excimers Although laser light sources, such as a laser and a nitrogen laser, etc. are mentioned, The radiation in the range whose wavelength is 190-450 nm is preferable.

방사선의 노광량은 통상 10 내지 10,000 J/㎡이다. 본 발명의 감방사선성 조성물에 따르면, 800 J/㎡ 이하의 노광량, 나아가 600 J/㎡ 이하의 노광량이라도 순테이퍼 형상이며 내용제성도 우수한 화소를 형성할 수 있다. 또한, 노광량의 하한은 조도가 높은 광원을 사용한 경우의 제어성 측면에서, 100 J/㎡ 이상인 것이 바람직하다.The exposure amount of radiation is 10-100,000 J / m <2> normally. According to the radiation sensitive composition of this invention, even if it is the exposure amount of 800 J / m <2> or less, and the exposure amount of 600 J / m <2> or less, it is possible to form the pixel which is pure tapered and excellent in solvent resistance. Moreover, it is preferable that the minimum of exposure amount is 100 J / m <2> or more from a controllability viewpoint at the time of using the light source with high illuminance.

-(3) 공정-(3) process-

그 후, 현상액, 바람직하게는 알칼리 현상액을 이용하여 현상하고, 도막의 미노광부를 용해 제거한다.Then, it develops using a developing solution, Preferably alkaline developing solution, and removes and removes the unexposed part of a coating film.

상기 알칼리 현상액으로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 테트라메틸암모늄히드록시드, 콜린, 1,8-디아자비시클로-[5.4.0]-7-운데센, 1,5-디아자비시클로-[4.3.0]-5-노넨 등의 수용액이 바람직하다.Examples of the alkaline developer include sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diazabi, and the like. Aqueous solutions, such as cyclo- [4.3.0] -5-nonene, are preferable.

상기 알칼리 현상액에는, 예를 들면 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기 용제나 계면활성제 등을 적량 첨가할 수도 있다.An appropriate amount of water-soluble organic solvents such as methanol and ethanol, surfactants, and the like may be added to the alkaline developer.

현상 처리법으로서는 샤워 현상법, 분무 현상법, 딥(침지) 현상법, 퍼들 현상법 등을 적용할 수 있다.As the developing treatment method, a shower developing method, a spray developing method, a dip (immersion) developing method, a puddle developing method and the like can be applied.

현상 조건은 상온에서 10 내지 300초 정도가 바람직하다.As for image development conditions, about 10 to 300 second is preferable at normal temperature.

-(4) 공정-(4) process

그 후, 현상 후의 도막을 후-베이킹함으로써, 감방사선성 조성물의 경화물을 포함하는 적색의 화소 패턴이 소정의 배열로 배치된 기판을 얻을 수 있다.Subsequently, by post-baking the coating film after development, the board | substrate with which the red pixel pattern containing the hardened | cured material of a radiation sensitive composition was arrange | positioned in a predetermined | prescribed arrangement can be obtained.

후-베이킹의 조건은 180 내지 280 ℃에서 10 내지 60분 정도가 바람직하다.The conditions for the post-baking are preferably about 10 to 60 minutes at 180 to 280 ° C.

이와 같이 하여 형성된 화소의 막 두께는 통상 0.5 내지 5.0 μm, 바람직하게는 1.0 내지 3.0 μm이다.The film thickness of the pixel thus formed is usually 0.5 to 5.0 m, preferably 1.0 to 3.0 m.

또한, 녹색의 (A) 착색제를 함유하는 녹색 감방사선성 조성물을 이용하여, 상기 (1) 내지 (4) 공정을 반복함으로써, 녹색의 화소 패턴을 동일 기판 상에 형성하고, 또한 청색의 (A) 착색제를 함유하는 청색 감방사선성 조성물을 이용하여, 상기 (1) 내지 (4) 공정을 반복함으로써, 청색의 화소 패턴을 동일 기판 상에 형성함으로써 적색, 녹색 및 청색의 3원색의 화소 패턴이 소정의 배열로 배치된 화소 어레이를 기판 상에 형성할 수 있다. 다만, 각 색의 화소 패턴의 형성 순서는 임의로 선택할 수 있다.In addition, by repeating the above steps (1) to (4) using a green radiation-sensitive composition containing a green (A) colorant, a green pixel pattern is formed on the same substrate, and a blue (A ) By repeating the above steps (1) to (4) using a blue radiation-sensitive composition containing a colorant, a pixel pattern of three primary colors of red, green and blue is formed by forming a blue pixel pattern on the same substrate. Pixel arrays arranged in a predetermined arrangement can be formed on a substrate. However, the formation order of the pixel pattern of each color can be arbitrarily selected.

블랙 매트릭스는 흑색의 (A) 착색제를 함유하는 흑색 감방사선성 조성물을 이용하여, 상기 (1) 내지 (4) 공정을 행함으로써 형성할 수 있다.A black matrix can be formed by performing said process (1)-(4) using the black radiation sensitive composition containing black (A) coloring agent.

컬러 필터Color filter

본 발명의 컬러 필터는 본 발명의 감방사선성 조성물로부터 상기한 바와 같이 형성된 화소 및/또는 블랙 매트릭스를 갖는 것이다.The color filter of this invention has the pixel and / or black matrix formed as mentioned above from the radiation sensitive composition of this invention.

컬러 액정 표시 소자Color liquid crystal display element

본 발명의 컬러 액정 표시 소자는 본 발명의 컬러 필터를 구비하는 것이다.The color liquid crystal display element of this invention is equipped with the color filter of this invention.

상기한 바와 같이 형성된 컬러 필터 상에는 필요에 따라서 보호막을 형성한 후, 투명 도전막을 스퍼터링에 의해 형성한다. 투명 도전막으로서는 산화인듐-산화주석을 포함하는 ITO막, 산화인듐-산화아연을 포함하는 IZO막 등을 들 수 있다. 본 발명의 감방사선성 조성물을 이용하여 형성된 화소 패턴의 단면 형상은 순테이퍼이기 때문에, 투명 전극이 단선되는 경우는 없다. 따라서, 전기 특성이 우수한 고품질의 컬러 액정 표시 소자를 제조할 수 있다.On the color filter formed as mentioned above, after forming a protective film as needed, a transparent conductive film is formed by sputtering. Examples of the transparent conductive film include an ITO film containing indium oxide-tin oxide, an IZO film containing indium oxide-zinc oxide, and the like. Since the cross-sectional shape of the pixel pattern formed using the radiation sensitive composition of this invention is a forward taper, a transparent electrode does not disconnect. Therefore, the high quality color liquid crystal display element excellent in the electrical characteristic can be manufactured.

또한, 본 발명의 컬러 액정 표시 소자의 1개의 형태로서, 본 발명의 착색 감방사선성 조성물을 이용하고, 박막 트랜지스터 기판 어레이 상에 상술한 바와 같이하여 화소 및/또는 블랙 매트릭스를 형성함으로써, 특히 우수한 특성을 갖는 컬러 액정 표시 소자를 제조할 수 있다.Moreover, as one form of the color liquid crystal display element of this invention, using the colored radiation-sensitive composition of this invention and forming a pixel and / or a black matrix on the thin film transistor substrate array as mentioned above is especially excellent, The color liquid crystal display element which has a characteristic can be manufactured.

[실시예][Example]

이하, 실시예를 들어, 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, an Example is given and this invention is demonstrated further more concretely. However, the present invention is not limited to the following examples.

카프로락톤 구조를 갖는 분산제의 합성Synthesis of Dispersant with Caprolactone Structure

합성예 1Synthesis Example 1

온도계, 교반기, 질소 도입구 및 환류관을 구비한 반응 플라스크 내에, 12-히드록시스테아르산(준세이 가가꾸 제조) 10.0 질량부 및 ε-카프로락톤(준세이 가가꾸 제조) 190 질량부를 투입하고, 질소 기류하에서 160 ℃까지 4시간 걸쳐 승온하고, 160 ℃에서 2시간 가열한 후, ε-카프로락톤의 잔량이 1% 이하가 될 때까지 가열을 행하였다. 이어서 실온까지 냉각하였다. 이 반응액에 포함되는 폴리에스테르는 수 평균 분자량이 2580이고 산가가 21.0 mgKOH/g의 특성을 갖고 있었다.In a reaction flask equipped with a thermometer, a stirrer, a nitrogen inlet, and a reflux tube, 10.0 parts by mass of 12-hydroxystearic acid (manufactured by Junsei Chemical Industries, Ltd.) and 190 parts by mass of ε-caprolactone (manufactured by Junsei Chemical Industries, Ltd.) It heated up to 160 degreeC under airflow over 4 hours, heated at 160 degreeC for 2 hours, and heated until the residual amount of (epsilon) -caprolactone became 1% or less. Then cooled to room temperature. The polyester contained in this reaction liquid had the number average molecular weight of 2580, and the acid value of 21.0 mgKOH / g.

이어서 반응 플라스크 내에 크실렌 114.6 질량부와 폴리(알릴아민) 10% 수용액(니또보세끼(주) 제조 「PAA-1LV」, 수 평균 분자량 약 3000) 70 질량부를 포함하는 혼합물을 160 ℃에서 교반하고, 분리 장치를 사용하여 물을 증류 제거함과 동시에, 크실렌을 반응 용액에 반류하면서(물의 50 중량%를 증류 제거한 것을 확인하고), 이것에 상기 폴리에스테르를 포함하는 반응액 69.59 질량부를 160 ℃까지 승온한 것에 더하여, 2시간 동안 160 ℃에서 반응을 행하였다. 이와 같이 하여, 측쇄에 폴리카프로락톤 쇄를 갖는 폴리(알릴아민) 분산제를 포함하는 용액(고형분 농도=40.1%)을 얻었다. 이 분산제를 「분산제 (B-1)」로 한다. 분산제 (B-1)은 아민가가 10.5 mgKOH/g, 산가가 19.8 mgKOH/g의 특성을 갖고 있었다.Subsequently, a mixture containing 114.6 parts by mass of xylene and 10 parts by mass of a poly (allylamine) aqueous solution ("PAA-1LV" manufactured by Nitobo Seki Co., Ltd., number average molecular weight about 3000) in the reaction flask was stirred at 160 ° C, While distilling off water using a separation device, while refluxing xylene into the reaction solution (confirming that 50% by weight of water was distilled off), 69.59 parts by mass of the reaction solution containing the polyester was heated to 160 ° C. In addition, the reaction was carried out at 160 ° C. for 2 hours. Thus, the solution (solid content concentration = 40.1%) containing the poly (allylamine) dispersing agent which has a polycaprolactone chain in a side chain was obtained. This dispersant is referred to as "dispersant (B-1)." Dispersing agent (B-1) had the characteristic of an amine number of 10.5 mgKOH / g, and an acid value of 19.8 mgKOH / g.

안료 분산액의 제조Preparation of Pigment Dispersion

제조예 1Preparation Example 1

(A) 착색제로서 C.I. 피그먼트 레드 254(시바 스페셜티 케미컬즈사 제조, 상품명 BK-CF)/C.I. 피그먼트 레드 177(시바 스페셜티 케미컬즈사 제조, 상품명 A3B)/C.I. 피그먼트 옐로우 150=40/40/20(중량비) 혼합물 20 질량부, 분산제로서 분산제 (B-1)을 5 질량부(고형분 환산), 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 고형분 농도가 25%가 되도록 이용하고, 비드밀에 의해 처리하여 안료 분산액 (R1)을 제조하였다.(A) As a coloring agent, C.I. Pigment Red 254 (Ciba Specialty Chemicals, make, brand name BK-CF) /C.I. Pigment Red 177 (Ciba Specialty Chemicals make, brand name A3B) /C.I. Pigment Yellow 150 = 40/40/20 (weight ratio) 20 parts by mass of the mixture, 5 parts by mass (in terms of solids) of the dispersant (B-1) as a dispersant, and 25% of propylene glycol monomethyl ether acetate as the solvent Pigment dispersion (R1) was prepared by using as possible and treating with a bead mill.

제조예 2Production Example 2

(A) 착색제로서 C.I. 피그먼트 그린 36/C.I. 피그먼트 옐로우 150=50/50(중량비) 혼합물 20 질량부, 분산제로서 분산제 (B-1)을 5 질량부(고형분 환산), 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 고형분 농도가 25%가 되도록 이용하고, 비드밀에 의해 처리하여 안료 분산액 (G1)을 제조하였다.(A) As a coloring agent, C.I. Pigment Green 36 / C.I. Pigment Yellow 150 = 50/50 (weight ratio) 20 parts by mass of the mixture, 5 parts by mass (in terms of solids) of the dispersant (B-1) as a dispersant, and propylene glycol monomethyl ether acetate as the solvent so that the solids concentration is 25%. And treatment with a bead mill to prepare a pigment dispersion (G1).

제조예 3Production Example 3

분산제로서, 폴리카프로락톤 쇄를 갖지 않는 변성 아크릴계 공중합체인 Disperbyk-2000(빅케미(BYK)사 제조)을 이용한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 하여 안료 분산액 (R2)를 제조하였다.A pigment dispersion (R2) was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that Disperbyk-2000 (manufactured by BYK Corporation), a modified acrylic copolymer having no polycaprolactone chain, was used.

제조예 4Preparation Example 4

분산제로서, 에틸렌옥사이드 및 프로필렌옥사이드로부터 유도되는 공중합 단위를 53 질량% 함유하는 아민가 14 mgKOH/g, 중량 평균 분자량 24,000의 우레탄 수지를 이용한 것 이외에는 제조예 2와 동일하게 하여 안료 분산액 (G2)를 제조하였다.A pigment dispersion (G2) was prepared in the same manner as in Production Example 2 except that an amine containing 53 mass% of a copolymerized unit derived from ethylene oxide and propylene oxide was used as a dispersant, and a urethane resin having 14 mgKOH / g and a weight average molecular weight of 24,000 was used. It was.

알칼리 가용성 수지의 합성Synthesis of Alkali Soluble Resin

합성예 1Synthesis Example 1

냉각관, 교반기를 구비한 플라스크에 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 3 질량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 200 질량부를 투입하고, 계속해서 메타크릴산 15 질량부, 벤질메타크릴레이트 35 질량부, 아세나프틸렌 30 질량부, 2-히드록시에틸메타크릴레이트 10 질량부, ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트 10 질량부, 및 2,4-디페닐-4-메틸-1-펜텐(연쇄 이동제) 5 질량부를 투입하여, 질소 치환하였다. 그 후 완만히 교반하여, 반응 용액의 온도를 80 ℃로 상승시키고, 이 온도를 3시간 유지하여 중합함으로써, 공중합체 용액을 얻었다. 얻어진 수지는 Mw=11,000, Mn=5,000, 고형분 농도=31.0%였다. 이 공중합체를 「알칼리 가용성 수지 (C-1)」로 한다.3 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile and 200 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate were added to a flask equipped with a cooling tube and a stirrer, followed by 15 parts by mass of methacrylic acid and benzyl methacrylate 35 Parts by mass, 30 parts by mass of acenaphthylene, 10 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, 10 parts by mass of ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate, and 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene 5 parts by mass of a (chain transfer agent) was added thereto, followed by nitrogen substitution. Then, the mixture was stirred gently, the temperature of the reaction solution was raised to 80 ° C, and the copolymer solution was obtained by maintaining the polymerization for 3 hours. Obtained resin was Mw = 11,000, Mn = 5,000 and solid content concentration = 31.0%. Let this copolymer be "alkali-soluble resin (C-1)."

합성예 2Synthesis Example 2

냉각관, 교반기를 구비한 플라스크에 시클로헥사논 800 질량부를 투입하고, 플라스크에 질소 가스를 주입하면서 100 ℃로 가열하고, 동 온도에서 스티렌 60 질량부, 메타크릴산 60 질량부, 메타크릴산메틸 65 질량부, 메타크릴산부틸 65 질량부, 및 아조비스이소부티로니트릴 10 질량부의 혼합물을 1시간에 걸쳐 적하하고, 추가로 100 ℃에서 3시간 반응시킨 후, 아조비스이소부티로니트릴 2 질량부를 시클로헥사논 50 질량부에서 용해시킨 것을 첨가하고, 추가로 100 ℃에서 1시간 반응을 계속하여 공중합체 용액을 얻었다. 실온까지 냉각한 후, 공중합체 용액 약 2 g을 샘플링하고 180 ℃에서 20분 가열 건조하여 비휘발분을 측정하고, 먼저 합성한 공중합체 용액에 비휘발분이 20%가 되도록 시클로헥사논을 첨가하여 공중합체 용액을 제조하였다. 얻어진 수지는 Mw=40,000, Mn=15,000이었다. 이 공중합체를 「알칼리 가용성 수지 (C-2)」로 한다.800 mass parts of cyclohexanone were thrown into the flask provided with a cooling tube and the stirrer, and it heated at 100 degreeC, injecting nitrogen gas into a flask, 60 mass parts of styrene, 60 mass parts of methacrylic acid, and methyl methacrylate at the same temperature. A mixture of 65 parts by mass, 65 parts by mass of butyl methacrylate, and 10 parts by mass of azobisisobutyronitrile was added dropwise over 1 hour, and further reacted at 100 ° C for 3 hours, followed by 2 parts of azobisisobutyronitrile. The part dissolved in 50 mass parts of cyclohexanone was added, and also reaction was continued at 100 degreeC for 1 hour, and the copolymer solution was obtained. After cooling to room temperature, about 2 g of the copolymer solution was sampled and heated and dried at 180 ° C. for 20 minutes to measure the nonvolatile content. The coalescing solution was prepared. Obtained resin was Mw = 40,000 and Mn = 15,000. Let this copolymer be "alkali-soluble resin (C-2)."

실시예 1Example 1

안료 분산액 (R1) 100 질량부, (C) 알칼리 가용성 수지로서 알칼리 가용성 수지 (C-1) 10 질량부(고형분 환산), (D) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 15 질량부, (E) 광 중합 개시제로서 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온(시바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬즈사 제조, 상품명 이르가큐어 379) 5 질량부, 및 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 고형분 농도가 25 중량%가 되도록 혼합하여, 액상 조성물 (S-1)을 제조하였다.100 parts by mass of the pigment dispersion (R1), (C) 10 parts by mass of the alkali-soluble resin (C-1) (solid content conversion) as the alkali-soluble resin, (D) 15 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate as the polyfunctional monomer, (E) 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one (made by Ciba Specialty Chemicals, Inc., brand name Irga) as a photoinitiator Cure 379) 5 parts by mass and propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent were mixed so that the solid content concentration was 25% by weight to prepare a liquid composition (S-1).

액상 조성물 (S-1)에 대해서, 하기의 절차에 따라서 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 2에 나타내었다.The liquid composition (S-1) was evaluated according to the following procedure. The evaluation results are shown in Table 2.

단면 형상의 평가Evaluation of Section Shape

액상 조성물 (S-1)을 유리 기판의 표면 상에 스핀 코터를 이용하여 도포한 후, 90 ℃의 핫 플레이트에서 4분간 예비 베이킹을 행하고, 막 두께 2.0 μm의 도막을 형성하였다. 이어서, 이 기판을 실온으로 냉각한 후, 기판 상의 도막에 고압 수은 램프를 이용하여, 포토마스크를 통해 400 J/㎡의 노광량으로 노광하였다. 그 후, 기판 상의 도막에 23 ℃의 0.04 중량% 수산화칼륨 수용액을 1.5 kgf/㎠의 현상압(노즐 직경 1 mm)으로 60초간 토출함으로써 샤워 현상을 행하였다. 이어서, 220 ℃에서 30분간 후-베이킹을 행하여, 기판 상에 90 μm의 스트라이프상 화소 패턴을 형성하였다.After apply | coating a liquid composition (S-1) on the surface of a glass substrate using a spin coater, prebaking was performed for 4 minutes on the 90 degreeC hotplate, and the coating film of 2.0 micrometers in thickness was formed. Subsequently, after cooling this board | substrate to room temperature, it exposed by the exposure amount of 400 J / m <2> through the photomask using the high pressure mercury lamp to the coating film on the board | substrate. Thereafter, shower development was performed by discharging a 0.04% by weight aqueous potassium hydroxide solution at 23 ° C. for 60 seconds at a developing pressure of 1.5 kgf / cm 2 (nozzle diameter 1 mm) to the coating film on the substrate. Subsequently, post-baking was carried out at 220 ° C. for 30 minutes to form a 90 μm striped pixel pattern on the substrate.

이어서, 얻어진 화소 패턴의 단면 형상을 주사형 전자 현미경에 의해 관찰하고, 도 1에 나타내는 테이퍼각을 측정하였다. 이 테이퍼각이 80도 이상이면, 투명 전극막이 단선되어 버릴 우려가 있다. 이상적인 테이퍼각은 30 내지 70도이다.Next, the cross-sectional shape of the obtained pixel pattern was observed with the scanning electron microscope, and the taper angle shown in FIG. 1 was measured. If this taper angle is 80 degrees or more, there exists a possibility that a transparent electrode film may be disconnected. The ideal taper angle is 30 to 70 degrees.

내용제성의 평가Evaluation of solvent resistance

액상 조성물 (S-1)을 유리 기판의 표면 상에 스핀 코터를 이용하여 도포한 후, 90 ℃의 핫 플레이트에서 2분간 예비 베이킹을 행하여, 막 두께 2.0 μm의 도막을 형성하였다. 이어서, 이 기판을 실온으로 냉각한 후, 기판 상의 도막에 고압 수은 램프를 이용하여, 포토마스크를 통해 400 J/㎡의 노광량으로 노광하였다. 그 후, 기판 상의 도막에 23 ℃의 0.04 중량% 수산화칼륨 수용액을 1.5 kgf/㎠의 현상압(노즐 직경 1 mm)으로 60초간 토출함으로써 샤워 현상을 행하였다. 이어서, 220 ℃에서 30분간 후-베이킹을 행하여, 기판 상에 200×200 μm의 도트 패턴을 형성하였다.After apply | coating a liquid composition (S-1) on the surface of a glass substrate using a spin coater, prebaking was performed for 2 minutes on the 90 degreeC hotplate, and the coating film of 2.0 micrometers in thickness was formed. Subsequently, after cooling this board | substrate to room temperature, it exposed by the exposure amount of 400 J / m <2> through the photomask using the high pressure mercury lamp to the coating film on the board | substrate. Thereafter, shower development was performed by discharging a 0.04% by weight aqueous potassium hydroxide solution at 23 ° C. for 60 seconds at a developing pressure of 1.5 kgf / cm 2 (nozzle diameter 1 mm) to the coating film on the substrate. Subsequently, post-baking was performed at 220 ° C. for 30 minutes to form a 200 × 200 μm dot pattern on the substrate.

이어서, 얻어진 기판을 60 ℃의 N-메틸피롤리돈에 30분간 침지하였다. 그 결과, 침지 후에 도트 패턴이 유지되어 있고 침지 후의 N-메틸피롤리돈이 전혀 착색되지 않은 경우를 ◎, 침지 후에 도트 패턴은 유지되어 있지만 침지 후의 N-메틸피롤리돈이 약간 착색된 경우를 ○, 침지 후에 기판으로부터 박리되는 도트 패턴이 관찰됨과 동시에 침지 후의 N-메틸피롤리돈이 착색된 경우를 ×로서 평가하였다.Subsequently, the obtained substrate was immersed in 60 degreeC N-methylpyrrolidone for 30 minutes. As a result, when the dot pattern is maintained after dipping and the N-methylpyrrolidone after dipping is not colored at all, the dot pattern is maintained after dipping, but the case where N-methylpyrrolidone after dipping is slightly colored (Circle) and the dot pattern which peeled from a board | substrate after immersion was observed, and the case where N-methylpyrrolidone after immersion was colored was evaluated as x.

잔막률의 평가Evaluation of Residual Rate

액상 조성물 (S-1)을 유리 기판의 표면 상에, 스핀 코터를 이용하여 도포한 후, 90 ℃의 핫 플레이트에서 4분간 예비 베이킹을 행하여, 막 두께 1.3 μm의 도막을 형성하였다. 이어서, 이 기판을 실온으로 냉각한 후, 기판 상의 도막에 고압 수은 램프를 이용하여, 포토 마스크를 통해 400 J/㎡의 노광량으로 노광하였다. 그 후, 기판 상의 도막에 23 ℃의 0.04 중량% 수산화칼륨 수용액을 1 kgf/㎠의 현상압(노즐 직경 1 mm)으로 60초간 토출함으로써 샤워 현상을 행한 후, 추가로 220 ℃에서 30분간 후-베이킹을 행하여, 200×200 μm의 도트 패턴을 형성하였다.After apply | coating a liquid composition (S-1) on the surface of a glass substrate using a spin coater, prebaking was performed for 4 minutes on the 90 degreeC hotplate, and the coating film of 1.3 micrometers in thickness was formed. Subsequently, after cooling this board | substrate to room temperature, it exposed by the exposure amount of 400 J / m <2> through the photomask using the high pressure mercury lamp to the coating film on the board | substrate. Thereafter, a shower development was performed by discharging a 0.04% by weight aqueous potassium hydroxide solution at 23 ° C. for 60 seconds at a developing pressure of 1 kgf / cm 2 (nozzle diameter of 1 mm) to the coating film on the substrate. Baking was carried out to form a dot pattern of 200 × 200 μm.

이어서, 얻어진 기판 상의 도트 패턴을 주사형 전자 현미경으로 관찰하여 막 두께를 측정함으로써, 잔막률(후-베이킹 후의 막 두께×100/1.3)을 산출하였다. 잔막률이 높을수록, 감도가 양호하다고 할 수 있다.Next, the residual film ratio (film thickness after post-baking x 100 / 1.3) was computed by observing the dot pattern on the obtained board | substrate with a scanning electron microscope, and measuring a film thickness. The higher the residual film ratio, the better the sensitivity.

실시예 2 내지 15 및 비교예 1 내지 7Examples 2-15 and Comparative Examples 1-7

액상 조성물의 각 성분의 종류 및 양을 표 1에 나타낸 대로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 액상 조성물 (S-2) 내지 (S-22)를 제조하였다.Liquid compositions (S-2) to (S-22) were prepared in the same manner as in Example 1 except that the type and amount of each component of the liquid composition was as shown in Table 1.

이어서, 액상 조성물 (S-1) 대신에 각각 액상 조성물 (S-2) 내지 (S-22)를 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 평가를 행하였다. 결과를 표 2에 나타내었다.Next, it evaluated similarly to Example 1 except having used liquid compositions (S-2)-(S-22) instead of liquid composition (S-1), respectively. The results are shown in Table 2.

Figure pat00005
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표 1에 있어서, 각 성분은 하기와 같다.In Table 1, each component is as follows.

D-1: 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트D-1: dipentaerythritol hexaacrylate

D-2: 상기 화학식 1 내지 3에 있어서 m=1, 화학식 2로 표시되는 기의 수=6, R1이 전부 수소 원자인 화합물(상품명 KAYARAD DPCA-60, 닛본 가야꾸사 제조)D-2: The compound of the following formulas (1) to (3) wherein m = 1, the number of groups represented by the formula (2) = 6, and R 1 are all hydrogen atoms (trade names KAYARAD DPCA-60, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

D-3: 상기 화학식 1 내지 3에 있어서 m=2, 화학식 2로 표시되는 기의 수=6, R1이 전부 수소 원자인 화합물(상품명 KAYARAD DPCA-120, 닛본 가야꾸사 제조)D-3: In the above formulas (1) to (3), the compound represented by m = 2 and the number of groups represented by the formula (2) = 6 and R 1 are all hydrogen atoms (trade names KAYARAD DPCA-120, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

E-1: 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온(시바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬즈사 제조, 상품명 이르가큐어 379)E-1: 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one (made by Ciba Specialty Chemicals, brand name Irgacure 379)

E-2: 2,4-디에틸티오크산톤E-2: 2, 4-diethyl thioxanthone

E-3: 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논E-3: 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone

E-4: 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온(상품명 이르가큐어 369, 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬즈사 제조)E-4: 2-benzyl-2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one (trade name Irgacure 369, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.)

E-5: 2-메틸-1-〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온(상품명 이르가큐어 907, 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬즈사 제조)E-5: 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one (trade name Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.)

E-6: 에타논,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(O-아세틸옥심)(상품명 이르가큐어 OXE02, 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬즈사 제조)E-6: ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime) (trade name Irgacure OXE02, Ciba ㆍ specialty chemicals)

E-7: 1,2-옥타디온,1-[4-(페닐티오)-,2-(O-벤조일옥심)(상품명 이르가큐어 OXE01, 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬즈사 제조)E-7: 1,2-octadione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime) (brand name Irgacure OXE01, the Ciba specialty chemicals company make)

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Figure pat00006

표 2로부터 분명한 바와 같이, (B) 분산제 및 (D) 다관능성 단량체의 적어도 한쪽이 카프로락톤 구조를 갖는 성분이고(안료 분산액이 R1 또는 G1, (D) 성분이 D-2 또는 D-3), 광 중합 개시제가 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온을 포함하는 (E-1) 본 발명의 착색 감방사선성 조성물은 형성된 화소 패턴이 순테이퍼 형상이고, 우수한 내용제성을 가짐과 동시에 잔막률이 높고, 감도가 양호하였다.As is apparent from Table 2, at least one of (B) dispersant and (D) polyfunctional monomer is a component having a caprolactone structure (pigment dispersion is R1 or G1, (D) component is D-2 or D-3) (E-1) The colored radiation of the present invention wherein the photopolymerization initiator contains 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one The formed composition had a pure tapered pixel pattern, had excellent solvent resistance, had a high residual film ratio, and had good sensitivity.

한편, (B) 분산제 및 (D) 다관능성 단량체 중 어디에도 카프로락톤 구조를 갖는 성분을 포함하지 않는 경우, 또는 광 중합 개시제가 상기 (E-1)을 포함하지 않는 경우에는 형성된 화소가 역테이퍼가 되거나, 또는 내용제성이 나빴다.On the other hand, when none of (B) the dispersant and (D) the polyfunctional monomer contains a component having a caprolactone structure, or when the photopolymerization initiator does not contain the above (E-1), the formed pixel has an inverse taper. Or solvent resistance was bad.

Claims (10)

(A) 착색제, (C) 알칼리 가용성 수지, (D) 다관능성 단량체, 및 (E) 광 중합 개시제를 함유하는 착색 감방사선성 조성물이며, (D) 다관능성 단량체가 카프로락톤 구조를 갖는 것이고, (E) 광 중합 개시제가 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온을 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 감방사선성 조성물.It is a colored radiation-sensitive composition containing (A) a coloring agent, (C) alkali-soluble resin, (D) polyfunctional monomer, and (E) photoinitiator, (D) polyfunctional monomer has a caprolactone structure, (E) Photosensitive radiation-sensitive composition characterized in that photoinitiator contains 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one . (A) 착색제, (B) 분산제, (C) 알칼리 가용성 수지, (D) 다관능성 단량체, 및 (E) 광 중합 개시제를 함유하는 착색 감방사선성 조성물이며, (B) 분산제가 카프로락톤 구조를 갖는 것이고, (E) 광 중합 개시제가 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온을 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 감방사선성 조성물.It is a colored radiation-sensitive composition containing (A) a coloring agent, (B) dispersing agent, (C) alkali-soluble resin, (D) polyfunctional monomer, and (E) photoinitiator, (B) dispersing agent has a caprolactone structure Coloring (E) photoinitiator contains 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one Radioactive composition. 제1항에 있어서, (E) 광 중합 개시제가 티오크산톤계 화합물 및 O-아실옥심계 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 추가로 함유하는 것인 착색 감방사선성 조성물. The colored radiation-sensitive composition according to claim 1, wherein (E) the photopolymerization initiator further contains at least one member selected from the group consisting of thioxanthone compounds and O-acyl oxime compounds. 제2항에 있어서, (E) 광 중합 개시제가 티오크산톤계 화합물 및 O-아실옥심계 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 추가로 함유하는 것인 착색 감방사선성 조성물. The colored radiation-sensitive composition according to claim 2, wherein the photopolymerization initiator (E) further contains at least one member selected from the group consisting of thioxanthone compounds and O-acyl oxime compounds. 제3항에 있어서, 상기 티오크산톤계 화합물이 2,4-디에틸티오크산톤인 착색 감방사선성 조성물. The colored radiation-sensitive composition according to claim 3, wherein the thioxanthone compound is 2,4-diethyl thioxanthone. 제4항에 있어서, 상기 티오크산톤계 화합물이 2,4-디에틸티오크산톤인 착색 감방사선성 조성물. The colored radiation-sensitive composition according to claim 4, wherein the thioxanthone compound is 2,4-diethyl thioxanthone. 제1항에 있어서, 카프로락톤 구조를 갖지 않는 다관능성 단량체를 추가로 함유하는 착색 감방사선성 조성물. The colored radiation-sensitive composition according to claim 1, further comprising a polyfunctional monomer having no caprolactone structure. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 착색 감방사선성 조성물을 이용하여 형성된 착색층을 구비하여 이루어지는 컬러 필터. The color filter provided with the colored layer formed using the colored radiation-sensitive composition in any one of Claims 1-7. 제8항에 기재된 컬러 필터를 구비하는 컬러 액정 표시 소자.The color liquid crystal display element provided with the color filter of Claim 8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 착색 감방사선성 조성물을 이용하여, 800 J/㎡ 이하의 노광량으로 착색층을 형성하는 공정을 포함하는 컬러 필터의 제조 방법. The manufacturing method of the color filter containing the process of forming a colored layer by the exposure amount of 800 J / m <2> or less using the colored radiation-sensitive composition in any one of Claims 1-7.
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