KR20100006460A - Method for repairing defect cell of liquid crystal display panel - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method for repairing defect cell of a liquid crystal display panel is provided to prevent the exposure of a bright point within viewing angle by performing dark point repair. CONSTITUTION: A plurality of cells are arranged in the area of 1/2 spot from a lower end part(B) of the LCD panel(300). A drain electrode of the defective cell(P) cuts in multiple middles. The overlapped area is short circuited between the front end gate line and the pixel electrode. The dark spot of the bad cell is progressed. In a plurality of cells is the top end portion(A) of the LCD panel, and is arranged in a 1/2 spot from the top end portion. The drain electrode of the bad cell are cut among a plurality of cells. The overlapped area is short circuited between the common line and pixel electrode. The dark spot of the bad cell is progressed.

Description

액정표시패널의 불량셀 리페어방법{Method for repairing defect cell of liquid crystal display panel}Method for repairing defect cell of liquid crystal display panel

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 암점 리페어에 따른 시야각 휘점 발생품의 리턴(return) 불량률을 줄일 수 있고 수율 증가 및 수익성을 개선할 수 있는 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a method of repairing a defective cell of a liquid crystal display panel, which can reduce a return failure rate of a viewing angle bright spot product according to a dark point repair and improve yield and profitability. will be.

최근에 액정표시장치는 소비전력이 낮고, 휴대성이 양호한 기술집약적이며, 부가가치가 높은 차세대 첨단 디스플레이(display) 소자로 각광받고 있다.Recently, liquid crystal displays have been spotlighted as next generation advanced display devices having low power consumption, good portability, high technology value, and high added value.

이러한 액정표시장치중에서도, 각 화소별로 전압의 온/오프를 조절할 수 있는 스위칭소자가 구비된 액티브 매트릭스형 액정표시장치가 해상도 및 동영상 구현능력이 뛰어나 가장 주목받고 있다.Among such liquid crystal display devices, an active matrix liquid crystal display device having a switching element capable of controlling voltage on / off for each pixel is attracting the most attention due to its excellent resolution and ability to implement video.

이러한 일반적인 액정표시장치의 리페어방법에 대해 도 1을 참조하여 설명하면 다음과 같다.A repair method of such a general liquid crystal display will be described with reference to FIG. 1.

도 1은 일반적인 액정표시장치의 일부영역에 대한 입체도로서, 액정이 구동되는 영역으로 정의되는 액티브 영역을 중심으로 도시한 것이다.FIG. 1 is a three-dimensional view of a partial area of a general liquid crystal display device, and is shown centering on an active area defined as an area in which a liquid crystal is driven.

도 1에 도시된 바와 같이, 서로 일정간격 이격되어 상부 및 하부기판(10, 30)이 대향하고 있고, 상기 상부 및 하부기판(10, 30)사이에는 액정층(50)이 개재되어 있다.As shown in FIG. 1, the upper and lower substrates 10 and 30 are opposed to each other by a predetermined distance, and the liquid crystal layer 50 is interposed between the upper and lower substrates 10 and 30.

여기서, 상기 하부기판(30) 상부에는 다수개의 게이트 및 데이터배선(32, 34)이 서로 교차되어 있고, 이 게이트 및 데이터배선(32, 34)이 교차되는 지점에 박막트랜지스터(T)가 형성되어 있으며, 상기 게이트 및 데이터배선(32, 34)이 교차되는 영역으로 정의되는 화소영역(P)에는 박막트랜지스터(T)와 연결된 화소전극 (46)이 형성되어 있다.Here, a plurality of gates and data lines 32 and 34 cross each other on the lower substrate 30, and a thin film transistor T is formed at a point where the gates and data lines 32 and 34 cross each other. The pixel electrode 46 connected to the thin film transistor T is formed in the pixel area P defined as an area where the gates and the data lines 32 and 34 intersect.

또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 박막트랜지스터(T)는 게이트 전압을 인가받는 게이트전극과, 데이터전압을 인가받는 소스 및 드레인전극과, 게이트전압과 데이터 전압차에 의해 전압의 온/오프를 조절하는 체널(channel)로 구성된다.In addition, although not shown in the drawing, the thin film transistor T adjusts the voltage on / off by a gate electrode to which a gate voltage is applied, a source and drain electrode to which a data voltage is applied, and a gate voltage and a data voltage difference. It is composed of channels.

그리고, 상부기판(10) 하부에는 컬러필터층(12), 공통전극(16)이 차례대로 형성되어 있다.In addition, the color filter layer 12 and the common electrode 16 are sequentially formed below the upper substrate 10.

또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 컬러필터층(12)은 특정한 파장대의 빛만을 투과시키는 컬러필터와, 컬러필터의 경계부에 위치하여 액정의 배열이 제어되지 않는 영역상의 빛을 차단하는 블랙매트릭스로 구성된다.In addition, although not shown in the drawing, the color filter layer 12 includes a color filter for transmitting only light of a specific wavelength band and a black matrix positioned at a boundary of the color filter to block light on an area where the arrangement of liquid crystals is not controlled. do.

그리고, 상부 및 하부기판(10, 30)의 각 외부면에는 편광축과 평행한 빛만을 투과시키는 상부 및 하부 편광판(52, 54)이 위치하고, 하부편광판(54) 하부에는 별도의 광원인 백라이트(back light)가 배치되어 있다.In addition, upper and lower polarizing plates 52 and 54 for transmitting only light parallel to the polarization axis are positioned on each outer surface of the upper and lower substrates 10 and 30, and a backlight, which is a separate light source, is provided below the lower polarizing plate 54. light) is placed.

이러한 구성으로 이루어진 종래의 액정표시장치는, 스위칭소자 및 화소전극을 형성하는 어레이 기판 제조공정과 컬러필터 및 공통전극을 형성하는 컬러필터 기판 제조공정을 거친 기판을 이용하여, 이 두 기판사이에 액정을 개재하는 액정셀 공정을 거쳐 완성된다.A conventional liquid crystal display device having such a configuration uses a substrate which has undergone an array substrate manufacturing process for forming a switching element and a pixel electrode and a color filter substrate manufacturing process for forming a color filter and a common electrode, thereby providing a liquid crystal between the two substrates. The liquid crystal cell process is completed through the process.

상기 액정셀 공정은 어레이 공정이나 컬러필터 공정에 비해 상대적으로 반복되는 공정이 거의 없는 것이 특징이라고 할 수 있다. 전체 공정은 액정 분자의 배향을 위한 배향막 형성공정과 셀갭(cell gap) 형성공정, 셀 절단(cutting) 공정, 액정주입공정으로 크게 나눌 수 있고, 이러한 공정은 거친 액정셀은 품질검사를 통해 선별된 액정패널의 외측에 각각 편광판을 부착한후, 구동회로를 연결하면 액정표시장치가 완성된다.The liquid crystal cell process may be characterized in that the process is relatively little compared to the array process or the color filter process. The overall process can be roughly divided into an alignment layer forming process for forming the liquid crystal molecules, a cell gap forming process, a cell cutting process, and a liquid crystal injection process. After attaching polarizing plates to the outside of the liquid crystal panel, the driving circuit is connected to complete the liquid crystal display.

이러한 액정패널의 검사과정에서는, 액정패널의 화면에 테스트패턴을 띄우고 불량 화소의 유무를 탐지하여 불량 화소가 발견되었을때 이에 대한 리페어 작업을 행하게 된다.In the process of inspecting the liquid crystal panel, a test pattern is displayed on the screen of the liquid crystal panel and the presence or absence of a bad pixel is detected, and a repair operation is performed when a bad pixel is found.

일반적인 액정패널의 불량에는 픽셀별 색상 불량, 휘점(항상 켜져 있는 픽셀), 암점(항상 꺼져 있는 픽셀) 등의 점 결함과, 상기 게이트배선과 인접한 데이터 배선간의 단락(short)으로 인해 발생하는 선 결함(Line Defect) 등이 있다.Common LCD panel defects include color defects for each pixel, point defects such as bright spots (pixels that are always on), dark spots (pixels that are always off), and line defects caused by short circuits between the gate lines and adjacent data lines. (Line Defect).

이러한 불량은 완성된 액정패널에 테스트 패턴들을 띄웠을 때 작업자의 눈에 확연히 드러나게 되고, 작업자는 불량 픽셀의 위치를 파악하여 이 후에 그 부분에 대한 리페어(repair) 작업을 행하게 된다.Such defects are apparent in the eyes of the operator when the test patterns are floated on the completed liquid crystal panel, and the operator detects the position of the defective pixel and repairs the portion thereafter.

최근에는 액정패널의 암점을 리페어하는 방법으로서 한가지 방법 예를들어, 전단 게이트전극과 화소전극을 레이저를 이용한 웰딩공정으로 암점화시키거나, 또는 공통전극과 화소전극을 레이저를 이용한 웰딩공정으로 암점화하는 방법을 적용 하여 사용하였다.Recently, as a method of repairing a dark point of a liquid crystal panel, one method, for example, darkening the front gate electrode and the pixel electrode by a welding process using a laser, or darkening the common electrode and the pixel electrode by a welding process using a laser. The method used was applied.

그러나, 이러한 종래기술에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 의하면 다음과 같은 문제점이 있다.However, according to the conventional defective cell repair method of the liquid crystal display panel has the following problems.

종래기술에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법은 이러한 한가지 방법, 즉 전단 게이트전극과 화소전극을 레이저를 이용한 웰딩공정으로 암점화하는 방법을 적용하여, 한 패널에서 검출되는 불량셀을 암점 리페어하게 되면, 암점화된 픽셀이 하시야각에서 휘점으로 검출되며, 암점화한 픽셀이 액정표시패널 화면의 상단부일 경우 일반 사용자(user)들이 화면 상단부는 하시야각에서 주로 보게 됨으로 휘점으로 검출될 수 있다. The defect cell repair method of the liquid crystal display panel according to the prior art applies one such method, that is, a method of darkening the front gate electrode and the pixel electrode by a welding process using a laser, so that the defective cell detected in one panel is dark spot repaired. When the darkened pixel is detected as a bright point at the viewing angle, when the darkened pixel is at the upper end of the LCD screen, general users may mainly detect the upper part of the screen at the viewing angle.

또한, 종래기술에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법은 또 다른 한가지 방법, 즉 불량셀의 공통전극과 화소전극을 레이저를 이용한 웰딩공정으로 암점화하는 방법을 적용하여, 한 패널에 검출되는 불량셀의 암점 리페어를 하게 되면, 암점화한 픽셀이 상시야각에서 휘점으로 검출되며, 그 픽셀이 액정표시패널 화면의 하단부일 경우 일반 사용자(user)들은 화면의 하단부가 상시야각에서 주로 보게 되어 이 또한 역시 휘점으로 검출된다.In addition, the defective cell repairing method of the liquid crystal display panel according to the related art is another method, that is, a defect detected in one panel by applying a dark spotting of the common electrode and the pixel electrode of the defective cell by a laser welding process. When the dark spot repair of a cell is performed, darkened pixels are detected as bright spots at normal viewing angles, and when the pixels are at the bottom of the LCD panel, general users see the bottom of the screen at normal viewing angles. It is also detected as a bright point.

따라서, 액정표시패널을 사용하는 사용자(user)들은 특히 사무용 및 가정용으로 사용하는 사용자(user)들의 경우에는 액정표시패널의 화면을 보게 되며, 화면의 상단부는 하시야각에서 주로 보게 되고, 화면의 하단부는 상시야각에서 주로 보게 된다.Therefore, users who use the liquid crystal display panel see the screen of the liquid crystal display panel, especially in the case of users who use the office and home, and the upper part of the screen is mainly seen from the viewing angle, and the lower part of the screen. Is mainly seen at the normal viewing angle.

그러므로, 암점 리페어 제품의 상시야각과 하시야각에서의 휘점 결함에 따른 불량 리턴율(return)이 증가하게 되고, 그에 따른 수율이 감소하고, 비용손실이 발생하게 되는 문제점이 있다.Therefore, there is a problem in that a poor return rate due to bright spot defects in the normal viewing angle and the high viewing angle of the dark spot repair product increases, the yield decreases, and a cost loss occurs.

이에 본 발명은 상기 종래기술에 따른 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 기존에 한 패널에 한가지 방법으로 암점화하는 공정대신에 한 패널에 영역별로 암점 리페어방법을 다르게 적용하므로써 암점 리페어에 따른 시야각 휘점 발생품의 리턴(return) 불량률을 줄일 수 있고 수율 증가 및 수익성을 개선할 수 있는 액정표시패널의 불량셀 리페어방법을 제공함에 있다.Therefore, the present invention has been made to solve the above problems according to the prior art, the object of the present invention by applying a different dark point repair method for each region in one panel instead of the process of darkening the existing one way in one panel The present invention provides a method of repairing a defective cell of a liquid crystal display panel which can reduce a return defective rate of a viewing angle bright spot product according to a dark spot repair and improve yield and improve profitability.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법은 하부기판상에 서로 교차되게 배열되어 복수개의 셀영역을 정의하는 복수개의 게이트배선과 데이터배선 및 공통배선과, 상기 게이트배선 및 데이터배선이 교차하는 지점에 형성되고 게이트전극과 액티브층 및 소스/드레인전극으로 구성된 박막트랜지스터와, 상기 드레인전극에 연결된 화소전극으로 이루어지는 복수개의 셀로 구성된 액정표시패널을 제공하는 단계와; 상기 액정표시패널의 하단부에서 적어도 1/2 지점의 영역내에 배열되는 복수개의 셀중 불량셀의 드레인전극을 절단하고, 전단 게이트배선과 화소전극의 오버랩되는 영역을 단락시켜 불량셀을 암점화하는 제1 암점화 단계와; 상기 액정표시패널의 상단부에서 상기 적어도 1/2 지점의 영역내에 배열되는 복수개의 셀중 불량셀의 드레인전극을 절단하고 상기 공통배선과 화소전극의 오버랩되는 영역을 단락시켜 불량셀을 암점화하는 제2 암점화 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.The defective cell repair method of the liquid crystal display panel according to the present invention for achieving the above object is a plurality of gate wirings, data wirings and common wirings arranged on the lower substrate to cross each other to define a plurality of cell regions, the gate wirings And a liquid crystal display panel comprising a thin film transistor formed at a point where the data lines cross each other, the thin film transistor including a gate electrode, an active layer, and a source / drain electrode, and a plurality of cells connected to the drain electrode. A first electrode for darkening a defective cell by cutting a drain electrode of a defective cell among a plurality of cells arranged in an area of at least half of the lower end of the liquid crystal display panel, and shorting an overlapping region of the front gate wiring and the pixel electrode; Dark ignition step; A second point of darkening the defective cell by cutting the drain electrode of the defective cell among the plurality of cells arranged in the area of the at least one half point at the upper end of the liquid crystal display panel and shorting the overlapping region of the common wiring and the pixel electrode; Characterized in that it comprises a dark ignition step.

본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 의하면 다음과 같은 효과가 있다.According to the defective cell repair method of the liquid crystal display panel according to the present invention has the following effects.

본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법은 액정표시패널의 화면의 상단부에서 적어도 1/2 지점의 영역내에서는 공통전극과 화소전극을 레이저를 이용한 웰딩공정으로 암점화하는 제2 암점화 방법을 적용하고, 액정표시패널 화면의 1/2 지점에서 하단부내에서는 전단 게이트전극과 화소전극을 레이저를 이용한 웰딩공정으로 암점화시키는 제1 암점화 방법을 적용하여 불량셀의 암점 리페어를 수행하므로써, 검사자 및 일반 사용자 (user)들도 시야각에서의 휘점을 잘 볼 수 없게 된다. 즉, 2가지 암점 리페어하는 방법의 각각 한 방향의 시야각에서만 휘점으로 검출되는 점을 이용하여 액정표시패널 화면의 영역별로 암점 리페어방법을 다르게 적용하여 시야각에서의 휘점을 개선하게 된다.The defective cell repairing method of the liquid crystal display panel according to the present invention is a second darkening method for darkening the common electrode and the pixel electrode in a welding process using a laser in an area of at least half of the upper end of the screen of the liquid crystal display panel. By applying the first dark ignition method to darken the front gate electrode and the pixel electrode by a welding process using a laser in the lower half of the screen of the liquid crystal display panel, by performing the dark point repair of defective cells And the general user (user) is also difficult to see the bright point in the viewing angle. That is, by using points detected as bright points only in one viewing angle in each of the two dark spot repairing methods, the bright spots in the viewing angle are improved by applying different dark point repair methods for each area of the LCD panel.

따라서, 본 발명은 기존에는 한 패널에 한가지 방법으로 암점화하던 공정대신에 한 패널에서 영역별로 암점 리페어방법을 다르게 적용하므로써 암점 리페어에 따른 시야각 휘점 발생품의 리턴 불량률을 줄일 수 있고, 수율 증가 및 수익성을 개선시킬 수 있다.Therefore, the present invention can reduce the return failure rate of the viewing angle bright spot product according to the dark point repair by applying different dark point repair method for each region in one panel instead of the process of darkening one panel to one method, increasing yield and profitability Can be improved.

이하, 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 대해 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a defective cell repair method for a liquid crystal display panel according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법은 불량셀의 드레인전극을 절단하고, 전단의 게이트전극과 화소전극을 레이저를 이용한 웰딩공정으로 암점화시키는 제1 암점화 방법과; 불량셀의 드레인전극을 절단하고, 공통전극과 화소전극의 오버랩부분을 레이저를 이용한 웰딩공정으로 암점화하는 제2 암점화 방법으로 이루어지며, 한 패널의 상단부에서 적어도 1/2 지점의 영역내에서는 제2 암점화방법을 적용하고, 적어도 1/2 지점에서 하단부내에서는 제1 암점화방법을 적용한다.According to the present invention, there is provided a method for repairing a defective cell of a liquid crystal display panel, the method comprising: a first dark ignition method of cutting a drain electrode of a defective cell and darkening a gate electrode and a pixel electrode of a front end by a welding process using a laser; The second darkening method is performed by cutting the drain electrode of the defective cell and darkening the overlap between the common electrode and the pixel electrode by a welding process using a laser. The second dark ignition method is applied, and the first dark ignition method is applied in the lower end at least 1/2 point.

여기서, 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 적용하는 상기 제1 암점화방법에 대해 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the first dark ignition method applied to the defective cell repair method of the liquid crystal display panel according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 있어서, 제1 암점화방법을 설명하기 위한 액정표시패널의 평면도이다.2 is a plan view of a liquid crystal display panel for explaining a first dark ignition method in the defective cell repair method of the liquid crystal display panel according to the present invention.

도면에는 도시하지 않았지만, 서로 일정간격 이격되어 상부 및 하부기판(미도시)이 대향하고 있고, 상기 상부 및 하부기판(미도시)사이에는 액정층(미도시)이 개재되어 있다.Although not shown in the drawings, the upper and lower substrates (not shown) face each other with a predetermined distance therebetween, and a liquid crystal layer (not shown) is interposed between the upper and lower substrates (not shown).

여기서, 도 2를 참조하면, 상기 하부기판(미도시) 상부에는 다수개의 게이트 배선(103a, 103b) 및 데이터배선(113)이 서로 교차되어 있고, 이 게이트배선(103a, 103b) 및 데이터배선(113)이 교차되는 지점에 박막트랜지스터(T)가 형성되어 있으며, 상기 게이트 배선(103a, 103b) 및 데이터배선(113)이 교차되는 영역으로 정의되는 화소영역에는 박막트랜지스터(T)와 연결된 화소전극(119)이 형성되어 있다.2, a plurality of gate lines 103a and 103b and data lines 113 intersect each other, and the gate lines 103a and 103b and data lines (not shown). The thin film transistor T is formed at the intersection of the 113 and the pixel electrode connected to the thin film transistor T in the pixel area defined as the area where the gate lines 103a and 103b and the data line 113 intersect. 119 is formed.

또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 박막트랜지스터(T)는 게이트 전압을 인가받는 게이트전극(105)과, 데이터전압을 인가받는 소스 및 드레인전극(113a, 113b)과, 게이트전압과 데이터 전압차에 의해 전압의 온/오프를 조절하는 채널 (channel)로 구성된다.Although not shown in the drawing, the thin film transistor T may include a gate electrode 105 to which a gate voltage is applied, source and drain electrodes 113a and 113b to which a data voltage is applied, and a gate voltage and a data voltage difference. It consists of a channel that controls the on / off of the voltage.

그리고, 도면에는 도시하지 않았지만, 상부기판(미도시) 하부에는 컬러필터층(미도시), 공통전극(미도시)이 차례대로 형성되어 있다.Although not shown in the drawings, a color filter layer (not shown) and a common electrode (not shown) are sequentially formed below the upper substrate (not shown).

또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 컬러필터층(미도시)은 특정한 파장대의 빛만을 투과시키는 컬러필터와, 컬러필터의 경계부에 위치하여 액정의 배열이 제어되지 않는 영역상의 빛을 차단하는 블랙매트릭스(미도시)로 구성된다.In addition, although not shown, the color filter layer (not shown) includes a color filter for transmitting only light of a specific wavelength band and a black matrix positioned at a boundary of the color filter to block light on an area where the arrangement of liquid crystals is not controlled. Not shown).

그리고, 도면에는 도시하지 않았지만, 상부 및 하부기판(미도시)의 각 외부면에는 편광축과 평행한 빛만을 투과시키는 상부 및 하부 편광판(미도시)이 위치하고, 하부편광판(미도시) 하부에는 별도의 광원인 백라이트(back light)가 배치되어 있다.Although not shown in the drawings, upper and lower polarizers (not shown) for transmitting only light parallel to the polarization axis are positioned on each outer surface of the upper and lower substrates (not shown), and a lower portion of the lower polarizer (not shown) is provided. A back light, which is a light source, is disposed.

이러한 구성으로 이루어진 본 발명에 따른 액정표시장치는, 스위칭소자 및 화소전극을 형성하는 어레이 기판 제조공정과 컬러필터 및 공통전극을 형성하는 컬러필터 기판 제조공정을 거친 기판을 이용하여, 이 두 기판사이에 액정을 개재하는 액정셀 공정을 거쳐 완성된다.The liquid crystal display device according to the present invention having such a configuration is provided between the two substrates by using an array substrate manufacturing process for forming a switching element and a pixel electrode and a color filter substrate manufacturing process for forming a color filter and a common electrode. It completes through the liquid crystal cell process through liquid crystal in the process.

상기 액정셀 공정은 어레이 공정이나 컬러필터 공정에 비해 상대적으로 반복되는 공정이 거의 없는 것이 특징이라고 할 수 있다. 전체 공정은 액정 분자의 배향을 위한 배향막 형성공정과 셀갭(cell gap) 형성공정, 셀 절단(cutting) 공정, 액정주입공정으로 크게 나눌 수 있고, 이러한 공정은 거친 액정셀은 품질검사를 통해 선별된 액정패널의 외측에 각각 편광판을 부착한후, 구동회로를 연결하면 액정표시장치가 완성된다.The liquid crystal cell process may be characterized in that the process is relatively little compared to the array process or the color filter process. The overall process can be roughly divided into an alignment layer forming process for forming the liquid crystal molecules, a cell gap forming process, a cell cutting process, and a liquid crystal injection process. After attaching polarizing plates to the outside of the liquid crystal panel, the driving circuit is connected to complete the liquid crystal display.

이러한 액정패널의 검사과정에서는, 액정패널의 화면에 테스트패턴을 띄우고 불량 화소의 유무를 탐지하여 불량 화소가 발견되었을때 이에 대한 리페어 작업을 행하게 된다.In the process of inspecting the liquid crystal panel, a test pattern is displayed on the screen of the liquid crystal panel and the presence or absence of a bad pixel is detected, and a repair operation is performed when a bad pixel is found.

이때, 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법은 두가지 암점화방법을 적용하는데, 이중에서, 도 2에 도시된 바와 같이, 불량셀의 드레인전극(113b) 을 레이저를 이용하여 절단(121)하고, 전단의 게이트배선(103a)과 화소전극 (119)을 레이저를 이용한 웰딩(123) 공정으로 암점화시키는 제1 암점화 방법에 대해 도 3a ∼ 3c를 참조하여 설명하면 다음과 같다.At this time, the defective cell repair method of the liquid crystal display panel according to the present invention is applied to two dark ignition method, of which, as shown in Figure 2, by cutting the drain electrode 113b of the defective cell using a laser 121 The first darkening method for darkening the front gate wiring 103a and the pixel electrode 119 by the welding 123 process using a laser will be described below with reference to FIGS. 3A to 3C.

도 3a ∼ 도 3c는 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 있어서, 제1 암점화방법을 설명하기 위한 공정 단면도이다.3A to 3C are cross-sectional views illustrating a first dark ignition method in the defective cell repair method for a liquid crystal display panel according to the present invention.

도 3a에 도시된 바와 같이, 절연기판(박막트랜지스터 어레이기판)(101)상에 금속막을 증착하고, 포토 및 식각공정을 통해 상기 금속막을 선택적으로 제거하여 다수개의 게이트배선(103a, 103b)과 함께 이들 각 게이트배선에서 연장되어 형성된 게이트전극(105)을 형성한다. 이때, 상기 게이트배선(103a, 103b) 형성시에 공통배선(107)도 동시에 형성한다. As shown in FIG. 3A, a metal film is deposited on an insulating substrate (thin film transistor array substrate) 101, and selectively removed through the photolithography and etching process, together with a plurality of gate wirings 103a and 103b. The gate electrode 105 is formed to extend from each of the gate wirings. At this time, the common wiring 107 is also formed at the same time when the gate wirings 103a and 103b are formed.

이때, 상기 게이트배선(103a, 103b) 및 게이트전극 (105)을 구성하는 금속물질로는 알루미늄(Al), 알루미늄합금(AlNd), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 몰리브덴 (Mo) 등을 사용한다.In this case, the metal materials constituting the gate wirings 103a and 103b and the gate electrode 105 include aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd), chromium (Cr), tungsten (W), molybdenum (Mo), and the like. use.

그다음, 상기 게트전극(105)을 포함한 절연기판(101)상에 실리콘질화막 또는 실리콘산화막 등의 무기절연물질을 증착하여 게이트절연막(109)을 형성한다.Next, an inorganic insulating material such as a silicon nitride film or a silicon oxide film is deposited on the insulating substrate 101 including the get electrode 105 to form a gate insulating film 109.

이어서, 상기 게이트절연막(109)상에 비정질실리콘층과 불순물이 도핑된 비정질실리콘층을 차례로 증착한후 포토 및 식각공정을 통해 상기 비정질실리콘층과 불순물이 도핑된 비정질실리콘층을 선택적으로 제거하여 액티브층(111)과 오믹콘택층(미도시)을 형성한다.Subsequently, an amorphous silicon layer and an amorphous silicon layer doped with impurities are sequentially deposited on the gate insulating layer 109, and then the amorphous silicon layer and the amorphous silicon layer doped with impurities are selectively removed through photo and etching processes. The layer 111 and an ohmic contact layer (not shown) are formed.

그다음, 상기 오믹콘택층(미도시)과 액티브층(111)을 포함한 기판 전면에 금속막을 증착하고, 포토 및 식각공정을 통해 상기 금속막을 선택적으로 제거하여 상기 게이트전극(105) 양측의 액티브층(111)과 게이트절연막(109)상에 채널영역만큼의 일정간격을 두고 이격된 소스/드레인전극(113a, 113b)과 함께 상기 게이트배선(103a, 103b)과 서로 교차되는 데이터배선(113)을 형성한다. 이때, 상기 데이터배선(113)과 소스/드레인전극(113a, 113b)을 구성하는 금속막 물질로는 알루미늄 (Al), 알루미늄합금(AlNd), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 몰리브덴 (Mo) 등을 사용한다.Subsequently, a metal film is deposited on the entire surface of the substrate including the ohmic contact layer (not shown) and the active layer 111, and the metal layer is selectively removed through a photo and etching process to form active layers on both sides of the gate electrode 105. A data line 113 is formed on the gate insulating layer 109 and the gate line 103a and 103b intersect with the source / drain electrodes 113a and 113b spaced apart from each other by the channel region. do. In this case, the metal film constituting the data line 113 and the source / drain electrodes 113a and 113b may include aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd), chromium (Cr), tungsten (W), and molybdenum (Mo). ) And the like.

이어서, 상기 소스/드레인전극(113a, 113b)을 포함한 기판 전면에 실리콘질화막 또는 실리콘질화막 등의 무기절연물질을 증착하여 보호막(115)을 형성한다. Subsequently, an inorganic insulating material such as a silicon nitride film or a silicon nitride film is deposited on the entire surface of the substrate including the source / drain electrodes 113a and 113b to form the passivation layer 115.

그다음, 상기 보호막(115)을 포토 및 식각공정을 통해 선택적으로 제거하여 상기 드레인전극(113b)을 노출시키는 콘택홀(117)을 형성하고, 이어 상기 콘택홀 (117)을 포함한 보호막(115)상에 도전성 투명물질을 증착한다. 이때, 상기 도전성 투명물질로는 ITO(Indium-Tin-Oxide) 또는 IZO(Indium-Zinc- Oxide)등을 사용한다.Next, the protective film 115 is selectively removed through a photo and etching process to form a contact hole 117 exposing the drain electrode 113b, and then on the protective film 115 including the contact hole 117. A conductive transparent material is deposited on the substrate. In this case, indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO) is used as the conductive transparent material.

이어서, 포토 및 식각공정을 통해 선택적으로 제거하여 상기 콘택홀(117)을 통해 상기 드레인전극(113b)과 전기적으로 연결되는 화소전극(119)을 형성하므로써 절연기판, 즉 하부 어레이기판상에 형성되는 박막트랜지스터 제조공정을 완료한다.Subsequently, the pixel electrode 119 is selectively formed through photo and etching processes to form a pixel electrode 119 electrically connected to the drain electrode 113b through the contact hole 117. Complete the thin film transistor manufacturing process.

한편, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 하부 어레이기판과 합착되는 컬러필터기판(미도시)상에 특정한 파장대의 빛만을 투과시키는 컬러필터를 형성하는 공정과 상기 컬러필터의 경계부에 위치하여 액정의 배열이 제어되지 않는 영역상의 빛을 차단하는 블랙매트릭스(미도시)를 형성하는 공정을 포함하여 구성되는 컬러필터기판 제조공정을 완료한다.Although not shown in the drawing, a process of forming a color filter for transmitting only light of a specific wavelength band on a color filter substrate (not shown) bonded to the lower array substrate, and an arrangement of liquid crystals located at the boundary of the color filter A color filter substrate manufacturing process including a process of forming a black matrix (not shown) that blocks light on an uncontrolled area is completed.

이후 상기 하부 어레이기판과 컬러필터기판사이에 액정을 개재하는 액정셀 공정을 거쳐 액정표시장치의 제조공정을 완료한다.Thereafter, the manufacturing process of the liquid crystal display device is completed through a liquid crystal cell process in which a liquid crystal is interposed between the lower array substrate and the color filter substrate.

이렇게 액정표시장치의 제조공정을 완료한후 각 셀의 불량 상태를 검사하는 액정패널의 검사과정에서는, 액정패널의 화면에 테스트패턴을 띄우고 불량 화소의 유무를 탐지하여 불량 화소가 발견되었을때 이에 대한 리페어 작업을 행하게 된다.In the inspection process of the liquid crystal panel which inspects the defective state of each cell after completing the manufacturing process of the liquid crystal display device, a test pattern is displayed on the screen of the liquid crystal panel and the presence or absence of the defective pixel is detected. Repair work will be performed.

먼저, 도 2 및 도 3b에 도시된 바와 같이, 불량이 발생한 픽셀의 드레인전극 (113b) 부분을 레이저(laser) 조사를 통해 절단(121) (cutting)하여 채널(channel)이 형성되지 않도록 하므로써 데이터배선(113)으로부터 신호가 박막트랜지스터(T)로 인가되지 않도록 한다.First, as shown in FIGS. 2 and 3B, the drain electrode 113b of the defective pixel is cut 121 by laser irradiation so that no channel is formed. The signal from the wiring 113 is not applied to the thin film transistor T.

그다음, 도 3c에 도시된 바와 같이, 전단 게이트배선(103a)과 화소전극(119)이 오버랩되는 영역에 레이저로 웰딩(123) (welding)하여 상기 전단 게이트배선 (103a)과 화소전극(119)을 서로 단락(short)시키므로써 이 불량셀이 구동하지 않게 되므로써 이 불량셀에 암점화가 이루어지게 된다.3C, the front gate gate 103a and the pixel electrode 119 are welded 123 with a laser to a region where the front gate gate 103a and the pixel electrode 119 overlap with each other. By shorting each other, the defective cells are not driven, thereby darkening the defective cells.

한편, 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 적용하는 상기 제2 암점화 방법에 대해 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다. Meanwhile, the second dark ignition method applied to the defective cell repair method of the liquid crystal display panel according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 있어서, 제2 암점화방법을 설명하기 위한 액정표시패널의 평면도이다.4 is a plan view of a liquid crystal display panel for explaining a second darkening method in the defective cell repair method of the liquid crystal display panel according to the present invention.

도 5a ∼ 도 5c는 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 있어서, 제2 암점화 방법을 설명하기 위한 공정 단면도이다. 5A to 5C are cross-sectional views for describing a second darkening method in the defective cell repair method for a liquid crystal display panel according to the present invention.

여기서, 제2 암점화방법을 적용하는 액정표시장치의 구성은 제1 암점화 방법을 적용하는 액정표시장치의 구성과 동일하지만 아래에서 개략적으로 설명하기로 한다.Here, the configuration of the liquid crystal display device to which the second dark lighting method is applied is the same as that of the liquid crystal display device to which the first dark lighting method is applied, but will be described below.

도면에는 도시하지 않았지만, 서로 일정간격 이격되어 상부 및 하부기판(미도시)이 대향하고 있고, 상기 상부 및 하부기판(미도시)사이에는 액정층(미도시)이 개재되어 있다.Although not shown in the drawings, the upper and lower substrates (not shown) face each other with a predetermined distance therebetween, and a liquid crystal layer (not shown) is interposed between the upper and lower substrates (not shown).

여기서, 도 4를 참조하면, 상기 하부기판(미도시) 상부에는 다수개의 게이트 배선(203a, 203b) 및 데이터배선(213)이 서로 교차되어 있고, 이 게이트배선(203a, 203b) 및 데이터배선(213)이 교차되는 지점에 박막트랜지스터(T)가 형성되어 있으며, 상기 게이트 배선(203a, 203b) 및 데이터배선(213)이 교차되는 영역으로 정의되는 화소영역에는 박막트랜지스터(T)와 연결된 화소전극(219)이 형성되어 있다.4, a plurality of gate wirings 203a and 203b and data wirings 213 cross each other on the lower substrate (not shown), and the gate wirings 203a and 203b and the data wiring ( A thin film transistor T is formed at a point where the 213 crosses, and a pixel electrode connected to the thin film transistor T is formed in a pixel area defined as an area where the gate lines 203a and 203b intersect the data line 213. 219 is formed.

또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 박막트랜지스터(T)는 게이트 전압을 인가받는 게이트전극(205)과, 데이터전압을 인가받는 소스 및 드레인전극(213a, 213b)과, 게이트전압과 데이터 전압차에 의해 전압의 온/오프를 조절하는 체널 (channel)로 구성된다.Although not shown in the drawing, the thin film transistor T may include a gate electrode 205 to which a gate voltage is applied, source and drain electrodes 213a and 213b to which a data voltage is applied, and a gate voltage and a data voltage difference. It consists of a channel that controls the voltage on / off.

그리고, 도면에는 도시하지 않았지만, 상부기판(미도시) 하부에는 컬러필터 층(미도시), 공통전극(미도시)이 차례대로 형성되어 있다.Although not shown in the drawings, a color filter layer (not shown) and a common electrode (not shown) are sequentially formed below the upper substrate (not shown).

또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 컬러필터층(미도시)은 특정한 파장대의 빛만을 투과시키는 컬러필터와, 컬러필터의 경계부에 위치하여 액정의 배열이 제어되지 않는 영역상의 빛을 차단하는 블랙매트릭스(미도시)로 구성된다.In addition, although not shown, the color filter layer (not shown) includes a color filter for transmitting only light of a specific wavelength band and a black matrix positioned at a boundary of the color filter to block light on an area where the arrangement of liquid crystals is not controlled. Not shown).

그리고, 도면에는 도시하지 않았지만, 상부 및 하부기판(미도시)의 각 외부면에는 편광축과 평행한 빛만을 투과시키는 상부 및 하부 편광판(미도시)이 위치하고, 하부편광판(미도시) 하부에는 별도의 광원인 백라이트(back light)가 배치되어 있다.Although not shown in the drawings, upper and lower polarizers (not shown) for transmitting only light parallel to the polarization axis are positioned on each outer surface of the upper and lower substrates (not shown), and a lower portion of the lower polarizer (not shown) is provided. A back light, which is a light source, is disposed.

이러한 구성으로 이루어진 본 발명에 따른 액정표시장치는, 스위칭소자 및 화소전극을 형성하는 어레이 기판 제조공정과 컬러필터 및 공통전극을 형성하는 컬러필터 기판 제조공정을 거친 기판을 이용하여, 이 두 기판사이에 액정을 개재하는 액정셀 공정을 거쳐 완성된다.The liquid crystal display device according to the present invention having such a configuration is provided between the two substrates by using an array substrate manufacturing process for forming a switching element and a pixel electrode and a color filter substrate manufacturing process for forming a color filter and a common electrode. It completes through the liquid crystal cell process through liquid crystal in the process.

상기 액정셀 공정은 어레이 공정이나 컬러필터 공정에 비해 상대적으로 반복되는 공정이 거의 없는 것이 특징이라고 할 수 있다. 전체 공정은 액정 분자의 배향을 위한 배향막 형성공정과 셀갭(cell gap) 형성공정, 셀 절단(cutting) 공정, 액정주입공정으로 크게 나눌 수 있고, 이러한 공정은 거친 액정셀은 품질검사를 통해 선별된 액정패널의 외측에 각각 편광판을 부착한후, 구동회로를 연결하면 액정표시장치가 완성된다.The liquid crystal cell process may be characterized in that the process is relatively little compared to the array process or the color filter process. The overall process can be roughly divided into an alignment layer forming process for forming the liquid crystal molecules, a cell gap forming process, a cell cutting process, and a liquid crystal injection process. After attaching polarizing plates to the outside of the liquid crystal panel, the driving circuit is connected to complete the liquid crystal display.

이러한 액정패널의 검사과정에서, 정패널의 화면에 테스트패턴을 띄우고 불량 화소의 유무를 탐지하여 불량 화소가 발견되었을때 이에 대한 리페어 작업을 행 하게 된다.In the process of inspecting the liquid crystal panel, a test pattern is displayed on the screen of the positive panel and the presence or absence of a bad pixel is detected to repair the defective pixel.

이때, 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법은 두가지 리페어방법을 적용하게 되는데, 이중에서, 도 4에 도시된 바와 같이, 불량셀의 드레인전극 (213b)을 절단(221)하고, 공통배선(207)과 화소전극(219)의 오버랩부분을 레이저를 이용한 웰딩(223) 공정으로 단락시켜 불량셀을 암점화시키는 제2 암점화방법에 대해 도 5a ∼ 5c를 참조하여 설명하면 다음과 같다. At this time, the defective cell repair method of the liquid crystal display panel according to the present invention is applied to two repair methods, of which, as shown in Figure 4, the drain electrode 213b of the defective cell is cut (221), common A second dark ignition method for shortening the overlapped portion of the wiring 207 and the pixel electrode 219 by the welding 223 process using a laser to darken the defective cells will now be described with reference to FIGS. 5A to 5C.

여기서, 제2 암점화방법을 적용하는 액정표시장치의 구성은 제1 암점화방법을 적용하는 액정표시장치의 구성과 동일하며, 그에 따른 제조공정도 유사하지만 아래에서 개략적으로 설명하기로 한다.Here, the configuration of the liquid crystal display device to which the second dark lighting method is applied is the same as that of the liquid crystal display device to which the first dark lighting method is applied, and the manufacturing process thereof is similar, but will be described below.

도 5a에 도시된 바와 같이, 절연기판(박막트랜지스터 어레이기판)(201)상에 금속막을 증착하고, 포토 및 식각공정을 통해 상기 금속막을 선택적으로 제거하여 다수개의 게이트배선(203a, 203b)과 함께 이들 각 게이트배선에서 연장되어 형성된 게이트전극(205)을 형성한다. 이때, 상기 게이트배선(203a, 203b) 형성시에 공통배선(207)도 동시에 형성한다. As shown in FIG. 5A, a metal film is deposited on an insulating substrate (thin film transistor array substrate) 201, and the metal film is selectively removed through a photolithography process and a plurality of gate wirings 203a and 203b. A gate electrode 205 formed on each of these gate wirings is formed. At this time, the common wiring 207 is also formed at the same time when the gate wirings 203a and 203b are formed.

이때, 상기 게이트배선(203a, 203b) 및 게이트전극 (205)을 구성하는 금속물질로는 알루미늄(Al), 알루미늄합금(AlNd), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 몰리브덴 (Mo) 등을 사용한다.In this case, the metal materials constituting the gate wirings 203a and 203b and the gate electrode 205 include aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd), chromium (Cr), tungsten (W), molybdenum (Mo), and the like. use.

그다음, 상기 게트전극(205)을 포함한 절연기판(201)상에 실리콘질화막 또는 실리콘산화막 등의 무기절연물질을 증착하여 게이트절연막(209)을 형성한다.Next, an inorganic insulating material such as a silicon nitride film or a silicon oxide film is deposited on the insulating substrate 201 including the get electrode 205 to form a gate insulating film 209.

이어서, 상기 게이트절연막(209)상에 비정질실리콘층과 불순물이 도핑된 비 정질실리콘층을 차례로 증착한후 포토 및 식각공정을 통해 상기 비정질실리콘층과 불순물이 도핑된 비정질실리콘층을 선택적으로 제거하여 액티브층(211)과 오믹콘택층(미도시)을 형성한다.Subsequently, an amorphous silicon layer and an amorphous silicon layer doped with impurities are sequentially deposited on the gate insulating layer 209, and then the amorphous silicon layer and the amorphous silicon layer doped with impurities are selectively removed by photo and etching processes. An active layer 211 and an ohmic contact layer (not shown) are formed.

그다음, 상기 오믹콘택층(미도시)과 액티브층(211)을 포함한 기판 전면에 금속막을 증착하고, 포토 및 식각공정을 통해 상기 금속막을 선택적으로 제거하여 상기 게이트전극(205) 양측의 액티브층(211)과 게이트절연막(209)상에 채널영역만큼의 일정간격을 두고 이격된 소스/드레인전극(213a, 213b)과 함께 상기 게이트배선 (203a, 203b)과 서로 교차되는 데이터배선(213)을 형성한다. 이때, 상기 데이터배선(213)과 소스/드레인전극(213a, 213b)을 구성하는 금속막 물질로는 알루미늄 (Al), 알루미늄합금(AlNd), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 몰리브덴 (Mo) 등을 사용한다.Subsequently, a metal film is deposited on the entire surface of the substrate including the ohmic contact layer (not shown) and the active layer 211, and the metal layer is selectively removed through a photo and etching process to form an active layer on both sides of the gate electrode 205. A data line 213 is formed on the gate insulating layer 209 to cross the gate line 203a and 203b together with the source / drain electrodes 213a and 213b spaced apart from each other by the channel region. do. At this time, the metal film constituting the data line 213 and the source / drain electrodes 213a and 213b may be aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd), chromium (Cr), tungsten (W), or molybdenum (Mo). ), Etc.

이어서, 상기 소스/드레인전극(213a, 213b)을 포함한 기판 전면에 실리콘질화막 또는 실리콘질화막 등의 무기절연물질을 증착하여 보호막(215)을 형성한다. Subsequently, an inorganic insulating material such as a silicon nitride film or a silicon nitride film is deposited on the entire surface of the substrate including the source / drain electrodes 213a and 213b to form a protective film 215.

그다음, 상기 보호막(215)을 포토 및 식각공정을 통해 선택적으로 제거하여 상기 드레인전극(213b)을 노출시키는 콘택홀(217)을 형성하고, 이어 상기 콘택홀 (217)을 포함한 보호막(215)상에 도전성 투명물질을 증착한다. 이때, 상기 도전성 투명물질로는 ITO(Indium-Tin-Oxide) 또는 IZO(Indium-Zinc- Oxide)등을 사용한다.Next, the protective layer 215 is selectively removed through a photo and etching process to form a contact hole 217 exposing the drain electrode 213b, and then on the protective layer 215 including the contact hole 217. A conductive transparent material is deposited on the substrate. In this case, indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO) is used as the conductive transparent material.

이어서, 포토 및 식각공정을 통해 선택적으로 제거하여 상기 콘택홀(217)을 통해 상기 드레인전극(213b)과 전기적으로 연결되는 화소전극(219)을 형성하므로써 절연기판, 즉 하부 어레이기판상에 형성되는 박막트랜지스터 제조공정을 완료한다.Subsequently, the pixel electrode 219 may be selectively removed through a photo and etching process to form a pixel electrode 219 electrically connected to the drain electrode 213b through the contact hole 217 to be formed on an insulating substrate, that is, a lower array substrate. Complete the thin film transistor manufacturing process.

한편, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 하부 어레이기판과 합착되는 컬러 필터기판(미도시)상에 특정한 파장대의 빛만을 투과시키는 컬러필터를 형성하는 공정과 상기 컬러필터의 경계부에 위치하여 액정의 배열이 제어되지 않는 영역상의 빛을 차단하는 블랙매트릭스(미도시)를 형성하는 공정을 포함하여 구성되는 컬러필터기판 제조공정을 완료한다.Although not shown in the drawing, a process of forming a color filter for transmitting only light of a specific wavelength band on a color filter substrate (not shown) bonded to the lower array substrate, and an arrangement of liquid crystals located at a boundary of the color filter A color filter substrate manufacturing process including a process of forming a black matrix (not shown) that blocks light on an uncontrolled area is completed.

이후 상기 하부 어레이기판과 컬러필터기판사이에 액정을 개재하는 액정셀 공정을 거쳐 액정표시장치의 제조공정을 완료한다.Thereafter, the manufacturing process of the liquid crystal display device is completed through a liquid crystal cell process in which a liquid crystal is interposed between the lower array substrate and the color filter substrate.

이렇게 액정표시장치의 제조공정을 완료한후 각 셀의 불량 상태를 검사하는 액정패널의 검사과정에서는, 액정패널의 화면에 테스트패턴을 띄우고 불량 화소의 유무를 탐지하여 불량 화소가 발견되었을때 이에 대한 리페어 작업을 행하게 된다.In the inspection process of the liquid crystal panel which inspects the defective state of each cell after completing the manufacturing process of the liquid crystal display device, a test pattern is displayed on the screen of the liquid crystal panel and the presence or absence of the defective pixel is detected. Repair work will be performed.

먼저, 도 4 및 5b에 도시된 바와 같이, 불량, 즉 휘점이 발생한 픽셀의 드레인전극 (213b) 부분을 레이저(laser) 조사를 통해 절단(221) (cutting)하여 채널(channel)이 형성되지 않도록 하므로써 데이터배선(213)으로부터 신호가 박막트랜지스터(T)로 인가되지 않도록 한다.First, as shown in FIGS. 4 and 5B, a portion of the drain electrode 213b of the pixel in which the defect, that is, the bright point is generated, is cut 221 through laser irradiation so that a channel is not formed. This prevents the signal from being applied to the thin film transistor T from the data wiring 213.

그다음, 도 5c에 도시된 바와 같이, 상기 공통배선(207)과 화소전극(219)이 오버랩되는 영역에 레이저로 웰딩(223) (welding)하여 상기 공통배선(207)과 화소전극 (219)을 서로 단락(short)시키므로써 이 불량셀이 구동하지 않게 되어, 이 불량셀에 암점화가 이루어지게 된다.Next, as illustrated in FIG. 5C, the common wiring 207 and the pixel electrode 219 are welded 223 with a laser to a region where the common wiring 207 and the pixel electrode 219 overlap with each other. By shorting each other, the defective cells are not driven, and darkening of the defective cells is achieved.

상기에서 불량셀을 리페어하는 제1 암점화방법과 제2 암점화방법에 대해 설명하였는데, 제1 암점화방법을 이용하여 불량셀을 리페어를 하면 암점화된 픽셀이 하시야각에서 휘점으로 검출되며, 암점화한 픽셀이 액정표시패널 화면의 상단부일 경우 일반 사용자(user)들이 화면 상단부는 하시야각에서 주로 보게 됨으로 휘점으로 검출된다.The first dark ignition method and the second dark ignition method for repairing the defective cells have been described above. When the defective cells are repaired using the first dark ignition method, the darkened pixels are detected as bright spots at the viewing angle. When the darkened pixel is the upper portion of the LCD panel, the upper end of the screen is commonly seen by the users, and is detected as a bright point.

또한, 제 2 암점화방법을 이용하여 불량셀을 리페어를 하면, 암점화한 픽셀이 상시야각에서 휘점으로 검출되며, 그 픽셀이 액정표시패널 화면의 하단부일 경우 일반 사용자(user)들은 화면의 하단부가 상시야각에서 주로 보게 되어 이 또한 역시 휘점으로 검출된다.In addition, when the defective cell is repaired using the second dark lighting method, the darkened pixel is detected as a bright point at a normal viewing angle, and when the pixel is the lower end of the LCD panel, the general users are the lower end of the screen. This is mainly detected at the viewing angle, and this is also detected as a bright point.

실제적으로, 암점 리페어한 시료를 시야각에서 보게 되면, 앞서 설명드린 바와 같이 휘점으로 검출되며, 도 6에 도시된 시뮬레이션 결과에서도 동일한 결과를 보여 준다.In fact, when the dark point repaired sample is seen from the viewing angle, it is detected as a bright point as described above, and the same result is shown in the simulation result shown in FIG. 6.

도 6은 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 있어서, 제1방법 및 제2 방법을 적용한 경우에, 액정 인가전압에 따른 시야각에서의 투과율 변화를 도시한 그래프이다.FIG. 6 is a graph showing a change in transmittance at a viewing angle according to a liquid crystal applied voltage when the first method and the second method are applied in the defective cell repair method of the liquid crystal display panel according to the present invention.

도 6에 도시된 바와 같이, 시뮬레이션 결과를 보면 Y축은 투과율 (transmi- ttance)을 나타내며, X축은 시야각(viewing angle)을 나타낸다.As shown in FIG. 6, the simulation results show that the Y axis represents the transmittance and the X axis represents the viewing angle.

여기서, +X방향은 상시야각, -X방향은 하시야각의 시야각을 보여 주고 있으며, 그래프는 10V, 5V가 각각 인가된 전압에 따른 액정이 시야각에 따른 투과율이 어떻게 변화되는지를 도식화하고 있다.Here, the + X direction shows the viewing angle of the normal viewing angle, and the -X direction shows the viewing angle of the viewing angle, and the graph shows how the transmittance of the liquid crystal changes depending on the viewing angle of the voltage applied to 10V and 5V, respectively.

도 6에 도시된 바와 같이, 10V가 인가될 경우에는 하시야각에서의 투과율이 증가하고, 5V가 인가될 경우에는 상시야각에서의 투과율이 증가되는 것을 볼 수 있으며, 이렇게 투과율이 증가되면 휘점으로 검출되게 된다.As shown in FIG. 6, when 10 V is applied, the transmittance at the viewing angle increases, and when 5 V is applied, the transmittance at the normal viewing angle is increased. Will be.

따라서, 액정표시패널을 사용하는 사용자(user)들은 특히 사무용 및 가정용으로 사용하는 사용자(user)들의 경우에는 액정표시패널의 화면을 보게 되며, 화면의 상단부는 하시야각에서 주로 보게 되고, 화면의 하단부는 상시야각에서 주로 보게 된다.Therefore, users who use the liquid crystal display panel see the screen of the liquid crystal display panel, especially in the case of users who use the office and home, and the upper part of the screen is mainly seen from the viewing angle, and the lower part of the screen. Is mainly seen at the normal viewing angle.

그러므로, 본 발명에서는 이러한 특성을 감안하여 위와 같이 불량셀을 제1 암점화방법과 제2 암점화방법을 모두 적용하여 리페어를 수행하되, 한 패널을 두개 또는 3개의 영역으로 분할하여 각각의 영역에 다른 암점화방법을 적용한다.Therefore, in the present invention, the repair is performed by applying both the first dark lighting method and the first dark lighting method as described above in consideration of such characteristics, but by dividing one panel into two or three areas to each area. Different dark ignition methods apply.

이렇게 한 패널의 각 영역에 다른 암점화방법을 적용하되, 패널의 상단부에서 1/2 지점내의 영역에서는 제2 암점화 방법을 적용하고, 1/2 지점에서 하단부내의 영역에서는 제1 암점화방법을 적용하는 실시예에 대해 도 7을 참조하여 설명하면 다음과 같다.In this way, a different dark ignition method is applied to each area of the panel, but the second dark ignition method is applied to the area within the half point at the upper part of the panel, and the first dark ignition method is applied to the area within the lower part at the half point. An embodiment to be applied will be described below with reference to FIG. 7.

도 7은 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 있어서, 한 패널의 상하 1/2 지점에 각각 제1 및 2 암점화방법을 적용한 경우의 액정표시패널을 개략적으로 도시한 평면도이다.FIG. 7 is a plan view schematically illustrating a liquid crystal display panel when the first and second dark ignition methods are applied to upper and lower half points of one panel in the defective cell repair method of the liquid crystal display panel according to the present invention.

도 7을 참조하면, 본 발명의 일실시예로서, 다수개의 셀들로 구성된 액정표시패널(300)을 두개의 상부영역(A)과 하부영역(B)으로 분할하여 구성하되, 상기 상부영역(A)에 검출되는 불량셀(P)들을 리페어하기 위해 제2 암점화방법, 즉 불량셀의 드레인전극을 레이저를 이용하여 절단(cutting)하여 데이터배선으로부터의 신호 인가를 차단하고, 공통배선과 화소전극의 오버랩되는 부분을 레이저를 이용하여 웰딩시켜 연결시켜 주므로써 불량셀(P)의 구동이 차단되어져 이 불량셀(P)이 암점화 를 이루게 된다.Referring to FIG. 7, as an embodiment of the present invention, a liquid crystal display panel 300 including a plurality of cells is divided into two upper regions A and a lower region B, and the upper region A In order to repair the defective cells (P) detected in the C), a second dark ignition method, that is, cutting the drain electrode of the defective cells using a laser to cut off the application of the signal from the data wiring, common wiring and the pixel electrode By overlapping the overlapping portion of the welding by using a laser is connected to the drive of the defective cell (P) is blocked so that the defective cell (P) is darkening.

또한, 상기 하부영역(B)에 검출되는 불량셀(P)들을 리페어하기 위해 제1 암점화방법, 즉 불량셀(P)의 드레인전극을 레이저를 이용하여 절단(cutting)하여 데이터배선으로부터의 신호 인가를 차단하고, 전단 게이트배선과 화소전극의 오버랩되는 부분을 레이저를 이용하여 웰딩시켜 연결시켜 주므로써 불량셀(P)의 구동이 차단되어져 이 불량셀(P)이 암점화를 이루게 된다.In addition, in order to repair the defective cells P detected in the lower region B, a signal from the data wiring is cut by cutting the drain electrode of the first dark lighting method, that is, the defective cells P using a laser. By blocking the application and welding the overlapping portion of the front gate wiring and the pixel electrode by welding with a laser, the driving of the defective cell P is blocked, so that the defective cell P becomes dark.

액정표시패널을 사용하는 사용자(user)들은 특히 사무용 및 가정용으로 사용하는 사용자(user)들의 경우에는 액정표시패널의 화면을 보게 되며, 화면의 상단부는 하시야각에서 주로 보게 되고, 화면의 하단부는 상시야각에서 주로 보게 된다.Users who use the LCD panel see the screen of the LCD panel, especially in the case of users who use the office and home, and the upper part of the screen is mainly viewed from the viewing angle, and the lower part of the screen You will usually see it at the viewing angle.

따라서, 액정표시패널 화면의 상단부에서 1/2 지점의 영역에서는 제2 암점화방법을 적용하고, 화면의 1/2지점에서 하단부내에서는 제1 암점화방법으로 불량셀 (P)을 리페어시키므로써 검사자 및 일반 사용자(user)들도 시야각에서의 휘점을 잘 볼 수 없게 된다.Therefore, the second dark ignition method is applied to the area 1/2 of the upper part of the screen of the liquid crystal display panel, and the defective cell P is repaired by the first dark ignition method within the lower part of the 1/2 part of the screen. Inspectors and users also can not see the bright spot in the viewing angle.

한편, 한 패널의 각 영역에 다른 암점화방법을 적용하되, 패널의 상단부에서 1/3 지점내의 영역에서는 제2 암점화 방법을 적용하고, 1/3 지점에서 2/3 지점내의 영역에서는 제1 암점화방법 또는 제2 암점화방법을 선택적으로 적용하며, 2/3 지점에서 하단부내의 영역에서는 제1 암점화방법을 적용하는 다른 실시예에 대해 도 7을 참조하여 설명하면 다음과 같다.On the other hand, a different dark ignition method is applied to each area of one panel, but a second dark ignition method is applied in an area within a third point of the upper part of the panel, and a first dark area in a area within two thirds of a third point. Another embodiment in which the dark ignition method or the second dark ignition method is selectively applied, and the first dark ignition method is applied to a region within the lower end at the 2/3 point will be described with reference to FIG. 7.

도 8은 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 있어서, 한 패널의 상단부에서 1/3 지점내의 상부영역과 1/3 지점에서 2/3 지점의 중앙영역 및 2/3 지점에서 하단부까지의 하부영역에 제1 및 2 암점화방법을 선택적으로 적용한 경우의 액정표시패널을 개략적으로 도시한 평면도이다.8 is a view illustrating a defective cell repairing method of a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention, wherein an upper region within a third point at an upper end of one panel, a center region at a 2/3 point at a third point, and a lower end at a 2/3 point are shown in FIG. FIG. 3 is a plan view schematically illustrating a liquid crystal display panel when the first and second dark ignition methods are selectively applied to the lower region of FIG.

도 8을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예로서, 다수개의 셀들로 구성된 액정표시패널(400)을 3개의 상부영역(C)과 중앙영역(D) 및 하부영역(E)으로 분할하여 구성하되, 상기 상부영역(C)의 상단부에서 1/3 지점내에서 검출되는 불량셀(P)들을 리페어하기 위해 제2 암점화방법, 즉 불량셀(P)의 드레인전극을 레이저를 이용하여 절단(cutting)하여 데이터배선으로부터의 신호 인가를 차단하고, 공통배선과 화소전극의 오버랩되는 부분을 레이저를 이용하여 웰딩시켜 연결시켜 주므로써 불량셀 (P)의 구동이 차단되어져 이 불량셀(P)은 암점화를 이루게 된다.Referring to FIG. 8, as another embodiment of the present invention, a liquid crystal display panel 400 including a plurality of cells is divided into three upper regions C, a central region D, and a lower region E. In order to repair the defective cells P detected within a third point at the upper end of the upper region C, a second dark ignition method, that is, cutting the drain electrode of the defective cells P using a laser. By blocking the application of the signal from the data wiring and welding the overlapping part of the common wiring and the pixel electrode with a laser, the driving of the defective cell P is blocked so that the defective cell P is dark. Ignition is achieved.

또한, 상기 1/3지점에서 2/3 지점내에 해당하는 중앙영역(D)에서 검출되는 불량셀(P)들을 리페어하기 위해, 제1 암점화방법 또는 제2 암점화방법을 선택적으로 이용하여 불량셀(P)을 리페어하여 불량셀을 암점화하게 된다.In addition, in order to repair the defective cells P detected in the center area D corresponding to the second point to the third point, the first dark point lighting method or the second dark point lighting method may be selectively used. The cell P is repaired to darken the defective cell.

그리고, 상기 2/3 지점에서 하부영역(E)의 하단부내에서 검출되는 불량셀(P)들을 리페어하기 위해 제1 암점화방법, 즉 불량셀(P)의 드레인전극을 레이저를 이용하여 절단(cutting)하여 데이터배선으로부터의 신호 인가를 차단하고, 전단 게이트배선과 화소전극의 오버랩되는 부분을 레이저를 이용하여 웰딩시켜 연결시켜 주므로써 불량셀(P)의 구동이 차단되어져 이 불량셀(P)이 암점화를 이루게 된다.In order to repair the defective cells P detected in the lower end of the lower region E at the 2/3 point, the first dark ignition method, that is, the drain electrode of the defective cells P is cut using a laser ( cuts off the signal from the data line, and welds the overlapping portion of the front gate line and the pixel electrode by using a laser to connect the defective cell P, thereby blocking the operation of the bad cell P. This darkening is achieved.

이렇게 하여, 액정표시패널을 사용하는 사용자(user)들은 특히 사무용 및 가정용으로 사용하는 사용자(user)들의 경우에는 액정표시패널의 화면을 보게 되며, 화면의 상단부는 하시야각에서 주로 보게 되고, 화면의 하단부는 상시야각에서 주 로 보게 된다.In this way, users who use the liquid crystal display panel see the screen of the liquid crystal display panel, especially in the case of users who use the office and home, and the upper part of the screen is mainly viewed from the viewing angle. The lower part is mainly seen at the normal viewing angle.

따라서, 액정표시패널 화면의 상단부에서 1/3 지점내의 상부영역에서는 제2 암점화방법을 적용하고, 1/3 지점에서 2/3 지점내의 중앙영역에서는 제1 암점화방법 또는 제2 암점화방법을 선택적으로 적용하며, 2/3지점에서 하부영역내에서는 제1 암점화방법을 적용하여 불량셀을 리페어시키므로써 검사자 및 일반 사용자 (user)들도 시야각에서의 휘점을 잘 볼 수 없게 된다.Therefore, the second dark lighting method is applied in the upper region within a third point at the upper end of the screen of the LCD panel, and the first dark lighting method or the second dark lighting method is applied in the center area within two thirds of the third point. In the lower region at 2/3, the first dark ignition method is applied to repair defective cells, so that the inspector and the user may not see the bright point at the viewing angle.

이상에서와 같이, 기존에는 한 패널에 한가지 방법으로 암점화를 수행하는 공정에서 한 패널에 영역별로 암점 리페어방법을 다르게 적용하므로써 암점 리페어에 따른 시야각 휘점 발생품의 리턴(return) 불량률을 줄일 수 있고, 수율 증가 및 수익성을 개선시킬 수 있다.As described above, in the process of darkening one panel to one panel in the past, by differently applying the dark point repair method for each panel area, it is possible to reduce the return failure rate of the viewing angle bright spot product according to the dark point repair, Increase yields and profitability.

한편, 상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.On the other hand, while described above with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art various modifications of the present invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below And can be changed.

도 1은 일반적인 액정표시장치의 일부영역에 대한 입체도로서, 액정이 구동되는 영역으로 정의되는 액티브 영역을 중심으로 도시한 것이다.FIG. 1 is a three-dimensional view of a partial area of a general liquid crystal display device, and is shown centering on an active area defined as an area in which a liquid crystal is driven.

도 2는 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 있어서, 제1 암점화방법을 설명하기 위한 액정표시패널의 평면도이다.2 is a plan view of a liquid crystal display panel for explaining a first dark ignition method in the defective cell repair method of the liquid crystal display panel according to the present invention.

도 3a ∼ 도 3c는 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 있어서, 제1 암점화방법을 설명하기 위한 공정 단면도이다.3A to 3C are cross-sectional views illustrating a first dark ignition method in the defective cell repair method for a liquid crystal display panel according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 있어서, 제2 암점화방법을 설명하기 위한 액정표시패널의 평면도이다.4 is a plan view of a liquid crystal display panel for explaining a second darkening method in the defective cell repair method of the liquid crystal display panel according to the present invention.

도 5a ∼ 도 5c는 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 있어서, 제2 암점화 방법을 설명하기 위한 공정 단면도이다. 5A to 5C are cross-sectional views for describing a second darkening method in the defective cell repair method for a liquid crystal display panel according to the present invention.

도 6은 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 있어서, 제1방법 및 제2 방법을 적용한 경우에, 액정 인가전압에 따른 시야각에서의 투과율 변화를 도시한 그래프이다.FIG. 6 is a graph showing a change in transmittance at a viewing angle according to a liquid crystal applied voltage when the first method and the second method are applied in the defective cell repair method of the liquid crystal display panel according to the present invention.

도 7은 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 있어서, 한 패널의 상하 1/2 지점에 각각 제1 및 2 암점화방법을 적용한 경우의 액정표시패널을 개략적으로 도시한 평면도이다.7 is a plan view schematically illustrating a liquid crystal display panel when the first and second dark ignition methods are applied to upper and lower half points of one panel in the defective cell repair method of the liquid crystal display panel according to the present invention.

도 8은 본 발명에 따른 액정표시패널의 불량셀 리페어방법에 있어서, 한 패널의 상단부에서 1/3 지점내의 상부영역과 1/3 지점에서 2/3 지점의 중앙영역 및 2/3 지점에서 하단부까지의 하부영역에 제1 및 2 암점화방법을 선택적으로 적용한 경우의 액정표시패널을 개략적으로 도시한 평면도이다.8 is a view illustrating a defective cell repairing method of a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention, wherein an upper region within a third point at an upper end of one panel, a center region at a 2/3 point at a third point, and a lower end at a 2/3 point are shown in FIG. FIG. 3 is a plan view schematically illustrating a liquid crystal display panel when the first and second dark ignition methods are selectively applied to the lower region of FIG.

*** 도면의 주요 부분에 대한 간단한 설명 ****** Brief description of the main parts of the drawing ***

101 : 절연기판 103a : 전단 게이트배선101: insulating substrate 103a: shear gate wiring

105 : 게이트전극 107 : 공통배선105: gate electrode 107: common wiring

109 : 게이트절연막 111 : 액티브층109: gate insulating film 111: active layer

113 : 데이터배선 113a : 소스전극113: data wiring 113a: source electrode

113b : 드레인전극 115 : 보호막113b: drain electrode 115: protective film

117 : 콘택홀 119 : 화소전극117 contact hole 119 pixel electrode

121 : 절단 123 : 웰딩121: cutting 123: welding

Claims (4)

하부기판상에 서로 교차되게 배열되어 복수개의 셀영역을 정의하는 복수개의 게이트배선과 데이터배선 및 공통배선과, 상기 게이트배선 및 데이터배선이 교차하는 지점에 형성되고 게이트전극과 액티브층 및 소스/드레인전극으로 구성된 박막트랜지스터와, 상기 드레인전극에 연결된 화소전극으로 이루어지는 복수개의 셀로 구성된 액정표시패널을 제공하는 단계와;A plurality of gate wirings, data wirings and common wirings arranged on the lower substrate to cross each other and defining a plurality of cell regions, and formed at a point where the gate wirings and data wirings intersect, the gate electrode, the active layer, and the source / drain Providing a liquid crystal display panel comprising a thin film transistor composed of an electrode and a plurality of cells comprising a pixel electrode connected to the drain electrode; 상기 액정표시패널의 하단부에서 적어도 1/2 지점의 영역내에 배열되는 복수개의 셀중 불량셀의 드레인전극을 절단하고, 전단 게이트배선과 화소전극의 오버랩되는 영역을 단락시켜 불량셀을 암점화하는 제1 암점화 단계와;A first electrode for darkening a defective cell by cutting a drain electrode of a defective cell among a plurality of cells arranged in an area of at least half of the lower end of the liquid crystal display panel, and shorting an overlapping region of the front gate wiring and the pixel electrode; Dark ignition step; 상기 액정표시패널의 상단부에서 상기 적어도 1/2 지점의 영역내에 배열되는 복수개의 셀중 불량셀의 드레인전극을 절단하고 상기 공통배선과 화소전극의 오버랩되는 영역을 단락시켜 불량셀을 암점화하는 제2 암점화 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 불량셀 리페어방법.A second point of darkening the defective cell by cutting the drain electrode of the defective cell among the plurality of cells arranged in the area of the at least one half point at the upper end of the liquid crystal display panel and shorting the overlapping region of the common wiring and the pixel electrode; The defective cell repair method of a liquid crystal display panel comprising a dark ignition step. 제1 항에 있어서, 상기 액정표시패널의 복수개의 셀중 불량셀의 드레인전극을 절단하는 단계는 레이저 조사에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 불량셀 리페어방법.The method of claim 1, wherein the cutting of the drain electrode of the defective cell of the plurality of cells of the liquid crystal display panel is performed by laser irradiation. 제1 항에 있어서, 전단 게이트배선과 화소전극의 오버랩되는 영역을 단락시 켜 불량셀을 암점화하는 제1 암점화 단계과 상기 공통배선과 화소전극의 오버랩되는 영역을 단락시켜 불량셀을 암점화하는 제2 암점화 단계는 레이저를 이용한 웰딩공정에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 불량셀 리페어방법. 2. The method of claim 1, wherein the first darkening step of darkening the defective cells by shorting the overlapping regions of the front gate wiring and the pixel electrode and the darkening of the defective cells by shorting the overlapping regions of the common wiring and the pixel electrode. The second darkening step is performed by a welding process using a laser, the defective cell repair method of a liquid crystal display panel. 제1 항에 있어서, 상기 제2 암점화단계는 상기 액정표시패널의 상단부에서 적어도 1/3 지점의 상부영역내에 배열되는 복수개의 셀중 불량셀에 적용하고, 제1 또는 제2 암점화 단계는 상기 1/3 지점에서 2/3 지점내의 중앙영역에 배열되는 복수개의 셀중 불량셀에 선택적으로 적용하며, 제1 암점화단계는 상기 2/3지점에서 하단부내의 하부영역내에 배열되는 복수개의 불량셀에 적용하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 불량셀 리페어방법.The method of claim 1, wherein the second dark ignition step is applied to a defective cell of a plurality of cells arranged in an upper region of at least 1/3 of the upper end of the liquid crystal display panel, and the first or second dark ignition step comprises: Selectively applies to the defective cells of the plurality of cells arranged in the center area within the 2/3 point at the 1/3 point, and the first dark ignition step is applied to the plurality of defective cells arranged in the lower area in the lower part at the 2/3 point. The defective cell repair method of a liquid crystal display panel, characterized in that applied.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101302622B1 (en) * 2012-02-22 2013-09-03 엘지디스플레이 주식회사 Liquid Crystal Display Device and the method of repairing thereof
KR20150053195A (en) * 2013-11-07 2015-05-15 엘지디스플레이 주식회사 Thin Film Transistor Substrate For Flat Pannel Display Having A Repair Pattern
KR20160046055A (en) * 2014-10-17 2016-04-28 엘지디스플레이 주식회사 Liquid crystal display panel and method of repairing the same
RU2664677C1 (en) * 2015-03-25 2018-08-21 Шэньчжэнь Чайна Стар Оптоэлектроникс Текнолоджи Ко., Лтд. Liquid crystalline display device, lcd display and method of darkening this display
CN110133927A (en) * 2019-04-30 2019-08-16 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Display panel and its restorative procedure
CN111489662A (en) * 2020-05-15 2020-08-04 武汉华星光电技术有限公司 Drive substrate, display panel, display screen and electronic equipment

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101013647B1 (en) * 2003-12-29 2011-02-10 엘지디스플레이 주식회사 Method for repair channel portion and liquid crystal display device using thereof
KR20060078238A (en) * 2004-12-30 2006-07-05 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Method of repairing and liquid crystal display device using thereof
KR100806811B1 (en) * 2005-12-21 2008-02-25 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Liquid Crystal Display Device and Method for Repairing the Same

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101302622B1 (en) * 2012-02-22 2013-09-03 엘지디스플레이 주식회사 Liquid Crystal Display Device and the method of repairing thereof
US9019464B2 (en) 2012-02-22 2015-04-28 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method for repairing the same
TWI494642B (en) * 2012-02-22 2015-08-01 Lg Display Co Ltd Liquid crystal display device and method for repairing the same
KR20150053195A (en) * 2013-11-07 2015-05-15 엘지디스플레이 주식회사 Thin Film Transistor Substrate For Flat Pannel Display Having A Repair Pattern
KR20160046055A (en) * 2014-10-17 2016-04-28 엘지디스플레이 주식회사 Liquid crystal display panel and method of repairing the same
RU2664677C1 (en) * 2015-03-25 2018-08-21 Шэньчжэнь Чайна Стар Оптоэлектроникс Текнолоджи Ко., Лтд. Liquid crystalline display device, lcd display and method of darkening this display
CN110133927A (en) * 2019-04-30 2019-08-16 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Display panel and its restorative procedure
CN111489662A (en) * 2020-05-15 2020-08-04 武汉华星光电技术有限公司 Drive substrate, display panel, display screen and electronic equipment

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