KR20090070019A - 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치에 관한 것으로서, 전해액이 담긴 전해조(1)와, 베이스(2)와, 좌우측 스크루 지지판(3a, 3b)을 구비한 좌우측 지지대(3, 3')와, 다수의 좌우측 스크루(4)와, 전극설치대(5) 및 전극가드(6)와, 상기 좌측 지지대(3)의 상부 전면에 설치되는 인디케이터(7)와, 상기 전해조(1) 위의 좌우측 지지대(3, 3')의 하부 사이에 설치되는 공작물 고정대(8)와, 스크루 조작핸들(9)과, 전극(10)과, 상기 전극설치대(5)에 설치되는 전극 요동장치(11)와, 기포 및 전해생성물을 배출하기 위한 배출수단(12)과, 전해액 공급수단(13) 및, 전원장치(14)로 구성되어 전해 가공방법으로 블레이드에 냉각공을 형성할 때 전극에 형성한 흡입구를 통해 전극의 내부로 기포 및 기타 전해생성물을 흡입 제거함으로써 전해 가공이 효율적으로 이루어지고, 전극을 미세하게 제어하여 전극의 지속적인 요동으로 발생한 기포나 전해생성물이 전극에 점착하는 것을 완화시켜 냉각공의 가공 정밀도를 높이고, 전극을 회전하도록 하여 전해 가공시의 전기적 조건을 균일하게 조성하여 높은 정밀도의 냉각공을 용이하게 형성하여 냉각공의 가공에 소요되는 경비를 절감할 수 있는 각별한 장점이 있는 유용한 발명이다.
가스터빈 블레이드, 냉각공, 초합금, 막냉각, 전해가공.

Description

가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치{Apparatus for manufacturing cooling hole of gasturbine blade}
본 발명은 가스터빈 블레이드에 냉각공을 가공하는 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 ECM STEM(Shaped Tube Electro-chemical Machining) 가공방법을 이용하여 블레이드의 냉각성능을 향상시켜 가스터빈의 효율을 향상시킬 수 있는 정밀도 높은 냉각공을 가공하는 터빈 블레이드의 냉각공 가공장치에 관한 것이다.
일반적으로 산업 및 항공기 분야에 사용되는 가스터빈은 더 높은 효율과 안전성, 환경 친화성을 갖는 성능이 향상된 가스터빈을 개발하기 위한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 그에 따라 가스터빈의 제작사에서는 터빈 입구온도(TIT; Turbine Inlet Temperature)의 상승을 통한 가스터빈의 효율 향상을 기대하고 있는바, 가스터빈의 효율을 향상시키기 위해 고려되어야 할 중요한 요소는 가스터빈 부품의 재질과 코팅 및 냉각기술의 3가지이다.
최근에 운전중인 대부분의 가스터빈에 있어서는 터빈의 입구온도가 1,350℃로 되는 것이 보급되어 운전되고 있다.
그러나 이러한 터빈의 입구온도는 블레이드나 연소기에 사용되는 초합금의 용융점보다 높은 온도이기 때문에 이러한 환경조건에서 부품을 보호해 주기 위해 코팅 및 냉각기술을 채용하고 있으며, 특히 초기의 냉각기술은 블레이드의 내부냉각 기술만이 채용되었으나, 이것만으로는 충분하지 않아 70년대부터 막냉각(film cooling) 기술이 채용되기 시작하였다.
상기 막냉각(film cooling) 기술은 냉각 공기가 블레이드의 내부 중공으로부터 냉각공을 통해 유출되어 블레이드의 표면을 막 형태로 감싸주어 고온의 연소가스가 블레이드의 표면에 직접 닿지 않도록 하여 블레이드를 보호해 주는 냉각방식이며, 블레이드 내부 중공에 돌기를 내어 충돌냉각을 통한 냉각방식도 사용되고 있다.
가스터빈의 효율은 연소기를 통해 터빈 블레이드를 통과하는 연소가스의 온도와 직접적으로 비례한다. 예를 들면 상대적으로 큰 블레이드를 갖는 가스터빈 엔진에 대하여 터빈의 가스온도는 일반적으로 대략 1,350℃의 고온이다.
따라서 상기한 고온에 견딜 수 있도록 대형 블레이드는 앞선 소재와 최신의 냉각 시스템으로 설계하여 제작하게 되는바, 이러한 터빈 블레이드는 일반적으로 컴프레서에서 추기 된 냉각공기를 냉각재로 이용한다.
그러므로 블레이드는 냉각공기가 통과하는 냉각공을 가지고 있으나, 보다 개선된 블레이드는 냉각공을 통해 흐르는 냉각공기의 난류형성과 냉각효율을 증가시키기 위하여 냉각공 내부에 돌기(Internal Ridge)를 추가로 형성함으로써 돌기가 냉각공 내부의 난기류를 증가시켜 터빈의 효율을 증가시키는 역할을 하게 된다.
이와 같이 블레이드의 냉각공(cooling hole)의 냉각 성능은 고효율을 요구하 는 가스터빈의 특성상 매우 중요하기 때문에 제작사마다 고유의 냉각방식 및 가공기술을 보유하고 있으며, 2단 블레이드의 경우 이씨엠 스템 드릴링(ECM STEM Driling)이라는 가공방법을 사용하여 블레이드의 냉각공을 가공하고 있다.
상기 이씨엠 스템 드릴링(ECM STEM Driling) 가공방법은 블레이드의 냉각공 내부에서 냉각용 공기가 난류를 형성하면서 블레이드 모재의 온도를 낮추어 주도록 블레이드의 냉각공을 가공하여 냉각성능 향상을 통해 가스터빈 전체의 효율을 향상시키는 것이다.
이와 같이 블레이드의 냉각공처럼 전기적 전도체에 작고, 깊은 구멍을 가공하기 위해서 특별히 채용되는 이씨엠(ECM) 가공방법이 스템(STEM; Sharped-tube Electro chemical Machining) 이며, 스템은 300 : 1의 고 종횡비(Aspect Ratio)의 구멍을 가공할 수 있는 비접촉 전기화학적인 구멍 가공방법으로 가스터빈 블레이드의 작고 깊은 냉각공 가공에 효과적인 가공방법이다.
상기 가공방법으로 가공되는 일반적인 블레이드의 냉각공은 깊이대 직경비가 수 밀리미터에서 300 : 1의 큰 고 종횡비(Aspect Ratio)를 가지며, 블레이드 냉각공의 가공공정은 전기적 전도체인 블레이드를 움직일 수 있는 다 축의 가공대에 고정시키고, 여러 개의 가공용 튜브(전극)를 지지대에 고정시켜 블레이드에 냉각공을 가공한다. 이때 가공용 튜브는 이씨엠 가공공정에서 음극의 역할을 하고, 블레이드는 양극의 역할을 하며, 냉각공을 형성하기 위하여 가공용 튜브(전극) 속으로 전해 용액을 흘려보냄으로써 가공용 전극의 끝 부분 근처에서 블레이드에 냉각공이 형성된다.
그러나 상기한 블레이드에 냉각공을 형성하는 방법은 제작사마다 각기 상이한 방법 및 장치를 사용하고 있고, 비공개하므로 비교할 수가 없으므로 상기한 블레이드의 냉각공 가공방법을 효과적으로 응용하기 위한 독자적인 블레이드의 냉각공 가공장치의 개발이 절실히 요구되는 실정이다.
본 발명은 상기한 실정을 감안하여 발명한 것으로서, 본 발명의 목적은 이씨엠 스템(ECM STEM) 가공방법을 채용한 전해 가공방법으로 블레이드에 냉각공을 형성할 때 전극에 형성한 흡입구를 통해 전극의 내부로 기포 및 기타 전해생성물을 흡입 제거함으로써 전해 가공이 효율적으로 이루어지는 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은 블레이드의 냉각공을 전해 가공할 때 전극을 미세하게 제어하여 전극의 지속적인 요동으로 발생한 기포나 전해생성물이 전극에 점착하는 것을 완화시켜 냉각공의 가공 정밀도를 높일 수 있는 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 블레이드의 냉각공을 전해 가공할 때 전극을 회전하도록 하여 전해 가공시의 전기적 조건을 균일하게 조성하여 높은 정밀도의 냉각공을 용이하게 형성하여 냉각공의 가공에 소요되는 경비를 절감할 수 있는 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치를 제공하는 데 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치는 전기분해를 위한 전해액이 담긴 전해조와, 상기 전해조가 놓이는 베이스와, 상기 베이스의 좌우측 선단 상부면에 세워서 설치되고 상부 내측면 상하에서 내부로 연장되는 좌우측 스크루 지지판을 구비한 좌우측 지지대와, 전극을 상하로 이동시키기 위해 상기 스크루 지지판 사이에 설치되는 다수의 좌우측 스크루와, 상기 좌우측 스크루에 상하로 설치되는 전극설치대 및 전극가이드와, 전극의 상하 이동량을 측정하기 위해 상기 좌측 지지대의 상부 전면에 설치되는 인디케이터와, 상기 전해조 위의 좌우측 지지대의 하부 사이에 설치되어 공작물을 고정하는 공작물 고정대와, 상기 좌측 스크루 지지판의 윗면에 설치되어 스크루를 조작하는 스크루 조작핸들과, 상기 전극설치대의 하면에 설치되는 전극과, 상기 전극설치대에 설치되는 모터를 구비하는 전극 요동장치와, 상기 전극의 흡입구로 흡입되는 기포 및 전해생성물을 배출하기 위한 배출수단과, 상기 전해조에 전해액을 공급하기 위한 전해액 공급수단 및, 상기 공작물과 전극에 전원을 공급하는 전원장치로 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 이씨엠 스템(ECM STEM) 가공방법을 채용한 전해 가공방법으로 블레이드에 냉각공을 형성할 때 전극에 형성한 흡입구를 통해 전극의 내부로 기포 및 기타 전해생성물을 흡입 제거함으로써 전해 가공이 효율적으로 이루어지고, 전극을 미세하게 제어하여 전극의 지속적인 요동으로 발생한 기포나 전해생성물이 전극에 점착하는 것을 완화시켜 냉각공의 가공 정밀도를 높일 수 있을 뿐만 아니라 블레이 드의 냉각공을 전해 가공할 때 전극을 회전하도록 하여 전해 가공시의 전기적 조건을 균일하게 조성하여 높은 정밀도의 냉각공을 용이하게 형성하여 냉각공의 가공에 소요되는 경비를 절감할 수 있는 각별한 장점이 있다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치를 바람직한 실시예로서 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명에서 채용한 이씨엠 스템(ECM STEM)의 전해가공 원리를 나타낸 개념도, 도 2는 본 발명 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치의 구성도, 도 3은 본 발명에 따른 전극의 사시도, 도 4는 본 발명에 따른 전극의 구조를 설명하기 위한 도면이다.
먼저 본 발명 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치를 설명하기에 앞서 도 1을 참조하여 본 발명에서 채용한 이씨엠 스템(ECM STEM)의 전해가공 원리를 설명한다.
도 1에 도시한 바와 같이 전해 가공으로 블레이드에 냉각공을 형성할 때의 전극에는 기포 및 전해생성물을 흡수하기 위한 흡입구가 다수 형성되어 있어서 흡입구를 통해 전해가공시에 필연적으로 발생하는 수소와 산소 같은 기포를 흡입하여 제거하게 된다. 또한 이러한 흡입구는 전해 가공이 진행됨에 따라 공작물인 블레이드와 전해액의 반응에 의한 전해 생성물이 발생하게 되고, 이러한 기포 및 전해 생성물은 그 부분에 전기적 저항을 급격히 증가시키게 되며 증가한 전기적 저항은 전류의 흐름을 어렵게 하여 전해가공을 방해하게 한다.
따라서 본 발명 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치는 전극에 마련한 흡입구를 통해 전극의 내부로 기포 및 기타 전해 생성물을 흡입 제거하여 전해가공이 효율적으로 이루어지게 한다.
그리고 본 발명 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치는 전극을 미세하게 제어하여 형상 정밀도를 높이는 것으로 전극의 미세 제어를 통해 동일 전극으로 다양한 형태의 형상가공에 적용할 수 있을 뿐만 아니라 전극이 지속적으로 요동함으로써 발생한 기포나 전해 생성물이 전극에 점착하는 것을 완화하는 효과도 기대할 수 있다.
또한 본 발명 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치는 전극의 흡입구의 경우 전극에 절연 코팅되지 않은 노출부에 흡입구를 위치시켜 전극의 강성 문제상 노출 부마다 하나의 흡입구를 가공하였다. 따라서 전극을 회전시킴으로써 흡입구가 회전하면서 고른 흡입 작용을 할 수 있고, 전극이 회전하므로 전극 노출부와 공작물인 블레이드 사이에서보다 균일한 전기적 조건을 조성할 수 있게 된다.
도 2는 본 발명 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치의 구성도로서, 본 발명 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치는 전기분해를 위한 전해액이 담긴 전해조(1)와, 상기 전해조(1)가 놓이는 베이스(2)와, 상기 베이스의 좌우측 선단 상부면에 세워서 설치되고 상부 내측면 상하에서 내부로 연장되는 좌우측 스크루 지지판(3a, 3b)을 구비한 좌우측 지지대(3, 3')와, 전극을 상하로 이동시키기 위해 상기 스크루 지지판(3a, 3b) 사이에 설치되는 다수의 좌우측 스크루(4)와, 상기 좌우측 스크루(4)에 상하로 설치되는 전극설치대(5) 및 전극가이드(6)와, 전극의 상하 이동량을 측정하기 위해 상기 좌측 지지대(3)의 상부 전면에 설치되는 인디케이터(7)와, 상기 전해조(1) 위의 좌우측 지지대(3, 3')의 하부 사이에 설치되어 공작물(A)을 고정하는 공작물 고정대(8)와, 상기 좌측 스크루 지지판(3a)의 윗면에 설치되어 스크루(4)를 조작하는 스크루 조작핸들(9)과, 상기 전극설치대(5)의 하면에 설치되는 전극(10)과, 상기 전극설치대(5)에 설치되는 모터(11a)를 구비하는 전극 요동장치(11)와, 상기 전극(10)의 흡입구로 흡입되는 기포 및 전해생성물을 배출하기 위한 배출수단(12)과, 상기 전해조(1)에 전해액을 공급하기 위한 전해액 공급수단(13) 및, 상기 공작물과 전극(10)에 전원을 공급하는 전원장치(14)로 구성되어 있다.
상기 전극(10)은 단면이 타원을 이루는 동파이프의 봉상체로서, 상기 전극설치대(5)에 설치되는 표면이 절연 코팅된 상단부(10a)와 공작물(A) 측에 위치하는 표면이 절연 코팅된 하단부(10b) 및 상기 상단부(10a)와 하단부(10b) 사이의 흡입구 가공부(10c)로 구성되고, 상기 흡입구 가공부(10c)는 표면에 절연 코팅된 절연부(10d)와 절연 코팅되지 않은 노출부(10e)가 교대로 형성되며, 상기 흡입구 가공부(10c)의 노출부(10e)에 흡입구(10f)가 전면과 이면에서 교대로 형성되어 있다.
또한 상기 전극(10)은 전체 길이가 280mm ∼ 320mm이고, 단면의 직경이 1.4mm ∼ 1.6mm이고, 단축(Y)이 1.0mm ∼ 1.2mm이며, 상단부(10a)의 길이 75mm ∼ 85mm, 하단부(10b)의 길이 11.8mm ∼ 15.8mm, 절연부(10d)의 폭 2.7mm ∼ 2.9mm, 노출부(10e)의 폭 0.9mm ∼ 1.1mm 의 범위에서 설정하고, 상기 흡입구(10f)의 직경이 노출부(10e)의 폭과 동일한 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않고 다양하게 변 형하여 실시할 수 있다.
상기 전극 요동장치(11)는 요동 운동용 모터(11a)와 전극 회전용 모터를 구비하여 회전운동과 함께 요동운동을 하며, 모터(11a) 축에 장착된 편심링에 의해 편심된 양만큼 요동운동을 하고, 상기 모터(11a)의 회전속도 및 전극 회전용 모터의 회전속도를 제어판넬에 장착한 가변저항기로 조절하여 요동운동의 속도를 제어하고, 요동운동의 속도 및 모터(11a)와 전극 회전용 모터의 회전속도를 근접센서로 측정하여 제어판넬에 위치한 인디케이터로 확인할 수 있도록 이루어져 있다.
또한 상기 배출수단(12)은 기포 및 전해 생성물의 폐기 압력을 조절하는 압력조절기(12a)와 폐기 이송용 펌프(12b) 및 폐기물 탱크(12c)로 구성되고, 상기 전해액 공급수단(13)은 압축공기를 공급하기 위한 압축공기 공급부(13a)와, 상기 압축공기 공급부(13a)로부터 공급되는 압축공기의 압력을 조절하기 위한 압력조절기(13b) 및 전해액이 저장되는 전해액 저장탱크(13c)로 구성되어 있다.
한편 전원장치(14)로부터는 양극(+)의 전원이 공작물(A)로 공급되고, 음극(-)의 전원이 상기 전극(10)으로 공급되도록 이루어져 있다.
다음에는 상기한 바와 같이 구성된 본 발명 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치로 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공에 대하여 설명한다.
먼저 도 2에 도시한 전해액 공급수단(13)을 통해 전해 가공에 필요한 전해액을 전해조(1)로 공급하여 전해조(1)에 필요한 량의 전해액을 채워두고, 도 3에 도신한 전극(10)을 상기 전극설치대(5)의 하면에 장착함과 더불어 공작물 고정대(8)에 가공할 블레이드를 장착한다.
이때 전원장치(14)로부터는 양극(+)의 전원이 블레이드로 공급되고, 음극(-)의 전원이 전극(10)으로 공급되도록 한다.
다음에는 전극 요동장치(11)와 배출수단(12)을 작동시키고, 스크루 조작핸들(9)의 조작으로 전극설치대(5) 및 전극가이드(6)를 하강시켜 전극(10)을 하강시키는데 전극(10)의 하강 정도는 인디케이터(7)로 확인하면서 조절한다.
이와 같이 하면, 전극(10)이 회전 및 요동운동하면서 하강하여 전극(10)과 블레이드 사이에서 방전이 일어나 방전시 발생하는 고열에 의해 블레이드에 냉각공이 형성되게 된다.
여기서 전극(10)이 회전 및 요동 제어는 모터(11a) 축에 장착된 편심링에 의해 편심된 양만큼 요동운동을 하도록 제어하고, 상기 모터(11a)의 회전속도 및 전극 회전용 모터의 회전속도를 제어판넬에 장착한 가변저항기로 조절하여 요동운동의 속도를 제어하며, 요동운동의 속도 및 모터(11a)와 전극 회전용 모터의 회전속도를 근접센서로 측정하여 제어판넬에 위치한 인디케이터로 확인하여 제어한다.
또한 블레이드의 냉각공 가공시 발생하는 기포 및 전해 생성물은 전극(10)에 형성되어 있는 흡입구(10f)로 흡입하여 배출수단(12)을 통해 배출함으로써 블레이드의 냉각공 가공이 효율적으로 이루어지게 된다.
지금까지 본 발명을 바람직한 실시예로서 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 발명의 요지를 이탈하지 않는 범위 내에서 다양하게 변형하여 실시할 수 있음은 물론이다.
도 1은 본 발명에서 채용한 이씨엠 스템(ECM STEM)의 전해가공 원리를 나타낸 개념도,
도 2는 본 발명 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치의 구성도,
도 3은 본 발명에 따른 전극의 사시도,
도 4는 본 발명에 따른 전극의 구조를 설명하기 위한 도면이다.
〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉
1 : 전해조 2 : 베이스
3, 3' : 좌우측 지지대 3a, 3b : 좌우측 스크루 지지판
4 : 좌우측 스크루 5 : 전극설치대
6 : 전극가이드 7 : 인디케이터
8 : 공작물 고정대 9 : 스크루 조작핸들
10 : 전극 10a : 상단부
10b : 하단부 10c : 흡입구 가공부
10d : 절연부 10e : 노출부
10f : 흡입구 11 : 전극 요동장치
11a : 모터 12 : 배출수단
12a : 압력조절기 12b : 폐기 이송용 펌프
12c : 폐기물 탱크 13 : 전해액 공급수단
13a : 압축공기 공급부 13b : 압력조절기
13c : 전해액 저장탱크 14 : 전원장치
A : 공작물

Claims (6)

  1. 전기분해를 위한 전해액이 담긴 전해조(1)와, 상기 전해조(1)가 놓이는 베이스(2)와, 상기 베이스의 좌우측 선단 상부면에 세워서 설치되고 상부 내측면 상하에서 내부로 연장되는 좌우측 스크루 지지판(3a, 3b)을 구비한 좌우측 지지대(3, 3')와, 전극을 상하로 이동시키기 위해 상기 스크루 지지판(3a, 3b) 사이에 설치되는 다수의 좌우측 스크루(4)와, 상기 좌우측 스크루(4)에 상하로 설치되는 전극설치대(5) 및 전극가이드(6)와, 전극의 상하 이동량을 측정하기 위해 상기 좌측 지지대(3)의 상부 전면에 설치되는 인디케이터(7)와, 상기 전해조(1) 위의 좌우측 지지대(3, 3')의 하부 사이에 설치되어 공작물을 고정하는 공작물 고정대(8)와, 상기 좌측 스크루 지지판(3a)의 윗면에 설치되어 스크루(4)를 조작하는 스크루 조작핸들(9)과, 상기 전극설치대(5)의 하면에 설치되는 전극(10)과, 상기 전극설치대(5)에 설치되는 모터(11a)를 구비하는 전극 요동장치(11)와, 상기 전극(10)의 흡입구로 흡입되는 기포 및 전해생성물을 배출하기 위한 배출수단(12)과, 상기 전해조(1)에 전해액을 공급하기 위한 전해액 공급수단(13) 및, 상기 공작물과 전극(10)에 전원을 공급하는 전원장치(14)로 구성되는 것을 특징으로 하는 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 전극(10)은 단면이 타원을 이루는 봉상체로서, 상기 전극설치대(5)에 설치되는 표면이 절연 코팅된 상단부(10a)와 공작물 측에 위치하 는 표면이 절연 코팅된 하단부(10b) 및 상기 상단부(10a)와 하단부(10b) 사이의 흡입구 가공부(10c)로 구성되고, 상기 흡입구 가공부(10c)는 표면에 절연 코팅된 절연부(10d)와 절연 코팅되지 않은 노출부(10e)가 교대로 형성되며, 상기 흡입구 가공부(10c)의 노출부(10e)에 흡입구(10f)가 전면과 이면에서 교대로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 전극(10)은 전체 길이가 280mm ∼ 320mm이고, 단면의 직경이 1.4mm ∼ 1.6mm이며, 상단부(10a)의 길이 75mm ∼ 85mm, 하단부(10b)의 길이 11.8mm ∼ 15.8mm, 절연부(10d)의 폭 2.7mm ∼ 2.9mm, 노출부(10e)의 폭 0.9mm ∼ 1.1mm 의 범위에서 설정하고, 상기 흡입구(10f)의 직경이 노출부(10e)의 폭과 동일한 것을 특징으로 하는 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 전극 요동장치(11)는 요동 운동용 모터(11a)와 전극 회전용 모터를 구비하여 회전운동과 함께 요동운동을 하며, 모터(11a) 축에 장착된 편심링에 의해 편심된 양만큼 요동운동을 하고, 상기 모터(11a)의 회전속도 및 전극 회전용 모터의 회전속도를 제어판넬에 장착한 가변저항기로 조절하여 요동운동의 속도를 제어하고, 요동운동의 속도 및 모터(11a)와 전극 회전용 모터의 회전속도를 극접센서로 측정하여 제어판넬에 위치한 인디케이터로 확인할 수 있도록 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 배출수단(12)은 기포 및 전해 생성물의 폐기 압력을 조절하는 압력조절기(12a)와 폐기 이송용 펌프(12b) 및, 폐기물 탱크(12c)로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 전해액 공급수단(13)은 압축공기를 공급하기 위한 압축공기 공급부(13a)와, 상기 압축공기 공급부(13a)로부터 공급되는 압축공기의 압력을 조절하기 위한 압력조절기(13b) 및, 전해액이 저장되는 전해액 저장탱크(13c)로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 가스터빈 블레이드의 냉각공 가공장치.
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