KR910008243B1 - 전해가공장치 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

전해가공장치

제1도는 이 발명의 제1실시예에 관한 전해가공장치를 나타내는 정면도.

제2도는 동장치의 측면도.

제3도는 동장치의 개략 구성도.

제4도는 전원장치를 나타내는 블록도.

제5도는 전해액 여과장치 및 전해액 공급장치를 나타내는 개략구성도.

제6도는 이 발명의 제2실시예에 관한 전해가공장치의 개략구성도.

제7도는 전해액 여과장치 및 전해액 공급장치를 나타내는 개략구성도.

제8도는 이 발명의 제3실시예를 나타내는 개략구성도.

제9도는 이 발명의 제4실시예에 관한 전해가공장치를 나타내는 정면도.

제10도는 동 장치의 측면도.

제11도는 동 장치의 개략구성도.

제12도는 전해액 여과장치 및 전해액 공급장치를 나타내는 개략구성도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 전해가공장치 2 : 피가공물

4 : 전극 8 : 전원장치

14 : 전해액 여과장치 15 : 전해액 공급장치

16 : 가공조 19 : 간격

43, 44, 45 : 전해액 46 : 공급구멍

54 : 보조저류조 58 : 제1실린더

59 : 제2실린더 60, 61 : 역지밸브

63 : 콤프레서 64 : 분출노즐

이 발명은 전해가공장치에 관한 것이며, 특히 피가공물의 3차원 형상의 피가공면을 단시간에 동시에 고정도(高精道)로 마무리해서 경면상의 광택면을 얻을 수가 있는 전해가공장치 및 가공조에 관한 것이다.

[종래의 기술]

종래의 금속 가공장치로서는 피가공물과 전극과의 간격에 초산나트륨이나 염화나트륨등의 전해액을 가득 채워서 이 전해액을 고속으로 흐르게 함과 동시에 안정된 전해작용을 저해하는 전해생성물, 요컨데 용출한 접속화합물이나 금속이온 및 수소가스등을 제거하면서 직류전류를 피가공물에서 전극에 흐르게 하여 가공하는 전해가공장치(특허공개 소화 61-71921호 공보 및 특허공개 소화 60-44228호 공보 참조)와 피가공물과 전극을 등유계등의 가공액중에서 미소한 간격을 가지고 대향시키고 동시에 이들을 적절한 전원에 접속하여, 상기 피가공물과 전극간에 순간발생하는 불꽃방전이나 과도한 아크 방전을 발생시켜 그 방전에너지에 의해 피가공물을 가공하는 방전가공장치(특허공보 소화 60-26646호 공보 및 특허공개 소화 60-177819호 공보 참조)가 알려져 있다.

[발명이 해결하려고 하는 문제점]

그렇지만 전자의 전해가공장치에 있어서는 특히 3차원 형상의 밑바닥 붙이기가공(요와상(凹窩狀)에 형성된 3차원 구조물에 대한 가공을 말함)에 있어서 피가공물에 전극의 정밀한 전사를 행하는 것이 곤난하여 고정도의 표면품질을 얻을 수 없다고 하는 좋지 못함이 있고 또한, 후자의 방전 가공장치에 있어서는 양호한 면조도를 얻기가 어려워서 예를들면 경면마무리등에 수동에 의한 표면연마 공정을 필요로 하고 표면 마무리에 많은 시간과 노력을 요한다고 하는 결점이 있었다.

그래서, 본 출원인은 이러한 결점을 제거하는 전해가공장치로서 특허출원 소화 62-27616호를 출원하였으나 이 전해가공장치에 있어서는 피가공물과 전극과의 간격에 생성한 전해생성물을 배제하기 위해서 가공조의 아래쪽에 설치한 전해액 여과장치 크린 탱크(clean tank)에서 펌프에 의해 전해액을 퍼올려, 이 전해액을 상기 간격에 지향하여 배설한 분사노즐에서 분출하여 제거하고 있었다.

따라서 이와같은 분사노즐에 의한 분사로는 피가공면이 복잡한 형상의 경우는 분사노즐의 반대측의 피가공면까지 균일하게 전해액을 분출시키는 것이 곤난하고 피가공면에 전해생성물이 제거된 부분과 제거되지 않는 부분이 발생하고, 이에 따라 피가공면에 가공조건의 차이가 생겨서 줄무늬가 발생하는 등 그 표면품질을 현저하게 손상된다고 하는 좋지못함이 있었다.

[발명의 목적]

이 발명은 전해액을 전극에 설치한 공급구멍에서 간헐적으로 분출하는 동시에 분출한 전해액이 정지한 후에 펄스를 공급하는 것으로서 피가공물의 3차원 형상의 피가공면을 단시간에 동시에 고정도로 마무리하여 경면상의 광택면을 얻을 수가 있는 전해가공장치를 하는 것을 제1의 목적으로 한다.

[문제를 해결하기 위한 수단]

이 발명이 하나의 태양에 의하면 이 제1목적은 가공조내에서 전해액을 개재하여 대설한 피가공물과 전극간에 펄스를 공급하는 동시에 상기 피가공물과 전극과의 간격에 생성한 전해생성물을 제거하면서 피가공물을 마무리 가공하는 전해가공장치에 있어서, 상기 가공조내의 전해생성물을 함유한 전해액을 회수하여 여과하는 전해액 여과장치와 그 전해액 여과장치에서 여과한 전해액을 상기 전극에 설치한 공급구멍에서 상기 간격에 간헐적으로 분출하는 전해액 공급장치와 그 전해액 공급장치에 의해 상기 간격에 분출한 전해액이 정지한 경우에 상기 피가공물과 전극간에 펄스를 공급하는 전원장치를 갖춘 전해가공장치에 의해 달성된다.

이 장치의 구성에 의하면 전해액 여과장치에 의해 여과된 전해액을 전해액 공급장치에 의해서 전극에 설치한 공급구멍에서 간헐적으로 피가공물과 전극과의 간격에서 분출하기 때문에 간격에 생성한 전해생성물을 확실하게 제거하는 동시에 분출한 정해액이 정지한 상태에서 전원장치로부터 펄스를 공급하므로 전해액의 흐름에 의한 영향을 받지 않는 등, 피가공면 전역에 걸쳐서 가공조건을 균일하게 할 수 있다.

이 발명은 전극에 설치한 구멍에서 극간의 전해액을 흡인 배제하는 동시에 그 극간에 분출한 전해액이 정지한 뒤에 펄스 전류를 공급함으로써 피가공물의 3차원형상의 피가공면을 단시간에 동시에 고정도에 마무리지어 경면상의 광택면을 얻을 수가 있는 전해가공장치를 제공하는 것을 제2목적으로 한다.

이 발명의 다른 태양에 의하면 이 제2목적은 가공조내에서 전해액을 개재하여 대설한 피가공물과 전극간에 펄스 전류를 공급함과 동시에 상기 피가공물과 전극과의 간격에서 생성한 전해생성물을 제거하면서 피가공물을 마무리 가공하는 전해가공장치에 있어, 일단이 상기 간격에 열리는 것 같이 상기 전극에 배설한 구멍에서 상기 전해생성물을 함유한 전해액을 흡인, 회수하여 여과하는 전해액 여과장치와 그 전해액 여과장치에서 여과한 전해액을 상기 간격에 간헐적으로 분출하는 전해액 공급장치와 그 전해액 공급장치에 의해서 상기 간격에 분출한 전해액이 정지한 경우에 상기 피가공물과 전극간에 전류를 공급하는 전원장치를 갖춘 전해가공장치에 의해서 달성된다.

이 구성에 의하면 전극에 설치한 구멍에서 전해액 여과장치에 의해 극간에 생성한 전해생성물을 함유한 전해액을 흡인 회수하여 여과하는 동시에 이 여과한 전해액을 전해액 공급장치에 의해서 간헐적으로 피가공물과 전극과의 간격에 분출한다. 그리고 분출한 전해액이 정지한 상태에서 전원장치로부터 펄스전류를 공급하기 때문에 상기 간격에 생성한 전해생성물을 확실하게 제거함과 동시에 전해액의 흐름에 의한 영향을 받지 않는 등 피가공면 전역에 걸쳐서 가공조건을 균일하게 할 수 있다.

이 발명은 피가공물과 전극간에 공급하는 전해액을 가공조내에 설치한 전해액 저류조에서 공급하는 것으로서 가공조내에서의 전해액의 조건얼룩을 방지하는 동시에 전해액의 공급을 상세히 제어하게 하고 피가공물의 3차원 형상의 피가공면을 단시간에 동시에 고정도로 마무리하여 경면상의 광택면을 얻을 수 있는 전해가공장치의 가공조를 제공하는 것을 제3의 목적으로 한다.

이 발명의 또 다른 태양에 의하면, 이 제3목적을 내부에 전해액을 수용하고 이 전해액 중에서 피가공물과 전극과의 소정의 간격에서 대설하고 양자간에 펄스를 공급함과 동시에 상기 간격에 생성한 전해생성물을 제거하면서 마무리 가공하는 전해가공장치의 가공조에 있어, 상기 가공조내에 상기 간격에 공급하므로 상기 전해생성물을 간헐적으로 제거하는 전해액을 일단저류하는 전해액저류조를 설치함으로써 달성된다.

이 장치의 구성에 의하면, 전해액 여과장치에 의해 여과한 전해액을 일단 피가공물과 전극이 수용되는 가공조내에 설치한 전해액저류조에 저류하고 이 전해액저류조내에서 가공조내에 이미 수용되어 있는 전해액과 온도등의 조건에 있어서 거의 동일하게 하고, 그리고 이 전해액을 큰용량의 펌프등을 필요로 하지 않는 전해액 공급장치에 의해 피가공물과 전극과의 간격에 공급하여, 그 간격에 생성한 전해생성물을 제거한다.

[실시예]

이하, 도면을 참조하여 이 발명의 실시예를 상세히 동시에 구체적으로 설명한다. 제1∼5도는 이 발명의 제1실시예를 표시한다.

제1∼3도에 있어서(1)는 이 발명에 관하여 전해가공장치로 이 전해가공장치(1)는 피가공물(2)을 고정하는 피가공물 고정장치(3) 및 전극(4)를 고정하는 전극고정장치(5)와 전극구동부(6)의 회전운동을 왕복운동으로 변환하는 구동변환부(7), 펄스전류를 발생하는 전원장치(8), 모터 구동제어부(9)와 가공조건제어부(10)와 전해액제어부(11)로서 되는 제어장치(12), 피가공물(2)에 관한 데이터등을 입력하는 입력장치(13), 전해액 여과장치(14), 전해액 공급장치(15) 및 가공조(16)등으로 된다.

상기 피가공물 고정장치(3)는, 절연성이 높은 그라토나이트(grato nite) 혹은 세라믹으로된 테이블, 예를 들면 방전가공에 의하여 가공한 피가공물(2)을 볼트(17)등으로 고정한다. 또한 상기 전극고정장치(5)는, 그 하부에 설치한 로드(18)의 하단에 예를들면 순 구리로된 상기 방전가공시에 사용한 전극(4)을 그 전극면(4a)과 상기 피가공물(2)의 피가공면(2a)과 3차원 방향에 일정한 간격(19)을 유지하도록 고정한다. 그리고, 상기 전극고정장치(5)는 상기 전극구동부(6)와 구동변환부(7)에 의해 상기 간격(19)을 소정치에 유지하도록 상하로 움직인다.

즉, 전극구동부(6)의 로우터리 엔코우더(rotary encoder)(20)와 제네레이터(21)부터의 신호에 의해 상기 제어장치(12)의 모터 구동제어부(9)에서 출력되는 제어신호에 의해 모터(22)를 회전제어하고 이 모터(22)의 회전운동을 구동변환부(7)에 의해 왕복운동으로 변환하여, 상기 전극 고정장치(5)를 상하로 움직이게해서 전극면(4a)과 피가공면(2a)과의 소정의 간격(19)을 제어한다.

상기 피가공물(2)과 전극(4)사이에 전류밀도(단위면적당의 평균전류)가 70A/cm²이하의 펄스를 공급하는 전원장치(8)는, 가공조건제어부(10)으로부터의 제어신호에 의해 피가공물(2)의 표면적에 따라서 계산한 소정의 전류밀도의 펄스를 발생하는 것으로, 직류전원부(23)와 충방전부(24)와 충방전제어부(25)를 갖고, 예를들면 제4도에 나타낸 것같이 구성한다

제4도에 있어서, 직류 전원부(23)은 변압기(26)와 정류기(27)로 되어 변압기(26)에 의해 전압을 소정치에 강하시켜 정류기(27)에 의해 정류하여 직류전류를 얻어서, 후술하는 축전기(28-1)에서 (28-n)에 공급한다.

또한, 충방전부(24)는 피가공물(2)와 전극(4)과의 간격(19)에 전하를 방전하는 다수의 축전기(28-1∼28-n)와 이들의 각 축전기(28-1∼28-n)에 접속하고, 직류전원부(23)측으로의 전하 역류를 저지하는 다이오우드(29-1∼29-n)와 방전측으로의 전하를 방전시키도록 개폐된 방전스위치(30-1∼30-n)와 상기 각 축전기(28-1∼28-n)를 소정대로 충전하도록 상기 직류전원부(23)로부터의 전원을 급단(給斷)하는 충전스위치(31)로 된다.

이 충방전부(24)를 제어하는 충방전제어부(25)는, 축전기(28-1∼28-n)로 공급하는 충방전 전압치를 검출하는 전압검출기(32)와 상기 가공조건제어부(10)의 충전전압설정부(37)로 설정한 충전전압치와 상기 전압검출기(32)로 검출한 검출충전전압치를 비교하는 전압비교기(33)와, 상기 피가공물(2)과 전극(4)과의 간격(19)에 방전되는 전하의 전류치를 검출하는 전류검출기(34)와, 상기 가공조건제어부(10)의 최소 전류설정부(40)로 설정한 최소전류치와 전기전류검출기(34)로 검출한 방전전류치와를 비교하는 전류비교기(35)와 상기 가공조건제어부(10)의 펄스발생부(38)와 전류파형설정부(39)와 상기 전류비교기(35)로 부터의 입력에 의해 상기 검출 전류치가 상기 최소 전류치 이상의 경우에는 상기 각 축전기(28-1∼28-n)의 전하를 방전측에 소망대로 방전시키는 동시에 상기 검출전류치가 상기 최소전류치 미만의 경우에는 상기 각 축전기(28-1∼28-n)의 전하방전을 정지시키게끔 상기 각 방전스위치(30-1∼30-n)에 개폐구동신호를 출력하는 게이트 회로(36)를 가지고 있다.

또한 이 충방전제어부(25)를 제어하는 제어장치(12)의 가공조건제어부(10)는 충전전압설정부(37)와 펄스발생부(38)와, 전류파형설정부(39)와 최소전류설정부(40)와 상기 입력장치(13)의 입력데이터에 의거하여 가공조건등을 연산·처리하는 연산·처리부 CPU(41)등으로 된다.

즉, 제4도 중 부호(42)는 방전스위치(30-1∼30-n)의 개시(開時)에 역기전력에 의해 각 방전스위치(30-1∼30-n)가 파괴하는 것을 방지하는 다이오우드이다.

상기 입력장치(13)는 피가공물(2)의 재질과 표면적 마무리 가공과 칫수정도의 등급, 마무리면조도 및 가공전극간격등을 입력하고, 이것의 신호를 제어장치(12)의 모터 구동제어부(9) 및 가공조건 제어부(10)에 출력한다.

상기 전해액 여과장치(14)와 전해액 공급장치(15)는, 전해액제어부(11)로 부터의 제어신호에 의거하여 가공에서 생긴 전해생성물을 함유한 전해액을 전해액 여과장치(14)에서 여과하는 동시에 이 여과된 신선한 전해액을 전해액 공급장치(15)에 의해 전극(4) 및 로드(18)에 설치된 공급구멍(46)에서 상기 간격(19)에 일정한 액압으로 분출하여 가공중에 간격(19)에 생성한 전해생성물들을 배제하는 것이며, 예를들면 제5도에 나타낸 것같이 구성한다.

제5도에 있어서, 전해액 여과장치(14)는 가공조(16)내의 전해액(43)중의 전해생성물을 많이 함유한 전해액(45)을 배출관(47)을 통해서 저류하는 더티 탱크(dirty tank)(48)와 이 더티 탱크(48)의 전해액(45)을 전자펌프(49)로 퍼올려서, 필터(50)를 통하게 모터(51)의 회전에 의해 원심분리 처리하는 원심분리기(52)와 이 원심분리기(52)로 분리처리한 전해생성물을 함유하지 않는 전해액(44)를 저류하는 크린 탱크(53)와 이 크린 탱크(53)의 전해액(44)을 퍼올려서 상기 가공조(16)의 일부에 설치한 보조저류조(54)에 공급하는 전자펌프(55)와 상기 더티 탱크(48)의 액면을 검출하는 상한 띄우개 스위치(float switch)(56) 및 하한 띄우개 스위치(57)를 가지고 있다.

또한 상기 전해액 공급장치(15)는 역지밸브(60)(61)를 통해서 각기 상기 보조저류조(54)와 상기 로드(18) 및 전극(4)의 공급구멍(46)에 연결한 제1실린더(58)와 이 제1실린더(58)에 직열로 연결한 제2실린더(59)와 이 제2의 실린더(59)에 전자밸브(62)를 통해서 연결한 콤프레서(63)으로 된다.

이 전해액 여과장치(14) 및 전해액 공급장치(15)를 제어하는 전해액제어부(11)는 가공조건제어부(10)으로 부터의 제어신호에 의거해서, 상기 전자펌프(49)(55), 모터(51)를 작동하여 전해액(45)을 여과하여 상기 보조저류조(54)로 공급하는 것처럼 제어하는 동시에 콤프레서(63)을 작동하여 제1 및 제2실린더(58)(59)를 작동시켜, 보조저류조(54)내의 전해액(44)을 공급구멍(46)에서 간격(19)에 분출하는 것처럼 제어한다.

다음에 이 전해가공장치의 동작을 마무리가공방법에 의거해서 설명한다.

마무리 가공에 있어서는 피가공물 고정장치(3)에 예를들면 방전가공에 의해서 소망하는 형상에 가공한 피가공물(2)을 고정함과 동시에 전극고정장치(5)의 로드(18)의 하단에 상기 방전가공시에 사용한 전극(4)을 고정하고 이 전극(4)을 하강하여 그 전극면(4a)을 피가공물(2)의 피가공면(2a)에 대향접촉시켜 전극(4)을 피가공물(2)과 함께 가공조(16)의 전해액내에 침지한다. 그리고 이 위치를 원점 A로 하여 입력장치에 의해 입력된 상기 CPU(41)에 설정된 가공전극 간격을 유지하는 위치에 전극(4)을 상승하고 전해액(43)이 피가공면(2a)과 전극면(4a)과의 간격(19)에 가득차면 그곳을 가공원점으로 하여 마무리 가공을 개시한다.

마무리 가공의 전기(前期)에는 가공조건제어부(10)의 제어신호에 의하여 전원장치(8)에서 예를들면 펄스의 온 시간이 초당 5m이하의 저전류밀도의 면조도 향상용의 펄스를 피가공물(2)과 전극(4)간에 공급한다.

이에 따라, 피가공면(2a) 소재가 용출한다. 소정의 펄스를 1회 내지 수회 공급한 뒤, 간격(19)의 전해생성물을 함유한 전해액(45)을 전해액 공급장치(15)의 실린더(58)(59)등의 작동에 의하여 전기공급구멍(46)에서 분출하는 전해액(44)에 의해 배제된다.

전해생성물을 배제한 뒤는, 전극(4)이 하강하고, 전극면(4a)이 피가공면(2a)에 접촉한다. 이에 따라 상기 원점 A와 현위치를 제어장치(12)로 비교하여 가공 1회(1펄스 또는 수(數)펄스 마다의 가공)당 깊이를 측정한다. 그후, 상기 피가공면(2a)과 전극면(4a)이 소정의 간격(19)을 유지할 수 있도록 전극(4)이 다시 상승하고, 가공조(16)내의 전해액(43)(분출한 전해액(44)과 혼합한것)을 피가공면(2a)과 전극면(4a)간에 가득채우는 동시에 상기 전극(4)이 소정위치(전극면(4a)이 피가공면(2a)과 소정의 간격(19)을 유지하는 위치)에 도달한 뒤, 전해액(43)이 정지(전해액의 흐름·움직임이 대략 정지한 상태를 말함)하는 1∼5초후에 펄스를 공급하여 다음의 가공을 한다.

여기에서, 전해액 여과장치(14) 및 전해액 공급장치(15)의 동작에 대해서 설명한다.

가공조(16)에서 배출되는 전해생성물을 함유하는 전해액(45)은 더어티 탱크(48)에 저류되어 그 액면 레벨은 상·하의 띄우개 스위치(56),(57)로 검출되어 전해액제어부(11)에 입력된다. 전해액 제어부(11)는 더어티 탱크(48)내의 액면레벨이 소정치에 달하면, 즉 액면 레벨이 상·하 띄우개 스위치(56)(57)간에 있을시, 전자펌프(49)에 구동신호를 출력하여 더어티 탱크(48)내의 전해액(45)을 퍼올려, 필터(filter)(50)를 통하게 하여 원심분리기(52)에 송출한다.

원심분리기(52)는 전해액제어부(11)의 제어신호에 의하여 모터(51)가 회전하고, 전해액(45)을 분리처리한다. 그리고 분리처리된 전해생성물을 함유하지 않는 전해액(44)은 크린 탱크(53)에 저류되어 전해액제어부(11)로 부터의 제어신호에 의해 전자펌프(55)가 작동하여 전해액(44)를 크린 탱크(53)에서 퍼올려서 보조저류조(54)에 유입시킨다.

그리고, 이 보조저류조(54)에 저류된 전해액(44)은 가공조(16)내의 전해액(43)과 동일 조건하에 놓여져서, 온도등이 조건이 거의 동일하게 되어 가공조건제어부(10)에서 출력되는 신호에 의거해서, 상기 간격(19)에 분출된다. 요컨데 소정회수의 가공이 종료하면, 전해액제어부(11)가 콤프레서(63)에 신호를 출력하고 실린더(59)에 공기를 공급하여 피스톤(59-a)을 도면중의 ㉮방향으로 이동시킨다. 이에 따라 피스톤(58-a)과 직열로 연결된 실린더(58)의 피스톤(58-a)이 똑같이 ㉮방향으로 이동하고, 이 이동에 의해 보조저류조(54)의 전해액(44)이 퍼올려져, 실린더(58)의 실(室) A내에 소정량이 저류된다. 그리고 소정량의 전해액(44)이 실 A내에 저류되면 전해액제어부(11)가 콤프레서(63)에 신호를 출력하고 전자밸브(62)를 작동시켜서 실린더(59)내의 공기를 배출한다. 이에따라 피스톤(59-a)이 ㉯방향으로 이동함과 동시에 실린더(58)의 피스톤(58-a) 역시 ㉯방향으로 이동하고 실 A 내의 전해액(44)을 공급구멍(46)에서 간격(19)에 분출한다. 또 전해액(44)은 역지밸브(60)(61)에 의해 소정방향 이외로의 유입이 저지된다.

이상과 같은 마무리 가공물 제어장치(12)의 지령에 의해 소정회수를 되풀이하여, 상기 가공깊이의 누적치가 입력장치(13)에서 입력된 입력데이터에 의거, 가공조건제어부(10)에서 계산된 가공깊이의 설정치와 비교하고 가공깊이의 누적치가 가공깊이 설정치에 대하여 소정의 차(예를들면 1㎛) 이내로 되었을때에 CPU(41)가 전류파형설정부(39)에 제어신호를 출력하고, 전원장치(8)의 펄스를 전류밀도가 마무리 가공전기의 전류밀도의 3/2를 넘는 광택면형성용의 펄스로 전환한다. 그리고, 이 펄스로 전술한 바와같은 방법에 의해 소정회수의 가공을 행하여 마무리 가공을 종료한다.

이와같이, 이 발명에 관한 전해가공장치 1에 있어서는 전해액 여과장치(14)에 의해서 여과된 전해액(44)을 가공조(16)내의 1부에 설치된 보조저류조(54)에 일단 저류하고, 이 보조저류로(54)에서 전해액(44)를 전해액 공급장치(15)에 의해서 전극(4)등에 설치한 공급구멍(46)에서 피가공면(2a)과 전극면(4a)의 간격(19)에 간헐적으로 분출하기 때문에 전해액(44)이 피가공면(2a) 전역에 걸쳐서 균일하게 분출되어 상기 간격(19)에 생성한 전해생성물을 확실하게 제거할 수가 있는 동시에 분출하는 전해액(44)가 가공조(16)내에 수용되어 있는 전해액(43)과의 예를 들면 온도등의 조건을 거의 동일하게 할 수가 있어 가공조(16)내에서의 전해액(43)의 조건얼룩의 발생을 방지할 수 있다. 또한, 보조저류조(54)와 가공조(16)과의 단차(段差)없이 전해액 공급장치에 펄프를 사용하지 않으므로 마무리 가공에 필요한 전해액공급의 정세한 제어가 가능하게 되어, 피가공면(2a) 전역에 걸쳐서 가공조건을 균일하게 할 수가 있어, 양호한 표면품질의 피가공면이 얻어진다. 더욱이, 전해가공장치 1에 소망하는 형상에 가공된 피가공물(2)과 전극(4)을 장치하여 마무리 조건을 입력장치(13)에 의해 입력하여 기동하면, 경면상 광택을 나타내는 3차원 금속곡면이 무인(無人)으로 단시간에 얻어져, 그 표면을 내부응력의 축적이나 금속조직의 변화도 없으며 기계적 전열의 침입이라고 하는 변질도 전혀 보이지 않으며 가공전의 열처리 품질도 손상되는 일이 없는등, 현재의 금형가공에서 가장 성력화(省力化)가 뒤떨어진 마무리 가공분야에서 품질향상과 기계화에 큰 효과가 얻어진다.

그리고, 상기 실시예에 있어서는, 전해액 공급장치로서 한쌍의 실린더를 설치하였으나, 이 발명은 여기에 아무런 한정도 받지 않으며, 예를들면 펌프와 타이머 기능을 가진 전자개폐기를 짝을 짜서 구성하여도 무방하다. 또한 이 발명은 금형의 마무리 가공분야에 한정되지 않으며, 예를들면 자동반송장치와 짝을 짜서, 하이포이드·기어(hypoidgear)등의 열처리뒤의 마무리하는데 사용하여도 좋다는 것은 말할 필요도 없다.

이상 상세하게 설명한 것과 같이, 이 발명에 관하는 전해가공장치에 있어서는, 가공조내에서 전해액을 개재하여 대설한 피가공물을 전극간에 펄스를 공급함과 동시에, 상기 피가공물과 전극과의 간격에 생성한 전해생성물을 제거하면서 피가공물을 마무리 가공하는 전해가공장치에 있어, 상기 가공조내의 전해생성물을 함유한 전해액을 회수하여 여과하는 전해여과장치와, 그 전해액 여과장치로 여과한 전해액을 상기 전극에 설치한 공급구멍에서 상기 간격에 간헐적으로 분출하는 전해액 공급장치와 그 전해액 공급장치에 의해 상기 간격에 분출한 전해액이 정지한 경우에 상기 피가공물과 전극간에 펄스를 공급하는 전원장치로 구성했으므로 피가공물과 전극과의 간격에 생성되는 전해생성물을 확실하게 제거할 수 있는 동시에 가공조내에서의 전해액의 조건을 언제나 균일하게 하면서 전해액의 분출을 정세하게 제어할 수 있어서 피가공면 전역에 걸쳐서 가공조건이 균일하게 되어, 고정도, 동시에 미소면조도의 경면상광택을 나타낸 3차원 금속표면을 단시간에 얻을 수가 있다.

다음에 이 발명의 제2실시예에 대해서 제1,2,4도 및 제6,7도를 참조해서 다음에 설명한다. 제6,7도에 있어서 상기 제1실시예와 동일구성 부분에 대해서는 동일부호를 붙이어 그 설명을 생략한다. 제2실시예의 구성상의 특징, 즉 제1실시예와의 상위점에 대해서 설명한다. 기타 부분은 제1실시예와 대략같다.

도면에 있어 상기 전극고정장치(5)는 그 하부에 설치한 로드(18)의 하단에 일단이 피가공물(2)와 전극(4)과의 간격(19)에 열려서, 다른쪽이 상기 로드(18)의 구멍(65)에 연통하는 구멍(46)을 가진다. 예를들면 순수한 구리로된 상기 방전가공시에 사용한 전극(4)을 그 전극면(4a)과 상기 피가공물(2)의 피가공면(2a)이 3차원방향에 똑같은 간격(19)을 유지하도록 고정한다. 상기 전극(4)의 구멍(46)은 피가공물(2)의 피가공면(2a)에 경면상의 광택면을 필요로하지 않는 부분의 대향개소(箇所)에 설치된다.

상기 전해액 여과장치(14)와 전해액 공급장치(15)와 전해액제어부(11)로 부터의 제어신호에 의거해서 가공으로 생긴 전해생성물을 함유한 전해액을 전해액 여과장치(14)로 상기 전극(4)에 설치한 구멍(46)에서 흡인회수하여 여과하는 동시에 이 여과된 신선한 전해액을 전해액 공급장치(15)에 의해 상기 간격(19)에 지향하는 것같이 배설한 분출노즐(64)에서 일정한 액압으로 분출하는 것이며, 예를들면 제7도에 나타낸 것같이 구성한다.

제7도에 있어서, 전해액 여과장치(14)는 전해생성물을 많이 함유한 전해액(45)을 저류하는 더어티 탱크(48)와 이 더어티 탱크(48)의 전해액(45)을 전자(電磁)펌프(49)로 퍼올려서 필터(50)을 통하게 해서 모터(51)의 회전에 의해 원심분리 처리한 원심분리(52)와 이 원심분리기(52)로 분리처리한 전해생성물을 함유하지 않는 전해액(44)을 저류하는 크린 탱크(53)와 상기 더어티 탱크(48)의 액면을 검출하는 상한 띄우개 스위치(54) 및 하한 띄우개 스위치(55)를 가지고 있다.

또한 상기 전해액 여과장치(14)와 역지밸브(58)(59)를 통해서 각기 상기 로드(18)의 구멍(65)과 더어티 탱크(48)에 연결한 제1실린더(56)와 이 제 1실린더(56)에 직열로 연결한 제2실린더(57)와 이 제2실린더(57)에 전자밸브(60)를 끼워서 연결한 콤프레서(61)을 가지고 있다. 그리고 (47)은 전해액(43)의 오우버 플로우(over flow) 배출관이다.

상기 전해액 공급장치(15)는 크린 탱크(53)의 전해액(44)를 퍼올리는 전자펌프(62)와 이 전자펌프(62)와 상기 분출노즐(64)간에 접속한 전자밸브(63)으로 된다. 그리고, 이 전해액 여과장치(14) 및 전해액 공급장치(15)를 제어하는 전해액제어부(11)는 가공조건제어부(10)로부터의 제어신호에 의거해서, 콤프레서(61)를 작동시켜서 제1 및 제2실린더(56),(57)을 작동시켜, 간격(19)의 전해생성물을 함유한 전해액(43)을 구멍(46) 및 (65)에서 흡인하여 더어티 탱크(48)로 회수하는 동시에 이 회수한 전해액(45)을 상기 전자펌프(49), 모터(51)등을 작동시켜서 여과하고 그리고 이 여과한 전해액(44)을 전자펌프(62)를 작동시켜서 분출노즐(64)에서 간격(19)에 분출하는 것처럼 제어한다.

다음에 이 전해가공장치(1)의 동작을 마무리 가공방법에 의거해서 설명한다.

마무리 가공에 있어서는, 피가공물 고정장치(3)에 예컨대 방전가공에 의해서 소망하는 형상으로 가공한 피가공물(2)을 고정함과 동시에, 전극고정장치(5)의 로드(18)의 하단에 상기 방전가공시에 사용한 전극(4)을 고정하고 이 전극(4)을 하강하여 그 전극면(4a)을 피가공물(2)의 피가공면(2A)에 대향접촉시켜 전극(4)을 피가공물(2)과 함께 가공조(16)의 전해액(43)내에 침지한다. 그리고 이 위치를 원점 A로 하여 입력장치(13)에 의해서 입력되어 상기 CPU(41)에 설정된 소정의 간격(19)을 유지하는 위치에 전극(4)을 상승하고, 전해액(43)이 피가공면(2a)과 전극면(4a)의 간격(19)에 전해액(43)이 정지(전해액(43)의 흐름·움직임이 대략 정지한 상태를 말함)한다면 마무리 가공을 개시한다.

마무리 가공의 전기에는 가공조건 제어부(10)의 제어신호에 의해 전원장치(8)에서 예를들면 펄스전류의 ON 시간이 초당 5m 이하에서 저전류밀도의 면조도 향상용의 펄스 전류를 피가공물(2)과 전극(4)간에 공급한다. 이에따라 피가공면(2a) 소재가 용출한다. 소정의 펄스 전류를 1회 내지 수회 공급한 후, 소정의 간격(19)을 유지시켰든 상태로 그 간격(19)의 전해생성물을 함유한 전해액(45)을 전해액 여과장치(14)의 실린더(56),(57)등의 작동에 의해 상기 구멍(46) 및 (65)에서 흡인한 더어티 탱크(48)에 회수하는 동시에 이 흡인 동작과 대략연동하여 상기 전해액 공급장치(15)가 작동하고, 전해액(44)을 분출노즐(64)에서 상기 간격(19)에 향해서 분출한다.

전해액(44)을 분출한 뒤는, 전극(4)이 하강하고 전극면(4a)이 피가공면(2a)에 접촉한다. 이에 따라 상기 원점A과 현위치를 제어장치(12)로 비교하여 가공1회(1펄스 또는 수(數)펄스 마다의 가공)당의 가공깊이를 측정한다. 그 뒤, 상기 피가공면(2a)과 전극면(4a)이 소정의 간격(19)을 유지하도록 전극(4)이 다시 상승하고, 전해액(43)이 피가공면(2a)과 전극면(4a)간에 가득차서, 전해액(43)이 정지하면 펄스를 공급하여 다음 가공을 행한다.

여기서 전해액 여과장치(14) 및 전해액 공급장치(15) 동작에 대해서 설명한다.

소정회수의 기공이 종료하면, 전해액 제어부(11)가 콤프레서(61)에 신호를 출력하고 실린더(57)에 공기를 공급하여 피스톤(57a)을 도면의 가방향에 이동시킨다. 이에 따라 피스톤(57a)과 직열로 연결된 실린더(56)의 피스톤(56a)이 똑같이 가방향으로 이동하고, 이 이동에 의해, 상기 구멍(46) 및 (65)을 통해서 간격(19)의 전해액(45)이 퍼올려져서 실린더(56)의 실 A 내에 소정량이 저류된다. 그리고 소정량의 전해액(45)이 실 A 내에 저류되면, 전해액제어부(11)가 콤프레서(61)에 신호를 출력하고, 전자밸브(60)를 작동시켜서 실린더(57)내의 공기를 배출한다. 이에 따라 피스톤(57a)이 나방향으로 이동하는 동시에 실린더(56)의 피스톤(56a)도 나방향으로 이동하여 실 A 내의 전해액(45)을 역지밸브(59)를 통해서 더어티 탱크(48)에 배출한다. 또, 전해액(45)은 역지밸브(58),(59)에 의해 소정방향 이외로의 유입이 저지된다.

간격(19)의 전해생성물을 함유한 전해액(45)이 구멍(46), 구멍(65), 역지밸브(58), 실린더(56)의 실 A, 역지밸브(59)를 통해서 더어티 탱크(48)에 저류되면 그 액면 레벨이 상·하의 띄우개 스위치(54),(55)로 검출되어 전해액 제어부(11)에 입력된다. 전해액제어부(11)는, 더어티 탱크(48)내의 액면 레벨이 소정치에 도달하면, 즉 액면레벨이 상·하의 띄우개 스위치(54),(55)간에 있을 때 전자펌프(49)에 구동신호를 출력하고 더어티 탱크(48)내의 전해액(45)을 퍼올려 필터(50)를 통하여 원심분리기(52)에 송출한다.

원심분류기(52)는, 전해액제어부(11)의 제어신호에 의해 모터(51)가 회전하고, 전해액(45)을 분리처리한다. 그리고, 분리처리된 전해생성물을 함유하지 않는 전해액(44)은 클리인 탱크(53)에 저류되어 이 클리인탱크(53)에 저류된 전해액(44)은 전해액제어부(11)의 제어신호에 따라 전해액 공급장치(15)의 전자펌프(62)가 작동하여 퍼올려, 전자밸브(63)를 통해서 분출노즐(64)에서 일정한 액압으로 상기 간격(19)에 분출한다.

이와같이, 이 발명에 의하면 간격(19)의 전해 생성물을 함유한 전해액(45)을 전극에 설치한 일단이 간격(19)에 개구하는 공(46)에서 흡인 배제하기 위하여 가공으로 생성한 전해생성물을 간격(19)외에 확산시키는 일이 적고, 가공조(16)내의 전해액의 오탁도(汚濁度)를 낮게 유지할 수가 있는 동시에, 흡인과 거의 동시에 신선한 전해액(44)을 분출하므로 피가공면(2a) 및 전극면(4a)에 부착한 전해생성물 등을 배제할 수가 있고, 간격(19)의 전해생성물을 확실하게 제거할 수 있다.

이상과 같은 마무리 가공을 제어장치(12)의 지령에 의해 소정의 회수를 되풀이하여 상기 가공깊이의 누적치가 입력장치(13)에 출입력된 입력데이터에 의거해서 가공조건 제어부(10)로 계산한 가공깊이 설정치와 비교하고 가공깊이 누적치가 가공깊이 설정치에 대해 소정의 차(예를들면 1㎛)이내에 되었을때에 CPU(41)가 전류파형 설정부(39)에 제어신호를 출력하고, 전원장치(8)의 펄스를 전류밀도가 마무리 가공전기의 전류밀도의 3/2를 넘는 광택면 형성용의 펄스에 전환한다. 그리고, 이 펄스로 전술한 바와같은 방법에 의해 소정회수의 가공을 행하여 마무리 가공을 종료한다.

제8도는, 이 발명의 제3실시예를 나타내며, 상기 실시예와 동일 구성부분에 대해서는 동일부호를 붙이고 그 설명을 생략한다. 이 실시예의 특징은, 간격(19)의 전해액(45)의 흡인배제 및 간격(19)으로의 신선한 전해액(44)의 공급을, 전극(4)에 설치한 구멍(46)(로드(18)의 구멍(56)도 포함함)에서 교호(交互)로 행하도록 한 점에 있다.

즉, 구멍(46)과 제1실린더(56) 및 전자밸브(63)과의 사이에 변환밸브(66)을 설치, 이 변환밸브(66)을 전해액제어부(11)의 제어신호에 따라 전환한다.

간격(19)의 전해액을 흡인 배제하는 경우는 변환밸브(66)를 제1실린더(56)측에 전환하고 간격(19)의 전해액을 구멍(46)→구멍(65)→변환밸브(66)→역지밸브(58)→제1실린더(56)의 실 A→역지밸브(59)를 통해서 더어티 탱크(48)에 회수하고 간격(19)에 신선한 전해액(44)을 분출하는 경우에는 변환밸브(66)를 전해액 공급장치(15)측에 전환하여 전해액(44)을 전자펌프(62)→전자밸브(63)→변환밸브(66)→구멍(65)→구멍(46)을 통해서 간격(19)에 분출한다.

또, 상기 실시예에 있어서는 전극에 1개의 구멍을 설치한 경우에 대해서 설명하였으나 전극에 복수의 구멍을 설치해도 좋고, 또한, 전해액 공급장치로서 한쌍의 실린더를 설치한 경우에 대해서 설명하였다.

예를들면 펌프와 타이머 기능을 갖는 전자개폐기를 조합하여 구성해도 좋다.

이상 상세히 설명한 것같이 이 발명에 관한 전해가공장치에 있어서는, 가공조내에서 전해액을 개재하여 대설한 피가공물도 전극간에 펄스 전류를 공급함과 동시에, 상기 피가공물과 전극과의 간격에 생긴 전해생성물을 제거하면서 피가공물을 마무리 가공하는 전극가공장치에 있어서, 일단 이 상기 간격에 열리는 것처럼 상기 전극에 배설한 구멍에서 상기 전해생성물을 함유한 전해액을 흡인, 회수하여 여과하는 전해액 여과장치와, 그 전해액 여과장치로 여과한 전해액을 상기 간격에 간헐적으로 분출하는 전해액 공급장치와 그 전해액 공급장치에 의해서 상기 간격에 분출한 전해액이 정지한 경우에 상기 피가공물과 전극간에 펄스 전류를 공급하는 전원장치로서 구성했으므로 피가공물과 전극과의 간격에 생성되는 전해생성물을 확실하게 제거할 수 있는 동시에 가공조내의 전해액의 오탁도(汚濁度)를 낮게 할 수 있고, 피가공면 전역에 걸쳐서 가공조건이 균일하게 되어, 고정도 동시에 미소면조도의 경면상 광택을 나타낸 3차원 금속표면을 단시간에 얻을 수가 있다.

다음에 이 발명의 제4실시예에 대해서 제1,2,4도 및 제9∼12도를 참조하여 아래에 설명한다. 제9∼12도에 있어 상기 제1실시예와 동일구성 부분에 대해서는 동일부호를 붙이며 그 설명을 생략한다.

제4실시예의 구성상의 특징, 즉, 제1실시예와의 상이점에 대해서 설명한다. 기타 부분은 제1실시예와 대략 동일하다.

도면에 있어서, 이 제4실시예에 있어서의 전해가공장치(1)는 또한 가공조(16)내에 설치한 전해액저류조(17)를 갖는다. 이 전해액전류조(17)는 가공조(16)의 밑바닥판에 벽(17a)을 입설(立設)함으로써 형성된다. 전자펌프(38)는 클리인탱크(37)의 전해액(30)을 퍼올려서 저류조(17)에 공급한다.

전원장치(8)는 가공조건 제어부(10)로 부터의 제어신호에 의해, 피가공물(2)의 표면적에 따라 계산한 소정의 전류밀도의 펄스전류의 발생하는 것으로 직류전류를 얻는 직류전원부(24)와 직류전원부(24)로 부터의 직류전압을 복수의 축전기에 충전함과 동시에, 이 축전기에 충전된 전하를 방전스위치의 열람에 의해서 상기 피가공물(2)과 전극(4)간에 방전하는 충방전부(25)와, 이 충방전부(25)를 제어하는 충방전제어부(26)를 갖는다.

상기 전해액 여과장치(14)와 전해액 공급장치(15)는 가공으로 생긴 전해생성물을 함유하는 전해액을 여과하여, 이 여과한 전해액(30)을 전해액제어부(11)로 부터의 제어신호에 의거 상기 전해액 저류조(17)로부터 전극(4) 및 로드(19)에 설치한 공급구멍(27)을 통해서 상기 간격(20)에 일정한 액압(液壓)으로 분출하여 가공중에 피가공면(2a)과 전극간(4a)간에 생성한 전해생성물등을 배제하는 것이다. 예를들면 제12도에 나타낸 바와 같이 구성한다.

전해액 제어부(11)는 가공조건 제어부(10)로 부터의 제어신호에 의거하여 상기 전자펌프(33),(38), 모터(35)를 작동시켜서 전해액(29)을 여과하여 전해액 저류조(17)로 공급하는 것처럼 제어하는 동시에 콤프레서(46)를 작동하여 제1 및 제2실린더(43),(44)를 작동시켜 전해액 저류조(17)내의 전해액(30)을 로드(19) 및 전극(4)의 공급구멍(27)으로부터 피가공면(2a)과 전극면(4a)과의 간격(20)에 분출하는 것처럼 제어한다.

다음에 이 전해가공장치(1)의 동작을 마무리 가공방법에 의거해서 설명한다.

또한, 제4실시예에서의 전해가공장치(1)는 상술한 제1실시예와 거의 동일하게 동작하므로 여기에서는 제1실시예와 상이한 특징적인 동작에 대하여 아래에 설명한다.

마무리 가공시에는 피가공물 고정장치(3)에 예를들면 방전가공에 의해 소망하는 형상으로 가공한 피가공물(2)을 고정함과 동시에 전극고정장치(5)의 로드(19)하단에 상기 방전가공시에 사용한 전극(4)을 고정하고, 이 전극(4)을 하강하여 그 전극면(4a)을 피가공물(2)의 피가공면(2a)에 대향접촉시켜 전극(4)을 피가공물(2)과 함께 가공조(16)의 전해액(28)내에 침지한다. 그리고, 초기전극 간격을 유지하는 위치에 전극(4)을 상승하고, 전해액(28)이 피가공면(2a)과 전극면(4a)간에 가득차면, 그곳을 가공원점으로 하여 마무리 가공을 개시한다.

마무리 가공의 전기에는 가공조건 제어부(10)의 제어신호에 의해, 전원장치(8)에서 소정의 전류밀도의 면조도 향상용의 펄스를 피가공물(2)과 전극(4)간에 공급한다. 이에 따라 피가공면(2a) 소재가 용출(溶出)한다. 소정의 펄스를 1회 내지 수회 공급한후, 상기 간격(20)의 전해 생성물을 함유한 전해액(29)을 전해액 공급장치(15)의 실린더(43),(44)등의 작동에 의해, 상기 공급구멍(27)에서 분출되는 전해액(30)에 의해 배제한다.

가공조(16)로부터 배출관(31)을 통하여 배출되는 전해생성물을 함유한 전해액(29)은 더어티 탱크(32)에 저류되어, 그 액면 레벨은 상·하의 띄우개 스위치(39),(40)로 검출되어 전해액 제어부(11)에 입력된다. 전해액 제어부(22)는 더어티 탱크(32)내의 액면 레벨이 소정치에 달하면, 즉, 액면레벨이 상·하의 띄우개 스위치(39),(40)사이에 있을 때, 전자펌프(33)에 구동신호를 출력하고, 더어티 탱크(32)내의 전해액(29)을 퍼올려, 필터(34)를 통해서 원심분리기(36)에 송출한다.

전해액저류조(17)에 저류된 전해액(30)은 가공조(16)내에 수용되어 있는 전해액(28)과 동일 조건하에 놓여져서 전해액(28)과 온도등의 조건에서 대략 동일하게 되며, 가공조건 제어부(10)로부터 출력되는 제어신호에 의거 상기 간격(20)에 분출된다.

소정회수의 가공이 종료하면, 전해액제어부(11)가 콤프레서(46)에 신호를 출력하고, 실린더(44)에 공기를 공급하여 피스톤(44-a)을 도면중 가방향으로 이동시킨다.

이에 따라 피스톤(44-a)과 직열로 연결된 실린더(43)의 피스톤(43-a)이 동일하게 가방향으로 이동하고, 이 이동에 의해 전해액 저류조(17)의 전해액(30)이 퍼올려져서, 실린더(43)의 실(室)(A)내에서 소정량이 저류된다.

그리고 소정량의 전해액(30)이 실(A)내에 저류되면 전해액제어부(11)가 콤프레서(46)에 신호를 출력하고, 전자밸브(45)를 작동시켜서 실린더(44)내의 공기를 배출한다. 이에 따라 피스톤(44-a)이 나방향으로 이동함과 동시에 실린더(43)의 피스톤(43-a)도 나방향으로 이동하여 실(A)내의 전해액(30)을 공급구멍(27)에서 간격(30)에 분출한다. 또한, 전해액(30)은 역지밸브(41)(42)에 의해 소정방향 이 회로의 유입이 저지된다.

이상과 같은 마무리 가공을 제어장치(12)의 지령에 의해서 소정회수를 되풀이하고, 상기 가공깊이의 누적치가 입력장치(13)로 입력된 입력데이터에 의거해서 가공조건제어부(10)에서 계산상 가공깊이의 설정치와 비교하고, 가공깊이 누적치가 가공깊이 설정치에 대하여 소정의 차(예를들면 1㎛) 이내로 되었을때에 가공조건제어부(10)의 제어신호에 의해 전원장치(8)로부터 공급되는 펄스를 전류밀도가 마무리 가공전기(前期)의 전류밀도의 3/2를 넘는 광택면 형성용의 펄스로 전환한다. 그리고 이 펄스에서 전술한 바와 동일한 방법으로 소정회수의 가공을 하여 마무리 가공을 종료한다.

또한 상기 실시예에 있어서는 전해액 공급장치로서 한쌍의 실린더를 설치하였으나 이 발명은 여기에 하등 한정되지 않고, 예를들면 소용량의 펌프와 타이머 레디 기능을 갖는 전자개폐기를 조합시켜서 구성해도 좋다. 또한, 전해액 저류조를 가공조의 밑바닥판에 벽을 입설하여 구성하였으나, 예를들면 전해액저류조를 용기형상으로 하고 이것을 가공조내의 적당한 위치에 수용해도 좋다. 더욱이 이 발명은 금형의 마무리 가공분야로 한정되지 않으며, 예를들면 자동반송장치와 조합시켜서 하이포이드 기어등의 열처리후의 마무리에 사용해도 좋은 것을 말할것도 없다.

이상 상세하게 설명한 바와같이 이 발명에 의하면, 내부에 전해액을 수용하며, 이 전해액중에서 피가공물과 전극을 소정의 간격으로 크게 가르고, 양자간에 펄스를 공급함과 동시에 상기 간격에 생성한 전해 생성물을 제거하면서 마무리 가공하는 전해가공장치의 가공조에 있어서 상기 가공조내에, 상기 간격에 공급함으로써 상기 전해생성물을 간헐적으로 제거하는 전해액을 일단 저류하는 전해액저류조를 설치하였으므로 피가공물과 전극과의 간격에 분출되어 그 간격에 생성한 전해생성물을 제거하는 전해액과 가공조내에 수용되고 있는 전해액을 온도등의 조건에 있어서 대략 동일하게 할 수 있는 동시에 전해액이 동일한 높이로 배치된 전해액저류조에서 공급되므로 전해액 공급장치에 전해액을 퍼올리는 대용량의 펌프등을 필요로 하지 않으며, 특히 3차원 형상의 피가공면을 마무리 가공하는 경우에 필요한 전해액 공급의 정세(精細)한 제어를 할 수 있으며, 피가공면전부에 걸쳐 가공조건을 균일하게 할 수 있으며, 높은 정밀도와 미소면조도(微小面祖度)의 경면상(鏡面狀) 광택을 나타낸 3차원 금속표면을 단시간에 얻을 수 있다. 또한 대용량의 펌프등을 필요로 하지 않으므로 가격저하가 도모되는 등의 효과를 갖는다.

Claims (5)

1. 가공조내에서 전해액을 개재시켜 대설한 피가공물과 전극간에 펄스를 공급하는 동시에 상기 피가공물과 전극과의 간격에 생성된 전해생성물을 제거하면서 피가공물을 마무리 가공하는 전해가공장치에 있어서, 한쪽간격이 열리도록 전극에 배설한 구멍으로부터 전해생성물을 함유한 전해액을 흡인 회수하여 여과하는 전해액 여과장치와 상기 전해액 여과장치에서 여과한 전해액을 상기 전극에 설치한 공급구멍에서 상기 간격에 간헐적으로 분출하는 전해액 공급장치와 상기 전해액 공급장치에 의해 상기 간격에 분출한 전해액이 정지한 경우에 상기 피가공물과 전극간에 펄스를 공급하는 전원장치를 갖춘 전해가공장치.
2. 제1항에 있어서, 전해액 공급장치를 직열로 연결한 제1 및 제2의 실린더와 상기 제1의 실린더에 연결되어 상기 가공층내에 설치된 보조저류조측과 상기 제1의 실린더 측으로의 전해액의 역류를 저지하는 한쌍의 역지(逆止)밸브와 상기 제2의 실린더에 연결되어 그 제2의 실린더를 작동시킴으로써 상기 제1의 실린더를 작동시켜서 상기 간격에 전해액을 간결적으로 공급하는 콤프레서로 구성으로 된 것을 특징으로 하는 전해가공장치.
3. 제1항에 있어서, 전해액 공급장치가 상기 전해액 여과장치의 흡인 동작과 거의 동시에 전해액을 분출하는 것을 특징으로 하는 전해가공장치.
4. 제3항에 있어서, 전해액 공급장치가 상기 간격에 지향하여 배설한 분출노즐에서 전해액을 분출하는 것을 특징으로 하는 전해가공장치.
5. 내부에 전해액을 수용하고, 이 전해액중에서 피가공물과 전극을 소정의 간격에서 대설하고, 양자간에 펄스를 공급하는 동시에 상기 간격에 생성한 전해생성물을 제거하면서 마무리 가공하는 전해가공장치의 가공조에 있어, 상기 가공조내에 상기 간격에 공급하는 것으로써 전해생성물을 간헐적으로 제거하는 전해액을 일단 저류하는 전해액저류조를 설치한 것을 특징으로 하는 전해가공장치의 가공조.

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