KR20090010374A - Maskless exposure apparatus and method, and method for manufacturing flat display panel - Google Patents

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Abstract

A maskless exposure apparatus and method is provided to prevent interference between instruments by maintaining the focus distance extracted from the subdivided location. A spatial light modulator(120) reflects the light from the light source(110) to have a pattern. A beam expander extends the light coming out from spatial light modulator. A multi array lens(140) separates the light expanded from the beam expander(130) and condenses it. A projection lens(160) controls resolution condensed in the multi array lens of the lights and it to the objects(175). An actuator(150) operates Z-axis to controls the working distance between the objects and the projection lens firstly. An objects is put on the stage(170) and has a stage leveling motor(180) for controlling the working distance between the objects and the projection lens secondly.

Description

마스크리스 노광 장치와 방법, 및 평판 디스플레이 패널의 제조 방법 { Maskless exposure apparatus and method, and method for manufacturing flat display panel }Maskless exposure apparatus and method, and method for manufacturing flat display panel

본 발명은 정밀하게 포커스(Focus)를 설정할 수 있는 마스크리스 노광 장치와 방법, 및 평판 디스플레이 패널의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a maskless exposure apparatus and method capable of precisely setting focus, and to a method of manufacturing a flat panel display panel.

최근, 정보화 사회로 시대가 급발전함에 따라 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 갖는 평판 표시(Flat panel display) 패널의 필요성이 대두되었다.Recently, with the rapid development of the information society, the need for a flat panel display panel having excellent characteristics such as thinning, light weight, and low power consumption has emerged.

이러한 필요성에 의하여 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electroluminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등과 같은 화상 표시 패널이 개발되었다.Accordingly, image display panels such as liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDPs), electroluminescent displays (ELDs), and vacuum fluorescent displays (VFDs) have been developed.

이 중 액정표시(Liquid Crystal Display, LCD) 패널은 해상도, 컬러표시, 화질 등에서 우수하여 노트북이나 데스크탑 모니터에 활발하게 적용되고 있다.Among them, liquid crystal display (LCD) panels are excellent in resolution, color display, and image quality, and are being actively applied to notebooks and desktop monitors.

한편, 표시 패널은 소비자의 요구에 따라 대형화되면서 다양한 공정 설비가 개발되어지고 있으며, 신공법을 이용한 설비들이 개발되고 있다. On the other hand, as the display panel is enlarged according to consumer demand, various process facilities are being developed, and facilities using new construction methods are being developed.

특히, 노광 장비는 각 표시 패널에서 패턴을 형성하기 위한 핵심적인 장비이며, 조명장치의 광을 입사받아 포토마스크의 패턴을 투과하여 노광시킬 막에 결상시켜 노광시키는 기능을 수행한다.In particular, the exposure equipment is a core equipment for forming a pattern in each display panel, and performs the function of receiving light from an illumination device and imaging the film to be exposed by passing through the pattern of the photomask.

도 1은 일반적인 따른 노광 공정을 설명하기 위한 개략적인 단면도로서, 광원(10)에서 발산된 광이 포토마스크(20)의 패턴을 따라 기판(40) 상부의 감광막(30)에 조사되어, 상기 감광막(30)은 패턴 형상으로 노광된다.FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a general exposure process, in which light emitted from a light source 10 is irradiated onto a photoresist film 30 on an upper portion of a substrate 40 along a pattern of a photomask 20, and thus the photoresist film is exposed to light. 30 is exposed in a pattern shape.

이러한 종래의 노광 장치에서는 포커스를 조정하기 위해, 프로젝션 렌즈 전체를 상하로 움직이던지 아니면, 프로젝션 렌즈 중 포커스를 조정할 수 있는 특정 렌즈를 상하로 움직여 포커스를 조정하여, 매우 정밀한 프로젝션 렌즈들의 미세조정에 오류가 발생할 수 있고, 어레이된 복수개의 마스크리스 노광부들로 구성할 때 인접 노광부와 간섭이 발생하는 문제점이 있다.In such a conventional exposure apparatus, in order to adjust the focus, the entire projection lens is moved up or down, or a specific lens that can adjust the focus of the projection lens is moved up and down to adjust the focus, thereby making fine adjustment of the very precise projection lenses. May occur, and interference with an adjacent exposure part occurs when the plurality of maskless exposure parts are arrayed.

본 발명은 포커스(Focus) 설정시, 기구적으로 간섭되는 문제점을 해결하는 것이다.The present invention solves the problem of mechanical interference when setting the focus.

본 발명의 바람직한 제 1 양태(樣態)는, According to a first preferred embodiment of the present invention,

소정의 대상물이 올려져 있는 스테이지와; A stage on which a predetermined object is placed;

상기 대상물에 마스크없이 노광하는 마스크리스 노광부와; A maskless exposing portion for exposing the object without a mask;

상기 마스크리스 노광부의 포커스(Focus) 거리를 측정하는 포커스 거리 측정부와; A focus distance measuring unit measuring a focus distance of the maskless exposure unit;

상기 포커스 거리 측정부에서 측정된 포커스 거리가 저장되는 저장부와; A storage unit storing the focus distance measured by the focus distance measuring unit;

상기 저장부에 저장된 포커스 거리가 유지되도록, 상기 마스크리스 노광부 및 상기 스테이지를 이동시키기 위한 제어신호를 출력하는 제어부로 구성된 마스크리스 노광 장치가 제공된다.A maskless exposure apparatus including a maskless exposure unit and a control unit for outputting a control signal for moving the stage is provided so that the focus distance stored in the storage unit is maintained.

본 발명의 바람직한 제 2 양태(樣態)는, According to a second preferred embodiment of the present invention,

소정의 대상물에 마스크없이 노광하는 복수개의 마스크리스 노광부들과; A plurality of maskless exposure portions for exposing a predetermined object without a mask;

상기 마스크리스 노광부들과 대상물간의 작업 거리를 측정하기 위하여, 상기 복수개의 마스크리스 노광부들의 전방에 위치되어 있는 전방 자동 포커스(Auto Focus) 센서들과; Front auto focus sensors positioned in front of the plurality of maskless exposure parts to measure a working distance between the maskless exposure parts and an object;

상기 마스크리스 노광부들과 대상물간의 작업 거리를 측정하기 위하여, 상기 복수개의 마스크리스 노광부들의 후방에 위치되어 있는 후방 자동 포커스 센서로 구성된 마스크리스 노광 장치가 제공된다.In order to measure the working distance between the maskless exposure parts and the object, a maskless exposure device including a rear auto focus sensor positioned behind the plurality of maskless exposure parts is provided.

본 발명의 바람직한 제 3 양태(樣態)는,According to a third preferred embodiment of the present invention,

패턴을 갖는 광을 출사하는 공간 광 변조기(Spatial Light Modulator, SLM)와; A spatial light modulator (SLM) for emitting light having a pattern;

상기 공간 광 변조기에서 출사된 광을 확장시키는 빔 확장기(Beam Expander)와; A beam expander for expanding the light emitted from the spatial light modulator;

상기 빔 확장기에서 확장된 광을 복수개의 광들로 분리하여 집광시키는 멀티 어레이 렌즈(Multi Array Lens, MAL)와; A multi array lens (MAL) for separating and condensing the light extended by the beam expander into a plurality of lights;

상기 멀티 어레이 렌즈에서 집광된 광들의 해상도를 조정하여 대상물로 투과시키는 프로젝션 렌즈와;A projection lens for adjusting the resolution of the light condensed by the multi-array lens and transmitting it to an object;

상기 프로젝션 렌즈와 대상물 사이의 작업 거리(Working distance)를 1차로 조정하기 위하여, 상기 멀티 어레이 렌즈를 Z축으로 구동시키는 액츄에이터와; An actuator for driving the multi-array lens in Z-axis to primarily adjust a working distance between the projection lens and the object;

상기 대상물이 올려져 있고, 상기 프로젝션 렌즈와 대상물 사이의 작업 거리를 2차로 조정하기 위한 스테이지 레벨링 모터가 구비된 스테이지로 구성된 마스크리스 노광 장치가 제공된다.There is provided a maskless exposure apparatus comprising a stage on which the object is placed and which is equipped with a stage leveling motor for secondarily adjusting the working distance between the projection lens and the object.

본 발명의 바람직한 제 4 양태(樣態)는, According to a fourth preferred embodiment of the present invention,

멀티 어레이 렌즈를 구비하고 있는 마스크리스 노광부와 대상물간의 작업 거리를 측정하는 단계와;Measuring a working distance between a maskless exposure unit having a multi-array lens and an object;

상기 측정된 작업 거리가 기준 작업 거리 범위내에 있는지 여부를 판단하는 단계와;Determining whether the measured working distance is within a reference working distance range;

상기 측정된 작업 거리가 기준 작업 거리 범위내에 있지 않으면, 상기 마스 크리스 노광부의 멀티 어레이 렌즈만 이동시켜 포커스(Focus)를 조정하여 상기 마스크리스 노광부로 상기 대상물에 노광하는 단계로 구성된 마스크리스 노광 방법이 제공된다.When the measured working distance is not within the reference working distance range, the maskless exposure method includes exposing the object to the object with the maskless exposure unit by adjusting a focus by moving only the multi-array lens of the Mascris exposure unit. Is provided.

본 발명의 바람직한 제 5 양태(樣態)는,According to a fifth preferred embodiment of the present invention,

마스크리스 노광부들 하부에 노광할 대상물을 올려놓을 수 있는 스테이지를 위치시키는 단계; Positioning a stage on which the object to be exposed is placed under the maskless exposure parts;

상기 마스크리스 노광부들로 스테이지를 스캔하는 단계; Scanning a stage with the maskless exposure portions;

상기 마스크리스 노광부들 각각이 스캔한 스테이지의 궤적을 복수개의 위치들로 세분화하고, 이 세분화된 복수개의 위치들에서 마스크리스 노광부들 각각의 포커스(Focus) 거리를 추출하는 단계와; Subdividing the trajectory of the stage scanned by each of the maskless exposure units into a plurality of positions, and extracting a focus distance of each of the maskless exposure units at the plurality of divided positions;

상기 스테이지에 노광할 대상물을 올려놓는 단계와; Placing an object to be exposed on the stage;

상기 세분화된 복수개의 위치들에서 추출된 포커스 거리를 유지하며, 상기 마스크리스 노광부들로 상기 대상물을 노광하는 단계로 구성된 마스크리스 노광 방법이 제공된다.A maskless exposure method is provided, which maintains a focus distance extracted at the plurality of subdivided positions, and exposes the object with the maskless exposure units.

본 발명의 바람직한 제 6 양태(樣態)는,According to a sixth preferred aspect of the present invention,

마스크리스 노광부로 대상물에 노광 패턴을 형성하기 위한 노광 공정이 구비된 평판 디스플레이 패널의 제조 방법에 있어서, In the manufacturing method of the flat panel display panel provided with the exposure process for forming an exposure pattern in a target object by a maskless exposure part,

상기 노광 공정은, The exposure step,

상기 마스크리스 노광부와 대상물간의 작업 거리를 측정하고, 상기 측정된 작업 거리가 기준 작업 거리 범위내에 있지 않으면, 상기 마스크리스 노광부의 멀티 어레이 렌즈만 이동시켜 포커스(Focus)를 조정하는 공정 또는, Measuring a working distance between the maskless exposure unit and an object and adjusting the focus by moving only the multi-array lens of the maskless exposure unit if the measured working distance is not within a reference working distance range;

상기 마스크리스 노광부로 스테이지를 스캔하고, 그 스캔 궤적의 세분화된 위치들에서 마스크리스 노광부의 포커스 거리를 추출하고, 상기 세분화된 위치에서 추출된 포커스 거리를 유지하며 노광하는 공정을 포함하고 있는 것을 특징으로 평판 디스플레이 패널의 제조 방법이 제공된다.Scanning the stage with the maskless exposure unit, extracting the focus distance of the maskless exposure unit at the subdivided positions of the scan trajectory, and maintaining the focal length extracted at the subdivided position and exposing the stage; There is provided a method of manufacturing a flat panel display panel.

본 발명은 마스크리스 노광부와 대상물간의 측정된 작업 거리(Working distance)가 기준 작업 거리 범위내에 있지 않으면, 멀티 어레이 렌즈만 이동시켜 포커스(Focus)를 조정함으로써, 정밀하게 포커스를 설정할 수 있는 효과가 있다. According to the present invention, if the measured working distance between the maskless exposure unit and the object is not within the reference working distance range, only the multi-array lens is moved to adjust the focus, so that the focus can be precisely set. have.

또한, 본 발명은 마스크리스 노광부로 스캔한 스테이지의 궤적을 세분화하고, 세분화된 위치들에서 마스크리스 노광부의 포커스 거리를 추출하고, 상기 세분화된 위치에서 추출된 포커스 거리를 유지하면서 노광함으로써, 복수개의 마스크리스 노광부들이 어레이되어도 기구적인 간섭을 방지하면서 포커스를 설정할 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention further subdivides the trajectories of the stages scanned by the maskless exposure unit, extracts the focus distance of the maskless exposure unit at the subdivided positions, and exposes the plurality of traces while maintaining the extracted focus distance at the subdivided positions. Even if the maskless exposure parts are arrayed, there is an effect of setting the focus while preventing mechanical interference.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하면 다음 과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 마스크리스(Maskless) 노광 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면으로서, 광을 출사하는 광원(110)과; 상기 광원(110)에서 출사된 광을 패턴을 갖는 광으로 반사시키는 공간 광 변조기(Spatial Light Modulator, SLM)(120)와; 상기 공간 광 변조기(120)에서 출사된 광을 확장시키는 빔 확장기(Beam Expander)(130)와; 상기 빔 확장기(130)에서 확장된 광을 복수개의 광들로 분리하여 집광시키도록, 복수개의 렌즈들이 어레이된 멀티 어레이 렌즈(Multi Array Lens, MAL)(140)와; 상기 멀티 어레이 렌즈(140)에서 집광된 광들의 해상도를 조정하여 대상물(175)로 투과시키는 프로젝션 렌즈(160)와; 상기 프로젝션 렌즈(160)와 대상물(175) 사이의 작업 거리(Working distance,WD)를 1차로 조정하기 위하여, 상기 멀티 어레이 렌즈(140)를 Z축으로 구동시키는 액츄에이터(150)와; 상기 대상물이 올려져 있고, 상기 프로젝션 렌즈(160)와 대상물(175) 사이의 작업 거리(Working distance)를 2차로 조정하기 위한 스테이지 레벨링 모터(180)가 구비된 스테이지(170)로 구성된다.FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of a maskless exposure apparatus according to the first embodiment of the present invention, comprising: a light source 110 for emitting light; A spatial light modulator (SLM) 120 for reflecting light emitted from the light source 110 into light having a pattern; A beam expander (130) for expanding the light emitted from the spatial light modulator (120); A multi array lens (MAL) 140 in which a plurality of lenses are arrayed so as to separate and condense the light extended by the beam expander 130 into a plurality of lights; A projection lens (160) for adjusting the resolution of the light collected by the multi-array lens (140) to transmit it to the object (175); An actuator (150) for driving the multi-array lens (140) in the Z axis to primarily adjust the working distance (WD) between the projection lens 160 and the object 175; The object is mounted, and the stage 170 is provided with a stage leveling motor 180 to adjust the working distance between the projection lens 160 and the object 175 secondly.

여기서, 상기 프로젝션 렌즈(160)와 대상물(175)간의 작업 거리를 측정하는 자동 포커스(Auto Focus) 센서가 더 구비된 것이 바람직하다.Here, it is preferable that an auto focus sensor is further provided to measure the working distance between the projection lens 160 and the object 175.

즉, 상기 자동 포커스 센서는 작업 거리가 초점심도(Depth Of Focus)내에 위치하는 가를 센싱한다.That is, the automatic focus sensor senses whether the working distance is located within a depth of focus.

상기 자동 포커스 센서는 레이저, 적외선, 초음파 등으로 작업 거리를 측정할 수 있고, CCD를 이용한 비젼(Vision)으로 작업 거리를 측정할 수 있다.The automatic focus sensor may measure a working distance with a laser, an infrared ray, or an ultrasonic wave, and may measure the working distance with a vision using a CCD.

도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 마스크리스 노광 방법의 플로우챠트로서, 먼저, 멀티 어레이 렌즈를 구비하고 있는 마스크리스 노광부와 대상물간의 작업 거리를 측정한다.(S10단계)3 is a flowchart of a maskless exposure method according to a first embodiment of the present invention. First, a working distance between a maskless exposure unit having a multi-array lens and an object is measured (step S10).

그 후, 상기 측정된 작업 거리가 기준 작업 거리 범위내에 있는지 여부를 판단한다.(S20단계)Thereafter, it is determined whether the measured working distance is within a reference working distance range (step S20).

이어서, 상기 측정된 작업 거리가 기준 작업 거리 범위내에 있지 않으면, 상기 마스크리스 노광부의 멀티 어레이 렌즈만 이동시켜 포커스(Focus)를 조정한다.(S30단계)Subsequently, if the measured working distance is not within the reference working distance range, only the multi-array lens of the maskless exposure unit is moved to adjust the focus (step S30).

계속하여, 상기 측정된 작업 거리가 기준 작업 거리 범위내에 있으면, 상기 마스크리스 노광부로 상기 대상물에 노광한다.(S40단계)Subsequently, if the measured working distance is within a reference working distance range, the maskless exposure unit is exposed to the object.

도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 마스크리스 노광 장치에서 포커스를 조정하는 방법을 설명하기 위한 개략적인 도면으로서, 본 발명은 빔 확장기와 프로젝션 렌즈는 고정시키고, 멀티 어레이 렌즈를 Z축으로 이동시키는 액츄에이터를 구동시켜 마스크리스 노광부의 포커스를 조정한다.FIG. 4 is a schematic view illustrating a method of adjusting focus in a maskless exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention. The present invention provides a method of fixing a beam expander and a projection lens, and a multi-array lens in Z-axis. The actuator to be moved is driven to adjust the focus of the maskless exposure portion.

이때, 상기 멀티 어레이 렌즈는 나노(Nano)급으로 움직여야 하기 때문에, 피에조(Piezo) 엑츄에이터 또는 보이스 코일 모터(Voice Coil Motor)와 같은 정밀한 엑츄에이터를 사용한다.In this case, since the multi-array lens needs to move to a nano class, a precision actuator such as a piezo actuator or a voice coil motor is used.

한편, 기존의 노광 장치에서는 포커스를 조정하기 위해, 프로젝션 렌즈 전체를 상하로 움직이던지 아니면, 프로젝션 렌즈 중 포커스를 조정할 수 있는 특정 렌 즈를 상하로 움직여 포커스를 조정하여, 매우 정밀한 프로젝션 렌즈들의 미세조정에 오류가 발생할 수 있고, 어레이된 복수개의 마스크리스 노광부들로 구성할 때 인접 노광부와 간섭이 발생하는 단점이 있다.On the other hand, in the conventional exposure apparatus, in order to adjust the focus, the entire projection lens is moved up or down, or a specific lens that can adjust the focus of the projection lens is moved up and down to adjust the focus, and fine adjustment of the very precise projection lenses is performed. Error may occur, and interference with an adjacent exposure part occurs when the plurality of maskless exposure parts are arrayed.

그러므로, 본 발명은 멀티 어레이 렌즈를 Z축으로 이동시켜 포커스를 조정함으로써, 복수개의 마스크리스 노광부들이 어레이되어도 기구적인 간섭을 방지할 수 있는 장점이 있는 것이다.Therefore, the present invention is advantageous in that mechanical interference can be prevented even when a plurality of maskless exposure units are arrayed by adjusting the focus by moving the multi-array lens to the Z axis.

도 5a와 5b는 본 발명의 제 1 실시예에 따라 멀티 어레이 렌즈의 이동으로 포커스가 변경되는 것을 설명하기 위한 도면으로서, 도 5a와 같이, 멀티 어레이 렌즈(140)의 포커스가 'A'선상에 있을 때, 도 5b와 같이, 멀티 어레이 렌즈(140)를 Z축 방향으로 하강시키면, 포커스는 'A'선상보다 낮은 'B'선상에 위치하게 된다.5A and 5B are diagrams for explaining that the focus is changed due to the movement of the multi-array lens according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5A, the focus of the multi-array lens 140 is on the 'A' line. 5B, when the multi-array lens 140 is lowered in the Z-axis direction, the focus is positioned on the 'B' line lower than the 'A' line.

그러므로, 상기 멀티 어레이 렌즈(140)를 Z축 방향으로 상하 움직이면, 포커스가 변경되는 것이다.Therefore, when the multi-array lens 140 moves up and down in the Z-axis direction, the focus is changed.

도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 따라 마스크리스 노광부가 스캔함에 따라 대상물의 다른 표면 상태를 설명하기 위한 도면으로서, 마스크리스 노광부는 프로젝션 렌즈(161)를 구비하고 있다.FIG. 6 is a view for explaining another surface state of an object as the maskless exposure unit scans according to the first embodiment of the present invention, and the maskless exposure unit includes a projection lens 161.

이 마스크리스 노광부가 스캔하기 전(前)인 초기 상태에, 대상물의 작업 표면(Work Surface)은 프로젝션 렌즈(161)의 Z축 스트로크(Stroke) 범위내에 존재하지만, 스캔 후반부로 가면 대상물의 작업 표면은 프로젝션 렌즈(161)의 Z축 스트로 크 범위 밖에 존재하게 된다.In the initial state before the maskless exposure portion is scanned, the work surface of the object exists within the Z-axis stroke of the projection lens 161, but if it goes to the second half of the scan, the work surface of the object Is outside the Z-axis stroke range of the projection lens 161.

이와 같은 경우, 멀티 어레이 렌즈를 Z축으로 구동시키는 액츄에이터인 멀티 어레이 렌즈(MLA) 스테이지(151)만으로는 포커스를 설정할 수 없으므로, 프로젝션 렌즈(161)의 Z축 스트로크 내에 작업 표면을 세팅하기 위해서는 스테이지에 장착된 스테이지 레벨링 모터의 구동이 필요하다.In such a case, the focus cannot be set only by the multi-array lens (MLA) stage 151, which is an actuator for driving the multi-array lens in the Z-axis. Therefore, in order to set the work surface in the Z-axis stroke of the projection lens 161, The drive of the mounted stage leveling motor is required.

그러므로, 자동 포커스(Auto Focus)를 설정하기 위하여, 멀티 어레이 렌즈 스테이지(151)는 마이크로(Micro) 구동을 수행하고, 스테이지 레벨링 모터는 매크로(Macro) 구동을 수행한다. Therefore, in order to set auto focus, the multi-array lens stage 151 performs micro driving, and the stage leveling motor performs macro driving.

결국, 도 7에 도시된 바와 같이, 스테이지(170)에는 3개의 스테이지 레벨링 모터가 장착되어 있고, 3개의 스테이지 레벨링 모터로 평면을 제어한다.As a result, as shown in FIG. 7, the stage 170 is equipped with three stage leveling motors, and the three stage leveling motors control the plane.

참고로, 도 7에는 2개의 스테이지 레벨링 모터(181,182)가 도시되어 있다.For reference, two stage leveling motors 181, 182 are shown in FIG. 7.

도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 마스크리스(Maskless) 노광 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면으로서, 소정의 대상물에 마스크없이 노광하는 복수개의 마스크리스 노광부들(100)과; 상기 마스크리스 노광부들(100)과 대상물간의 작업 거리를 측정하기 위하여, 상기 복수개의 마스크리스 노광부들(100)의 전방에 위치되어 있는 전방 자동 포커스(Auto Focus) 센서들(200)과; 상기 마스크리스 노광부들(100)과 대상물간의 작업 거리를 측정하기 위하여, 상기 복수개의 마스크리스 노광부들(100)의 후방에 위치되어 있는 후방 자동 포커스 센서(300)로 구성된다. FIG. 8 is a diagram showing a schematic configuration of a maskless exposure apparatus according to a second embodiment of the present invention, comprising: a plurality of maskless exposure portions 100 for exposing a predetermined object without a mask; Front auto focus sensors 200 positioned in front of the plurality of maskless exposure parts 100 to measure a working distance between the maskless exposure parts 100 and an object; In order to measure a working distance between the maskless exposure parts 100 and the object, the maskless exposure parts 100 are configured by a rear auto focus sensor 300 positioned behind the plurality of maskless exposure parts 100.

여기서, 상기 대상물은 스테이지에 올려져 있고, 상기 마스크리스 노광부 들(100)과 대상물 사이의 작업 거리(Working distance)를 조정하기 위한 스테이지 레벨링 모터가 상기 스테이지에 구비되어 있다.Here, the object is mounted on the stage, and the stage leveling motor for adjusting the working distance between the maskless exposure parts 100 and the object is provided in the stage.

그리고, 상기 전방 자동 포커스 센서들(200)은 상기 마스크리스 노광부들(100)의 Z축 변위와 스테이지 레벨링 모터로 구동되는 참조(Reference) 평면을 동시에 측정하도록, 적어도 3개 이상으로 구성한다.In addition, the front auto focus sensors 200 may be configured to at least three so as to simultaneously measure Z-axis displacements of the maskless exposure units 100 and reference planes driven by a stage leveling motor.

또한, 상기 후방 자동 포커스 센서(300)는 상기 전방 자동 포커스 센서들(200)로 사용할 경우 전방을 기준으로 스테이지 레벨링 모터가 구동되기 때문에, 후방 자동 포커스 센서(300) 위치에서 프로젝션 렌즈들 기준으로 작업 거리(Working distance)가 초점심도(Depth Of Focus)를 벗어날 수 있으므로, 이를 방지하기 위한 모니터링용으로 사용된다.In addition, when the rear autofocus sensor 300 is used as the front autofocus sensors 200, since the stage leveling motor is driven based on the front side, the rear autofocus sensor 300 works based on the projection lenses at the rear autofocus sensor 300 position. The working distance can be out of the depth of focus, so it is used for monitoring to prevent this.

도 9는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 마스크리스(Maskless) 노광 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면으로서, 소정의 대상물(175)이 올려져 있는 스테이지(170)와; 상기 대상물(175)에 마스크없이 노광하는 마스크리스 노광부(100)와; 상기 마스크리스 노광부(100)의 포커스(Focus) 거리를 측정하는 포커스 거리 측정부(210)와; 상기 포커스 거리 측정부(210)에서 측정된 포커스 거리가 저장되는 저장부(220)와; 상기 저장부(220)에 저장된 포커스 거리가 유지되도록, 상기 마스크리스 노광부(100) 및 상기 스테이지(170)를 이동시키기 위한 제어신호를 출력하는 제어부(230)로 구성된다.9 is a diagram showing a schematic configuration of a maskless exposure apparatus according to a third embodiment of the present invention, comprising: a stage 170 on which a predetermined object 175 is placed; A maskless exposure unit 100 for exposing the object 175 without a mask; A focus distance measuring unit 210 measuring a focus distance of the maskless exposure unit 100; A storage unit 220 storing the focus distance measured by the focus distance measuring unit 210; The control unit 230 outputs a control signal for moving the maskless exposure unit 100 and the stage 170 so that the focus distance stored in the storage unit 220 is maintained.

여기서, 상기 포커스 거리는 상기 마스크리스 노광부(100)가 상기 대상 물(175)에 최적의 포커스가 형성될 수 있는 거리를 말한다.Here, the focus distance refers to a distance at which the maskless exposure unit 100 can form an optimal focus on the object 175.

이렇게 구성된 본 발명의 제 3 실시예에 따른 마스크리스 노광 장치는 상기 포커스 거리 측정부(210)에서 상기 마스크리스 노광부(100)의 포커스 거리를 측정하고, 이 측정된 포커스 거리는 상기 저장부(220)에 저장되고, 상기 저장부(220)에 저장된 포커스 거리가 상기 마스크리스 노광부(100)와 대상물(175) 사이에 유지될 수 있도록, 상기 제어부(230)는 제어신호를 출력하여 상기 마스크리스 노광부(100) 및 상기 스테이지(170)를 이동시켜 포커스를 맞추는 것이다.The maskless exposure apparatus according to the third embodiment of the present invention configured as described above measures the focus distance of the maskless exposure unit 100 in the focus distance measuring unit 210, and the measured focus distance is the storage unit 220. ) And the control unit 230 outputs a control signal to maintain the focus distance stored in the storage unit 220 between the maskless exposure unit 100 and the object 175. The exposure unit 100 and the stage 170 are moved to focus.

도 10은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 마스크리스(Maskless) 노광 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면으로서, 도 9에 도시된 포커스 거리 측정부(210)는 마스크리스 노광부들 각각이 스캔한 스테이지의 궤적을 복수개의 위치들로 세분화하고, 이 세분화된 복수개의 위치들 각각에서 포커스 거리를 측정하는 위치 매핑(Position mapping) 센서(310)가 바람직하다.FIG. 10 is a diagram illustrating a schematic configuration of a maskless exposure apparatus according to a third embodiment of the present invention. The focal length measurement unit 210 illustrated in FIG. 9 is scanned by each of the maskless exposure units. A position mapping sensor 310 for subdividing the trajectory of the stage into a plurality of positions and measuring a focus distance at each of the plurality of subdivided positions is preferable.

이 위치 매핑 센서(310)는 전술된 전방 자동 포커스(Auto Focus) 센서들 중 하나로 구현할 수도 있다.The position mapping sensor 310 may be implemented as one of the above-described front auto focus sensors.

그러므로, 스캔된 스테이지의 궤적이 세분화된 복수개의 위치들 각각에서 측정된 포커스 거리는 하기의 표에 나타내어 있다.Therefore, the focal lengths measured at each of the plurality of positions where the trajectory of the scanned stage is subdivided are shown in the table below.

이때, 각각의 마스크리스 노광부들은 프로젝션 렌즈를 구비하고 있으므로, 도 10 및 하기 표는 마스크리스 노광부들을 프로젝션 렌즈로 도시 및 표기한다.In this case, since each maskless exposure part includes a projection lens, FIGS. 10 and the following table show and mark the maskless exposure parts as a projection lens.

따라서, 각 프로젝션 렌즈들(Lens1~Lens5) 각각에서 스캔한 스테이지의 세분 화된 궤적의 위치(P1~P5) 각각에 포커스 거리가 측정되어 테이블로 만들어져 있다.Therefore, a focal length is measured at each of the positions P1 to P5 of the subdivided trajectories of the stages scanned by each of the projection lenses Lens1 to Lens5 to form a table.

즉, 제 1 프로젝션 렌즈(Lens1)의 'P1' 위치의 포커스 거리는 'LP1-1'이고, 제 2 프로젝션 렌즈(Lens2)의 'P2' 위치의 포커스 거리는 'LP2-2'이다.That is, the focal length at the position 'P1' of the first projection lens Lens1 is 'LP1-1' and the focal length at the position 'P2' of the second projection lens Lens2 is 'LP2-2'.

Lens1Lens1 Lens2Lens2 Lens3Lens3 Lens4Lens4 Lens5Lens5 P1P1 LP1-1LP1-1 LP2-1LP2-1 LP3-1LP3-1 LP4-1LP4-1 LP5-1LP5-1 P2P2 LP1-2LP1-2 LP2-2LP2-2 LP3-2LP3-2 LP4-2LP4-2 LP5-2LP5-2 P3P3 LP1-3LP1-3 LP2-3LP2-3 LP3-3LP3-3 LP4-3LP4-3 LP5-3LP5-3 P4P4 LP1-4LP1-4 LP2-4LP2-4 LP3-4LP3-4 LP4-4LP4-4 LP5-4LP5-4 P5P5 LP1-5LP1-5 LP2-5LP2-5 LP3-5LP3-5 LP4-5LP4-5 LP5-5LP5-5 . . .. . . . . .. . . . . .. . . . . .. . . . . .. . . . . .. . .

도 11은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 마스크리스 노광 방법의 플로우챠트로서, 먼저, 마스크리스 노광부들 하부에 노광할 대상물을 올려놓을 수 있는 스테이지를 위치시킨다.(S110단계)FIG. 11 is a flowchart of a maskless exposure method according to a third embodiment of the present invention. First, a stage in which an object to be exposed is placed is positioned below the maskless exposure units (step S110).

그 다음, 상기 마스크리스 노광부들로 스테이지를 스캔한다.(S120단계)Next, the stage is scanned with the maskless exposure units (step S120).

이후, 상기 마스크리스 노광부들 각각이 스캔한 스테이지의 궤적을 복수개의 위치들로 세분화하고, 이 세분화된 복수개의 위치들에서 마스크리스 노광부들 각각의 최적 포커스 거리를 추출한다.(S130단계)Thereafter, the trajectory of the stage scanned by each of the maskless exposure units is subdivided into a plurality of positions, and the optimum focus distance of each of the maskless exposure units is extracted at the plurality of divided positions (step S130).

계속, 상기 스테이지에 노광할 대상물을 올려놓는다.(S140단계)Subsequently, an object to be exposed is placed on the stage (step S140).

그 후, 상기 세분화된 복수개의 위치들에서 추출된 최적 포커스 거리를 유지하며, 상기 마스크리스 노광부들로 상기 대상물을 노광한다.(S150단계)Thereafter, the optimum focus distance extracted at the plurality of subdivided positions is maintained, and the object is exposed by the maskless exposure units (S150).

상기 대상물은 스테이지 레벨링 모터들이 구비된 스테이지 상부에 올려져 있으며, 상기 추출된 최적 포커스 거리를 유지하며, 상기 마스크리스 노광부들로 상 기 대상물을 노광하는 단계는 상기 스테이지 레벨링 모터들을 구동시켜 상기 추출된 최적 포커스 거리를 유지하면서, 상기 마스크리스 노광들로 상기 대상물에 노광하는 단계인 것이 바람직하다.The object is mounted on a stage provided with stage leveling motors, and maintains the extracted optimal focus distance, and exposing the object with the maskless exposure parts by driving the stage leveling motors. Preferably, the maskless exposures are performed on the object while maintaining an optimum focus distance.

도 12는 본 발명의 제 3 실시예에 따라 마스크리스 노광 장치의 포커스를 조정하는 것을 설명하기 위한 도면으로서, 전술된 바와 같이, 추출된 포커스 거리를 유지하기 위하여, 마스크리스 노광부의 조정은 멀티 어레이 렌즈를 Z축으로 구동시키는 액츄에이터인 멀티 어레이 렌즈(MLA) 스테이지(151)만으로 마이크로(Micro) 구동하고, 대상물이 올려져 있는 스테이지(170)에 구비된 스테이지 레벨링 모터(181,182,183)로 매크로(Macro) 구동하여 수행한다.12 is a view for explaining adjusting the focus of the maskless exposure apparatus according to the third embodiment of the present invention. Micro-drives only the multi-array lens (MLA) stage 151, which is an actuator for driving the lens in the Z-axis, and macros with the stage leveling motors 181, 182, and 183 provided in the stage 170 on which the object is placed. Run by it.

즉, 마스크리스 노광부는 광을 출사하는 광원과; 상기 광원에서 출사된 광을 패턴을 갖는 광으로 반사시키는 공간 광 변조기(Spatial Light Modulator, SLM)와; 상기 공간 광 변조기에서 출사된 광을 확장시키는 빔 확장기(Beam Expander)와; 상기 빔 확장기에서 확장된 광을 복수개의 광들로 분리하여 집광시키도록, 복수개의 렌즈들이 어레이된 멀티 어레이 렌즈(Multi Array Lens, MAL)와; 상기 멀티 어레이 렌즈에서 집광된 광들의 해상도를 조정하여 대상물로 투과시키는 프로젝션 렌즈로 구성된다.That is, the maskless exposure unit includes a light source for emitting light; A spatial light modulator (SLM) for reflecting light emitted from the light source into light having a pattern; A beam expander for expanding the light emitted from the spatial light modulator; A multi array lens (MAL) in which a plurality of lenses are arranged to separate and condense the light extended by the beam expander into a plurality of lights; It is composed of a projection lens for adjusting the resolution of the light collected from the multi-array lens to transmit to the object.

상술된 바와 같은, 본 발명의 마스크리스 노광 방법은 평판 디스플레이 패널을 제조하는 공정 중에 수행하게 된다.As described above, the maskless exposure method of the present invention is performed during the process of manufacturing a flat panel display panel.

그러므로, 마스크리스 노광부로 대상물에 노광 패턴을 형성하기 위한 노광 공정이 구비된 평판 디스플레이 패널의 제조 방법에 있어서, 상기 노광 공정은, 상기 마스크리스 노광부와 대상물간의 작업 거리를 측정하고, 상기 측정된 작업 거리가 기준 작업 거리 범위내에 있지 않으면, 상기 마스크리스 노광부의 멀티 어레이 렌즈만 이동시켜 포커스(Focus)를 조정하는 공정 또는, 상기 마스크리스 노광부로 스테이지를 스캔하고, 그 스캔 궤적의 세분화된 위치들에서 마스크리스 노광부의 포커스 거리를 추출하고, 상기 세분화된 위치에서 추출된 포커스 거리를 유지하며 노광하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.Therefore, in the manufacturing method of the flat panel display panel provided with the exposure process for forming an exposure pattern in an object with a maskless exposure part, the said exposure process measures the working distance between the said maskless exposure part and an object, If the working distance is not within the reference working distance range, a process of adjusting the focus by moving only the multi-array lens of the maskless exposure unit, or scanning the stage with the maskless exposure unit, and subdividing positions of the scan trajectory And extracting a focus distance of the maskless exposure part and maintaining the extracted focus distance at the subdivided position.

이와 같이, 액정 디스플레이 패널과 플라즈마 디스플레이 패널 등을 포함하는 평판 디스플레이 패널에서 수행되는 노광 공정은 본 발명의 마스크리스 노광 장치 및 방법에 수행할 수 있는 것이다.As such, the exposure process performed on the flat panel display panel including the liquid crystal display panel and the plasma display panel can be performed on the maskless exposure apparatus and method of the present invention.

본 발명은 구체적인 예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the invention has been described in detail only with respect to specific examples, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the spirit of the invention, and such modifications and variations belong to the appended claims.

도 1은 일반적인 따른 노광 공정을 설명하기 위한 개략적인 단면도1 is a schematic cross-sectional view for explaining the exposure process according to the general

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 마스크리스(Maskless) 노광 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면FIG. 2 shows a schematic configuration of a maskless exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 마스크리스 노광 방법의 플로우챠트3 is a flowchart of a maskless exposure method according to a first embodiment of the present invention;

도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 마스크리스 노광 장치에서 포커스를 조정하는 방법을 설명하기 위한 개략적인 도면4 is a schematic view for explaining a method of adjusting focus in a maskless exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention;

도 5a와 5b는 본 발명의 제 1 실시예에 따라 멀티 어레이 렌즈의 이동으로 포커스가 변경되는 것을 설명하기 위한 도면5A and 5B are views for explaining that the focus is changed by the movement of the multi-array lens according to the first embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 따라 마스크리스 노광부가 스캔함에 따라 대상물의 다른 표면 상태를 설명하기 위한 도면6 is a view for explaining another surface state of an object as the maskless exposure unit scans according to the first embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명에 따른 마스크리스(Maskless) 노광 장치의 스테이지를 도시한 사시도7 is a perspective view showing a stage of a maskless exposure apparatus according to the present invention.

도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 마스크리스(Maskless) 노광 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면8 is a diagram showing a schematic configuration of a maskless exposure apparatus according to a second embodiment of the present invention.

도 9는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 마스크리스(Maskless) 노광 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면9 is a diagram showing a schematic configuration of a maskless exposure apparatus according to a third embodiment of the present invention.

도 10은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 마스크리스(Maskless) 노광 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면FIG. 10 is a diagram showing a schematic configuration of a maskless exposure apparatus according to a third embodiment of the present invention.

도 11은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 마스크리스 노광 방법의 플로우챠트11 is a flowchart of a maskless exposure method according to a third embodiment of the present invention.

도 12는 본 발명의 제 3 실시예에 따라 마스크리스 노광 장치의 포커스를 조정하는 것을 설명하기 위한 도면12 is a diagram for explaining adjusting a focus of a maskless exposure apparatus according to a third embodiment of the present invention.

Claims (11)

소정의 대상물이 올려져 있는 스테이지와; A stage on which a predetermined object is placed; 상기 대상물에 마스크없이 노광하는 마스크리스 노광부와; A maskless exposing portion for exposing the object without a mask; 상기 마스크리스 노광부의 포커스(Focus) 거리를 측정하는 포커스 거리 측정부와; A focus distance measuring unit measuring a focus distance of the maskless exposure unit; 상기 포커스 거리 측정부에서 측정된 포커스 거리가 저장되는 저장부와; A storage unit storing the focus distance measured by the focus distance measuring unit; 상기 저장부에 저장된 포커스 거리가 유지되도록, 상기 마스크리스 노광부 및 상기 스테이지를 이동시키기 위한 제어신호를 출력하는 제어부로 구성된 마스크리스 노광 장치.And a control unit for outputting a control signal for moving the maskless exposure unit and the stage such that the focus distance stored in the storage unit is maintained. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 포커스 거리 측정부는,The focus distance measuring unit, 상기 마스크리스 노광부들 각각이 스캔한 스테이지의 궤적을 복수개의 위치들로 세분화하고, 이 세분화된 복수개의 위치들 각각에서 포커스 거리를 측정하는 위치 매핑(Position mapping) 센서인 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광 장치.Each of the maskless exposure units is a position mapping sensor for dividing the trajectory of the scanned stage into a plurality of positions and measuring a focus distance at each of the plurality of divided positions. Device. 소정의 대상물에 마스크없이 노광하는 복수개의 마스크리스 노광부들과; A plurality of maskless exposure portions for exposing a predetermined object without a mask; 상기 마스크리스 노광부들과 대상물간의 작업 거리를 측정하기 위하여, 상기 복수개의 마스크리스 노광부들의 전방에 위치되어 있는 전방 자동 포커스(Auto Focus) 센서들과; Front auto focus sensors positioned in front of the plurality of maskless exposure parts to measure a working distance between the maskless exposure parts and an object; 상기 마스크리스 노광부들과 대상물간의 작업 거리를 측정하기 위하여, 상기 복수개의 마스크리스 노광부들의 후방에 위치되어 있는 후방 자동 포커스 센서로 구성된 마스크리스 노광 장치.And a rear autofocus sensor positioned behind the plurality of maskless exposure parts to measure a working distance between the maskless exposure parts and an object. 청구항 3에 있어서, The method according to claim 3, 상기 대상물은 스테이지에 올려져 있고, 상기 마스크리스 노광부들과 대상물 사이의 작업 거리(Working distance)를 조정하기 위한 스테이지 레벨링 모터가 상기 스테이지에 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광 장치.And the object is mounted on a stage, and the stage is provided with a stage leveling motor for adjusting a working distance between the maskless exposure parts and the object. 청구항 3에 있어서, The method according to claim 3, 상기 전방 자동 포커스 센서들은,The front auto focus sensors, 적어도 3개 이상인 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광 장치.At least three or more maskless exposure apparatus characterized by the above-mentioned. 패턴을 갖는 광을 출사하는 공간 광 변조기(Spatial Light Modulator, SLM) 와; A spatial light modulator (SLM) for emitting light having a pattern; 상기 공간 광 변조기에서 출사된 광을 확장시키는 빔 확장기(Beam Expander)와; A beam expander for expanding the light emitted from the spatial light modulator; 상기 빔 확장기에서 확장된 광을 복수개의 광들로 분리하여 집광시키는 멀티 어레이 렌즈(Multi Array Lens, MAL)와; A multi array lens (MAL) for separating and condensing the light extended by the beam expander into a plurality of lights; 상기 멀티 어레이 렌즈에서 집광된 광들의 해상도를 조정하여 대상물로 투과시키는 프로젝션 렌즈와;A projection lens for adjusting the resolution of the light condensed by the multi-array lens and transmitting it to an object; 상기 프로젝션 렌즈와 대상물 사이의 작업 거리(Working distance)를 1차로 조정하기 위하여, 상기 멀티 어레이 렌즈를 Z축으로 구동시키는 액츄에이터와; An actuator for driving the multi-array lens in Z-axis to primarily adjust a working distance between the projection lens and the object; 상기 대상물이 올려져 있고, 상기 프로젝션 렌즈와 대상물 사이의 작업 거리를 2차로 조정하기 위한 스테이지 레벨링 모터가 구비된 스테이지로 구성된 마스크리스 노광 장치.And a stage equipped with a stage leveling motor for secondly adjusting a working distance between the projection lens and the object. 청구항 6에 있어서, The method according to claim 6, 상기 프로젝션 렌즈와 대상물간의 작업 거리를 측정하는 자동 포커스(Auto Focus) 센서가 더 구비된 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광 장치.And an auto focus sensor for measuring a working distance between the projection lens and the object. 멀티 어레이 렌즈를 구비하고 있는 마스크리스 노광부와 대상물간의 작업 거 리를 측정하는 단계와;Measuring the working distance between the maskless exposure unit and the object having the multi-array lens; 상기 측정된 작업 거리가 기준 작업 거리 범위내에 있는지 여부를 판단하는 단계와;Determining whether the measured working distance is within a reference working distance range; 상기 측정된 작업 거리가 기준 작업 거리 범위내에 있지 않으면, 상기 마스크리스 노광부의 멀티 어레이 렌즈만 이동시켜 포커스(Focus)를 조정하여 상기 마스크리스 노광부로 상기 대상물에 노광하는 단계로 구성된 마스크리스 노광 방법.And if the measured working distance is not within a reference working distance, moving only the multi-array lens of the maskless exposure unit to adjust the focus and exposing the object to the object by the maskless exposure unit. 마스크리스 노광부들 하부에 노광할 대상물을 올려놓을 수 있는 스테이지를 위치시키는 단계; Positioning a stage on which the object to be exposed is placed under the maskless exposure parts; 상기 마스크리스 노광부들로 스테이지를 스캔하는 단계; Scanning a stage with the maskless exposure portions; 상기 마스크리스 노광부들 각각이 스캔한 스테이지의 궤적을 복수개의 위치들로 세분화하고, 이 세분화된 복수개의 위치들에서 마스크리스 노광부들 각각의 포커스(Focus) 거리를 추출하는 단계와; Subdividing the trajectory of the stage scanned by each of the maskless exposure units into a plurality of positions, and extracting a focus distance of each of the maskless exposure units at the plurality of divided positions; 상기 스테이지에 노광할 대상물을 올려놓는 단계와; Placing an object to be exposed on the stage; 상기 세분화된 복수개의 위치들에서 추출된 포커스 거리를 유지하며, 상기 마스크리스 노광부들로 상기 대상물을 노광하는 단계로 구성된 마스크리스 노광 방법.And exposing the object with the maskless exposure parts while maintaining a focus distance extracted at the plurality of subdivided positions. 청구항 9에 있어서, The method according to claim 9, 상기 마스크리스 노광부는, 패턴을 갖는 광을 출사하는 공간 광 변조기(Spatial Light Modulator, SLM)와; 상기 공간 광 변조기에서 출사된 광을 확장시키는 빔 확장기(Beam Expander)와; 상기 빔 확장기에서 확장된 광을 복수개의 광들로 분리하여 집광시키는 멀티 어레이 렌즈(Multi Array Lens, MAL)와; 상기 멀티 어레이 렌즈에서 집광된 광들의 해상도를 조정하여 대상물로 투과시키는 프로젝션 렌즈로 구성되며,The maskless exposure unit may include: a spatial light modulator (SLM) for emitting light having a pattern; A beam expander for expanding the light emitted from the spatial light modulator; A multi array lens (MAL) for separating and condensing the light extended by the beam expander into a plurality of lights; It is composed of a projection lens for adjusting the resolution of the light collected by the multi-array lens to transmit to the object, 상기 세분화된 복수개의 위치들에서 추출된 최적 포커스 거리를 유지하며, 상기 마스크리스 노광부들로 상기 대상물을 노광하는 단계는,The method may further include exposing the object to the maskless exposure parts while maintaining an optimal focus distance extracted at the plurality of subdivided positions. 상기 대상물이 올려져 있는 스테이지에 구비된 스테이지 레벨링 모터로 매크로(Macro) 구동하고, 멀티 어레이 렌즈를 Z축으로 구동시키는 액츄에이터로 마이크로(Micro) 구동하여 추출된 포커스 거리를 유지하며, 상기 마스크리스 노광부들로 상기 대상물을 노광하는 단계인 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광 방법.Macro-driven by a stage leveling motor provided on the stage on which the object is placed, and micro-driven by an actuator that drives a multi-array lens in Z-axis to maintain the extracted focal length, and to provide the maskless exposure. And exposing the object with portions. 마스크리스 노광부로 대상물에 노광 패턴을 형성하기 위한 노광 공정이 구비된 평판 디스플레이 패널의 제조 방법에 있어서, In the manufacturing method of the flat panel display panel provided with the exposure process for forming an exposure pattern in a target object by a maskless exposure part, 상기 노광 공정은, The exposure step, 상기 마스크리스 노광부와 대상물간의 작업 거리를 측정하고, 상기 측정된 작업 거리가 기준 작업 거리 범위내에 있지 않으면, 상기 마스크리스 노광부의 멀티 어레이 렌즈만 이동시켜 포커스(Focus)를 조정하는 공정 또는, Measuring a working distance between the maskless exposure unit and an object and adjusting the focus by moving only the multi-array lens of the maskless exposure unit if the measured working distance is not within a reference working distance range; 상기 마스크리스 노광부로 스테이지를 스캔하고, 그 스캔 궤적의 세분화된 위치들에서 마스크리스 노광부의 포커스 거리를 추출하고, 상기 세분화된 위치에서 추출된 포커스 거리를 유지하며 노광하는 공정을 포함하고 있는 것을 특징으로 평판 디스플레이 패널의 제조 방법.Scanning the stage with the maskless exposure unit, extracting the focus distance of the maskless exposure unit at the subdivided positions of the scan trajectory, and maintaining the focal length extracted at the subdivided position and exposing the stage; Method of manufacturing a flat panel display panel.
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