KR20080094937A

KR20080094937A - Method for fabricating color filter, color filter, and display device having such color filter

Info

Publication number: KR20080094937A
Application number: KR1020087021415A
Authority: KR
Inventors: 하루히코 요시노
Original assignee: 후지필름 가부시키가이샤
Priority date: 2006-02-13
Filing date: 2006-12-18
Publication date: 2008-10-27
Also published as: CN101371171A; WO2007094119A1; CN101371171B; TW200732706A; JPWO2007094119A1

Abstract

A color filter has at least two pixel groups having different colors from each other on a board, and pixels constituting the pixel group are isolated from each other by a deep color isolation wall. In a method for fabricating the color filter, the process of forming the deep color isolation wall includes the following steps (1) to (3). (1) The step of exposing a layer consisting of a deep color composition so as to make a pattern under a poor oxygen atmosphere (pattern exposure step). (2) The step of forming a deep color isolation wall pattern by developing after the pattern exposure (development step). (3) The step of irradiating and curing the deep color isolation wall pattern with light having an exposure of at least 2500 mJ/cm2 (post-exposure step). This fabrication method enables pixels with a little color mixing and the like to be formed with a high position accuracy and the color filter to be fabricated at a low cost and with a high efficiency. A color filter fabricated by this method and a display device having the color filter are also provided.

Description

컬러필터의 제조 방법, 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 갖는 표시장치{METHOD FOR FABRICATING COLOR FILTER, COLOR FILTER, AND DISPLAY DEVICE HAVING SUCH COLOR FILTER}The manufacturing method of a color filter, a color filter, and the display apparatus which has the said color filter TECHNICAL FIELD

본 발명은 표시장치용 컬러필터의 제조 방법, 이 제조 방법에 의해 얻어진 컬러필터 및 이것을 갖는 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a manufacturing method of a color filter for a display device, a color filter obtained by the manufacturing method, and a display device having the same.

표시장치용 컬러필터는, 유리 등의 기판 상에 적색, 녹색, 청색의 도트 형상 화상을 각각 매트릭스 형상으로 배치하고, 그 경계를 블랙 매트릭스 등의 농색 이획벽으로 구분한 구조이다. 이러한 컬러필터의 제조 방법으로서는, 종래, 지지체로서 유리 등의 기판을 사용하고, 1) 염색법, 2) 인쇄법, 3) 착색한 감광성 수지액의 도포와, 노광 및 현상의 반복에 의한 착색 감광성 수지액법(착색 레지스트법)(예를 들면, 일본 특허공개 소 63-298304호 공보, 일본 특허공개 소 63-309916호 공보 및 일본 특허공개 평 1-152449호 공보 참조.), 4) 가지지체 상에 형성한 화상을 순차적으로, 최종 또는 가지지체 상에 전사하는 방법(예를 들면, 일본 특허공개 소 61-99103호 공보, 일본 특허공개 소 61-233704호 공보 및 일본 특허공개 소 61-279802호 공보 참조.）, 5) 미리 착색한 감광성 수지액을 가지지체 상에 도포함으로써 착색층을 형성하고, 순차적으로 직접, 기판 상에 이 감광성 착색층을 전사, 노광해서 현상하는 것을 색의 수만큼 반복하는 방법 등에 의해 다색화상을 형성하는 방법(전사방식)이 알려져 있다(예를 들면, 일본 특허공개 소 61-99102호 공보 참조.）. 또한, 잉크젯법을 사용하는 방법(예를 들면, 일본 특허공개 평 8-227012호 공보 참조.)도 알려져 있다.The color filter for display apparatus is a structure which arrange | positioned the red, green, and blue dot shape image on the board | substrate, such as glass, respectively in matrix form, and divided the boundary into the deep color deviation wall, such as a black matrix. Conventionally, as a manufacturing method of such a color filter, using a board | substrate, such as glass, as a support body, coloring photosensitive resin by 1) dyeing method, 2) printing method, 3) application | coating of the colored photosensitive resin liquid, and repeating exposure and image development. Liquid method (colored resist method) (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-298304, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-309916, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-152449). Method of sequentially transferring the formed image onto the final or branch member (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-99103, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-233704 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-279802) , 5) Applying the previously colored photosensitive resin liquid onto the support body to form a colored layer, and sequentially repeating the transfer of the photosensitive colored layer on the substrate, exposing and developing by the number of colors. Multicolor image by method Forming method (transfer method) is known (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-99102.) Also, a method using an inkjet method (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-227012) Is also known.

이것들의 방법 중, 착색 레지스트법은 위치 정밀도 높게 컬러필터를 제작할 수 있지만, 감광층 수지액의 도포에 손실이 많아서 비용적으로는 유리하다고 말할 수 없다. 한편, 잉크젯법은 수지액의 손실이 적어서 비용적으로 유리하지만, 화소의 위치 정밀도가 나쁘다는 문제가 있다. 이것들을 극복하기 위해, 블랙 매트릭스(농색 이획벽)을 착색 레지스트법으로 형성하고, ＲＧＢ화소를 잉크젯법으로 제작하는 컬러필터 제조 방법도 제안되어 있지만, 제작된 블랙 매트릭스의 단면형상을 관찰하면, 상단이나 그 엣지가 둥글게 되어, 나중에 타적된 각색의 잉크가 블랙 매트릭스를 타고 넘기 쉽기 때문에, 번짐, 밀려 나옴, 인접 화소와의 혼색 및 흰색 누락 등이 발생할 우려가 있다.Among these methods, the colored resist method can produce a color filter with high positional accuracy, but it cannot be said that it is advantageous in terms of cost because there is much loss in application of the photosensitive layer resin liquid. On the other hand, although the inkjet method is advantageous in terms of cost due to little loss of the resin liquid, there is a problem that the positional accuracy of the pixel is poor. In order to overcome these problems, a color filter manufacturing method is proposed in which a black matrix (rich breakaway wall) is formed by a colored resist method and a RGB pixel is produced by an inkjet method. However, when the cross-sectional shape of the produced black matrix is observed, Since the edges are rounded, and the ink of each color hitted later easily passes over the black matrix, there is a possibility that bleeding, pushing out, mixing with adjacent pixels, and missing white color may occur.

이것들을 막기 위해서, 현상 후에 농색 이획벽 패턴에 광을 조사해서 광경화시키는 공정과, 광경화한 농색 이획벽 패턴에 가열 처리하는 공정을 포함하는 컬러필터의 제조 방법이 개시되어 있지만(예를 들면, 일본 특허공개 2002-156520호 공보 참조.), 이 방법으로는, 격벽 엣지 부분의 형상이 둥글게 되기 쉽고, 엣지 부분이 둥글면(모나지 않는다), 잉크가 농색 이획벽을 타고 넘기 쉬워지는 문제가 여전히 남아 있다.In order to prevent these, the manufacturing method of the color filter which includes the process of irradiating light to the deep color deviation wall pattern after image development and photocuring, and the process of heat-processing the photocured deep color deviation wall pattern (for example, See Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-156520.) In this method, the shape of the partition edge portion tends to be rounded, and if the edge portion is rounded (not condensed), the problem of ink easily passing over the deep color migration wall still remains. Remains.

또한, 플라즈마 처리에 의해 농색 이획벽을 발수처리하는 방법이 알려져 있 다(예를 들면, 일본 특허공개 2001-343518호 공보 참조.）. 그렇지만, 농색 이획벽에 발수처리만을 실시해도, 인접 화소와의 혼색 및 흰색 누락 등을 충분히 해소하는 것이 곤란했다.In addition, a method of water repellent treatment of the deep color barrier wall by plasma treatment is known (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-343518). It was difficult to sufficiently eliminate the mixed color and missing white.

특허문헌 1: 일본 특허공개 소 63-298304호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-298304

특허문헌 2: 일본 특허공개 소 63-309916호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-309916

특허문헌 3: 일본 특허공개 평 1-152449호 공보Patent Document 3: Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-152449

특허문헌 4: 일본 특허공개 소 61-99103호 공보Patent Document 4: Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-99103

특허문헌 5: 일본 특허공개 소 61-233704호 공보Patent Document 5: Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-233704

특허문헌 6: 일본 특허공개 소 61-279802호 공보Patent Document 6: Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-279802

특허문헌 7: 일본 특허공개 소 61-99102호 공보Patent Document 7: Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-99102

특허문헌 8: 일본 특허공개 평 8-227012호 공보Patent Document 8: Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-227012

특허문헌 9: 일본 특허공개 2002-156520호 공보Patent Document 9: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-156520

특허문헌 10: 일본 특허공개 2001-343518호 공보Patent Document 10: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-343518

따라서, 본 발명은, 위치 정밀도가 좋고 혼색 등이 적은 화소를 형성하고, 또한 저비용 및 고효율로 컬러필터를 제조할 수 있는 컬러필터의 제조 방법, 이 방법으로 얻어진 컬러필터, 및 이 컬러필터를 구비한 표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, the present invention comprises a color filter manufacturing method capable of forming pixels with good positional accuracy, low color mixing, and manufacturing a color filter at low cost and high efficiency, the color filter obtained by this method, and the color filter. It is an object to provide a display device.

이러한 실상에 비추어, 본 발명자는 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 연구를 행했다. 그 결과, 농색 이획벽을 하기 방법에 의해 형성하면, 그 후, 잉크젯법 등에 의해 각 화소를 형성할 때, 각색의 잉크의 번짐, 밀려 나옴, 인접 화소와의 혼색 및 흰색 누락 등의 결함이 되는 불량을 방지할 수 있고, 양호한 컬러필터를 얻는 것이 가능해 지는 것을 찾아내고, 본 발명을 완성하였다.In view of such a situation, the present inventor has made intensive studies to solve the above problems. As a result, when the deep color deviation wall is formed by the following method, when each pixel is formed by the inkjet method or the like, defects such as smearing, pushing out of each color, blending with adjacent pixels, and missing white color are caused. It was found that the defects can be prevented and a good color filter can be obtained, and the present invention has been completed.

즉, 본 발명은 다음 제조 방법 등을 제공하는 것이다.That is, this invention provides the following manufacturing method.

<1> 기판 상에, 서로 다른 색을 나타내는 2 이상의 화소군을 갖고, 상기 화소군을 구성하는 각 화소는 서로 농색 이획벽에 의해 이획되어 있는 컬러필터의 제조 방법으로서, 상기 농색 이획벽을 형성하는 공정은, 하기 (1)∼(3)의 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법이다.On the <1> board | substrate, it has the 2 or more pixel group which shows a different color, and each pixel which comprises the said pixel group is a manufacturing method of the color filter which is separated by the deep color deviation wall, and forms the said deep color deviation wall. The process to be included is a manufacturing method of the color filter characterized by including the process of following (1)-(3).

(1) 농색조성물로 이루어지는 층을 빈산소 분위기하에서 패턴 노광하는 공정(패턴 노광 공정)(1) Process of pattern exposing layer made of deep color composition in poor oxygen atmosphere (pattern exposure process)

(2) 패턴 노광 후, 현상해서 농색 이획벽 패턴을 형성하는 공정(현상 공정)(2) Process of developing after pattern exposure and forming a deep color deviation wall pattern (development process)

(3) 상기 농색 이획벽 패턴에 2500ｍＪ/ｃｍ² 이상의 노광량의 광을 조사해서 광경화시키는 공정(포스트 노광 공정)(3) Process of irradiating light of 2500 mPa / cm <^2> or more of exposure amount to the said deep color barrier wall pattern and photocuring (post-exposure process)

<2> 상기 <1>에 있어서, 상기 빈산소 분위기하는, 불활성 가스 분위기하, 감압하, 및 산소를 차단할 수 있는 보호층하에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법이다.<2> The method for producing a color filter according to <1>, wherein the vacant oxygen atmosphere is at least one selected from an inert gas atmosphere, under reduced pressure, and under a protective layer capable of blocking oxygen.

<3> 상기 <1> 또는 <2>에 있어서, 상기 현상 공정에 있어서의 현상 조건은, 현상액으로서 알칼리성 물질의 농도가 0.01∼30질량％인 희박수용액을 사용하고, 또한, 현상 온도가 22℃∼40℃이며, 또한, 현상 시간이 10∼120초의 조건인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법이다.<3> In <1> or <2>, the developing conditions in the said developing process use a lean aqueous solution whose density | concentration of alkaline substance is 0.01-30 mass% as a developing solution, and developing temperature is 22 degreeC. It is -40 degreeC, and developing time is a condition of 10 to 120 second, The manufacturing method of the color filter characterized by the above-mentioned.

<4> 상기 <1> 내지 <3> 중 어느 하나에 있어서, 상기 농색 이획벽 상면의 적어도 일부가 발수성을 띠는 상태에서, 상기 농색 이획벽 사이에 각 화소를 형성하는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법이다.<4> The color filter according to any one of <1> to <3>, wherein each pixel is formed between the deep color separation walls in a state where at least a part of the upper surface of the color rich partition wall is water repellent. It is a manufacturing method.

<5> 상기 <4>에 있어서, 상기 농색 이획벽의 적어도 일부를 발수성을 띠는 상태로 하는 수단이 플라즈마 처리인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법이다.<5> The method for producing a color filter according to <4>, wherein the means for bringing at least a part of the deep color separation wall into a water repellent state is a plasma treatment.

<6> 상기 <1> 내지 <5> 중 어느 하나에 있어서, 농색 이획벽 사이에 각 화소를 형성하는 방법은 각 화소를 형성하는 착색 액체조성물을 잉크젯법에 의해 농색 이획벽 사이에 침입시키는 방법인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법이다.<6> The method according to any one of <1> to <5>, wherein the method for forming each pixel between the deep color migration walls intrudes the color liquid composition forming each pixel between the deep color migration walls by an inkjet method. It is a manufacturing method of the color filter characterized by the above-mentioned.

<7> 상기 <1> 내지 <6> 중 어느 하나에 있어서, 가지지체 상에, 적어도 농색조성물로 이루어지는 층을 갖고 이루어지는 감광성 전사재료를 기판 상에 전사하고 농색 이획벽의 형성을 행하는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법이다.<7> The film according to any one of <1> to <6>, wherein a photosensitive transfer material having a layer of at least a deep color composition is transferred onto a substrate to form a dark color deviation wall. It is a manufacturing method of a color filter.

<8> 상기 <1> 내지 <7> 중 어느 하나에 기재된 컬러필터의 제조 방법에 의해 제조되는 컬러필터이다.<8> It is a color filter manufactured by the manufacturing method of the color filter in any one of said <1> to <7>.

<9> <8>에 있어서, 기판 상에 형성된 농색 이획벽의 단면 형상이, 상기 농색 이획벽의 기판으로부터의 높이가 가장 높은 점에 있어서 기판으로부터의 높이를 h, 기판으로부터 0.8h의 위치에 있어서 기판과 평행한 선을 L₁, L₁과 농색 이획벽이 접하는 점에 있어서 접선을 L₂, h의 위치에 있어서 기판과 평행한 선을 L₃로 했을 때, L₂과 L₃의 교점에서의 농색 이획벽까지의 거리로 규정되는 값 d를 h로 나눈 값이 0.04 이하인 것을 특징으로 하는 컬러필터이다.<9> In <8>, the cross-sectional shape of the deep color deviation wall formed on the board | substrate has the height from the board | substrate h and the position of 0.8 h from a board | substrate at the point where the height from the board | substrate of said deep color deviation wall is the highest. The intersection of L ₂ and L ₃ when the line parallel to the substrate is L ₃ at the point L ₂ , h at the point where L ₁ , L ₁ and the deep color deviation wall contact the line parallel to the substrate. A value d divided by h divided by h, which is defined as the distance to the deep color deviation wall in, is 0.04 or less.

<10> 상기 <9>에 기재된 컬러필터를 갖는 것을 특징으로 하는 표시장치이다.<10> It is a display apparatus characterized by having the color filter as described in said <9>.

본 발명에 의하면, 위치 정밀도가 좋고 혼색 등이 적은 화소를 형성하고, 또한 저비용 및 고효율로 컬러필터를 제조할 수 있는 컬러필터의 제조 방법, 이 방법으로 얻어진 컬러필터, 및 이 컬러필터를 구비한 표시장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, there is provided a method for producing a color filter capable of forming pixels with good positional accuracy, low color mixing, and manufacturing a color filter at low cost and high efficiency, the color filter obtained by the method, and the color filter. A display device can be provided.

도 1은 본 발명에 있어서의 농색 이획벽의 단면형상을 나타내는 개념도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The conceptual diagram which shows the cross-sectional shape of the deep color deviation wall in this invention.

도 2a는 컬러필터의 패턴을 나타내는 개념도이다.2A is a conceptual diagram illustrating a pattern of a color filter.

도 2b는 컬러필터의 패턴을 나타내는 개념도이다.2B is a conceptual diagram illustrating a pattern of a color filter.

도 3a는 컬러필터의 단면형상을 나타내는 개념도이다.3A is a conceptual diagram showing a cross-sectional shape of a color filter.

도3b는 컬러필터의 단면형상을 나타내는 개념도이다.3B is a conceptual diagram showing the cross-sectional shape of the color filter.

부호의 설명Explanation of the sign

1: 농색 이획벽 2: 기판1: deep color deviation wall 2: substrate

11: 화소영역 12: 농색 이획벽11: pixel area 12: deep transition wall

13: 기판13: substrate

본 발명의 컬러필터의 제조 방법은, 기판 상에 서로 다른 색을 나타내는 2 이상의 화소군을 갖고, 상기 화소군을 구성하는 각 화소는 서로 농색 이획벽에 의 해 이획되어 있는 컬러필터의 제조 방법으로서, 상기 농색 이획벽을 형성하는 공정은 하기 (1)~(3)의 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법이다.The manufacturing method of the color filter of this invention is a manufacturing method of the color filter which has two or more pixel groups which show a different color on a board | substrate, and each pixel which comprises the said pixel group is separated by the deep color deviation wall. The process for forming the deep color separation wall is a method for producing a color filter comprising the following steps (1) to (3).

이미 서술한 것처럼, 종래의 방법으로 제작한 농색 이획벽은 단면형상이 거칠고, 잉크젯법에 의해 화소형성했을 때에 엣지로부터 잉크가 타고 넘기 쉽고, 그 때문에 혼색 등의 불량이 발생하는 것이 있었다. 본 발명에 있어서는, 포스트 노광량을 2500ｍＪ/ｃｍ² 이상으로 늘리고, 현상 후에 형태를 유지하는 것, 즉 농색 이획벽의 엣지 형상이 네모난 상태를 유지함으로써 엣지부에서의 잉크의 타고 넘기를 억제할 수 있고, 혼색을 방지할 수 있다. 또한, 이 경우, 후술하는 것과 같이 현상을 될 수 있는 한 강하게 해서, 현상 후에 농색 이획벽의 단면형상을 수직으로부터 역테이퍼 형상으로 하는 것이 바람직하다.As mentioned above, the deep color deviation wall produced by the conventional method has a rough cross-sectional shape, and when the pixel is formed by the inkjet method, ink easily burns off the edge, which may cause defects such as mixed color. In the present invention, the post exposure amount is increased to 2500 mPa / cm ² or more, and the shape is maintained after development, that is, the edge shape of the deep color deviation wall is maintained in a square state, so that the incorporation of ink at the edge portion can be suppressed. It is possible to prevent color mixing. In this case, as described later, it is preferable to make the development as strong as possible and to make the cross-sectional shape of the deep color deviation wall from vertical to inverse taper shape after development.

이하, 우선, 본 발명의 컬러필터의 제조 방법에 있어서의 농색 이획벽에 대해서 상세하게 설명한다.First, the deep color deviation wall in the manufacturing method of the color filter of this invention is demonstrated in detail.

(농색조성물)(Dark color composition)

본 발명에 관한 농색 이획벽은, 농색체를 포함하는 농색조성물로부터 형성된다. 여기에서, 농색조성물이란 높은 광학농도를 갖는 조성물로서, 형성하는 농색 이획벽과 같은 두께로 도포했을 때의 그 값은 2.0∼10.0이다. 농색조성물의 광학농도는 바람직하게는 2.5∼6.0이며, 특히 바람직하게는 3.0∼5.0이다. 또한, 이 농색조성물은, 후술하는 것과 같이 바람직하게는 광개시계로 경화시키기 위해서, 노광 파장 (일반적으로는 자외영역)에 대한 광학농도도 중요하다. 즉, 형성하는 농색 이획벽과 같은 두께로 도포했을 때의 그 값은 2.0∼10.0이며, 바람직하게는 2.5∼6.0, 가장 바람직한 것은 3.0∼5.0이다. 2.0 미만에서는 농색 이획벽 형상이 희망의 것으로 되지 않을 우려가 있고, 10.0을 초과하면, 중합을 개시할 수 없어 농색 이획벽 바로 그것을 제조하는 것이 곤란하게 된다. 이러한 성질을 갖기만 하면, 조성물중의 농색체는 유기물(염료, 안료 등의 각종 색소)이여도, 또는 각 형태의 탄소이여도, 이것들의 조합으로 이루어지는 것이여도 좋다. 이러한 농색체는, 특히 한정되지 않지만, 흑색체가 더 많이 사용된다.The deep color shifting wall according to the present invention is formed from a deep color composition containing a deep color body. Here, the deep color composition is a composition having a high optical density, and its value when applied at the same thickness as that of the deep color deviation wall to be formed is 2.0 to 10.0. The optical density of the deep color composition is preferably 2.5 to 6.0, particularly preferably 3.0 to 5.0. In addition, in order to harden | cure this deep color composition as mentioned later, Preferably, optical density with respect to an exposure wavelength (usually an ultraviolet region) is also important. That is, the value when apply | coating to the same thickness as the deep color deviation wall to form is 2.0-10.0, Preferably it is 2.5-6.0, Most preferably, it is 3.0-5.0. If it is less than 2.0, there is a possibility that the deep color wall is not desired, and if it exceeds 10.0, the polymerization cannot be started and it becomes difficult to manufacture the dark color wall. As long as it has such a property, the thickener in a composition may be organic substance (various pigment | dyes, such as a dye and a pigment), carbon of each form, or it may consist of these combinations. Such colorants are not particularly limited, but more black bodies are used.

상기 농색 이획벽에 사용하는 농색체로서는, 구체적으로는, 일본 특허공개 2005-17716호 공보 [0038]∼[0054]에 기재된 안료 및 염료나, 일본 특허공개 2004-361447호 공보 [0068]∼[0072]에 기재된 안료나, 일본 특허공개 2005-17521호 공보 [0080]∼[0088]에 기재된 착색제를 바람직하게 사용할 수 있다.Specific examples of the colorant used for the deep color barrier wall include pigments and dyes described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2005-17716, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-361447. 0072] and the coloring agent of Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-17521-[0088] can be used preferably.

상기 농색조성물로는, 유기안료, 무기안료, 염료 등을 바람직하게 사용할 수 있고, 감광성 수지층에 차광성이 요구되는 때에는, 카본블랙, 산화 티탄늄, 4산화철 등의 금속산화물 분말, 금속황화물 분말, 금속 분말로 한 차광제 이외에, 빨강, 파랑, 녹색 등의 안료의 혼합물 등을 이용할 수 있다. 공지의 착색제(염료, 안료)을 사용할 수 있다. 상기 공지의 착색제 중 안료를 사용할 경우에는, 농색조성물 중에 균일하게 분산되어져 있는 것이 바람직하다.As the deep color composition, organic pigments, inorganic pigments, dyes and the like can be preferably used. When light shielding properties are required in the photosensitive resin layer, metal oxide powders such as carbon black, titanium oxide, iron tetraoxide, and metal sulfide powders In addition to the light-shielding agent made into the metal powder, the mixture of pigments, such as red, blue, green, etc. can be used. Known coloring agents (dyes, pigments) can be used. When using a pigment in the said known coloring agent, it is preferable to disperse | distribute uniformly in a deep color composition.

상기 농색조성물의 고형분 중에 농색체의 비율은, 충분히 현상 시간을 단축하는 관점에서, 30∼70질량％인 것이 바람직하고, 40∼60질량％인 것이 보다 바람직하고, 50∼55질량％인 것이 더욱 바람직하다.From the viewpoint of sufficiently shortening the development time, the proportion of the colorant in the solid content of the deep color composition is preferably 30 to 70% by mass, more preferably 40 to 60% by mass, further preferably 50 to 55% by mass. desirable.

흑색농색체로서, 더욱 예시하면, 카본블랙, 티탄늄 카본, 산화철, 산화 티탄늄, 흑연 등을 들 수 있고, 그 중에서도, 카본블랙이 바람직하다.As a black colorant, carbon black, titanium carbon, iron oxide, titanium oxide, graphite, etc. are mentioned further, Especially, carbon black is preferable.

상기 농색체(안료)는 분산액으로서 사용하는 것이 바람직하다. 이 분산액은, 상기 농색체와 분산제를 미리 혼합해서 얻어진 조성물을, 후술하는 유기용매(또는 비히클)에 첨가해서 분산시킴으로써 조제할 수 있다. 상기 비히클이란, 도료가 액체상태로 있을 때에 농색체를 분산시키는 매질의 부분을 말하고, 액상으로서 상기 농색체와 결합해서 도막을 굳히는 부분(바인더)과, 이것을 용해 희석하는 성분(유기용매)을 포함한다. 상기 농색체를 분산시킬 때에 사용하는 분산기로서는, 특히 제한은 없고, 예를 들면, 아사쿠라 쿠니조 저, 「안료의 사전」, 제일판, 아사쿠라 서점, 2000년, 438페이지에 기재되어 있는 니더, 롤 밀, 애트라이더, 슈퍼밀, 디졸바, 호모 믹서, 샌드 밀 등의 공지의 분산기를 들 수 있다. 더욱, 상기 문헌 310페이지에 기재된 기계적 마쇄에 의해, 마찰력을 이용해 미분쇄해도 좋다.It is preferable to use the said color body (pigment) as a dispersion liquid. This dispersion liquid can be prepared by adding and disperse | distributing the composition obtained by mixing the said thickening body and a dispersing agent to the organic solvent (or vehicle) mentioned later. The vehicle refers to a part of a medium for dispersing the colorant when the paint is in a liquid state, and includes a part (binder) that binds to the colorant and hardens the coating film as a liquid, and a component (organic solvent) that dissolves and dilutes the coating film. do. There is no restriction | limiting in particular as a disperser used when disperse | distributing the said color body, For example, Asakura Kunizo, "The Dictionary of Pigments", the first edition, Asakura Bookstore, 2000, kneader, roll described in page 438 Known dispersers, such as a mill, an attritor, a super mill, a dissolva, a homo mixer, and a sand mill, are mentioned. Moreover, you may finely grind using frictional force by the mechanical grinding described on page 310 of the document.

본 발명에 사용하는 농색체(안료)는, 분산 안정성의 관점에서, 수평균 입경 0.001∼0.1μm의 것이 바람직하고, 더욱 0.01∼0.08μm의 것이 바람직하다. 또한, 여기에서 「입경」이란, 입자의 전자현미경사진 화상을 같은 면적의 원으로 했을 때의 직경을 말하고, 또 「수평균 입경」이란 다수의 입자에 대해서 상기 입경을 구하고, 이 100개의 평균치를 말한다.From the viewpoint of dispersion stability, the thickener (pigment) used in the present invention is preferably a number average particle diameter of 0.001 to 0.1 m, more preferably 0.01 to 0.08 m. Here, "particle size" means the diameter when the electron micrograph image of particle | grains was made into the circle of the same area, and "number average particle diameter" means the said particle diameter about many particle | grains, and these 100 average values Say.

농색조성물은 이러한 농색체 이외에, 중합 개시제, 및 다관능성 모노머를 적어도 포함해서 이루어진 것이 바람직하다. 또한, 필요에 따라서 더욱 공지의 첨가제, 예를 들면, 바인더, 가소제, 충전제, 안정화제, 중합 금지제, 계면활성제, 용제, 밀착 촉진제 등을 함유시킬 수 있다. 더욱, 농색조성물은 적어도 150℃ 온도로 연화 또는 점착성이 되는 것이 바람직하고, 열가소성인 것이 바람직하다. 이러한 관점에서는, 상용성의 가소제를 첨가함으로써 개질할 수 있다.It is preferable that the deep color composition contains at least a polymerization initiator and a polyfunctional monomer in addition to the rich color body. Moreover, as needed, a further well-known additive, for example, a binder, a plasticizer, a filler, a stabilizer, a polymerization inhibitor, surfactant, a solvent, an adhesion promoter, etc. can be contained. Further, the deep color composition is preferably softened or tacky at at least 150 ° C, and preferably thermoplastic. From this point of view, it can be modified by adding a compatible plasticizer.

농색조성물을 경화시키는 방법으로서는, 열개시제를 사용하는 열개시계나 광개시제를 사용하는 광개시계가 일반적이지만, 본 발명에서는 경화 후에 농색 이획벽을 후술하는 것과 같은 형상으로 하는 것이 중요하기 때문에, 광개시계를 사용하는 것이 바람직하다. 여기에서 사용하는 광중합개시제는, 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등의 방사선의 조사(노광으로 칭한다)에 의해, 후술한 다관능성 모노머의 중합을 개시하는 활성종을 발생할 수 있는 화합물이며, 공지의 광중합개시제 또는 광중합개시제계 중에서 적당히 선택할 수 있다.As a method of curing a deep color composition, a thermal clock using a thermal initiator and a photo-initiator using a photoinitiator are generally used. However, in the present invention, since it is important to form a deep color shift wall after curing, the photo-initiator is important. It is preferable to use. The photoinitiator used herein is a compound capable of generating active species for initiating polymerization of the polyfunctional monomer described below by irradiation (called exposure) of radiation such as visible light, ultraviolet light, far ultraviolet ray, electron beam, X-ray, or the like. It can be suitably selected from a well-known photoinitiator or photoinitiator system.

예를 들면, 트리할로메틸기 함유 화합물, 아크리딘계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, α-디케톤계 화합물, 다핵 퀴논계 화합물, 크산톤계 화합물, 디아조계 화합물 등을 들 수 있다.For example, a trihalomethyl group containing compound, an acridine type compound, an acetophenone type compound, a biimidazole type compound, a triazine type compound, a benzoin type compound, a benzophenone type compound, the (alpha)-diketone type compound, a polynuclear quinone type compound And xanthone compounds, diazo compounds and the like.

구체적으로는, 일본 특허공개 2001-117230호 공보에 기재된, 트리할로메틸기가 치환된 트리할로메틸옥사졸유도체 또는 s-트리아진 유도체, 미국 특허 제4239850호 명세서에 기재된 트리할로메틸-s-트리아진 화합물, 미국 특허 제4212976호 명세서에 기재된 트리할로메틸옥사디아졸 화합물 등의 트리할로메틸기 함유 화합물;Specifically, the trihalomethyl oxazole derivative or s-triazine derivative substituted with the trihalomethyl group described in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-117230, the trihalomethyl-s described in the specification of US Pat. Trihalomethyl group-containing compounds such as a triazine compound and a trihalomethyloxadiazole compound described in US Pat. No. 4212976;

9-페닐아크리딘, 9-피리딜아크리딘, 9-피라디닐아크리딘, 1,2-비스(9-아크리디닐)에탄, 1,3-비스(9-아크리디닐)프로판, 1,4-비스(9-아크리디닐)부탄, 1,5-비스(9-아크리디닐)펜탄, 1,6-비스(9-아크리디닐)헥산, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,8-비스(9-아크리디닐)옥탄, 1,9-비스(9-아크리디닐)노난, 1,10-비스(9-아크리디닐)데칸, 1,11-비스(9-아크리디닐)운데칸, 1,12-비스(9-아크리디닐)도데칸 등의 비스(9-아크리디닐)알칸 등의 아크리딘계 화합물;9-phenylacridine, 9-pyridylacridine, 9-pyridinylacridine, 1,2-bis (9-acridinyl) ethane, 1,3-bis (9-acridinyl) propane, 1,4-bis (9-acridinyl) butane, 1,5-bis (9-acridinyl) pentane, 1,6-bis (9-acridinyl) hexane, 1,7-bis (9- Acridinyl) heptane, 1,8-bis (9-acridinyl) octane, 1,9-bis (9-acridinyl) nonane, 1,10-bis (9-acridinyl) decane, 1, Acridine-based compounds such as bis (9-acridinyl) alkanes such as 11-bis (9-acridinyl) undecane and 1,12-bis (9-acridinyl) dodecane;

6-(p-메톡시페닐)-2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 6- 〔p-(N, N-비스(에톡시카르보닐메틸)아미노)페닐]-2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등의 트리아진계 화합물;그 외, 9,10-디메틸벤즈페나진, 미힐러 케톤, 벤조페논/미힐러 케톤, 헥사아릴비이미다졸/메르캅토벤즈이미다졸, 벤질디메틸케탈, 티옥산톤/아민, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4' ,5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등을 들 수 있다.6- (p-methoxyphenyl) -2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 6- [p- (N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) amino) phenyl] -2 Triazine-based compounds such as, 4-bis (trichloromethyl) -s-triazine; others, 9,10-dimethylbenzphenazine, Michler's ketone, benzophenone / mihiller ketone, hexaarylbiimidazole / mer Captobenzimidazole, benzyldimethylketal, thioxanthone / amine, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimi Dazol and the like.

상기 중, 트리할로메틸기 함유 화합물, 아크리딘계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물에서 선택된 1종 이상이 바람직하고, 특히, 트리할로메틸기 함유 화합물 및 아크리딘계 화합물에서 선택된 1종 이상을 함유하는 것이 바람직하다. 트리할로메틸기 함유 화합물, 아크리딘계 화합물은, 범용성에서 또한 저렴한 점에서도 유용하다.Among the above, at least one selected from a trihalomethyl group-containing compound, an acridine-based compound, an acetophenone-based compound, a biimidazole-based compound, and a triazine-based compound is preferable, and a trihalomethyl group-containing compound and an acridine-based compound are particularly preferred. It is preferable to contain at least one selected from the compounds. The trihalomethyl group-containing compound and the acridine compound are useful in terms of versatility and low cost.

특히 바람직한 것은, 트리할로메틸기 함유 화합물로서는, 2-트리클로로메틸-5-(p-스티릴스티릴)-1,3,4-옥사디아졸이며, 아크리딘계 화합물로서는, 9-페닐아크리딘이며, 더욱, 6-[p-(N, N-비스(에톡시카르보닐메틸)아미노)페닐〕-2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-부톡시스티릴)-5-트리클로로메틸-1,3,4-옥사디아졸 등의 트리할로메틸기 함유 화합물, 및 미힐러 케톤, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4' ,5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이다.As a trihalomethyl group containing compound, 2-trichloromethyl-5- (p-styrylstyryl) -1,3,4-oxadiazole is especially preferable, and 9-phenylacrylic as an acridine type compound is preferable. Dean, moreover, 6- [p- (N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) amino) phenyl] -2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-part Trihalomethyl group-containing compounds such as oxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole and Michler's ketone, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4 , 4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole.

상기 광중합개시제는, 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다. 상기 광중합개시제의 농색조성물에 있어서의 총량으로서는, 농색조성물의 전체 고형분(질량)의 0.1∼20질량％가 바람직하고, 0.5∼10질량％가 특히 바람직하다. 상기 총량이, 0.1질량％ 미만이면, 조성물의 광경화의 효율이 낮아서 노광에 장시간을 필요로 하는 일이 있고, 20질량％을 초과하면, 현상할 때에, 형성된 화상 패턴이 결핍하거나, 패턴 표면에 거칠음이 생기기 쉬워지거나 하는 일이 있다.The said photoinitiator may be used independently and may use 2 or more types together. As a total amount in the deep color composition of the said photoinitiator, 0.1-20 mass% of the total solid (mass) of a deep color composition is preferable, and 0.5-10 mass% is especially preferable. When the said total amount is less than 0.1 mass%, the efficiency of photocuring of a composition may be low, and a long time may be needed for exposure, and when it exceeds 20 mass%, the image pattern formed at the time of image development will be lacking, or the pattern surface Roughness may easily occur.

상기 광중합개시제는 수소공여체를 병용해서 구성되어도 좋다. 상기 수소공여체로서는, 감도를 보다 양호화할 수 있는 점에서, 이하에 정의하는 메르캅탄계 화합물, 아민계 화합물 등이 바람직하다. 여기에서의 「수소공여체」란, 노광에 의해 상기 광중합개시제로부터 발생한 라디컬에 대하여, 수소원자를 공여할 수 있는 화합물을 말한다.The said photoinitiator may be comprised using a hydrogen donor together. As said hydrogen donor, since a sensitivity can be improved more, a mercaptan type compound, an amine compound, etc. which are defined below are preferable. The "hydrogen donor" herein refers to a compound capable of donating a hydrogen atom to radicals generated from the photopolymerization initiator by exposure.

상기 메르캅탄계 화합물은, 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로 해서 상기 모핵 에 직접 결합한 메르캅토기를 1개 이상, 바람직하게는 1∼3개, 더욱 바람직하게는 1∼2개 갖는 화합물(이하, 「메르캅탄계 수소공여체」로 한다)이다. 또한, 상기 아민계 화합물은, 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로해서 상기 모핵에 직접 결합한 아미노기를 1개 이상, 바람직하게는 1∼3개, 더욱 바람직하게는 1∼2개 갖는 화합물(이하, 「아민계 수소공여체」로 한다)이다. 또한, 이것들의 수소공여체는, 메르캅토기와 아미노기를 동시에 갖고 있어도 좋다.The mercaptan-based compound is a compound having one or more, preferably one to three, more preferably one to two mercapto groups directly bonded to the mother nucleus by using a benzene ring or a hetero ring as a mother nucleus (hereinafter, To "mercaptan-based hydrogen donor." Moreover, the said amine type compound is a compound which has 1 or more, Preferably 1-3, More preferably, 1-2 amino groups couple | bonded with the said nucleus directly using a benzene ring or a heterocycle as a nucleus (hereinafter, " Amine-based hydrogen donor ". In addition, these hydrogen donors may have a mercapto group and an amino group simultaneously.

상기 메르캅탄계 수소공여체의 구체예로서는, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2,5-디메르캅토-1,3,4-티아디아졸, 2-메르캅토-2,5-디메틸아미노피리딘 등을 들 수 있다. 이것들 중, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸이 바람직하고, 특히 2-메르캅토벤조티아졸이 바람직하다.Specific examples of the mercaptan-based hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadia Sol, 2-mercapto-2,5-dimethylaminopyridine, and the like. Among these, 2-mercaptobenzothiazole and 2-mercaptobenzoxazole are preferable, and 2-mercaptobenzothiazole is especially preferable.

상기 아민계 수소공여체의 구체예로서는, 4, 4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4, 4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논, 에틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 4-디메틸아미노 벤조산, 4-디메틸아미노벤조니트릴 등을 들 수 있다. 이것들 중, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하고, 특히 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하다.Specific examples of the amine-based hydrogen donor include 4, 4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4, 4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiope And non-ethyl, 4-dimethylamino benzoate, 4-dimethylamino benzoic acid, 4-dimethylaminobenzonitrile and the like. Of these, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone are preferable, and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone is particularly preferable. .

상기 수소공여체는, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합해서 사용할 수 있고, 형성된 화상이 현상시에 영구지지체상에서 탈락하기 어렵고, 또한 강도 및 감도도 향상시킬 수 있는 점에서, 1종 이상의 메르캅탄계 수소공여체와 1종 이상의 아민계 수소공여체를 조합시켜서 사용하는 것이 바람직하다.The hydrogen donor may be used alone or in combination of two or more thereof, and at least one mercaptan-based hydrogen may be used because the formed image is hardly eliminated on the permanent support during development, and the strength and sensitivity may also be improved. Preference is given to using a donor in combination with at least one amine hydrogen donor.

상기 메르캅탄계 수소공여체와 아민계 수소공여체의 조합의 구체예로서는, 2-메르캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-메르캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-메르캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-메르캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다. 보다 바람직한 조합은, 2-메르캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-메르캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이며, 특히 바람직한 조합은, 2-메르캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이다.Specific examples of the combination of the mercaptan-based hydrogen donor and the amine-based hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 2-mercaptobenzothiazole / 4,4 '. -Bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzooxazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzooxazole / 4,4'-bis (diethylamino) Benzophenone etc. are mentioned. More preferred combinations are 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzooxazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, Particularly preferred combination is 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone.

상기 메르캅탄계 수소공여체와 아민계 수소공여체를 조합시켰을 경우의, 메르캅탄계 수소공여체(M)와 아민계 수소공여체(A)의 질량비(M:A)는, 보통 1:1∼1:4가 바람직하고, 1:1∼1:3가 보다 바람직하다. 농색조성물에 있어서의 상기 수소공여체의 총량으로서는, 농색조성물의 전체 고형분(질량) 중 0.1∼20질량％이 바람직하고, 0.5∼10질량％이 특히 바람직하다.When the mercaptan-based hydrogen donor and the amine-based hydrogen donor are combined, the mass ratio (M: A) of the mercaptan-based hydrogen donor (M) and the amine-based hydrogen donor (A) is usually 1: 1 to 1: 4. Is preferable, and 1: 1-1: 3 are more preferable. As a total amount of the said hydrogen donor in a deep color composition, 0.1-20 mass% is preferable in the total solid (mass) of a deep color composition, and 0.5-10 mass% is especially preferable.

농색조성물의 다관능성 모노머로서는, 하기 화합물을 단독으로 또는 2종 이상을 필요에 따라서 다른 모노머와 조합시켜서 사용할 수 있다. 구체적으로는, t-부틸(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 2-에틸-2-부틸-프로판디올 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이 트, 폴리옥시에틸화 트리메티롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 1,4-디이소프로페닐벤젠, 1,4-디히드록시벤젠 디(메타)아크릴레이트, 데카메틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 스티렌, 디알릴푸말레이트, 트리멜리트산 트리알릴, 라우릴(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴 아미드, 크실릴렌 비스(메타)아크릴 아미드 등을 들 수 있다.As a polyfunctional monomer of a deep color composition, the following compound can be used individually or in combination of 2 or more types as needed with another monomer. Specifically, t-butyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, and trimetholpropane tri (meth) ) Acrylate, 2-ethyl-2-butyl-propanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, di Pentaerythritol penta (meth) acrylate, polyoxyethylated trimetholpropane tri (meth) acrylate, tris (2- (meth) acryloyloxyethyl) isocyanurate, 1,4-diisopro Phenylbenzene, 1,4-dihydroxybenzene di (meth) acrylate, decamethylene glycol di (meth) acrylate, styrene, diallyl fumarate, trimellitic acid triallyl, lauryl (meth) acrylate, ( Meta) acrylic Imide, and the like can be mentioned xylylene bis (meth) acrylamide.

또한, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트 등의 히드록실기를 갖는 화합물과 헥사메틸렌디이소시아네이트, 톨루엔디이소시아네이트, 크실렌디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트와의 반응물도 사용할 수 있다.Furthermore, the compound which has hydroxyl groups, such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, polyethyleneglycol mono (meth) acrylate, hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate, The reactant with diisocyanate, such as xylene diisocyanate, can also be used.

이것들 중, 특히 바람직한 것은, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타아크릴레이트, 트리스(2-아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트이다.Among these, especially preferable are pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate.

다관능성 모노머의 농색조성물에 있어서의 함유량으로서는, 농색조성물의 전체 고형분(질량)에 대하여, 5∼80질량％가 바람직하고, 10∼70질량％가 특히 바람직하다. 상기 함유량이, 5질량％ 미만이면, 조성물의 노광부에서 알칼리 현상액에의 내성이 뒤떨어지는 일이 있고, 80질량％을 초과하면, 농색조성물로 했을 때의 점착성이 증가해 버려, 취급성이 뒤떨어지는 일이 있다.As content in the deep color composition of a polyfunctional monomer, 5-80 mass% is preferable with respect to the total solid (mass) of a deep color composition, and 10-70 mass% is especially preferable. When the said content is less than 5 mass%, resistance to alkaline developing solution may be inferior in the exposure part of a composition, and when it exceeds 80 mass%, the adhesiveness at the time of setting it as a deep color composition will increase, and handleability will fall behind. There is a fall.

(바인더)(bookbinder)

상기 농색조성물에는, 필요에 따라서 바인더를 함유할 수 있다.The deep color composition may contain a binder as necessary.

바인더로서는, 측쇄에 카르복실산기나 카르복실산염기 등의 극성기를 갖는 폴리머가 바람직하다. 그 예로서는, 일본 특허공개 소 59-44615호 공보, 일본 특허공고 소 54-34327호 공보, 일본 특허공고 소 58-12577호 공보, 일본 특허공고 소 54-25957호 공보, 일본 특허공개 소 59-53836호 공보, 및 일본 특허공개 소 59-71048호 공보에 기재된, 메타크릴산 공중합체, 아크릴산 공중합체, 이타콘산 공중합체, 크로톤산 공중합체, 말레인산 공중합체, 부분 에스테르화 말레인산 공중합체 등을 들 수 있다.As a binder, the polymer which has polar groups, such as a carboxylic acid group and a carboxylate group, in a side chain is preferable. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 59-44615, Japanese Patent Laid-Open No. 54-34327, Japanese Patent Laid-Open No. 58-12577, Japanese Patent Laid-Open No. 54-25957, Japanese Patent Laid-Open No. 59-53836 Methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer and the like described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-71048 have.

또한, 측쇄에 카르복실산기를 갖는 셀룰로오스 유도체도 들 수 있다. 더욱, 수산기를 갖는 폴리머에 환상 산무수물을 부가한 것도 바람직하게 사용할 수 있다.Moreover, the cellulose derivative which has a carboxylic acid group in a side chain is also mentioned. Moreover, what added cyclic acid anhydride to the polymer which has a hydroxyl group can also be used preferably.

특히 바람직한 예로서, 미국 특허 제4139391호 명세서에 기재된 벤질(메타)아크릴레이트와 (메타)아크릴산의 공중합체나, 벤질(메타)아크릴레이트와 (메타)아크릴산과 다른 모노머의 다원 공중합체를 들 수 있다. 이것들의 극성기를 갖는 바인더는, 1종 단독으로 사용해도 좋고, 통상의 막형성성의 폴리머와 병용하는 조성물의 상태로 사용하도록 해도 좋다.Particularly preferred examples thereof include copolymers of benzyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid described in US Patent No. 4139391 and polyunsaturated copolymers of benzyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid and other monomers. have. These binders having polar groups may be used alone or in a state of a composition used in combination with an ordinary film-forming polymer.

농색조성물 중에 있어서의 바인더의 함유량으로서는, 층 또는 조성물의 전체 고형분(질량)에 대하여, 20∼50질량％가 바람직하고, 24∼45질량％가 보다 바람직하다.As content of the binder in a deep color composition, 20-50 mass% is preferable with respect to the total solid (mass) of a layer or a composition, and 24-45 mass% is more preferable.

(용제)(solvent)

상기 농색조성물에는, 필요에 따라서 용제를 함유할 수 있다. 유기용제의 예로서는, 메틸에틸케톤, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 시클로헥사논, 시클로헥산올, 메틸이소부틸케톤, 락트산 에틸, 락트산 메틸, 카프로락탐 등을 들 수 있다.The deep color composition may contain a solvent as necessary. Examples of the organic solvent include methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, cyclohexanol, methyl isobutyl ketone, ethyl lactate, methyl lactate, caprolactam and the like.

(계면활성제)(Surfactants)

농색조성물에는, 필요에 따라서 계면활성제를 함유할 수 있다.The deep color composition may contain a surfactant as necessary.

농색조성물을 기판 상 또는 후술한 감광성 전사재료의 가지지체 상에 도포 할 경우에는, 농색조성물 중에 계면활성제를 함유시킴으로써 균일한 막두께로 제어할 수 있고, 도포 불균일을 효과적으로 방지할 수 있다. 계면활성제로서는, 일본 특허공개 2003-337424호 공보, 일본 특허공개 평 11-133600호 공보에 기재된 계면활성제를 바람직하게 들 수 있다. 또한, 농색조성물 중에 있어서의 계면활성제의 함유량으로서는, 상기 조성물의 전체 고형분(질량)에 대하여, 0.001∼1질량％가 일반적이고, 0.01∼0.5질량％가 바람직하고, 0.03∼0.3질량％가 특히 바람직하다.In the case where the deep color composition is applied onto a substrate or the supporting member of the photosensitive transfer material described later, by containing a surfactant in the deep color composition, it can be controlled to a uniform film thickness, and coating unevenness can be effectively prevented. As surfactant, surfactant of Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-337424 and Unexamined-Japanese-Patent No. 11-133600 is mentioned preferably. Moreover, as content of surfactant in a deep color composition, 0.001-1 mass% is common with respect to the total solid (mass) of the said composition, 0.01-0.5 mass% is preferable, and 0.03-0.3 mass% is especially preferable. Do.

(자외선흡수제)(UV absorber)

농색조성물에는, 필요에 따라서 자외선흡수제를 함유할 수 있다.The deep color composition may contain an ultraviolet absorbent if necessary.

자외선흡수제로서는, 일본 특허공개 평 5-72724호 공보에 기재된 화합물, 및 살리실레이트계, 벤조페논계, 벤조트리아졸계, 시아노아크릴레이트계, 니켈키레토계, 힌다드아민계 등의 화합물을 들 수 있다.As a ultraviolet absorber, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 5-72724, and compounds, such as a salicylate type, a benzophenone type, a benzotriazole type, a cyanoacrylate type, a nickel kireto type, a hindered amine type, are mentioned. Can be.

예를 들면, 페닐살리실레이트, 4-t-부틸페닐살리실레이트, 2,4-디-t-부틸페닐-3' ,5'-디-t-4'-히드록시벤조에이트, 4-t-부틸페닐살리실레이트, 2,4-디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-n-옥톡시벤조페논, 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 에틸-2-시아노-3,3-디-페닐아크릴레이트, 2,2'-히드록시-4- 메톡시벤조페논, 니켈디부틸디티오카바메이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피리딘)-세바케이트, 4-t-부틸페닐살리실레이트, 살리실산페닐, 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 축합물, 숙신산-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리데닐)-에스테르, 2- [2-히드록시-3,5-비스(α, α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸, 7- {[4-클로로-6-(디에틸아미노)-5-트리아진-2-일]아미노}-3-페닐쿠마린 등을 들 수 있다.For example, phenyl salicylate, 4-t-butylphenyl salicylate, 2,4-di-t-butylphenyl-3 ', 5'-di-t-4'-hydroxybenzoate, 4- t-butylphenyl salicylate, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2- (2'- Hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, ethyl-2-cyano-3, 3-di-phenylacrylate, 2,2'-hydroxy-4-methoxybenzophenone, nickel dibutyldithiocarbamate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-pyridine) -ceva Kate, 4-t-butylphenyl salicylate, phenyl salicylate, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine condensate, succinic acid-bis (2,2,6,6-tetramethyl -4-piperidenyl) -ester, 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 7-{[4-chloro-6- (Diethylamino) -5-triazin-2-yl] amino} -3-phenylcoumarin, etc. The can.

자외선흡수제를 사용할 경우의, 농색조성물의 전체 고형분에 대한 자외선흡수제의 함유량으로서는 0.5∼15질량％가 일반적이고, 1∼12질량％가 바람직하고, 1.2∼10질량％이 특히 바람직하다.As content of the ultraviolet absorber with respect to the total solid of the deep color composition in the case of using a ultraviolet absorber, 0.5-15 mass% is common, 1-12 mass% is preferable, and 1.2-10 mass% is especially preferable.

(열중합 방지제)(Thermal polymerization inhibitor)

농색조성물에는, 열중합 방지제를 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that a deep color composition contains a thermal polymerization inhibitor.

열중합 방지제의 예로서는, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, p-메톡시페놀, 디-t-부틸-p-크레졸, 피로갈롤, t-부틸카테콜, 벤조퀴논, 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2-메르캅토벤즈이미다졸, 페노티아진 등을 들 수 있다.Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, phenothiazine, etc. are mentioned.

열중합 방지제를 사용할 경우의, 농색조성물의 전체 고형분으로 대한 함유량으로서는 0.01∼1질량％이 일반적이고, 0.02∼0.7질량％이 바람직하고, 0.05∼0.5질량％이 특히 바람직하다.As content with respect to the total solid of the thickening composition at the time of using a heat polymerization inhibitor, 0.01-1 mass% is common, 0.02-0.7 mass% is preferable, and 0.05-0.5 mass% is especially preferable.

또한, 농색조성물에는, 상기 성분 이외에, 일본 특허공개 평 11-133600호 공보에 기재된 「접착 조제」나 그 밖의 첨가제 등을 함유시킬 수도 있다.In addition to the above components, the deep color composition may contain a "adhesion aid" described in JP-A-11-133600, other additives, and the like.

(농색 이획벽)(Deep color wall)

본 발명에 관한 농색 이획벽은, 상기 농색조성물로부터 형성된다.The deep color separation wall according to the present invention is formed from the deep color composition.

농색 이획벽은, 2 이상의 화소군을 이획하는 것이며, 일반적으로는 흑색인 것이 많지만, 흑색으로 한정되는 것이 아니다.The deep color migration wall is to capture two or more pixel groups, and in general, it is black but is not limited to black.

농색 이획벽을 형성하는 공정은, 적어도, 하기 (1)~(3)의 공정을 포함한다.The process of forming a deep color deviation wall includes the process of following (1)-(3) at least.

이하, 각 공정에 대해서 설명한다.Hereinafter, each process is demonstrated.

(1) 패턴 노광 공정(1) pattern exposure process

본 패턴 노광 공정에서는, 이미 서술한 농색조성물로 이루어지는 층에 대하여, 빈산소 분위기하에서 패턴 노광하고, 상기 농색조성물을 광경화시킨다. 패턴 노광이란, 화상 패턴이 형성된 마스크를 통해 농색조성물층에 패턴화된 광을 조사하는 것을 말한다. 경우에 따라서는, 마스크를 개지하지 않고 광조사해도 좋다.In this pattern exposure process, the layer which consists of the deep color composition mentioned above is pattern-exposed in a poor oxygen atmosphere, and the said deep color composition is photocured. Pattern exposure means irradiating the patterned light to the deep color composition layer through the mask in which the image pattern was formed. In some cases, light irradiation may be performed without changing the mask.

광조사에 사용하는 광원으로서는, 중압∼초고압 수은등, 크세논 등, 메탈할라이드램프 등의 공지의 광원을 들 수 있다. 상기 마스크는, 공지의 것 중에서 적당히 선택할 수 있다.As a light source used for light irradiation, well-known light sources, such as a metal halide lamp, such as a medium pressure-ultra high pressure mercury lamp, xenon, are mentioned. The mask can be appropriately selected from known ones.

그 다음에, 노광시에 있어서의 빈산소 분위기하에 대해서 이하에 설명한다.Next, a description will be given below of a poor oxygen atmosphere at the time of exposure.

이러한 농색조성물을 광경화시킬 때의 빈산소 분위기하란, 불활성 가스하, 감압하, 산소를 차단할 수 있는 보호층하를 가리키고, 이것들은 자세하게는 아래와 같다.The poor oxygen atmosphere at the time of photocuring such a deep color composition refers to under the protective layer which can block oxygen under inert gas, reduced pressure, and these are as follows in detail.

∼불활성 가스하∼Under inert gas

불활성 가스란, N₂, H₂, ＣＯ₂ 등의 일반적인 기체나, Ｈｅ, Ｎｅ, Ａｒ 등의 희가스를 말한다. 이 중에서도, 안전성이나 입수의 용이함, 비용의 문제로부터 N₂가 바람직하게 이용된다.The inert gas is, N _{_2,} H _2, refers to a gas or rare gas such as common, He, Ne, Ar of CO ₂ and the like. Among these, N ₂ is preferably used from the viewpoint of safety, availability and cost.

∼감압하∼Under reduced pressure

감압하란 500hPa 이하, 바람직하게는 100hPa 이하의 상태를 나타낸다.Under reduced pressure, 500 hPa or less, preferably 100 hPa or less.

∼산소를 차단할 수 있는 보호층하∼Under protective layer that can block oxygen

산소를 차단할 수 있는 보호층하란, 보호층이 농색조성물로 이루어지는 층 상에 형성된 상태를 나타낸다. 산소를 차단할 수 있는 보호층이란, 예를 들면, 일본 특허공개 소 46-2121호나 일본 특허공고 소 56-40824호의 각 공보에 기재된, 폴리비닐에테르/무수 말레인산 중합체, 카르복시알킬셀룰로오스의 수용성염, 수용성 셀룰로오스 에테르류, 카르복시알킬 전분의 수용성염, 폴리비닐알콜, 폴리비닐피롤리돈, 각종의 폴리아크릴아미드류, 각종 수용성 폴리아미드, 폴리 아크릴산의 수용성염, 젤라틴, 에틸렌옥사이드 중합체, 각종 전분 및 그 유사물로 이루어진 군의 수용성염, 스티렌/말레인산의 공중합체, 말레네이트 수지, 및 이것들의 2종 이상의 조합 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도 특히 바람직한 것은, 폴리비닐알콜과 폴리 비닐피롤리돈의 조합이다. 폴리비닐알콜은 비누화율이 80% 이상인 것이 바람직하고, 폴리비닐피롤리돈의 함유량은 알칼리 가용한 수지층 고형분의 1∼75질량％이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼50질량％, 더욱 바람직하게는 10∼40질량％이다.Under the protective layer which can block oxygen, the protective layer shows the state formed on the layer which consists of a deep color composition. The protective layer capable of blocking oxygen is, for example, a polyvinyl ether / maleic anhydride polymer, a water-soluble salt of carboxyalkyl cellulose, and water-soluble, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 46-2121 and Japanese Patent Publication No. 56-40824. Cellulose ethers, water-soluble salts of carboxyalkyl starch, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, various polyacrylamides, various water-soluble polyamides, water-soluble salts of polyacrylic acid, gelatin, ethylene oxide polymers, various starches and the like Water-soluble salts of the group consisting of water, copolymers of styrene / maleic acid, maleate resins, and combinations of two or more thereof. Among these, especially preferable is a combination of polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone. It is preferable that saponification ratio of polyvinyl alcohol is 80% or more, and, as for content of polyvinylpyrrolidone, 1-75 mass% of alkali-soluble resin layer solid content is preferable, More preferably, it is 1-50 mass%, More preferably Preferably it is 10-40 mass%.

또한, 산소를 차단할 수 있는 보호층으로서는 각종 필름을 이용할 수도 있고, 예를 들면 ＰＥＴ를 비롯한 폴리에스테르류, 나일론을 비롯한 폴리아미드류, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체(ＥＶＡ류)도 바람직하게 사용할 수 있다. 이것들 필름은 필요에 따라서 연신된 것이어도 좋고, 두께는 5∼300μm이 적당하고, 바람직하게는 20∼150μm이다. 또한, 농색 이획벽을 감광성 전사재료를 이용해서 제작할 경우, 후술하는 중간층 또는 가지지체를 산소를 차단할 수 있는 보호층으로서 바람직하게 사용하는 것이 가능하다.Moreover, various films may also be used as a protective layer which can block oxygen, For example, polyesters, such as PET, polyamides, such as nylon, and ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) can also be used preferably. . These films may be stretched as needed, and thickness is 5-300 micrometers suitably, Preferably it is 20-150 micrometers. In addition, when producing a rich color barrier wall using the photosensitive transfer material, it is possible to preferably use the intermediate | middle layer or branched body mentioned later as a protective layer which can block oxygen.

이렇게 하여 제작된 산소를 차단할 수 있는 보호층의 산소 투과 계수는 2000cm³/(m²·ｄａｙ·ａｔｍ) 이하가 바람직하지만, 100cm³/(m²·ｄａｙ·ａｔｍ) 이하인 것이 보다 바람직하고, 가장 바람직하게는 50cm³/(m²·ｄａｙ·ａｔｍ)이하이다.The oxygen permeation coefficient of the protective layer capable of blocking oxygen produced in this way is preferably 2000 cm ³ / (m ² · d axy · atom) or less, more preferably 100 cm ³ / (m ^2. Preferably it is 50 cm <^3> / (m <^2> d <axy> atm) or less.

산소투과율이 2000cm³/(m²·ｄａｙ·ａｔｍ) 보다 높을 경우는 효율적으로 산소를 차단할 수 없기 때문에, 농색 이획벽을 후술한 형상으로 하는 것이 곤란하게 되는 일이 있다.When oxygen transmittance is higher than 2000 cm <^3> / (m <^2> d <axy> atm), since oxygen cannot be blocked efficiently, it may become difficult to make a deep color deviation wall into the shape mentioned later.

(2) 현상 공정(2) developing process

본 현상 공정에 있어서는, 상기 (1) 패턴 노광 공정에 있어서, 패턴 노광된 농색조성물층에 대하여, 소정의 현상액을 사용해서 현상 처리한다.In this developing process, in the (1) pattern exposure process, it develops using the predetermined developing solution with respect to the deep color composition layer exposed by the pattern.

현상 처리에 사용하는 현상액으로서는, 알칼리성 물질의 희박수용액을 사용할 수 있지만, 더욱 물과 혼화성의 유기용제를 소량첨가한 것이라도 좋다.As the developing solution used for the developing treatment, a lean aqueous solution of an alkaline substance can be used, but a small amount of a water and miscible organic solvent may be further added.

상기 현상 전에는, 순수를 샤워 노즐 등으로 분무하고, 상기 농색조성물층의 표면을 균일하게 적실 수 있는 것이 바람직하다. 상기 현상 처리에 사용하는 현상액으로서는, 알칼리성 물질의 희박수용액을 사용할 수 있지만, 더욱 물과 혼화성의 유기용제를 소량첨가한 것이라도 좋다.Before the development, it is preferable to spray pure water with a shower nozzle or the like and to uniformly wet the surface of the deep color composition layer. As the developing solution to be used for the developing treatment, a lean aqueous solution of an alkaline substance can be used, but a small amount of water and a miscible organic solvent may be further added.

적당한 알칼리성 물질로서는, 알칼리 금속 수산화물류(예를 들면, 수산화나트륨, 수산화칼륨), 알칼리 금속 탄산염류(예를 들면, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨), 알칼리 금속 중탄산염류(예를 들면, 탄산 수소 나트륨, 탄산 수소 칼륨), 알칼리 금속 규산염류(예를 들면, 규산 나트륨, 규산 칼륨), 알칼리 금속 메타 규산염류(예를 들면, 메타 규산 나트륨, 메타 규산 칼륨), 트리에탄올아민, 디에탄올아민, 모노에탄올아민, 몰포린, 테트라알킬암모늄히드록시드류(예를 들면, 테트라메틸암모늄히드록시드), 인산 3나트륨 등을 들 수 있다. 알칼리성 물질의 농도는, 0.01∼30질량％가 바람직하다.Suitable alkaline substances include alkali metal hydroxides (e.g. sodium hydroxide, potassium hydroxide), alkali metal carbonates (e.g. sodium carbonate, potassium carbonate), alkali metal bicarbonates (e.g. sodium hydrogen carbonate, Potassium hydrogen carbonate), alkali metal silicates (e.g. sodium silicate, potassium silicate), alkali metal metasilicates (e.g. sodium metasilicate, potassium metasilicate), triethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine And morpholine, tetraalkylammonium hydroxides (for example, tetramethylammonium hydroxide), trisodium phosphate, and the like. As for the density | concentration of an alkaline substance, 0.01-30 mass% is preferable.

상기 「물과 혼화성의 유기용제」로서는, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 1-프로판올, 부탄올, 디아세톤알콜, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노 n-부틸에테르, 벤질 알콜, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, ε-카프로락톤, γ-부티로락톤, 디메틸포름아미드, 디 메틸아세트아미드, 헥사메틸포스포르아미드, 락트산 에틸, 락트산 메틸, ε-카프로락탐, N-메틸피롤리돈 등을 바람직하게 들 수 있다. 물과 혼화성의 유기용제의 농도는 0.1∼30질량％가 바람직하다. 더욱, 공지의 계면활성제를 첨가할 수도 있고, 상기 계면활성제의 농도로서는 0.01∼10질량％가 바람직하다.As said "an organic solvent miscible with water", for example, methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono n Butyl ether, benzyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ε-caprolactone, γ-butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ε -Caprolactam, N-methylpyrrolidone, etc. are mentioned preferably. As for the density | concentration of the water and miscible organic solvent, 0.1-30 mass% is preferable. Moreover, a well-known surfactant can also be added and 0.01-10 mass% is preferable as a density | concentration of the said surfactant.

상기 현상액은 용액으로서도, 또는 분무액으로서도 사용할 수 있다. 농색조성물층의 미경화 부분을 제거할 경우, 현상액중에서 회전 브러시나 습윤 스폰지로 문지르는 등의 방법을 조합시킬 수 있다. 현상액의 액체 온도는, 통상, 실온 부근(22℃)로부터 40℃가 바람직하다. 현상 시간은 감광성 수지층의 조성, 현상액의 알칼리성이나 온도, 유기용제를 첨가할 경우에는 그 종류와 농도 등에 의존하지만, 보통 10∼120초 정도이다. 현상 시간이 지나치게 짧으면 비노광부의 현상이 불충분하게 됨과 동시에 자외선의 흡광도도 불충분하게 되는 일이 있고, 지나치게 길면 노광부도 에칭되는 일이 있다. 어느쪽의 경우에도, 농색 이획벽 형상을 바람직한 것으로 하는 것이 곤란하게 된다. 현상 처리 후에 수세공정을 넣는 것도 가능하다. 이 현상 공정에서, 농색 이획벽의 형상은, 상술한 것처럼 형성된다.The developer can be used as a solution or a spray solution. When the uncured portion of the deep color composition layer is removed, a method such as rubbing with a rotary brush or a wet sponge in the developer can be combined. As for the liquid temperature of a developing solution, 40 degreeC is preferable normally from room temperature vicinity (22 degreeC). The developing time depends on the composition of the photosensitive resin layer, the alkalinity and temperature of the developing solution, and the type and concentration of the organic solvent, but is usually about 10 to 120 seconds. If the developing time is too short, the development of the non-exposed part may be insufficient, and the absorbance of the ultraviolet light may be insufficient. If the development time is too long, the exposed part may be etched. In either case, it becomes difficult to make the deep color wall shape preferable. It is also possible to add a washing step after the development treatment. In this developing step, the shape of the deep color barrier wall is formed as described above.

현상의 방식으로서는, 패들 현상, 샤워 현상, 샤워&스핀 현상, 딥 현상 등의 방법을 이용할 수 있다.As a development method, methods, such as a paddle development, a shower development, a shower & spin development, and a dip development, can be used.

현상액의 ｐＨ는 8∼13이 바람직하다. 현상조 중에는 롤러 컨베이어 등이 설치되어, 기판은 수평으로 이동한다. 상기 롤러 컨베이어의 손상을 방지하는 의미로, 감광성 수지는 기판의 상면에 형성되는 것이 바람직하다. 기판 사이즈가 1미터를 초과할 경우는, 기판을 수평으로 반송하면, 기판 중앙부근에 현상액이 체류하 고, 기판 중앙과 주변 부분에서의 현상의 차이가 문제가 된다. 이것을 피하기 위해서, 기판은 비스듬히 경사시키는 것이 바람직하다. 경사각도는, 5∼30°이 바람직하다.As for the pH of a developing solution, 8-13 are preferable. In the developing tank, a roller conveyor etc. are provided and a board | substrate moves horizontally. In order to prevent damage to the roller conveyor, the photosensitive resin is preferably formed on the upper surface of the substrate. When the substrate size exceeds 1 meter, when the substrate is transported horizontally, the developer remains in the vicinity of the center of the substrate, and the difference in development at the center and the peripheral portion of the substrate becomes a problem. In order to avoid this, it is preferable that the substrate is inclined at an angle. As for the inclination angle, 5-30 degrees are preferable.

현상 후에는 기판에 에어를 가볍게 분무하고, 여분의 액을 거의 제거한 후에, 샤워 수세를 실시함으로써, 보다 균일한 현상 결과를 얻을 수 있다. 또한, 수세 전에, 초순수를, 초고압 세정 노즐로 3∼10ＭＰａ의 압력으로 분사해서 잔사제거를 행함으로써, 잔사가 없는 고품질의 상을 얻을 수 있다. 기판에 물방울이 부착된 채 다음 공정으로 반송하면, 공정을 오염시키거나, 기판에 얼룩이 남으므로, 에어 나이프로 건조하여 여분의 물이나 물방울을 제거하는 것이 바람직하다.After the development, the substrate is lightly sprayed with air, and excess liquid is almost removed, followed by shower washing to obtain a more uniform development result. Further, before washing with water, by removing the residue by spraying ultrapure water at a pressure of 3 to 10 MPa with an ultra-high pressure cleaning nozzle, a high quality phase free of residue can be obtained. If the substrate is transported to the next step with water droplets attached, the process may be contaminated or stains remain on the substrate. Therefore, it is preferable to dry with an air knife to remove excess water or water droplets.

본 발명에 있어서는, 이미 서술한 것처럼, 현상 후에 농색 이획벽의 단면형상을 수직으로부터 역테이퍼 형상으로 하기 위해서, 현상을 될 수 있는 한 강하게 하는 것이 바람직하다. 해당 「강한 현상」인 현상의 조건으로서는, 현상액으로서, 알칼리성 물질의 농도가 0.01∼30질량％의 희박수용액을 사용하고, 또한, 현상 온도가 22∼40℃이며, 또한, 현상 시간이 10∼120초의 조건인 것이 바람직하다.In the present invention, as described above, in order to make the cross-sectional shape of the deep color deviation wall from vertical to inverse taper shape after development, the development is preferably as strong as possible. As a condition of the development which is the "strong development", as a developing solution, the lean aqueous solution of 0.01-30 mass% of alkaline substance is used, the developing temperature is 22-40 degreeC, and developing time is 10-120. It is preferable that it is a condition of the candle.

알칼리성 물질의 농도는, 보다 바람직하게는, 0.02∼25질량％이며, 더욱 바람직하게는 0.05∼20질량％이다. 현상 온도는, 보다 바람직하게는, 24∼38℃이며, 더욱 바람직하게는 26∼35℃이다. 현상 시간은, 보다 바람직하게는, 15∼110초이며, 더욱 바람직하게는, 20∼100초이다. 또한, 이것들, 알칼리성 물질의 종류와 그 농도, 현상 온도, 현상 시간 중, 어느 1개라도 변경함으로써, 현상의 강도가 변경하기 때문에, 소망의 「강한 현상」으로 하기 위해서는 상기 범위내에서 각각의 조 건을 적당히 설정하는 것이 바람직하다.The concentration of the alkaline substance is more preferably 0.02 to 25% by mass, still more preferably 0.05 to 20% by mass. Developing temperature becomes like this. More preferably, it is 24-38 degreeC, More preferably, it is 26-35 degreeC. Developing time becomes like this. More preferably, it is 15 to 110 second, More preferably, it is 20 to 100 second. In addition, since the intensity | strength of image development changes by changing any one among these, the kind of alkali substance, its density | concentration, image development temperature, and image development time, in order to make desired "strong image development", it is necessary to adjust each set within the said range. It is desirable to set the gun appropriately.

(3) 포스트 노광 공정(3) post exposure process

본 발명에 관한 농색 이획벽은, 현상 후에 포스트 노광을 실시함으로써 형성된다. 포스트 노광에 의해, 화상의 단면형상의 컨트롤, 화상의 경도의 컨트롤, 화상의 표면 요철의 컨트롤, 화상의 막감소의 컨트롤 등의 조정이 가능하다.The deep color deviation wall which concerns on this invention is formed by performing post exposure after image development. By post exposure, adjustment of control of the cross-sectional shape of an image, control of the hardness of an image, control of the surface unevenness of an image, control of film | membrane reduction of an image, etc. are possible.

포스트 노광에 사용하는 광원으로서는, 농색조성물이 감도를 갖는 파장의 적어도 1개를 포함하는 광원이면 좋고, 일본 특허공개 2005-3861호 공보의 단락번호 0074에 기재된 초고압 수은 램프, 고압 수은 램프, 메탈할라이드 램프 등을 들 수 있다.The light source used for the post exposure may be a light source containing at least one of wavelengths in which the deep color composition has sensitivity, and the ultrahigh pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, and metal halide described in paragraph No. 0074 of JP 2005-3861 A. Lamps; and the like.

포스트 노광은, 상기 초고압 수은등이나 메탈할라이드 등의 광원으로부터의 광을, 노광 마스크 등을 통하지 않고 직접 기판에 조사함으로써 행하는 것이, 설비의 간소화와 전력 절약의 관점에서 바람직하다.Post exposure is preferably performed by directly irradiating light from a light source such as the ultra-high pressure mercury lamp or a metal halide to a substrate without passing through an exposure mask or the like from the viewpoint of simplification of equipment and power saving.

포스트 노광은, 필요에 따라서, 양면에 실시한다. 노광량은, 상면:2500ｍＪ/ｃｍ² 이상, 하면:2500ｍＪ/ｃｍ² 이상의 범위에서, 상기 컨트롤 목적에 따라서 적당히 조정한다. 노광량은 높으면 높을수록 바람직하지만, 너무 지나치게 높으면 노광 시간이 길어지거나, 기판온도가 지나치게 높아져 기판이 변형하는 것이 있기 때문에, 한 면당 포스트 노광은, 10000ｍＪ/ｃｍ² 정도를 상한으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 한 면당 포스트 노광량이 2500ｍＪ/ｃｍ² 미만에서는, 농색 이획벽 엣지가 변형하고, 잉크가 엣지로부터 타고 넘기 쉬워져, 혼색 방지라는 본 발명의 목 적을 달성할 수 없어진다.Post exposure is performed on both surfaces as needed. An exposure amount is suitably adjusted according to the said control objective in the range of an upper surface: 2500 mPa / cm <^2> or more, and a lower surface: 2500 mPa / cm <^2> or more. The higher the exposure amount is, the more preferable. However, if the exposure amount is too high, the exposure time may be long, or the substrate temperature may be too high, so that the substrate may deform. Therefore, it is preferable that the post exposure per surface should be about 10000 mPa / cm ² as an upper limit. In addition, when the post-exposure amount per side is less than 2500 mPa / cm ^{2, the} deep-colored barrier wall edge deforms, and ink easily burns off from the edge, and the purpose of the present invention, which prevents color mixing, cannot be achieved.

2500∼10000ｍＪ/ｃｍ²의 노광량에서 양면 또는 상면을 노광하는 것이 바람직하고, 2800∼5000ｍＪ/ｃｍ²의 노광량에서 양면 또는 상면을 노광하는 것이 보다 바람직하고, 2800∼5000ｍＪ/ｃｍ²의 노광량에서 양면을 노광하는 것이 가장 바람직하다.It preferred to expose the upper surface or both surfaces at the exposure amount of 2500~10000mJ / cm ^2, and it is preferable than that exposes a top surface or both surfaces at the exposure amount of 2800~5000mJ / cm ^2, the exposure dose in both sides of 2800~5000mJ / cm ² Most preferred is exposure.

(감광성 전사재료)(Photosensitive transfer material)

상기 농색 이획벽 형상을 용이하게 또한 저비용으로 실현하는 것으로서, 가지지체 상에, 적어도, 농색조성물로 이루어지는 층을 갖는 감광성 전사재료를 사용하는 방법이 있다. 더욱, 가지지체와 농색조성물로 이루어지는 층 사이에, 산소를 차단할 수 있는 중간층(이하, 단지 「산소차단층」으로 말한다)이 형성되어져도 좋다. 이러한 재료를 사용했을 경우, 농색조성물로 이루어지는 층은 산소차단층으로 보호되기 때문에 자동적으로 빈산소 분위기하가 된다. 그 때문에, 노광 공정을 불활성 가스하나 감압하에서 행할 필요가 없기 때문에, 현상의 공정을 그대로 이용할 수 있는 이점이 있다.In order to realize the deep color barrier wall shape easily and at low cost, there is a method of using a photosensitive transfer material having a layer of at least a deep color composition on a branch support. Further, an intermediate layer capable of blocking oxygen (hereinafter, simply referred to as an "oxygen barrier layer") may be formed between the layer made of the branch member and the deep color composition. When such a material is used, the layer made of the deep color composition is protected by an oxygen barrier layer, so that it automatically becomes a poor oxygen atmosphere. Therefore, since the exposure process does not have to be performed under inert gas or reduced pressure, there is an advantage that the development process can be used as it is.

또한, 가지지체 상에 적어도 농색조성물에서 이루어지는 층을 갖는 감광성 전사재료를 사용하고, 상기 가지지체를 「산소를 차단할 수 있는 보호층」으로서 이용해도 좋다. 이 경우는, 상기 산소차단층을 형성할 필요가 없어서 공정수를 줄이는 것이 가능하다.Further, a photosensitive transfer material having a layer of at least a deep color composition on a branch support may be used, and the branch support may be used as a "protective layer capable of blocking oxygen". In this case, it is not necessary to form the oxygen barrier layer, so that the number of steps can be reduced.

상기 감광성 전사재료는, 필요에 따라서 열가소성 수지층을 갖고 있어도 좋 다. 이러한 열가소성 수지층이란, 알칼리 가용성이며, 적어도 수지성분을 포함해서 구성되고, 상기 수지성분으로서는, 실질적인 연화점이 80℃ 이하인 것이 바람직하다. 이러한 열가소성 수지층이 형성됨으로써, 후술하는 농색 이획벽형성 방법에 있어서, 영구지지체와의 양호한 밀착성을 발휘할 수 있다.The said photosensitive transfer material may have a thermoplastic resin layer as needed. Such a thermoplastic resin layer is alkali-soluble, and is comprised at least including a resin component, and it is preferable that a substantially softening point is 80 degrees C or less as said resin component. By forming such a thermoplastic resin layer, in the deep color deviation wall formation method mentioned later, favorable adhesiveness with a permanent support body can be exhibited.

연화점이 80℃ 이하의 열가소성 수지로서는, 에틸렌과 아크릴산 에스테르 공중합체의 비누화물, 스티렌과 (메타)아크릴산 에스테르 공중합체의 비누화물, 비닐 톨루엔과 (메타)아크릴산 에스테르 공중합체의 비누화물, 폴리(메타)아크릴산 에스테르, (메타)아크릴산부틸과 아세트산 비닐 등의 (메타)아크릴산 에스테르 공중합체 등의 비누화물 등을 들 수 있다.Examples of the thermoplastic resin having a softening point of 80 ° C. or less include a saponified product of ethylene and an acrylic ester copolymer, a saponified product of a styrene and a (meth) acrylic acid ester copolymer, a saponified product of a vinyl toluene and a (meth) acrylic acid ester copolymer, and a poly (meth). Saponified products, such as (meth) acrylic acid ester copolymers, such as an acrylic acid ester, butyl (meth) acrylate, and vinyl acetate, etc. are mentioned.

열가소성 수지층에는, 상기 열가소성 수지의 1종 이상을 적당히 선택해서 사용할 수 있고, 더욱 「플라스틱 성능 편람」 (니혼플라스틱공업연맹, 전일본 플라스틱 성형 공업연합회 편저, 공업조사회 발행, 1968년10월25일 발행)에 기재되어 있는, 연화점이 약 80℃ 이하의 유기고분자 중 알칼리 수용액에 가용한 것을 사용할 수 있다.In the thermoplastic resin layer, one or more kinds of the above-mentioned thermoplastic resins can be appropriately selected and used. Further, "Plastic Performance Manual" (Nihon Plastics Industry Association, All-Japan Plastic Molding Industry Association, Published by Industrial Association, Oct. 25, 1968) The softening point described in issuance) can be used what is soluble in aqueous alkali solution among organic polymers of about 80 degrees C or less.

또한, 연화점이 80℃ 이상의 유기고분자물질에 대해서도, 그 유기고분자물질 중에 상기 고분자물질과 상용성이 있는 각종 가소제를 첨가함으로써, 실질적인 연화점을 80℃ 이하로 내려서 사용할 수도 있다. 또한, 이것들의 유기고분자물질에는, 가지지체와의 접착력을 조절할 목적으로, 실질적인 연화점이 80℃를 초과하지 않는 범위에서, 각종 폴리머나 과냉각 물질, 밀착 개량제 또는 계면활성제, 이형제 등을 첨가할 수도 있다.Moreover, also about the organic polymer material with a softening point of 80 degreeC or more, a substantial softening point can be lowered to 80 degreeC or less by adding various plasticizers compatible with the said polymeric material in the organic polymer material. In addition, to these organic polymer materials, various polymers, supercooled materials, adhesion improving agents or surfactants, mold release agents, and the like may be added to the organic polymer material in order to control the adhesion to the supporting member, within a range where the actual softening point does not exceed 80 ° C. .

바람직한 가소제의 구체예로서는, 폴리프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 디옥틸프탈레이트, 디헵틸프탈레이트, 디부틸프탈레이트, 트리크레실포스페이트, 크레실디페닐포스페이트, 비페닐디페닐포스페이트를 들 수 있다.Specific examples of the preferred plasticizer include polypropylene glycol, polyethylene glycol, dioctyl phthalate, diheptyl phthalate, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, and biphenyl diphenyl phosphate.

상기 감광성 전사재료에 있어서의 가지지체로서는, 화학적 및 열적으로 안정이며, 가요성인 물질로 구성되는 것으로부터 적당히 선택할 수 있다. 구체적으로는, 테플론(등록상표), 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르 등의 얇은 시트 또는 이것들의 적층체가 바람직하다. 상기 가지지체의 두께로서는, 5∼300μm이 적당하고, 바람직하게는 20∼150μm이다. 이 두께가 5μｍ 미만에서는, 가지지체를 박리할 때에 깨지기 쉬워지는 경향이 있고, 또한, 가지지체를 통해서 노광할 경우는, 300μm을 초과하면 해상도가 저하하는 경향이 있다.The branch member in the photosensitive transfer material can be appropriately selected from chemically, thermally stable, and flexible materials. Specifically, a thin sheet such as Teflon (registered trademark), polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, polyester, or a laminate thereof is preferable. As thickness of the said support body, 5-300 micrometers is suitable, Preferably it is 20-150 micrometers. When this thickness is less than 5 micrometers, it exists in the tendency to become brittle when peeling a branch support, and when exposing through a branch support, when it exceeds 300 micrometers, there exists a tendency for the resolution to fall.

상기 구체예 중에서도 2축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트필름이 특히 바람직하다.Among the above specific examples, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferable.

(중간층(산소차단층))(Middle layer (oxygen barrier))

산소차단층으로서는, 일본 특허공개 평 5-72724호 공보에 「분리층」으로서 기재되어 있는, 산소차단 기능이 있는 산소차단막을 사용하는 것이 바람직하고, 이 경우, 노광시 감도가 높고, 노광기의 시간부하가 줄어 생산성이 향상한다.As the oxygen blocking layer, it is preferable to use an oxygen blocking film having an oxygen blocking function, which is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-72724, as the "separation layer". In this case, the exposure time is high and the exposure time is increased. Reduced load increases productivity.

상기 산소차단층으로서는, 낮은 산소투과성을 나타내고, 물 또는 알칼리 수용액에 분산 또는 용해하는 것이 바람직하고, 공지의 것 중에서 적당히 선택할 수 있다. 이것들 중, 특히 바람직한 것은 폴리비닐알콜과 폴리비닐피롤리돈의 조합이 다.As said oxygen barrier layer, it is preferable to show low oxygen permeability and to disperse or dissolve in water or aqueous alkali solution, and to select from a well-known thing suitably. Of these, particularly preferred is a combination of polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone.

(보호 필름)(Protective film)

수지층 상에는, 저장할 때의 오염이나 손상으로부터 보호하기 위해서, 얇은 보호 필름을 형성하는 것이 바람직하다. 보호 필름은, 가지지체와 같거나 또는 유사의 재료로 이루어져도 좋지만, 수지층으로부터 용이하게 분리되지 않으면 안된다. 보호 필름 재료로서는, 예를 들면 실리콘지, 폴리올레핀 또는 폴리테트라플루오로에틸렌의 시트가 적당하다.On a resin layer, in order to protect from the contamination and damage at the time of storage, it is preferable to form a thin protective film. The protective film may be made of the same or similar material as the supporting member, but must be easily separated from the resin layer. As a protective film material, the sheet | seat of silicone paper, polyolefin, or polytetrafluoroethylene is suitable, for example.

(기판)(Board)

컬러필터를 구성하는 기판(영구지지체)로서는, 금속성 지지체, 금속 접합 지지체, 유리, 세라믹, 합성 수지 필름 등을 사용할 수 있다. 특히 바람직하게는, 투명성이며 치수 안정성이 양호한 유리나 합성 수지 필름을 들 수 있다.As a board | substrate (permanent support body) which comprises a color filter, a metallic support body, a metal bonding support body, glass, a ceramic, a synthetic resin film, etc. can be used. Especially preferably, glass and synthetic resin film with transparency and favorable dimensional stability are mentioned.

(농색 이획벽의 형성)(Formation of deep color deviation wall)

이하, 감광성 전사재료를 이용하고, 농색 이획벽을 형성하는 일례를 설명한다. 가지지체 상에, 중간층(산소차단층), 농색조성물층, 더욱 상기 농색조성물층 상에 커버 시트가 형성된 감광성 전사재료를 준비한다. 우선, 커버 시트를 박리 제거한 후, 노출한 농색조성물층의 표면을 영구지지체(기판) 상에 접합하고, 적층기 등을 통해 가열, 가압해서 적층한다(적층체). 적층기에는, 종래 공지의 적층기, 진공 적층기 등 중에서 적당히 선택한 것을 사용할 수 있고, 보다 생산성을 높이기 위해서는, 오토 컷팅 적층기도 사용가능하다.Hereinafter, an example of forming a deep color deviation wall using a photosensitive transfer material will be described. On the branch support, a photosensitive transfer material having a cover sheet formed on an intermediate layer (oxygen barrier layer), a deep color composition layer, and further on the deep color composition layer is prepared. First, after peeling off and removing a cover sheet, the exposed surface of the deep color composition layer is bonded on a permanent support body (substrate), and it laminates | stacks by heating and pressurizing through a laminating machine etc. (laminated body). As a lamination machine, what was suitably selected from a conventionally well-known lamination machine, a vacuum lamination machine, etc. can be used, In order to raise productivity more, an auto cutting lamination machine can also be used.

그 다음에, 가지지체와 산소차단층과의 사이에서 박리하고, 가지지체를 제거 한다. 계속해서, 가지지체 제거 후에 제거면의 윗쪽에 소망의 포토마스크(예를 들면, 석영노광 마스크)를 수직으로 세운 상태로, 노광 마스크면과 상기 산소차단층 사이의 거리를 적당히(예를 들면, 200μm) 설정하고, 노광한다. 그 다음에, 조사후, 소정의 처리액을 사용해서 현상 처리를 행하여, 패터닝 화상을 얻는다. 계속해서, 필요에 따라서, 수세처리를 행하여, 농색 이획벽을 얻는다.Then, the branch is separated between the branch and the oxygen barrier layer, and the branch is removed. Subsequently, after removing the retaining member, a desired photomask (for example, a quartz exposure mask) is placed vertically on the removal surface, and the distance between the exposure mask surface and the oxygen barrier layer is appropriate (for example, 200 µm) is set and exposed. Then, after irradiation, development processing is performed using a predetermined processing liquid to obtain a patterned image. Subsequently, as necessary, washing with water is performed to obtain a deep color deviation wall.

가지지체를 산소를 차단할 수 있는 중간층으로서 이용할 경우는, 가지지체를 남긴 채(박리하지 않고), 상기 가지지체의 윗쪽에 소망의 포토마스크(예를 들면, 석영노광 마스크)를 수직으로 세운 상태로, 노광 마스크면과 상기 가지지체의 사이의 거리를 적당히(예를 들면, 200μm) 설정하고, 노광한다. 그 다음에, 가지지체를 제거하고, 소정의 처리액을 사용해서 현상 처리를 행하여, 패터닝화상을 얻는다. 계속해서, 필요에 따라서, 수세처리를 행하여, 농색 이획벽을 얻는다.In the case of using the branch member as an intermediate layer capable of blocking oxygen, the desired photomask (for example, a quartz exposure mask) is placed vertically on the upper portion of the branch, without leaving the branch member. The exposure is performed by setting the distance between the exposure mask surface and the branch support as appropriate (for example, 200 µm). Then, the branch is removed, and a developing process is performed using a predetermined processing liquid to obtain a patterned image. Subsequently, as necessary, washing with water is performed to obtain a deep color deviation wall.

상기 노광은, 예를 들면, 초고압 수은등을 갖는 프록시미티형 노광기(예를 들면, 히타치 하이 테크 전자 엔지니어링 주식회사제)등으로 행할 수 있고, 노광량은 적당히(예를 들면, 300ｍＪ/ｃｍ²) 선택할 수 있다.The exposure can be performed, for example, by a proximity exposure machine (eg, manufactured by Hitachi Hi-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp, and the exposure dose can be appropriately selected (for example, 300 mPa / cm ² ). have.

(현상 처리)(Developing treatment)

광조사 후, 소정의 처리액을 사용해서 현상 처리한다. 해당 현상 처리의 내용은, 이미 서술한 내용과 같다.After light irradiation, it develops using a predetermined process liquid. The content of the developing process is the same as the content already described.

(포스트 노광)(Post exposure)

현상 후에 포스트 노광을 실시한다. 해당 포스트 노광의 내용은, 이미 서술 한 내용과 같다.Post-exposure is performed after image development. The contents of the post exposure are the same as those described above.

(열처리)(Heat treatment)

더욱, 포스트 노광 후에 열처리를 행해도 좋다.Furthermore, you may heat-process after post exposure.

열처리를 행함으로써, 본 발명의 농색조성물층에 포함되는 모노머나 가교제를 반응시켜서, 화상의 경도를 확보할 수 있다. 열처리의 온도는, 150∼250℃의 범위가 바람직하다. 150℃를 초과할 경우는 경도가 불충분하게 되고, 250℃ 미만에서는 수지가 착색하여 색순도가 나빠진다. 열처리의 시간은, 10∼150분이 바람직하다. 10분 미만에서는, 경도가 부족되고, 150분을 초과할 경우는, 농색 이획벽의 형상이 나빠진다. 또한, 후술한 방법에 의해 착색 화소 전부의 색을 형성한 후, 더욱 최종적인 열처리를 행해서 경도를 안정화시켜도 좋다. 그 경우, 높은 쪽의 온도(예를 들면 240℃)로 실시하는 것이 경도의 점에서 바람직하다.By performing heat treatment, the monomer and the crosslinking agent contained in the deep color composition layer of the present invention can be reacted to ensure the hardness of the image. The temperature of heat processing has the preferable range of 150-250 degreeC. When it exceeds 150 degreeC, hardness will become inadequate, and below 250 degreeC, resin will color and worsen color purity. The heat treatment time is preferably 10 to 150 minutes. If it is less than 10 minutes, hardness will run short, and when it exceeds 150 minutes, the shape of a deep color deviation wall will worsen. In addition, after the color of all the colored pixels is formed by the method described later, the final heat treatment may be performed to stabilize the hardness. In that case, it is preferable to perform at higher temperature (for example, 240 degreeC) from the point of hardness.

(발수처리)(Water repellent)

본 발명에서는, 농색 이획벽에 발수 처리를 실시함으로써, 상기 농색 이획벽의 적어도 일부가 발수성을 띠는 상태로 되는 것이 바람직하다. 이것은, 그 후에 잉크젯 등의 방법으로, 착색 액체조성물의 액적을 상기 농색 이획벽 사이에 부여했을 때에, 잉크가 상기 농색 이획벽을 타고넘어, 인접하는 색과 혼색하는 등의 부적합을 없애기 위해서이다.In the present invention, it is preferable that at least a part of the rich color barrier wall is in a state of water repellency by performing a water repellent treatment on the rich color barrier wall. This is for eliminating inconsistencies, such as when the droplets of the colored liquid composition are applied between the deep color migration walls by inkjet or the like, and then the ink crosses the rich color walls and blends with adjacent colors.

상기 발수처리로서는, 농색 이획벽 상면에 발수재료를 도포하는 방법이나, 발수층을 새롭게 형성하는 방법, 플라즈마 처리에 의해 발수성을 부여하는 방법, 발수성 물질을 농색 이획벽에 혼련하는 방법 등을 들 수 있다.Examples of the water repellent treatment include a method of coating a water repellent material on an upper surface of the deep color barrier wall, a method of newly forming a water repellent layer, a method of imparting water repellency by plasma treatment, and a method of kneading the water repellent material on the deep color barrier wall. have.

이하에, 발수처리의 상세한 설명을 서술한다.The detailed description of the water repellent treatment is described below.

(1) <발수성 물질을 농색 이획벽에 혼련하는 방법>(1) <Method of kneading a water-repellent substance on a rich color barrier wall>

「혼색」을 막는 수단으로서, 일본 특허공개 2005-36160호 공보에 기재된 불소 함유 수지(A)를 함유하는 본 발명의 농색조성물에 의해 얻어지는 포토레지스트를 사용해서 농색 이획벽을 제작하는 방법이 있다.As a means of preventing "mixing color", there is a method of producing a deep color deviation wall using a photoresist obtained by the deep color composition of the present invention containing the fluorine-containing resin (A) described in Japanese Patent Laid-Open No. 2005-36160.

불소 함유 수지(A)는, 에틸렌성 이중 결합과 Ｒｆ기(a)를 갖는 단량체에 기초하는 단량체 단위와, 에틸렌성 이중 결합과 산성기(b)를 갖는 단량체에 기초하는 단량체 단위를 포함하는 공중합체로서, 산가가 1∼300ｍｇＫＯＨ/g인 것이 바람직하다. 상기 Ｒｆ기(a)와 산성기(b)에 대해서는, 일본 특허공개 2005-36160호 공보에 기재된 것과 같은 정의이다.The fluorine-containing resin (A) is an air containing a monomer unit based on a monomer having an ethylenic double bond and an R 'group (a), and a monomer unit based on a monomer having an ethylenic double bond and an acid group (b). As a coalescence, it is preferable that acid value is 1-300 mggOH / g. The R 'group (a) and the acid group (b) are the same definitions as those described in JP 2005-36160 A.

에틸렌성 이중 결합으로서는, (메타)아크릴로일기, 비닐기, 알릴기를 들 수 있다.As an ethylenic double bond, a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and an allyl group are mentioned.

에틸렌성 이중 결합과 Ｒｆ기(a)를 갖는 단량체로서는, ＣＨ₂=ＣＲ¹ＣＯＯＱ²Ｒｆ, ＣＨ₂=ＣＲ¹ＯＣＯＱ¹Ｒｆ, ＣＨ₂=ＣＲ¹ＯＱ¹Ｒｆ, ＣＨ₂=ＣＲ¹ＣＨ₂ＯＱ¹Ｒｆ, ＣＨ₂=ＣＲ¹ＣＯＯＱ²ＮＲ¹ＳＯ₂Ｒｆ, ＣＨ₂=ＣＲ¹ＣＯＯＱ²ＮＲ¹ＣＯＲｆ, ＣＨ₂=ＣＲ¹ＣＯＯＱ²ＮＲ¹ＣＯＯＱ²Ｒｆ, ＣＨ₂=ＣＲ¹ＣＯＯＱ²ＯＱ¹Ｒｆ등을 들 수 있다. 단, R¹은 수소원자 또는 메틸기를, Q¹은 단결합 또는 탄소수 1∼6의 2가 유기기를, Q²은 탄소수 1∼6의 2가 유기기를 각각 나타낸다. Q¹, Q²은 환상구조를 갖고 있어도 좋다.As the monomer having an ethylenic double bond and Rf group _{(a), CH 2 = CR} 1 COOQ 2 Rf, CH 2 = CR 1 OCOQ 1 Rf, CH 2 = CR 1 OQ 1 Rf, CH 2 = CR 1 CH 2 OQ ^{_{^{1 Rf, CH 2 = CR 1}}} COOQ 2 NR 1 SO 2 Rf, CH 2 = CR 1 COOQ 2 NR 1 CORf, CH 2 = CR 1 COOQ 2 NR 1 COOQ 2 Rf, CH 2 = CR 1 COOQ 2 OQ 1 Rf Etc. can be mentioned. However, R ¹ represents a hydrogen atom or a methyl group, Q ¹ represents a single bond or a divalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, and Q ² represents a divalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, respectively. Q ¹ and Q ² may have a cyclic structure.

Q¹, Q²의 구체예로서는, -ＣＨ₂-, -ＣＨ₂ＣＨ₂-, -ＣＨ(ＣＨ₃)-, -ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂-, -C(ＣＨ₃)₂-, -ＣＨ(ＣＨ₂ＣＨ₃)-, -ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂-, -ＣＨ(ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₃)-, -ＣＨ₂(ＣＨ₂)₃ＣＨ₂-, -ＣＨ(ＣＨ₂ＣＨ(ＣＨ₃)₂)-, -ＣＨ₂ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ₂-, -ＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨＣＯＯＣＨ₂-, -ＣＨ₂ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ₂ＯＣＨ₂-등을 들 수 있다. Q¹은 단결합이여도 좋다. 이것들 중에서도, 합성의 용이함의 관점에서, -ＣＨ₂-, -ＣＨ₂ＣＨ₂-, -ＣＨ₂ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ₂-가 바람직하다.Specific examples of Q ¹ , Q ² include -CH _2- , -CH ₂ CH _2- , -CH (CH ₃ )-, -CH ₂ CH ₂ CH _2- , -C (CH ₃ ) _2- , -CH ( _{_{CH 2 CH 3) -, -CH}} 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH (CH 2 CH 2 CH 3) -, -CH 2 (CH 2) 3 CH 2 -, -CH (CH 2 CH (CH ₃ ) ₂ )-, -CH ₂ CH (OH) CH _2- , -CH ₂ CH ₂ NHCCOOC _2- , -CH ₂ CH (OH) CH ₂ OCH ₂ -and the like. Q ¹ may be a single bond. Among these, from the viewpoint of the ease of synthesis, -CH _2- , -CH ₂ CH _2- , -CH ₂ CH (OH) CH ₂ -are preferable.

에틸렌성 이중 결합과 Ｒｆ기(a)를 갖는 단량체로서는, 구체적으로 이하의 것을 들 수 있다. As a monomer which has an ethylenic double bond and R 'group (a), the following are mentioned specifically ,.

ＣＨ₂=ＣＨＣＯＯＣＨ₂ＣＦ₂O(ＣＦ₂ＣＦ₂O)_n-1ＣＦ₃(n은 3∼9), ＣＨ₂=ＣＨＣＯＯＣＨ₂ＣＦ(ＣＦ₃)O(ＣＦ₂ＣＦ(ＣＦ₃)O)_n-1C₆F₁₃(n은 2∼6), ＣＨ₂=ＣＨＣＯＯＣＨ₂ＣＦ(ＣＦ₃)O(ＣＦ₂ＣＦ(ＣＦ₃)O)_n-1C₃F₇(n은 2∼6), _{_{_{CH 2 = CHCOOCH 2 CF 2 O}}} (CF 2 CF 2 O) n-1 CF 3 (n is _{_{3~9), CH 2 = CHCOOCH 2}} CF (CF 3) O (CF 2 CF (CF 3) O) n _-1 C ₆ F ₁₃ (n is 2 to 6), CH ₂ = CHCCOOC ₂ CF (CF ₃ ) O (CF ₂ CF (CF ₃ ) O) _n-1 C ₃ F ₇ (n is 2 to 6),

ＣＨ₂=C (ＣＨ₃)ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨＣＯＯＣＨ₂ＣＦ₂O(ＣＦ₂ＣＦ₂O)_n-1ＣＦ₃(n은 3∼9), ＣＨ₂=C (ＣＨ₃)ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨＣＯＯＣＨ₂ＣＦ(ＣＦ₃)O(ＣＦ₂ＣＦ (ＣＦ₃)O)_n-1C₃F₇(n은 2∼6), ＣＨ₂=C(ＣＨ₃)ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨＣＯＯＣＨ₂ＣＦ(ＣＦ₃)O(ＣＦ₂ＣＦ(ＣＦ₃)O)_n-1C₆F₁₃(n은 2∼6), CH ₂ = C (CH ₃ ) CCO ₂ CH ₂ NH ₂ CO ₂ CH ₂ O ₂ (CF ₂ CF ₂ O) _n-1 CF ₃ (n is 3 to 9), CH ₂ = C (CH ₃ ) CO2 ₂ CH ₂ NH ₂ _{_{2 CF (CF 3) O (}} CF 2 CF (CF 3) O) n-1 C 3 F 7 (n is _{2~6), CH 2 = C (} CH 3) COOCH 2 CH 2 NHCOOCH 2 CF (CF 3 ) O (CF ₂ CF (CF ₃ ) O) _n-1 C ₆ F ₁₃ (n is 2 to 6),

ＣＨ₂=C(ＣＨ₃)ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＦ₂O(ＣＦ₂ＣＦ₂O)_n-1ＣＦ₃(n은 3∼9), ＣＨ₂=C(ＣＨ₃)ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＦ(ＣＦ₃)O(ＣＦ₂ＣＦ(ＣＦ₃)O)_n-1C₆F₁₃(n은 2∼6), ＣＨ₂=C(ＣＨ₃)ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＦ(ＣＦ₃)O(ＣＦ₂ＣＦ(ＣＦ₃)O)_n-1C₃F₇(n은 2∼6). _{_{CH 2 = C (CH 3)}} COOCH 2 CH (OH) CH 2 OCH 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 O) n-1 CF 3 (n is _{3~9), CH 2 = C (} CH 3) COOCH ₂ CH (OH) CH ₂ OCH ₂ CF (CF ₃ ) O (CF ₂ CF (CF ₃ ) O) _n-1 C ₆ F ₁₃ (n is 2 to 6), CH ₂ = C (CH ₃ ) CO2CO ₂ CH (OH) CH ₂ OHC ₂ CF (CF ₃ ) O (CF ₂ CF (CF ₃ ) O) _n-1 C ₃ F ₇ (n is 2 to 6).

불소 함유 수지(A)에 있어서의 에틸렌성 이중 결합과 Ｒｆ기(a)를 갖는 단량체에 기초하는 단량체 단위의 함유량은, 1∼95% 등이 바람직하고, 5∼80%이 보다 바람직하고, 20∼60%이 더욱 바람직하다. 단량체 단위의 함유량이 해당 범위이면 불소 함유 수지(A)는 양호한 발잉크성을 갖고, 본 발명의 감광성 조성물의 현상성이 양호하게 된다.1-95% is preferable, as for content of the monomeric unit based on the monomer which has an ethylenic double bond in a fluorine-containing resin (A), and R 'group (a), 5 to 80% is more preferable, 20 60% is more preferable. When content of a monomeric unit is the said range, fluorine-containing resin (A) has favorable ink repellency and developability of the photosensitive composition of this invention becomes favorable.

산성기(b)를 갖는 단량체로서는, 예를 들면, 카르복실기를 갖는 단량체, 페놀성 수산기를 갖는 단량체, 술폰산기, 수산기를 갖는 단량체를 들 수 있다.As a monomer which has an acidic group (b), the monomer which has a carboxyl group, the monomer which has a phenolic hydroxyl group, the sulfonic acid group, and the monomer which has a hydroxyl group are mentioned, for example.

카르복실기를 갖는 단량체로서는, 아크릴산, 메타크릴산, 비닐아세트산, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 푸말산, 신남산, 또는 그것들의 염을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.Examples of the monomer having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, vinyl acetic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, cinnamic acid, or salts thereof. These may be used independently and may use 2 or more types together.

페놀성 수산기를 갖는 단량체로서는, o-히드록시스티렌, m-히드록시스티렌, p-히드록시스티렌 등을 들 수 있다. 또한, 이것들의 벤젠환의 1개 이상의 수소원자 가, 메틸기, 에틸기, n-부틸기 등의 알킬기, 메톡시기, 에톡시기, n-부톡시기 등의 알콕시기, 할로겐 원자, 알킬기의 1개 이상의 수소원자가 할로겐 원자로 치환된 할로알킬기, 니트로기, 시아노기, 아미드기로 치환된 화합물 등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.As a monomer which has a phenolic hydroxyl group, o-hydroxy styrene, m-hydroxy styrene, p-hydroxy styrene, etc. are mentioned. Further, at least one hydrogen atom of these benzene rings may be an alkyl group such as methyl group, ethyl group, n-butyl group, alkoxy group such as methoxy group, ethoxy group, n-butoxy group, halogen atom, or at least one hydrogen atom of alkyl group. The compound substituted by the haloalkyl group, the nitro group, the cyano group, and the amide group substituted by the halogen atom is mentioned. These may be used independently and may use 2 or more types together.

술폰산기를 갖는 단량체로서는, 비닐술폰산, 스티렌술폰산, (메타)알릴술폰산, 2-히드록시-3-(메타)알릴옥시프로판술폰산, (메타)아크릴산-2-술포에틸, (메타)아크릴산-2-술포프로필, 2-히드록시-3-(메타)아크릴옥시프로판술폰산, 2-(메타)아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, 또는 그것들의 염 등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.Examples of the monomer having a sulfonic acid group include vinylsulfonic acid, styrenesulfonic acid, (meth) allylsulfonic acid, 2-hydroxy-3- (meth) allyloxypropanesulfonic acid, (meth) acrylic acid-2-sulfoethyl and (meth) acrylic acid-2- Sulfopropyl, 2-hydroxy-3- (meth) acryloxypropanesulfonic acid, 2- (meth) acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, or salts thereof. These may be used independently and may use 2 or more types together.

수산기를 갖는 단량체로서는, 비닐 페놀, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 3-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 5-히드록시펜틸 (메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 3-클로로-2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 글리세린 모노(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸비닐에테르, 4-히드록시부틸비닐에테르, 시클로헥산디올모노비닐에테르, 2-히드록시에틸알릴에테르, N-히드록시메틸 (메타)아크릴아미드, N, N-비스(히드록시메틸) 등을 들 수 있다.As a monomer which has a hydroxyl group, vinyl phenol, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) Acrylate, 5-hydroxypentyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxycyclohexyl (meth) acrylate, neopentylglycol mono (meth) acrylate, 3-chloro 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerin mono (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, cyclohexanediol monovinyl ether, 2-hydroxyethyl allyl ether , N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N, N-bis (hydroxymethyl), and the like.

더욱, 수산기를 갖는 단량체는, 말단이 수산기인 폴리옥시알킬렌 사슬을 갖는 단량체이여도 좋다. 예를 들면, ＣＨ₂=ＣＨＯＣＨ₂C₆H₁₀ＣＨ_2O(C₂H₄O)_gH (여기에서, g은 1∼100의 정수, 이하 동일.）, ＣＨ₂=ＣＨＯＣ₄H_8O(C₂H₄O)_gH, ＣＨ₂=ＣＨＣＯＯＣ₂H_4O(C₂H₄O)_gH, ＣＨ₂=C (ＣＨ₃)ＣＯＯＣ₂H_4O(C₂H₄O)_gH, ＣＨ₂=ＣＨＣＯＯＣ₂H_4O(C₂H₄O)_h(C₃H₆O)_kH (여기에서, h는 0 또는 1∼100의 정수이며, k은 1∼100의 정수이며, h+k은 1∼100이다. 이하 동일.）, ＣＨ₂=C (ＣＨ₃)ＣＯＯＣ₂H_4O(C₂H₄O)_h(C₃H₆O)_kH등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.Moreover, the monomer which has a hydroxyl group may be a monomer which has the polyoxyalkylene chain whose terminal is a hydroxyl group. For example, CH ₂ = CHO COH ₂ C ₆ H ₁₀ CH ₂ _{O (} C ₂ H ₄ O) _g H (herein, g is an integer of 1 to 100, hereinafter equal.), CH ₂ = CHO CO ₄ H _{8 O (} C ₂ H ₄ O) _g H, CH ₂ = CHC COO ₂ H ₄ O ₍ C ₂ H ₄ O) _g H, CH ₂ = C (CH ₃ ) CO ₂ CO ₄ H ₍ C ₂ H ₄ O) _g H, CH ₂ = CHCOOC ₂ in _{_{_{h 4O (C 2 h 4 O}}} ) h (C 3 h 6 O) k h ( here, h is an integer of 0 or 1~100, k is an integer from 1~100, h + k is 1, -100. The same applies.), CH ₂ = C (CH ₃ ) CO ₂ CO ₄ H ₍ C ₂ H ₄ O) _h (C ₃ H ₆ O) _k H. These may be used alone. You may use together and 2 or more types.

불소 함유 수지(A)에 있어서의 산성기(b)를 갖는 단량체에 기초하는 단량체 단위의 함유량은, 0.1∼40% 등이 바람직하고, 0.5∼30%가 보다 바람직하고, 1∼20%가 더욱 바람직하다. 해당 범위이면 불소 함유 수지(A)는 양호한 발잉크성을 갖고, 감광성 조성물의 현상성이 양호하게 된다.As for content of the monomeric unit based on the monomer which has an acidic group (b) in fluorine-containing resin (A), 0.1-40% etc. are preferable, 0.5-30% is more preferable, 1-20% is further more desirable. If it is this range, fluorine-containing resin (A) will have favorable ink repellency and the developability of the photosensitive composition will become favorable.

불소 함유 수지(A)가 에틸렌성 이중 결합과 Ｒｆ기(a)를 갖는 단량체에 기초하는 단량체 단위와, 에틸렌성 이중 결합과 산성기(b)를 갖는 단량체에 기초하는 단량체 단위를 갖는 공중합체일 경우, 더욱, Ｒｆ기(a) 및 산성기(b)를 갖지 않는 단량체(이하, 「그 밖의 단량체」라고 말한다.)에 기초하는 단량체 단위를 갖고 있어도 좋다.The fluorine-containing resin (A) is a copolymer having a monomer unit based on a monomer having an ethylenic double bond and an R 'group (a) and a monomer unit based on a monomer having an ethylenic double bond and an acid group (b). In the case, it may further have a monomer unit based on the monomer which does not have an R 'group (a) and an acidic group (b) (henceforth "other monomer".).

그 밖의 단량체로서는, 탄화수소계 올레핀류, 비닐에테르류, 이소프로페닐에테르류, 알릴에테르류, 비닐 에스테르류, 알릴 에스테르류, (메타)아크릴산 에스테르류, (메타)아크릴아미드류, 방향족 비닐 화합물, 클로로올레핀류, 플루오로올레핀류, 공역 디엔류 등을 들 수 있다. 이것들의 화합물에는, 예를 들면 수산기, 카르보닐기, 알콕시기, 아미드기 등의 관능기가 포함되어 있어도 좋다. 또한, 폴리 실록산 구조를 갖는 기를 갖고 있어도 좋다. 단, 이것들의 그 밖의 단량체에 기초하는 단량체 단위는, Ｒｆ기(a) 및 산성기(b)를 갖지 않는다. 이것들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다. 특히 (메타)아크릴산 에스테르류, (메타)아크릴 아미드류가, 본 발명의 감광성 수지조성물로 형성되는 도포막의 내열성을 뛰어난 것으로 하기 때문에 바람직하다.As other monomers, hydrocarbon type olefins, vinyl ethers, isopropenyl ethers, allyl ethers, vinyl esters, allyl esters, (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylamides, aromatic vinyl compounds, Chloroolefins, fluoroolefins, conjugated dienes, and the like. These compounds may contain functional groups, such as a hydroxyl group, a carbonyl group, an alkoxy group, and an amide group, for example. Moreover, you may have group which has a polysiloxane structure. However, the monomeric unit based on these other monomers does not have a R 'group (a) and an acidic group (b). These may be used independently and may use 2 or more types together. In particular, (meth) acrylic acid esters and (meth) acrylamides are preferable because they are excellent in heat resistance of the coating film formed from the photosensitive resin composition of the present invention.

불소 함유 수지(A)에 있어서, 그 밖의 단량체에 기초하는 단량체 단위의 비율은 80% 이하가 바람직하고, 70% 이하가 보다 바람직하다. 해당 범위이면 본 발명의 감광성 조성물의 현상성이 양호하게 된다.In fluorine-containing resin (A), 80% or less is preferable and, as for the ratio of the monomeric unit based on another monomer, 70% or less is more preferable. The developability of the photosensitive composition of this invention becomes it favorable that it is this range.

본 발명에 있어서의 불소 함유 수지(A)는, 상기 에틸렌성 이중 결합과 Ｒｆ기(a)를 갖는 단량체에 기초하는 단량체 단위와, 에틸렌성 이중 결합과 산성기(b)를 갖는 단량체에 기초하는 단량체 단위를 포함하는 공중합체를 합성함으로써 얻을 수 있는 것 이외에, 반응 부위를 갖는 중합체에 Ｒｆ기(a)를 갖는 화합물 및/또는 산성기(b)를 갖는 화합물을 반응시키는 각종 변성방법에 의해서도 얻을 수 있다.The fluorine-containing resin (A) in this invention is based on the monomer unit based on the monomer which has the said ethylenic double bond and R 'group (a), and the monomer which has an ethylenic double bond and an acidic group (b). In addition to being obtained by synthesizing a copolymer containing a monomer unit, it is also obtained by various modification methods for reacting a compound having a R 'group (a) and / or a compound having an acidic group (b) with a polymer having a reaction site. Can be.

반응 부위를 갖는 중합체에 Ｒｆ기(a)를 갖는 화합물을 반응시키는 각종 변성방법으로서는, 예를 들면, 에폭시기를 갖는 단량체를 미리 공중합시킨 후, Ｒｆ기(a)와 카르복실기를 갖는 화합물을 반응시키는 방법, 에폭시기를 갖는 단량체를 미리 공중합시킨 후, Ｒｆ기(a)와 히드록실기를 갖는 화합물을 반응시키는 방법 등을 들 수 있다.As various modification methods for making the compound which has R 'group (a) react with the polymer which has a reaction site, for example, after copolymerizing the monomer which has an epoxy group beforehand, the method which makes R' group (a) and the compound which has a carboxyl group react After copolymerizing the monomer which has an epoxy group beforehand, the method of making the compound which has R 'group (a) and a hydroxyl group, etc. are mentioned.

에폭시기를 갖는 단량체의 구체예로서는, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트를 들 수 있다.As a specific example of the monomer which has an epoxy group, glycidyl (meth) acrylate and 3, 4- epoxycyclohexyl methyl acrylate are mentioned.

Ｒｆ기(a)와 카르복실기를 갖는 화합물로서는, 하기 식 3으로 나타내지는 화합물을 들 수 있다.As a compound which has R 'group (a) and a carboxyl group, the compound represented by following formula (3) is mentioned.

ＨＯＯＣ-C_p-1F_2(p-1)-O-(C_pF_2p-O)_n-1-C_qF_2q+1 ···식 3HOC-C _p-1 F _{2 (p-1)} -O- (C _p F _2p -O) _n-1 -C _q F _{2q + 1} ...

식 3 중, p는 2 또는 3의 정수, q는 1∼20의 정수, n은 2∼50의 정수를 나타낸다.In formula 3, p is an integer of 2 or 3, q is an integer of 1-20, n shows the integer of 2-50.

Ｒｆ기(a)와 히드록실기를 갖는 화합물로서는, 하기 식 4로 나타내지는 화합물을 들 수 있다.As a compound which has R 'group (a) and a hydroxyl group, the compound represented by following formula 4 is mentioned.

ＨＯＣＨ₂-C_p-1F_2(p-1)-O-(C_pF_2p-O)_n-1-C_qF_2q+1 ···식 4HOCH ₂ -C _p-1 F _{2 (p-1)} -O- (C _p F _2p -O) _n-1 -C _q F _{2q + 1} ...

식 4 중, p는 2 또는 3의 정수, q는 1∼20의 정수, n은 2∼50의 정수를 나타낸다.In formula 4, p is an integer of 2 or 3, q is an integer of 1-20, n shows the integer of 2-50.

반응 부위를 갖는 중합체에 산성기(b)를 갖는 화합물을 반응시키는 각종 변성방법으로서는, 예를 들면, 수산기를 갖는 단량체를 미리 공중합시킨 후, 산무수물을 반응시키는 방법을 들 수 있다. 또한, 에틸렌성 이중 결합을 갖는 산무수물을 미리 공중합시킨 후, 수산기를 갖는 화합물을 반응시키는 방법을 들 수 있다.As various modification methods of making the compound which has an acidic group (b) react with the polymer which has a reaction site | part, for example, the method of making an acid anhydride react after copolymerizing the monomer which has a hydroxyl group beforehand is mentioned. Moreover, after copolymerizing the acid anhydride which has ethylenic double bond in advance, the method of making the compound which has a hydroxyl group react is mentioned.

수산기를 갖는 단량체의 구체예로서는, 비닐 페놀, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 3-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 5-히드록시펜틸 (메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 3-클로로-2-히드록시프로필 (메타)아 크릴레이트, 글리세린 모노(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸비닐에테르, 4-히드록시부틸비닐에테르, 시클로헥산디올 모노비닐에테르, 2-히드록시에틸알릴에테르, N-히드록시메틸 (메타)아크릴아미드, N, N-비스(히드록시메틸) 등을 들 수 있다.As a specific example of the monomer which has a hydroxyl group, vinyl phenol, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl ( Meta) acrylate, 5-hydroxypentyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxycyclohexyl (meth) acrylate, neopentylglycol mono (meth) acrylate, 3 -Chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerin mono (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, cyclohexanediol monovinyl ether, 2-hydroxy Ethyl allyl ether, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N, N-bis (hydroxymethyl), etc. are mentioned.

더욱, 수산기를 갖는 단량체는, 말단이 수산기인 폴리옥시알킬렌 사슬을 갖는 단량체이여도 좋다. 예를 들면, ＣＨ₂=ＣＨＯＣＨ₂C₆H₁₀ＣＨ₂O(C₂H₄O)_gH (여기에서, g은 1∼100의 정수, 이하 동일.）, ＣＨ₂=ＣＨＯＣ₄H_8O(C₂H₄O)_gH, ＣＨ₂=ＣＨＣＯＯＣ₂H_4O(C₂H₄O)_gH, ＣＨ₂=C (ＣＨ₃)ＣＯＯＣ₂H₄O(C₂H₄O)_gH, ＣＨ₂=ＣＨＣＯＯＣ₂H_4O(C₂H₄O)_h(C₃H₆O)_kH (여기에서, h는 0 또는 1∼100의 정수이고, k는 1∼100의 정수이며, h+k은 1∼100이다. 이하 동일.）, ＣＨ₂=C (ＣＨ₃)ＣＯＯＣ₂H₄O(C₂H₄O)_h(C₃H₆O)_kH,등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.Moreover, the monomer which has a hydroxyl group may be a monomer which has the polyoxyalkylene chain whose terminal is a hydroxyl group. For example, CH ₂ = CHOCOH ₂ C ₆ H ₁₀ CH ₂ O (C ₂ H ₄ O) _g H (herein, g is an integer of 1 to 100, hereinafter equal.), CH ₂ = CHO CO ₄ H _{8 O (} _{_{_{C 2 H 4 O) g H}}} , CH 2 = CHCOOC 2 H 4O (C 2 H 4 O) g H, CH 2 = C (CH 3) COOC 2 H 4 O (C 2 H 4 O) g H, CH ₂ = CHCCOOC ₂ H ₄ O ₍ C ₂ H ₄ O) _h (C ₃ H ₆ O) _k H (where h is 0 or an integer from 1 to 100, k is an integer from 1 to 100, and h + k Is 1 to 100. The same applies to the following.), CH ₂ = C (CH ₃ ) COC ₂ H ₄ O (C ₂ H ₄ O) _h (C ₃ H ₆ O) _k H, and the like. You may use independently and may use 2 or more types together.

산무수물의 구체예로서는, 무수 프탈산, 무수 3-메틸프탈산, 무수 트리멜리트산 등을 들 수 있다.Specific examples of the acid anhydride include phthalic anhydride, 3-methylphthalic anhydride, trimellitic anhydride, and the like.

에틸렌성 이중 결합을 갖는 산무수물로서는, 무수 말레인산, 무수이타콘산, 무수 시트라콘산, 무수메틸-5-노르보르넨-2,3-디카르복실산, 무수 3,4,5,6-테트라히드로프탈산, 무수 ｃｉｓ-1,2,3,6-테트라히드로프탈산, 2-부텐-1-일스시닉 무수물 등을 들 수 있다.As the acid anhydride having an ethylenic double bond, maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid, 3,4,5,6-tetra anhydride Hydrophthalic acid, cis-1,2,3,6-tetrahydrophthalic acid, 2-buten-1-ylsnic anhydride, and the like.

수산기를 갖는 화합물로서는, 1개 이상의 수산기를 갖고 있는 화합물이면 좋 고, 상기에 나타낸 수산기를 갖는 단량체의 구체예나, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올, 에틸렌 글리콜 등의 알콜류, 2-메톡시에탄올, 2-에톡시에탄올, 2-부톡시에탄올 등의 셀로솔브류, 2-(2-메톡시에톡시)에탄올, 2-(2-에톡시에톡시)에탄올, 2-(2-부톡시에톡시)에탄올 등의 카르비톨류 등을 들 수 있다. 분자내에 1개의 수산기를 갖는 화합물이 바람직하다. 이것들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.As a compound which has a hydroxyl group, the compound which has one or more hydroxyl groups may be sufficient, and the specific example of the monomer which has a hydroxyl group shown above, alcohols, such as ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, ethylene glycol, 2 Cellosolves such as -methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, 2- (2-methoxyethoxy) ethanol, 2- (2-ethoxyethoxy) ethanol, 2- (2 Carbitols, such as -butoxyethoxy) ethanol, etc. are mentioned. Preferred are compounds having one hydroxyl group in the molecule. These may be used independently and may use 2 or more types together.

불소 함유 수지(A) 또는 불소 함유 수지(A)의 전구체가 되는 상기 반응 부위를 갖는 중합체는, 단량체를 필요에 따라서 연쇄이동제와 함께, 용매에 용해해서 가열하고, 중합 개시제를 더해서 반응시키는 방법에 의해 합성할 수 있다.The polymer which has the said reaction site used as a precursor of fluorine-containing resin (A) or fluorine-containing resin (A) melt | dissolves a monomer with a chain transfer agent as needed, and heats in a solvent, and adds a polymerization initiator to the method to make it react. It can synthesize | combine by.

불소 함유 수지(A)의 산가는, 1∼300ｍｇＫＯＨ/g이 바람직하고, 5∼200ｍｇＫＯＨ/g이 보다 바람직하고, 10∼150ｍｇＫＯＨ/g이 특히 바람직하다. 이 범위내이면 본 발명의 감광성 조성물의 현상성이 양호하게 된다. 또한, 산가는 수지 1g을 중화하는데도 필요한 수산화칼륨의 질량(단위ｍｇ)이며, 본 명세서에 있어서는 단위를 ｍｇＫＯＨ/g으로 기재한다.1-300 mggOH / g is preferable, as for the acid value of fluorine-containing resin (A), 5-200 mggOH / g is more preferable, and 10-150 mggOH / g is especially preferable. If it is in this range, developability of the photosensitive composition of this invention will become favorable. In addition, an acid value is the mass (unit mg) of potassium hydroxide required also to neutralize 1 g of resin, and in this specification, a unit is described as mg-OH / g.

불소 함유 수지(A)의 수평균 분자량은, 500 이상 20000 미만이 바람직하고, 2000 이상 15000 미만이 보다 바람직하다. 해당 범위내이면, 본 발명의 감광성 조성물의 현상성이 양호하다.수평균 분자량은, 겔투과 크로마토그래피법에 의해, 폴리스티렌을 표준물질로서 측정된다.500 or more and less than 20000 are preferable, and, as for the number average molecular weight of fluorine-containing resin (A), 2000 or more and less than 15000 are more preferable. If it is in the said range, developability of the photosensitive composition of this invention is favorable. The number average molecular weight is measured by a gel permeation chromatography method, and polystyrene as a reference material.

불소 함유 수지(A)의 배합량은, 감광성 조성물 중의 고형분에 대하여, 0.01∼50%가 바람직하고, 0.1∼30%가 보다 바람직하고, 0.2∼10%가 특히 바람직하다. 해당 범위내이면, 감광성 조성물은 양호한 발잉크성, 잉크 전락성을 갖고, 현상성이 양호하게 된다.0.01-50% is preferable with respect to solid content in the photosensitive composition, as for the compounding quantity of fluorine-containing resin (A), 0.1-30% is more preferable, 0.2-10% is especially preferable. If it exists in the said range, a photosensitive composition will have favorable ink repellency and ink deterioration property, and developability will become favorable.

(2) <발수층을 마련하는 방법>(2) <How to prepare a water repellent layer>

「혼색」을 막는 수단으로서, 농색 이획벽을 형성한 기판 상의 농색 이획벽과 일치한 위치에 잉크 반발성을 갖는 격벽을 제작하는 방법이 있다.As a means of preventing "mixing color", there exists a method of manufacturing the partition which has ink repulsion at the position corresponded to the deep color deviation wall on the board | substrate which formed the deep color deviation wall.

잉크 반발성을 갖는 격벽으로서는, 실리콘 고무층을 이용하는 것이 바람직하다. 표층에 도포 형성되는 실리콘 고무층은, 착색에 사용하는 용액 및 잉크에 대하여 반발 효과를 갖는 것이 필수적이고, 이것에 한정되는 것이 아니지만, 다음 같은 반복 단위를 갖는 분자량 몇천∼몇십만의 선상 유기 폴리 실록산을 주성분으로 하는 것이다.As a partition which has ink repellency, it is preferable to use a silicone rubber layer. It is essential that the silicone rubber layer coated and formed on the surface layer has a repulsion effect on the solution and ink used for coloring, and is not limited thereto. However, the linear organic polysiloxane having a molecular weight of tens to several hundred thousand having the following repeating unit It is a main ingredient.

여기에서, n은 2 이상의 정수, R는 각각 독립한 탄소수 1∼10의 알킬기, 알케닐기 또는 페닐기이다. 이러한 선상 유기 폴리 실록산을 성기게 가교함으로써 실리콘 고무를 얻을 수 있다. 가교제는, 소위 실온(저온) 경화형의 실리콘 고무에 사용되어지는 아세톡시실란, 케톡심실란, 알콕시실란, 아미노실란, 아미도실란, 알케닐옥시실란 등이며, 통상, 말단이 수산기인 선상의 유기 폴리실록산과 조합시키고, 각각 탈아세트산형, 탈옥심형, 탈알콜형, 탈아민형, 탈아미드형, 탈케톤형의 실리콘 고무가 된다. 또한, 실리콘 고무에는, 촉매로서 소량의 유기 주석 화합물 등이 첨가된다. 감광성 수지층과 실리콘 고무층을 접착하기 위해서, 층 사이에 접착층으로서 여러가지의 것을 사용하는 일이 있고, 특히 아미노실란 화합물이나 유기 티타네이트 화합물을 바람직하게 사용할 수 있다. 감광성 수지층과 실리콘 고무층 사이에 접착층을 형성하는 대신에, 실리콘 고무층에 접착 성분을 첨가할 수도 있다. 이 첨가 접착 성분으로서도, 아미노실란화합물이나 유기 티타네이트 화합물을 사용할 수 있다.Here, n is an integer of 2 or more, and R is an independent C1-C10 alkyl group, alkenyl group, or phenyl group, respectively. A silicone rubber can be obtained by coarsely crosslinking such linear organic polysiloxane. The crosslinking agent is acetoxysilane, ketoxime silane, alkoxysilane, aminosilane, amidosilane, alkenyloxysilane, etc. which are used for the so-called room temperature (low temperature) -curable silicone rubber, and the linear organic polysiloxane whose terminal is a hydroxyl group is usually used. And de-acetic acid type, oxime type, dealcohol type, deamine type, deamide type, and deketone type silicone rubber, respectively. In addition, a small amount of organic tin compound or the like is added to the silicone rubber as a catalyst. In order to adhere | attach a photosensitive resin layer and a silicone rubber layer, various things may be used as an adhesive layer between layers, Especially an aminosilane compound and an organic titanate compound can be used preferably. Instead of forming an adhesive layer between the photosensitive resin layer and the silicone rubber layer, an adhesive component may be added to the silicone rubber layer. As this additive adhesion component, an aminosilane compound or an organic titanate compound can be used.

격벽을 제작하기 위한 노광은, 농색 이획벽을 마스크로 해서 기판의 뒷편에서 행한다. 이렇게 노광한 후, n-헵탄/에탄올 혼합액으로 현상하고, 실리콘 고무 표층을 갖는 격벽을 제작할 수 있다.Exposure for producing a partition wall is performed from the back side of a board | substrate using a deep color deviation wall as a mask. After exposing like this, it develops with n-heptane / ethanol liquid mixture, and the partition which has a silicone rubber surface layer can be produced.

(3) <플라즈마 처리에 의해 발수성을 부여하는 방법>(3) <method of imparting water repellency by plasma treatment>

「혼색」을 막는 수단으로서, 농색 이획벽을 형성한 기판에, 플라즈마에 의한 발수화 처리를 하는 방법이 있다. As a means of preventing "mixing color", there is a method of performing a water repellent treatment by plasma on a substrate on which a deep color deviation wall is formed.

본 공정에 있어서 도입한, 적어도 불소원자를 함유하는 가스로서는, ＣＦ₄, ＣＨＦ₃, C₂F₆, ＳＦ₆, C₃F₈, C₅F₈에서 선택되는 할로겐 가스를 1종 이상 이용하는 것이 바람직하다. 특히, C₅F₈(옥타플루오로시클로펜텐)은, 오존 파괴능이 0임과 동시에, 대기수명이 종래의 가스에 비해서(ＣＦ₄:5만년, C₄F₈:3200년) 0.98년으로 매우 짧다. 따라서, 지구온난화계수가 90(ＣＯ₂=2로 한 100년 적산값)으로, 종래의 가스(ＣＦ₄:6500, C₄F₈:8700)에 비해서 매우 작고, 오존층이나 지구환경보호에 매우 유효해서, 본 발명에 사용하는 점에서 바람직하다.As a gas containing at least a fluorine atom introduced in this step, one or more halogen gases selected from C ₄ , C ₃ , C ₂ F ₆ , SF ₆ , C ₃ F ₈ , and C ₅ F ₈ are used. desirable. In particular, C ₅ F ₈ (a octafluoro-cyclopentene), the ability of ozone destruction 0 and at the same time, the atmospheric lifetime than the conventional gas (CF _4: 5 mannyeon, C ₄ F _8: 3200 years) so as 0.98 years short. Therefore, the global warming coefficient is 90 (100-year integrated value with CO ₂ = 2), which is very small compared to the conventional gas (CF ₄ : 6500, C ₄ F ₈ : 8700), and is very effective for protecting the ozone layer and the global environment. Therefore, it is preferable at the point used for this invention.

더욱, 도입 가스로서는, 필요에 따라서 산소, 아르곤, 헬륨 등의 가스를 병용해도 좋다.Moreover, as introduction gas, you may use together gases, such as oxygen, argon, helium, as needed.

본 공정에 있어서는, 상기 ＣＦ₄, ＣＨＦ₃, C₂F₆, ＳＦ₆, C₃F₈, C₅F₈에서 선택되는 할로겐 가스를 1종 이상과, O₂를 혼합한 가스를 이용함으로써, 본 공정에 있어서 처리되는 농색 이획벽 표면의 발잉크성의 정도를 제어하는 것이 가능하게 된다. 단, 해당 혼합 가스에 있어서, O₂의 혼합 비율이 30%을 초과하면 O₂에 의한 산화 반응이 지배적으로 되어, 발잉크성 향상 효과를 방해할 수 있다. 또한, O₂혼합 비율이 30%을 초과하면 수지에 대한 손상이 현저해진다. 이것 때문에, 해당 혼합 가스를 이용할 경우에는, O₂의 혼합 비율이 30% 이하가 되는 범위에서 사용할 필요가 있다.In this step, by using one or more types of halogen gas selected from the above-mentioned Cf ₄ , Cf ₃ , C ₂ F ₆ , Sf ₆ , C ₃ F ₈ , C ₅ F ₈ and a gas mixed with O ₂ , It becomes possible to control the degree of ink repellency of the surface of the deep color deviation wall processed in this process. However, in the mixed gas, when the mixing ratio of O ₂ exceeds 30% of the oxidation by the O ₂ it is dominant, it is possible to interfere with the ink-repellent effect to improve. In addition, damage to the resin becomes remarkable when the O ₂ mixing ratio exceeds 30%. Because of this, in the case of using the mixed gas, it is necessary to use in the range of the mixing ratio of O ₂ being less than 30%.

플라즈마의 발생 방법으로서는, 저주파방전, 고주파방전, 마이크로파방전 등의 방식을 이용할 수 있고, 플라즈마 처리할 때의 압력, 가스 유량, 방전 주파수, 처리 시간 등의 조건은 임의로 설정할 수 있다.As a method of generating plasma, a method such as low frequency discharge, high frequency discharge, microwave discharge, or the like can be used, and conditions such as pressure, gas flow rate, discharge frequency, and processing time during plasma processing can be arbitrarily set.

(4) <농색 이획벽 상면에 발수재료를 도포하는 방법>(4) <Method of applying water repellent material on the surface of the deep color deviation wall>

「혼색」을 막는 수단으로서, 농색 이획벽을 형성한 기판에, 발수성을 갖는 재료를 전면에 도포하는 방법이 있다.As a means of preventing "mixing color", there is a method of applying a material having water repellency on the entire surface to a substrate on which a deep color deviation wall is formed.

발수성을 갖는 재료로서는, 폴리테트라플루오로에틸렌 등의 불소수지, 실리콘 고무, 퍼플루오로알킬아크릴레이트, 하이드로카본아크릴레이트, 메틸실록산 등, 일반적으로 발수재료로 생각되고, 착색제에 대한 접촉각이 60°이상이 것이라면 특히 한정되지 않는다.As the material having water repellency, it is generally considered to be a water repellent material such as fluororesins such as polytetrafluoroethylene, silicone rubber, perfluoroalkyl acrylate, hydrocarbon acrylate, methylsiloxane, and the contact angle to the colorant is 60 °. If the above is a thing, it will not specifically limit.

발수재료의 도포방법으로서는, 기판, 농색 이획벽 등에 영향을 미치지 않는 방법이면, 슬릿 코팅, 스핀 코팅, 딥 코팅, 롤 코팅 등, 각 재료에 최적인 방법을 선택하는 것이 가능하다.As a coating method of a water repellent material, if it is a method which does not affect a board | substrate, a deep color deviation wall, etc., it is possible to select the method suitable for each material, such as slit coating, spin coating, dip coating, roll coating.

도포 후, 기판 이면측에서 농색 이획벽을 통해서 ＵＶＯ₃처리를 행하고, 농색 이획벽 이외의 부분의 발수막을 선택적으로 제거 또는 친수화 처리(처리 후에 착색제에 대한 접촉각이 처리 전 보다 30°이상 작아지도록 한다) 한다.After coating, the CO ₃ treatment is performed on the rear surface side of the substrate through the deep color migration wall, and selectively removes or hydrophilizes the water repellent film in the portion other than the rich color barrier (so that the contact angle to the colorant after the treatment becomes 30 ° or more smaller than before treatment). Do it.)

발수재료를 제거 또는 친수화 처리하는 것이 가능하면, 패터닝의 방법은, 레이저 마찰, 플라즈마 애싱, 코로나 방전 처리 등의 건조 처리 및 알칼리를 사용한 웨트 처리 등, 재료에 따라서 최적의 방법을 선택하는 것이 가능하다. 또한, 농색 이획벽 상에 발수재료를 패턴 형성하는 것이 가능하면, 리프트 오프(lift off)법 등도 유효하다.If the water-repellent material can be removed or hydrophilized, the patterning method can select an optimal method depending on the material, such as drying treatment such as laser friction, plasma ashing, corona discharge treatment, and wet treatment using alkali. Do. If the water repellent material can be patterned on the deep color separation wall, a lift off method or the like is also effective.

상기 (1)~(4)의 발수처리 방법 중에서도, 「공정의 간편함」라는 관점에서 (3) 플라즈마에 의한 발수처리 방법이 특히 바람직하다.Among the water-repellent treatment methods of (1) to (4) above, the water-repellent treatment method using plasma (3) is particularly preferable from the viewpoint of "simple process".

(각 화소의 형성)(Formation of each pixel)

그 다음에, 상기 현상 공정에서 형성된 농색 이획벽 틈에, ＲＧＢ의 각 화소 를 형성하기 위한 착색 액체조성물(이하, 간단히 「잉크」라고도 말한다.)을 침입시킨다. 착색 액체조성물을 농색 이획벽 틈에 침입시키는 방법으로서는, 잉크젯법이나 스트라이프기사 도포법 등 공지의 것을 사용할 수 있고, 잉크젯법이 비용면의 관점에서 바람직하다. 스트라이프기사 도포법이란, 가는 액적토출용의 구멍이 열린 기사를 사용해서 액적이 기판 상에 부여되어, 스트라이프 형상의 화소가 형성되는 방법이다. 잉크젯법의 상세에 대해서는 후술한다.Subsequently, a colored liquid composition (hereinafter, simply referred to as "ink") for forming each pixel of RV is made to penetrate into the deep color gap wall formed in the developing step. As a method of making a colored liquid composition penetrate into a deep-colored break wall, a well-known thing, such as an inkjet method and a stripe article coating method, can be used, An inkjet method is preferable from a cost standpoint. The stripe article applying method is a method in which droplets are provided on a substrate by using an article having a hole for thin liquid discharge, and a stripe-shaped pixel is formed. The detail of the inkjet method is mentioned later.

각 화소를 형성하기 위해 사용하는 잉크젯법에 관해서는, 잉크를 열경화시키는 방법, 광경화시키는 방법, 미리 기판 상에 투명한 수상층을 형성해 두고 나서 타적 하는 방법 등, 공지의 방법을 사용할 수 있다.As for the inkjet method used for forming each pixel, known methods such as a method of thermosetting ink, a method of photocuring, and a method of forming a transparent aqueous phase layer on a substrate in advance and then performing it can be used.

각 화소를 형성한 후, 가열 처리(소위 베이킹 처리)하는 가열 공정을 준비하는 것이 바람직하다. 즉, 광조사에 의해 광중합한 층을 갖는 기판을 전기로, 건조기 등 중에서 가열하거나, 또는 적외선 램프를 조사한다. 가열 온도 및 시간은, 감광성 농색조성물의 조성이나 형성된 층의 두께에 의존하지만, 일반적으로 충분한 내용제성, 내알칼리성, 및 자외선 흡광도를 획득하는 관점에서, 약120℃~약250℃로 약10~약120분간 가열하는 것이 바람직하다.After forming each pixel, it is preferable to prepare the heating process of heat processing (so-called baking process). That is, the board | substrate which has a layer photopolymerized by light irradiation is heated in an electric furnace, a dryer, etc., or an infrared lamp is irradiated. The heating temperature and time depend on the composition of the photosensitive deep color composition and the thickness of the formed layer, but generally from about 10 to about 120 ° C to about 250 ° C in terms of obtaining sufficient solvent resistance, alkali resistance, and ultraviolet absorbance. It is preferable to heat for 120 minutes.

이렇게 하여 형성된 컬러필터의 패턴 형상은 특히 한정되는 것이 아니고, 일반적인 블랙 매트릭스 형상인 스트라이프 형상 또는 격자 형상이여도(도 2b참조), 델타 배열 형상이여도 좋다 (도 2a 참조).The pattern shape of the color filter thus formed is not particularly limited, and may be a stripe shape or a lattice shape which is a general black matrix shape (see FIG. 2B) or a delta array shape (see FIG. 2A).

(잉크젯 방식)(Inkjet method)

본 발명에 사용하는 잉크젯 방식으로서는, 대전한 잉크를 연속적으로 분사해 전장에 의해 제어하는 방법, 압전소자를 사용해서 간헐적으로 잉크를 분사하는 방법, 잉크를 가열해 그 발포를 이용해서 간헐적으로 분사하는 방법 등, 각종의 방법을 채용할 수 있다.As the inkjet method used in the present invention, a method of continuously spraying charged ink and controlling it by electric field, a method of intermittently spraying ink using a piezoelectric element, and heating the ink and intermittently spraying using the foaming Various methods, such as a method, can be employ | adopted.

사용하는 잉크는 유성, 수성의 모두 사용할 수 있다. 또한, 그 잉크에 포함되는 착색 재료는 염료, 안료의 모두 사용할 수 있고, 내구성의 면에서는 안료의 사용이 보다 바람직하다. 또한, 공지의 컬러필터 제작에 사용하는 도포방식의 착색 잉크(착색 수지조성물, 예를 들면, 일본 특허공개 2005-3861호 공보 [0034]~[0063] 기재)나, 일본 특허공개 평 10-195358호 공보 [0009]~[0026]에 기재된 잉크젯용 조성물을 사용할 수도 있다.The ink used can be both oily and aqueous. Moreover, the coloring material contained in the ink can use both a dye and a pigment, and it is more preferable to use a pigment from a durability point. Moreover, the coloring ink (coloring resin composition, for example, described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-3861-description of Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-3861), and Unexamined-Japanese-Patent No. 10-195358 The composition for inkjets of Unexamined-Japanese-Patent No. [0009]-[0026] can also be used.

본 발명에 있어서의 잉크에는, 착색 후의 공정을 고려하여, 가열 또는 자외선 등의 에너지 선에 의해 경화하는 성분을 첨가할 수도 있다. 가열에 의해 경화하는 성분으로서는, 각종의 열경화성 수지가 널리 사용할 수 있고, 에너지 선에 의해 경화하는 성분으로서는, 예를 들면 아크릴레이트 유도체 또는 메타크릴레이트 유도체에 광반응 개시제를 첨가한 것 등을 들 수 있다. 특히, 내열성을 고려하면, 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 분자내에 복수 갖는 것이 바람직하다. 이것들의 아크릴레이트유도체 또는 메타크릴레이트 유도체는 수용성인 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 물에 난용성인 것이라도 에멀션화하는 등으로 해서 사용할 수 있다.To the ink in the present invention, in consideration of the step after coloring, a component which is cured by energy rays such as heating or ultraviolet rays may be added. As the component to be cured by heating, various thermosetting resins can be widely used, and examples of the component to be cured by energy radiation include adding a photoreaction initiator to an acrylate derivative or a methacrylate derivative. have. In particular, in consideration of heat resistance, it is preferable to have two or more acryloyl groups or methacryloyl groups in the molecule. As these acrylate derivatives or methacrylate derivatives, those which are water-soluble can be preferably used. Even poorly soluble in water, it can be used by emulsifying or the like.

이 경우, 상기 <농색조성물>의 페이지에서 열거한, 농색체(안료) 등의 착색제를 함유시킨 잉크를, 바람직한 것으로서 이용할 수 있다.In this case, the ink containing the coloring agent, such as a thick color body (pigment), listed on the page of said <rich composition> can be used as a preferable thing.

또한, 본 발명에 있어서 사용할 수 있는 잉크로서는, 적어도 바인더, 및, 2 ∼3관능의 에폭시기 함유 모노머를 함유하는 컬러필터용 열경화성 잉크도, 바람직한 것으로서 사용할 수 있다.Moreover, as ink which can be used in this invention, the thermosetting ink for color filters containing at least a binder and the 2-3 functional epoxy group containing monomer can also be used as a preferable thing.

본 발명에 있어서의 컬러필터는, 잉크젯 방식으로 화소형성된 컬러필터인 것이 바람직하고, ＲＧＢ의 3색의 잉크를 분무해서 3색의 컬러필터를 형성하는 것이 바람직하다.It is preferable that the color filter in this invention is a color filter pixel-formed by the inkjet system, and it is preferable to form three color filters by spraying three colors of RGB ink.

이 컬러필터는, 액정 표시 소자, 전기 영동 표시 소자, 일렉트로크로믹 표시 소자, ＰＬＺＴ등과 조합시켜서 표시 소자로서 이용할 수 있다. 컬러 카메라나 그 밖의 컬러필터를 사용하는 용도에도 사용할 수 있다.This color filter can be used as a display element in combination with a liquid crystal display element, an electrophoretic display element, an electrochromic display element, a PLV, and the like. It can also be used for applications using color cameras or other color filters.

(오버코트층)(Overcoat layer)

컬러필터의 제작 후, 내성을 향상하기 위해서 오버코트층을 전면에 형성하는 경우가 있다. 오버코트층은, 잉크 R, G, B의 고화층을 보호함과 아울러, 표면을 평탄하게 할 수 있다. 그렇지만, 공정수가 늘어난다는 관점에서는, 형성하지 않는 것이 바람직하다.After manufacture of a color filter, an overcoat layer may be formed in the whole surface in order to improve tolerance. The overcoat layer can protect the solidified layers of the ink R, G, and B, and can flatten the surface. However, it is preferable not to form from a viewpoint that a process number increases.

오버코트층을 형성하는 수지(ＯＣ제)로서는, 아크릴계 수지조성물, 에폭시 수지조성물, 폴리이미드 수지조성물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 가시광 영역에서의 투명성이 뛰어나고 있는 점, 또한, 컬러필터용 광경화성 조성물의 수지가 보통 아크릴계 수지를 주성분으로 하고 있는 점, 밀착성이 뛰어나고 있는 점 등으로부터, 아크릴계 수지조성물이 바람직하다. 오버코트층의 예로서는, 일본 특허공개 2003-287618호 공보의 단락번호 0018∼0028에 기재된 것 등을 들 수 있는, 오버코트제의 시판품으로서는, ＪＳＲ사제 「옵토마 ＳＳ6699G」) 등을 들 수 있다.As resin (made by OC) which forms an overcoat layer, an acrylic resin composition, an epoxy resin composition, a polyimide resin composition, etc. are mentioned. Especially, acrylic resin composition is preferable from the point which is excellent in transparency in a visible light region, the resin of the photocurable composition for color filters usually contains acrylic resin as a main component, and the point which is excellent in adhesiveness. Examples of the overcoat layer include those described in paragraphs 0018 to 0028 of Japanese Patent Laid-Open No. 2003-287618 and the like, and commercially available products made of overcoat include "OPTOMA S6699G" manufactured by JR Corporation.

그 다음에, 본 발명의 컬러필터에 대해서 설명한다. 본 발명의 컬러필터는, 이미 서술한 본 발명의 컬러필터의 제조 방법에 의해 제조되는 컬러필터로서, 기판 상에 형성된 농색 이획벽의 단면형상이, 상기 농색 이획벽의 기판으로부터의 높이가 가장 높은 점에 있어서 기판으로부터의 높이를 h, 기판으로부터 0.8h의 위치에 있어서 기판과 평행한 선을 L₁, L₁과 농색 이획벽이 접하는 점에 있어서 접선을 L₂, h의 위치에 있어서 기판과 평행한 선을 L₃로 했을 때, L₂과 L₃의 교점으로부터 농색 이획벽까지의 거리로 규정되는 값 d를 h로 나눈 값이 0.04 이하인 것을 특징으로 하고 있다.Next, the color filter of this invention is demonstrated. The color filter of this invention is a color filter manufactured by the manufacturing method of the color filter of this invention mentioned above, The cross-sectional shape of the deep color deviation wall formed on the board | substrate has the highest height from the board | substrate of the said deep color deviation wall. At the point where the height from the substrate is h, and the line parallel to the substrate is in contact with the substrate at a position of 0.8 h from the substrate, the tangent line is at the position L ₂ , h at the point where L ₁ , L ₁ and the deep color separation wall contact each other. when a line parallel to the L _3, a value obtained by dividing the value of d is defined by the distance h of a deep color to the hoekbyeok from the intersection of L ₂ and L ₃ and is characterized in that not more than 0.04.

즉, 기판 상에 형성된 농색 이획벽의 단면형상은, 도 1에 나타내는 것과 같이, 상기 농색 이획벽의 기판으로부터 높이가 가장 높은 점에 있어서 기판으로부터의 높이를 h, 기판으로부터 0.8h의 위치에 있어서 기판과 평행한 선을 L₁, L₁과 농색 이획벽이 접하는 점에 있어서의 접선을 L₂, h의 위치에 있어서 기판과 평행한 선을 L₃로 했을 때, L₂과 L₃의 교점으로부터 농색 이획벽까지의 거리로 규정되는 값 d를 h로 나눈 값이 0.04 이하이다.That is, as shown in FIG. 1, the cross-sectional shape of the deep color deviation wall formed on the board | substrate has the height from the board | substrate at the point where height is highest from the board | substrate of the said deep color deviation wall at h, and 0.8 h from a board | substrate. The intersection of L ₂ and L ₃ when the tangent at the point where L ₁ , L ₁ and the deep color deviation wall contact the line parallel to the substrate is L ₃ at the position L ₂ , h. The value d divided by h divided by h, which is defined as the distance from to the deep color deviation wall, is 0.04 or less.

기판상에 있어서, 상기에서 설명한 농색조성물을, 동일하게 상기에서 설명한 빈산소 분위기하에서 광중합했을 경우, 조성물 자신의 흡수에 의해 조성물로 이루어지는 층의 표면에서 기판방향으로의 노광량은 감소하기 때문에, 결과적으로 표면의 경화가 보다 진행된다. 더욱, 빈산소 분위기하이기 때문에 조성물로 이루어지는 층의 표면에 있어서, 산소에 의한 중합 저해가 억제되어, 이것에 의해서도 결과적으로 표면의 경화가 보다 진행된다. 이것들 두개의 기여에 의해, 기판 상에 형성된 농색 이획벽의 단면형상에 있어서, 상기 농색 이획벽의 기판으로부터의 높이가 가장 높은 점에 있어서 기판으로부터의 높이를 h, 기판으로부터 0.8h의 위치에 있어서 기판과 평행한 선을 L₁, L₁과 농색 이획벽이 접하는 점에 있어서의 접선을 L₂, h의 위치에 있어서 기판과 평행한 선을 L₃로 했을 때, L₂과 L₃의 교점으로부터 농색 이획벽까지의 거리로 규정되는 값 d를 h로 나눈 값이 0.04 이하가 된다. 이것들의 값은, 실제로는 기판 상에 형성된 농색 이획벽을, 기판마다 수직으로 잘라서 단면을 노출시켜, 현미경 등으로 직접 관찰함으로써 측정한다. 이렇게 해서 얻어진 농색 이획벽의 형상을 고정화하는 공정을 거침으로써, 일단 그 틈에 타적된 잉크는 농색 이획벽을 타고 넘기 어려워진다. 그 결과, 번짐, 밀려 나옴, 인접 화소와의 혼색 및 흰색 누락 등이 방지되어, 양호한 컬러필터를 얻을 수 있다. d/h의 값은 0.04 이하가 바람직하고, 0.038 이하가 보다 바람직하고, 0.035 이하가 특히 바람직하다. 도 2는 상술한 형상의 농색 이획벽을 형성하는데도 바람직한 컬러필터의 실시 형태를 나타낸다. 이것들의 컬러필터에 있어서, 농색 이획벽을 상기 형상으로 함으로써, 혼색이 없는 화소를 얻을 수 있다.On the substrate, when the deep color composition described above is photopolymerized in the same oxygen-free atmosphere described above, the amount of exposure from the surface of the layer made of the composition to the substrate direction decreases as a result of absorption of the composition itself. Hardening of the surface proceeds more. Moreover, since it is in a poor oxygen atmosphere, the inhibition of polymerization by oxygen is suppressed at the surface of the layer which consists of a composition, and, as a result, hardening of a surface further advances. By these two contributions, in the cross-sectional shape of the deep color deviation wall formed on the board | substrate, the height from a board | substrate is h and the position of 0.8 h from a board | substrate at the point where the height from the board | substrate of the deep color shift wall is the highest. The intersection of L ₂ and L ₃ when the tangent at the point where L ₁ , L ₁ and the deep color deviation wall contact the line parallel to the substrate is L ₃ at the position L ₂ , h. The value obtained by dividing the value d defined by the distance from the color to the deep color deviation wall by h is 0.04 or less. These values are measured by actually cutting the deep-colored breakaway wall formed on the board | substrate vertically for every board | substrate, exposing a cross section, and observing directly with a microscope etc. By passing through the process of fixing the shape of the deep color deviation wall thus obtained, it is difficult for the ink once targeted to the gap to pass over the deep color deviation wall. As a result, bleeding, bleeding, mixed color with adjacent pixels, white omission, and the like are prevented, and a good color filter can be obtained. 0.04 or less are preferable, as for the value of d / h, 0.038 or less are more preferable, 0.035 or less are especially preferable. Fig. 2 shows an embodiment of a color filter which is also suitable for forming the deep color deviation wall of the above-described shape. In these color filters, the pixel having no mixed color can be obtained by making the deep color deviation wall the shape described above.

이상의 본 발명의 컬러필터의 농색 이획벽의 단면형상의 일례를 도 3a에 나타낸다. 도 3a는 과장해서 그리고 있지만, 도 3b에 나타낸 바와 같이 엣지가 둥그스름해진 형상보다도 잉크가 타고 넘기 어려운 것은 명확하다. 또한, 도 3a 및 도 3b에 있어서, 11은 화소영역, 12은 농색 이획벽, 13은 기판을 나타낸다.An example of the cross-sectional shape of the deep color deviation wall of the color filter of this invention is shown to FIG. 3A. Although FIG. 3A is exaggerated and drawn, it is clear that ink is hard to burn over the shape with the rounded edge as shown in FIG. 3B. 3A and 3B, 11 denotes a pixel area, 12 denotes a deep color deviation wall, and 13 denotes a substrate.

[표시장치][Display device]

본 발명의 표시장치는 이미 서술한 본 발명의 컬러필터를 갖는 것이며, 그러한 표시장치로서는 액정표시장치, 플라즈마 디스플레이 표시장치, ＥＬ표시장치, ＣＲＴ표시장치 등의 표시장치 등이 있다. 표시장치의 정의나 각 표시장치의 설명은, 예를 들면 「전자 디스플레이 디바이스(사사키 아키오 저, (주) 공업조사회 1990년 발행)」, 「디스플레이 디바이스(이브키 스미아키 저, 산업도서(주) 1989년 발행)」등에 기재되어 있다.The display device of the present invention includes the color filter of the present invention described above, and such display devices include a liquid crystal display device, a plasma display display device, an EL display device, and a display device such as a CSR display device. For the definition of the display device and the explanation of each display device, for example, "Electronic display device (Aki Sasaki, published by Industrial Society of Japan, 1990)", "Display device (by Iki Sumiaki, Industrial Books, Ltd.) ) Issued in 1989).

본 발명의 표시장치 중, 액정표시장치가 특히 바람직하다. 액정표시장치에 대해서는, 예를 들면 「차세대 액정 디스플레이 기술(우치다 타쯔오 편집, (주) 공업조사회 1994년 발행)」에 기재되어 있다. 본 발명을 적용할 수 있는 액정표시장치에 특히 제한은 없고, 예를 들면 상기 「차세대 액정 디스플레이 기술」에 기재되어 있는 여러가지인 방식의 액정표시장치에 적용할 수 있다. 본 발명은, 이것들 중에서, 특히 컬러 ＴＦＴ방식의 액정표시장치에 대하여 유효하다. 컬러ＴＦＴ방식의 액정표시장치에 대해서는, 예를 들면 「컬러ＴＦＴ 액정 디스플레이(공립 출판(주) 1996년 발행)」에 기재되어 있다. 더욱, 본 발명은 물론 ＩＰＳ 등의 횡전계구동 방식, ＭＶＡ 등의 화소분할 방식 등의 시야각이 확대된 액정표시장치에도 적용할 수 있다. 이것들의 방식에 대해서는, 예를 들면 「ＥＬ, ＰＤＰ, ＬＣＤ디스플레이-기술과 시장의 최신동향-(도레이 리서치 센터 조사 연구 부문 2001년 발행)」의 43페이지에 기재되어 있다.Among the display devices of the present invention, liquid crystal display devices are particularly preferable. About a liquid crystal display device, it describes in the "next-generation liquid crystal display technology (Tatsuo Uchida editorial, 1994). There is no restriction | limiting in particular in the liquid crystal display device which can apply this invention, For example, it can apply to the liquid crystal display device of various systems described in the said "next-generation liquid crystal display technology." Among these, the present invention is particularly effective for a color TFT type liquid crystal display device. The color TFT liquid crystal display device is described in, for example, "Color TFT liquid crystal display (published in 1996). Further, the present invention can be applied to a liquid crystal display device having an enlarged viewing angle, such as a transverse electric field driving method such as an IPS or a pixel division method such as an MBA. These methods are described, for example, on page 43 of "EL, PD, LC display technology and the latest trends in the market" (Toray Research Center Research and Research Division, 2001).

액정표시장치는, 컬러필터 이외에, 전극기판, 편광 필름, 위상차 필름, 백라이트, 스페이서, 시야각 보장 필름 등 여러가지 부재료로 구성된다. 본 발명의 블랙 매트릭스는, 이것들의 공지의 부재료로 구성되는 액정표시장치에 적용할 수 있다. 이것들의 부재료에 대해서는, 예를 들면 「' 94 액정 디스플레이 주변재료·케미컬의 시장(시마 켄타로(주) CMC 1994년 발행)」, 「2003 액정관련 시장의 현상과 장래 전망(하권) (오모테 료키치, (주)후지 키메라 종합연구소 2003년 발행)」에 기재되어 있다.In addition to the color filter, the liquid crystal display device is composed of various materials such as an electrode substrate, a polarizing film, a retardation film, a backlight, a spacer, a viewing angle guarantee film, and the like. The black matrix of this invention can be applied to the liquid crystal display device comprised from these well-known submaterials. For these subsidiary materials, for example, the market for '94 liquid crystal display peripheral materials and chemicals (Kenta Shima Kentaro Co., Ltd. C 1994), the 2003 liquid crystal market and the future prospects (the lower volume) (Ryomoto Omote) , Fuji Chimera Research Institute, 2003).

[대상용도][Target use]

본 발명의 컬러필터는, 텔레비전, 퍼스널 컴퓨터, 액정 프로젝터, 게임기, 휴대전화 등의 휴대 단말, 디지탈 카메라, 자동차 네비게이션 등의 용도에, 특히 제한 없이 적용할 수 있다.The color filter of the present invention can be applied to applications such as portable terminals such as televisions, personal computers, liquid crystal projectors, game machines, mobile phones, digital cameras, car navigation systems, and the like without particular limitation.

(실시예)(Example)

이하에 실시예를 들어서 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 시약, 비율, 기기, 조작 등은, 본 발명의 범위에서 일탈하지 않는 한 적당히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 구체예에 한정되는 것이 아니다. 또한, 이하의 실시예에 있어서, 특히 언급되지 않는 한 ,「％」 및 「부」는 「질량％」 및 「질량부」를 나타내고, 분자량은 중량 평균 분자량을 나타낸다.An Example is given to the following and this invention is demonstrated to it further more concretely. The materials, reagents, ratios, instruments, operations, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the scope of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific example shown below. In addition, in the following Examples, unless otherwise indicated, "%" and "part" represent "mass%" and "mass part", and molecular weight shows a weight average molecular weight.

[농색조성물의 조제][Preparation of deep color composition]

농색조성물 K1은 이하의 순서에 따라 조제된다. 즉, 우선, 표 1에 기재된 양 의 Ｋ안료분산물 1 및 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트(ＭＭＰＧＡＣ, 다이셀화학공업(주) 제(이하도 같은 메이커의 소재를 사용한다))의 무게를 재고, 온도 24℃(±2℃)에서 혼합하고 150ＲＰＭ으로 10분간 교반한다. 그 다음에, 표 1에 기재된 양의 메틸에틸케톤, 바인더 2, 하이드로퀴논모노메틸에테르, ＤＰＨＡ액, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6- [4'-(N, N-디에톡시카르보닐메틸)아미노-3'-브로모페닐]-s-트리아진, 및 계면활성제 1의 무게를 재고, 온도 25℃(±2℃)에서 이 순서대로 첨가하고, 온도 40℃(±2℃)에서, 150ＲＰＭ으로 30분간 교반한다.The deep color composition K1 is prepared in the following order. That is, first weigh the amount of the pigment dispersant 1 and propylene glycol monomethyl ether acetate (MPMPC, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. (hereinafter, also made of the same manufacturer)) in the amounts shown in Table 1, Mix at a temperature of 24 ° C. (± 2 ° C.) and stir at 150 RPM for 10 minutes. Then, methyl ethyl ketone, binder 2, hydroquinone monomethyl ether, DPH solution, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [4 '-(N, N-diethoxy) in the amounts shown in Table 1 Weigh out the carbonylmethyl) amino-3'-bromophenyl] -s-triazine and Surfactant 1, add them in this order at a temperature of 25 ° C (± 2 ° C), and a temperature of 40 ° C (± 2 ° C). ), And stirred for 30 minutes at 150RPM.

표 1에 기재된 양은 질량부이며, 자세하게는 이하의 조성으로 되어 있다.The quantity shown in Table 1 is a mass part, and has the following composition in detail.

<K안료분산물 1><K Pigment Dispersion 1>

·카본블랙(데구사 사제 Ｎｉｐｅｘ35) 13.1%Carbon black (35% manufactured by Degussa Co., Ltd.) 13.1%

·분산제 (하기 화합물 1) 0.65%Dispersant (compound 1 below) 0.65%

·폴리머(벤질메타크릴레이트/메타크릴산=72/28몰비의 랜덤 공중합물, 분자량 3.7만) 6.72%6.72% of polymer (benzyl methacrylate / methacrylic acid = random copolymer of 72/28 molar ratio, molecular weight 370,000)

·프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트 79.53%Propylene glycol monomethyl ether acetate 79.53%

<바인더 2><Binder 2>

·폴리머(벤질메타크릴레이트/메타크릴산=78/22몰비의 랜덤 공중합물, 분자량 3.8만) 27%27% polymer (benzyl methacrylate / methacrylic acid = 78/22 molar ratio random copolymer, molecular weight 3.8 million)

·프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트 73%Propylene glycol monomethyl ether acetate 73%

<ＤＰＨＡ액><DPHA solution>

·디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트Dipentaerythritol hexaacrylate

(중합 금지제ＭＥＨＱ 500ｐｐｍ함유, 니혼카야쿠(주)제, 상품명:ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ) 76%(Polymerization inhibitor MEV 500 500m, manufactured by Nihon Kayaku Co., Ltd., trade name: BASF RAD DVD) 76%

·프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 24%Propylene glycol monomethyl ether acetate 24%

<계면활성제 1><Surfactant 1>

·하기 구조물 1 30%Structure 1 to 30%

·메틸에틸케톤 70%70% methyl ethyl ketone

[실시예 1]Example 1

(농색 이획벽의 형성)(Formation of deep color deviation wall)

무알칼리 유리 기판을, ＵＶ세정 장치로 세정 후, 세정제를 이용해서 브러시 세정하고, 더욱 초순수로 초음파 세정했다. 기판을 120℃에서 3분간 열처리를 행하고, 표면상태를 안정화시켰다.The alkali free glass substrate was brush-cleaned using the washing | cleaning agent after the washing | cleaning with the wet-cleaning apparatus, and also ultrasonically cleaned with ultrapure water. The board | substrate was heat-processed for 3 minutes at 120 degreeC, and surface state was stabilized.

기판을 냉각하고, 23℃로 온도조절한 후, 슬릿 형상 노즐을 갖는 유리 기판용 코터(FAS·아시아사제, 상품명:ＭＨ-1600)을 사용하여, 상술한 바와 같이 조제한 농색조성물 K1을 도포했다. 계속해서 ＶＣＤ(진공건조 장치, 토쿄오카공업사제)로 30초간, 용매의 일부를 건조해서 도포층의 유동성을 없애고, 그 후, 120℃에서 3분간 프리베이킹해서 막두께 2μm의 농색조성물층 K1을 얻었다.After cooling the board | substrate and temperature-controlling at 23 degreeC, the deep color composition K1 prepared as mentioned above was apply | coated using the coater for glass substrates (FAS Asia company make, brand name: MH-1600) which has a slit-shaped nozzle. Subsequently, a portion of the solvent was dried for 30 seconds with a vacuum drying apparatus (Vacuum Drying Equipment, manufactured by Tokyo Oka Industries Co., Ltd.) to eliminate fluidity of the coating layer, and then prebaked at 120 ° C. for 3 minutes to give a thick composition layer K1 having a thickness of 2 μm. Got it.

초고압 수은등을 갖는 프록시미티형 노광기 (히타치 하이 테크 전자 엔지니어링 주식회사제)로, 기판과 마스크(화상 패턴을 갖는 석영노광 마스크)을 수직으로 세운 상태로, 노광 마스크면과 농색감광층 K1의 사이의 거리를 200μm로 설정하고, 질소분위기하에서, 노광량 300ｍＪ/ｃｍ²로 패턴 노광했다.Proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi Hi-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp, and the distance between the exposure mask surface and the deep photosensitive layer K1 in a state where the substrate and the mask (quartz exposure mask having an image pattern) are vertically placed. Was set to 200 m, and the pattern was exposed to an exposure dose of 300 mPa / cm ² under a nitrogen atmosphere.

그 다음에, 샤워 노즐을 사용해서 순수를 분무하고, 농색조성물층 K1의 표면을 균일하게 적실 수 있었다. 그 후, ＫＯＨ계 현상액(0.04질량％ＫＯＨ수용액)으로 23℃에서 80초간, 플랫 노즐 압력 0.04ＭＰａ로 샤워 현상하고, 패터닝화상을 얻었다. 계속해서, 초순수를 초고압세정 노즐로 9.8ＭＰａ의 압력으로 분사해서 잔사 제거를 행했다. 그 후, 대기하에서 우시오상기(주)제, 형번:ＵＶＬ-8000-N의 초고압 수은등을 갖는 노광기로, 노광량 2500ｍＪ/ｃｍ²으로 상면에서 포스트 노광을 행하고, 광학농도 3.9의 농색 이획벽을 얻었다. 노광량은 다음과 같이 해서 조정했다.Next, pure water was sprayed using a shower nozzle, and the surface of the deep color composition layer K1 could be uniformly wetted. Thereafter, the resultant was shower-developed with a flat nozzle pressure of 0.04 MPa for 80 seconds at 23 ° C. with a JOH-based developer (0.04% by mass aqueous solution of JOH) to obtain a patterned image. Subsequently, ultrapure water was sprayed at a pressure of 9.8 Mpa with an ultra high pressure cleaning nozzle to remove residue. Thereafter, an exposure apparatus having an ultra-high pressure mercury lamp, manufactured by Ushio Sangyo Co., Ltd., model No .: L-8000-N, was subjected to post-exposure at an upper surface with an exposure dose of 2500 mPa / cm ² to obtain a deep color deviation wall having an optical density of 3.9. The exposure amount was adjusted as follows.

즉, 기판 상에 (주) 오크제작소제의 광량계(ＵＶ-350)을 실장하고, 노광 장치로 보내, 노광 마스크와 측정 장치의 거리가 10cm일 때의 노광량을, 표 2에 기재된 소정의 노광량이 되도록 조정했다.That is, a photometer (계 -350) manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd. is mounted on a substrate, and is sent to an exposure apparatus, and the exposure amount when the distance between the exposure mask and the measurement device is 10 cm is the predetermined exposure amount shown in Table 2. Was adjusted to be.

〔플라즈마 발수화 처리〕[Plasma water repellency treatment]

농색 이획벽을 형성한 기판에, 캐소드 커플링 방식 평행 평판형 플라즈마 처리 장치를 사용하고, 이하의 조건에서 플라즈마 발수화 처리를 행했다.Plasma water repellent treatment was performed on the board | substrate with which the deep color deviation wall was formed using the cathode coupling system parallel plate type plasma processing apparatus on the following conditions.

사용 가스:ＣＦ₄ Use gas: CF ₄

가스 유량:80ｓｃｃｍGas flow rate: 80 sec

압력:40ＰａPressure: 40 Pa

ＲＦ파워:50WRF power: 50W

처리 시간:30ｓｅｃProcessing time: 30ｓｅｃ

-화소용 착색 잉크의 조제-Preparation of coloring ink for pixels

하기의 성분 중, 우선, 안료, 고분자분산제 및 용제를 혼합하고, 3개 롤과 비즈 밀을 사용해서 안료분산액을 얻었다. 이 안료분산액을 디솔버 등으로 충분히 교반하면서, 그 밖의 재료를 소량씩 첨가하고, 적색(R) 화소용 착색 잉크 조성물을 조제했다.Among the following components, first, a pigment, a polymer dispersant, and a solvent were mixed, and the pigment dispersion liquid was obtained using three rolls and a bead mill. While stirring this pigment dispersion liquid sufficiently with a dissolver etc., the other material was added little by little and the coloring ink composition for red (R) pixels was prepared.

<적색화소용 착색 잉크의 조성><The composition of the coloring ink for red pixels>

·안료(Ｃ．Ｉ．피그멘트 레드 254) 5부Pigment (C.I. pigment red 254) five parts

·고분자분산제 (ＡＶＥＣＩＡ사제 솔스파스 24000) 1부1 part of high molecular weight dispersant (Solace 24000 manufactured by AEC EIA)

·바인더(벤질메타크릴레이트/메타크릴산=72/28몰비Binder (benzyl methacrylate / methacrylic acid = 72/28 molar ratio

의 랜덤 공중합물, 분자량 3.7만) 3부Random copolymer of, molecular weight 3.7 million) 3 parts

·제일 에폭시 수지(노볼락형 에폭시 수지, 유화 셀사제 에피코트 154) 2부First epoxy resin (Novolak-type epoxy resin, Epicoat 154 manufactured by Emulsified Cell Company) 2 parts

·제이 에폭시 수지(네오펜틸글리콜디글리시딜에테르) 5부J epoxy resin (neopentyl glycol diglycidyl ether) 5 parts

·경화제 (트리멜리트산) 4부4 parts hardener (trimellitic acid)

·용제:3-에톡시프로피온산 에틸 80부Solvent: 80 parts of ethyl 3-ethoxypropionate

상기 조성 중 Ｃ．Ｉ．피그멘트 레드 254 대신에 Ｃ．Ｉ．피그멘트 그린 36을 동량 사용한 것 이외에는 적색화소부 착색 잉크 조성물의 경우와 같이 해서, 녹색(G) 화소용 착색 잉크 조성물을 조제했다.A coloring ink composition for green (G) pixels was prepared in the same manner as in the case of the red pixel portion coloring ink composition except that the same amount of C. pigment green 36 was used instead of C. pigment red 254 in the composition. .

상기 조성 중 Ｃ．Ｉ．피그멘트 레드 254 대신에 Ｃ．Ｉ．피그멘트 블루15:6을 동량 사용한 것 이외에는 적색 화소용 착색 잉크 조성물의 경우와 같이 해서, 청색(B) 화소용 착색 잉크 조성물을 조제했다.A coloring ink composition for a blue (B) pixel was prepared in the same manner as in the case of the coloring ink composition for a red pixel, except that C. Pigment Blue 15: 6 was used in an equal amount instead of C. Pigment Red 254. Prepared.

그 다음에, 상기 Ｒ, G, B의 화소용 착색 잉크를 이용하고, 상기에서 얻어진 컬러필터 기판의 농색 이획벽에서 구분된 영역내(볼록부를 둘러싼 오목부)에, 잉크젯 방식의 기록 장치를 이용하고, 소망의 농도가 될 때 까지 잉크 조성물의 토출을 행하고, R, G, B의 패턴으로 이루어지는 컬러필터를 제작했다. 화상착색 후에 컬러필터를 230℃ 오븐중에서 30분간 베이킹하고, 블랙 매트릭스, 각 화소 함께 완전히 경화시켰다.Subsequently, the R, G, and B colored ink for pixels are used, and an inkjet recording apparatus is used in the region (concave portion surrounding the convex portion) separated from the deep color deviation wall of the color filter substrate obtained above. Then, the ink composition was discharged until the desired concentration was obtained, to produce a color filter composed of R, G, and B patterns. After image coloring, the color filter was baked in a 230 ° C. oven for 30 minutes and completely cured with a black matrix and each pixel.

상기 방법에 따라 얻어진 컬러필터 기판의 Ｒ화소, G화소, 및 B화소 및 블랙 매트릭스 상에 더욱, ＩＴＯ(ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ)의 투명전극을 스퍼터링에 의해 형성했다. 별도, 대향 기판으로서 유리 기판을 준비하고, 컬러필터 기판의 투명전극상, 및 대향 기판 상에, 각각 ＰＶＡ모드용에 패터닝를 실시했다.On the R pixels, the G pixels, the B pixels, and the black matrix of the color filter substrate obtained according to the above method, a transparent electrode of ITO (INO) was formed by sputtering. Separately, a glass substrate was prepared as a counter substrate, and patterned for PAPA mode on the transparent electrode and the counter substrate of the color filter substrate, respectively.

상기 ＩＴＯ의 투명전극상의 농색 이획벽의 상부에 상당하는 부분에 포토 스페이서를 형성하고, 그 위에 더욱, 폴리이미드로 이루어진 배향막을 설치했다.The photo spacer was formed in the part corresponded to the upper part of the deep color deviation wall on the said transparent electrode of ITO, and the alignment film which consists of polyimide was further provided on it.

그 후, 컬러필터의 화소군을 둘러싸도록 주위에 형성되어진 블랙 매트릭스 외부 프레임에 상당하는 위치에 에폭시 수지 밀봉제를 인쇄하고, 그와 더불어, ＰＶＡ모드용 액정을 적하하고, 대향 기판과 서로 접합한 후, 접합된 기판을 열처리해서 밀봉제를 경화시켰다. 이렇게 하여 얻은 액정 셀의 양면에, (주) 산릿쓰제의 편광판 ＨＬＣ2-2518을 첩부했다. 그 다음에, 냉음극관의 백라이트를 구성하고, 상기 편광판이 형성되어진 액정셀의 배면이 되는 측에 배치하여, 액정표시장치로 했다.Thereafter, an epoxy resin sealant was printed at a position corresponding to a black matrix outer frame formed around the pixel group of the color filter, and the liquid crystal for PAP mode was dropped thereinto, and bonded to the opposite substrate. Thereafter, the bonded substrates were heat treated to cure the sealant. The polarizing plate HLC2-2518 made by Sanlitz Co., Ltd. was affixed on both surfaces of the liquid crystal cell obtained in this way. Then, the backlight of the cold cathode tube was comprised, and it arrange | positioned at the side used as the back surface of the liquid crystal cell in which the said polarizing plate was formed, and it was set as the liquid crystal display device.

[실시예 2]Example 2

실시예 1의 농색 이획벽의 형성에 있어서, 포스트 노광의 조건을 표 2에 기재한 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 같게 하여 컬러필터 및 액정표시장치를 제작했다.In the formation of the deep color deviation wall of Example 1, the color filter and the liquid crystal display device were produced like Example 1 except having changed the conditions of post exposure as described in Table 2.

[실시예 3]Example 3

<농색 이획벽의 형성><Formation of deep moving wall>

(농색 감광성 전사재료 K1의 제작)(Production of deep photosensitive transfer material K1)

두께 75μm의 폴리에틸렌테레프탈레이트필름 가지지체 상에, 슬릿 형상 노즐을 사용하고, 하기 처방 H1로 이루어지는 열가소성 수지층용 도포액을 도포하고, 건조시켰다. 그 다음에, 하기 처방 P1로 이루어지는 중간층용 도포액을 도포하고, 건조시켰다. 더욱, 상기 농색조성물 K1을 도포하고, 건조시켰다. 이렇게 하여, 가지지체 상에 건조 막두께가 14.6μm의 열가소성 수지층, 건조 막두께가 1.6μm의 중간층, 건조 막두께가 2μm의 농색조성물층을 형성하고, 최후에 보호 필름(두께 12μm폴리프로필렌 필름)을 압착했다.On the 75-micrometer-thick polyethylene terephthalate film support body, using the slit-shaped nozzle, the coating liquid for thermoplastic resin layers which consists of following formula H1 was apply | coated, and it dried. Next, the coating liquid for intermediate | middle layers which consists of following prescription P1 was apply | coated, and it dried. Further, the thickening composition K1 was applied and dried. In this way, a thermoplastic resin layer having a dry film thickness of 14.6 μm, an intermediate layer having a dry film thickness of 1.6 μm, and a deep color composition layer having a dry film thickness of 2 μm are formed on the branch body, and finally a protective film (12 μm thick polypropylene film). Squeezed).

이렇게 해서, 가지지체, 열가소성 수지층, 중간층(산소차단막), 농색조성물층이 일체가 된 농색 감광성 전사재료를 제작했다. 이 농색 감광성 전사재료의 샘플명을 K1으로 했다.In this way, a deep color photosensitive transfer material in which the branch member, the thermoplastic resin layer, the intermediate layer (oxygen barrier film), and the deep color composition layer were integrated was produced. The sample name of this deep color photosensitive transfer material was K1.

<열가소성 수지층용 도포액:처방 H1><Coating liquid for thermoplastic resin layer: prescription H1>

·메탄올 11.1부Methanol 11.1 parts

·프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 6.36부Propylene glycol monomethyl ether acetate 6.36 parts

·메틸에틸케톤 52.4부Methyl ethyl ketone 52.4 parts

·메틸메타크릴레이트/2-에틸헥실아크릴레이트/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체(공중합조성비(몰비)=55/11.7/4.5/28.8, 분자량=10만, Ｔｇ≒70℃) 5.83부Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization ratio (molar ratio) = 55 / 11.7 / 4.5 / 28.8, molecular weight = 100,000, Tg 70 DEG C) 5.83 parts

·스티렌/아크릴산 공중합체(공중합조성비(몰비)=63/37, 평균 분자량=1만, Ｔｇ≒100℃) 13.6부13.6 parts of styrene / acrylic acid copolymer (copolymerization ratio (molar ratio) = 63/37, average molecular weight = 10,000, Tg ≒ 100 ° C)

·2,2-비스 [4-(메타크릴옥시폴리에톡시)페닐]프로판(신나카무라화학공업(주)제) 9.1부9.1 parts of 2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)

·계면활성제 1 0.54부Surfactant 1 0.54 parts

<중간층용도포액:처방P1><Middle layer coating solution: prescription P1>

·ＰＶＡ205(폴리비닐알콜, (주) 쿠라레제, 비누화도=88%, 중합도 550) PUA205 (polyvinyl alcohol, Kuraray Co., Ltd., saponification degree = 88%, polymerization degree 550)

32.2부Part 32.2

·폴리비닐피롤리돈(ISP·저팬사제, K-30) 14.9부14.9 parts of polyvinylpyrrolidone (ISP Japan company make, K-30)

·증류수 524부524 parts of distilled water

·메탄올 429부Methanol 429 parts

무알칼리 유리 기판을, 25℃로 조정한 유리 세정제 액을 샤워에 의해 20초간 분무하면서 나일론 모를 갖는 회전 브러시로 세정하고, 순수 샤워 세정했다. 그 후, 실란커플링액(N-β(아미노 에틸)γ-아미노프로필트리메톡시실란 0.3질량％ 수용액, 상품명:ＫＢＭ603, 신에츠화학공업(주)제)을 샤워에 의해 20초간 분무하고, 순수 샤워 세정했다. 이 기판을 기판예비가열 장치로 100℃에서 2분 가열했다.The alkali free glass substrate was wash | cleaned with the rotating brush which has a nylon hair, spraying the glass cleaner liquid adjusted to 25 degreeC by shower for 20 second, and pure water shower cleaning. Thereafter, a silane coupling liquid (N-β (amino ethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane 0.3 mass% aqueous solution, a brand name: MM603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was sprayed for 20 seconds by showering, followed by pure shower Washed. This board | substrate was heated at 100 degreeC for 2 minutes with the board | substrate preheater.

얻어진 실란커플링 처리 유리 기판에, 상기 제법으로 제작된 농색 감광성 전사재료 K1로부터 커버 필름을 제거하고, 제거 후에 노출한 농색조성물층의 표면과 상기 실란커플링 처리 유리 기판의 표면이 접하도록 적층하고, 적층기(주식회사 히타치 인더스트리이즈제(ＬａｍｉｃＩＩ형))을 사용하여, 상기 100℃에서 2분간 가열한 기판에, 고무 롤러 온도 130℃, 선압 100N/ｃｍ, 반송 속도 2.2m/분으로 적층했다. 계속해서 폴리에틸렌테레프탈레이트의 가지지체를, 열가소성 수지층과의 계면에서 박리하고, 가지지체를 제거했다. 가지지체를 박리한 후, 초고압 수은등을 갖는 프록시미티형 노광기(히타치 하이 테크 전자 엔지니어링 주식회사제)로, 기판과 마스크(화상 패턴을 갖는 석영노광 마스크)를 수직으로 세운 상태로, 노광 마스크면과 상기 농색 감광성 수지조성물층 사이의 거리를 200μm로 설정하고, 노광량 70ｍＪ/ｃｍ²로 패턴 노광했다.The cover film was removed from the deep color photosensitive transfer material K1 produced by the above-mentioned manufacturing method on the obtained silane coupling treated glass substrate, and laminated so that the surface of the deep color composition layer exposed after removal and the surface of the silane coupling treated glass substrate were in contact with each other. And laminated | stacked on the board | substrate heated at the said 100 degreeC for 2 minutes using the laminating machine (the Hitachi Industries Co., Ltd. product) at the rubber roller temperature of 130 degreeC, linear pressure 100N / cm, and conveyance speed of 2.2 m / min. Subsequently, the branched support of the polyethylene terephthalate was peeled off at the interface with the thermoplastic resin layer to remove the branched support. After peeling off the branch member, the exposure mask surface and the mask were placed in a vertically exposed state with a substrate-type mask (a quartz exposure mask having an image pattern) in a proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi Hi-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp. The distance between the deep color photosensitive resin composition layers was set to 200 µm, and the pattern exposure was performed at an exposure dose of 70 mPa / cm ² .

그 다음에, 트리에탄올아민계 현상액(트리에탄올아민 30질량％ 함유, 상품명:T-ＰＤ2, 후지샤신필름 주식회사제를, 순수로 12배(T-ＰＤ2 1질량부와 순수 11질량부의 비율로 혼합) 희석한 액)을 30℃에서 50초간, 플랫 노즐 압력 0.04ＭＰａ로 샤워 현상해 열가소성 수지층과 중간층을 제거했다. 계속해서, 이 기판 상면에 공기를 분사해서 액체를 제거한 후, 순수를 샤워에 의해 10초간 분무하고, 순수 샤워 세정하고, 공기를 분사해서 기판 상의 고인 액체를 줄였다.Then, triethanolamine-based developing solution (containing 30% by mass of triethanolamine, trade name: T-PD2, manufactured by Fujishashin Film Co., Ltd.) was purified 12 times with pure water (mixed at a ratio of 1 part by mass of T-PD2 and 11 parts by mass of pure water). One solution) was shower-developed at 30 degreeC for 50 second by 0.04 Mpa of flat nozzles, and the thermoplastic resin layer and the intermediate | middle layer were removed. Subsequently, after spraying air on the upper surface of the substrate to remove the liquid, pure water was sprayed for 10 seconds by showering, pure shower cleaning, and air was sprayed to reduce the accumulated liquid on the substrate.

계속해서, 탄산Ｎａ계 현상액(0.38몰/리터의 탄산수소 나트륨, 0.47몰/리터의 탄산 나트륨, 5질량％의 디부틸나프탈렌술폰산 나트륨, 음이온 계면활성제, 소포제, 안정제 함유, 상품명:T-ＣＤ1, 후지샤신필름 주식회사제를 순수로 5배 희석한 액)을 사용하고, 29℃에서 30초간, 콘형 노즐 압력 0.15ＭＰａ로 샤워 현상하고, 농색조성물층을 현상해서 패터닝화상을 얻었다.Then, a Na carbonate developer (0.38 mol / liter sodium bicarbonate, 0.47 mol / liter sodium carbonate, 5 mass% sodium dibutylnaphthalenesulfonate, anionic surfactant, antifoamer, stabilizer containing, brand name: T-CD1, Using a solution diluted five times with pure water, manufactured by Fujishashin Film Co., Ltd., was shower-developed at a cone nozzle pressure of 0.15 MPa for 30 seconds at 29 ° C., and the deep color composition layer was developed to obtain a patterned image.

계속해서 세정제(상품명:T-ＳＤ3 후지샤신필름 주식회사제)을 순수로 10배 희석한 액을, 33℃에서 20초간, 콘형 노즐 압력 0.02ＭＰａ로 샤워에 의해 분무하고, 더욱 나일론 모를 갖는 회전 브러시에 의해 형성된 화상을 문질러서 잔사제거를 행하여 농색 이획벽을 얻었다.Subsequently, the liquid obtained by diluting the detergent (trade name: T-SD3 Fujishashin Film Co., Ltd.) 10-fold with pure water was sprayed with a cone-shaped nozzle pressure of 0.02 MPa for 20 seconds at 33 ° C by showering, and further to a rotary brush having nylon wool. Was removed by rubbing off the image formed.

그 후, 상기 기판에 대하여 양면에서 우시오전기(주)제, 형번:ＵＶＬ-8000-N의 초고압 수은등을 갖는 노광기로 3000ｍＪ/ｃｍ²의 노광량으로 상면에서 포스트 노광을 행했다. 그 후, 220℃에서 15분간 열처리를 행했다.Then, post exposure was performed with respect to the said board | substrate with the exposure amount of 3000 mPa / cm <^{2> with} the exposure machine which has the ultrahigh pressure mercury lamp of Ushio Electric Co., Ltd. make, model number: L-8000-N from both surfaces. Then, heat processing was performed at 220 degreeC for 15 minutes.

그 다음에, 하기의 방법에 의해 발수처리를 행했다.Then, water repellent treatment was performed by the following method.

[도포법에 의한 발수화 처리][Water repellent treatment by the coating method]

농색 이획벽이 형성된 기판 상에, 미리 불소계 계면활성제(쓰미토모 3Ｍ사 제, 플로라이드 ＦＣ-430)가 0.5질량％（감광성 수지의 고형분에 대하여) 내첨해 있는 알칼리 가용의 감광성 수지(헤키스트 재팬사제, 포지티브형 포토레지스트 ＡＺＰ4210)을 막두께 2μm가 되도록 슬릿 형상 노즐을 사용해서 도포하고, 온풍순환 건조기 중에서 90℃에서 30분간 열처리를 행했다.Alkali-soluble photosensitive resin (Hequist Japan) in which the fluorine-type surfactant (made by Sumitomo 3M, Florade Fc-430) is 0.5 mass% (relative to solid content of the photosensitive resin) on the board | substrate with which the deep color deviation wall was formed previously. Co., Ltd., positive photoresist AGP4210 was applied using a slit nozzle so as to have a film thickness of 2 μm, and heat-treated at 90 ° C. for 30 minutes in a warm air circulation dryer.

그 다음에, 110ｍＪ/ｃｍ²(38mW/ｃｍ²×2.9초)의 노광량으로, 농색 이획벽이 형성된 기판의 이면에서 농색 이획벽을 통해서 노광하고, 무기 알칼리 현상액(헤키스트 재팬사제, ＡＺ400K 디벨러퍼, 1:4) 중에 80초간 액침 요동한 후, 순수중에서 30∼60초간 린스 처리를 행하고, 농색 이획벽 상에 발수성 수지층을 형성함으로써, 화소내외에 표면 에너지 차를 형성했다. 발수성 수지층 형성 후에 화소내외의 표면 에너지는, 화소외(수지층상)는 10∼15ｄｙｎｅ/ｃｍ, 화소내(유리 기판상)는 55ｄｙｎｅ/ｃｍ 전후이었다.Subsequently, at an exposure dose of 110 mW / cm ² (38 mW / cm ² × 2.9 seconds), the back surface of the substrate on which the deep color migration wall was formed was exposed through the deep color migration wall to form an inorganic alkaline developer (AK 400K developer, manufactured by Hequist Japan). , 1: 4) was immersed for 80 seconds, followed by a rinse treatment for 30 to 60 seconds in pure water, and a water repellent resin layer was formed on the deep color separation wall to form a surface energy difference inside and outside the pixel. After the water-repellent resin layer was formed, the surface energy inside and outside the pixels was 10 to 15 dxy nm / cm outside the pixel (on the resin layer) and 55 dxy nm / cm around the pixel (on the glass substrate).

그 다음에, 실시예 1과 같이 R, G, B화소를 착색한 후, 그 컬러필터를 230℃ 오븐중에서 30분간 베이킹함으로써, 블랙 매트릭스, 각 화소 모두 완전히 경화시켰다.Then, after coloring the R, G, and B pixels as in Example 1, the color filter was baked in a 230 ° C. oven for 30 minutes to completely cure the black matrix and each pixel.

이렇게 해서 얻어진 컬러필터의 각 화소를 구성하는 잉크는, 농색 이획벽 틈에 꼭 맞게 들어가서, 번짐, 밀려 나옴, 인접 화소와의 혼색 및 흰색 누락 등의 결함이 되는 불량은 발견되지 않았다. 상기 방법에 의해 얻은 컬러필터 기판의 Ｒ화소, G화소, 및 B화소, 및 블랙 매트릭스 상에, 더욱, ＩＴＯ(ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ)의 투명전극을 스퍼터링에 의해 형성했다.The ink constituting each pixel of the color filter thus obtained fits snugly in the deep color deviation wall, and no defects such as bleeding, pitting, blending with adjacent pixels, and missing white color have not been found. On the R pixels, the G pixels, and the B pixels, and the black matrix of the color filter substrate obtained by the above method, a transparent electrode of ITO (INO) was formed by sputtering.

[실시예 4]Example 4

실시예 3의 농색 이획벽의 형성에 있어서, 포스트 노광의 조건을 표 2에 기재된 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 같게 하여 컬러필터 및 액정표시장치를 제작했다.In the formation of the deep color deviation wall of Example 3, the color filter and the liquid crystal display device were produced like Example 1 except having changed the conditions of post-exposure as described in Table 2.

[실시예 5]Example 5

실시예 3의 농색 이획벽의 형성에 있어서, 농색 감광성 전사재료 K1을 하기의 농색 감광성 전사재료 K2로 변경한 것, 및 포스트 노광의 조건을 표 2에 기재된 조건(상면 3000ｍＪ/ｃｍ² + 하면 3000ｍＪ/ｃｍ²)으로 변경한 것 이외에는 실시예 3과 같이 하여 농색 이획벽을 제작했다.In the formation of the deep color migration wall of Example 3, the color light-sensitive transfer material K1 was changed to the following color light-sensitive transfer material K2, and the conditions of post-exposure were shown in Table 2 (3000 m / cm ² + 3000 m lower surface). Except for changing to / cm ² ), a deep color migration wall was produced in the same manner as in Example 3.

[농색 감광성 전사재료 K2의 제작][Production of Deep Photosensitive Transfer Material K2]

두께 16μm의 폴리에틸렌테레프탈레이트필름(테이진 듀폰 필름 주식회사 제 테트론 G2) 가지지체 상에, 슬릿 형상 노즐을 사용하여, 상기 농색조성물 K1을 도포하고, 건조시켰다. 이렇게하여, 가지지체 상에 건조 막두께가 2.0μm인 농색 감광성 수지층을 형성하고, 최후에 보호 필름(두께 12μm 폴리프로필렌 필름)을 압착했다.The thickening composition K1 was applied and dried on a polyethylene terephthalate film (Tetron DuPont Film Co., Ltd. Tetron G2) supporting member having a thickness of 16 μm using a slit nozzle. In this way, the deep-colored photosensitive resin layer which has a dry film thickness of 2.0 micrometers was formed on a support body, and the protective film (thickness 12 micrometers polypropylene film) was crimped | bonded at the end.

이렇게 해서 가지지체와 농색 감광성 수지층이 일체가 된 농색 감광성 전사재료를 제작했다. 이 농색 감광성 전사재료의 샘플명을 K2로 했다.In this way, a deep photosensitive transfer material in which the branch member and the deep photosensitive resin layer were integrated was produced. The sample name of this deep color photosensitive transfer material was K2.

[비교예 1]Comparative Example 1

실시예 1의 패턴 노광 공정에 있어서, 질소분위기하에서 노광을 행하는 대신에, 대기하에서 패턴 노광을 행한 것 이외에는 실시예 1과 같게 하여 컬러필터 및 액정표시장치를 제작했다.In the pattern exposure process of Example 1, the color filter and the liquid crystal display device were produced like Example 1 except having performed pattern exposure in air | atmosphere instead of performing exposure in nitrogen atmosphere.

[비교예 2]Comparative Example 2

실시예 1의 농색 이획벽의 형성에 있어서, 포스트 노광의 조건을 표 2에 기재된 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 같게 하여 컬러필터 및 액정표시장치를 제작했다.In the formation of the deep color deviation wall of Example 1, the color filter and the liquid crystal display device were produced like Example 1 except having changed the conditions of post exposure as described in Table 2.

[형상의 확인][Confirmation of shape]

실시예, 비교예에서 얻어진 농색 이획벽 부착 기판을, 기판마다 수직으로 잘라서 단면을 노출시키고, 현미경등으로 직접 관찰했다. 농색 이획벽의 기판으로부터 높이가 가장 높은 점에서 농색 이획벽의 높이를 h로 했을 때 0.8h의 위치에 있어서 기판과 평행한 선을 L₁, L₁과 농색 이획벽의 접점에 있어서 접선을 L₂, h의 위치에 있어서 기판과 평행한 선을 L₃로 했을 때, L₂과 L₃의 교점으로부터 농색 이획벽까지의 거리를 d로 정의했다. 측정 결과를 표2에 나타낸다.The board | substrate with a deep color deviation wall obtained by the Example and the comparative example was cut out vertically for every board | substrate, the cross section was exposed, and it observed directly with the microscope. When the height of the deep color deviation wall is h at the point where the height of the deep color deviation wall is the highest, the line parallel to the substrate at the position of 0.8 h is L ₁ , L ₁ and the tangent line at the contact point of the deep color deviation wall is L. _2, when a line parallel to the substrate at the position of the h to L _3, the deep color from the intersection of L ₂ and L ₃ defines the distance to a hoekbyeok d. The measurement results are shown in Table 2.

[ＩＴＯ저항의 측정][Measurement of ITO Resistance]

실시예, 비교예로 얻어진 ＩＴＯ 부착 컬러필터의 ＩＴＯ저항을, 미쓰비시 화학(주)제 「로레스타」; 4탐침법으로 시트 저항을 측정했다. 측정 결과를 표2에 나타낸다.The IoT resistance of the color filter with ITO obtained by the Example and the comparative example is made by Mitsubishi Chemical Corporation "Loresta"; Sheet resistance was measured by the four probe method. The measurement results are shown in Table 2.

[혼색의 평가][Evaluation of mixed colors]

기판과 두께 방향 화소 형성측에서 광학현미경으로 관찰하고, 혼색에 대해서 평가했다. 광학소자내의 임의의 100화소에 대해서 관찰하고, 혼색의 유무를 확인하고, 이하의 평가 기준에 따라서 평가했다. 평가 결과를 표2에 나타낸다.It observed with the optical microscope from the board | substrate and the thickness direction pixel formation side, and evaluated the mixed color. It observed about arbitrary 100 pixels in an optical element, confirmed the presence or absence of mixed color, and evaluated it according to the following evaluation criteria. The evaluation results are shown in Table 2.

[평가 기준][Evaluation standard]

A:혼색이 전혀 없다.A: There is no mixing at all.

B:혼색이 5개 미만 있다.B: There are less than five mixed colors.

C:혼색이 5개 이상 10개 미만.C: Five or more mixed colors are less than ten.

D:혼색이 10개 이상.D: 10 or more mixed colors.

표 2로부터, 실시예 1∼5에 있어서는, 농색 이획벽의 형상에 관한 파라미터 d/h를 0.04 이하로 할 수 있었다. 실시예 1∼5에 있어서는, 타적된 잉크는 농색 이획벽을 타고 넘기 어려워져, 화소의 혼색이 전혀 없거나, 있어도 적어서, 양호한 결과를 얻을 수 있었다. 이것에 반하여, 패턴 노광을 빈산소 분위기하에서 행하지 않은 비교예 1에서는, 상기 d/h가 0.04을 넘어, 혼색이 나타났다. 포스트 노광의 노광량을 2400ｍＪ/ｃｍ²로 한 비교예 2에서는 약간이었지만 혼색이 확인되었다.From Table 2, in Examples 1-5, the parameter d / h regarding the shape of the deep color deviation wall was made into 0.04 or less. In Examples 1 to 5, it was difficult to pass over the concentrated color barrier wall, and thus, no mixed color of the pixels was found at all or less, and good results were obtained. In contrast, in Comparative Example 1 in which the pattern exposure was not performed in a poor oxygen atmosphere, the d / h exceeded 0.04, and mixed color appeared. In Comparative Example 2 in which the exposure amount of the post exposure was 2400 mPa / cm ² , mixed color was confirmed.

Claims

기판 상에 서로 다른 색을 나타내는 2 이상의 화소군을 갖고, 상기 화소군을 구성하는 각 화소는 서로 농색 이획벽에 의해 이획되어 있는 컬러필터의 제조 방법으로서:A method for manufacturing a color filter having two or more pixel groups representing different colors on a substrate, wherein each pixel constituting the pixel group is separated by a deep color shifting wall from each other:

상기 농색 이획벽을 형성하는 공정이 하기 (1)~(3)의 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법.The process for forming the deep color separation wall comprises the following steps (1) to (3).

제 1 항에 있어서, 상기 빈산소 분위기하는 불활성 가스 분위기하, 감압하,및 산소를 차단할 수 있는 보호층하에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법.The method of manufacturing a color filter according to claim 1, which is at least one selected from an inert gas atmosphere in an empty oxygen atmosphere, under reduced pressure, and under a protective layer capable of blocking oxygen.

제 1 항에 있어서, 상기 현상 공정에 있어서의 현상 조건은 현상액으로서 알칼리성 물질의 농도가 0.05∼20 질량％인 희박수용액을 사용하고, 또한, 현상 온도 가 26℃∼35℃이며, 또한, 현상 시간이 20∼100초의 조건인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법.The developing condition in the above-mentioned developing step is a developing solution using a lean aqueous solution having a concentration of 0.05 to 20 mass% of an alkaline substance, and having a developing temperature of 26 ° C to 35 ° C and a developing time. It is 20 to 100 second of conditions, The manufacturing method of the color filter characterized by the above-mentioned.

제 1 항에 있어서, 상기 농색 이획벽 상면의 적어도 일부가 발수성을 띠는 상태에서, 상기 농색 이획벽 사이에 각 화소를 형성하는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법.The method of manufacturing a color filter according to claim 1, wherein each pixel is formed between the deep color barrier walls in a state where at least a part of the upper surface of the deep color barrier walls is water repellent.

제 4 항에 있어서, 상기 농색 이획벽의 적어도 일부를 발수성을 띠는 상태로 하는 수단이 플라즈마 처리인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법.The method of manufacturing a color filter according to claim 4, wherein the means for bringing at least a part of the deep color separation wall into a water repellent state is plasma treatment.

제 1 항에 있어서, 농색 이획벽 사이에 각 화소를 형성하는 방법은, 각 화소를 형성하는 착색 액체조성물을 잉크젯법에 의해 농색 이획벽 사이에 침입시키는 방법인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법.The method of manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the method for forming each pixel between the deep color separation walls is a method of infiltrating the color liquid composition forming each pixel between the deep color separation walls by an inkjet method. .

제 1 항에 있어서, 가지지체 상에, 적어도 농색조성물로 이루어지는 층을 갖고 이루어지는 감광성 전사재료를 기판 상에 전사하고 농색 이획벽의 형성을 행하는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조 방법.The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein a photosensitive transfer material having a layer of at least a deep color composition is transferred onto a substrate and a dark color deviation wall is formed.

제 1 항에 기재된 컬러필터의 제조 방법에 의해 제조되는 컬러필터.The color filter manufactured by the manufacturing method of the color filter of Claim 1.

제 8 항에 있어서, 기판 상에 형성된 농색 이획벽의 단면형상이 상기 농색 이획벽의 기판으로부터의 높이가 가장 높은 점에 있어서의 기판으로부터의 높이를 h, 기판에서 0.8h의 위치에 있어서의 기판과 평행한 선을 L₁, L₁과 농색 이획벽이 접하는 점에 있어서의 접선을 L₂, h의 위치에 있어서의 기판과 평행한 선을 L₃로 했을 때, L₂과 L₃의 교점으로부터 농색 이획벽까지의 거리로 규정되는 값 d를 h로 나눈 값이 0.04 이하인 것을 특징으로 하는 컬러필터.9. A substrate according to claim 8, wherein the cross-sectional shape of the deep color deviation wall formed on the substrate increases the height from the substrate at a point where the height of the deep color deviation wall is the highest from the substrate and h at 0.8 h from the substrate. The intersection of L ₂ and L ₃ when the tangent at the point where L ₁ , L ₁ and the deep color deviation wall contact the parallel line with L ₃ is the line parallel to the substrate at the L ₂ , h position. A value obtained by dividing the value d defined by the distance from the color to the deep color deviation wall by h is 0.04 or less.

제 8 항에 기재된 컬러필터를 갖는 것을 특징으로 하는 표시장치.A display device comprising the color filter according to claim 8.