KR20080084322A - 액정표시장치 및 액정표시장치 제조방법 - Google Patents

액정표시장치 및 액정표시장치 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20080084322A
KR20080084322A KR1020070025870A KR20070025870A KR20080084322A KR 20080084322 A KR20080084322 A KR 20080084322A KR 1020070025870 A KR1020070025870 A KR 1020070025870A KR 20070025870 A KR20070025870 A KR 20070025870A KR 20080084322 A KR20080084322 A KR 20080084322A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
upper substrate
liquid crystal
display area
crystal display
groove
Prior art date
Application number
KR1020070025870A
Other languages
English (en)
Inventor
박기수
이수은
Original Assignee
일진디스플레이(주)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 일진디스플레이(주) filed Critical 일진디스플레이(주)
Priority to KR1020070025870A priority Critical patent/KR20080084322A/ko
Publication of KR20080084322A publication Critical patent/KR20080084322A/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133526—Lenses, e.g. microlenses or Fresnel lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0006—Arrays
    • G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13356—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors characterised by the placement of the optical elements
    • G02F1/133565—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors characterised by the placement of the optical elements inside the LC elements, i.e. between the cell substrates

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은 액정표시장치 및 액정표시장치 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세히 설명하면, 마이크로 렌즈 어레이 (MLA) 가 상판에 일체로 형성된 액정표시장치로서, 마이크로렌즈어레이가 퀴츠(석영) 기판에 일체로 형성되고, 기판의 디스플레이 영역뿐만 아니라 "비 디스플레이 영역"(디스플레이 영역이 아닌 영역)까지 마이크로렌즈 어레이가 형성되는 액정표시장치 및 이와 같은 액정표시장치를 제조하는 방법에 관한 것이다.
MLA, 얼라인마크

Description

액정표시장치 및 액정표시장치 제조방법 {Liquid Crystal Display Device and Method of Manufacturing it}
도 1 은 종래의 액정표시장치의 기판에 마스크가 형성된 단면도이다.
도 2 는 종래의 마스크가 형성된 기판이 에칭되어 오목한 반구형 홈들이 형성된 단면도이다.
도 3 은 종래의 오목한 반구형의 홈들에 고굴절율의 물질이 채워진 기판이 단면도이다.
도 4 는 본 발명에 따른 반구형의 홈들이 형성된 액정표시장치의 단면도이다.
도 5 는 본 발명에 따른 마이크로렌즈어레이가 디스플레이영역에만 설치된 상부기판의 구성도이다.
도 6 은 마이크로렌즈어레이가 형성된 영역과 마이크로렌즈어레이가 형성되지 않은 영역에서 단차가 형성된 예시도이다.
도 7 은 본 발명에 따른 마이크로렌즈어레이가 상부기판 전체에 설치된 액정표시장치의 상부기판의 구성도이다.
도 8 은 본 발명에 따른 액정표시장치의 상부기판상에 얼라인마크를 형성하기 위해 그루브를 형성한 기판의 단면도이다.
** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 **
10: 상부기판 15: 마스크
20: 반구형의 홈 30: 고굴절율 물질
32: 스페이싱 물질 35: 렌즈
40: 디스플레이영역 50: 비 디스플레이 영역
60: 마크구조물
본 발명은 액정표시장치 및 액정표시장치 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세히 설명하면, 마이크로 렌즈 어레이 (MLA) 가 상판에 일체로 형성된 액정표시장치로서, 마이크로렌즈어레이가 퀴츠(석영) 기판에 일체로 형성되고, 기판의 디스플레이 영역뿐만 아니라 "비 디스플레이 영역"(디스플레이 영역이 아닌 영역)까지 마이크로렌즈 어레이가 형성되는 액정표시장치 및 이와 같은 액정표시장치를 제조하는 방법에 관한 것이다.
액정표시장치는 액정을 이용해서 복수의 셀을 지나가는 광을 차폐 또는 개방함으로서 이미지를 형성하는 장치이다. 액정표시장치의 각각의 셀에는 스위칭 장 치를 포함하는 구동회로부가 필연적으로 내재되어서 실질적으로 광밸브로 사용될 수 있는 개구율은 감소하게 되어서 전체적으로 이미지의 밝기는 감소한다. 이러한 액정표시장치의 개구율의 변화없이 밝기를 증가시키기 위하여 마이크로 렌즈 어레이 (MLA) 를 액정패널의 입사면측에 합착하여 왔으나 별도로 제작한 MLA기판과 액정패널과의 부착 및 얼라인 (Align) 에 있어서 불량이 많이 발생하였다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여, 최근에는 마이크로렌즈어레이 (MLA) 를 별도로 형성해서 부착하지 않고 액정표시장치의 상판 자체에 마이크로렌즈어레이 (MLA) 를 형성하고 있다
본 발명은 상판 일체형의 마이크로렌즈어레이 (MLA) 를 구현하는데 있어서 디스플레이영역에만 렌즈어레이를 형성하여 발생하는 단차 형성을 방지하여 합착시 셀갭 균일성 (uniformity)를 개선한 액정표시장치 및 이를 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 액정표시장치는,
상부기판과 하부기판이 합착되고 액정이 협지되어 구성되는 액정표시장치에 있어서, 상기 상부기판에는 디스플레이 영역과 비 디스플레이 영역이 형성되어 있고, 상기 디스플레이 영역에는 복수개의 화소가 구성되고, 상기 각각의 화소에 대응하여 오목한 반구형의 홈으로 이루어진 마이크로렌즈들이 형성되고,
상기 비 디스플레이 영역에는 오목한 반구형의 홈으로 이루어진 마이크로렌 즈들이 형성되는 것을 특징으로 하고,
상기 비 디스플레이 영역의 일부에 그루브 (groove)가 형성되고 상기의 그루브 내에 키마크가 형성되는 것을 특징으로 하고,
상기의 그루브의 면적은 상기 마이크로렌즈 하나의 면적보다 더 큰 것을 특징으로 하고,
상기의 키마크는 얼라인마크, 포토마크, PI 마크 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하고, 상기 상부기판은 퀴츠인 것을 특징으로 하고,
상기 오목한 반구형의 홈들이 형성된 상부기판에 고굴절 물질이 적층되고, 상기 고굴절 물질이 적층된 상부기판에 스페이싱 물질로 적층되는 것을 특징으로 하고,
상기의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은,
상부기판이 쿼츠로 구성된, 마이크로 렌즈 어레이가 형성된 액정표시장치의 제조방법으로, 상기 액정표시장치의 상부 기판에 마스크역할의 실리콘층을 도포하는 단계: 상기 실리콘 층을 드라이 에칭하여 패터닝하는 단계; 상기 패터닝된 실리콘 층을 마스크로 하여 상기 상부기판을 불산으로 에칭하여 복수 개의 오목한 반구형의 홈들을 형성하는 단계; 상기 실리콘 층을 웨트(wet) 에칭하여 제거하는 단계; 상기 복수 개의 오목한 반구형의 홈들이 형성된 상부기판을 덮도록 고굴절율 물질이 도포되는 단계; 및 상기 고굴절율 물질을 포함하여 상기 상부 기판의 전 표면이 덮히도록 스페이싱 물질이 도포되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하고,
상기 스페이싱 물질이 도포되는 두께는 오목한 반구형의 홈의 촛점거리를 고려하여 결정되는 것을 특징으로 하고, 상기 상부기판에 포토리소그라피 공정으로 상기 비 디스플레이 영역의 일부에 그루브를 형성하는 단계: 및 상기 그루브 내에 키마크를 패터닝하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하고, 상부기판에 실리콘을 도포하는 단계 전에, 상기 상부기판에 포토리소그라피 공정으로 비 디스플레이 영역의 적어도 일부에 그루브를 형성하는 단계: 및 상기 그루브 내에 키마크를 패터닝하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 장점, 특징 및 바람직한 실시예 등은 첨부한 도면들을 참조하여 아래에서 상세히 설명한다.
도 1 은 종래의 액정표시장치의 기판에 마스크가 형성된 단면도이다. 도 2 는 종래의 마스크가 형성된 기판이 에칭되어 오목형상의 구조체가 형성된 단면도이다. 도 3 은 종래의 오목형상의 구조체에 고굴절율의 물질이 채워진 기판이 단면도이다.
도 1 내지 도 3 을 참조하면, 액정표시장치의 상부기판 (10)의 일측면에 마이크로렌즈어레이 (MLA) 제작을 위한 마스크 (15) 를 형성한다. 상기의 마스크 (15) 가 형성된 상부기판 (10) 을 에칭액으로 에칭한다. 상기의 에칭이 완료된 상 부기판 (10) 을 세정하여 마스크 (15) 를 제거하면 상부기판 (10) 의 액정에 접하는 측면에 오목한 반구형의 홈들 (20)의 구조체가 형성된다. 오목한 반구형의 홈들 (20) 의 구조체를 고굴절율 물질 (30) 로 채우면 상부기판 (10) 일체로 된 마이크로렌즈 어레이 (MLA) 가 형성된다.
도 4 는 본 발명에 따른 반구형의 홈들이 형성된 액정표시장치의 단면도이다.
본 발명에서는 상부기판 (10) 으로 쿼즈 (석영) 를 사용한다. 다만, 마이크로렌즈어레이 (MLA)를 쿼츠인 상부기판 (10)에 직접 형성하려면 문제점들이 발생한다. 쿼츠인 상부기판 (10)을 에칭하여 상부기판 (10) 에 직접 오목한 반구형의 홈 (20) 을 만들어야 하지만 쿼츠인 상부기판 (10) 을 에칭할 수 있는 에칭액은 포토 마스크 (15) 도 같이 에칭해 버리는 것이다. 일반적으로 에칭액은 불산(HF)을 사용한다.
본 발명에서는 상기의 문제점을 해결하기 위하여 마스크 (15) 로서 역할을 하도록 실리콘층 (Silicon layer)을 형성한다. 실리콘층 (Silicon layer)을 성막 한 후 드라이 에칭하여 마스크 형상으로 패터닝 처리한다. 마스크 패터닝 후 불산으로 쿼츠인 상부기판 (10)을 웨트 (wet) 에칭한다.
본 발명에서는 실리콘 층이 마스크 (15) 의 역할을 한다. 본 발명에서 마스크 (15) 역할을 하는 실리콘 층은 불산 에칭에 의해 식각되지 않고, 질산 및 불산 (HF)의 혼합액에 의한 웨트 (wet) 에칭을 통해서만 식각된다.
그리고, 고굴절율 물질 (30) 은 점도가 낮아서 마이크로렌즈어레이 (MLA)의 렌즈의 촛점거리를 고려한 만큼의 두께로 적층하지 못하고, 고굴절율 물질 (30) 은 오목한 반구형의 홈들 (20) 에 채워져 렌즈를 구성하고 그 위에 스페이싱 물질 (32) 을 촛점거리를 고려한 두께로 적층한다. 본 발명의 스페이싱 물질 (32) 은 고굴절율 물질 (30) 과 너무 큰 굴절율의 차이를 가지지 않아야 한다.
이와 같이 상부기판(쿼츠기판) (10)에 직접 마이크로렌즈어레이 (MLA) 를 형성하고 상기의 스페이싱 물질 (32) 을 적층한 후에 ITO를 적층한다.
본 발명에 따른 고굴절율 물질 (30)은 산화 금속 계열에서 선택된 하나의 물질과 이산화 규소(SiO2)의 혼합물 또는 유기 계열의 물질을 사용할 수 있다. 산화 금속 계열의 대표적인 물질로는 TiO2, Al2O3, 및 Ta2O5 등을 들 수 있으며, 이러한 산화 금속 계열 물질은 굴절률이 TiO2 (굴절율: 2.3), Al2O3 (굴절율: 1.63), 및 Ta2O5 (굴절율: 2.1)로서 비교적 크기 때문에 액정 패널용 상부 기판에 사용하기 위한 상기 범위의 굴절율을 달성하기 위하여 이산화 규소를 혼합하여 조절한다.
고굴절율 물질 (30)은 유기 계열의 물질로도 형성할 수 있는데 대표적인 예가 허니웰(honeywell)사의 T-27을 들 수 있다.
본 발명에 따른 스페이싱 물질 (32) 은 수지 종류로서, 굴절율은 1.3 내지 1.6 범위를 가지며, Tg(Glass Transitions Temperature/유리전이 온도)는 250도씨이상이 되어야 하며, 크랙이 없으며(crack free), 고압축 강도의 물리적인 특성을 갖는 재질을 선택하였다. 또한 액정 패널에 사용하기 위해서는 가능한 투과율은 높으면 높을수록 좋다. 스페이싱 물질 (32)의 도포 두께는 15 내지 70um가 되도록 하였으며, 다층 구조로 형성하였다. 스페이싱 물질 (32)의 두께는 고굴절율 물질 (30)의 굴절율 및 두께에 따라 설계된다.
스페이싱 물질 (32) 의 굴절율은 고굴절율 물질 (30)보다 낮은 굴절율을 갖도록 하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 굴절율이 높아질수록 내열성 등이 떨어지기 때문에 1.4 내지 1.5 정도를 갖는 것이 좋다.
또한 향후 진행되는 투명전극(ITO) Alloy 단계나 배향막 처리 단계에서는 약 250도씨까지 온도가 상승하므로 스페이싱 물질 (32) 은 가능한 높은 양생(curing) 온도를 갖는 것이 바람직하며, 본 발명에서는 약 250도씨의 양생 온도를 갖는 스페이스 물질을 사용하였다. 보다 바람직하게는 스페이스 물질 (32)의 유리전이 온도는 충분한 ITO 특성을 얻기 위하여 300도씨 이상이 되는 것이 좋다.
스페이싱 물질 (32)로서 대표적인 물질은 BCB(bisbenzocyclobutene) 계열의 다우 케미컬(Dow Chemical)사의 cyclotene과 삼양 EMS사의 OCE-1010을 사용하였다. 상기 두 종류의 물질은 일반적인 a-Si TFT 업체들이 개구율을 향상시키기 위하여 메탈 배선과 ITO 전극 사이에 사용하는 절연체로서, 일반적으로 오버코트 (overcoat) 재라 불리어지고 있다.
도 5 는 본 발명의 마이크로렌즈어레이가 디스플레이영역에만 설치된 상부기판의 구성도이다.
도 5 를 참조하면, 도면부호 40의 영역은 디스플레이 영역이고 디스플레이 영역 외는 구동회로 등이 설치된 비 디스플레이영역 (50) 이다. 도 5 에서는 마이크로 렌즈 어레이 (MLA) 는 디스플레이 영역 (40) 의 각 픽셀에 맞추어서 형성되게 된다. 그러나 도 5의 상부기판 일체형의 마이크로렌즈 어레이 (MLA) 구조체를 형성함에 있어서 단차문제가 발생한다.
도면 부호 35는 렌즈이고, 도면 부호 60 은 키마크로 합착 얼라인마크 (Align mark), PI 프린팅마크 (Printing mark), 포토 공정용 마크 등이다.
도 6 은 마이크로렌즈어레이가 형성된 영역과 마이크로렌즈어레이가 형성되지 않은 영역에서 단차가 형성된 예시도이다.
도 6 을 참조하면, 마이크로렌즈어레이 (MLA)가 형성된 디스플레이영역 (40) 과 마이크로렌즈어레이 (MLA) 가 형성되지 않은 비디스플레이 영역 (50) 에서 단차가 형성되게 된다.
마이크로렌즈어레이 (MLA) 가 형성된 디스플레이영역(40) 의 고굴절율 물질 (30) 과 스페이싱 물질 (32) 이 MLA가 없는 비디스플레이영역 (50) 에 비해 아래로 쳐진 모습을 볼 수 있다.
도 7 은 본 발명에 따른 마이크로렌즈어레이가 상부기판 전체에 설치된 액정표시장치의 상부기판의 구성도이다.
도 7 을 참조하면, 도 6 에서 언급된 문제점를 해결하기 위해서 본 발명에서는 도 7 과 같이 상부기판 (10) 의 디스플레이영역 (40) 과 비디스플레이영역 (50) 에 모두 마이크로렌즈어레이 (MLA)를 형성하였다.
그런데 도 7 의 상부 기판 (10) 의 키마크 (60) 부분에는 렌즈 (35) 를 형성할 수 없다. 이는 얼라인을 위한 구조물인 키마크 (60)가 마이크로렌즈어레이 (MLA) 형성을 위해서 에칭을 하게 되면 얼라인 구조물인 키마크 (60) 가 소멸되기 때문이다.
도 8 은 본 발명에 따른 액정표시장치의 상부기판상에 얼라인마크를 형성하기 위해 그루브를 형성한 기판의 단면도이다.
도 8 을 참조하면, 마이크로렌즈어레이 (MLA) 형성을 위해서 에칭을 하게 되면 얼라인 구조물인 키마크 (60) 가 소멸되는 문제점을 해결하기 위하여 얼라인용 키마크 (60) 가 형성될 부분은 미리 웨트 (wet) 에칭 혹은 드라이 (dry) 에칭을 하여 그루브 (groove) 를 형성한 뒤 상기 그루브 위에 상기의 키마크 (60) 를 형성한다
최종적으로 본 발명의 상부기판 (10) 거의 전면에 걸쳐서 오목한 반구형의 홈들 (20) 이 형성되고, 상기 오목한 반구형의 홈들 (20) 에 고굴절율 물질 (30) 이 채워짐으로 인해서 단차가 감소하여 합착시 셀갭의 균등성 (uniformity) 이 개선되었다.
본 발명에 따른 액정표시장치는 디스플레이 영역뿐만 아니라 비 디스플레이 영역에도 마이크로렌즈어레이를 형성하여 단차가 발생하는 문제점을 해결하였고, 또한, 얼라인 등을 위한 마크 구조물을 상부기판 내부에 형성하게 하여 종래에 얼 라인 등을 위한 마크구조물 때문에 단차가 발생되는 문제점을 개선한 현저한 효과가 있다.
즉, 결과적으로 본 발명을 통하여 상부기판의 전 부분에 렌즈어레이가 형성되어 종래와 같은 단차는 발생되지 않게 된 것이다.
본 발명의 바람직한 실시례가 특정 용어들을 사용하여 기술되어 왔지만, 그러한 기술은 오로지 설명을 하기 위한 것이며, 다음의 청구범위의 기술적 사상 및 범위로부터 이탈되지 않고서 여러 가지 변경 및 변화가 가해질 수 있는 것으로 이해 되어져야 한다.

Claims (17)

  1. 상부기판과 하부기판이 합착되고 액정이 협지되어 구성되는 액정표시장치에 있어서,
    상기 상부기판에는 디스플레이 영역과 비 디스플레이 영역이 형성되어 있고,
    상기 디스플레이 영역에는 복수개의 화소가 구성되고, 상기 각각의 화소에 대응하여 오목한 반구형의 홈으로 이루어진 마이크로렌즈들이 형성되고,
    상기 비 디스플레이 영역에는 오목한 반구형의 홈으로 이루어진 마이크로렌즈들이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치
  2. 제 1 항에 있어서
    상기 비 디스플레이 영역의 일부에 그루브 (groove)가 형성되고 상기의 그루브 내에 키마크가 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  3. 제 2 항에 있어서
    상기의 그루브의 면적은 상기 마이크로렌즈 하나의 면적보다 더 큰 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  4. 제 2 항에 있어서
    상기의 키마크는 얼라인마크, 포토마크, PI 마크 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 상부기판은 퀴츠인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 오목한 반구형의 홈들이 형성된 상부기판에 전면에 고굴절 물질이 적층되고, 스페이싱 물질로 다시 적층되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  7. 제 6 항에 있어서
    상기의 고굴절율 물질은 산화 메탈 중에서 선택된 하나의 물질과 산화 실리콘의 혼합물로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 고굴절율 물질은 유기물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 스페이싱 물질은 투명한 수지 물질인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  10. 상부기판이 쿼츠로 구성된, 마이크로 렌즈 어레이가 형성된 액정표시장치의 제조방법으로,
    상기 액정표시장치의 상부 기판에 마스크역할의 실리콘층을 도포하는 단계:
    상기 실리콘 층을 드라이 에칭하여 패터닝하는 단계;
    상기 패터닝된 실리콘 층을 마스크로 하여 상기 상부기판을 불산으로 에칭하여 복수 개의 오목한 반구형의 홈들을 형성하는 단계;
    상기 실리콘 층을 웨트(wet) 에칭하여 제거하는 단계;
    상기 복수 개의 오목한 반구형의 홈들이 형성된 상부기판을 덮도록 고굴절율 물질이 도포되는 단계; 및
    상기 고굴절율 물질을 포함하여 상기 상부 기판의 전 표면이 덮히도록 스페이싱 물질이 도포되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  11. 제 10 항에 있어서
    상기 실리콘 층을 웨트 (wet)에칭하는 에칭액은 질산 및 불산 (HF)의 혼합액인 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법
  12. 제 10 항에 있어서
    상기 스페이싱 물질이 도포되는 두께는 오목한 반구형의 홈의 촛점거리를 고려하여 결정되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법
  13. 제 10 항에 있어서
    상기의 고굴절율 물질은 산화 메탈 중에서 선택된 하나의 물질과 산화 실리콘의 혼합물로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  14. 제 10 항에 있어서,
    상기 고굴절율 물질은 유기물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  15. 제 10 항에 있어서
    상기 상부기판에 포토리소그라피 공정으로 상기 비 디스플레이 영역의 일부에 그루브를 형성하는 단계: 및
    상기 그루브 내에 키마크를 패터닝하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  16. 제 10 항에 있어서,
    상부기판에 실리콘을 도포하는 단계 전에,
    상기 상부기판에 포토리소그라피 공정으로 비 디스플레이 영역의 적어도 일부에 그루브를 형성하는 단계: 및
    상기 그루브 내에 키마크를 패터닝하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  17. 제 10 항에 있어서,
    상기 스페이싱 물질은 투명한 수지 물질인 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
KR1020070025870A 2007-03-16 2007-03-16 액정표시장치 및 액정표시장치 제조방법 KR20080084322A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070025870A KR20080084322A (ko) 2007-03-16 2007-03-16 액정표시장치 및 액정표시장치 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070025870A KR20080084322A (ko) 2007-03-16 2007-03-16 액정표시장치 및 액정표시장치 제조방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20080084322A true KR20080084322A (ko) 2008-09-19

Family

ID=40024695

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070025870A KR20080084322A (ko) 2007-03-16 2007-03-16 액정표시장치 및 액정표시장치 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20080084322A (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170079844A (ko) * 2015-12-31 2017-07-10 엘지디스플레이 주식회사 플렉서블 표시 장치 및 이의 제조 방법
CN111427183A (zh) * 2020-04-29 2020-07-17 湖北长江新型显示产业创新中心有限公司 显示面板和显示装置
KR20230049311A (ko) * 2021-10-06 2023-04-13 주식회사 싸이너스 양면 패턴 쉴드 기능을 갖는 mla 소자 및 제조 방법

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170079844A (ko) * 2015-12-31 2017-07-10 엘지디스플레이 주식회사 플렉서블 표시 장치 및 이의 제조 방법
CN111427183A (zh) * 2020-04-29 2020-07-17 湖北长江新型显示产业创新中心有限公司 显示面板和显示装置
KR20230049311A (ko) * 2021-10-06 2023-04-13 주식회사 싸이너스 양면 패턴 쉴드 기능을 갖는 mla 소자 및 제조 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI307440B (ko)
WO2015192517A1 (zh) 彩膜基板及其制备方法、有机发光显示面板和显示装置
US8251766B2 (en) Organic electroluminescent display device and method of fabricating the same
CN102096255B (zh) 液晶显示设备的阵列基板及其制造方法
TW200528890A (en) Method for manufacturing conductive element substrate, conductive element substrate, method for manufacturing liquid crystal display, liquid crystal display and electronic information equipment
KR20060115464A (ko) 액정표시장치 및 그의 제조방법
JP4472990B2 (ja) 反射型液晶表示装置及びその製造方法
CN105182625A (zh) 一种显示基板及其制作方法和显示装置
JP2001188252A (ja) Ｔｆｔアレイ基板とその製造方法それを用いた液晶表示装置
KR20040041724A (ko) 소다라임 글라스를 이용한 액정표시장치와 그 제조방법
TW200404185A (en) Liquid crystal display apparatus and manufacture method of same
KR20080084322A (ko) 액정표시장치 및 액정표시장치 제조방법
TW564327B (en) Active color filter on array structure and its manufacturing method
KR20080019464A (ko) 액정 패널용 상부 기판, 이를 이용하는 액정 패널 및 그제조 방법
JP2010191283A (ja) アクティブ素子基板の製造方法、アクティブ素子基板、アクティブ型表示装置
JP2008139656A (ja) 表示装置及びその製造方法
KR20070001505A (ko) 액정패널 및 그 제조방법
JP2004325838A (ja) 表示装置
JP4647434B2 (ja) 液晶表示装置用電極基板とその製造方法及び液晶表示装置
KR100735215B1 (ko) 액정표시장치의 컬러필터 기판 제조방법
US20110205473A1 (en) Liquid crystal display panel
JP2005070808A (ja) 液晶表示装置の製造方法
JP2007041374A (ja) 電極基板の製造方法、及び液晶表示装置の製造方法
JPH117035A (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
KR100729770B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조공정

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination