KR20080047545A - Colored composition and photosensitive transfer material - Google Patents

Colored composition and photosensitive transfer material Download PDF

Info

Publication number
KR20080047545A
KR20080047545A KR1020087005077A KR20087005077A KR20080047545A KR 20080047545 A KR20080047545 A KR 20080047545A KR 1020087005077 A KR1020087005077 A KR 1020087005077A KR 20087005077 A KR20087005077 A KR 20087005077A KR 20080047545 A KR20080047545 A KR 20080047545A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
shielding layer
light
light shielding
layer
photosensitive
Prior art date
Application number
KR1020087005077A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
아키라 하타케야마
히데노리 고토
Original Assignee
후지필름 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지필름 가부시키가이샤 filed Critical 후지필름 가부시키가이샤
Publication of KR20080047545A publication Critical patent/KR20080047545A/en

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/206—Filters comprising particles embedded in a solid matrix
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/08—Anti-corrosive paints
    • C09D5/10—Anti-corrosive paints containing metal dust
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/05—Metallic powder characterised by the size or surface area of the particles
    • B22F1/054—Nanosized particles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/05—Metallic powder characterised by the size or surface area of the particles
    • B22F1/054—Nanosized particles
    • B22F1/056—Submicron particles having a size above 100 nm up to 300 nm
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
    • B22F9/16—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
    • B22F9/18—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
    • B22F9/24—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from liquid metal compounds, e.g. solutions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices

Abstract

This invention provides a colored composition that contains metal particles having a silver tin alloy part, has an optical density, after film formation, of not less than 3.5 per mum of the dried film thickness, preferably has a volume fraction of the metal particles having a silver tin alloy part in the solid matter of 0.05 to 0.7 and can satisfy the requirement that, in a light shielding layer formed by coating the colored composition, XYZ colorimetric chromaticity coordinates (x, y) of C light source transmitted light and the chromaticity coordinates (x0, y0) of the above light source have a relationship represented by (x-x0)2 + (y-y0)2 <= 0.01.

Description

착색 조성물 및 감광성 전사재료{COLORED COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL}Coloring composition and photosensitive transfer material {COLORED COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL}

본 발명은 착색 조성물 및 감광성 전사재료와, 이것을 사용하는 표시장치용 차광층 및 그 제조방법, 컬러필터, 액정표시소자 및 표시장치용 차광층 부착 기판에 관한 것이다.The present invention relates to a coloring composition and a photosensitive transfer material, a light shielding layer for a display device using the same, a manufacturing method thereof, a color filter, a liquid crystal display element, and a substrate with a light shielding layer for a display device.

컬러 액정 디스플레이 등에 사용되는 컬러필터는 투명 기판 상에 착색 화소층(R, G, B)이 형성되어 있고, 그리고 R, G, B(적색, 녹색, 청색)의 각 착색 화소의 간극에는 표시 콘트라스트 향상 등의 목적에서 표시장치용 차광층이 형성되어 있다. 특히, 박막 트랜지스터(TFT)를 사용한 액티브 매트릭스 구동방식의 액정표시소자에 있어서는, 박막 트랜지스터의 광에 의한 전류 리크에 따른 화질의 저하를 방지하기 위해서도 표시장치용 차광층에는 높은 차광성이 요구된다.The color filter used for a color liquid crystal display etc. has colored pixel layers R, G, and B formed on a transparent substrate, and has a display contrast in the gap of each colored pixel of R, G, and B (red, green, blue). For the purpose of improvement, a light shielding layer for a display device is formed. In particular, in an active matrix drive type liquid crystal display device using a thin film transistor (TFT), a high light shielding property is required for a light shielding layer for a display device in order to prevent deterioration in image quality due to current leakage due to light of the thin film transistor.

표시장치용 차광층의 형성방법으로는, 예컨대 크롬 등의 금속막을 차광층으로 하는 방법이 있다. 이 방법의 경우에는 금속 박막을 증착법이나 스퍼터링법에 의해 금속막을 형성한다. 상기 금속 박막 상에 포토레지스트를 도포하고, 이어서 표시장치용 차광층의 패턴을 갖는 포토마스크를 사용하여 포토레지스트층을 노광 현상한다. 그 후, 노출된 금속 박막을 에칭하고, 최후에 금속 박막 상의 레지스트 층을 박리함으로써 차광층을 형성한다(예컨대, 비특허문헌 1을 참조).As a method of forming the light shielding layer for a display device, there is a method in which a metal film such as chromium is used as the light shielding layer. In this method, a metal thin film is formed by vapor deposition or sputtering. A photoresist is applied onto the metal thin film, and then the photoresist layer is exposed to light using a photomask having a pattern of a light shielding layer for a display device. Thereafter, the exposed metal thin film is etched, and finally, the light shielding layer is formed by peeling off the resist layer on the metal thin film (see Non-Patent Document 1, for example).

이 방법은 금속 박막을 사용하기 때문에, 막두께가 얇아도 높은 차광효과가 얻어지는 반면, 증착법이나 스퍼터링법이라는 진공 성막 공정이나 에칭 공정이 필요로 되어 비용이 비싸짐과 아울러, 환경에 대한 부하도 무시할 수 없다고 하는 문제가 있다. 또한, 금속막이기 때문에 반사율이 높고, 강한 외광 하에서는 표시 콘트라스트가 낮다고 하는 문제도 있다. 그 대책으로는 저반사 크롬막(금속 크롬과 산화 크롬의 2층으로 이루어진 것 등)을 사용한다. 그러나, 이 대책법은 비용이 상승하는 문제를 수반한다.Since this method uses a metal thin film, a high light shielding effect can be obtained even if the film thickness is thin. However, a vacuum deposition process or an etching process such as a vapor deposition method or a sputtering method is required, resulting in high cost and negligible environmental load. There is a problem that I cannot. Moreover, since it is a metal film, there also exists a problem that a reflectance is high and display contrast is low under strong external light. As a countermeasure, a low reflection chromium film (such as two layers of metal chromium and chromium oxide) is used. However, this countermeasure entails a problem of rising costs.

또한, 표시장치용 차광층의 다른 형성방법으로는 차광성 안료, 예컨대 카본블랙을 함유하는 감광성 수지 조성물을 사용하는 방법도 알려져 있다. 이 방법은, 예컨대 투명 기판에 R, G, B 화소를 형성한 후, 이 화소 위에 카본블랙 함유 감광성 수지 조성물을 도포하고, 투명 기판의 R, G, B 화소 비형성면측에서 전면으로 노광하는 셀프얼라이먼트 방식의 표시장치용 차광층 형성방법이다(예컨대, 일본 특허문헌 1을 참조).Moreover, as another formation method of the light shielding layer for display apparatuses, the method of using the photosensitive resin composition containing a light-shielding pigment, such as carbon black, is also known. In this method, for example, after forming R, G, and B pixels on a transparent substrate, the carbon black-containing photosensitive resin composition is coated on the pixels, and self-exposed to the entire surface from the R, G, and B pixel non-forming surfaces of the transparent substrate. A light shielding layer forming method for an alignment type display device (see Japanese Patent Document 1, for example).

이 방법은 상기 금속막의 에칭에 의한 방법과 비교하여 제조 비용은 낮아지지만, 충분한 차광성을 얻기 위해서는 막두께가 두꺼워진다고 하는 문제가 있다. 그 결과, 표시장치용 차광층과 R, G, B 화소의 겹침(단차)이 생겨 컬러필터의 평탄성이 나빠지고 액정표시소자의 셀갭 불균일이 발생하여 색불균일 등의 표시 불량으로 연결된다.This method has a lower manufacturing cost than the method by etching the metal film, but has a problem that the film thickness becomes thick in order to obtain sufficient light shielding properties. As a result, overlapping (stepping) of the light blocking layer for the display device and the R, G, and B pixels occurs, resulting in poor flatness of the color filter and uneven cell gap of the liquid crystal display, resulting in poor display such as color unevenness.

또한, 최초에 기판에 카본블랙을 함유하는 감광성 수지 조성물을 사용하여 표시장치용 차광층을 제조하고, 그 후에 RGB 화소를 형성하면, 표시장치용 차광층의 막두께가 두꺼워진다. 이것에 기인하여, RGB 화소 형성시 기포 발생 등의 결함이 생기는 경우가 있다. In addition, when the light blocking layer for a display device is first manufactured using the photosensitive resin composition containing carbon black in a board | substrate, and RGB pixel is formed after that, the film thickness of the light shielding layer for display devices becomes thick. Due to this, defects, such as bubble generation, may arise at the time of RGB pixel formation.

또한, 카본블랙을 사용한 표시장치용 차광층이 흑색의 색상에 있어서 반드시 양호하다고 말하기 어렵다.In addition, it is hard to say that the light shielding layer for display devices using carbon black is necessarily good in black color.

한편, 차광용 금속입자를 내부에 균일 분산한 표시장치용 차광층을 제조하는 방법이 알려져 있다(특허문헌 2 참조). 이 방법에서는, 우선 투명 기판 상에 친수성 수지를 함유하는 감광성 레지스트층을 형성한다. 이어서, 표시장치용 차광층의 패턴을 갖는 포토마스크를 통해서 노광·현상하여 투명 기판 상에 릴리프(relief)를 형성한다. 그 후, 이 투명 기판을 무전해 도금의 촉매가 되는 금속 화합물의 수용액에 접촉시켜 금속 화합물을 릴리프 중에 함유시켜 건조한다. 건조후, 열처리를 실시하고, 그 후에 상기 투명 기판 상의 릴리프를 무전해 도금액에 접촉시킴으로써, 입경 0.01~0.05㎛의 차광용 금속입자가 그 내부에 균일하게 분산된 표시장치용 차광층이 얻어진다. 상기 금속입자로는 니켈, 코발트, 철, 동, 크롬이 열거되고, 구체예로는 유일하게 니켈이 표시되어 있다. On the other hand, the method of manufacturing the light-shielding layer for display apparatus which disperse | distributed the light-shielding metal particle uniformly inside is known (refer patent document 2). In this method, a photosensitive resist layer containing a hydrophilic resin is first formed on a transparent substrate. Next, it exposes and develops through the photomask which has a pattern of the light shielding layer for display apparatuses, and forms a relief on a transparent substrate. Thereafter, the transparent substrate is brought into contact with an aqueous solution of a metal compound serving as a catalyst for electroless plating to contain the metal compound in the relief and dried. After drying, heat treatment is performed, and then the relief on the transparent substrate is brought into contact with an electroless plating solution, whereby a light shielding layer for display device in which light-shielding metal particles having a particle size of 0.01 to 0.05 µm is uniformly dispersed therein is obtained. Examples of the metal particles include nickel, cobalt, iron, copper, and chromium. Specific examples thereof include nickel.

그러나, 이 방법은 노광 현상공정을 포함하는 릴리프 형성-무전해 도금 촉매의 부여-열처리-무전해 도금이라고 하는 물을 취급하는 번잡한 처리공정이 많다. 그 때문에, 저비용으로의 표시장치용 차광층 제조는 그다지 기대할 수 없다.However, this method has many complicated treatment steps for handling water, such as relief formation-improvement of electroless plating catalyst-heat treatment-electroless plating, including an exposure developing process. Therefore, manufacturing a light shielding layer for display devices at low cost cannot be expected very much.

(비특허문헌 1) Kyoritsu Shuppan Co., Ltd. 발행의 「컬러 TFT 액정 디스플레이」 218~220쪽 (1997년 4월 10일)(Non-Patent Document 1) Kyoritsu Shuppan Co., Ltd. `` Color TFT Liquid Crystal Display, '' pp. 218-220 (April 10, 1997)

(특허문헌 1) 일본 특허공개 소 62-9301호 공보(Patent Document 1) Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-9301

(특허문헌 2) 일본특허 제3318353호 공보(Patent Document 2) Japanese Patent No. 3318353

본 발명은 상기와 같은 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 박막으로 차광성능이 높고, 저비용으로 제조할 수 있고, 환경으로의 영향이 적고, 흑색(색미(色味)가 없는 무채색)의 표시장치용 차광층을 제조할 수 있는 착색 조성물 및 감광성 전사재료를 제공한다. 또한, 본 발명은 상기 착색 조성물 또는 감광성 전사재료를 사용하는 표시장치용 차광층 및 그 제조방법, 상기 표시장치용 차광층이 형성된 컬러필터 및 액정표시소자를 제공한다. 또한, 본 발명은 상기와 같은 표시장치용 차광층이 형성된 표시장치용 차광층 부착 기판을 제공한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has a high light-shielding performance with a thin film, can be manufactured at low cost, has little influence on the environment, and has a black (colorless color without color taste) light shielding for display devices. Provided are a coloring composition and a photosensitive transfer material from which a layer can be prepared. The present invention also provides a light shielding layer for a display device using the coloring composition or the photosensitive transfer material, a method of manufacturing the same, a color filter and a liquid crystal display device on which the light shielding layer for the display device is formed. The present invention also provides a substrate with a light shielding layer for a display device in which the light shielding layer for a display device is formed as described above.

상기 과제는 이하의 착색 조성물 및 감광성 전사재료, 표시장치용 차광층 및 그 제조방법, 컬러필터, 액정표시소자 및 표시장치용 차광층 부착 기판을 제공함으로써 해결된다.The said subject is solved by providing the following coloring compositions and the photosensitive transfer material, the light shielding layer for display devices, its manufacturing method, a color filter, a liquid crystal display element, and the board | substrate with a light shielding layer for display devices.

(1) 은주석 합금부를 갖는 금속입자를 함유하고, 막형성 후의 광학농도가 건조막 두께 1㎛당 3.5 이상인 것을 특징으로 하는 착색 조성물.(1) The coloring composition containing the metal particle which has a silver tin alloy part, and the optical density after film formation is 3.5 or more per 1 micrometer of dry film thickness.

(2) 상기 은주석 합금부를 갖는 금속입자의 고형분 중의 체적분율이 0.05~0.7이고, 또한 착색 조성물을 도포하여 형성한 차광층에 있어서 C광원 투과광의 XYZ 표색계 색도좌표(x, y)와 상기 광원의 색도좌표(x0, y0)가 (x-x0)2 + (y-y0)2 ≤ 0.01의 관계를 갖는 것을 특징으로 하는 상기 (1)에 기재된 착색 조성물.(2) The XYZ colorimetric chromaticity coordinates (x, y) of the C-light source transmitted light and the light source in the light-shielding layer formed by coating the coloring composition with a volume fraction in the solid content of the metal particles having the silver tin alloy portion. The chromaticity coordinates (x 0 , y 0 ) of have a relationship of (xx 0 ) 2 + (yy 0 ) 2 ≤ 0.01, The coloring composition according to the above (1),

(3) 상기 은주석 합금부를 갖는 금속입자의 평균 입경이 500nm 이하인 것을 특징으로 하는 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 착색 조성물.(3) The colored composition as described in said (1) or (2) characterized by the average particle diameter of the metal particle which has the said silver tin alloy part being 500 nm or less.

(4) 상기 착색 조성물이 감광성을 갖는 것을 특징으로 하는 상기 (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.(4) The coloring composition according to any one of the above (1) to (3), wherein the coloring composition has photosensitivity.

(5) 지지체와, 이 지지체 상에 적어도 감광성 차광층이 형성되어 있고, 상기 감광성 차광층이 은주석 합금부를 갖는 금속입자를 함유하고, 감광성 차광층의 광학농도가 건조막 두께 1㎛당 3.5 이상이고, 감광성 차광층 중의 은주석 합금부를 갖는 금속입자의 체적분율이 0.05~0.7이고, 또한 차광층의 C광원 투과광의 XYZ 표색계 색도좌표(x, y)와 상기 광원의 색도좌표(x0, y0)가 (x-x0)2 + (y-y0)2 ≤ 0.01의 관계를 갖는 것을 특징으로 하는 감광성 전사재료.(5) A support and at least a photosensitive light shielding layer are formed on the support, wherein the photosensitive light shielding layer contains metal particles having a silver tin alloy portion, and the optical density of the photosensitive light shielding layer is 3.5 or more per 1 μm of dry film thickness. And the volume fraction of the metal particles having the silver tin alloy portion in the photosensitive light shielding layer is 0.05 to 0.7, and the XYZ colorimetric chromaticity coordinates (x, y) of the C light source transmitted light of the light shielding layer and the chromaticity coordinates (x 0 , y) of the light source. 0 ) has a relationship of (xx 0 ) 2 + (yy 0 ) 2 ≤ 0.01.

(6) 상기 (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물 또는 상기 (5)에 기재된 감광성 전사재료를 사용하여 제조된 표시장치용 차광층.(6) The light shielding layer for display devices manufactured using the coloring composition in any one of said (1)-(4), or the photosensitive transfer material as described in said (5).

(7) 광투과성 기판과, 이 기판 상에 착색층으로 이루어지고, 서로 다른 색을 나타내는 2개 이상의 화소군을 갖고, 상기 화소군을 구성하는 각 화소는 서로 표시장치용 차광층에 의해 이획되고, 상기 표시장치용 차광층이 상기 (6)에 기재된 표시장치용 차광층인 것을 특징으로 하는 컬러필터.(7) A light-transmissive substrate and two or more pixel groups composed of colored layers on the substrate, each having a different color, and each pixel constituting the pixel group is separated from each other by a light shielding layer for display device. And the light shielding layer for display unit is a light shielding layer for display unit according to (6).

(8) 적어도 1개가 광투과성을 갖는 1쌍의 기판과, 그 기판 사이에 컬러필터, 액정층 및 액정 구동수단을 적어도 구비하고, 상기 컬러필터는 상기 (7)에 기재된 컬러필터인 것을 특징으로 하는 액정표시소자.(8) at least one pair of substrates having light transmittance, and at least a color filter, a liquid crystal layer, and liquid crystal driving means between the substrates, wherein the color filter is the color filter according to (7) above. A liquid crystal display device.

(9) 적어도 1개가 광투과성을 갖는 1쌍의 기판과, 그 기판 사이에 컬러필터, 액정층 및 액정 구동수단을 적어도 구비하고, 상기 액정 구동수단은 액티브 소자를 갖고, 각 액티브 소자 사이에 상기 (6)에 기재된 표시장치용 차광층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.(9) at least one pair of substrates having optical transparency, and at least a color filter, a liquid crystal layer, and liquid crystal driving means between the substrates, wherein the liquid crystal driving means has an active element, and between the active elements, The light shielding layer for display devices as described in (6) is formed, The liquid crystal display element characterized by the above-mentioned.

(10) 광투과성 기판과 이 기판 상에 상기 (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물의 층을 형성하는 공정, 및(10) forming a layer of the light transmissive substrate and the coloring composition according to any one of the above (1) to (4) on the substrate, and

상기 착색 조성물의 층을 표시장치용 차광층용 포토마스크를 통해서 노광한 후 현상하는 공정을 포함하는 표시장치용 차광층의 제조방법.A method of manufacturing a light shielding layer for a display device comprising the step of exposing the layer of the coloring composition through a light shielding layer photomask for a display device and then developing it.

(11) 광투과성 기판 상에, 지지체에 적어도 감광성 차광층을 형성한 상기 (5)에 기재된 감광성 전사재료를 상기 감광성 차광층이 접하도록 적층하는 공정, 상기 감광성 전사재료와 광투과성 기판의 적층체로부터 지지체를 박리하는 공정, 및 표시장치용 차광층용 포토마스크를 통해서 상기 감광성 차광층을 노광한 후 현상하는 공정을 포함하는 표시장치용 차광층의 제조방법.(11) A step of laminating the photosensitive transfer material according to the above (5) in which the photosensitive light shielding layer is formed on the support on the light transmissive substrate so that the photosensitive light shielding layer is in contact with the laminate of the photosensitive transfer material and the light transmissive substrate. And a step of peeling the support, and exposing the photosensitive light shielding layer through a photomask for light shielding layer for display device and then developing the light shielding layer for display device.

(12) 광투과성 기판 및 상기 기판 상에 표시장치용 차광층을 갖고, 상기 표시장치용 차광층 중에 은주석 합금부를 갖는 금속입자가 체적분율 0.05~0.7로 분산되어 있고, 표시장치용 차광층의 광학농도가 건조막 두께 1㎛당 3.5 이상이고, 또한 표시장치용 차광층에 있어서 C광원 투과광의 XYZ 표색계 색도좌표(x, y)와 상기 광원의 색도좌표(x0, y0)가 (x-x0)2 + (y-y0)2 ≤ 0.01의 관계를 갖는 것을 특징으로 하는 표시장치용 차광층 부착 기판.(12) A light transmissive substrate and a metal particle having a light shielding layer for a display device on the substrate and having a silver tin alloy portion in the light shielding layer for a display device are dispersed at a volume fraction of 0.05 to 0.7, The optical density is 3.5 or more per 1 μm of the dry film thickness, and in the light shielding layer for a display device, the XYZ color system chromaticity coordinates (x, y) of the C light source transmitted light and the chromaticity coordinates (x 0 , y 0 ) of the light source are (xx). A substrate with a light shielding layer for a display device, having a relationship of 0 ) 2 + (yy 0 ) 2 ≤ 0.01.

본 발명의 착색 조성물을 사용함으로써, 박막으로 차광성능이 높고, 저비용이고, 환경으로의 영향이 적고, 흑색(색미가 없는 무채색) 색상이 우수한 표시장치용 차광층이 얻어진다. 또한, 본 발명에 의해 얻어지는 표시장치용 차광층은 가열에 의한 색상 변화도 없거나 매우 적다.By using the coloring composition of this invention, the light shielding layer for display apparatuses which are high in light-shielding performance, is low cost, has little influence on the environment, and is excellent in black (colorless achromatic color) color is obtained by a thin film. In addition, the light shielding layer for display devices obtained by the present invention has little or no color change due to heating.

또한, 이 표시장치용 차광층을 사용한 컬러필터는 평탄성이 우수하고, RGB 화소를 형성할 때에 기포가 혼입하는 일이 없거나 또는 매우 적다. 또한, 이 컬러필터를 끼워넣은 액정표시장치는 컬러필터와 기판 사이에 셀갭 불균일이 발생하지 않아서 색불균일 등의 표시 불량이 발생하지 않는다.In addition, the color filter using the light shielding layer for display devices is excellent in flatness, and bubbles are little or very small when forming RGB pixels. In addition, in the liquid crystal display device in which the color filter is embedded, no cell gap nonuniformity occurs between the color filter and the substrate, and display defects such as color nonuniformity do not occur.

[착색 조성물][Coloring Composition]

본 발명의 착색 조성물은 은주석 합금부를 갖는 금속입자(이하, 간단히 「은주석 합금부 함유 입자」라고 부름)를 함유하고, 상기 착색 조성물을 도포하여 형성하는 층의 광학농도는 건조막 두께 1㎛당 3.5 이상인 것을 특징으로 한다. 이러한 착색 조성물은 고형분 중의 은주석 합금부 함유 입자의 체적분율이 0.05~0.7이고, 또한 상기 착색 조성물을 도포하여 형성되는 차광층에 있어서 C광원 투과광의 XYZ 표색계 색도좌표(x, y)와 상기 광원의 색도좌표(x0, y0)가 (x-x0)2 + (y-y0)2 ≤ 0.01의 관계를 갖는 것이 바람직하다.The coloring composition of this invention contains the metal particle which has a silver tin alloy part (henceforth simply "silver tin alloy part containing particle | grains"), and the optical density of the layer which apply | coats and forms the said coloring composition is 1 micrometer of dry film thicknesses. It is characterized in that more than 3.5 per sugar. In such a coloring composition, the volume fraction of the silver tin alloy portion-containing particles in solid content is 0.05 to 0.7, and in the light shielding layer formed by applying the coloring composition, the XYZ color system chromaticity coordinates (x, y) of the C light source transmitted light and the light source It is preferable that the chromaticity coordinates (x 0 , y 0 ) of have a relationship of (xx 0 ) 2 + (yy 0 ) 2 ≤ 0.01.

상기 「고형분 중의 은주석 합금부 함유 입자의 체적분율」은 상기 착색 조성물을 도포 건조하여 얻어지는 차광층(상기 착색 조성물이 감광성을 갖는 경우에 는 착색 조성물을 도포하여 노광 경화한 후의 층)에 포함되는 은주석 합금부 함유 입자의 체적분율을 의미한다. 또한, 상기 체적분율은 표시장치용 차광층 중에 함유되는 은주석 합금부 함유 입자의 체적분율도 의미한다(착색 조성물에는 은주석 합금부 함유 입자 이외에, 바인더인 폴리머나 모노머, 중합개시제, 그 밖의 임의의 성분이 함유되어 있지만, 차광층의 형성 중에 이들 성분의 일부는 도포, 가열건조 등의 공정에서 소실되는 경우가 있으므로, 이러한 정의를 행하였다).Said "volume fraction of silver tin alloy part containing particle in solid content" is contained in the light-shielding layer obtained by apply | coating and drying the said coloring composition (layer after apply | coating a coloring composition and carrying out exposure hardening, when the said coloring composition has photosensitivity). It means the volume fraction of silver tin alloy part containing particle | grains. In addition, the volume fraction means the volume fraction of the silver tin alloy portion-containing particles contained in the light shielding layer for a display device (in addition to the silver tin alloy portion-containing particles, the colored composition is a binder, a polymer, a monomer, a polymerization initiator, or any other optional material). Although some of these components are contained during the formation of the light shielding layer, such definitions have been made since they may be lost in processes such as coating and heating and drying).

여기에서, 체적분율의 측정은 이하의 식에 근거하여 행해진다.Here, the measurement of the volume fraction is performed based on the following equation.

은주석 합금부 함유 입자의 체적분율 = (은주석 합금부 함유 입자의 도포량/Volume fraction of silver tin alloy part containing particle | grains = (coating amount / of silver tin alloy part containing particle | grains /

은주석 합금부 함유 입자의 밀도)/막두께Density of silver-tin alloy part-containing particles) / film thickness

단, 도포량은 g/㎡으로 나타내고, 밀도는 g/㎤으로 나타내고, 막두께(차광층 또는 표시장치용 차광층의 막두께)는 ㎛으로 나타낸다. 상기 식에 있어서, (은주석 합금부 함유 입자의 도포량/은주석 합금부 함유 입자의 밀도)는 은주석 합금부 함유 입자를 균일한 막으로 도포했을 경우의 두께를 ㎛ 단위로 나타낸 값과 일치한다. 또한, 은주석 합금부 함유 입자의 도포량은 형광 X선 장치를 사용하여 측정된다.However, the coating amount is expressed in g / m 2, the density is expressed in g / cm 3, and the film thickness (film thickness of the light shielding layer or light shielding layer for display device) is expressed in μm. In the above formula, (coating amount of silver tin alloy portion-containing particles / density of silver tin alloy portion-containing particles) coincides with a value indicating the thickness in micrometer units when silver tin alloy portion-containing particles are coated with a uniform film. . In addition, the application amount of a silver tin alloy part containing particle | grain is measured using the fluorescent X-ray apparatus.

또한, 은주석 합금부 함유 입자의 밀도는 이하에 의해 산출할 수 있다.In addition, the density of silver tin alloy part containing particle | grains can be computed as follows.

우선, 은주석 합금부 함유 입자 용액을 증발접시 등에 옮겨서 자연 건조한 후, 건조된 은주석 합금부 함유 입자의 피막을 박리하여 취하고, 잘게 분쇄하여 측정용 분말시료를 제조한다. 또한, 데시케이터 중에서 1시간 진공건조를 행한 후, 정칭한 유리제의 비중계(W1g)에 건조한 시료를 넣고, 정칭함으로써 시료의 질 량(W2g)을 산출하고, 비중계의 공극 부분에 비중을 알고 있는 (D1g)의 액체를 시료전체가 완전히 매몰될 때까지 첨가하고, 초음파를 사용하여 탈포를 행한다. 분말시료가 완전히 침강된 후, 상기 액체를 더 추가하여 비중계에 액체를 충분히 충전하고, 온도를 25℃로 조정하고, 비중계의 뚜껑을 덮어서 전체의 질량(W3g)을 정칭한다. 이것에 의해, 상기 액체의 질량을 산출하고, 이것을 비중을 사용하여 체적으로 변환하고, 하기 (1)식을 사용하여 밀도를 구할 수 있다. 또한, 이 때의 비중계의 용량을 V1㎖이라고 한다.First, the silver tin alloy portion-containing particle solution is transferred to an evaporation dish or the like and naturally dried, and then the film of the dried silver tin alloy portion-containing particle is peeled off and finely pulverized to prepare a powder for measurement. In addition, after vacuum drying in a desiccator for 1 hour, a dry sample is placed in a prescribed glass hydrometer (W1g), and the sample is weighed to calculate a quantity (W2g) of the sample, and the specific gravity is known in the void portion of the hydrometer. The liquid of (D1g) is added until the whole sample is completely buried, and defoaming is performed using ultrasonic waves. After the powder sample is completely settled, the liquid is further added to sufficiently fill the hydrometer with the liquid, the temperature is adjusted to 25 ° C, and the lid of the hydrometer is covered to determine the total mass (W3g). Thereby, the mass of the said liquid is computed, this is converted into a volume using specific gravity, and density can be calculated | required using following formula (1). In addition, the capacity of the hydrometer at this time is called V1 ml.

은주석 합금부 함유 입자의 밀도=W2/{V1-(W3-W1-W2)/D1)···(1)식Density of silver tin alloy part containing particle | grains = W2 / (V1- (W3-W1-W2) / D1) ... (1) Formula

차광층의 C광원 투과광의 XYZ 표색계 색도좌표(x, y)는 분광광도계 또는 현미 분광광도계로 스펙트럼 측정을 행하고, 이 스펙트럼으로부터 C광원에 있어서의 원 자극치 X, Y, Z를 계산함으로써 색도좌표가 구해진다. 또한, 본 발명에서 사용한 C광원의 XYZ 표색계 색도좌표(x0, y0)는 x0이 0.3100, y0이 0.3164이다.The chromaticity coordinates (x, y) of the XYZ colorimetric system (x, y) of the transmitted light of the C light source of the light shielding layer are measured by a spectrophotometer or a microscopic spectrophotometer. Is saved. In the XYZ colorimetric system chromaticity coordinates (x 0 , y 0 ) of the C light source used in the present invention, x 0 is 0.3100 and y 0 is 0.3164.

시판의 분광광도계로는 Otsuka electronics Co. Ltd. 제품의 MCPD-1000을, 현미 분광광도계로는 OLYMPUS CORPORATION 제품의 OSP-SP100 및 OSP-SP200 등을 사용할 수 있다.Commercially available spectrophotometers include Otsuka electronics Co. Ltd. MCPD-1000 of the product and OSP-SP100, OSP-SP200 of OLYMPUS CORPORATION, etc. can be used as a microscopic spectrophotometer.

본 발명의 착색 조성물에 있어서, 상기 은주석 합금부 함유 입자의 평균 입경 및 체적분율이 본 발명의 조건을 만족시키면, 상기 조성물로부터 형성되는 차광층에 있어서 C광원 투과광의 XYZ 표색계 색도좌표(x, y)와 상기 광원의 색도좌표(x0, y0)가 (x-x0)2 + (y-y0)2 ≤ 0.01의 관계를 만족시킨다.In the coloring composition of this invention, when the average particle diameter and volume fraction of the said silver tin alloy part containing particle | grains satisfy | fill the conditions of this invention, the XYZ color system chromaticity coordinate (x, y) and the chromaticity coordinates (x 0 , y 0 ) of the light source satisfy a relationship of (xx 0 ) 2 + (yy 0 ) 2 ≤ 0.01.

상기 C광원은 액정표시장치에 사용하는 백라이트 광원과 가까운 특성을 갖는 것이므로, 상기 조건을 만족시킴으로써 표시장치용 차광층을 투과하는 광의 영향을 받아서 흑색부의 색상이 악화되는 일이 없는 것을 나타내고 있다. 상기 조건은 투과광의 색도좌표(x, y)가 C광원의 색도좌표(x0, y0)에 가까운 것을 나타낸다. 그러나, 어느 광의 색도좌표(x, y)가 C광원의 색도좌표(x0, y0)에 가깝다는 것은 그 광이 무채색에 가까운 것을 의미한다. 그 때문에, 상기 조건을 만족시키는 것은 흑색에 다른 색미가 가해지지 않아서 흑색 색상이 우수한 것을 나타낸다. 또한, 액정표시장치를 사용하는 장소의 환경광(반사광)이 흑색부의 색상에 미치는 영향은 투과광과 마찬가지로 생각할 수 있으므로, 반사광에 의해 색상이 악화되는 일도 없다. Since the C light source has a characteristic close to that of the backlight light source used in the liquid crystal display device, the black light source is not deteriorated under the influence of the light passing through the light shielding layer for the display device by satisfying the above condition. The above conditions indicate that the chromaticity coordinates (x, y) of the transmitted light are close to the chromaticity coordinates (x 0 , y 0 ) of the C light source. However, the chromaticity coordinates (x, y) of a light being close to the chromaticity coordinates (x 0 , y 0 ) of the C light source means that the light is close to achromatic color. Therefore, satisfying the above conditions means that no other color taste is added to black and the black color is excellent. In addition, since the influence of the ambient light (reflected light) on the color of the black portion in the place where the liquid crystal display device is used can be considered as the transmitted light, the color does not deteriorate due to the reflected light.

-은주석 합금부를 갖는 금속입자-Metal particles having a tin-tin alloy part

본 발명에 따른 은주석 합금부를 갖는 금속입자(은주석 합금부 함유 입자)는 각 입자가 은주석 합금으로 이루어진 것, 은주석 합금부분과 그 밖의 금속부분으로 이루어진 것, 및 은주석 합금부분과 다른 합금부분으로 이루어진 것을 포함한다.The metal particles (silver tin alloy portion-containing particles) having a silver tin alloy portion according to the present invention are those in which each particle is made of a tin tin alloy, a silver tin alloy portion and another metal portion, and a silver tin alloy portion It consists of alloy parts.

본 발명에 있어서, 금속의 정의에 대해서는, 이와나미이 화학사전 제 4 판 (1987년, 이와나미 서점 발행)에 기재되어 있는 바와 같다. 본 발명에 있어서의 은주석 합금은 은과 주석을 원자 레벨로 혼합한 것으로, 고용체, 공정(共晶), 화합물, 금속간 화합물 등이 포함된다. 또한, 합금에 대해서는, 예컨대 이와나미이 화학사전 제 4 판 (1987년, 이와나미 서점 발행)에 기재되어 있다.In the present invention, the definition of the metal is as described in the fourth edition of Iwanami Chemical Dictionary (1987, issued by Iwanami Bookstore). The silver tin alloy in this invention mixes silver and tin at an atomic level, and includes a solid solution, a process, a compound, an intermetallic compound, etc. The alloy is described in, for example, the fourth edition of the Iwanami Chemical Dictionary (issued by Iwanami Bookstore, 1987).

본 발명에 따른 은주석 합금부 함유 입자는 적어도 일부가 은주석 합금으로 구성되어 있다. 이 구성은, 예컨대 Hitachi, Ltd. 제품의 HD-2300과 Noran 제품의 EDS(에너지 분산형 X선 분석장치)를 사용하여 확인할 수 있다. 그 측정조건은 가속 전압 200kV에 의한 각각의 입자 중심 15nm□ 에리어의 스펙트럼이다.The silver tin alloy part containing particle which concerns on this invention is comprised at least one part from silver tin alloy. This configuration is, for example, Hitachi, Ltd. This can be verified using HD-2300 in the product and EDS (Energy Dispersive X-ray Analyzer) from Noran. The measurement conditions are the spectrum of each particle center 15 nm square area by 200 kV of acceleration voltages.

은주석 합금부 함유 입자는 흑색 농도가 높고, 소량으로 또는 박막으로 우수한 차광성능을 발현할 수 있음과 아울러, 높은 열안정성을 갖는다. 따라서, 흑색 농도를 손상시키지 않고 고온(예컨대, 200℃ 이상)에서의 열처리가 가능하여, 안정적으로 고도의 차광성을 확보할 수 있다. 예컨대, 고도의 차광성이 요구되고, 일반적으로 베이킹처리가 실시되는 컬러필터용 차광막(소위, 블랙 매트릭스) 등에 적합하다. The silver tin alloy portion-containing particles have a high black density, can exhibit excellent light shielding performance in a small amount or in a thin film, and have high thermal stability. Therefore, heat treatment at high temperature (for example, 200 ° C. or more) can be performed without impairing the black density, and stable high light shielding property can be ensured. For example, it is suitable for a light shielding film for a color filter (so-called black matrix) or the like, which requires high light shielding properties and is generally baked.

본 발명에 따른 은주석 합금부 함유 입자는 은(Ag)의 비율을 30~80몰%로 해서 Ag과 주석(Sn)을 복합화(예컨대, 합금화)하여 얻어지는 것이다. Ag의 비율을 특별히 상기 범위로 함으로써 고온 영역에서의 열안정성이 높고, 광의 반사율을 억제한 높은 흑색 농도를 얻을 수 있다.The silver-tin alloy part containing particle which concerns on this invention is obtained by making Ag and tin (Sn) complex (for example, alloying), making silver (Ag) ratio 30-80 mol%. By setting the ratio of Ag in the above range, high black density with high thermal stability in the high temperature region and suppressed light reflectance can be obtained.

바꾸어 말하면, Ag의 비율이 30몰% 미만이면 융점이 낮아져서 열변화하기 쉬워 열안정성이 저하한다. 또한, Ag의 비율이 80몰%를 초과하면, 광의 반사율이 높아진다. 그 중에서도, Ag의 비율은 바람직하게는 40~75몰%이고, 가장 바람직하게는 50~75몰%이다.In other words, when the ratio of Ag is less than 30 mol%, the melting point is lowered and heat change is easy, and thermal stability is lowered. Moreover, when the ratio of Ag exceeds 80 mol%, the reflectance of light will become high. Especially, the ratio of Ag becomes like this. Preferably it is 40-75 mol%, Most preferably, it is 50-75 mol%.

특히, Ag의 비율이 75몰%인 입자, 즉 AgSn 합금 입자는 제조가 용이하고, 얻어진 입자도 안정하여 바람직하다.Particularly, particles having a proportion of Ag of 75 mol%, that is, AgSn alloy particles are preferable because they are easy to manufacture and the obtained particles are also stable.

본 발명의 착색 조성물은 은주석 합금부 함유 입자를 1종 단독으로 함유해도 좋고, Ag의 비율이 상기 범위내에서 다른 2종 이상의 은주석 합금부 함유 입자를 병용하여 구성하도록 하여도 좋다.The coloring composition of this invention may contain silver tin alloy part containing particle | grains individually by 1 type, and may comprise so that the ratio of Ag may use together 2 or more types of silver tin alloy part containing particle | grains within the said range.

본 발명에 따른 은주석 합금부 함유 입자의 제조는 도가니 등의 중에서 가열, 용융 혼합하여 형성하는 등의 일반적 방법으로 합금화 등에 의해 형성하는 것이 가능하다. Ag의 융점은 900℃ 부근이고, Sn의 융점은 200℃ 부근이다. 따라서, 양자의 융점에 큰 차이가 있는 점에서, 복합화(예컨대, 합금화) 후의 미립자화 공정이 여분으로 필요하게 되기 때문에, 입자 환원법에 의한 것이 바람직하다. 예컨대, Ag 화합물과 Sn 화합물을 혼합하고, 이것을 환원한다. 즉, 금속 Ag과 금속 Sn을 동시에 접근한 위치에서 석출시켜, 복합화(예컨대, 합금화)와 미립자화를 동시에 달성하는 방법이다. Ag은 환원되기 쉽고, Sn 보다도 먼저 석출되는 경향이 있기 때문에, Ag 및/또는 Sn을 착염으로 함으로써 석출 타이밍을 컨트롤하는 것이 적합하다.Production of the silver-tin alloy part containing particle which concerns on this invention can be formed by alloying etc. by the general method, such as heating, melt-mixing, and forming in a crucible etc. The melting point of Ag is around 900 ° C, and the melting point of Sn is around 200 ° C. Therefore, since there exists a big difference in melting | fusing point of both, since the granulation process after complexation (for example, alloying) is needed extra, it is preferable by the particle reduction method. For example, Ag compound and Sn compound are mixed and this is reduced. That is, it is a method of simultaneously depositing metal Ag and metal Sn at the position which approached simultaneously, and simultaneously achieving compounding (for example, alloying) and micronization. Since Ag tends to be reduced and precipitates earlier than Sn, it is suitable to control the precipitation timing by making Ag and / or Sn complexed.

상기 Ag 화합물로는 질산은(AgNO3), 아세트산은(Ag(CH3COO)), 과염소산은(AgClO4·H2O) 등이 적합하게 열거된다. 그 중에서도 특히 아세트산은이 바람직하다.Examples of the Ag compound include silver nitrate (AgNO 3 ), silver acetate (Ag (CH 3 COO)), silver perchlorate (AgClO 4 .H 2 O), and the like. Especially, silver acetate is preferable.

상기 Sn 화합물로는 염화 제 1 주석(SnCl2), 염화 제 2 주석(SnCl4), 아세트산 제 1 주석(Sn(CH3COO)2) 등이 적합하게 열거된다. 그 중에서도 특히 아세트산 제 1 주석이 바람직하다.In the Sn compound is stannous chloride (SnCl 2), tin chloride, a second (SnCl 4), such as acetate, stannous (Sn (CH 3 COO) 2 ) are suitably exemplified. Especially, 1st tin acetate is preferable.

환원방법은 환원제를 사용하는 방법, 전해에 의해 환원하는 방법 등을 열거 할 수 있다. 그 중에서도, 환원제를 사용한 전자에 의한 방법이 미세한 입자가 얻어지는 점에서 바람직하다. 상기 환원제로는 하이드로퀴논, 카테콜, 파라아미노페놀, 파라페닐렌디아민, 히드록시아세톤 등이 열거된다. 그 중에서도, 휘발하기 쉽고, 표시장치에 악영향을 미치기 어려운 점에서, 히드록시아세톤이 특히 바람직하다.The reduction method may include a method of using a reducing agent, a method of reducing by electrolysis, and the like. Especially, the method by the former using a reducing agent is preferable at the point from which a fine particle is obtained. Examples of the reducing agent include hydroquinone, catechol, paraaminophenol, paraphenylenediamine, hydroxyacetone, and the like. Especially, hydroxyacetone is especially preferable at the point which is easy to volatilize and it is hard to adversely affect a display apparatus.

본 발명에 따른 은주석 합금부 함유 입자는 이하에 나타내는 물리적 성질이나, 평균 입경(입자 사이즈), 입자형상 등을 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the silver tin alloy part containing particle which concerns on this invention has a physical property shown below, average particle diameter (particle size), a particle shape, etc.

본 발명에 따른 은주석 합금부 함유 입자는 시차주사열량측정법(DSC: Differential Scannig Calorimetry)에 의한 측정에서, 240~400℃의 융점을 갖는 입자인 것이 적합하다. 융점이 상기 범위이기 때문에, 금속 Ag(융점: 950℃)이나 금속 Sn(융점: 230℃)에 비하여 양호한 열안정성을 나타낸다.The silver tin alloy portion-containing particles according to the present invention are preferably particles having a melting point of 240 ° C. to 400 ° C. as measured by differential scanning calorimetry (DSC). Since melting | fusing point is the said range, compared with metal Ag (melting point: 950 degreeC) and metal Sn (melting point: 230 degreeC), it shows favorable thermal stability.

구체적으로는, AgSn 합금의 융해성(융점)은 시료로서 AgSn 합금 20mg을 DSC(SSC/5200, Seiko Instruments Inc. 제품)의 측정 셀에 셋트하고, DSC에 의한 강온 결정화 피크를 10℃/분의 강온속도로 200℃로부터 실온까지 냉각하여 측정된다.Specifically, the melting (melting point) of the AgSn alloy was set to 20 mg of AgSn alloy as a sample in a measurement cell of DSC (SSC / 5200, manufactured by Seiko Instruments Inc.), and the temperature crystallization peak by DSC was set at 10 ° C / min. It measures by cooling from 200 degreeC to room temperature by temperature-fall rate.

본 발명에 따른 은주석 합금부 함유 입자는 평균 입경(수 평균 입자 사이즈)이 500nm 이하인 것이 바람직하고, 또한 하한치는 2nm 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 그 평균 입경은 더욱 바람직하게는 20~200nm이고, 특히 바람직하게는 30~100nm이다. 수 평균 입자 사이즈가 특히 상기 범위이면, 금속 입자와는 달리 모든 입자지름에서 흑색 색상을 갖는다. 또한, 수평균 입자 사이즈가 500nm을 초과하 면 성막했을 때의 면형상이 나빠지는 경우가 있고, 2nm 미만이면 흑색이 저감하여 황색 색미를 띄게 되는 경우가 있다. It is preferable that an average particle diameter (number average particle size) is 500 nm or less, and, as for the silver tin alloy part containing particle which concerns on this invention, it is more preferable that a lower limit is 2 nm or more. Moreover, the average particle diameter becomes like this. More preferably, it is 20-200 nm, Especially preferably, it is 30-100 nm. If the number average particle size is particularly within the above range, it has a black color at all particle diameters, unlike metal particles. Moreover, when the number average particle size exceeds 500 nm, the surface shape at the time of film-forming may worsen, and when it is less than 2 nm, black may reduce and it may have yellow color taste.

상기 수평균 입자 사이즈는 투과형 전자현미경 JEM-2010(JEOL Ltd. 제품)에 의해 얻어진 사진을 사용하여 다음과 같이 하여 측정된다.The number average particle size is measured as follows using a photograph obtained by transmission electron microscope JEM-2010 (manufactured by JEOL Ltd.).

입자 100개를 선택하고, 각각의 입자상과 동일한 면적의 원의 지름을 입자지름으로 하고, 100개의 입자의 입자지름의 평균을 수평균 입자 사이즈로 한다. 또한, 사진은 배율 10만배, 가속 전압 200kV로 촬영한 것을 사용한다.100 particles are selected, the diameter of a circle having the same area as the respective particle shape is taken as the particle diameter, and the average of the particle diameters of 100 particles is taken as the number average particle size. In addition, the photograph used with 100,000 times magnification and the acceleration voltage 200kV is used.

본 발명에 따른 「은주석 합금부 함유 입자」의 입자형상으로는 특별한 제한은 없고, 큐빅형상, 고 종횡비, 중 종횡비, 바늘형상 등의 어느 형상이어도 좋다. There is no restriction | limiting in particular as particle shape of "silver tin alloy part containing particle | grains" which concerns on this invention, Any shape, such as a cubic shape, a high aspect ratio, a medium aspect ratio, and a needle shape, may be sufficient.

은주석 합금부 함유 입자에는 Ag 및 Sn 이외에 염이나 유기물, 그 밖의 원소(Ca, P, Na 등) 등이 더 함유되어 있어도 좋다. 단, 이 경우에서도 상기 물리적성질, 입자 사이즈, 입자형상을 갖고, 또한 유지되는 것이 바람직하다.The silver tin alloy portion-containing particles may further contain salts, organic substances, other elements (Ca, P, Na, etc.) in addition to Ag and Sn. However, also in this case, it is preferable to have the said physical property, particle size, and particle shape, and to hold | maintain.

은주석 합금부 함유 입자의 본 발명의 착색 조성물 중에 있어서의 양으로는 목적이나 용도에 따라 적당하게 선택하면 좋다. 그 은주석 합금부 함유 입자의 양은 고도의 차광성을 얻는 관점에서는 조성물의 전체 고형분(체적)에 대해서 5~70체적%가 바람직하고, 10~66체적%가 보다 바람직하고, 15~60체적%가 가장 바람직하다. 은주석 합금부 함유 입자의 양이 특히 상기 범위이면 광의 반사율을 억제되고, 흑색 농도가 높고, 박막으로 높은 차광성을 얻을 수 있다. 특히, 컬러필터의 블랙 매트릭스 등 화상표시 영역의 차광재료로서 사용했을 경우에는, 고 콘트라스트이고 선명한 표시화상을 얻는 것이 가능하다. 또한, 은주석 합금부 함유 입자의 양이 5 체적% 미만일 때에는 성막했을 때의 막두께가 1.0㎛ 보다 두꺼워지는 경우가 있고, 70체적%를 초과할 때에는 반사율이 높아서 표시 콘트라스트가 손상되는 경우가 있다. What is necessary is just to select suitably as quantity in the coloring composition of this invention of silver tin alloy part containing particle | grains according to an objective and a use. The amount of the silver tin alloy portion-containing particles is preferably 5 to 70% by volume, more preferably 10 to 66% by volume, and more preferably 15 to 60% by volume based on the total solids (volume) of the composition from the viewpoint of obtaining high light shielding properties. Most preferred. When the amount of the silver tin alloy portion-containing particles is particularly within the above range, the reflectance of light is suppressed, the black density is high, and high light shielding properties can be obtained with a thin film. In particular, when used as a light shielding material of an image display area such as a black matrix of a color filter, it is possible to obtain a high contrast and clear display image. When the amount of the silver tin alloy portion-containing particles is less than 5% by volume, the film thickness at the time of film formation may be thicker than 1.0 µm, and when it exceeds 70% by volume, the reflectance may be high and the display contrast may be damaged. .

(감광성을 갖는 착색 조성물)(Coloring composition having photosensitivity)

본 발명에 있어서의 착색 조성물은 감광성을 갖는 것이 바람직하다. 감광성을 부여하기 위해서는 상기 착색 조성물에 감광성 수지 조성물이 첨가된다. 감광성 수지 조성물은 바인더 폴리머, 에틸렌성 불포화 이중결합을 갖는 광의 조사에 의해 부가 중합하는 모노머, 광중합 개시제 등을 함유한다.It is preferable that the coloring composition in this invention has photosensitivity. In order to provide photosensitivity, the photosensitive resin composition is added to the said coloring composition. The photosensitive resin composition contains a binder polymer, a monomer which is additionally polymerized by irradiation of light having an ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator and the like.

감광성 수지 조성물은 알칼리 수용액으로 현상가능한 것과 유기용제로 현상가능한 것이 있다. 감광성 수지 조성물로서 안전성과 현상액의 비용의 점에서, 알칼리 수용액으로 현상가능한 것이 바람직하다.The photosensitive resin composition is one which can be developed with an aqueous alkali solution and one that can be developed with an organic solvent. As a photosensitive resin composition, it is preferable that it is developable with aqueous alkali solution from the point of safety and the cost of a developing solution.

감광성 수지 조성물은 광, 전자선 등의 방사선을 수용하는 부분이 경화하는 네거티브형이어도 방사선 미수용부가 경화하는 포지티브형이어도 좋다.The photosensitive resin composition may be either a negative type in which a portion that receives radiation such as light or an electron beam is cured or a positive type in which the radiation non-accommodating portion is cured.

포지티브형 감광성 수지로는 노볼락계 수지가 열거된다. 예컨대, 일본 특허공개 평 7-43899호 공보에 기재된 알칼리 가용성 노볼락 수지계를 사용할 수 있다. 또한, 일본 특허공개 평 6-148888호 공보에 기재된 포지티브형 감광성 수지층, 즉 상기 공보에 기재된 수지와 감광제로서 1,2-나프토퀴논디아지드 술폰산 에스테르와 상기 공보에 기재된 열경화제의 혼합물을 함유하는 감광성 수지층을 사용할 수 있다. 또한, 일본 특허공개 평 5-262850호 공보에 기재된 조성물도 사용가능하다.The novolak-type resin is mentioned as positive type photosensitive resin. For example, the alkali-soluble novolak resin system described in Unexamined-Japanese-Patent No. 7-43899 can be used. Furthermore, it contains the positive photosensitive resin layer of Unexamined-Japanese-Patent No. 6-148888, ie, the resin of the said publication, and the mixture of 1,2-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester and the thermosetting agent of the said publication as a photosensitive agent. A photosensitive resin layer can be used. Moreover, the composition of Unexamined-Japanese-Patent No. 5-262850 can also be used.

네거티브형 감광성 수지로는 네거티브형 디아조 수지와 바인더로 이루어진 감광성 수지, 광중합성 조성물, 아지드 화합물과 바인더로 이루어진 감광성 수지 조성물, 신남산형 감광성 수지 조성물 등이 열거된다. 그 중에서도 특히 바람직한 것은 광중합 개시제, 광중합성 모노머 및 바인더를 기본 구성요소로서 함유하는 감광성 수지이다. 상기 감광성 수지층으로는 일본 특허공개 평 11-133600호 공보에 기재된 「중합성 화합물 B」, 「중합개시제 C」, 「계면활성제」, 「접착 제조」나 그 밖의 조성물을 사용할 수 있다.Examples of the negative photosensitive resin include photosensitive resins composed of negative diazo resins and binders, photopolymerizable compositions, photosensitive resin compositions composed of azide compounds and binders, cinnamic acid type photosensitive resin compositions, and the like. Especially preferable is photosensitive resin which contains a photoinitiator, a photopolymerizable monomer, and a binder as a basic component. As said photosensitive resin layer, the "polymerizable compound B" of the Unexamined-Japanese-Patent No. 11-133600, the "polymerization initiator C", the "surfactant", the "adhesion manufacture", or other composition can be used.

예컨대, 네거티브형 감광성 수지에서, 알칼리 수용액으로 현상가능한 감광성 수지는 주성분으로서 카르복실산기를 포함하는 바인더(후술하는 열가소성 수지 등), 광의 조사에 의해 부가중합할 수 있는 에틸렌성 불포화 이중결합 함유 모노머, 및 광중합 개시제를 함유하고 있다.For example, in a negative photosensitive resin, the photosensitive resin which can be developed by aqueous alkali solution is a binder containing a carboxylic acid group as a main component (the thermoplastic resin mentioned later), the ethylenically unsaturated double bond containing monomer which can be addition-polymerized by irradiation of light, And a photopolymerization initiator.

바인더로는 측쇄에 카르복실산기를 갖는 폴리머, 예컨대 일본 특허공개 소 59-44615호 공보, 일본 특허공고 소 54-34327호 공보, 일본 특허공고 소 58-12577호 공보, 일본 특허공고 소 54-25957호 공보, 일본 특허공개 소 59-53836호 공보,및 일본 특허공개 소 59-71048호 공보에 기재되어 있는 것과 같은 메타크릴산 공중합체, 아크릴산 공중합체, 이타콘산 공중합체, 크로톤산 공중합체, 말레산 공중합체, 부분 에스테르화 말레산 공중합체 등을 열거할 수 있다. 또한. 측쇄에 카르복실산기를 갖는 셀룰로오스 유도체도 열거할 수 있다. 그 외에도 수산기를 갖는 폴리머에 환상 산무수물을 부가한 것도 바람직하게 사용할 수 있다. 특히, 미국특허 제4139391호 명세서에 기재된 벤질 (메타)아크릴레이트와 (메타)아크릴산의 공중합체나 벤질 (메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산 및 다른 모노머의 다원 공중합체도 열거할 수 있다.Examples of the binder include polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-44615, Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-34327, Japanese Patent Application Laid-open No. 58-12577, Japanese Patent Publication No. 54-25957 Methacrylic acid copolymers, acrylic acid copolymers, itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, males as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-53836, and Japanese Patent Laid-Open No. 59-71048 Acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers, and the like. Also. The cellulose derivative which has a carboxylic acid group in a side chain can also be mentioned. In addition, what added the cyclic acid anhydride to the polymer which has a hydroxyl group can also be used preferably. Particularly, copolymers of benzyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid described in US Patent No. 4139391 and polyunsaturated copolymers of benzyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid and other monomers may also be listed.

감광성 수지층에 사용되는 바인더는 30~400mgKOH/g의 범위의 산가와 1000~300000의 범위의 중량 평균 분자량을 갖는 것에서 선택하여 사용된다. 그 밖에, 각종 성능, 예컨대 경화막의 강도를 개량하기 위해서, 현상성 등에 악영향을 주지 않는 범위에서 알칼리 불용성 폴리머를 첨가할 수 있다. 이들 폴리머로는 알콜 가용성 나일론 또는 에폭시 수지를 열거할 수 있다. The binder used for the photosensitive resin layer is selected and used from an acid value in the range of 30-400 mgKOH / g, and a weight average molecular weight in the range of 1000-300000. In addition, an alkali insoluble polymer can be added in the range which does not adversely affect developability etc. in order to improve various performances, for example, the strength of a cured film. These polymers may include alcohol soluble nylon or epoxy resins.

바인더는 감광성을 갖는 착색 조성물의 전체 고형분에 대해서 통상 10~95질량%, 20~90질량%가 더욱 바람직하다. 10~95질량%의 범위에서는 감광성 수지층의 점착성이 지나치게 높아지는 일도 없어, 형성되는 층의 강도 및 광감도가 열화되는 일도 없다.As for a binder, 10-95 mass% and 20-90 mass% are more preferable normally with respect to the total solid of the coloring composition which has photosensitivity. In the range of 10-95 mass%, the adhesiveness of the photosensitive resin layer does not become high too much, and the intensity | strength and light sensitivity of the layer formed do not deteriorate.

광중합 개시제로는 미국특허 제2367660호 명세서에 개시되어 있는 비시날 폴리케탈도닐 화합물, 미국특허 제2448828호 명세서에 기재되어 있는 아실로인에테르 화합물, 미국특허 제2722512호 명세서에 기재된 α-탄화수소로 치환된 방향족 아실로인 화합물, 미국특허 제3046127호 및 동 제2951758호의 각 명세서에 기재된 다핵 퀴논 화합물, 미국특허 제3549367호 명세서에 기재된 트리아릴이미다졸 이량체와 p-아미노케톤의 조합, 일본 특허공고 소 51-48516호 공보에 기재된 벤조티아졸 화합물과 트리할로메틸-s-트리아진 화합물, 미국특허 제4239850호 명세서에 기재되어 있는 트리할로메틸-s-트리아진 화합물, 미국특허 제4212976호 명세서에 기재되어 있는 트리할로메틸옥사디아졸 화합물 등이 열거된다. 특히 바람직하게는 트리할로메틸-s-트리아진, 트리할로메틸옥사디아졸, 트리아릴이미다졸 이량체이다.Examples of the photopolymerization initiator include bisinal polyketaldonyl compounds disclosed in US Patent No. 2367660, acyl inether compounds described in US Patent No. 2448828, and α-hydrocarbons described in US Patent No. 2722512. Substituted aromatic acyloin compounds, polynuclear quinone compounds described in the specifications of US Pat. No. 3046127 and 2951758, combinations of the triarylimidazole dimers described in the specification of US Pat. No. 3549367 with p-aminoketones, Japan The benzothiazole compound and trihalomethyl-s-triazine compound described in patent publication No. 51-48516, the trihalomethyl-s-triazine compound described in US Pat. No. 4239850, US Patent No. And trihalomethyloxadiazole compounds described in the specification 4212976. Especially preferred are trihalomethyl-s-triazine, trihalomethyloxadiazole and triarylimidazole dimers.

감광성을 갖는 착색 조성물에 있어서, 광중합 개시제의 함유량은 전체 고형분에 대해서 0.5~20질량%가 일반적이고, 1~15질량%가 바람직하다. 0.5질량% 미만에서는 광감도나 화상의 강도가 낮고, 20질량%를 초과해서 첨가하여도 성능향상에 대한 효과가 확인되지 않는다. In the coloring composition which has photosensitivity, 0.5-20 mass% is common with respect to total solid, and, as for content of a photoinitiator, 1-15 mass% is preferable. If it is less than 0.5 mass%, the photosensitivity and the intensity of an image are low, and even if it adds more than 20 mass%, the effect on performance improvement is not recognized.

광조사에 의해 부가 중합할 수 있는 에틸렌성 불포화 이중결합 함유 모노머 (이하, 간단히 「모노머」라고 함)로는 비점이 상압에서 100℃ 이상인 화합물을 열거할 수 있다. 예컨대, 폴리에틸렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트 및 페녹시에틸 (메타)아크릴레이트 등의 단관능 (메타)아크릴레이트; 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디 (메타)아크릴레이트, 트리메티롤에탄 트리아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리아크릴레이트, 트리메티롤프로판 디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리(아크릴로일옥시프로필)에테르, 트리(아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 트리(아크릴로일옥시에틸)시아누레이트, 글리세린 트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판 또는 글리세린 등의 다관능 알콜에 에틸렌 옥사이드나 프로필렌 옥사이드를 부가반응시킨 후에 (메타)아크릴레이트화한 것 등의 다관능 (메타)아크릴레이트를 열거할 수 있다.As an ethylenically unsaturated double bond containing monomer (henceforth simply a "monomer") which can be superposed | polymerized by light irradiation, the compound whose boiling point is 100 degreeC or more at normal pressure can be mentioned. Monofunctional (meth) acrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, and phenoxyethyl (meth) acrylate; Polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimetholethane triacrylate, trimetholpropane triacrylate, trimetholpropane diacrylate, neopentylglycol di (meth) Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, Trimetholpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, tri (acryloyloxyethyl) cyanurate, glycerin tri (meth) acrylate, trimetholol (Meth) acrylic after addition reaction of ethylene oxide or propylene oxide to a polyfunctional alcohol such as propane or glycerin Polyfunctional (meth) acrylates, such as the thing which was made into a rate, can be mentioned.

또한, 일본 특허공고 소 48-41708호, 동 50-6034호, 일본 특허공개 소 51- 37193호의 각 공보에 개시되어 있는 우레탄 아크릴레이트류, 일본 특허공개 소 48-64183호, 일본 특허공고 소 49-43191호, 동 52-30490호의 각 공보에 개시되어 있는 폴리에스테르 아크릴레이트류, 에폭시 수지와 (메타)아크릴산의 반응 생성물인 에폭시아크릴레이트류 등의 다관능 아크릴레이트나 메타크릴레이트를 열거할 수 있다. 이들 중에서, 트리메티롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트가 바람직하다. 이들 모노머는 단독이어도 2종류 이상을 혼합하여 사용해도 좋다. 이 모노머의 함유량은 감광성을 갖는 착색 조성물의 전체 고형분에 대해서 5~50질량%가 일반적이고, 10~40질량%가 바람직하다. 그 모노머의 함유량이 5~50질량%인 범위에서는 광감도나 화상의 강도도 저하하지 않고, 감광성 차광층의 점착성이 과잉으로 되는 경우도 없다.Further, urethane acrylates disclosed in Japanese Patent Application Publication Nos. 48-41708, 50-6034, and Japanese Patent Publication Nos. 51-37193, Japanese Patent Publication No. 48-64183, and Japanese Patent Publication 49 And polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates disclosed in JP-A-43191 and JP-A 52-30490, and epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resins and (meth) acrylic acids. have. Among these, trimetholpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate are preferable. You may use these monomers individually or in mixture of 2 or more types. As for content of this monomer, 5-50 mass% is common with respect to the total solid of the coloring composition which has photosensitivity, and 10-40 mass% is preferable. In the range whose content of the monomer is 5-50 mass%, neither the photosensitivity nor the intensity | strength of an image falls, and the adhesiveness of the photosensitive light shielding layer does not become excess.

감광성 수지 조성물은 상기 성분 이외에 열중합 방지제를 더 함유하는 것이 바람직하다. 열중합 방지제의 예로는, 예컨대 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, p-t-부틸카테콜, 2,6-디-t-부틸-p-크레졸, β-나프톨, 피로갈롤 등의 방향족 히드록시 화합물, 벤조퀴논, p-톨루퀴논 등의 퀴논류, 나프틸아민, 피리딘, p-톨루이딘, 페노티아진 등의 아민류, N-니트로소페닐히드록실아민의 알루미늄염 또는 암모늄 염, 클로라닐, 니트로벤젠, 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2-메르캅토 벤즈이미다졸 등이 열거된다.It is preferable that the photosensitive resin composition contains a thermal polymerization inhibitor further in addition to the said component. Examples of the thermal polymerization inhibitor include, for example, aromatic hydroxy compounds such as hydroquinone, p-methoxyphenol, pt-butylcatechol, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, β-naphthol, pyrogallol, Quinones such as benzoquinone and p-toluquinone, amines such as naphthylamine, pyridine, p-toluidine and phenothiazine, aluminum salts or ammonium salts of N-nitrosophenylhydroxylamine, chloranyl, nitrobenzene, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercapto benzimidazole, etc. are listed. do.

감광성 수지 조성물에는 필요에 따라 공지의 첨가제, 예컨대 가소제, 계면활성제, 밀착 촉진제, 분산제, 가소제, 새깅(sagging) 방지제, 레벨링제, 소포제, 난 연화제, 광택제, 용제 등을 더 첨가할 수 있다.If necessary, known additives such as plasticizers, surfactants, adhesion promoters, dispersants, plasticizers, anti-sagging agents, leveling agents, antifoaming agents, flame retardants, brighteners, solvents, and the like may be further added to the photosensitive resin composition.

밀착 촉진제로는, 예컨대 알킬페놀/포름알데히드 노볼락 수지, 폴리비닐에틸에테르, 폴리비닐이소부틸에테르, 폴리비닐부티랄, 폴리이소부틸렌, 스티렌-부타디엔 공중합체 고무, 부틸 고무, 염화비닐-아세트산 비닐 공중합체, 염화 고무, 아크릴수지계 점착제, 방향족계, 지방족계 또는 지환족계 석유수지, 실란 커플링제 등이 열거된다.As the adhesion promoter, for example, alkylphenol / formaldehyde novolak resin, polyvinyl ethyl ether, polyvinyl isobutyl ether, polyvinyl butyral, polyisobutylene, styrene-butadiene copolymer rubber, butyl rubber, vinyl chloride-acetic acid Vinyl copolymers, chlorinated rubbers, acrylic resin pressure sensitive adhesives, aromatic, aliphatic or alicyclic petroleum resins, silane coupling agents and the like.

또한, 은주석 합금부 함유 입자를 수분산물로 하여 사용하는 경우에는, 상기 감광성 수지 조성물로는 수계의 것이 필요하다. 이러한 감광성 수지 조성물로는 일본 특허공개 평 8-271727호 공보의 단락 0015 내지 0023에 기재된 것 이외에, 시판하는 것으로는, 예컨대 Toyo Gosei Co., Ltd. 제품의 「SPP-M20」등이 열거된다. In addition, when using silver tin alloy part containing particle | grains as a water dispersion, an aqueous thing is needed as said photosensitive resin composition. As such a photosensitive resin composition, in addition to what is described in Paragraph 0015 of Unexamined-Japanese-Patent No. 8-271727-0023, it is commercially available, for example, Toyo Gosei Co., Ltd. Product "SPP-M20" is listed.

(감광성을 갖지 않는 착색 조성물)(Coloring composition not having photosensitivity)

본 발명에 있어서 감광성을 갖지 않는 착색 조성물은 상기와 같은 은주석 합금부 함유 입자 이외에, 필요에 따라 바인더, 분산제, 용매 등을 함유한다. 바인더로는 수용성 수지 폴리머 바인더나 비수용성 수지 바인더가 적당하게 사용된다.In this invention, the coloring composition which does not have photosensitivity contains a binder, a dispersing agent, a solvent, etc. as needed other than the said silver tin alloy part containing particle | grains. As a binder, a water-soluble resin polymer binder and a water-insoluble resin binder are used suitably.

수용성 수지 폴리머 바인더는 보호 콜로이드성이 있는 폴리머가 바람직하다. 수용성 수지 폴리머 바인더는, 예컨대 젤라틴, 폴리비닐알콜, 메틸셀룰로오스, 히드록시프로필 셀룰로오스, 폴리알킬아민, 폴리아크릴산의 부분 알킬에스테르 등이 열거된다. 그외, 「안료의 사전(이토세이시로 편, Asakura Publishing Co., Ltd. 발행, 2000년)」에 기재되어 있는 것이 열거된다.The water-soluble resin polymer binder is preferably a polymer having protective colloidal properties. Examples of the water-soluble resin polymer binder include gelatin, polyvinyl alcohol, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, polyalkylamines, and partial alkyl esters of polyacrylic acid. In addition, what is described in "the dictionary of pigments (Itosei-shi edition, Asakura Publishing Co., Ltd. issuance, 2000)" is listed.

또한, 비수용성 폴리머 바인더로는 「플라스틱 성능편람」(니혼 플라스틱 공 업연맹, 전일본 플라스틱 성형공업 연합회 편저, 공업조사회 발행, 1968년 10월 25일 발행)에 기재되어 있는 유기용매 가용 폴리머 바인더에서 적어도 1개를 선택하여 사용할 수 있다.In addition, as the water-insoluble polymer binder, the organic solvent-soluble polymer binder described in the Plastic Performance Manual (edited by Nihon Plastic Industries Co., Ltd., Japan Association of Plastic Molding Industries, published by the Industrial Society of Japan, issued October 25, 1968). At least one can be selected and used.

비수용성 폴리머 바인더의 바람직한 구체예로는 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 페놀 수지, 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀, 폴리카보네이트, 실리콘 수지, 폴리우레아, 폴리우레탄, 폴리산무수물, 폴리술폰, 폴리이민, 폴리술피드, 폴리아크릴로니트릴, 나일론, 폴리아세트산비닐, 폴리비닐에테르, 폴리아크릴산 및 폴리메타크릴산 및 이들의 에스테르, 또한 이들의 코폴리머 또는 변성체로서 유기용매에 가용인 것이 열거된다.Preferred specific examples of the water-insoluble polymer binder include polyamides, polyesters, polystyrenes, phenol resins, polyolefins such as polyethylene, polycarbonates, silicone resins, polyureas, polyurethanes, polyanhydrides, polysulfones, polyimines, and polysulfes. The feed, polyacrylonitrile, nylon, polyvinyl acetate, polyvinyl ether, polyacrylic acid and polymethacrylic acid and esters thereof, and those soluble in organic solvents as copolymers or modified substances thereof are listed.

또한, 비수용성 폴리머 바인더로는 물에 혼합할 수 있다는 관점으로부터, 폴리머 라텍스도 사용할 수 있다. 폴리머 라텍스란 수불용의 폴리머 미립자가 물에 분산된 것이다. 수불용의 폴리머로는 상기와 같은 비수용성 폴리머가 열거된다. 상세하게는, 예컨대 「고분자 라텍스 화학」(무로이 소이치 저, 고분자간행회 발행, 1973년)에 기재되어 있다.Moreover, as a water-insoluble polymer binder, a polymer latex can also be used from a viewpoint that it can mix with water. Polymer latex is a dispersion of water-insoluble polymer fine particles in water. Examples of the water-insoluble polymer include the above water-insoluble polymers. In detail, it is described, for example in "polymer latex chemistry" (Muroy Soichi, published by Polymer Society, 1973).

상기 폴리머 라텍스로는, 예컨대 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리우레아/우레탄, SBR(스티렌-부타디엔계), MBR(MMA/부타디엔, 아크릴/부타디엔), NBR(아크릴로니트릴/부타디엔), NR(천연 고무), BR(부타디엔 고무), CR(클로로프렌 고무), IR(이소프렌 고무), VP(SBR/디비닐피리딘) 및 이들의 공중합체로 이루어진 폴리머 라텍스가 열거된다.Examples of the polymer latex include polyester, polyurethane, polyurea / urethane, SBR (styrene-butadiene), MBR (MMA / butadiene, acrylic / butadiene), NBR (acrylonitrile / butadiene), NR (natural rubber) ), Polymer latex consisting of BR (butadiene rubber), CR (chloroprene rubber), IR (isoprene rubber), VP (SBR / divinylpyridine) and copolymers thereof.

또한, 상기 폴리머 라텍스에는 종류가 다른 폴리머 라텍스를 병용할 수도 있 다. 병용할 수 있는 폴리머 라텍스로는, 예컨대 SBR과 NR, IR과 NR, CR과 NR, NBR로 니트릴량이 다른 것, SBR로 스티렌량이 다른 것, SBR과 VP, NBR과 MBR, SBR과 NBR, SBR과 MBR, BR과 CR, NBR과 VP, CR과 VP 등, 음이온성의 것과 양이온성의 것의 조합이 아닌 것이 바람직하다.Moreover, the polymer latex can also use together a polymer latex of a different kind. Examples of the polymer latex that can be used in combination include, for example, SBR and NR, IR and NR, CR and NR, and NBR with different nitrile amounts, SBR with styrene amounts, SBR and VP, NBR and MBR, SBR and NBR, and SBR. It is preferable not to combine anionic and cationic ones, such as MBR, BR and CR, NBR and VP, and CR and VP.

음이온성의 것으로는 카르복실기를 도입한 것, 양이온성의 것으로는 아미노기나 암모늄기를 도입한 것이 있다.As the anionic one, a carboxyl group is introduced, and as the cationic one, an amino group or an ammonium group is introduced.

상기 바인더로서의 폴리머의 사용량은 감광성을 갖지 않는 착색 조성물 중 3~50질량%가 바람직하고, 특히 10~30질량%가 바람직하다. As for the usage-amount of the polymer as the said binder, 3-50 mass% is preferable in the coloring composition which does not have photosensitivity, and 10-30 mass% is especially preferable.

또한, 용매로는 공지의 유기용매를 사용할 수 있다. 특히 바람직한 유기용매로는 메틸알콜, 이소프로필알콜, MEK, 아세트산 에틸, 톨루엔 등이 열거된다. 또한, 물도 용매로서 바람직하다. 이들 용매는 필요에 따라서 혼합사용해도 좋다.In addition, a well-known organic solvent can be used as a solvent. Particularly preferred organic solvents include methyl alcohol, isopropyl alcohol, MEK, ethyl acetate, toluene and the like. Water is also preferable as a solvent. You may mix and use these solvent as needed.

[감광성 전사재료][Photosensitive Transfer Material]

본 발명에 있어서는, 상기 감광성을 갖는 착색 조성물을 사용하여 감광성 전사재료를 제조하고, 이것을 사용하여 표시장치용 차광층을 제조할 수 있다.In this invention, the photosensitive transfer material can be manufactured using the coloring composition which has the said photosensitivity, and the light-shielding layer for display devices can be manufactured using this.

상기 감광성 전사재료는 가지지체에 적어도 상기 감광성을 갖는 착색 조성물로 형성되는 감광성 차광층을 형성한 것이다. 감광성 차광층의 막두께는 0.2~2㎛의 범위가 바람직하고, 특히 0.2~1㎛의 범위가 바람직하다.The said photosensitive transfer material forms the photosensitive light shielding layer formed with the coloring composition which has the said photosensitive property at least on a support body. The film thickness of the photosensitive light-shielding layer is preferably in the range of 0.2 to 2 µm, particularly preferably in the range of 0.2 to 1 µm.

본 발명의 가지지체로는 폴리에스테르, 폴리스티렌 등의 공지의 지지체를 사용할 수 있다. 그 중에서도, 가지지체로는 2축 연신한 폴리에틸렌 테레프탈레이트가 비용, 내열성, 치수안정성의 관점에서 바람직하다. 가지지체의 두께는 15~200㎛ 정도, 더욱 바람직하게는 30~150㎛ 정도가 바람직하다. 가지지체에 있어서, 두께가 15㎛ 미만인 경우에는 라미네이션 공정시에 열에 의해 파형 판상의 주름이 발생한다고 하는 결점이 있다. 반대로 가지지체의 두께가 200㎛을 초과하는 경우에는 비용상 불리하다.As a support body of this invention, well-known support bodies, such as polyester and polystyrene, can be used. Especially, as a support body, the biaxially stretched polyethylene terephthalate is preferable from a viewpoint of cost, heat resistance, and dimensional stability. The thickness of the branch support is about 15 to 200 µm, more preferably about 30 to 150 µm. In the branch member, when the thickness is less than 15 µm, there is a drawback that corrugation of a corrugated plate occurs due to heat during the lamination process. On the contrary, if the thickness of the support exceeds 200 µm, it is disadvantageous in terms of cost.

또한, 가지지체에는 필요에 따라서 일본 특허공개 평 11-149008호에 기재되어 있는 도전성층을 형성해도 좋다.In addition, you may form the electroconductive layer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 11-149008 to a branch support as needed.

(열가소성 수지층)(Thermoplastic layer)

또한, 지지체와 감광성 차광층, 또는 지지체와 중간층 사이에 열가소성 수지층을 형성하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to form a thermoplastic resin layer between a support body and the photosensitive light shielding layer, or a support body and an intermediate | middle layer.

열가소성 수지층은 하지 표면의 요철(이미 형성되어 있는 화상 등에 의한 요철 등도 포함됨)을 흡수할 수 있도록 쿠션재로서의 역할을 담당하는 것이다. 그 때문에, 해당 요철에 따라 변형할 수 있는 성질을 갖고 있는 것이 바람직하다.The thermoplastic resin layer plays a role as a cushioning material so as to absorb irregularities (including irregularities due to burns or the like already formed) on the surface of the underlying surface. Therefore, it is preferable to have the property which can be deformed according to the said unevenness | corrugation.

열가소성 수지층에 함유되는 수지로는 에틸렌과 아크릴산 에스테르 공중합체의 비누화물, 스티렌과 (메타)아크릴산 에스테르 공중합체의 비누화물, 비닐톨루엔과 (메타)아크릴산 에스테르 공중합체의 비누화물, 폴리(메타)아크릴산 에스테르,및 (메타)아크릴산 부틸과 아세트산 비닐 등의 (메타)아크릴산 에스테르 공중합체의 비누화물 등에서 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다. 또한, 열가소성 수지층에 함유되는 수지로는 「플라스틱 성능편람」(니혼 프라스틱 공업연맹, 전일본 플라스틱 성형공업 연합회 편저, 공업조사회 발행, 1968년 10월 25일 발행)에 의한 유기고분자 중 알칼리 수용액에 가용인 것을 사용할 수도 있다.Examples of the resin contained in the thermoplastic resin layer include a saponified product of ethylene and an acrylic ester copolymer, a saponified product of a styrene and a (meth) acrylic acid ester copolymer, a saponified product of a vinyltoluene and a (meth) acrylic acid ester copolymer, and a poly (meth) It is preferable that it is at least 1 sort (s) chosen from acrylic acid ester and saponified thing of (meth) acrylic acid ester copolymers, such as butyl (meth) acrylate and vinyl acetate. In addition, the resin contained in the thermoplastic resin layer is an alkaline aqueous solution of an organic polymer according to the Plastic Performance Manual (edited by Nippon Plastic Industries Co., Ltd., All Japan Plastic Molding Industry Association, published by the Industrial Society of Japan, issued October 25, 1968). You can also use what is available.

또한 이들 열가소성 수지의 중, 연화점이 80℃ 이하의 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서 「(메타)아크릴산」이란 아크릴산 및 메타크릴산을 총칭하고, 그 유도체의 경우도 마찬가지이다.Moreover, among these thermoplastic resins, the softening point of 80 degrees C or less is preferable. In addition, in this specification, "(meth) acrylic acid" generically refers to acrylic acid and methacrylic acid, and is the same also in the case of the derivative | guide_body.

이들 수지 중에서, 중량 평균 분자량 5만~50만(Tg=0~140℃)의 범위에서, 더욱 바람직하게는 중량 평균 분자량 6만~20만(Tg=30~110℃)의 범위의 수지에서 선택하여 사용할 수 있다. 이들 수지의 구체예로는 일본 특허공고 소 54-34327호, 일본 특허공고 소 55-38961호, 일본 특허공고 소 58-12577호, 일본 특허공고 소 54-25957호, 일본 특허공개 소 61-134756호, 일본 특허공고 소 59-44615호, 일본 특허공개 소 54-92723호, 일본 특허공개 소 54-99418호, 일본 특허공개 소 54-137085호, 일본 특허공개 소 57-20732호, 일본 특허공개 소 58-93046호, 일본 특허공개 소 59-97135호, 일본 특허공개 소 60-159743호, OLS3504254호, 일본 특허공개 소 60-247638호, 일본 특허공개 소 60-208748호, 일본 특허공개 소 60-214354호, 일본 특허공개 소 60-230135호, 일본 특허공개 소 60-258539호, 일본 특허공개 소 61-169829호, 일본 특허공개 소 61-213213호, 일본 특허공개 소 63-147159호, 일본 특허공개 소 63-213837호, 일본 특허공개 소 63-266448호, 일본 특허공개 소 64-55551호, 일본 특허공개 소 64-55550호, 일본 특허공개 평 2-191955호, 일본 특허공개 평 2-199403호, 일본 특허공개 평 2-199404호, 일본 특허공개 평 2-208602호, 일본 특허출원 평 4-39653호, 일본 특허공개 평 5-241340호의 각 공보 명세서에 기재되어 있는 알칼리 수용액에 가용인 수지를 열거할 수 있다. 특히 바람직한 것은 일본 특허공개 소 63-147159호 명세서에 기재된 메타크릴산/2-에틸헥실아크릴레이 트/벤질메타크릴레이트/메틸메타크릴레이트 공중합체이다.Among these resins, in the range of the weight average molecular weight 50,000-500,000 (Tg = 0-140 degreeC), More preferably, it selects from resin of the range of the weight average molecular weight 60,000-200,000 (Tg = 30-110 degreeC). Can be used. As specific examples of these resins, Japanese Patent Publication No. 54-34327, Japanese Patent Publication No. 55-38961, Japanese Patent Publication No. 58-12577, Japanese Patent Publication No. 54-25957, and Japanese Patent Publication No. 61-134756 Japanese Patent Publication No. 59-44615, Japanese Patent Publication 54-92723, Japanese Patent Publication 54-99418, Japanese Patent Publication 54-137085, Japanese Patent Publication 57-20732, Japanese Patent Publication Japanese Patent Publication No. 58-93046, Japanese Patent Publication No. 59-97135, Japanese Patent Publication No. 60-159743, OLS3504254, Japanese Patent Publication No. 60-247638, Japanese Patent Publication No. 60-208748, Japanese Patent Publication No. 60 -214354, Japanese Patent Publication No. 60-230135, Japanese Patent Publication No. 60-258539, Japanese Patent Publication No. 61-169829, Japanese Patent Publication No. 61-213213, Japanese Patent Publication No. 63-147159, Japan Patent Publication No. 63-213837, Japanese Patent Publication No. 63-266448, Japanese Patent Publication No. 64-55551, Japanese Patent Publication No. 64-55550, Japanese Patent Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 2-191955, Japanese Patent Laid-Open No. 2-199403, Japanese Patent Laid-Open No. 2-199404, Japanese Patent Laid-Open No. 2-208602, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-39653, Japanese Patent Laid-Open No. 5-241340 Soluble resin which can be enumerated in the aqueous alkali solution described in each Gazette specification of an arc is mentioned. Especially preferred are methacrylic acid / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methyl methacrylate copolymers described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-147159.

또한, 상기 각종의 수지 중에서 바람직하게는 중량 평균 분자량 3000~3만(Tg=30~170℃)의 범위에서, 더욱 바람직하게는 중량 평균 분자량 4000~2만(Tg=60~140℃)의 범위에서 선택하여 사용할 수 있다. 바람직한 구체예는 상기 특허 명세서에 기재되어 있는 것 중에서 선택할 수 있지만, 특히 바람직하게는 일본 특허공고 소 55-38961호, 일본 특허공개 평 5-241340호 명세서의 각 공보에 기재된 스티렌/(메타)아크릴산 공중합체가 열거된다.Moreover, in the said various resin, Preferably it is the range of the weight average molecular weights 3000-30,000 (Tg = 30-170 degreeC), More preferably, the range of the weight average molecular weight 4000-20,000 (Tg = 60-140 degreeC) Can be selected and used at Preferable specific examples can be selected from those described in the above patent specification, but particularly preferably styrene / (meth) acrylic acid described in each publication of Japanese Patent Application Laid-open No. 55-38961 and Japanese Patent Application Laid-open No. 5-241340. Copolymers are listed.

또한, 이들 유기고분자 물질 중에 지지체와의 접착력을 조절하기 위하여, 각종 가소제, 각종 폴리머나 과냉각 물질, 밀착 개량제 또는 계면활성제, 이형제 등을 가하는 것이 가능하다. 바람직한 가소제의 구체예로는 폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 디옥틸프탈레이트, 디헵틸프탈레이트, 디부틸프탈레이트, 트리크레실포스페이트, 크레실디페닐포스페이트, 비페닐디페닐포스페이트, 폴리에틸렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 에폭시 수지와 폴리에틸렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트의 부가반응 생성물, 유기 디이소시아네이트와 폴리에틸렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트의 부가반응 생성물, 유기 디이소시아네이트와 폴리프로필렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트의 부가반응 생성물, 비스페놀A와 폴리에틸렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트의 축합반응 생성물등을 열거할 수 있다. 열가소성 수지층 중의 가소제의 양은 상기 열가소성 수지에 대해서 200질량% 이하가 일반적이고, 바람직하게는 20~100질량%이다. 열가소성 수 지층의 두께는 1.0㎛ 이상이 바람직하다. 열가소성 수지의 두께가 1.0㎛ 이상이면, 하지 표면의 요철을 완전하게 흡수할 수 있다. 또한, 상한에 대해서는, 현상성, 제조 적성으로부터 약 100㎛ 이하가 일반적이고, 바람직하게는 약 50㎛ 이하이다.Moreover, in order to adjust the adhesive force with a support body in these organic polymer materials, it is possible to add various plasticizers, various polymers and supercooling substances, an adhesion improving agent, surfactant, a mold release agent, etc. Specific examples of preferred plasticizers include polypropylene glycol, polyethylene glycol, dioctyl phthalate, diheptyl phthalate, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, biphenyl diphenyl phosphate, and polyethylene glycol mono (meth) acrylate. , Polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, addition reaction product of epoxy resin and polyethylene glycol mono (meth) acrylate, organic diisocyanate Addition reaction products of polyethylene glycol mono (meth) acrylate, addition reaction products of organic diisocyanate and polypropylene glycol mono (meth) acrylate, and condensation reaction products of bisphenol A and polyethylene glycol mono (meth) acrylate. Can be. As for the quantity of the plasticizer in a thermoplastic resin layer, 200 mass% or less is common with respect to the said thermoplastic resin, Preferably it is 20-100 mass%. As for the thickness of a thermoplastic resin layer, 1.0 micrometer or more is preferable. If thickness of a thermoplastic resin is 1.0 micrometer or more, the unevenness | corrugation of the surface of a base can be absorbed completely. In addition, about an upper limit, about 100 micrometers or less are common from developability and aptitude for manufacture, Preferably it is about 50 micrometers or less.

본 발명에 있어서, 열가소성 수지층의 용매로는 이 층을 구성하는 수지를 용해하는 것이면 특별한 제한없이 사용할 수 있다. 그 용매의 예로는, 예컨대 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, n-프로판올, i-프로판올 등이 열거된다.In this invention, as a solvent of a thermoplastic resin layer, if melt | dissolving resin which comprises this layer, it can use without a restriction | limiting in particular. Examples of the solvent include methyl ethyl ketone, cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether acetate, n-propanol, i-propanol and the like.

(중간층)(Middle floor)

본 발명의 감광성 전사재료는 가지지체와 감광성 차광층 사이에 중간층을 형성해도 좋다.In the photosensitive transfer material of the present invention, an intermediate layer may be formed between the support and the photosensitive light shielding layer.

중간층을 구성하는 수지로는 특별한 제한은 없지만 알칼리 가용성인 것이 바람직하다. 수지의 예로서 폴리비닐알콜계 수지, 폴리비닐피롤리돈계 수지, 셀룰로오스계 수지, 아크릴아미드계 수지, 폴리에틸렌옥사이드계 수지, 젤라틴, 비닐에테르계 수지, 폴리아미드 수지, 및 이들의 공중합체를 열거할 수 있다. 또한, 폴리에스테르와 같이 통상은 알칼리 가용성이 아닌 수지에 카르복실기나 술폰산기를 갖는 모노머를 공중합한 수지도 사용할 수 있다.Although there is no restriction | limiting in particular as resin which comprises an intermediate | middle layer, It is preferable that it is alkali-soluble. Examples of the resin include polyvinyl alcohol resin, polyvinylpyrrolidone resin, cellulose resin, acrylamide resin, polyethylene oxide resin, gelatin, vinyl ether resin, polyamide resin, and copolymers thereof. Can be. Moreover, the resin which copolymerized the monomer which has a carboxyl group and sulfonic acid group in resin which is not alkali-soluble normally like a polyester can also be used.

이들 중에서 바람직한 것은 폴리비닐알콜이다. 폴리비닐알콜로는 감화도가 80% 이상인 것이 바람직하고, 83~98%의 것이 보다 바람직하다. Among these, polyvinyl alcohol is preferable. As polyvinyl alcohol, it is preferable that the degree of influence is 80% or more, and the thing of 83-98% is more preferable.

중간층을 구성하는 수지는 2종류 이상을 혼합하여 사용하는 것이 바람직하고, 특히 폴리비닐알콜과 폴리비닐피롤리돈을 혼합하여 사용하는 것이 특히 바람직 하다. 양자의 중량비는 폴리비닐피롤리돈/폴리비닐알콜=1/99~75/25, 더욱 바람직하게는 10/90~50/50의 범위가 바람직하다. 이 비가 1/99 이하가 되면 중간층의 면형상의 악화, 그 위에 도포한 감광성 수지층과의 밀착불량이라고 하는 문제가 생긴다. 반대로 양자의 중량비가 75/25을 초과하면 중간층의 산소차단성이 저하하여 감도가 저하한다.It is preferable to mix and use two or more types of resin which comprises an intermediate | middle layer, and it is especially preferable to mix and use polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone. The weight ratio of both is preferably in the range of polyvinylpyrrolidone / polyvinyl alcohol = 1/99 to 75/25, more preferably 10/90 to 50/50. When this ratio is 1/99 or less, problems such as deterioration of the planar shape of the intermediate layer and poor adhesion with the photosensitive resin layer applied thereon occur. On the contrary, when the weight ratio of both exceeds 75/25, the oxygen barrier property of the intermediate layer decreases and the sensitivity decreases.

중간층에는 필요에 따라서 계면활성제 등의 첨가제를 첨가해도 좋다.You may add additives, such as surfactant, to an intermediate layer as needed.

중간층의 두께는 0.1~5㎛, 더욱 바람직하게는 0.5~3㎛의 범위가 바람직하다. 두께가 0.1㎛ 미만인 경우, 산소차단성의 저하에 의해 감도가 저하하는 경우가 있고, 5㎛를 초과하는 경우에는 현상시의 중간층 제거시간의 증대라는 문제가 발생하는 경우가 있다. As for the thickness of an intermediate | middle layer, the range of 0.1-5 micrometers, More preferably, it is 0.5-3 micrometers. When the thickness is less than 0.1 µm, the sensitivity may decrease due to the deterioration of the oxygen barrier property, and when the thickness exceeds 5 µm, there may be a problem that the removal time of the intermediate layer during development is increased.

중간층의 도포용매로는 상기 수지가 용해되면 특별히 그외의 제한은 없지만, 물이 바람직하다. 물에 상술한 수혼화성 유기용제를 혼합한 혼합용매도 바람직하다. 중간층의 도포용매의 바람직한 구체예로는 다음과 같은 것이 있다. 물, 물/메탄올=90/10, 물/메탄올=70/30, 물/메탄올=55/45, 물/에탄올=70/30, 물/1-프로판올=70/30, 물/아세톤=90/10, 물/메틸에틸케톤=95/5(질량비).The coating solvent for the intermediate layer is not particularly limited as long as the resin is dissolved, but water is preferred. Also preferred are mixed solvents in which the water-miscible organic solvent described above is mixed with water. Preferable specific examples of the coating solvent for the intermediate layer include the following. Water, water / methanol = 90/10, water / methanol = 70/30, water / methanol = 55/45, water / ethanol = 70/30, water / 1-propanol = 70/30, water / acetone = 90 / 10, water / methyl ethyl ketone = 95/5 (mass ratio).

본 발명의 감광성 전사재료를 제조하기 위해서는, 지지체에 본 발명의 감광성을 갖는 착색 조성물의 용액을, 예컨대 스피너(스핀 방식, 슬릿 앤드 스핀 방식), 휠러, 롤러 코터, 커튼 코터, 나이프 코터, 와이어 바코터, 압출기(FAS 방식 등) 등의 도포기를 사용하여 도포·건조시킴으로써 형성할 수 있다. 열가소성 수지의 층을 형성할 경우에는 마찬가지로 하여 형성된다.In order to manufacture the photosensitive transfer material of the present invention, a solution of the coloring composition having the photosensitive property of the present invention on a support, for example, a spinner (spin method, slit and spin method), a wheeler, a roller coater, a curtain coater, a knife coater, a wire bar It can form by apply | coating and drying using applicators, such as a coater and an extruder (FAS system etc.). When forming a layer of a thermoplastic resin, it forms similarly.

본 발명의 감광성 전사재료는 상기와 같은 착색 조성물로 형성되는 감광성 차광층이 형성되어 있기 때문에, 앞으로는 박막이고 또한 광학농도가 높은 차광층을 구비한 표시장치용 차광층을 제조할 수 있다.Since the photosensitive light shielding layer formed from the above-mentioned coloring composition is formed in the photosensitive transfer material of the present invention, the light shielding layer for a display device having a light shielding layer having a high optical density in the future can be manufactured.

[표시장치용 차광층 및 그 제조방법][Light shielding layer for display device and manufacturing method thereof]

본 발명의 표시장치용 차광층은 상기 착색 조성물 또는 감광성 전사재료를 사용하여 제조된다. 그 막두께는 0.1~2.0㎛ 정도, 바람직하게는 0.1~0.9㎛이다. 차광층의 막두께 1㎛당 광학농도는 3.5 이상이다. 상기 표시장치용 차광층은 은주석 합금부 함유 입자를 체적분율로 0.05~0.7로 더 분산시킨 층이고, 또한 차광층의 C광원 투과광의 XYZ 표색계 색도좌표(x, y)와 상기 광원의 색도좌표(x0, y0)가 (x-x0)2 + (y-y0)2 ≤ 0.01의 관계를 갖는 것이 상기와 같은 박막이어도 충분한 광학농도를 갖고, 또한 우수한 흑색의 색상을 갖고, 또한 가열에 의한 색상변화가 작거나 또는 없기 때문에 바람직하다. 또한, 박막이므로, 컬러필터를 형성할 경우 RGB 등의 화소와의 겹침(중첩)이 생기기 어려워 컬러필터의 평탄성이 높아진다.The light shielding layer for display devices of this invention is manufactured using the said coloring composition or the photosensitive transfer material. The film thickness is about 0.1-2.0 micrometers, Preferably it is 0.1-0.9 micrometers. The optical density per 1 micrometer of film thickness of a light shielding layer is 3.5 or more. The light shielding layer for the display device is a layer in which silver tin alloy portion-containing particles are further dispersed in a volume fraction of 0.05 to 0.7, and an XYZ color system chromaticity coordinate (x, y) of the C light source transmitted light of the light shielding layer and chromaticity coordinates of the light source. (x 0 , y 0 ) having a relationship of (xx 0 ) 2 + (yy 0 ) 2 ≤ 0.01 has a sufficient optical density even in the above-described thin film, and also has an excellent black color and a color by heating It is preferable because there is little or no change. Moreover, since it is a thin film, when a color filter is formed, it is hard to produce overlapping (overlapping) with pixels, such as RGB, and the flatness of a color filter becomes high.

감광성을 갖는 착색 조성물을 사용하여 표시장치용 차광층을 제조하는 방법은 광투과성 기판에 감광성 착색 조성물을 도포하여 착색 조성물의 층을 형성하고(도포방법은 상기 감광성 전사재료를 제조할 때의 방법과 동일함), 통상의 방법에 의해 표시장치용 차광층용 포토마스크를 통해서 노광하고, 그 후 현상함으로써 차광층을 형성하는 방법이다.The method of manufacturing a light shielding layer for a display device using a coloring composition having a photosensitive property is performed by coating the photosensitive coloring composition on a light transmissive substrate to form a layer of the coloring composition (the method of applying the method of manufacturing the photosensitive transfer material and The same is the method of forming a light shielding layer by exposing through a photomask for light shielding layers for display apparatuses by a conventional method, and developing after that.

또한, 착색 조성물이 감광성을 갖지 않는 경우에는, 광투과성 기판에 본 발 명의 은주석 합금부 함유 입자를 함유하는 착색 조성물을 도포하여 착색 조성물의 층을 형성한 후, 그 층 위에 현상가능한 감광성 수지 조성물로 층을 형성하고, 통상의 방법에 의해 표시장치용 차광층용 포토마스크를 통해서 노광하고, 이어서 현상, 에칭함으로써 차광층을 형성할 수 있다.In addition, when a coloring composition does not have photosensitivity, after apply | coating the coloring composition containing the silver tin alloy part containing particle | grains of this invention to a light transmissive board | substrate to form a layer of a coloring composition, and then developable photosensitive resin composition on that layer. The light shielding layer can be formed by forming a furnace layer, exposing through a light shielding layer photomask for display devices by a conventional method, and then developing and etching.

상기 감광성 전사재료를 사용하는 표시장치용 차광층의 제조방법은 광투과성 기판 상에 상기 감광성 전사재료를 감광성 전사재료의 감광성 차광층이 접촉하도록 배치하여 적층하고, 다음에 감광성 전사재료와 광투과성 기판의 적층체로부터 지지체를 박리하고, 그 후에 표시장치용 차광층용 포토마스크를 통해서 상기 층을 노광한 후 현상하여 표시장치용 차광층을 형성하는 방법이다.In the method for manufacturing a light shielding layer for a display device using the photosensitive transfer material, the photosensitive transfer material is disposed on a light transmissive substrate so that the photosensitive light shielding layer of the photosensitive transfer material contacts and is laminated thereon, and then the photosensitive transfer material and the light transmissive substrate are laminated. It is a method of peeling a support body from the laminated body of this, and after exposing the said layer through the photomask for light shielding layers for display apparatuses, and developing and forming a light shielding layer for display apparatuses.

본 발명의 표시장치용 차광층의 제조방법은 번잡한 공정을 필요로 하지 않고, 저비용이다.The manufacturing method of the light shielding layer for display devices of this invention does not require a complicated process, and is low cost.

[컬러필터][Color Filter]

본 발명의 컬러필터는 광투과성 기판 상에 착색층으로 이루어지고, 서로 다른 색을 나타내는 2개 이상의 화소군을 갖고, 상기 화소군을 구성하는 각 화소는 서로 표시장치용 차광층에 의해 이획되어 있는 구성을 갖고, 상기 표시장치용 차광층은 본 발명의 상기 착색 조성물 또는 감광성 전사재료를 사용하여 제조된다. 화소군은 2개이어도, 3개이어도, 4개 이상이어도 좋다. 예컨대, 3개인 경우에는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 3가지의 색상이 사용된다. 적색, 녹색, 청색의 3종의 화소군을 배치하는 경우에는 모자이크형, 트라이앵글형 등의 배치가 바람직하고, 4종 이상의 화소군을 배치할 경우에서는 어떤 배치이어도 좋다.The color filter of the present invention comprises a colored layer on a light transmissive substrate, has two or more pixel groups representing different colors, and the pixels constituting the pixel group are separated from each other by a light shielding layer for a display device. It has a structure and the said light shielding layer for display apparatuses is manufactured using the said coloring composition or the photosensitive transfer material of this invention. The pixel group may be two, three, or four or more. For example, in the case of three, three colors of red (R), green (G) and blue (B) are used. When arranging three types of pixel groups of red, green, and blue, an arrangement such as a mosaic type or a triangle type is preferable, and any arrangement may be used when arranging four or more types of pixel groups.

상기 광투과성 기판으로는 표면에 산화규소 피막을 갖는 소다유리판, 저팽창 유리판, 논알칼리 유리판, 석영 유리판 등의 공지의 유리판 또는 플라스틱 필름 등이 사용된다.As the light transmissive substrate, a known glass plate or plastic film such as a soda glass plate, a low-expansion glass plate, a non-alkali glass plate, a quartz glass plate, or the like having a silicon oxide film on its surface is used.

컬러필터를 제조하기 위해서는, 광투과성 기판에 통상의 방법에 의해 2개 이상의 화소군을 형성한 후, 상기한 바와 같이 하여 표시장치용 차광층을 형성해도 좋고, 또는 최초로 표시장치용 차광층을 형성하고, 그 후 2개 이상의 화소군을 형성해도 좋다.In order to manufacture a color filter, two or more pixel groups may be formed on a transparent substrate by a conventional method, and a light shielding layer for display devices may be formed as described above, or a light shielding layer for display devices is first formed. After that, two or more pixel groups may be formed.

본 발명의 컬러필터는 상기와 같은 표시장치용 차광층을 구비하고 있기 때문에, 표시 콘트라스트가 높고 또한 평탄성이 우수하다. 또한, 표시장치용 차광층의 막두께가 작기 때문에, 컬러필터 화소를 제조할 때에 들어간 기포의 수도 적거나 또는 없다.Since the color filter of this invention is equipped with the said light shielding layer for display apparatuses, display contrast is high and it is excellent in flatness. In addition, since the film thickness of the light shielding layer for a display device is small, the number of bubbles which enter | occur | produce when manufacturing a color filter pixel is few or few.

[액정표시소자][LCD]

본 발명의 액정표시소자의 하나는 적어도 1개가 광투과성을 갖는 1쌍의 기판과, 이 기판 사이에 컬러필터, 액정층 및 액정 구동수단(단순 매트릭스 구동방식 및 액티브 매트릭스 구동방식을 포함함)을 적어도 구비한 것으로서, 상기 컬러필터로서 상기와 같은 복수의 화소군을 갖고, 상기 화소군을 구성하는 각 화소가 서로 본 발명의 표시장치용 차광층에 의해 이획되어 있는 컬러필터를 사용하는 것이다. 상기 컬러필터는 평탄성이 높기 때문에, 이 컬러필터를 구비하는 액정표시소자는 컬러필터와 기판 사이에 셀갭 불균일이 발생하지 않고, 색불균일 등의 표시불량이 발생하는 일이 없다.One of the liquid crystal display elements of the present invention includes a pair of substrates having at least one light transmitting property, and a color filter, a liquid crystal layer and liquid crystal driving means (including a simple matrix driving method and an active matrix driving method) between the substrates. The color filter which has at least one pixel group as mentioned above, and each pixel which comprises the said pixel group is separated by the light shielding layer for display apparatuses of this invention is provided. Since the color filter has high flatness, in the liquid crystal display device including the color filter, cell gap unevenness does not occur between the color filter and the substrate, and display unevenness such as color unevenness does not occur.

또한, 본 발명의 액정표시소자의 다른 형태의 것은 적어도 1개가 광투과성을 갖는 1쌍의 기판과, 그 기판 사이에 컬러필터, 액정층 및 액정 구동수단을 적어도 구비하고, 상기 액정 구동수단이 액티브 소자(예컨대, TFT)를 갖고, 또한 각 액티브 소자 사이에 본 발명의 착색 조성물 또는 감광성 전사재료를 사용하여 제조되는 표시장치용 차광층이 형성되어 있는 것이다.In another embodiment of the liquid crystal display device of the present invention, at least one of the pair of substrates having optical transparency, at least a color filter, a liquid crystal layer, and liquid crystal driving means is provided between the substrates, and the liquid crystal driving means is active. The light shielding layer for display devices which has an element (for example, TFT) and is manufactured using the coloring composition or photosensitive transfer material of this invention between each active element is formed.

[표시장치용 차광층 부착 기판][Substrate with light shielding layer for display device]

본 발명의 표시장치용 차광층 부착 기판은 광투과성 기판 상에 상술한 표시장치용 차광층을 형성한 것이고, 상기 표시장치용 차광층은 상기 층의 막두께 1㎛당 광학농도가 3.5 이상이고, 은주석 합금부 함유 입자를 체적분율로 0.05~0.7로 분산 함유하고 있고, 또한 C광원 투과광의 XYZ 표색계 색도좌표(x, y)와 상기 광원의 색도좌표(x0, y0)가 (x-x0)2 + (y-y0)2 ≤ 0.01의 관계를 갖는 것을 특징으로 한다.The substrate with a light shielding layer for a display device of the present invention is a display device light shielding layer formed on a light transmissive substrate, wherein the light shielding layer for a display device has an optical density of 3.5 or more per 1 μm of the film thickness of the layer, The silver tin alloy portion-containing particles are dispersed and contained in a volume fraction of 0.05 to 0.7, and the XYZ color system chromaticity coordinates (x, y) of the C light source transmitted light and the chromaticity coordinates (x 0 , y 0 ) of the light source are (xx 0). ) 2 + (yy 0 ) 2 ≤ 0.01.

본 발명의 표시장치용 차광층 부착 기판은 컬러필터의 제조를 위해서 사용할 수 있다. 그리고, 박막이어도 충분한 광학농도를 달성할 수 있으므로, 표시장치용 차광층의 막두께를 작게 할 수 있어, 표시장치용 차광층 부착 기판 상에 컬러필터 화소를 제조할 때에 들어가는 기포의 수도 적다.The board | substrate with a light shielding layer for display apparatuses of this invention can be used for manufacture of a color filter. And even if it is a thin film, since sufficient optical density can be achieved, the film thickness of the light shielding layer for display devices can be made small, and the number of bubbles which enters when manufacturing a color filter pixel on the board | substrate with a light shielding layer for display devices is few.

실시예Example

이하에, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하에 있어서, 「부」 및 「%」 는 각각 「질량부」 및 「질량%」를 의미한다.Although an Example demonstrates this invention more concretely below, this invention is not limited by these Examples. In addition, below, "part" and "%" mean a "mass part" and the "mass%", respectively.

(실시예 1~5)(Examples 1-5)

<은주석 합금부를 갖는 금속입자의 분산액(분산액 A1)의 제조><Production of Dispersion (Dispersion A1) of Metal Particles Having Silver Tin Alloy Part>

순수 1000㎖에 아세트산 은(I) 23.1g, 아세트산 주석(II) 65.1g, 글루콘산 54g, 피로인산 나트륨 45g, 폴리에틸렌글리콜(분자량 3,000) 2g, 및 E735(ISP Japan 제품; 비닐피롤리든/아세트산 비닐 코폴리머) 5g을 용해하여 용액 1을 얻었다.Into 1000 ml of pure water, 23.1 g of silver acetate (I), 65.1 g of tin (II) acetate, 54 g of gluconic acid, 45 g of sodium pyrophosphate, 2 g of polyethylene glycol (molecular weight 3,000), and E735 (ISP Japan; vinylpyrrolidone / acetic acid) 5 g of a vinyl copolymer) was dissolved to obtain a solution 1.

별도로, 순수 500㎖에 히드록시아세톤 36.1g을 용해하여 용액 2를 얻었다.Separately, 36.1 g of hydroxyacetone was dissolved in 500 ml of pure water to obtain Solution 2.

상기에서 얻은 용액 1을 25℃로 유지하면서 격렬하게 교반하면서, 이것에 상기 용액 2를 2분간에 걸쳐서 첨가하고, 완만하게 6시간 교반을 계속하였다. 그러자, 혼합액이 흑색으로 변화하고, 은주석 합금부를 갖는 금속입자(은주석 합금부 함유 입자)를 얻었다. 이어서, 이 액을 원심분리하여 은주석 합금부 함유 입자를 침전시켰다. 원심분리는 150㎖의 액량으로 소구분하고, 탁상 원심분리기 H-103n (Kokusan 제품)에 의해 회전수 2,000rpm으로 30분간 행하였다. 그리고, 상청액을 버리고 전체 액량이 150㎖이 되도록 하고, 이것에 순수 1350㎖을 가하고, 15분간 교반하여 은주석 합금부 함유 입자를 다시 분산시켰다. 이 조작을 2회 반복하여 수상의 가용성 물질을 제거하였다.The solution 2 was added to this over 2 minutes, stirring vigorously, maintaining solution 1 obtained above at 25 degreeC, and stirring was continued for 6 hours gently. Then, the liquid mixture turned black and the metal particle (silver tin alloy part containing particle | grain) which has a silver tin alloy part was obtained. Subsequently, this liquid was centrifuged to precipitate the silver tin alloy portion-containing particles. The centrifugation was subdivided into a 150 ml liquid volume, followed by 30 minutes at 2000 rpm using a tabletop centrifuge H-103n (Kokusan). Then, the supernatant liquid was discarded to make the total liquid amount 150 ml, 1350 ml of pure water was added thereto, followed by stirring for 15 minutes to disperse the silver tin alloy portion-containing particles again. This operation was repeated twice to remove the soluble material of the aqueous phase.

그 후, 이 액에 대해서 원심분리를 더 행하여, 은주석 합금부 함유 입자를 다시 침전시켰다. 원심분리는 상기와 동일한 조건에서 행하였다. 원심분리한 후, 상기와 마찬가지로 상청액을 버려서 전체 액량이 150㎖이 되도록 하고, 이것에 순 수 850㎖ 및 아세톤 500㎖을 가하고, 15분간 더 교반하여 은주석 합금부 함유 입자를 다시 분산시켰다.Thereafter, the liquid was further centrifuged to precipitate the silver tin alloy portion-containing particles again. Centrifugation was performed under the same conditions as above. After centrifugation, the supernatant was discarded in the same manner as described above to make the total liquid amount to 150 ml, 850 ml of pure water and 500 ml of acetone were added thereto, followed by further stirring for 15 minutes to disperse the silver-tin alloy portion-containing particles again.

다시 상기와 동일하게 하여 원심분리를 행하고, 은주석 합금부 함유 입자를 침전시킨 후, 상기와 마찬가지로 상청액을 버려서 액량이 150㎖이 되도록 하고, 이것에 순수 150㎖ 및 아세톤 1200㎖을 가하고 15분간 더 교반하여, 은주석 합금부 함유 입자를 다시 분산시켰다. 그리고 다시 원심분리를 행하였다. 이 때의 원심분리의 조건은 시간을 90분으로 연장시킨 이외는 상기와 동일하다. 그 후, 상청액을 버려서 전체 액량이 70㎖이 되도록 하고, 이것에 아세톤 30㎖을 가하였다. 이것을 아이거 밀(Eiger Mill M-50형, 미디어: 직경 0.65mm 지르코니아 비드 130g, Eiger Japan 제품)을 사용하여 6시간 분산시켜 은주석 합금부 함유 입자의 분산액(분산액 A1)을 얻었다.In the same manner as above, centrifugation was carried out, and the silver-tin alloy part-containing particles were precipitated. Then, the supernatant was discarded in the same manner as above to make the liquid amount 150 ml. To this, 150 ml of pure water and 1200 ml of acetone were added, followed by further 15 minutes. It stirred and disperse | distributed the silver tin alloy part containing particle again. And centrifugation was performed again. The conditions for centrifugation at this time were the same as above except for extending the time to 90 minutes. Thereafter, the supernatant was discarded to make the total liquid amount 70 ml, and 30 ml of acetone was added thereto. This was disperse | distributed for 6 hours using the Eiger Mill (type Eiger Mill M-50, media: 130g diameter 0.65mm zirconia beads, the product made by Eiger Japan), and the dispersion liquid (dispersion liquid A1) of the silver-tin alloy part containing particle was obtained.

이 은주석 합금부 함유 입자는 AgSn 합금(2θ=39.5°)과 Sn 금속(2θ=30.5°)으로 이루어진 복합체인 것이 X선 산란에 의해 확인되었다. 여기에서, 괄호내의 숫자는 각각의 (III)면의 산란각이다. 이 미립자 분산액을 투과형 전자현미경으로 관찰한 결과, 분산 평균 입경은 수평균 입자 사이즈로 40nm이었다.It was confirmed by X-ray scattering that the silver tin alloy portion-containing particles were a composite composed of AgSn alloy (2θ = 39.5 °) and Sn metal (2θ = 30.5 °). Here, the number in parentheses is the scattering angle of each (III) plane. As a result of observing this fine particle dispersion with a transmission electron microscope, the dispersion average particle diameter was 40 nm in number average particle size.

또한, 수평균 입자 사이즈의 측정은 투과형 전자현미경 JEM-2010(JEOL Ltd. 제품)에 의해 얻어진 사진을 사용하여 상술한 방법으로 행하였다. In addition, the measurement of the number average particle size was performed by the method mentioned above using the photograph obtained by transmission electron microscope JEM-2010 (made by JEOL Ltd.).

<감광층 도포액의 제조><Production of Photosensitive Layer Coating Liquid>

상기로부터 제조한 은주석 합금부 함유 입자의 분산액 A1에 하기 성분을 첨가하고, 실시예 1 내지 실시예 5에서 사용하는 감광층 도포액을 제조하였다. 또한, 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트의 첨가량은 실시예 1 내지 실시예 5의 은주석 합금부 함유 입자의 체적분율이 표 1에 기재된 값이 되도록 조절하였다.The following component was added to the dispersion liquid A1 of the silver tin alloy part containing particle | grains manufactured from the above, and the photosensitive layer coating liquid used for Examples 1-5 was manufactured. In addition, the addition amount of dipentaerythritol hexaacrylate was adjusted so that the volume fraction of the silver-tin alloy part containing particle | grains of Examples 1-5 might be the value of Table 1.

·상기 은주석 합금부 함유 입자의 분산액(분산액 A1)…50.00부· Dispersion (dispersion liquid A1) of the silver tin alloy portion-containing particles; 50.00 copies

·프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트…28.6부Propylene glycol monomethyl ether acetate. Part 28.6

·메틸에틸케톤…37.6부Methyl ethyl ketone... Part 37.6

·불소계 계면활성제…0.2부Fluorine-based surfactants; 0.2 part

(F-780-F, DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INCORPORATED 제품)(Product of F-780-F, DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INCORPORATED)

·히드로퀴논 모노메틸에테르…0.001부Hydroquinone monomethyl ether... 0.001 copies

·스티렌/아크릴산 공중합체…9.6부Styrene / acrylic acid copolymer Part 9.6

(몰비=56/44, 중량 평균 분자량 30,000)(Molar ratio = 56/44, weight average molecular weight 30,000)

·디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트…(은주석 합금부 함유 입자의 체적분율이 표 1의 값이 되도록 첨가)Dipentaerythritol hexaacrylate (Added so that the volume fraction of the silver-tin alloy part containing particle | grains becomes the value of Table 1).

(KAYARAD DPHA, Nihon Kayaku Co. Ltd. 제품)(Product of KAYARAD DPHA, Nihon Kayaku Co. Ltd.)

·비스 [4-[N-[4-(4,6-비스트리클로로메틸-s-트리아진-2-일)페닐]카르바모일]페닐]세바케이트…0.5부Bis [4- [N- [4- (4,6-bistrichloromethyl-s-triazin-2-yl) phenyl] carbamoyl] phenyl] sebacate. 0.5 part

<보호층 도포액의 제조><Production of Protective Layer Coating Liquid>

폴리비닐알콜(KURARAY CO., LTD. 제품의 PVA205) 3.0부3.0 parts of polyvinyl alcohol (PVA205 from KURARAY CO., LTD.)

폴리비닐피롤리돈(ISP·Japan 제품의 PVP-K30) 1.3부1.3 parts of polyvinylpyrrolidone (PVP-K30 from ISP, Japan)

증류수 50.7부50.7 parts of distilled water

메틸알콜 45.0부Methyl Alcohol 45.0 parts

<감광재료의 제조><Production of Photosensitive Material>

무알칼리 유리 기판을 UV 세정장치로 세정한 후, 세정제를 사용하여 브러시 세정하고, 초순수로 초음파 세정을 더 하였다. 상기 기판을 120℃에서 3분간 열처리하여 표면상태를 안정화시켰다. The alkali free glass substrate was wash | cleaned with the UV cleaner, and it brush-cleaned using the detergent, and the ultrasonic cleaning was added with ultrapure water. The substrate was heat-treated at 120 ° C. for 3 minutes to stabilize the surface state.

상기 기판을 냉각하여 23℃로 온도 조절한 후, 슬릿상 노즐을 갖는 유리 기판용 코터(Hirata Corporation 제품)로 각 실시예의 감광층 도포액을 각각 도포하였다. 이어서, VCD(진공건조장치; Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 제품)로 30초간 용매의 일부를 건조하여 도포층의 유동성을 없앴다. 이어서, 그 위에 스핀코터를 사용하여 보호층 도포액을 건조막 두께가 1.5㎛가 되도록 도포하여 100℃에서 5분간 건조하여 감광성 수지층 K1을 얻었다.After cooling the substrate and controlling the temperature to 23 ° C., the photosensitive layer coating liquid of each Example was applied with a coater for glass substrate (manufactured by Hirata Corporation) having a slit nozzle. Subsequently, a part of the solvent was dried for 30 seconds with a VCD (vacuum drying device; manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) to eliminate fluidity of the coating layer. Subsequently, the protective layer coating liquid was apply | coated so that dry film thickness might be set to 1.5 micrometers using the spin coater, and it dried at 100 degreeC for 5 minutes, and obtained photosensitive resin layer K1.

<표시장치용 차광층의 제조><Manufacture of Light-shielding Layer for Display Device>

초고압 수은등을 갖는 프록시미티형 노광기(Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd. 제품)로 기판과 마스크(화상패턴을 갖는 석영 노광 마스크)를 수직하게 세운 상태에서, 노광 마스크면과 상기 감광성 수지층 사이의 거리를 200㎛로 설정하고, 노광량 70mJ/㎠로 패턴 노광하였다.An exposure mask surface and the photosensitive resin layer in a state in which a substrate and a mask (a quartz exposure mask having an image pattern) are vertically placed with a proximal exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp. The distance between them was set to 200 µm, and the pattern was exposed at an exposure dose of 70 mJ / cm 2.

다음에, 순수를 샤워 노즐에서 분무하여 상기 감광성 수지층 K1의 표면을 균일하게 적신 후, KOH계 현상액(KOH, 비이온 계면활성제 함유, 상품명: CDK-1, FUJIFILM Electronic Materials)으로 23℃, 80초, 플랫 노즐 압력 0.04MPa로 샤워 현상하여 패터닝 화상을 얻었다. 계속하여, 초순수를 초고압 세정노즐에서 9.8MPa의 압력으로 분사하여 잔사 제거를 행하고, 초순수를 샤워 노즐에서 양면으로 더 분사하여, 부착되어 있는 현상액이나 상기 감광성 수지층 용해물을 제거하고, 에어 나이프로 액제거를 행하여, 유리 기판 상에 표시장치용 차광층이 형성된 실시예 1 내지 실시예 5의 표시장치용 차광층 부착 기판을 얻었다.Next, pure water was sprayed with a shower nozzle to uniformly wet the surface of the photosensitive resin layer K1, and then KOH-based developer (KOH, containing a nonionic surfactant, trade name: CDK-1, FUJIFILM Electronic Materials) was used at 23 ° C. and 80 degrees. Shower development was carried out at a flat nozzle pressure of 0.04 MPa for a second to obtain a patterned image. Subsequently, ultrapure water is sprayed at a pressure of 9.8 MPa with an ultra-high pressure cleaning nozzle to remove residue, and ultrapure water is further sprayed from both sides of the shower nozzle to remove adhered developer or the photosensitive resin layer melt, and the result is an air knife. The liquid removal was performed and the board | substrate with a light shielding layer for display apparatuses of Examples 1-5 which formed the light shielding layer for display apparatuses on the glass substrate was obtained.

(감광층 막두께 측정)(Photosensitive layer film thickness measurement)

다음 방법으로 감광층의 막두께를 측정하였다. 유리 기판에 상기 (감광재료의 제조)에서 도포한 각 감광층 도포액과 같은 도포량으로 도포한 감광층 막을 제조하고, 이것에 초고압 수은등을 사용하여 도포면측에서 70mJ/㎠의 노광을 행한 감광층 막을 측정 시료로서 사용하였다. 이 측정 시료의 막두께를 촉침식 표면 조도계 P-1(TENKOR 제품)을 사용하여 측정하였다.The film thickness of the photosensitive layer was measured by the following method. The photosensitive layer film which apply | coated to the glass substrate by the same application | coating amount as each photosensitive layer coating liquid apply | coated in the said (manufacturing of photosensitive material) was manufactured, and this photosensitive layer film | membrane which exposed 70mJ / cm <2> at the coating surface side using the ultrahigh pressure mercury lamp was produced. It was used as a measurement sample. The film thickness of this measurement sample was measured using the stylus type surface roughness meter P-1 (TENKOR product).

이 측정 시료의 막두께를 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the film thickness of this measurement sample.

(광학농도의 측정)(Measurement of Optical Concentration)

막의 광학농도는 상기 막두께 측정에서 사용한 각 측정 시료를 사용하였다. 이 각 측정 시료의 광학농도를 맥베스 농도계(Macbeth 제품 TD-904)를 사용하여 측정하였다(OD). 별도 유리 기판의 광학농도를 동일한 방법으로 측정하였다(OD0). OD로부터 OD0을 뺀 값을 막의 광학농도로 한다. 각 측정 시료의 광학농도를 표 1에 나타낸다.As the optical concentration of the film, each measurement sample used in the film thickness measurement was used. The optical density of each measurement sample was measured using the Macbeth densitometer (MacDet TD-904) (OD). Optical concentration of the separate glass substrate was measured by the same method (OD 0 ). The value obtained by subtracting OD 0 from OD is taken as the optical density of the film. Table 1 shows the optical concentration of each measurement sample.

(체적분율의 측정)(Measurement of volume fraction)

우선, 은주석 합금부 함유 입자의 도포량의 측정은 상기 막두께 측정에서 사용한 각 측정 시료를 사용하고, 이 각 측정 시료에 있어서의 도포량을 형광 X선 장 치 3370E((Rigaku Corporation 제품)를 사용하여 측정하였다. First, the coating amount of the silver-tin alloy part containing particle | grains was used for each measurement sample used by the said film thickness measurement, and the coating amount in this each measurement sample was made using the fluorescent X-ray apparatus 3370E (made by Rigaku Corporation). Measured.

이 값과 위에서 측정한 막두께를 사용하여, 하기 식에 의해 체적분율을 계산하였다. 각 측정 시료의 체적분율을 표 1에 나타낸다.Using this value and the film thickness measured above, the volume fraction was computed by the following formula. Table 1 shows the volume fraction of each measurement sample.

은주석 합금부 함유 입자의 체적분율= (은주석 합금부 함유 입자의 도포량/Volume fraction of silver tin alloy part containing particle | grains = (coating amount / of silver tin alloy part containing particle | grains /

은주석 합금부 함유 입자의 밀도)/막두께Density of silver-tin alloy part-containing particles) / film thickness

또한, 은주석 합금부 함유 입자의 밀도는 상술한 방법에 의해 산출하였다.In addition, the density of the silver tin alloy part containing particle was computed by the method mentioned above.

(XYZ 표색 색도좌표(x, y)의 측정)(Measurement of XYZ Color Chromaticity Coordinates (x, y))

XYZ 표색 색도좌표(x, y)의 측정은 분광 광도계 OSP-SP200(OLYMPUS CORPORATION 제품)을 사용하여 상기한 바와 같이 하여 행하였다. The measurement of the XYZ color chromaticity coordinates (x, y) was performed as described above using a spectrophotometer OSP-SP200 (manufactured by OLYMPUS CORPORATION).

(청색, 적색, 녹색 화소의 형성과 화소의 기포 평가)(Formation of blue, red, green pixels and bubble evaluation of pixels)

상기 표시장치용 차광층 부착 기판 상에 일본 특허공개 2002-341127호 공보의 단락 0030~0036에 기재된 R(R1), G(G1), B(B1) 화소형성용 감광성 전사재료를 사용하는 방법을 사용하여 각 색의 화소를 형성하였다.A method of using a photosensitive transfer material for forming R (R1), G (G1), and B (B1) pixels described in paragraphs 0030 to 0036 of JP-A-2002-341127 on the substrate with the light shielding layer for a display device. To form pixels of each color.

표시장치용 차광층의 요철 상에 각 색의 화소를 형성하므로, 유리 기판과 각 색화소 사이에 기포가 들어가는 경우가 있다. 이 기포 발생정도를 하기의 방법으로 측정하였다.Since the pixel of each color is formed on the unevenness | corrugation of the light shielding layer for display apparatuses, air bubbles may enter between a glass substrate and each color pixel. The degree of bubble generation was measured by the following method.

이 유리 기판의 3색의 화소 각 100개씩, 합계 300개의 화소에 대해서 광학현미경을 사용하여 목시로 기포의 수를 세었다. 결과를 표 1에 나타낸다.The number of bubbles was visually counted visually using the optical microscope about 300 pixels in total of 100 pixels of three colors of this glass substrate. The results are shown in Table 1.

(가열에 의한 표시장치용 차광층의 색상변화)(Color Change of Shading Layer for Display Device by Heating)

상기 표시장치용 차광층 부착 기판을 220℃에서 2시간 열처리하고, 그 열처 리전후의 표시장치용 차광층의 색상의 변화를 목시로 평가하였다.The substrate with the light shielding layer for display device was heat-treated at 220 ° C. for 2 hours, and the change in the color of the light shielding layer for display device after heat treatment was visually evaluated.

전혀 변화가 보이지 않는 것 ANo change at all A

극히 약간 금속광택이 있는 것 BVery slightly metallic gloss B

약간 금속광택이 있지만, 실용상 허용되는 것 CSlightly metallic, but practically acceptable C

실용상 사용에 장해가 될 정도로 금속광택이 있는 것 DHaving metallic sheen to the extent practically impaired use D

완전한 금속광택이 있는 것 EComplete metallic gloss E

이 중에서 실용상 허용되는 것은 A~C의 것이다. 결과를 표 1에 나타낸다.Among these, what is accepted practically is A-C. The results are shown in Table 1.

(색상의 평가)(Evaluation of colors)

기포평가에 사용한 컬러필터를 후방으로부터 액정표시장치에 끼워 넣고, 흑색과 백색을 표시했을 때의 콘트라스트 차이를 목시로 관찰하여 아래와 같이 분류하였다.The color filter used for bubble evaluation was inserted into the liquid crystal display device from the rear, and the contrast difference when black and white were displayed visually was observed and classified as follows.

매우 콘트라스트가 높아서 고품위 AVery high contrast, high quality A

콘트라스트가 높아서 양호한 고품위 BHigh quality B which is high in contrast and is good

콘트라스트가 낮아서 중품위 CMid-class C due to low contrast

콘트라스트가 매우 낮아서 저품위 DLow contrast D due to very low contrast

결과를 표 1에 나타낸다.The results are shown in Table 1.

(비교예 1 및 2)(Comparative Examples 1 and 2)

실시예 1에서 사용한 은주석 합금부 함유 입자의 분산액(분산액 A1)을 하기에서 얻은 은미립자의 분산액(A2)으로 변경하고, 또한 감광층 도포액을 하기 처방의 것으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 표시장치용 차광층을 제조 하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.Except having changed the dispersion liquid (dispersion liquid A1) of the silver tin alloy part containing particle used in Example 1 into the dispersion liquid (A2) of the silver fine particles obtained below, and changing the photosensitive layer coating liquid to the thing of the following prescription, In the same manner as in 1, a light shielding layer for a display device was manufactured. The results are shown in Table 1.

<은미립자의 분산액(A2)의 제조><Production of Dispersion (A2) of Silver Particles>

(A액의 제조)(Production of liquid A)

탈회(脫灰) 젤라틴 50g에 증류수 1950g을 첨가하고, 얻어진 혼합물을 약 40℃까지 가열하여 젤라틴을 용해하였다. 이것을 5% NaOH 수용액으로 pH 9.2로 조정하고, 40℃로 보온하였다.1950 g of distilled water was added to 50 g of demineralized gelatin, and the obtained mixture was heated to about 40 ° C to dissolve gelatin. This was adjusted to pH 9.2 with 5% aqueous NaOH solution and kept at 40 ° C.

(B액의 제조)(Production of Liquid B)

탈회 젤라틴 150g에 증류수 1350g을 첨가하고, 얻어진 혼합물을 약 40℃까지 가열하여 젤라틴을 용해하였다. 이것을 5% NaOH 수용액으로 pH 9.2로 조정하였다. 아세트산 칼슘 16.0g과 증류수 320cc에 용해한 질산은 160g을 교반하여 용해하고, 증류수를 첨가하여 최종 용적을 2000cc로 조정하고, 40℃로 보온하였다.1350 g of distilled water was added to 150 g of demineralized gelatin, and the obtained mixture was heated to about 40 ° C to dissolve gelatin. This was adjusted to pH 9.2 with 5% aqueous NaOH solution. 160 g of nitric acid dissolved in 16.0 g of calcium acetate and 320 cc of distilled water was stirred to dissolve, distilled water was added to adjust the final volume to 2000 cc, and the temperature was kept at 40 ° C.

(C액의 제조)(Production of liquid C)

아황산나트륨(무수) 110g을 증류수 700cc에 용해하고, 이것에 하이드로퀴논 80g을 메탄올 70cc과 물 80cc에 용해한 것을 혼합하고, 증류수를 더 첨가하여 최종 용적을 2000cc로 조정하고, 40℃로 보온하였다.110 g of sodium sulfite (anhydrous) was dissolved in 700 cc of distilled water, and 80 g of hydroquinone was dissolved in 70 cc of methanol and 80 cc of water, and further distilled water was added to adjust the final volume to 2000 cc and kept at 40 ° C.

상기 A액을 급속하게 교반하면서 B액과 C액을 동시에 10초에 걸쳐서 첨가하였다. 10분 후, 무수 황산나트륨 1600g을 농염산 70cc과 증류수 8000cc으로 용해한 용액을 첨가하고, 80분 교반한 후, 침강시켜 냉각하였다. 상청액을 제거한 후, Br염 용액을 첨가해도 침전이 생성되지 않을 때까지, 즉시 증류수로 린스하였다. 액제거 후, 40℃에서 재용해한 후, 이어서 생성물을 겔화 온도 근방까지 냉각하고, 그리고 작은 구멍을 통과시켜서 냉각된 물속으로 투입함으로써 매우 미세한 누들(noodle)을 형성하였다.While solution A was rapidly stirred, solution B and solution C were simultaneously added over 10 seconds. After 10 minutes, a solution in which 1600 g of anhydrous sodium sulfate was dissolved in 70 cc of concentrated hydrochloric acid and 8000 cc of distilled water was added, stirred for 80 minutes, and then precipitated and cooled. After the supernatant was removed, it was immediately rinsed with distilled water until no precipitate was produced by addition of Br salt solution. After liquid removal, the solution was redissolved at 40 ° C., and then the product was cooled to near the gelling temperature and passed through a small hole into cool water to form a very fine noodle.

이것을 아황산나트륨(무수) 20g, NaOH 0.6g을 증류수 2000cc에 용해한 용액으로 세정하고, 빙아세트산 20g을 증류수 2000cc에 용해한 용액으로 더 세정하였다. 얻어진 흑색 슬러리 입자를 나일론 메시백 중에서 슬러리를 통해서 수돗물을 통과시켜, 약 30분간 세정수가 백을 통과하도록 하여 세정하여 모든 염을 씻어 버렸다. 겔 슬러리에 분산시켜 세정한 흑색 은을 용융했을 경우에 1.5%의 농도의 은을 갖는 흑색 은분산체가 얻어지도록 생성물의 물기를 제거하였다.This was washed with a solution in which 20 g of sodium sulfite (anhydrous) and 0.6 g of NaOH were dissolved in 2000 cc of distilled water, and further washed with a solution of 20 g of glacial acetic acid in 2000 cc of distilled water. The obtained black slurry particle | grain passed the tap water through the slurry in a nylon mesh bag, wash | cleaned by washing water passing through a bag for about 30 minutes, and all the salts were wash | cleaned. The product was drained so that the black silver dispersion which disperse | distributed to the gel slurry and melt | cleaned black silver obtained the black silver dispersion which has the density | concentration of 1.5% of silver.

(은미립자 분산액 A2의 제조)(Production of Silver Particle Dispersion A2)

상기와 같이 하여 얻어진 은분산 슬러리 5000g에 분산제(Rapisol B-90, Nippon Oil & Fats Co., Ltd. 제품) 25g과 파파인 5% 수용액 1000g을 첨가하고, 37℃에서 24시간 보존하였다. 이 액을 2000rpm으로 5분간 원심분리하여 은미립자를 침강시켰다. 상청액을 디켄트한 후 증류수로 세정하고, 효소로 분해된 젤라틴 분해물을 제거하였다. 이어서, 은미립자 침강물을 메틸알콜로 세정한 후 건조시켰다. 약 85g의 은미립자의 응집물이 얻어졌다. 이 응집물 73.5g에 SOLSPERSE 20000(ABISHIA Co. 제품의 분산제) 1.05g과 메틸에틸케톤 16.4g을 혼합하였다. 이것을 비드 분산기(지르코니아 비드 0.3mm)를 사용하여 평균 입경 30nm의 은미립자 분산액 A2를 얻었다.25 g of a dispersant (Rapisol B-90, manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) and 1000 g of papain 5% aqueous solution were added to 5000 g of the silver dispersion slurry obtained as described above, and stored at 37 ° C. for 24 hours. The solution was centrifuged at 2000 rpm for 5 minutes to settle the fine particles. The supernatant was decanted, washed with distilled water, and the enzyme digested gelatin digest was removed. The silver particulate precipitate was then washed with methyl alcohol and dried. An aggregate of about 85 g of silver fine particles was obtained. To 73.5 g of this aggregate, 1.05 g of SOLSPERSE 20000 (dispersant from ABISHIA Co.) and 16.4 g of methyl ethyl ketone were mixed. Silver fine particle dispersion A2 with an average particle diameter of 30 nm was obtained using this bead disperser (0.3 mm of zirconia beads).

<감광층 도포액의 제조><Production of Photosensitive Layer Coating Liquid>

상기에서 제조한 은미립자 분산액 A2에 하기 성분을 첨가하여, 비교예 1 및 비교예 2에서 사용하는 감광층 도포액을 제조하였다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로, 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트의 첨가량은 체적분율이 표 1에 기재된 값이 되도록 조절하였다.The following component was added to the silver fine particle dispersion A2 prepared above, and the photosensitive layer coating liquid used for the comparative example 1 and the comparative example 2 was manufactured. In addition, similarly to Example 1, the addition amount of dipentaerythritol hexaacrylate was adjusted so that the volume fraction might be the value shown in Table 1.

·은미립자 분산액 A2 40.0gSilver fine particle dispersion A2 40.0g

·프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 40.0gPropylene glycol monomethyl ether acetate 40.0 g

·메틸에틸케톤 37.6gMethyl ethyl ketone 37.6 g

·F-780-F(DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INCORPORATED 제품, 30% 메틸에틸케톤 용액) 0.2g0.2 g of F-780-F (DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INCORPORATED, 30% methyl ethyl ketone solution)

·히드로퀴논 모노메틸에테르 0.001g0.001 g of hydroquinone monomethyl ether

·디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 Dipentaerythritol hexaacrylate

은미립자의 체적분율이 표 1에 기재된 값이 되도록 첨가Add so that the volume fraction of silver fine particles becomes the value shown in Table 1.

·비스[4-[N-[4-(4,6-비스트리클로로메틸-s-트리아진-2-일)페닐]카르바모일]페닐]세바케이트 0.1g0.1 g of bis [4- [N- [4- (4,6-bistrichloromethyl-s-triazin-2-yl) phenyl] carbamoyl] phenyl] sebacate

(비교예 3)(Comparative Example 3)

실시예 3에 있어서 은주석 합금부 함유 입자의 체적분율을 일정(0.39)인 채로 하고, 은주석 합금부 함유 입자가 분산된 은주석 합금부 함유 입자 분산액 A1 대신에, 평균 입경 30nm의 카본 미립자가 분산된 카본 미립자 분산액을 사용한 것 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 표시장치용 차광층을 제조하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.In Example 3, the carbon fine particles having an average particle diameter of 30 nm were substituted for the silver tin alloy portion-containing particle dispersion A1 in which the volume fraction of the silver tin alloy portion-containing particles was kept constant (0.39). A light shielding layer for a display device was manufactured in the same manner as in Example 3 except that the dispersed carbon fine particle dispersion was used. The results are shown in Table 1.

카본블랙을 사용한 이 비교예에서는 기포의 수가 증가하여, 실용 레벨은 아 니었다.In this comparative example using carbon black, the number of bubbles increased, which was not a practical level.

Figure 112008015139258-PCT00001
Figure 112008015139258-PCT00001

표 1에 나타나 있는 바와 같이, 실시예의 표시장치용 차광층은 1㎛ 이하의 박막이어도 높은 광학농도를 갖고, 흑색의 색상이 우수하고, 또한 상기 색상은 가열에 의해 변화되지 않고, 또한 컬러필터를 제조했을 때에도 기포의 발생이 없거나 또는 적어서 전체적으로 우수한 특성을 갖고, 실용 레벨을 만족시키고 있었다.As shown in Table 1, the light shielding layer for a display device of the embodiment had a high optical density even in the case of a thin film of 1 탆 or less, was excellent in black color, and the color was not changed by heating, Even when manufactured, there was no or little bubble generation, and it had the outstanding characteristic as a whole, and satisfied the practical use level.

한편, 은주석 합금부 함유 입자 대신에 은미립자를 사용하고, 체적분율이 0.02인 비교예 1에서는 기포의 수가 증가하고, 체적분율이 0.73인 비교예 2에서는 가열 후의 색상이 크게 변화되어, 양쪽 모두 실용 레벨은 아니었다. 또한, 카본블랙을 사용한 비교예 3에서는 기포의 수가 증가하여 실용 레벨이 아니었다.On the other hand, silver fine particles were used in place of the silver-tin alloy portion-containing particles, and in Comparative Example 1 in which the volume fraction was 0.02, the number of bubbles increased. In Comparative Example 2 in which the volume fraction was 0.73, the color after heating was greatly changed. It was not a practical level. In addition, in the comparative example 3 using carbon black, the number of bubbles increased and it was not a practical use level.

(실시예 6~10)(Examples 6-10)

실시예 3에서 사용한 은주석 합금부 함유 입자 분산액 A1 중의 은주석 합금부 함유 입자의 평균 입자 사이즈를 각각 20nm, 60nm, 100nm, 250nm 및 500nm의 것으로 한 것 이외는 실시예 3과 동일하게 하여 표시장치용 차광층을 형성하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.A display device in the same manner as in Example 3 except that the average particle size of the silver tin alloy portion-containing particles in the silver tin alloy portion-containing particle dispersion A1 used in Example 3 was 20 nm, 60 nm, 100 nm, 250 nm, and 500 nm, respectively. A light shielding layer was formed. The results are shown in Table 2.

광학농도, 막두께, 흑색의 색상, 색상의 가열 변화, 기포의 점에 있어서, 실용 레벨을 만족시키고 있었다.The practical level was satisfied in terms of optical density, film thickness, black color, heating change of color, and bubbles.

Figure 112008015139258-PCT00002
Figure 112008015139258-PCT00002

(실시예 11~20)(Examples 11-20)

실시예 1~10에 있어서, 감광층 상에 보호층을 형성하지 않은 것 이외는, 각각 실시예 1~10과 동일하게 하여 표시장치용 차광층을 제조하였다. 이들 시료는 초고압 수은등을 사용한 70mJ/㎠의 노광에서는 표시장치용 차광층을 형성할 수 없었지만, 500mJ/㎠의 노광에서 양호한 표시장치용 차광층이 얻어졌다. 그 때문에, 막두께 측정, 광학농도의 측정 및 체적분율의 측정에 사용하는 시료를 제조할 때에도 노광 조건을 70mJ/㎠로부터 500mJ/㎠로 변경하였다. 결과를 표 3에 나타낸다.In Example 1-10, the light shielding layer for display apparatuses was produced like Example 1-10 except having not formed a protective layer on the photosensitive layer. Although these samples could not form a light shielding layer for display devices in 70 mJ / cm <2> exposure using an ultrahigh pressure mercury lamp, the favorable light shielding layer for display devices was obtained in the exposure of 500 mJ / cm <2>. Therefore, exposure conditions were changed from 70 mJ / cm <2> to 500 mJ / cm <2> also when manufacturing the sample used for film thickness measurement, optical density measurement, and volume fraction measurement. The results are shown in Table 3.

(비교예 4~6)(Comparative Examples 4-6)

비교예 1~3에 있어서, 감광층 상에 보호층을 형성하지 않은 것 이외는, 각각 비교예 1~3과 동일하게 하여 표시장치용 차광층을 제조하였다. 이들 시료는 초고압 수은등을 사용한 70mJ/㎠의 노광에서는 표시장치용 차광층을 형성할 수 없었지만, 500mJ/㎠의 노광에서는 표시장치용 차광층이 얻어졌다. 그 때문에, 막두께 측정, 광학농도의 측정 및 체적분율의 측정도 70mJ/㎠로부터 500mJ/㎠의 노광으로 변경하여 마찬가지로 측정하였다. 비교예 4~6에서 제조된 표시용 차광층은 비교예 1~3과 마찬가지로 실용 레벨은 아니었다. 결과를 표 3에 나타낸다.In Comparative Examples 1-3, the light shielding layer for display apparatuses was produced like the Comparative Examples 1-3 respectively except not having provided a protective layer on the photosensitive layer. These samples could not form a light shielding layer for a display device under 70 mJ / cm 2 exposure using an ultra-high pressure mercury lamp, but a light shielding layer for a display device was obtained under exposure of 500 mJ / cm 2. Therefore, the measurement of the film thickness, the measurement of the optical density, and the measurement of the volume fraction were also performed in the same manner by changing from 70 mJ / cm 2 to 500 mJ / cm 2 exposure. The light shielding layer for display manufactured in Comparative Examples 4-6 was not practical level similarly to Comparative Examples 1-3. The results are shown in Table 3.

Figure 112008015139258-PCT00003
Figure 112008015139258-PCT00003

(실시예 21~30)(Examples 21-30)

이들 각 실시예에 있어서는, 감광성 전사재료를 사용하여 표시장치용 차광층을 제조하였다. In each of these examples, the light shielding layer for display device was manufactured using the photosensitive transfer material.

[감광성 전사재료의 제조][Production of Photosensitive Transfer Material]

감광성 전사재료는 2축연신한 75㎛ 두께의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 지지체에 슬라이드 코터를 사용하여 건조막 두께가 15㎛가 되도록 하기 열가소성 수지층 도포액을 도포하여 100℃에서 5분간 건조하였다. 이어서, 이 막 위에 중간층 도포액을 건조막 두께가 1.5㎛가 되도록 도포하여 100℃에서 5분간 건조하고, 감광층 도포액을 더 도포하여 100℃에서 5분간 건조하였다.The photosensitive transfer material was coated with a thermoplastic resin layer coating liquid so as to have a dry film thickness of 15 µm using a slide coater on a biaxially stretched polyethylene terephthalate support having a thickness of 75 µm and dried at 100 ° C for 5 minutes. Subsequently, the intermediate layer coating liquid was apply | coated so that a dry film thickness might be 1.5 micrometer on this film, and it dried at 100 degreeC for 5 minutes, and further applied the photosensitive layer coating liquid, and dried at 100 degreeC for 5 minutes.

실시예 21~30에 있어서의 감광층 도포액은 실시예 1~10에 각각 대응하는 동일한 조성의 감광층 도포액을 사용하였다. 또한, 중간층 도포액 처방은 실시예 1의 보호층 도포액과 동일한 조성의 도포액을 사용하였다. 이하에, 열가소성 수지층 도포액의 조성을 나타낸다.As the photosensitive layer coating liquid in Examples 21-30, the photosensitive layer coating liquid of the same composition corresponding to Examples 1-10 was used respectively. In addition, the intermediate | middle layer coating liquid prescription used the coating liquid of the same composition as the protective layer coating liquid of Example 1. The composition of the thermoplastic resin layer coating liquid is shown below.

(열가소성 수지층 도포액)(Thermoplastic layer coating liquid)

·메틸 메타크릴레이트/2-에틸헥실 아크릴레이트/벤질 메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체(공중합 조성비(몰비)=55/11.7/4.5/28.8, 분자량=9만, Tg≒70℃) 58부Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio (molar ratio) = 55 / 11.7 / 4.5 / 28.8, molecular weight = 90,000, Tg T70 ° C) 58 parts

·스티렌/아크릴산=70/30의 공중합체(공중합 조성비(몰비)=63/37, 분자량=1만, Tg≒100℃) 136부136 parts of a copolymer of styrene / acrylic acid = 70/30 (copolymerization composition ratio (molar ratio) = 63/37, molecular weight = 10,000, Tg ≒ 100 ° C.)

·2,2-비스[4-(메타크릴옥시폴리에톡시)페닐]프로판(Shin-nakamura Chemical Co., Ltd. 제품, 다관능 아크릴레이트) 90부90 parts of 2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane (manufactured by Shin-nakamura Chemical Co., Ltd., polyfunctional acrylate)

·F-780-F(DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INCORPORATED 제품, 불소계 계면활성 제품) 1부1 part of F-780-F (DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INCORPORATED product, fluorine-based surfactant product)

·메틸에틸케톤 541부541 parts of methyl ethyl ketone

·1-메톡시-2-프로판올 63부1-methoxy-2-propanol 63 parts

·메틸알콜 111부111 parts methyl alcohol

[표시장치용 차광층의 제조][Manufacture of Light-shielding Layer for Display Device]

무알칼리 유리 기판을 25℃로 조정한 유리 세정제액을 샤워에 의해 20초간 분사하면서 나일론모를 갖는 회전 브러시로 세정하고, 순수 샤워 세정후, 실란 커플링액(N-β(아미노에틸)γ-아미노프로필 트리메톡시실란 0.3질량% 수용액, 상품명: KBM603, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제품)을 샤워에 의해 20초간 분사하여 순수 샤워 세정하였다. 이 기판을 기판 예비가열 장치로 100℃에서 2분간 가열하여 다음의 라미네이터에 반송하였다. The glass cleaner liquid which adjusted the alkali free glass substrate to 25 degreeC was wash | cleaned with the rotating brush which has nylon hair, spraying for 20 second with a shower, and after pure water shower washing, a silane coupling liquid (N-((amino ethyl) (gamma) -aminopropyl) A 0.3 mass% aqueous solution of trimethoxysilane (trade name: KBM603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was sprayed for 20 seconds with a shower, followed by pure shower cleaning. This board | substrate was heated at 100 degreeC for 2 minutes with the board | substrate preheater, and was conveyed to the next laminator.

상기 유리 기판과 은주석 합금부 함유 입자 함유층(즉, 감광층)이 접촉하도록 유리 기판과 상기 감광성 전사재료를 포개고, 라미네이터(Hitachi Industries Co., Ltd. 제품(Lamic II형))를 사용하여 양자를 부착하였다. 라미네이트는 100℃로 가열한 기판에 고무 롤러 온도 130℃, 선압 100N/cm, 반송 속도 2.2m/분으로 라미네이트하였다. 그 후, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 지지체를 박리하였다.The glass substrate and the photosensitive transfer material were stacked so that the glass substrate and the silver tin alloy portion-containing particle-containing layer (ie, the photosensitive layer) contact each other, and a laminator (Hitachi Industries Co., Ltd. product (Lamic II type)) was used. Was attached. The laminate was laminated at a rubber roller temperature of 130 ° C., a linear pressure of 100 N / cm, and a conveyance speed of 2.2 m / min on a substrate heated to 100 ° C. Thereafter, the polyethylene terephthalate support was peeled off.

가지지체를 열가소성 수지층과의 계면에서 박리한 후, 초고압 수은등을 구비한 프록시미티형 노광기(Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd. 제품)로 기판과 마스크(화상 패턴을 갖는 석영 노광 마스크)를 수직하게 세운 상태에서 노광 마스크면과 상기 열가소성 수지층 사이의 거리를 200㎛로 설정하고, 노광량 70mJ/㎠으로 패턴 노광하였다.After peeling the branch member at the interface with the thermoplastic resin layer, the substrate and the mask (a quartz exposure mask having an image pattern) were subjected to a proximity exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) equipped with an ultra-high pressure mercury lamp. Was set in the vertical position, the distance between the exposure mask surface and the thermoplastic resin layer was set to 200 µm, and pattern exposure was performed at an exposure dose of 70 mJ / cm 2.

다음에, 트리에탄올아민계 현상액(2.5%의 트리에탄올아민 함유, 비이온 계면활성제 함유, 폴리프로필렌계 소포제 함유, 상품명: T-PD1, Fujiphoto Film Co., Ltd. 제품을 순수로 12배 희석한 액)으로 30℃에서 50초, 플랫 노즐 압력 0.04MPa로 샤워현상하여 열가소성 수지층과 중간층을 제거하였다.Next, a triethanolamine developer (containing 2.5% of triethanolamine, containing a nonionic surfactant, containing a polypropylene antifoaming agent, product name: T-PD1, a solution diluted 12-fold with Fujiphoto Film Co., Ltd. product pure water) The resultant was showered under a flat nozzle pressure of 0.04 MPa for 50 seconds at 30 ° C. to remove the thermoplastic resin layer and the intermediate layer.

이어서, 탄산 Na계 현상액(0.06mol/L 의 탄산수소나트륨, 동 농도의 탄산나트륨, 1%의 디부틸나프탈렌술폰산 나트륨, 음이온 계면활성제, 소포제, 안정제 함유, 상품명: T-CD1, Fujiphoto Film Co., Ltd. 제품을 순수로 5배 희석한 액)을 사용하여, 29℃에서 30초간, 콘형 노즐 압력 0.15MPa로 샤워현상하여 감광성 수지층을 현상해서 패터닝 화상을 얻었다. Subsequently, Na-carbonate developer (0.06 mol / L sodium bicarbonate, sodium carbonate at the same concentration, 1% sodium dibutylnaphthalenesulfonate, anionic surfactant, antifoaming agent, stabilizer containing, trade name: T-CD1, Fujiphoto Film Co., Ltd. product was diluted five times with pure water) and showered at a cone nozzle pressure of 0.15 MPa at 29 ° C. for 30 seconds to develop a photosensitive resin layer to obtain a patterned image.

이어서, 세정제(인산염·규산염·비이온 계면활성제·소포제·안정제 함유, 상품명 「T-SD1」(Fujiphoto Film Co., Ltd. 제품을 순수로 10배 희석한 액)을 사용하여, 33℃에서 20초간, 콘형 노즐 압력 0.02MPa로 샤워와 나일론모를 구비한 회전 브러시에 의해 잔류물 제거를 행하여, 블랙(K) 화상을 얻었다. 그 후, 또한 상기 기판에 대해서 상기 수지층의 측으로부터 초고압 수은등으로 500mJ/㎠의 광으로 포스트 노광한 후, 220℃에서 15분 열처리하여 차광층을 형성하였다.Subsequently, using a washing | cleaning agent (phosphate, silicate, nonionic surfactant, antifoamer, stabilizer containing, brand name "T-SD1" (liquid diluted 10-fold with Fujiphoto Film Co., Ltd. product pure water), it is 20 at 33 degreeC The residue was removed by a rotary brush equipped with a shower and nylon wool at a cone nozzle pressure of 0.02 MPa for a second, and a black (K) image was obtained from the side of the resin layer with a high pressure mercury lamp from the side of the resin layer. After post-exposure with the light of / cm <2>, it heat-processed at 220 degreeC for 15 minutes, and formed the light shielding layer.

막두께 측정, 광학농도의 측정 및 체적분율의 측정에 사용하는 시료를 제조할 때의 노광 조건도 마찬가지로 70mJ/㎠로 하였다. 결과를 표 4에 나타낸다.Exposure conditions at the time of manufacturing the sample used for the film thickness measurement, the optical density measurement, and the volume fraction measurement were also 70 mJ / cm <2>. The results are shown in Table 4.

(비교예 7~9)(Comparative Examples 7-9)

실시예 21의 표시장치용 차광층의 제조에 있어서, 감광층 도포액으로서 사용한 실시예 1의 감광층 도포액 대신에, 비교예 1~3에서 사용한 감광층 도포액을 각각 사용한 것 이외는, 실시예 21과 동일하게 하여 표시장치용 차광층을 제조하였다. 결과를 표 4에 나타낸다.In the manufacture of the light-shielding layer for display device of Example 21, in place of using the photosensitive layer coating liquid used in Comparative Examples 1-3, instead of the photosensitive layer coating liquid of Example 1 used as photosensitive layer coating liquid, In the same manner as in Example 21, a light shielding layer for a display device was manufactured. The results are shown in Table 4.

비교예 7~9로부터 얻어진 표시장치용 차광층은 비교예 1~3과 마찬가지로 실용 레벨은 아니었다.The light shielding layer for display devices obtained from Comparative Examples 7-9 was not a practical level similarly to Comparative Examples 1-3.

Figure 112008015139258-PCT00004
Figure 112008015139258-PCT00004

표 1 내지 표 4가 나타내듯이, 본 발명의 요건을 만족시키는 착색 조성물로부터는 0.1㎛에 가까운 매우 박층이어도 광학농도가 높고, 흑색의 색상이 우수하고, 또한 가열된 경우에도 색상 변화가 작은 표시장치용 차광층이 얻어진다. 또한, 필요한 광학농도를 얻기 위한 표시장치용 차광층의 막두께가 작기 때문에, 표시장치용 차광층 부착 기판 상에 컬러필터 화소를 제조할 때에 들어가는 기포의 수도 적다.As Tables 1 to 4 show, from the colored composition satisfying the requirements of the present invention, a display device having a high optical density, excellent black color, and small color change even when heated, even in a very thin layer close to 0.1 µm. A light shielding layer for is obtained. Moreover, since the film thickness of the light shielding layer for display devices for obtaining the required optical density is small, the number of bubbles which enters when manufacturing a color filter pixel on the board | substrate with a light shielding layer for display devices is few.

이에 비하여, 흑색 안료로서 카본블랙을 사용했을 경우, 그 평균 입경 및 체적분율을 본 발명과 동일하게 하여도, C광원 투과광의 XYZ 표색계 색도좌표에 관한 조건을 달성할 수 없어, 그 결과 표시장치용 차광층의 색상이 열등하게 되고, 또한 동일한 광학농도를 달성하기 위한 막두께도 커진다.On the other hand, when carbon black is used as a black pigment, even if the average particle diameter and volume fraction are the same as in the present invention, the conditions relating to the XYZ colorimetric chromaticity coordinates of the C-light source transmitted light cannot be achieved. The color of the light shielding layer becomes inferior, and the film thickness for achieving the same optical density also becomes large.

상기에서 제조한 표시장치용 차광층을 사용하여, WO 2006-38731의 실시예 1에 기재된 방법에 의해 RGB 화소를 형성하고, 이어서 액정표시장치를 제조하였다. 실시예에서 제조한 표시장치용 차광층을 사용한 액정표시장치는 비교예에서 제조한 표시장치용 차광층을 사용한 액정표시장치에 비하여 색불균일도 없어 높은 표시품위였다.Using the light shielding layer for display devices manufactured above, an RGB pixel was formed by the method of Example 1 of WO 2006-38731, and the liquid crystal display device was then manufactured. The liquid crystal display device using the light shielding layer for display device manufactured in Example was high in display quality with no color unevenness compared with the liquid crystal display device using the light shielding layer for display device manufactured in Comparative Example.

본 발명의 착색 조성물은 박막으로 차광성능이 높고, 저비용이고, 환경으로의 영향이 적고, 흑색(색미가 없는 무채색)의 색상이 우수한 표시장치용 차광층의 제조에 유용하다. 또한, 본 발명에 의해 얻어지는 표시장치용 차광층은 가열에 의한 색상 변화도 없거나 매우 적으므로, 평탄성이 우수하고, RGB 화소를 형성할 때 에 기포가 혼입되를 일이 없거나 또는 매우 적은 컬러필터를 제조하는 것이 가능하다. 또한, 이 컬러필터는 액정표시장치의 제조에도 사용된다.The coloring composition of this invention is a thin film, and is useful for manufacture of the light shielding layer for display devices which is high in light-shielding performance, low cost, has little influence on the environment, and is excellent in the color of black (achromatic color without color taste). In addition, since the light blocking layer for a display device obtained by the present invention has little or no color change due to heating, the flatness is excellent, and when a RGB pixel is formed, bubbles are not mixed or there are very few color filters. It is possible to manufacture. This color filter is also used in the manufacture of liquid crystal display devices.

Claims (19)

은주석 합금부를 갖는 금속입자를 함유하고, 막형성 후의 광학농도가 건조막 두께 1㎛당 3.5 이상인 것을 특징으로 하는 착색 조성물.A metal composition having a silver tin alloy portion, wherein the optical concentration after film formation is 3.5 or more per 1 μm of a dry film thickness. 제 1 항에 있어서, 상기 은주석 합금부를 갖는 금속입자의 고형분 중의 체적분율이 0.05~0.7이고, 또한 착색 조성물을 도포하여 형성되는 차광층에 있어서 C광원 투과광의 XYZ 표색계 색도좌표(x, y)와 상기 광원의 색도좌표(x0, y0)가 (x-x0)2 + (y-y0)2 ≤ 0.01의 관계를 갖는 것을 특징으로 하는 착색 조성물.2. The XYZ colorimetric chromaticity coordinates (x, y) of the C-light source transmitted light in the light-shielding layer according to claim 1, wherein the volume fraction in solid content of the metal particles having the silver tin alloy portion is 0.05 to 0.7 and is formed by applying a coloring composition. And a chromaticity coordinate (x 0 , y 0 ) of the light source has a relationship of (xx 0 ) 2 + (yy 0 ) 2 ≤ 0.01. 제 1 항에 있어서, 상기 은주석 합금부를 갖는 금속입자의 평균 입경이 500nm 이하인 것을 특징으로 하는 착색 조성물.The coloring composition of Claim 1 whose average particle diameter of the metal particle which has the said silver tin alloy part is 500 nm or less. 제 2 항에 있어서, 상기 은주석 합금부를 갖는 금속입자의 평균 입경이 500nm 이하인 것을 특징으로 하는 착색 조성물.The coloring composition of Claim 2 whose average particle diameter of the metal particle which has the said silver tin alloy part is 500 nm or less. 제 1 항에 있어서, 감광성을 갖는 것을 특징으로 하는 착색 조성물.The coloring composition of Claim 1 which has photosensitivity. 제 2 항에 있어서, 감광성을 갖는 것을 특징으로 하는 착색 조성물.The coloring composition of Claim 2 which has photosensitivity. 지지체와 이 지지체 상에 적어도 감광성 차광층이 형성되어 있고, 상기 감광성 차광층은 은주석 합금부를 갖는 금속입자를 함유하고, 상기 감광성 차광층의 광학농도가 건조막 두께 1㎛당 3.5 이상이고, 상기 감광성 차광층 중의 은주석 합금부를 갖는 금속입자의 체적분율이 0.05~0.7이고, 또한 차광층의 C광원 투과광의 XYZ 표색계 색도좌표(x, y)와 상기 광원의 색도좌표(x0, y0)가 (x-x0)2 + (y-y0)2 ≤ 0.01의 관계를 갖는 것을 특징으로 하는 감광성 전사재료.At least a photosensitive light shielding layer is formed on the support and the support, the photosensitive light shielding layer contains metal particles having a silver tin alloy portion, and the optical density of the photosensitive light shielding layer is at least 3.5 per 1 μm of the dry film thickness, The volume fraction of the metal particles having the silver tin alloy portion in the photosensitive light shielding layer is 0.05 to 0.7, and the XYZ color system color coordinates (x, y) of the C light source transmitted light of the light shielding layer and the chromaticity coordinates (x 0 , y 0 ) of the light source. A photosensitive transfer material characterized by having a relationship of (xx 0 ) 2 + (yy 0 ) 2 ≤ 0.01. 제 1 항에 기재된 착색 조성물을 사용하여 제조되는 것을 특징으로 하는 표시장치용 차광층.It is manufactured using the coloring composition of Claim 1, The light shielding layer for display devices characterized by the above-mentioned. 제 2 항에 기재된 착색 조성물을 사용하여 제조되는 것을 특징으로 하는 표시장치용 차광층.It is manufactured using the coloring composition of Claim 2, The light shielding layer for display devices characterized by the above-mentioned. 제 5 항에 기재된 착색 조성물을 사용하여 제조되는 것을 특징으로 하는 표시장치용 차광층.It is manufactured using the coloring composition of Claim 5, The light shielding layer for display devices characterized by the above-mentioned. 제 6 항에 기재된 착색 조성물을 사용하여 제조되는 것을 특징으로 하는 표 시장치용 차광층.It is manufactured using the coloring composition of Claim 6, The light-shielding layer for surface mounts characterized by the above-mentioned. 제 7 항에 기재된 감광성 전사재료를 사용하여 제조되는 것을 특징으로 하는 표시장치용 차광층.It is manufactured using the photosensitive transfer material of Claim 7, The light shielding layer for display apparatuses characterized by the above-mentioned. 광투과성 기판과, 이 기판 상에 착색층으로 이루어지고, 서로 다른 색을 나타내는 2개 이상의 화소군을 갖고, 상기 화소군을 구성하는 각 화소는 서로 표시장치용 차광층에 의해 이획되고, 상기 표시장치용 차광층이 제 8 항에 기재된 표시장치용 차광층인 것을 특징으로 하는 컬러필터.The light-transmissive substrate and the pixel group which consist of a coloring layer on this board | substrate, and have two or more pixel groups which show a different color, and each pixel which comprises the said pixel group are mutually taken out by the light shielding layer for display apparatuses, The said display The light shielding layer for devices is a light shielding layer for display devices of Claim 8, The color filter characterized by the above-mentioned. 1개 이상이 광투과성을 갖는 1쌍의 기판과, 이 기판 사이에 컬러필터, 액정층 및 액정 구동수단을 적어도 구비하고, 상기 컬러필터가 제 13 항에 기재된 컬러필터인 것을 특징으로 하는 액정표시소자.A pair of board | substrates which have one or more light-transmittances, and at least a color filter, a liquid crystal layer, and a liquid crystal drive means between this board | substrate, The said color filter is a color filter of Claim 13, The liquid crystal display characterized by the above-mentioned. device. 1개 이상이 광투과성을 갖는 1쌍의 기판과, 이 기판 사이에 컬러필터, 액정층 및 액정 구동수단을 적어도 구비하고, 상기 액정 구동수단이 액티브소자를 갖고, 각 액티브 소자 사이에 제 8 항에 기재된 표시장치용 차광층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.At least one pair of substrates having optical transparency, and at least a color filter, a liquid crystal layer, and liquid crystal driving means between the substrates, wherein the liquid crystal driving means has an active element, and between each active element. The light shielding layer for display devices described in the above is formed. 광투과성 기판 상에 제 1 항에 기재된 착색 조성물로 층을 형성하는 공정, 및 표시장치용 차광층용 포토마스크를 통해서 상기 층을 노광한 후 현상하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치용 차광층의 제조방법.Forming a layer on the light-transmissive substrate with the coloring composition according to claim 1, and then exposing the layer through a photomask for light shielding layer for display and developing the light-shielding layer for display device. Manufacturing method. 광투과성 기판 상에 제 2 항에 기재된 착색 조성물로 층을 형성하는 공정, 및 표시장치용 차광층용 포토마스크를 통해서 상기 층을 노광한 후 현상하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치용 차광층의 제조방법.Forming a layer on the light-transmissive substrate with the coloring composition according to claim 2, and then exposing the layer through a photomask for a light shielding layer for a display device, and then developing the light-shielding layer for a display device. Manufacturing method. 광투과성 기판 상에, 지지체에 적어도 감광성 차광층을 형성한 제 7 항에 기재된 감광성 전사재료를 상기 감광성 차광층이 접하도록 적층하는 공정, 상기 감광성 전사재료와 광투과성 기판의 적층체로부터 지지체를 박리하는 공정, 및 표시장치용 차광층용 포토마스크를 통해서 상기 감광성 차광층을 노광한 후 현상하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치용 차광층의 제조방법.A step of laminating the photosensitive transfer material according to claim 7 on which the photosensitive light shielding layer is formed on the support such that the photosensitive light shielding layer is in contact with the light transmitting substrate, and peeling the support from the laminate of the photosensitive transfer material and the light transmissive substrate. And exposing the photosensitive light-shielding layer through a photomask for light-shielding layer for display device and then developing the light-shielding layer for display device. 광투과성 기판 및 상기 기판 상에 형성된 표시장치용 차광층을 갖고, 상기 표시장치용 차광층 중에 은주석 합금부를 갖는 금속입자가 체적분율 0.05~0.7로 분산되어 있고, 표시장치용 차광층 1㎛당 광학농도가 3.5 이상이고, 또한 표시장치용 차광층의 C광원 투과광의 XYZ 표색계 색도좌표(x, y)와 상기 광원의 색도좌표(x0, y0)가 (x-x0)2 + (y-y0)2 ≤ 0.01의 관계를 갖는 것을 특징으로 하는 표시장치용 차광층 부착 기판.Metal particles having a light-transmissive substrate and a light shielding layer for a display device formed on the substrate, wherein the metal particles having a silver tin alloy portion are dispersed in a volume fraction of 0.05 to 0.7 in the light shielding layer for a display device, The optical density is 3.5 or more, and the XYZ color system coordinates (x, y) of the C light source transmitted light of the light shielding layer for display devices and the chromaticity coordinates (x 0 , y 0 ) of the light source are (xx 0 ) 2 + (yy 0 2 ) A substrate with a light shielding layer for a display device, having a relationship of 2 ?
KR1020087005077A 2005-09-16 2006-07-18 Colored composition and photosensitive transfer material KR20080047545A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2005-00270977 2005-09-16
JP2005270977 2005-09-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20080047545A true KR20080047545A (en) 2008-05-29

Family

ID=37864744

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020087005077A KR20080047545A (en) 2005-09-16 2006-07-18 Colored composition and photosensitive transfer material

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5252919B2 (en)
KR (1) KR20080047545A (en)
CN (1) CN101268151B (en)
TW (1) TW200722485A (en)
WO (1) WO2007032144A1 (en)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5076753B2 (en) * 2007-09-05 2012-11-21 三菱マテリアル株式会社 Method for producing high-concentration metal nanoparticle dispersion
EP2310157B1 (en) * 2008-07-23 2013-04-10 Construction Research & Technology GmbH Method for producing metal nanoparticles in polyols
JP4544370B2 (en) * 2008-10-28 2010-09-15 Ｊｓｒ株式会社 Radiation-sensitive resin composition, interlayer insulating film and microlens, and production method thereof
DE102009015470A1 (en) 2008-12-12 2010-06-17 Byk-Chemie Gmbh Process for the preparation of metal nanoparticles and metal nanoparticles obtained in this way and their use
TWI519899B (en) * 2009-07-07 2016-02-01 富士軟片股份有限公司 Colored composition for light-shielding film, light-shielding pattern, method for forming the same, solid-state image sensing device, and method for producing the same
US9017450B2 (en) * 2010-12-09 2015-04-28 Carestream Health, Inc. Nanowire preparation methods, compositions, and articles
CN102799070B (en) * 2012-08-27 2014-03-05 珠海市能动科技光学产业有限公司 Double coating negative photoresist dry film
KR102130533B1 (en) * 2014-01-24 2020-07-06 동우 화인켐 주식회사 The a colored photosensitive resin composition for forming the frontal light shielding layer of a display device

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3692601B2 (en) * 1996-03-27 2005-09-07 東レ株式会社 Resin black matrix, black paste, and color filter
JP4528548B2 (en) * 2003-04-18 2010-08-18 富士フイルム株式会社 Light shielding film for display device
JP2004334181A (en) * 2003-04-18 2004-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd Light shielding film for display device
JP2005075965A (en) * 2003-09-02 2005-03-24 Toray Ind Inc Black coating film composition, resin black matrix, color filter, and liquid crystal display
JP4808383B2 (en) * 2004-03-17 2011-11-02 富士フイルム株式会社 COLORING COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL, LIGHT-EMITTING LAYER FOR DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, COLOR FILTER, LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT, AND SUBSTRATE WITH LIGHT-EMITTING LAYER FOR DISPLAY DEVICE
JP4437063B2 (en) * 2004-09-21 2010-03-24 住友大阪セメント株式会社 Black material
TWI389850B (en) * 2004-09-21 2013-03-21 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Black material, black particle dispersion, black light-shielding film using the same, and substrate with black light-shielding film
JP4223487B2 (en) * 2005-02-17 2009-02-12 住友大阪セメント株式会社 Black fine particles, black fine particle dispersion, black light shielding film, and substrate with black light shielding film
JP4237148B2 (en) * 2005-02-17 2009-03-11 住友大阪セメント株式会社 Black fine particle dispersion, black light shielding film using the same, and substrate with black light shielding film

Also Published As

Publication number Publication date
WO2007032144A1 (en) 2007-03-22
JPWO2007032144A1 (en) 2009-03-19
CN101268151B (en) 2012-03-28
CN101268151A (en) 2008-09-17
JP5252919B2 (en) 2013-07-31
TW200722485A (en) 2007-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5153342B2 (en) Substrate for liquid crystal display device, liquid crystal display element, and liquid crystal display device
KR20080047545A (en) Colored composition and photosensitive transfer material
KR101223434B1 (en) Substrate with light shielding image, method of manufacturing light shielding image, photosensitive resin composition, transfer material, color filter and display device
JP4401101B2 (en) COLORING COMPOSITION FOR MANUFACTURING BLACK MATRIX AND PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL, BLACK MATRIX AND ITS MANUFACTURING METHOD, COLOR FILTER, LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT AND BLACK MATRIX SUBSTRATE
KR20080104320A (en) Photosensitive composition, and material for formation of light-shield film for display device or photosensitive transfer material using the composition
KR20080056158A (en) Method for producing metal particle dispersion, metal particle dispersion, and colored composition, photosensitive transfer material, substrate with light-blocking image, color filter and liquid crystal display each using such metal particle dispersion
KR20090097787A (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin transfer material, photo spacer, method of manufacturing the same, substrate for display device, and display device
JP2006267998A (en) Resin composition for recording material, photosensitive transfer material, light-blocking film for display apparatus and method for forming the same, substrate with light-blocking film, liquid crystal display element, and liquid crystal display apparatus
JP4808383B2 (en) COLORING COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL, LIGHT-EMITTING LAYER FOR DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, COLOR FILTER, LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT, AND SUBSTRATE WITH LIGHT-EMITTING LAYER FOR DISPLAY DEVICE
JP2007131788A (en) Resin composition for recording material, photosensitive transfer material, method for forming light-shielding film for display device, color filter for liquid crystal display device, and liquid crystal display device
JP4395317B2 (en) COLORING COMPOSITION FOR MANUFACTURING BLACK MATRIX AND PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL, BLACK MATRIX AND ITS MANUFACTURING METHOD, COLOR FILTER, LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT AND BLACK MATRIX SUBSTRATE
JP2004347831A (en) Color filter
JP4948914B2 (en) Black dispersion containing fine metal particles, coloring composition, photosensitive transfer material, substrate with light-shielding image, color filter, and liquid crystal display device
JPH10274848A (en) Radiation sensitive composition and radiation sensitive composition for color filter
JP4667969B2 (en) Black composition, photosensitive transfer material, substrate with light-shielding image, color filter, liquid crystal display element, and method for producing light-shielding image
KR100771080B1 (en) Photocurable composition and liquid crystal display element
JP2007293006A (en) Photosensitive resin transfer material, color filter and method for manufacturing the same, and image display device
KR20080025097A (en) Color filter and liquid crystal display device using same
JP2007246723A (en) Colored composition, and transfer material, light-shielding image for display device, substrate having light-shielding image, and liquid crystal display device which each uses the same
JP2006337485A (en) Color filter, liquid crystal display element, and liquid crystal display apparatus
JP2007148160A (en) Color filter and liquid crystal display device using same
JP2007140408A (en) Color filter for liquid crystal display device, and the liquid crystal display device
JP2010117481A (en) Color filter
JPH10273525A (en) Alkaline solution-soluble polymer
JP4792321B2 (en) Photosensitive resin transfer material, color filter, manufacturing method thereof, and image display device

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid