KR20080001318A - 반도체공정장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (9)
- 외부 공기와 차단되는 밀폐공간이 형성되고 기판이 출입하는 게이트들이 형성되어 있는 이송챔버와;상기 이송챔버의 일측에 배치되며 내부에 구비된 하나 이상의 처리공간형성부를 통해 내부 공간과 상호 차단되는 밀폐된 처리공간을 형성하여 반도체 공정을 수행하는 공정챔버와;상기 이송챔버와 상기 공정챔버 사이의 기판의 이송이 가능하도록 상기 이송챔버와 상기 공정챔버를 연결하는 연결부를 포함하며,상기 이송챔버의 내부에는 상기 연결부를 통하여 반도체 공정을 수행할 기판을 상기 공정챔버로 이송하거나 반도체 공정이 완료된 기판을 상기 공정챔버로부터 반출하는 이송부가 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체공정장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 공정챔버는:반도체공정이 수행될 기판이 출입되는 게이트가 형성되는 반응용기와,상기 반응용기의 상측에 설치되어 반도체공정을 수행할 수 있도록 가스를 분사하는 하나 이상의 샤워헤드와,상기 샤워헤드 각각에 대응되어 상기 반응용기의 내부 하측에 설치되고 상기 기판을 지지하는 하나 이상의 웨이퍼 블록과,상기 반응용기 내에 설치되어 상기 샤워헤드 및 웨이퍼 블록을 포함하는 공간을 밀폐시켜 반도체공정을 위한 처리공간을 형성하는 처리공간형성부와,상기 반응용기 내부 및 상기 처리공간형성부가 형성하는 상기 처리공간 내의 압력조절 및 배기를 위하여 상기 처리공간형성부와 연결되는 배기시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체공정장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 이송챔버의 내부에는 다수의 기판이 적층되는 카세트부가 추가로 설치되며,상기 이송부는 상기 웨이퍼 블록 및 상기 카세트부 사이에서 기판을 이송하는 것을 특징으로 하는 반도체공정장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 카세트부는 구동부에 의하여 상하로 승하강이 가능하도록 설치된 것을 특징으로 하는 반도체공정장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 카세트부는 적층되는 기판의 온도조절을 위한 온도조절부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체공정장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 이송부는일단이 상기 이송챔버 내에 설치된 회전구동부와 연결되고, 타단이 상기 카세트부 및 상기 웨이퍼 블록 사이를 왕복 회전에 의하여 상기 기판을 이송하는 하나 이상의 로봇암인 것을 특징으로 하는 반도체공정장치.
- 제 6 항에 있어서,상기 각각의 로봇암은 회전이 서로 간섭되지 않도록 서로 다른 높이로 설치되는 것을 특징으로 하는 반도체공정장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 이송챔버는 그 내부의 압력을 조절하기 위한 배기시스템이 추가로 설치된 것을 특징으로 하는 반도체공정장치.
- 제 2 항 내지 제 6 항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 처리공간형성부는상기 반응용기 내에 상하왕복운동이 가능하도록 설치되어 상승하였을 때 상기 처리공간을 형성하는 실린더밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체공정장치.
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