KR20070090811A - 자기-정렬된 처리를 이용하여 제조된 상 변화 메모리 - Google Patents
자기-정렬된 처리를 이용하여 제조된 상 변화 메모리 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20070090811A KR20070090811A KR1020070020883A KR20070020883A KR20070090811A KR 20070090811 A KR20070090811 A KR 20070090811A KR 1020070020883 A KR1020070020883 A KR 1020070020883A KR 20070020883 A KR20070020883 A KR 20070020883A KR 20070090811 A KR20070090811 A KR 20070090811A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- material layer
- dielectric material
- phase change
- conductive lines
- lines
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B63/00—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices
- H10B63/80—Arrangements comprising multiple bistable or multi-stable switching components of the same type on a plane parallel to the substrate, e.g. cross-point arrays
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/56—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
- G11C11/5678—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using amorphous/crystalline phase transition storage elements
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0004—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements comprising amorphous/crystalline phase transition cells
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B63/00—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices
- H10B63/30—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices comprising selection components having three or more electrodes, e.g. transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B63/00—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices
- H10B63/80—Arrangements comprising multiple bistable or multi-stable switching components of the same type on a plane parallel to the substrate, e.g. cross-point arrays
- H10B63/82—Arrangements comprising multiple bistable or multi-stable switching components of the same type on a plane parallel to the substrate, e.g. cross-point arrays the switching components having a common active material layer
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices without a potential-jump barrier or surface barrier, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/011—Manufacture or treatment of multistable switching devices
- H10N70/061—Patterning of the switching material
- H10N70/063—Patterning of the switching material by etching of pre-deposited switching material layers, e.g. lithography
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices without a potential-jump barrier or surface barrier, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/20—Multistable switching devices, e.g. memristors
- H10N70/231—Multistable switching devices, e.g. memristors based on solid-state phase change, e.g. between amorphous and crystalline phases, Ovshinsky effect
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices without a potential-jump barrier or surface barrier, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
- H10N70/821—Device geometry
- H10N70/826—Device geometry adapted for essentially vertical current flow, e.g. sandwich or pillar type devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices without a potential-jump barrier or surface barrier, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
- H10N70/881—Switching materials
- H10N70/882—Compounds of sulfur, selenium or tellurium, e.g. chalcogenides
- H10N70/8828—Tellurides, e.g. GeSbTe
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices without a potential-jump barrier or surface barrier, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
- H10N70/881—Switching materials
- H10N70/884—Other compounds of groups 13-15, e.g. elemental or compound semiconductors
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
- G11C2213/70—Resistive array aspects
- G11C2213/79—Array wherein the access device being a transistor
Abstract
Description
Claims (22)
- 메모리에 있어서,어레이를 제공하는 로우(row)들 및 컬럼(column)들에 있는 트랜지스터들;상기 어레이에 걸쳐 컬럼들에 있는 제 1 도전 라인들;상기 어레이에 걸쳐 로우들에 있는 유전 물질에 의해 캡슐화된(encapsulated) 제 2 도전 라인들을 포함하고, 각각의 제 2 도전 라인은 각각의 로우에서 상기 트랜지스터들의 소스-드레인 경로의 한쪽에 커플링되며; 및상기 제 2 도전 라인들 사이에 있고, 상기 제 1 도전 라인들과 접촉하며, 상기 제 1 도전 라인들에 대해 자기-정렬된 상 변화 요소들을 포함하고, 각각의 상 변화 요소는 트랜지스터의 소스-드레인 경로의 다른 한쪽에 커플링되는 것을 특징으로 하는 메모리.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 도전 라인들은 비트 라인들이고, 상기 제 2 도전 라인들은 접지 라인들인 것을 특징으로 하는 메모리.
- 제 1 항에 있어서,상기 어레이에 걸쳐 로우들에 있는 워드 라인들을 더 포함하고, 각각의 워드 라인은 각각의 로우에서 상기 트랜지스터들의 게이트들에 커플링되는 것을 특징으 로 하는 메모리.
- 제 1 항에 있어서,상기 메모리는 6 F2로 축척될 수(scalable) 있으며, 여기서 F는 최소 피처 크기인 것을 특징으로 하는 메모리.
- 제 1 항에 있어서,상기 메모리는 8 F2로 축척될 수 있으며, 여기서 F는 최소 피처 크기인 것을 특징으로 하는 메모리.
- 메모리에 있어서,어레이를 제공하는 로우들 및 컬럼들에 있는 트랜지스터들;상기 어레이에 걸쳐 컬럼들에 있는 제 1 도전 라인들;상기 어레이에 걸쳐 로우들에 있는 유전 물질에 의해 캡슐화된 제 2 도전 라인들을 포함하고, 각각의 제 2 도전 라인은 각각의 로우에서 상기 트랜지스터들의 소스-드레인 경로의 한쪽에 커플링되며; 및상기 어레이에 걸쳐 컬럼들에 있고 제 2 도전 라인들 사이에 저장 위치들을 제공하는 상 변화 물질을 포함하며, 상기 상 변화 물질은 상기 제 1 도전 라인들과 접촉하고, 상기 제 1 도전 라인들에 대해 자기-정렬되며, 각각의 저장 위치는 트랜 지스터의 소스-드레인 경로의 다른 한쪽에 커플링되는 것을 특징으로 하는 메모리.
- 제 6 항에 있어서,상기 제 1 도전 라인들은 비트 라인들이고, 상기 제 2 도전 라인들은 접지 라인들인 것을 특징으로 하는 메모리.
- 제 6 항에 있어서,상기 어레이에 걸쳐 로우들에 있는 워드 라인들을 더 포함하고, 각각의 워드 라인은 각각의 로우에서 상기 트랜지스터들의 게이트들에 커플링되는 것을 특징으로 하는 메모리.
- 제 6 항에 있어서,상기 메모리는 6 F2로 축척될 수 있으며, 여기서 F는 최소 피처 크기인 것을 특징으로 하는 메모리.
- 제 6 항에 있어서,상기 메모리는 8 F2로 축척될 수 있으며, 여기서 F는 최소 피처 크기인 것을 특징으로 하는 메모리.
- 메모리를 제조하는 방법에 있어서,제 1 콘택들 및 제 2 콘택들을 포함하는 사전처리된 웨이퍼를 제공하는 단계;상기 사전처리된 웨이퍼 상에 유전 물질로 캡슐화된 제 1 도전 라인들을 제조하는 단계를 포함하고, 상기 제 1 도전 라인들은 상기 제 1 콘택들과 접촉하며;상기 사전처리된 웨이퍼 및 상기 유전 물질의 노출된 부분들 위에 상 변화 물질 층을 증착하는 단계;상기 상 변화 물질 층 위에 전극 물질 층을 증착하는 단계; 및제 2 도전 라인들 및 상기 제 2 도전 라인들에 대해 자기 정렬된 상 변화 물질을 형성하기 위해, 상기 상 변화 물질 층 및 상기 전극 물질 층을 에칭하는 단계를 포함하고, 상기 상 변화 물질은 상기 제 2 콘택들과 접촉하는 저장 위치들을 제공하는 것을 특징으로 하는 메모리를 제조하는 방법.
- 제 11 항에 있어서,상기 유전 물질로 캡슐화된 제 1 도전 라인들을 제조하는 단계는:상기 사전처리된 웨이퍼 위에 도전 물질 층을 증착하는 단계;상기 도전 물질 층 위에 제 1 유전 물질 층을 증착하는 단계;상기 제 2 콘택들을 노출시키는 트렌치들을 형성하고 상기 제 1 콘택들과 접촉하는 제 1 도전 라인들을 제공하기 위해, 상기 도전 물질 층 및 상기 제 1 유전 물질 층을 에칭하는 단계;상기 제 1 도전 라인들 및 상기 제 1 유전 물질 층의 노출된 부분들 위에 제 2 유전 물질 층을 정각으로(conformally) 증착하는 단계; 및측벽 스페이서(sidewall spacer)들을 제공하여, 상기 제 1 도전 라인들이 상기 제 1 유전 물질 층 및 상기 측벽 스페이서들에 의해 캡슐화되도록, 상기 제 2 유전 물질 층을 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 메모리를 제조하는 방법.
- 제 11 항에 있어서,상기 도전 라인들을 제조하는 단계는 접지 라인들을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 메모리를 제조하는 방법.
- 제 11 항에 있어서,상기 제 2 도전 라인들을 형성하기 위해 상기 전극 물질 층을 에칭하는 단계는 비트 라인들을 형성하기 위해 상기 전극 물질 층을 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 메모리를 제조하는 방법.
- 메모리를 제조하는 방법에 있어서,제 1 콘택들 및 제 2 콘택들을 포함하는 사전처리된 웨이퍼를 제공하는 단계;상기 사전처리된 웨이퍼 상에 유전 물질로 캡슐화된 제 1 도전 라인들을 제 조하는 단계를 포함하고, 상기 제 1 도전 라인들은 상기 제 1 콘택들과 접촉하며;상기 사전처리된 웨이퍼 및 상기 유전 물질의 노출된 부분들 위에 상 변화 물질 층을 증착하는 단계;상기 유전 물질을 노출시키기 위해, 상기 상 변화 물질 층을 평탄화하는 단계;상기 유전 물질 및 상기 상 변화 물질 층 위에 전극 물질 층을 증착하는 단계; 및제 2 도전 라인들 및 상기 제 2 도전 라인들에 대해 자기-정렬된 상 변화 요소들을 형성하기 위해, 상기 상 변화 물질 층 및 상기 전극 물질 층을 에칭하는 단계를 포함하고, 각각의 상 변화 요소는 제 2 콘택들과 접촉하는 것을 특징으로 하는 메모리를 제조하는 방법.
- 제 15 항에 있어서,상기 유전 물질로 캡슐화된 제 1 도전 라인들을 제조하는 단계는:상기 사전처리된 웨이퍼 위에 도전 물질 층을 증착하는 단계;상기 도전 물질 층 위에 제 1 유전 물질 층을 증착하는 단계;상기 제 2 콘택들을 노출시키는 트렌치들을 형성하고 상기 제 1 콘택들과 접촉하는 제 1 도전 라인들을 제공하기 위해, 상기 도전 물질 층 및 상기 제 1 유전 물질 층을 에칭하는 단계;상기 제 1 도전 라인들 및 상기 제 1 유전 물질 층의 노출된 부분들 위에 제 2 유전 물질 층을 정각으로 증착하는 단계; 및측벽 스페이서들을 제공하여, 상기 제 1 도전 라인들이 상기 제 1 유전 물질 층 및 상기 측벽 스페이서들에 의해 캡슐화되도록, 상기 제 2 유전 물질 층을 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 메모리를 제조하는 방법.
- 제 15 항에 있어서,상기 도전 라인들을 제조하는 단계는 접지 라인들을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 메모리를 제조하는 방법.
- 제 15 항에 있어서,상기 제 2 도전 라인들을 형성하기 위해 상기 전극 물질 층을 에칭하는 단계는 비트 라인들을 형성하기 위해 상기 전극 물질 층을 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 메모리를 제조하는 방법.
- 메모리를 제조하는 방법에 있어서,제 1 콘택들 및 제 2 콘택들을 포함하는 사전처리된 웨이퍼를 제공하는 단계;상기 사전처리된 웨이퍼 상에 제 1 유전 물질로 캡슐화된 제 1 도전 라인들을 제조하는 단계를 포함하고, 상기 제 1 도전 라인들은 상기 제 1 콘택들과 접촉하며;상기 사전처리된 웨이퍼 및 상기 제 1 유전 물질의 노출된 부분들 위에 제 2 유전 물질 층을 증착하는 단계;상기 제 1 유전 물질의 부분들 및 상기 제 2 콘택들을 노출시키기 위해, 상기 제 2 유전 물질 층 내에 트렌치들을 에칭하는 단계;상기 사전처리된 웨이퍼, 상기 제 1 유전 물질 및 상기 제 2 유전 물질 층의 노출된 부분들 위에 상 변화 물질을 증착하는 단계;상기 제 2 유전 물질 층을 노출시키기 위해, 상기 상 변화 물질 층을 평탄화하는 단계;상기 상 변화 물질 층을 리세스 에칭(recess etch)하는 단계;상기 상 변화 물질 층 및 상기 제 2 유전 물질 층의 노출된 부분들 위에 전극 물질 층을 증착하는 단계; 및상기 상 변화 물질에 대해 자기-정렬된 제 2 도전 라인들을 형성하기 위해, 상기 제 2 유전 물질 층을 노출시키도록 상기 전극 물질 층을 평탄화하는 단계를 포함하고, 상기 상 변화 물질은 상기 제 2 콘택들과 접촉하는 저장 위치들을 제공하는 것을 특징으로 하는 메모리를 제조하는 방법.
- 제 19 항에 있어서,상기 제 1 유전 물질로 캡슐화된 제 1 도전 라인들을 제조하는 단계는:사전처리된 웨이퍼 위에 도전 물질 층을 증착하는 단계;상기 도전 물질 층 위에 제 3 유전 물질 층을 증착하는 단계;상기 제 2 콘택들을 노출시키는 트렌치들을 형성하고 상기 제 1 콘택들과 접촉하는 제 1 도전 라인들을 제공하기 위해, 상기 도전 물질 층 및 상기 제 3 유전 물질 층을 에칭하는 단계;상기 제 1 도전 라인들 및 상기 제 3 유전 물질 층의 노출된 부분들 위에 제 4 유전 물질 층을 정각으로 증착하는 단계; 및측벽 스페이서들을 제공하여 상기 제 1 도전 라인들이 상기 제 3 유전 물질 층 및 상기 측벽 스페이서들에 의해 캡슐화되도록 상기 제 4 유전 물질 층을 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 메모리를 제조하는 방법.
- 제 19 항에 있어서,상기 도전 라인들을 제조하는 단계는 접지 라인들을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 메모리를 제조하는 방법.
- 제 19 항에 있어서,상기 제 2 도전 라인들을 형성하기 위해 상기 전극 물질 층을 평탄화하는 단계는 비트 라인들을 형성하기 위해 상기 전극 물질 층을 평탄화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 메모리를 제조하는 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/366,151 US7362608B2 (en) | 2006-03-02 | 2006-03-02 | Phase change memory fabricated using self-aligned processing |
US11/366,151 | 2006-03-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070090811A true KR20070090811A (ko) | 2007-09-06 |
KR100807677B1 KR100807677B1 (ko) | 2008-02-28 |
Family
ID=38080813
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070020883A KR100807677B1 (ko) | 2006-03-02 | 2007-03-02 | 자기-정렬된 처리를 이용하여 제조된 상 변화 메모리 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7362608B2 (ko) |
EP (1) | EP1830362A3 (ko) |
JP (1) | JP2007273962A (ko) |
KR (1) | KR100807677B1 (ko) |
CN (1) | CN101064331B (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101104443B1 (ko) * | 2008-02-12 | 2012-01-12 | 파나소닉 주식회사 | 비휘발성 반도체 기억 장치 및 그 제조 방법 |
Families Citing this family (150)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7505330B2 (en) * | 2006-08-31 | 2009-03-17 | Micron Technology, Inc. | Phase-change random access memory employing read before write for resistance stabilization |
US7889536B2 (en) * | 2007-12-17 | 2011-02-15 | Qimonda Ag | Integrated circuit including quench devices |
WO2009111256A2 (en) * | 2008-03-04 | 2009-09-11 | Arizona Board Regents For And On Behalf Of Arizona State University | Method and system for surface water treatment |
US8283202B2 (en) | 2009-08-28 | 2012-10-09 | International Business Machines Corporation | Single mask adder phase change memory element |
US8012790B2 (en) * | 2009-08-28 | 2011-09-06 | International Business Machines Corporation | Chemical mechanical polishing stop layer for fully amorphous phase change memory pore cell |
US8283650B2 (en) * | 2009-08-28 | 2012-10-09 | International Business Machines Corporation | Flat lower bottom electrode for phase change memory cell |
US10354995B2 (en) | 2009-10-12 | 2019-07-16 | Monolithic 3D Inc. | Semiconductor memory device and structure |
US9941332B2 (en) * | 2009-10-12 | 2018-04-10 | Monolithic 3D Inc. | Semiconductor memory device and structure |
US11374118B2 (en) | 2009-10-12 | 2022-06-28 | Monolithic 3D Inc. | Method to form a 3D integrated circuit |
US10043781B2 (en) | 2009-10-12 | 2018-08-07 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US10910364B2 (en) | 2009-10-12 | 2021-02-02 | Monolitaic 3D Inc. | 3D semiconductor device |
US10157909B2 (en) | 2009-10-12 | 2018-12-18 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US10388863B2 (en) | 2009-10-12 | 2019-08-20 | Monolithic 3D Inc. | 3D memory device and structure |
US10366970B2 (en) | 2009-10-12 | 2019-07-30 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US11018133B2 (en) | 2009-10-12 | 2021-05-25 | Monolithic 3D Inc. | 3D integrated circuit |
US8129268B2 (en) | 2009-11-16 | 2012-03-06 | International Business Machines Corporation | Self-aligned lower bottom electrode |
US8233317B2 (en) * | 2009-11-16 | 2012-07-31 | International Business Machines Corporation | Phase change memory device suitable for high temperature operation |
US7943420B1 (en) * | 2009-11-25 | 2011-05-17 | International Business Machines Corporation | Single mask adder phase change memory element |
US10217667B2 (en) | 2011-06-28 | 2019-02-26 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device, fabrication method and system |
US8194441B2 (en) * | 2010-09-23 | 2012-06-05 | Micron Technology, Inc. | Phase change memory state determination using threshold edge detection |
US11482440B2 (en) | 2010-12-16 | 2022-10-25 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with a built-in test circuit for repairing faulty circuits |
US10497713B2 (en) | 2010-11-18 | 2019-12-03 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor memory device and structure |
US11257867B1 (en) | 2010-10-11 | 2022-02-22 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with oxide bonds |
US11158674B2 (en) | 2010-10-11 | 2021-10-26 | Monolithic 3D Inc. | Method to produce a 3D semiconductor device and structure |
US11600667B1 (en) | 2010-10-11 | 2023-03-07 | Monolithic 3D Inc. | Method to produce 3D semiconductor devices and structures with memory |
US11018191B1 (en) | 2010-10-11 | 2021-05-25 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US11315980B1 (en) | 2010-10-11 | 2022-04-26 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with transistors |
US11024673B1 (en) | 2010-10-11 | 2021-06-01 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US11227897B2 (en) | 2010-10-11 | 2022-01-18 | Monolithic 3D Inc. | Method for producing a 3D semiconductor memory device and structure |
US10896931B1 (en) | 2010-10-11 | 2021-01-19 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US11469271B2 (en) | 2010-10-11 | 2022-10-11 | Monolithic 3D Inc. | Method to produce 3D semiconductor devices and structures with memory |
US10290682B2 (en) | 2010-10-11 | 2019-05-14 | Monolithic 3D Inc. | 3D IC semiconductor device and structure with stacked memory |
US11164898B2 (en) | 2010-10-13 | 2021-11-02 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure |
US11929372B2 (en) | 2010-10-13 | 2024-03-12 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure with image sensors and wafer bonding |
US10833108B2 (en) | 2010-10-13 | 2020-11-10 | Monolithic 3D Inc. | 3D microdisplay device and structure |
US11327227B2 (en) | 2010-10-13 | 2022-05-10 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure with electromagnetic modulators |
US11404466B2 (en) | 2010-10-13 | 2022-08-02 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure with image sensors |
US11043523B1 (en) | 2010-10-13 | 2021-06-22 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure with image sensors |
US11163112B2 (en) | 2010-10-13 | 2021-11-02 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure with electromagnetic modulators |
US11605663B2 (en) | 2010-10-13 | 2023-03-14 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure with image sensors and wafer bonding |
US10978501B1 (en) | 2010-10-13 | 2021-04-13 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure with waveguides |
US10998374B1 (en) | 2010-10-13 | 2021-05-04 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure |
US10943934B2 (en) | 2010-10-13 | 2021-03-09 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure |
US11855114B2 (en) | 2010-10-13 | 2023-12-26 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure with image sensors and wafer bonding |
US11694922B2 (en) | 2010-10-13 | 2023-07-04 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure with oxide bonding |
US11869915B2 (en) | 2010-10-13 | 2024-01-09 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure with image sensors and wafer bonding |
US11133344B2 (en) | 2010-10-13 | 2021-09-28 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure with image sensors |
US10679977B2 (en) | 2010-10-13 | 2020-06-09 | Monolithic 3D Inc. | 3D microdisplay device and structure |
US11855100B2 (en) | 2010-10-13 | 2023-12-26 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure with oxide bonding |
US11063071B1 (en) | 2010-10-13 | 2021-07-13 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure with waveguides |
US11437368B2 (en) | 2010-10-13 | 2022-09-06 | Monolithic 3D Inc. | Multilevel semiconductor device and structure with oxide bonding |
US11107721B2 (en) | 2010-11-18 | 2021-08-31 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with NAND logic |
US11862503B2 (en) | 2010-11-18 | 2024-01-02 | Monolithic 3D Inc. | Method for producing a 3D semiconductor device and structure with memory cells and multiple metal layers |
US11569117B2 (en) | 2010-11-18 | 2023-01-31 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with single-crystal layers |
US11495484B2 (en) | 2010-11-18 | 2022-11-08 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor devices and structures with at least two single-crystal layers |
US11211279B2 (en) | 2010-11-18 | 2021-12-28 | Monolithic 3D Inc. | Method for processing a 3D integrated circuit and structure |
US11164770B1 (en) | 2010-11-18 | 2021-11-02 | Monolithic 3D Inc. | Method for producing a 3D semiconductor memory device and structure |
US11901210B2 (en) | 2010-11-18 | 2024-02-13 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with memory |
US11094576B1 (en) | 2010-11-18 | 2021-08-17 | Monolithic 3D Inc. | Methods for producing a 3D semiconductor memory device and structure |
US11121021B2 (en) | 2010-11-18 | 2021-09-14 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US11508605B2 (en) | 2010-11-18 | 2022-11-22 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor memory device and structure |
US11443971B2 (en) | 2010-11-18 | 2022-09-13 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with memory |
US11804396B2 (en) | 2010-11-18 | 2023-10-31 | Monolithic 3D Inc. | Methods for producing a 3D semiconductor device and structure with memory cells and multiple metal layers |
US11923230B1 (en) | 2010-11-18 | 2024-03-05 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with bonding |
US11521888B2 (en) | 2010-11-18 | 2022-12-06 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with high-k metal gate transistors |
US11784082B2 (en) | 2010-11-18 | 2023-10-10 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with bonding |
US11355381B2 (en) | 2010-11-18 | 2022-06-07 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor memory device and structure |
US11031275B2 (en) | 2010-11-18 | 2021-06-08 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with memory |
US11735462B2 (en) | 2010-11-18 | 2023-08-22 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with single-crystal layers |
US11004719B1 (en) | 2010-11-18 | 2021-05-11 | Monolithic 3D Inc. | Methods for producing a 3D semiconductor memory device and structure |
US11355380B2 (en) | 2010-11-18 | 2022-06-07 | Monolithic 3D Inc. | Methods for producing 3D semiconductor memory device and structure utilizing alignment marks |
US11615977B2 (en) | 2010-11-18 | 2023-03-28 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor memory device and structure |
US11482439B2 (en) | 2010-11-18 | 2022-10-25 | Monolithic 3D Inc. | Methods for producing a 3D semiconductor memory device comprising charge trap junction-less transistors |
US11854857B1 (en) | 2010-11-18 | 2023-12-26 | Monolithic 3D Inc. | Methods for producing a 3D semiconductor device and structure with memory cells and multiple metal layers |
US11610802B2 (en) | 2010-11-18 | 2023-03-21 | Monolithic 3D Inc. | Method for producing a 3D semiconductor device and structure with single crystal transistors and metal gate electrodes |
US11482438B2 (en) | 2010-11-18 | 2022-10-25 | Monolithic 3D Inc. | Methods for producing a 3D semiconductor memory device and structure |
US11018042B1 (en) | 2010-11-18 | 2021-05-25 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor memory device and structure |
US10388568B2 (en) | 2011-06-28 | 2019-08-20 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and system |
US11594473B2 (en) | 2012-04-09 | 2023-02-28 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with metal layers and a connective path |
US11476181B1 (en) | 2012-04-09 | 2022-10-18 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with metal layers |
US11616004B1 (en) | 2012-04-09 | 2023-03-28 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with metal layers and a connective path |
US11410912B2 (en) | 2012-04-09 | 2022-08-09 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device with vias and isolation layers |
US11164811B2 (en) | 2012-04-09 | 2021-11-02 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device with isolation layers and oxide-to-oxide bonding |
US10600888B2 (en) | 2012-04-09 | 2020-03-24 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device |
US11694944B1 (en) | 2012-04-09 | 2023-07-04 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with metal layers and a connective path |
US11735501B1 (en) | 2012-04-09 | 2023-08-22 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with metal layers and a connective path |
US11088050B2 (en) | 2012-04-09 | 2021-08-10 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device with isolation layers |
US11881443B2 (en) | 2012-04-09 | 2024-01-23 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with metal layers and a connective path |
US11018116B2 (en) | 2012-12-22 | 2021-05-25 | Monolithic 3D Inc. | Method to form a 3D semiconductor device and structure |
US11217565B2 (en) | 2012-12-22 | 2022-01-04 | Monolithic 3D Inc. | Method to form a 3D semiconductor device and structure |
US11961827B1 (en) | 2012-12-22 | 2024-04-16 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with metal layers |
US11916045B2 (en) | 2012-12-22 | 2024-02-27 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with metal layers |
US11309292B2 (en) | 2012-12-22 | 2022-04-19 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with metal layers |
US11063024B1 (en) | 2012-12-22 | 2021-07-13 | Monlithic 3D Inc. | Method to form a 3D semiconductor device and structure |
US11784169B2 (en) | 2012-12-22 | 2023-10-10 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with metal layers |
US11967583B2 (en) | 2012-12-22 | 2024-04-23 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with metal layers |
US11430668B2 (en) | 2012-12-29 | 2022-08-30 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with bonding |
US10115663B2 (en) | 2012-12-29 | 2018-10-30 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US11004694B1 (en) | 2012-12-29 | 2021-05-11 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US11177140B2 (en) | 2012-12-29 | 2021-11-16 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US10903089B1 (en) | 2012-12-29 | 2021-01-26 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US11430667B2 (en) | 2012-12-29 | 2022-08-30 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with bonding |
US11087995B1 (en) | 2012-12-29 | 2021-08-10 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US10892169B2 (en) | 2012-12-29 | 2021-01-12 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US10651054B2 (en) | 2012-12-29 | 2020-05-12 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US10600657B2 (en) | 2012-12-29 | 2020-03-24 | Monolithic 3D Inc | 3D semiconductor device and structure |
US11869965B2 (en) | 2013-03-11 | 2024-01-09 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with metal layers and memory cells |
US11935949B1 (en) | 2013-03-11 | 2024-03-19 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with metal layers and memory cells |
US10325651B2 (en) | 2013-03-11 | 2019-06-18 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device with stacked memory |
US8902663B1 (en) | 2013-03-11 | 2014-12-02 | Monolithic 3D Inc. | Method of maintaining a memory state |
US10840239B2 (en) | 2014-08-26 | 2020-11-17 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US11923374B2 (en) | 2013-03-12 | 2024-03-05 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure with metal layers |
US11088130B2 (en) | 2014-01-28 | 2021-08-10 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US11398569B2 (en) | 2013-03-12 | 2022-07-26 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US10224279B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-03-05 | Monolithic 3D Inc. | Semiconductor device and structure |
US11487928B2 (en) | 2013-04-15 | 2022-11-01 | Monolithic 3D Inc. | Automation for monolithic 3D devices |
US11574109B1 (en) | 2013-04-15 | 2023-02-07 | Monolithic 3D Inc | Automation methods for 3D integrated circuits and devices |
US11270055B1 (en) | 2013-04-15 | 2022-03-08 | Monolithic 3D Inc. | Automation for monolithic 3D devices |
US11720736B2 (en) | 2013-04-15 | 2023-08-08 | Monolithic 3D Inc. | Automation methods for 3D integrated circuits and devices |
US9021414B1 (en) | 2013-04-15 | 2015-04-28 | Monolithic 3D Inc. | Automation for monolithic 3D devices |
US11341309B1 (en) | 2013-04-15 | 2022-05-24 | Monolithic 3D Inc. | Automation for monolithic 3D devices |
US11030371B2 (en) | 2013-04-15 | 2021-06-08 | Monolithic 3D Inc. | Automation for monolithic 3D devices |
US10297586B2 (en) | 2015-03-09 | 2019-05-21 | Monolithic 3D Inc. | Methods for processing a 3D semiconductor device |
US11107808B1 (en) | 2014-01-28 | 2021-08-31 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US11031394B1 (en) | 2014-01-28 | 2021-06-08 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US11056468B1 (en) | 2015-04-19 | 2021-07-06 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US10381328B2 (en) | 2015-04-19 | 2019-08-13 | Monolithic 3D Inc. | Semiconductor device and structure |
US10825779B2 (en) | 2015-04-19 | 2020-11-03 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US11011507B1 (en) | 2015-04-19 | 2021-05-18 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US11956952B2 (en) | 2015-08-23 | 2024-04-09 | Monolithic 3D Inc. | Semiconductor memory device and structure |
US11978731B2 (en) | 2015-09-21 | 2024-05-07 | Monolithic 3D Inc. | Method to produce a multi-level semiconductor memory device and structure |
WO2017053329A1 (en) | 2015-09-21 | 2017-03-30 | Monolithic 3D Inc | 3d semiconductor device and structure |
US10522225B1 (en) | 2015-10-02 | 2019-12-31 | Monolithic 3D Inc. | Semiconductor device with non-volatile memory |
US11114464B2 (en) | 2015-10-24 | 2021-09-07 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US11296115B1 (en) | 2015-10-24 | 2022-04-05 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor device and structure |
US10418369B2 (en) | 2015-10-24 | 2019-09-17 | Monolithic 3D Inc. | Multi-level semiconductor memory device and structure |
US10847540B2 (en) | 2015-10-24 | 2020-11-24 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor memory device and structure |
US11114427B2 (en) | 2015-11-07 | 2021-09-07 | Monolithic 3D Inc. | 3D semiconductor processor and memory device and structure |
US11937422B2 (en) | 2015-11-07 | 2024-03-19 | Monolithic 3D Inc. | Semiconductor memory device and structure |
US11711928B2 (en) | 2016-10-10 | 2023-07-25 | Monolithic 3D Inc. | 3D memory devices and structures with control circuits |
US11869591B2 (en) | 2016-10-10 | 2024-01-09 | Monolithic 3D Inc. | 3D memory devices and structures with control circuits |
US11329059B1 (en) | 2016-10-10 | 2022-05-10 | Monolithic 3D Inc. | 3D memory devices and structures with thinned single crystal substrates |
US11251149B2 (en) | 2016-10-10 | 2022-02-15 | Monolithic 3D Inc. | 3D memory device and structure |
US11812620B2 (en) | 2016-10-10 | 2023-11-07 | Monolithic 3D Inc. | 3D DRAM memory devices and structures with control circuits |
US11930648B1 (en) | 2016-10-10 | 2024-03-12 | Monolithic 3D Inc. | 3D memory devices and structures with metal layers |
US11158652B1 (en) | 2019-04-08 | 2021-10-26 | Monolithic 3D Inc. | 3D memory semiconductor devices and structures |
US11763864B2 (en) | 2019-04-08 | 2023-09-19 | Monolithic 3D Inc. | 3D memory semiconductor devices and structures with bit-line pillars |
US11296106B2 (en) | 2019-04-08 | 2022-04-05 | Monolithic 3D Inc. | 3D memory semiconductor devices and structures |
US10892016B1 (en) | 2019-04-08 | 2021-01-12 | Monolithic 3D Inc. | 3D memory semiconductor devices and structures |
US11018156B2 (en) | 2019-04-08 | 2021-05-25 | Monolithic 3D Inc. | 3D memory semiconductor devices and structures |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10247664A (ja) * | 1997-03-04 | 1998-09-14 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置およびその製造方法 |
JPH11214640A (ja) * | 1998-01-28 | 1999-08-06 | Hitachi Ltd | 半導体記憶素子、半導体記憶装置とその制御方法 |
US6483736B2 (en) * | 1998-11-16 | 2002-11-19 | Matrix Semiconductor, Inc. | Vertically stacked field programmable nonvolatile memory and method of fabrication |
US6534781B2 (en) * | 2000-12-26 | 2003-03-18 | Ovonyx, Inc. | Phase-change memory bipolar array utilizing a single shallow trench isolation for creating an individual active area region for two memory array elements and one bipolar base contact |
US6531373B2 (en) * | 2000-12-27 | 2003-03-11 | Ovonyx, Inc. | Method of forming a phase-change memory cell using silicon on insulator low electrode in charcogenide elements |
US6800563B2 (en) * | 2001-10-11 | 2004-10-05 | Ovonyx, Inc. | Forming tapered lower electrode phase-change memories |
US6545903B1 (en) * | 2001-12-17 | 2003-04-08 | Texas Instruments Incorporated | Self-aligned resistive plugs for forming memory cell with phase change material |
US6909656B2 (en) | 2002-01-04 | 2005-06-21 | Micron Technology, Inc. | PCRAM rewrite prevention |
US6579760B1 (en) * | 2002-03-28 | 2003-06-17 | Macronix International Co., Ltd. | Self-aligned, programmable phase change memory |
JP4190238B2 (ja) * | 2002-09-13 | 2008-12-03 | 株式会社ルネサステクノロジ | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP4541651B2 (ja) * | 2003-03-13 | 2010-09-08 | シャープ株式会社 | 抵抗変化機能体、メモリおよびその製造方法並びに半導体装置および電子機器 |
JP2005032855A (ja) * | 2003-07-09 | 2005-02-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体記憶装置及びその製造方法 |
US7471552B2 (en) * | 2003-08-04 | 2008-12-30 | Ovonyx, Inc. | Analog phase change memory |
JP4567963B2 (ja) * | 2003-12-05 | 2010-10-27 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路装置 |
JP2005203389A (ja) * | 2004-01-13 | 2005-07-28 | Sharp Corp | 不揮発性半導体記憶装置の製造方法 |
US7034332B2 (en) * | 2004-01-27 | 2006-04-25 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Nanometer-scale memory device utilizing self-aligned rectifying elements and method of making |
JP2005244145A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-09-08 | Sharp Corp | 半導体記憶装置及びその製造方法 |
DE102004014487A1 (de) | 2004-03-24 | 2005-11-17 | Infineon Technologies Ag | Speicherbauelement mit in isolierendes Material eingebettetem, aktiven Material |
US7038231B2 (en) * | 2004-04-30 | 2006-05-02 | International Business Machines Corporation | Non-planarized, self-aligned, non-volatile phase-change memory array and method of formation |
KR100656280B1 (ko) * | 2004-04-30 | 2006-12-11 | 주식회사 하이닉스반도체 | 트랜지스터와 병렬 연결된 상변화 소자를 포함하는 상변화메모리 소자 |
KR100593607B1 (ko) * | 2004-05-13 | 2006-06-28 | 학교법인 동국대학교 | 강유전 반도체 물질을 포함하는 비휘발성 반도체 메모리소자 및 그 반도체 메모리 소자의 데이터 기입, 소거 및판독 방법 |
JP5007120B2 (ja) * | 2004-05-25 | 2012-08-22 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
US7411208B2 (en) * | 2004-05-27 | 2008-08-12 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Phase-change memory device having a barrier layer and manufacturing method |
KR100997783B1 (ko) * | 2004-06-30 | 2010-12-02 | 주식회사 하이닉스반도체 | 상변환 기억 소자 및 그의 제조방법 |
KR100655796B1 (ko) * | 2004-08-17 | 2006-12-11 | 삼성전자주식회사 | 상변화 메모리 장치 및 그 제조 방법 |
KR100719346B1 (ko) * | 2005-04-19 | 2007-05-17 | 삼성전자주식회사 | 저항 메모리 셀, 그 형성 방법 및 이를 이용한 저항 메모리배열 |
JP4490323B2 (ja) * | 2005-04-20 | 2010-06-23 | 日本電信電話株式会社 | メモリ装置 |
US7714315B2 (en) * | 2006-02-07 | 2010-05-11 | Qimonda North America Corp. | Thermal isolation of phase change memory cells |
-
2006
- 2006-03-02 US US11/366,151 patent/US7362608B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-02-28 EP EP07004166A patent/EP1830362A3/en not_active Withdrawn
- 2007-03-01 JP JP2007051384A patent/JP2007273962A/ja active Pending
- 2007-03-02 KR KR1020070020883A patent/KR100807677B1/ko active IP Right Grant
- 2007-03-02 CN CN2007101006984A patent/CN101064331B/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101104443B1 (ko) * | 2008-02-12 | 2012-01-12 | 파나소닉 주식회사 | 비휘발성 반도체 기억 장치 및 그 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7362608B2 (en) | 2008-04-22 |
KR100807677B1 (ko) | 2008-02-28 |
EP1830362A3 (en) | 2008-06-25 |
JP2007273962A (ja) | 2007-10-18 |
CN101064331B (zh) | 2010-05-26 |
CN101064331A (zh) | 2007-10-31 |
EP1830362A2 (en) | 2007-09-05 |
US20070206408A1 (en) | 2007-09-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100807677B1 (ko) | 자기-정렬된 처리를 이용하여 제조된 상 변화 메모리 | |
KR100805857B1 (ko) | 자기-정렬된 처리를 이용하여 제조된 상 변화 메모리 | |
KR100862675B1 (ko) | 자기-정렬된 처리를 이용하여 제조된 상 변화 메모리 | |
US7545668B2 (en) | Mushroom phase change memory having a multilayer electrode | |
EP1816680B1 (en) | Thermal isolation of phase change memory cells | |
US7838860B2 (en) | Integrated circuit including vertical diode | |
US7869257B2 (en) | Integrated circuit including diode memory cells | |
US9064794B2 (en) | Integrated circuit including vertical diode | |
US20090303780A1 (en) | Integrated circuit including an array of diodes coupled to a layer of resistance changing material | |
TWI455382B (zh) | 包含二極體記憶體單元的積體電路 | |
US7671354B2 (en) | Integrated circuit including spacer defined electrode | |
US8039299B2 (en) | Method for fabricating an integrated circuit including resistivity changing material having a planarized surface | |
US7745812B2 (en) | Integrated circuit including vertical diode | |
US8084759B2 (en) | Integrated circuit including doped semiconductor line having conductive cladding | |
US7829879B2 (en) | Integrated circuit including U-shaped access device | |
US7696510B2 (en) | Integrated circuit including memory having reduced cross talk |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130207 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140206 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150213 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160212 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170209 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180209 Year of fee payment: 11 |