KR20070007506A

KR20070007506A - 역류방지장치를 갖춘 반도체 제조장치

Info

Publication number: KR20070007506A
Application number: KR1020050062169A
Authority: KR
Inventors: 한성석
Original assignee: 동부일렉트로닉스 주식회사
Priority date: 2005-07-11
Filing date: 2005-07-11
Publication date: 2007-01-16

Abstract

본 발명은 진공펌프와 프로세스 챔버 사이의 관에 역류방지장치를 설치한 반도체 제조장치에 관한 것이다.

반도체 제조공정에서 프로세스 챔버는 진공상태에서 공정을 진행하게 되는데, 프로세스 챔버 내부 진공도는 프로세스 챔버와 진공펌프 사이에 설치된 자동압력제어기를 통하여 제어한다.

공정 진행중 펌프에 이상이 생기면 자동압력제어기는 전기적 신호를 내보내어 밸브를 닫아 프로세스 챔버 내부의 진공상태를 유지한다. 그러나, 전기적 신호를 받고 밸브를 닫을 때는 이미 압력차에 의하여 진공펌프쪽 관 내의 공기가 오염 물질과 함께 프로세스 챔버 내부로 유입되어 공정 진행중인 웨이퍼에 치명적인 손상을 주게 되는 문제점이 있었다.

본 발명은 진공펌프와 프로세스 챔버 사이의 관에 역류방지장치를 설치하여 갑작스런 진공펌프의 정지시 프로세스 챔버 내로 진공펌프관 내부의 공기가 역류되는 것을 방지하는 데 발명의 특징이 있다.

베이스, 걸림턱

Description

역류방지장치를 갖춘 반도체 제조장치{A semiconductor making device equipped back stream preventing device}

도 1은 종래 반도체 제조장치의 진공조성장치의 구성도

도 2는 본 발명에 따른 반도체 제조장치의 진공조성장치의 구성도

도 3은 하부 걸림턱에 베이스가 안착된 역류방지장치의 확대단면도 및 A-A' 단면도

<도면의 주요부분에 대한 부호 설명>

1: 프로세스 챔버 2: 관

3: 주 밸브 4, 5: 보조 밸브

6: 자동압력제어기 7: 보조 진공펌프

8: 주 진공펌프 9: 역류방지장치

11: 상부 걸림턱 12: 오링

13: 하부 걸림턱 14: 베이스

15: 베이스 상부 16: 중심 축

17: 베이스 하부 20: 틈

21: 끼움부 2 22a, 22b: 결합부

100: 진공조성장치

본 발명은 반도체 제조장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 진공펌프와 프로세스 챔버 사이의 관에 역류방지장치를 설치하여 진공펌프가 갑자기 멈추더라도 프로세스 챔버내로 공기가 유입되는 것을 방지하는 역류방지장치를 갖춘 반도체 제조장치에 관한 것이다.

프로세스 챔버는 고진공 상태에서 공정을 진행한다. 이러한 고진공 환경을 조성하기 위하여는 일반적으로 진공펌프와 밸브가 사용된다.

도 1은 종래 프로세스 챔버의 진공조성장치의 구성도로서, 상기 진공조성장치(100)는 프로세스 챔버(1), 보조 진공펌프(7), 주 진공펌프(8), 자동압력제어기(6), 주밸브 (3)및 보조밸브(4, 5)들로 구성된다.

상기 프로세스 챔버(1)와 진공펌프(7, 8)는 관으로 연결되어 있으며 프로세스 챔버(1) 내부의 진공상태는 진공펌프(7, 8)의 작동으로 이루어진다. 진공펌프(7, 8)는 주 진공펌프(8)와 보조 진공펌프(7)로 나누어지는 데, 주 진공펌프(8)는 진공도를 급격하게 증가시킬 때, 보조 진공펌프(7)는 섬세한 진공도를 조성하는데 사용된다.

한편, 상기 관(2)에는 주 밸브(3) 및 보조 밸브(4, 5)들이 있어 진공펌프(7, 8)와 프로세스 챔버(1) 사이의 관(2)을 밀폐 또는 개방한다.

상기 프로세스 챔버(1) 내부 진공도는 프로세스 챔버(1)와 진공펌프(7, 8) 사이에 설치된 자동압력제어기(6)를 통하여 제어하는데, 공정 진행중 진공펌프(7, 8)에 이상이 생기면 자동압력제어기(6)의 전기적 신호에 의하여 밸브(3, 4, 5)를 닫는다. 그러나, 전기적 신호를 받아 밸브(3, 4, 5)를 닫을 때는 이미 압력차에 의하여 진공펌프쪽 관 내의 공기들이 오염 물질과 함께 프로세스 챔버(1) 내부로 유입되어 공정 진행중인 웨이퍼는 치명적인 손상을 입게 되는 문제점이 있었다.

본 발명은 상기 문제점을 개선하고자 안출한 것으로서, 진공펌프와 프로세스 챔버 사이의 관에 역류방지장치를 설치하여 펌프의 정지시 압력차에 의한 베이스의 이동으로 프로세스 챔버 내부로 진공펌프관 내부의 공기가 역류되는 것을 방지하는 역류방지장치를 설치한 반도체 제조장치를 제공하고자 함에 발명의 목적이 있다.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 진공펌프와 프로세스 챔버사이의 관에 역류방지장치를 설치하는 것으로서, 상기 역류방지장치는 상부 걸림턱과 그 하부에 부착된 오링, 하부 걸림턱, 상기 상·하부 걸림턱 사이에 위치하는 베이스로 구성된 것을 특징으로 한다.

이하 본 발명의 바람직한 일실시예에 대한 구성 및 작용을 예시도면에 의거하여 상세히 설명한다.

도 2는 본 발명에 따른 반도체 제조장치의 구성도로서, 프로세스 챔버(1)와 진공펌프(7, 8) 사이의 관(2)에 역류방지장치(9)가 설치된 것을 볼 수 있다. 상기 역류방지장치(9)는 프로세스 챔버(1)와 진공펌프(7, 8) 사이의 관(2)이라면 어디에 설치하더라도 무방하다.

도 3은 하부 걸림턱에 베이스가 안착된 역류방지장치 확대단면도 및 A-A' 단면도로서, 역류방지장치(9)는 상부 걸림턱(11), 오링(12), 하부 걸림턱(13), 베이스(14)로 구성되어 있으며, 결합부(22a, 22b)에 의해서 관(2)과 결합되어 있다.

상기 상부 걸림턱(11)은 베이스(14)의 상부와 밀착하기 위하여 하부에는 오링(12)이 부착되어 있으며 관(2)의 직경을 좁히는 역할을 한다. 가운데 부분은 공기의 소통이 가능하나 가장자리는 밀폐된 구조이다. 상기 오링(12)은 공기의 역류시 베이스(14)와 밀착하여 프로세스 챔버(1) 내부의 진공상태를 유지시키는 역할을 한다.

상기 하부 걸림턱(13)은 베이스(14)를 받치는 역할을 하는 것으로 상기 상부 걸림턱(11)과는 달리 베이스(14)가 상면에 있더라도 공기의 유·출입이 가능한 구 조로서, 역류방지장치(9) 내벽과 일체적으로 형성될 수 도 있으나, 끼움부(21)에 의하여 끼움 결합을 하도록 형성하는 것이 하부 걸림턱(13)의 제조면에서 용이할 것이다.

A-A' 단면도에서 도시하는 바와 같이, 베이스(14)의 외곽에 베이스(14)를 받치는 하부 걸림턱(13)이 있으며, 상부 걸림턱(11)과는 달리 공기가 드나들 수 있는 틈(20)이 형성되어 있다. 또한 하부 걸림턱(11)의 중심에는 베이스(14)의 중심축(16)을 가이드할 수 있는 통로가 있어 베이스(14)가 승·하강할 때 위치가 틀어지지 않도록 한다.

상기 베이스(14)는 상부 걸림턱(11)과 하부 걸림턱(13) 사이에 위치하며, 우산형의 모양을 이루고 있다. 베이스의 상부(15)는 단면이 부채꼴인 모양으로 진공펌프(7, 8)쪽 기압이 높을 경우 상부 걸림턱(11) 하부의 오링(12)과 밀착되어 프로세스 챔버(1)의 진공상태를 유지시킨다.

베이스(14)는 작은 기압차에 의해서도 상승하여야 하기 때문에 가벼운 재질을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 하부 걸림턱(13)과 상부 걸림턱(11) 사이는 될 수 있는 한 좁게하여 베이스(13)가 상승 및 하강시 뒤틀려질 가능성을 줄이도록 한다.

한편, 상기 결합부(22a, 22b)는 고압을 견딜 수 있도록 견고히 결합되는 구조여야 하는 바, 나사 결합 형식을 취하는 것이 바람직할 것이다.

이상의 구성을 바탕으로 역류방지장치(9)의 작동방법을 설명하면, 우선 진공펌프(7, 8)의 작동으로 진공펌프(7, 8)쪽 기압이 프로세스 챔버(1)쪽 기압보다 낮을 때에는 베이스(14)가 하부 걸림턱(13)에 안착하게 되고, 하부 걸림턱(13)은 틈(20)이 있어 공기의 소통이 원활하기 때문에 프로세스 챔버(1)의 진공과정은 계속 이루어 진다.

이 후 진공펌프(7, 8)가 갑자기 정지하는 경우 진공펌프(7, 8)쪽 관 내부의 기압이 프로세스 챔버(1)쪽 관 내부의 기압보다 높아져 공기는 프로세스 챔버(1)쪽으로 유입되고, 이때 기압차에 의하여 베이스(14)도 상승하게 된다. 상승된 베이스(14)가 상부 걸림턱(11) 하부의 오링(12)과 밀착하므로 프로세스 챔버(1)쪽 관과 진공펌프(7, 8)쪽 관 내부의 기압차에도 불구하고 진공펌프(7, 8)쪽 관 내부의 공기는 프로세스 챔버(1) 내부로 유입되지 않는다.

상기한 바와 같이 본 발명은 진공펌프와 프로세스 챔버 사이의 관에 역류방지장치를 설치하여 펌프의 정지시 압력차에 의한 베이스의 이동으로 프로세스 챔버 내부로 진공펌프관 내부의 공기가 역류되는 것을 방지하는 장점이 있다.

Claims

프로세스 챔버와;

상기 프로세스 챔버와 연결된 관과;

상기 관에 연결되어 프로세스 챔버 내부의 진공상태를 조성하는 진공펌프와;

상기 관의 원통형 몸체의 내주면측으로 중앙부가 관통되도록 돌출되는 환형의 상부 걸림턱과;

상기 상부 걸림턱 하면에 베이스와 밀착이 가능하도록 형성된 오링과;

상기 상부 걸림턱 하부에 이격되어 위치하며 베이스가 안착되더라도 공기의 소통이 원활한 틈을 형성하고 있는 하부 걸림턱과;

상기 상부 걸림턱과 하부 걸림턱 사이에 위치하며 기압차에 의하여 상기 상부와 하부 걸림턱으로 이동하는 베이스를 포함하는 역류방지장치를 갖춘 반도체 제조장치.