KR20070001432A - Composition for performing electrode of plasma display panel, electrode prepared from the same, and plasma display panel comprising the electrode - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 일 예를 모식적으로 나타낸 부분 분해 사시도이다.1 is a partially exploded perspective view schematically showing an example of the plasma display panel of the present invention.
도 2는 플라즈마 디스플레이 패널의 TCP 연결부의 단면을 나타낸 모식도이다.2 is a schematic diagram showing a cross section of a TCP connection of a plasma display panel.
본 발명은 전극의 표면 조도를 제어함으로써 개선된 이방성 도전 필름과의 접착성을 가져 패널의 내전압 및 패널 품위를 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널용 전극 형성용 조성물, 이로부터 제조되는 전극 및 상기 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.The present invention provides a composition for forming an electrode for a plasma display panel, an electrode manufactured therefrom, and the electrode, which can improve the breakdown voltage and panel quality of the panel by improving the adhesion with the anisotropic conductive film by controlling the surface roughness of the electrode. It relates to a plasma display panel comprising.
일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널의 전극으로는 후막 공법에 의해 은, 크롬, 구리 또는 알루미늄 등으로 형성된 박막 전극이 사용된다. 후막 공법은 감광 성 도전 페이스트를 사용하여 노광 및 현상을 통해 패턴을 형성하는 방법으로, 이때 재료 및 공정 조건에 따라 표면 조도(roughness) 가 달라지며, 이는 패널의 특성에 큰 영향을 미친다.In general, a thin film electrode formed of silver, chromium, copper or aluminum by a thick film method is used as an electrode of a plasma display panel. The thick film method is a method of forming a pattern through exposure and development using a photosensitive conductive paste, wherein the surface roughness varies depending on the material and process conditions, which greatly affects the characteristics of the panel.
전극은 플라즈마 디스플레이 패널의 단자부에서 이방성 도전 필름(Anisotropic Conductive Film: ACF) 에 의해 TCP(Tape Carrier Package)와 같은 드라이버 IC 패키지와 연결된다. 이때 이방성 도전성 필름과 전극과의 접착성이 떨어지면 공기주머니(air pocket)가 발생하고 전극 형성 금속 원자의 마이그레이션(migration) 등과 같은 문제의 원인이 된다. 또한 저항이 상승하게 되어 패널의 안정성이 낮아지게 된다.The electrode is connected to a driver IC package such as a tape carrier package (TCP) by an anisotropic conductive film (ACF) at the terminal portion of the plasma display panel. At this time, when the adhesion between the anisotropic conductive film and the electrode is inferior, an air pocket occurs and causes problems such as migration of the electrode-forming metal atoms. In addition, the resistance rises, which lowers the stability of the panel.
전극과 이방성 도전 필름과의 밀착성은 전극의 표면 조도에 따라 좌우되며, 전극의 표면 형상에 따라 패널의 내전압 등의 패널 특성이 영향을 받는다. 따라서, 이러한 문제를 해결하기 위해서는 전극 표면의 형상에 대한 제어가 필요하다.The adhesion between the electrode and the anisotropic conductive film depends on the surface roughness of the electrode, and the panel characteristics such as the breakdown voltage of the panel are affected by the surface shape of the electrode. Therefore, in order to solve this problem, it is necessary to control the shape of the electrode surface.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 전극의 표면 조도를 제어함으로써 개선된 이방성 도전 필름과의 접착성을 가져 패널의 내전압 및 패널 품위를 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널용 전극 형성 조성물을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to control the surface roughness of the electrode, thereby improving the breakdown voltage and panel quality of the panel having improved adhesion to the anisotropic conductive film. It is to provide an electrode forming composition.
본 발명의 다른 목적은 상기 조성물로부터 제조되는 전극을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an electrode prepared from the composition.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 을 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a plasma display panel including the electrode.
상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 도전성 물질, 평균 입경이 0.8 내지 2㎛인 글라스 프릿(glass frit), 감광성 바인더, 가교제, 광 개시제 및 용매를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널용 전극 형성 조성물을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides an electrode forming composition for a plasma display panel comprising a conductive material, a glass frit having an average particle diameter of 0.8 to 2㎛, a photosensitive binder, a crosslinking agent, a photoinitiator and a solvent. do.
본 발명은 또한, 상기 전극 형성 조성물로부터 제조된 플라즈마 디스플레이패널용 전극을 제공한다.The present invention also provides an electrode for a plasma display panel manufactured from the electrode forming composition.
본 발명은 또한, 서로 대향 배치되는 제1기판 및 제2기판, 상기 제1기판에 설치된 어드레스 전극들과 이를 덮는 유전체층, 상기 제2기판에 설치되며, 투명전극 및 버스전극을 포함하는 표시 전극들과 이를 덮는 유전체층, 제1기판 및 제2기판의 사이 공간에 배치되고, 다수의 방전 셀을 구획하도록 제1기판에 설치된 격벽, 및 상기 격벽으로 구획된 방전셀의 바닥면과 격벽 측면에 도포된 형광체층을 포함하며, 상기 제1기판의 어드레스 전극 및 제2기판의 버스 전극중 어느 하나 또는 둘 모두는 상기 전극 형성 조성물로부터 제조되는 전극인 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다. The present invention also provides display electrodes including a first substrate and a second substrate disposed to face each other, an address electrode provided on the first substrate and a dielectric layer covering the first substrate, and a transparent electrode and a bus electrode provided on the second substrate. Disposed in the space between the dielectric layer covering the first substrate, the first substrate and the second substrate, and a partition wall disposed on the first substrate to partition a plurality of discharge cells, and a bottom surface and a partition wall side surface of the discharge cell partitioned by the partition wall. A plasma display panel including a phosphor layer, wherein any one or both of an address electrode of the first substrate and a bus electrode of the second substrate is an electrode manufactured from the electrode forming composition.
이하, 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
종래 플라즈마 디스플레이 패널에서는 전극과 이방성 도전성 필름과의 접착성이 떨어지면 공기주머니(air pocket)가 발생하게 되고, 전극 형성 금속 원자의 마이그레이션(migration) 등과 같은 문제가 발생하게 된다. 이에 따라 저항이 상승하여 패널의 안정성이 낮아지게 된다는 문제점이 있었다.In the conventional plasma display panel, when the adhesiveness between the electrode and the anisotropic conductive film is inferior, an air pocket is generated, and problems such as migration of electrode-forming metal atoms occur. Accordingly, there is a problem in that the resistance is increased to lower the stability of the panel.
이에 대해, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 전극 형성 조성물중에 포함되는 글라스 프릿의 입자 크기를 제어함으로써 전극의 표면 조도 및 에지-컬을 제어하고, 이를 통해 이방성 도전 필름과의 접착성을 향상시켜 플라즈마 디스플레이 패널의 품위를 개선할 수 있었다.On the other hand, the plasma display panel of the present invention controls the surface roughness and the edge-curl of the electrode by controlling the particle size of the glass frit included in the electrode forming composition, thereby improving the adhesiveness with the anisotropic conductive film, thereby improving the plasma display. The panel's quality could be improved.
즉, 본 발명은 a) 도전성 물질, b) 평균 입경이 0.8 내지 2㎛인 글라스 프릿, c) 감광성 바인더, d) 가교제, e) 광 개시제 및 f) 용매를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널용 전극 형성용 조성물을 제공한다. That is, the present invention is for forming an electrode for a plasma display panel comprising a) a conductive material, b) a glass frit having an average particle diameter of 0.8 to 2 μm, c) a photosensitive binder, d) a crosslinking agent, e) a photoinitiator and f) a solvent. To provide a composition.
이하 본 발명의 일 실시형태에 따른 전극 형성용 조성물의 구성물질에 대해 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the constituent materials of the composition for forming an electrode according to the exemplary embodiment of the present invention will be described in more detail.
a) 도전성 물질a) conductive material
상기 도전성 물질은 전극을 구성하는 금속 물질로, 어드레스 전극 및 버스 전극에 통상적으로 사용되는 금속 물질을 사용할 수 있으며, 구체적으로는 은(Ag), 금(Au), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 니켈(Ni), 크롬(Cr) 및 은-팔라듐 합금(Ag-Pd)으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 1종 이상의 금속 분말을 사용할 수 있다. 그 중에서도 대기 중에서 소성 할 경우 산화에 의한 도전성의 저하가 생기지 않고 비교적 저렴한 Ag를 사용하는 것이 보다 바람직하다. The conductive material may be a metal material constituting an electrode, and may be a metal material commonly used for an address electrode and a bus electrode. Specifically, silver (Ag), gold (Au), aluminum (Al), and copper (Cu) may be used. ), At least one metal powder selected from the group consisting of nickel (Ni), chromium (Cr), and silver-palladium alloy (Ag-Pd) may be used. Especially, when baking in air | atmosphere, it is more preferable to use Ag which is comparatively inexpensive, without reducing the electroconductivity by oxidation.
상기 도전성 물질은 입상형, 구형 또는 플레이크형 등 그 형상에 있어서 특별히 한정되지 않으나 구형인 것이 바람직하며, 단독으로 또는 2종 이상의 혼합하여 사용할 수도 있다. 또한 상기 도전성 물질은 0.1 내지 10 ㎛의 평균 입경을 갖는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 0.2 내지 5 ㎛을 가질 수 있다.The conductive material is not particularly limited in shape, such as granular, spherical or flake type, but is preferably spherical, and may be used alone or in combination of two or more thereof. In addition, the conductive material preferably has an average particle diameter of 0.1 to 10 ㎛, more preferably may have a 0.2 to 5 ㎛.
이러한 도전성 물질은 전극 형성용 조성물 총중량에 대해 60 내지 80 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 65 내지 75중량%이다. 도전성 물질의 함량이 60 중량% 미만이면 소성시 도전막의 선폭 수축이 심하고 단선이 일어날 우려가 있고, 80 중량%를 초과하게 되면 인쇄성이 불량하거나 광 투과의 저하에 의해 불충분한 가교 반응에 의해 원하는 패턴을 얻기 어렵기 때문에 상기 함량 범위 내에서 사용하는 것이 바람직하다.Such a conductive material is preferably included in 60 to 80% by weight, more preferably 65 to 75% by weight relative to the total weight of the composition for forming an electrode. If the content of the conductive material is less than 60% by weight, the shrinkage of the line width of the conductive film may be severe and disconnection may occur during firing. If the content of the conductive material exceeds 80% by weight, the printability may be poor or may be insufficient due to insufficient crosslinking reaction due to a decrease in light transmission. Since it is difficult to obtain a pattern, it is preferable to use within the above content range.
b) 글라스 프릿(glass b) glass frit fritfrit ))
상기 글라스 프릿은 소성 공정중 도전성 분말과 기판 사이에 접착력을 제공하는 것으로, 상기 글라스 프릿으로는 구체적으로, 산화납-산화붕소-산화규소계(PbO-B2O3-SiO2), 산화납-산화붕소-산화규소-산화알루미늄계(PbO-B2O3-SiO2-Al2O3), 산화아연-산화붕소-산화규소계(ZnO-B2O3-SiO2), 산화아연-산화붕소-산화규소-산화알루미늄계(ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3), 산화납- 산화아연-산화붕소-산화규소계(PbO-ZnO-B2O3-SiO2), 산화납-산화아연-산화붕소-산화규소-산화알루미늄계(PbO-ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3), 산화비스무스-산화붕소-산화규소계(Bi2O3-B2O3-SiO2), 산화비스무스-산화붕소-산화규소-산화알루미늄계(Bi2O3-B2O3-SiO2-Al2O3), 산화비스무스-산화아연-산화붕소-산화규소계(Bi2O3-ZnO-B2O3-SiO2), 및 산화비스무스-산화아연-산화붕소-산화규소-산화알루미늄계(Bi2O3-ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3) 로 이루어진 그룹 중에서 선택된 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. The glass frit provides adhesion between the conductive powder and the substrate during the firing process, and specifically, the glass frit includes lead oxide, boron oxide, silicon oxide (PbO-B 2 O 3 -SiO 2 ), and lead oxide. -Boron Oxide-Silicon Oxide-Aluminum Oxide (PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -Al 2 O 3 ), Zinc Oxide-Boron Oxide-Silicon Oxide (ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 ), Zinc Oxide -Boron Oxide-Silicon Oxide-Aluminum Oxide (ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 -Al 2 O 3 ), Lead Oxide-Zinc Oxide-Boron Oxide-Silicon Oxide (PbO-ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 ), lead oxide, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide, aluminum oxide type (PbO-ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 -Al 2 O 3 ), bismuth oxide, boron oxide, silicon oxide type (Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2 ), bismuth oxide-boron oxide-silicon oxide-aluminum oxide-based (Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2 -Al 2 O 3 ), bismuth oxide-zinc oxide-oxidation boron - silicon oxide (Bi 2 O 3 -ZnO-B 2 O 3 -SiO 2), and bismuth oxide - zinc oxide - boron oxide - silicon oxide - Chemistry aluminum type may be used alone or in mixture of two or more selected from the group consisting of (Bi 2 O 3 -ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 -Al 2 O 3).
상기 글라스 프릿은 0.8 내지 2 ㎛, 보다 바람직하게는 1 내지 2 ㎛의 평균 입자 크기를 갖는 것이 바람직하다. 상기 글라스 프릿의 입자 크기가 0.8 ㎛ 미만이면 표면 조도가 낮아 이방성 도전 필름과의 접착력이 저하될 우려가 있고, 2 ㎛를 초과하게 되면 소성 후 형성된 전극의 표면이 불균일하고 직진성이 저하될 우려가 있어 바람직하지 않다. 또한 상기 글라스 프릿의 입자 형상은 특별한 한정하지 않으나, 무정형인 것을 사용하는 것이 바람직하다.The glass frit preferably has an average particle size of 0.8 to 2 μm, more preferably 1 to 2 μm. If the particle size of the glass frit is less than 0.8 μm, the surface roughness may be low, and thus the adhesive force with the anisotropic conductive film may be reduced. If the glass frit exceeds 2 μm, the surface of the electrode formed after firing may have a nonuniformity and a straightness. Not desirable The particle shape of the glass frit is not particularly limited, but it is preferable to use an amorphous one.
상기 글라스 프릿은 전극 형성용 조성물 총중량에 대해 1 내지 5 중량%로 포함될 수 있으며, 보다 바람직하게는 2 내지 4중량%로 포함될 수 있다. 만약 그 함량이 1 중량% 미만이면 도전성 분말과 기판 사이의 충분한 접착력을 확보할 수 없고, 이와 반대로 5 중량%를 초과하게 되면 소성 후 형성된 전극의 전도성이 저하되므로 상기 범위 내에서 적절히 조절한다. The glass frit may be included in an amount of 1 to 5% by weight, and more preferably 2 to 4% by weight, based on the total weight of the electrode forming composition. If the content is less than 1% by weight, sufficient adhesion between the conductive powder and the substrate may not be secured. On the contrary, if the content exceeds 5% by weight, the conductivity of the electrode formed after firing may be lowered, so that it is appropriately controlled within the above range.
c) 감광성 바인더c) photosensitive binder
상기 감광성 바인더로는 광 개시제에 의해 가교가 가능하며, 전극 형성시 현상공정에 의해 쉽게 제거되는 고분자를 사용할 수 있다. The photosensitive binder may be crosslinked by a photoinitiator, and a polymer which may be easily removed by a developing process during electrode formation may be used.
구체적으로는 포토레지스트 조성 분야에서 통상적으로 사용되는 아크릴계 수지, 스티렌 수지, 노볼락 수지 또는 폴리에스테르 수지 등을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 하기의 카르복실기를 갖는 모노머 (i), 모노머 (ii) 및 모노머 (iii)으로 이루어진 그룹중에서 선택된 1종 이상의 공중합체를 사용할 수 있다.Specifically, acrylic resins, styrene resins, novolac resins or polyester resins, and the like, which are commonly used in the photoresist composition field, may be used. Preferably, monomers (i), monomers (ii) and monomers having the following carboxyl groups are used. One or more copolymers selected from the group consisting of (iii) can be used.
모노머Monomer (i): 카르복실기 함유 (i): containing carboxyl group 모노머류Monomers
아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 푸마르산, 클로톤산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산, 계피산, 숙신산모노(2-(메트)아크릴로일옥시에틸), ω-카르복시-폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트.Acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, clotonic acid, itaconic acid, citraconic acid, mesaconic acid, cinnamic acid, mono (2- (meth) acryloyloxyethyl), ω-carboxy-polycaprolactone mono ( Meth) acrylate.
모노머Monomer (ii): OH 함유 (ii): containing OH 모노머류Monomers
(메트)아크릴산2-히드록시에틸, (메트)아크릴산2-히드록시프로필, (메트)아크릴산3-히드록시프로필 등의 수산기 함유 단량체류; 및 o-히드록시스티렌, m-히드록시스티렌, p-히드록시스티렌 등의 페놀성 수산기 함유 모노머류.Hydroxyl group-containing monomers such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and 3-hydroxypropyl (meth) acrylate; And phenolic hydroxyl group-containing monomers such as o-hydroxy styrene, m-hydroxy styrene and p-hydroxy styrene.
모노머Monomer (iii): 그 밖의 공중합 가능한 (iii): other copolymerizable 모노머류Monomers
(메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산 n-부틸, (메트)아크릴산 n-라우릴, (메트)아크릴산벤질, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트 등의, 모노머 (i) 이외의 (메트)아크릴산에스테르류; 스티렌, α-메틸스티렌 등의 방향족 비닐계 모노머류; 부타디엔, 이소프렌 등의 공역 디엔류; 폴리스티렌, 폴리(메트)아크릴산메틸, 폴리(메트)아크릴산에틸, 폴리(메트)아크릴산벤질 등의 중합체 사슬의 한쪽의 말단에 (메트)아크릴로일기 등의 중합성 불포화기를 갖는 마크로 모노머류.Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, n-lauryl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) (Meth) acrylic acid esters other than monomer (i), such as an acrylate; Aromatic vinyl monomers such as styrene and α-methylstyrene; Conjugated dienes such as butadiene and isoprene; Macro monomers which have a polymerizable unsaturated group, such as (meth) acryloyl group, in one terminal of polymer chains, such as polystyrene, methyl poly (meth) acrylate, poly (meth) acrylate, and benzyl poly (meth) acrylate.
또한 상기 감광성 바인더는 감광성 도전막을 형성하기 위해 기판 위에 전극 형성용 조성물을 도포하는 경우 적절한 점도를 나타낼 수 있으며, 현상공정에서의 분해를 고려하여 수평균 분자량(Mn)이 5,000 내지 50,000인 것을 사용하는 것이 바람직하다.In addition, the photosensitive binder may exhibit an appropriate viscosity when the composition for forming an electrode is coated on a substrate to form a photosensitive conductive film, and may use a number average molecular weight (Mn) of 5,000 to 50,000 in consideration of decomposition in a developing process. It is preferable.
상기 감광성 바인더는 전극 형성용 조성물 총중량에 대해 5 내지 10 중량%, 바람직하게는 5 내지 7중량%로 포함될 수 있다. 만약 그 함량이 5 중량% 미만이면 인쇄성이 저하되고, 이와 반대로 10 중량%를 초과하게 되면 현상성이 불량하거나 소성 후 제조된 전극 주변에 잔사(residue)가 발생되는 문제가 있으므로, 상기 범위 내에서 사용하는 것이 바람직하다.The photosensitive binder may be included in 5 to 10% by weight, preferably 5 to 7% by weight based on the total weight of the composition for forming an electrode. If the content is less than 5% by weight, the printability is lowered. On the contrary, if the content is more than 10% by weight, there is a problem in that developability is poor or a residue is generated around the manufactured electrode after firing. Preference is given to using at.
d) d) 가교제Crosslinking agent
가교제는 광 개시제에 의해 라디칼 중합 반응할 수 있는 화합물이라면 특별히 한정되지 않는데, 구체적으로는 다관능 모노머, 더욱 바람직하기로는 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트, 테트라메틸올프로판 테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트 및 테트라메틸올프로판 테트라메타크릴레이트로 이루어진 그룹 중에서 선택된 1종 이상의 것을 사용할 수 있다.The crosslinking agent is not particularly limited as long as it is a compound capable of radical polymerization reaction with a photoinitiator. Specifically, the crosslinking agent is a polyfunctional monomer, more preferably ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, One or more selected from the group consisting of trimethylolpropane trimethacrylate, tetramethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and tetramethylolpropane tetramethacrylate can be used.
상기 가교제는 감광성 바인더의 함량에 대해 일정비로 첨가되는 것이 바람직하며, 보다 바람직하기로 감광성 바인더 100 중량부에 대하여 20 내지 150 중량부로 포함될 수 있다. 이를 전극 형성용 조성물에 대한 함량으로 환산하면, 전극 형성용 조성물 총 중량에 대하여 1 내지 15 중량%, 보다 바람직하게는 3 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 이때 상기 가교제의 함량이 1중량% 미만이면 전극 형성시 노광공정에서 노광 감도가 저하되고 현상공정시 전극 패턴에 흠이 생기는 경향이 있고, 이와 반대로 15중량%를 초과하면 현상 후 전극 패턴 형성 시 패턴 모양이 깨끗하지 않아 소성 후 전극 주위에 잔사를 발생시키게 되므로 상기 함량 범위 내에서 사용하는 것이 바람직하다.The crosslinking agent is preferably added at a predetermined ratio with respect to the content of the photosensitive binder, and more preferably, may be included in 20 to 150 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive binder. When converted into the content of the composition for forming an electrode, it may be included in 1 to 15% by weight, more preferably 3 to 10% by weight relative to the total weight of the composition for forming an electrode. In this case, when the content of the crosslinking agent is less than 1% by weight, the exposure sensitivity is decreased in the exposure process during electrode formation, and there is a tendency that the electrode pattern is damaged during the development process. It is preferable to use within the above content range because the shape is not clean and generates residue around the electrode after firing.
e) 광 e) optical 개시제Initiator
상기 광 개시제는 노광공정중 라디칼을 발생시키고, 상기 가교제의 가교 반응을 개시할 수 있는 화합물이라면 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, o-벤조일벤조산 메틸, 4,4-비스(디메틸아민)벤조페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐-2-페닐아세토페논, 2-메틸-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부타논, 및 2,4-디에틸티오크산톤(2,4-Diethylthioxanthone)으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 1종 이상의 것을 사용할 수 있다.The photoinitiator is not particularly limited as long as it is a compound capable of generating radicals during the exposure step and initiating a crosslinking reaction of the crosslinking agent. Specifically, methyl o-benzoyl benzoate, 4, 4-bis (dimethylamine) benzophenone, 2, 2- diethoxy acetophenone, 2, 2- dimethoxy- 2-phenyl- 2-phenylacetophenone, 2- Methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone, and 2 One or more selected from the group consisting of, 4-diethyl thioxanthone (2,4-Diethylthioxanthone) can be used.
상기 광 개시제는 상기 가교제의 함량에 대해 일정비로 포함되는 것이 바람직하며, 보다 바람직하기로 가교제 100 중량부에 대하여 10 내지 50 중량부로 포함될 수 있다. 이를 전극 형성용 조성물에 대한 함량으로 환산하면, 전극 형성용 총 중량에 대하여 0.1 내지 7 중량%, 보다 바람직하게는 0.3 내지 5중량%로 포함될 수 있다. 이때 상기 광 개시제의 함량이 상기 범위 미만이면 전극 형성용 조성물의 노광 감도가 저하되고, 상기 범위를 초과하게 되면 노광부의 선폭이 작게 나오거나 비노광부가 현상이 안되는 문제가 발생하여 깨끗한 전극 패턴을 얻을 수 없다.The photoinitiator is preferably included in a predetermined ratio with respect to the content of the crosslinking agent, more preferably may be included in 10 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the crosslinking agent. When converted into the content of the composition for forming an electrode, it may be included in 0.1 to 7% by weight, more preferably 0.3 to 5% by weight relative to the total weight for forming the electrode. At this time, when the content of the photoinitiator is less than the above range, the exposure sensitivity of the composition for forming an electrode is lowered. When the content of the photoinitiator is exceeded, a problem occurs that the line width of the exposed portion is reduced or the non-exposed portion does not develop, thereby obtaining a clean electrode pattern. Can't.
f) 용매f) solvent
상기 도전성 물질, 글라스 프릿, 감광성 바인더, 가교제, 및 광 개시제는 용매중에 분산시켜 사용할 수 있다. 상기 용매로는 이 분야에서 통상적으로 사용되는 유기 용매를 사용할 수 있으며, 구체적으로는 디에틸케톤, 메틸부틸케톤, 디프로필케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, n-펜탄올, 4-메틸-2-펜탄올, 시클로헥산올, 디아세톤알코올 등의 알코올류, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에 테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 에테르계 알코올류; 아세트산-n-부틸, 아세트산아밀 등의 포화 지방족 모노카르복실산알킬 에스테르류; 락트산에틸, 락트산-n-부틸 등의 락트산 에스테르류, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸-3-에톡시프로피오네이트, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올모노(2-메틸프로파노에이트)(2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol mono(2-methylpropanoate)등의 에테르계 에스테르류 등을 예시할 수가 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수가 있다. The conductive material, glass frit, photosensitive binder, crosslinking agent, and photoinitiator can be used by dispersing in a solvent. As the solvent, organic solvents commonly used in the art may be used. Specifically, ketones such as diethyl ketone, methyl butyl ketone, dipropyl ketone, and cyclohexanone, n-pentanol, and 4-methyl-2 Ethers such as alcohols such as pentanol, cyclohexanol and diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monoethyl ether Alcohols; Saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as acetic acid-n-butyl and amyl acetate; Lactic acid esters such as ethyl lactate and lactic acid-n-butyl, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl-3-ethoxypropionate, 2,2,4-trimethyl Ether esters such as -1,3-pentanediol mono (2-methylpropanoate) (2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol mono (2-methylpropanoate) and the like can be exemplified. It can be used individually or in mixture of 2 or more types.
상기 용매는 상기 전극 형성용 조성물에 잔부의 양으로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 절연 기판상에 적절한 점도로 감광성 도전막을 형성할 수 있도록 전극 형성용 조성물 총 중량에 대하여 4 내지 30 중량%, 가장 바람직하게는 10 내지 25 중량%로 포함될 수 있다.The solvent may be included in the remaining amount in the composition for forming an electrode, preferably 4 to 30% by weight, most preferably based on the total weight of the composition for forming an electrode so as to form a photosensitive conductive film with an appropriate viscosity on an insulating substrate. Preferably from 10 to 25% by weight.
본 발명에 따른 전극 형성용 조성물은 상기 조성 외에 각각의 목적에 따라 첨가제를 더욱 포함할 수 있다. The composition for forming an electrode according to the present invention may further include an additive according to each purpose in addition to the above composition.
이러한 첨가제로는 감도를 향상시키는 증감제, 감광성 도전 페이스트 조성물의 보존성을 향상시키는 중합 금지제 및 산화방지제, 해상도를 향상시키는 자외선 흡광제, 페이스트 내의 기포를 줄여 주는 소포제, 분상성을 향상시켜 주는 분산제, 인쇄시 막의 평탄성을 향상시키는 레벨링제, 요변 특성을 주는 가소제 등을 들 수 있다. 이들 첨가제는 반드시 사용되는 것은 아니고 필요에 따라 사용되며, 첨가시에는 일반적으로 알려진 양을 적절하게 조절하여 사용한다.Such additives include a sensitizer to improve sensitivity, a polymerization inhibitor and an antioxidant to improve the storage properties of the photosensitive conductive paste composition, an ultraviolet light absorber to improve the resolution, an antifoaming agent to reduce bubbles in the paste, and a dispersant to improve the phase separation property. And a leveling agent for improving the flatness of the film during printing, a plasticizer for giving thixotropic properties, and the like. These additives are not necessarily used, but are used as necessary, and when added, generally used amounts are adjusted appropriately.
본 발명은 또한, 상기 전극 형성용 조성물로부터 제조된 전극을 제공한다.The present invention also provides an electrode prepared from the composition for forming an electrode.
상세하게는, 도전성 물질, 평균 입경이 0.8 내지 2㎛인 글라스 프릿, 감광성 바인더, 가교제, 광 개시제 및 용매를 포함하는 전극 형성용 조성물을 제조하는 단계; 상기 전극 형성용 조성물을 절연 기판상에 코팅한 후 건조하여 감광성 도전막을 형성하는 단계; 상기 감광성 도전막을 노광 및 현상하여 전극 패턴을 형성하는 단계; 상기 전극 패턴을 소성하여 전극을 제조하는 단계를 포함하는 제조방법에 의해 제조될 수 있다.Specifically, preparing a composition for forming an electrode comprising a conductive material, a glass frit having an average particle diameter of 0.8 to 2㎛, a photosensitive binder, a crosslinking agent, a photoinitiator and a solvent; Coating the electrode-forming composition on an insulating substrate and then drying to form a photosensitive conductive film; Exposing and developing the photosensitive conductive film to form an electrode pattern; It may be produced by a manufacturing method comprising the step of manufacturing the electrode by firing the electrode pattern.
본 발명에 따른 전극의 제조방법에 설명하면, 먼저 도전성 물질, 평균 입경이 0.8 내지 2㎛인 글라스 프릿, 감광성 바인더, 가교제, 및 광 개시제를 용매에 분산시켜 전극 형성용 조성물을 제조한다. 이때 감광성 바인더와 광개시제를 먼저 혼합한 후 여기에 도전성 물질, 글라스 프릿, 가교제 및 용매에 첨가하고 분산시켜 전극 형성용 조성물을 제조할 수도 있다. 또한 상기 전극 형성용 조성물은 코팅을 용이하게 하기 위해 적합한 유동성을 갖는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 100 내지 100,00O cps, 가장 바람직하게는 500 내지 10,000 cps의 점도를 갖는 것이 바람직하다.Referring to the method of manufacturing an electrode according to the present invention, first, a conductive material, a glass frit having an average particle diameter of 0.8 to 2 μm, a photosensitive binder, a crosslinking agent, and a photoinitiator are dispersed in a solvent to prepare a composition for forming an electrode. In this case, the photosensitive binder and the photoinitiator may be mixed first, and then added to the conductive material, the glass frit, the crosslinking agent, and the solvent and dispersed therein to prepare the composition for forming an electrode. In addition, the composition for forming the electrode preferably has a suitable fluidity to facilitate the coating, more preferably has a viscosity of 100 to 100,00 cps, most preferably 500 to 10,000 cps.
상기 분산은 통상적으로 사용되는 롤 혼련기, 믹서, 호모 믹서, 볼 밀, 비드 밀 등의 혼련기를 사용하여 수행할 수 있다. The dispersion may be performed using a kneader such as a roll kneader, a mixer, a homo mixer, a ball mill, a bead mill, or the like, which is commonly used.
이어서 상기 제조된 전극 형성용 조성물을 절연 기판상에 코팅한 후 건조시켜 감광성 도전막을 형성한다.Subsequently, the prepared composition for forming an electrode is coated on an insulating substrate and then dried to form a photosensitive conductive film.
상기 절연 기판 재료로서는, 예를 들면 유리, 실리콘, 알루미나 등으로 이루 어지는 판형 부재를 사용할 수 있으며, 플라즈마 디스플레이 패널용으로는 유리 기판을 사용할 수 있다. 또한 필요에 따라서 상기 절연 기판에 실란 커플링제 등에 의한 약품 처리, 플라즈마 처리, 이온 플레이팅법, 스퍼터링법, 기상 반응법 또는 진공 증착법 등에 의한 박막 형성 처리와 같은 적절한 전처리를 할 수 있다.As the insulating substrate material, for example, a plate member made of glass, silicon, alumina, or the like can be used, and a glass substrate can be used for the plasma display panel. If necessary, the insulating substrate can be subjected to appropriate pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent, plasma treatment, ion plating, sputtering, vapor phase reaction or vacuum deposition.
코팅방법으로는 이 분야에서 사용되는 통상의 습식 코팅법을 사용할 수 있으며, 구체적으로 스크린 인쇄법, 롤코터에 의한 도포 방법, 블레이드 코터에 의한 도포 방법, 슬릿 코터에 의한 도포 방법, 커튼 코터에 의한 도포 방법, 와이어 코터에 의한 도포 방법 등을 들 수 있다. As the coating method, a conventional wet coating method used in this field may be used. Specifically, screen printing, roll coating, coating method using a blade coater, coating method using a slit coater, or curtain coating method may be used. A coating method, the coating method by a wire coater, etc. are mentioned.
상기 건조 공정은 사용되는 용매에 따라 달라지나, 일반적으로 50 내지 150℃, 보다 바람직하게는 50 내지 100℃에서, 0.5 내지 30분 동안, 보다 바람직하게는 1 내지 15분 동안 수행하는 것이 바람직하다.The drying process depends on the solvent used, but is generally carried out at 50 to 150 ° C, more preferably at 50 to 100 ° C, for 0.5 to 30 minutes, more preferably for 1 to 15 minutes.
이러한 방법으로 제조된 감광성 도전막은 플라즈마 디스플레이 패널을 구성하는 전극에서 요구되는 두께를 고려하여, 5 내지 30 ㎛, 보다 바람직하게는 8 내지 25 ㎛, 가장 바람직하게는 10 내지 20 ㎛의 두께를 갖는 것이 좋다.The photosensitive conductive film prepared in this manner has a thickness of 5 to 30 µm, more preferably 8 to 25 µm, and most preferably 10 to 20 µm, in consideration of the thickness required for the electrode constituting the plasma display panel. good.
다음으로, 절연 기판상에 형성된 감광성 도전막의 표면에 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크를 대면하고, 상기 포토 마스크를 통해 방사선을 선택적 조사(노광)하여 감광성 도전막에 패턴의 잠상을 형성한다. Next, a photomask having a predetermined pattern is formed on the surface of the photosensitive conductive film formed on the insulating substrate, and radiation is selectively irradiated (exposured) through the photomask to form a latent image of the pattern on the photosensitive conductive film.
이때 노광은 통상의 노광 장치를 이용하여 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선 및 X선으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 1종 이상의 방사선을 조사하여 수행할 수 있다. 바람직하게는 고압 수은 램프를 사용하여 400mJ/㎠ 내지 500mJ/㎠ 의 자외선을 조사하여 노광할 수 있다. In this case, the exposure may be performed by irradiating at least one type of radiation selected from the group consisting of visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, and X-ray using a conventional exposure apparatus. Preferably, a high-pressure mercury lamp may be used for exposure by irradiation of ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2 to 500 mJ / cm 2.
이어서, 이전 단계에서 노광된 감광성 도전막을 알칼리 현상액으로 현상 처리하여 전극 패턴 이외의 비노광된 감광성 도전막을 제거하고, 절연 기판상에 전극 패턴을 형성한다.Subsequently, the photosensitive conductive film exposed in the previous step is developed with an alkaline developer to remove the unexposed photosensitive conductive film other than the electrode pattern, thereby forming an electrode pattern on the insulating substrate.
상기 알칼리 현상액으로는 염기를 포함하는 수용액을 사용할 수 있으며, 또한 상기 염기로는 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소나트륨, 인산수소이암모늄, 인산수소이칼륨, 인산수소이나트륨, 인산이수소암모늄, 인산이수소칼륨, 인산이수소나트륨, 규산리튬, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산리튬, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 붕산리튬, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등의 무기 알칼리성 화합물; 테트라메틸암모늄히드록시드, 트리메틸히드록시에틸암모늄히드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등의 유기 알칼리성 화합물로 이루어진 그룹 중에서 선택된 1종 이상의 것을 사용할 수 있다.As the alkaline developer, an aqueous solution containing a base may be used, and as the base, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, Inorganic alkaline compounds such as potassium dihydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, lithium silicate, sodium silicate, potassium silicate, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium borate, sodium borate, potassium borate and ammonia; Tetramethylammonium Hydroxide, Trimethylhydroxyethylammonium Hydroxide, Monomethylamine, Dimethylamine, Trimethylamine, Monoethylamine, Diethylamine, Triethylamine, Monoisopropylamine, Diisopropylamine, Ethanolamine One or more types selected from the group consisting of organic alkaline compounds such as these can be used.
상기 현상 공정은 통상적인 현상 처리 조건에서 실시될 수 있으며, 현상액의 종류·조성·농도, 현상 시간, 현상 온도, 침지법, 요동법, 샤워법, 스프레이법, 패들법과 같은 현상방법, 또는 현상 장치 등을 적절히 조절하여 실시하는 것이 바람직하다. The developing step may be carried out under normal developing treatment conditions, and the developing method such as the type, composition, and concentration of the developing solution, developing time, developing temperature, dipping method, rocking method, shower method, spray method, paddle method, or developing apparatus. It is preferable to carry out by adjusting suitably.
상기 현상공정 이후 통상적으로 수세 처리가 실시되며, 필요에 따라서 현상 처리 후에 전극 패턴 측면 및 절연 기판 노출부에 불필요한 잔류물을 제거하는 공정을 더 포함할 수도 있다.After the developing step, a water washing process is usually performed, and if necessary, a step of removing unnecessary residues after the developing process may be further included.
다음으로, 절연 기판상에 형성된 전극 패턴을 소성하고, 상기 전극 패턴내 도전성 물질 및 글라스 프릿을 제외한 유기 물질을 제거하여 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 전극을 형성한다. 상기 소성공정은 통상의 전극 소성공정과 유사하게 대기 중에서 400 내지 600℃에서 10 분 내지 3시간 동안 수행하는 것이 바람직하다.Next, the electrode pattern formed on the insulating substrate is fired, and the organic material except for the conductive material and glass frit in the electrode pattern is removed to form the electrode for the plasma display panel of the present invention. The firing process is preferably performed for 10 minutes to 3 hours at 400 to 600 ℃ in the air similar to the conventional electrode firing process.
전술한 바의 공정에 의해 제조된 전극은 0.5 내지 2.5㎛의 평균 표면 조도(Ra)를 갖는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.5 내지 2.35㎛의 평균 표면 조도(Ra)를 가질 수 있다. 평균 표면 조도가 0.5㎛ 미만이면 이방성 도전 필름과 밀착성 낮아서 전극 단자부와 회로물의 연결에 있어 이음재의 불량, 즉 단자부 불량의 원인이 될 수 있어 바람직하지 않으며, 평균 표면 조도가 2.5㎛를 초과하면 이방성 도전 필름과의 접착시 접촉 저항이 커지고, 접착 강도는 낮아져 단자부 불량의 원인이 될 수 있어 바람직하지 않다. 또한 감광성 도전막의 두께 또는 조성을 적절히 변화시켜 다양한 목적에 부합하도록 전극의 두께를 조절할 수 있으며, 바람직하게는 상기 전극은 2.5 내지 6 ㎛의 두께를 가질 수 있다.The electrode manufactured by the above-described process preferably has an average surface roughness (Ra) of 0.5 to 2.5㎛, more preferably may have an average surface roughness (Ra) of 1.5 to 2.35㎛. If the average surface roughness is less than 0.5 μm, the adhesion between the anisotropic conductive film and the anisotropic conductive film is low, which may cause a defect of the joint material, that is, a bad terminal, in the connection of the electrode terminal portion and the circuit. It is not preferable because the contact resistance increases when the film is bonded to the film, and the adhesive strength is lowered, which may cause the terminal part to be defective. In addition, by appropriately changing the thickness or composition of the photosensitive conductive film can be adjusted to the thickness of the electrode to meet various purposes, preferably the electrode may have a thickness of 2.5 to 6 ㎛.
상기 전극은 플라즈마 디스플레이 패널중 어드레스 전극 또는 버스 전극으로 사용될 수 있다.The electrode may be used as an address electrode or a bus electrode in the plasma display panel.
본 발명은 또한, 상기 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다. 상세하게는, 본 발명의 일 실시형태에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 서로 대향 배치되는 제1기판 및 제2기판, 상기 제1기판에 설치된 어드레스 전극들과 이를 덮는 유전체층, 상기 제2기판에 설치되며, 투명전극 및 버스전극을 포함하는 표 시 전극들과 이를 덮는 유전체층, 제1기판 및 제2기판의 사이 공간에 배치되고, 다수의 방전 셀을 구획하도록 제1기판에 설치된 격벽, 및 상기 격벽으로 구획된 방전셀의 바닥면과 격벽 측면에 도포된 형광체층을 포함하며, 상기 제1기판의 어드레스 전극 및 제2기판의 버스 전극중 어느 하나 또는 둘 모두는 상기 플라즈마 디스플레이 패널용 전극 형성 조성물로부터 제조되는 것이다.The present invention also provides a plasma display panel including the electrode. In detail, the plasma display panel according to the exemplary embodiment of the present invention is provided on the first substrate and the second substrate facing each other, the address electrodes provided on the first substrate, the dielectric layer covering the substrate, and the second substrate. Partition electrodes disposed between the display electrodes including the transparent electrodes and the bus electrodes and the dielectric layer covering the transparent electrodes and the bus electrodes, the first substrate and the second substrate, and partitioned in the first substrate to partition the plurality of discharge cells, and the partition walls. And a phosphor layer applied to the bottom surface and the partition wall side of the discharge cell, wherein one or both of the address electrode of the first substrate and the bus electrode of the second substrate are manufactured from the electrode forming composition for the plasma display panel. will be.
도 1은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 일 예를 모식적으로 나타낸 부분 분해 사시도이며, 본 발명의 내용이 상기 도 1의 구조에만 한정되는 것은 아니다. 1 is a partially exploded perspective view schematically showing an example of the plasma display panel of the present invention, and the content of the present invention is not limited to the structure of FIG.
도 1을 참조하면, 플라즈마 디스플레이 패널은 제1기판(1) 상에 일방향(도면의 Y 방향)을 따라 어드레스 전극들(3)이 형성되고, 어드레스 전극들(3)을 덮으면서 제1기판(1)의 전면에 유전체층(5)이 형성된다. 이 유전체층(5) 위로 격벽(7)이 형성되며, 각각의 격벽(7) 사이의 방전셀에 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 형광체층(9)이 위치한다.Referring to FIG. 1, in the plasma display panel,
그리고 제1기판(1)에 대향하는 제2기판(11)의 일면에는 어드레스 전극(3)과 직교하는 방향(도면의 X 방향)을 따라 한쌍의 투명 전극(13a)과 버스 전극(13b)으로 구성되는 표시 전극들(13)이 형성되고, 표시 전극들(13)을 덮으면서 제2기판(11) 전체에 투명 유전체층(15)과 보호막(17)이 위치한다. 이로서 어드레스 전극(3)과 표시 전극(13)의 교차 지점이 방전 셀을 구성한다.In addition, one surface of the
상기 제1기판(1)의 어드레스 전극(3)과 제2기판(11)의 버스 전극(13b)은 앞서 설명한 바와 같이 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 전극 형성 조성물로부 터 제조된 전극인 것을 특징으로 한다.The
이러한 구성에 의해, 어드레스 전극(3)과 어느 하나의 표시 전극(13) 사이에 어드레스 전압(Va)을 인가하여 어드레스 방전을 행하고, 다시 한 쌍의 표시 전극(13) 사이에 유지 전압(Vs)을 인가하면, 유지 방전시 발생하는 진공 자외선이 해당 형광체층(9)을 여기시켜 투명한 전면 기판(11)을 통해 가시광을 방출하게 된다.With this configuration, the address discharge is applied by applying the address voltage Va between the
도 2는 플라즈마 디스플레이 패널의 드라이브 IC 패키지(24) 및 이방성 도전 필름(ACF:anisotropic conductive film)(25)의 연결부의 단면을 나타낸 모식도이다. 도 2에서 보는 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 봉합 프릿(seal frit)(21)에 의해서 어드레스 전극(3)이 형성된 제1기판(1)과 제2기판(11)이 봉착되며, 드라이브 IC 패키지(24) 및 ACF(25)는 실리콘 접착제(28)에 의하여 상기 제1기판(1) 및 제2기판(11)에 부착되고 있다. FIG. 2 is a schematic view showing a cross section of a connection portion of a
상세하게는 본 발명의 일 실시형태에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 어드레스 전극과 이를 덮는 유전체층, 상기 유전체층 전면에 형성된 격벽 및 상기 격벽으로 구획된 방전셀 내에 형광체층을 포함하는 제1기판과, 표시전극과 상기 표시전극을 덮으며 전면에 형성된 투명 유전체층 및 상기 투명 유전체층 위에 코팅된 보호막를 포함하는 제2기판이 봉합프릿에 의해 접합된다.In detail, a plasma display panel according to an exemplary embodiment of the present invention includes a first substrate including an address electrode, a dielectric layer covering the first electrode, a barrier rib formed on the entire surface of the dielectric layer, and a phosphor layer in a discharge cell partitioned by the barrier rib; A second substrate including a transparent dielectric layer formed on the entire surface of the display electrode and a protective layer coated on the transparent dielectric layer is bonded by a sealing frit.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 전극 형성 조성물로부터 제조된 전극은, 전극의 표면 조도 및 에지-컬(edge-curl)에 대한 제어로 이방성 도전 필름과의 접착성이 향상되고 이에 따라 플라즈마 디스플레이 장치 구동시 상기 패널에 걸리는 저항을 낮춤으로써 고품위의 화면을 구현할 수 있다.The electrode manufactured from the electrode forming composition for a plasma display panel of the present invention has improved adhesion to the anisotropic conductive film by controlling the surface roughness and edge-curl of the electrode, and thus, when driving the plasma display device. By lowering the resistance applied to the panel, a high quality screen can be realized.
이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 기재한다. 그러나 하기한 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐 본 발명이 하기한 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred examples and comparative examples of the present invention are described. However, the following examples are only preferred embodiments of the present invention and the present invention is not limited to the following examples.
<< 실시예Example 및 And 비교예Comparative example >>
하기 표 1에 기재된 다양한 특성을 갖는 글라스 프릿을 사용하고, 하기 표 2에 나타낸 바와 같은 조성으로 혼합하여 감광성 도전 페이스트 조성물을 제조한 후, 하기의 공정을 거쳐 전극을 제조하였다. The glass frit having various properties shown in Table 1 below was used, mixed in a composition as shown in Table 2 below to prepare a photosensitive conductive paste composition, and then an electrode was manufactured by the following process.
먼저 감광성 바인더, 가교제, 광개시제 기타 첨가제 및 용매를 혼합기에 넣고 교반하여 분산시켰다. 여기에 도전성 물질로 은 분말 및 글라스 프릿을 더 첨가하고 교반기에서 혼합하였다. 이어서 3-롤 밀을 사용하여 교반 및 분산을 더욱 수행한 다음, 여과 및 탈포 공정을 거쳐 감광성 도전 페이스트 조성물을 제조하였다.First, a photosensitive binder, a crosslinking agent, a photoinitiator, and other additives and a solvent were added to a mixer and stirred to disperse. Silver powder and glass frit were further added as conductive materials and mixed in a stirrer. Subsequent further stirring and dispersion using a 3-roll mill was followed by filtration and defoaming to prepare a photosensitive conductive paste composition.
먼저 준비된 유리 기판(10cm×10cm)을 세정 및 건조한 후, 상기 얻어진 페이스트 조성물을 유리기판상에 스크린 인쇄법으로 인쇄하였다. 드라이 오븐에서 100℃, 15분간 건조하여 감광성 도전막을 형성하였다. 감광성 도전막상에 스트라이프 패턴이 형성된 포토마스크를 이격 배치한 다음, 고압 수은 램프를 이용하여 450 mJ/㎠의 자외선을 조사하여 노광하고, 35℃의 0.4 중량% 탄산나트륨 수용액을 노즐을 통해 1.5kgf/㎠의 분사압력으로 25초간 현상하고 미 노광된 부위를 제거하여 전극 패턴을 형성하였다. First, the prepared glass substrate (10 cm × 10 cm) was washed and dried, and then the obtained paste composition was printed on the glass substrate by screen printing. It dried at 100 degreeC for 15 minutes in the dry oven, and formed the photosensitive electrically conductive film. Photomasks having a stripe pattern formed on the photosensitive conductive layer are spaced apart from each other, and then exposed to ultraviolet light at 450 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp, and exposed to a 1.5 wtf / cm 2 solution of a 0.4 wt% sodium carbonate solution at 35 ° C. through a nozzle. It developed for 25 second by the injection pressure of, and removed the unexposed site | part, and formed the electrode pattern.
이어서, 전기소성로를 이용하여 580℃에 15분간 소성하여 막 두께가 4 ㎛인 패턴화된 전극을 얻었다.Subsequently, firing was carried out at 580 ° C. for 15 minutes using an electric firing furnace to obtain a patterned electrode having a film thickness of 4 μm.
상기 패턴화된 전극 위에 ACF 및 TCP를 올려놓고 가압착 및 본압착하여 본딩하여 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하였다.Placing the ACF and TCP on the patterned electrode, bonding by pressing and main bonding to prepare a plasma display panel.
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 전극에 대해 3차원 측정장비 및 전자광학 현미경(SEM)을 이용하여 평균 표면 및 에지-컬 현상을 측정하였다.The average surface and edge-curling phenomena were measured using a three-dimensional measuring instrument and an electron optical microscope (SEM) on the electrodes prepared in Examples and Comparative Examples.
또한 본딩 후 저항 측정기 및 접착력 측정기를 이용하여 접촉 저항 및 접착 강도를 측정하였다. 상기 접착 강도는 박리 강도이며, MTS Synegie 100(MTS사제)을 사용하여 90도의 박리각도로 23±3℃, 65±5%RH 조건에서 실시하였다. 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.In addition, after bonding, the contact resistance and the adhesive strength were measured using a resistance meter and an adhesive force meter. The said adhesive strength was peeling strength, and it carried out in 23 +/- 3 degreeC and 65 +/- 5% RH conditions by 90 degree of peeling angles using MTS Synegie 100 (made by MTS). The results are shown in Table 3 below.
이때 에지-컬은 하기 수학식 1에 의해 계산하였다.At this time, the edge-curl was calculated by the following equation (1).
상기 표 3을 참조하면, 실시예 1 및 2에서의 전극의 접촉 강도와 접촉 저항 및 에지-컬 현상이 비교예 1 및 2 보다 우수함을 알 수 있다. Referring to Table 3, it can be seen that the contact strength, contact resistance and edge-curling of the electrodes in Examples 1 and 2 are superior to Comparative Examples 1 and 2.
이러한 결과를 통해 접촉 강도가 높고 접촉 저항 및 에지-컬 현상이 낮은 범위에서의 평균 표면 조도를 갖는 글라스 프릿을 채용하는 것이 바람직함을 알 수 있고, 상기 범위가 1 내지 2.5 ㎛의 평균 표면 조도 범위에 해당함을 알 수 있다. These results indicate that it is desirable to employ a glass frit having an average surface roughness in the range of high contact strength and low contact resistance and low edge-curling phenomenon, and the range is 1 to 2.5 μm in the average surface roughness range. It can be seen that.
상술한 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 전극 형성 조성물로부터 제조된 전극은, 전극의 표면 조도 및 에지-컬에 대한 제어로 이방성 도전 필름과의 접착성이 향상되고 이에 따라 플라즈마 디스플레이 장치 구동시 상기 패널에 걸리는 저항을 낮춤으로써 고품위의 화면을 구현할 수 있다.As described above, the electrode manufactured from the electrode forming composition for a plasma display panel of the present invention has improved adhesion to the anisotropic conductive film by controlling the surface roughness and the edge-curl of the electrode, thereby driving the plasma display device. By lowering the resistance applied to the panel, a high quality screen can be realized.
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