KR20060131276A - Shadow mask and thin film depositing apparatus having the same - Google Patents

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KR20060131276A
KR20060131276A KR1020050051581A KR20050051581A KR20060131276A KR 20060131276 A KR20060131276 A KR 20060131276A KR 1020050051581 A KR1020050051581 A KR 1020050051581A KR 20050051581 A KR20050051581 A KR 20050051581A KR 20060131276 A KR20060131276 A KR 20060131276A
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김재호
최현민
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주성엔지니어링(주)
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Abstract

A shadow mask and a thin film depositing apparatus having the same are provided to form an alignment key on a frame of the shadow mask and a mask by forming the alignment key on a surface area of the shadow mask. In a shadow mask(100), a pattern is formed on a mask(110), wherein the pattern is transcribed on the substrate with a wanted thin film. An alignment key(130) formed on a surface of the mask(110) is formed to align the substrate and the mask(110). Wherein, the pattern is an opened part to penetrate the mask(110) and the alignment key(130) is formed on the mask(110) or a mask frame(120) which supports the mask(110).

Description

쉐도우 마스크 및 이를 포함한 박막 증착 장치{Shadow mask and thin film depositing apparatus having the same}Shadow mask and thin film depositing apparatus having the same

도 1은 종래의 쉐도우 마스크를 이용한 박막 증착 장치를 설명하기 위한 개념도. 1 is a conceptual diagram for explaining a thin film deposition apparatus using a conventional shadow mask.

도 2는 종래의 기판과 쉐도우 마스크 간의 키 정렬을 설명하기 위한 사시도.2 is a perspective view illustrating key alignment between a conventional substrate and a shadow mask.

도 3a 및 도 3b는 도 2의 A-A선의 단면도. 3A and 3B are sectional views taken along the line A-A of FIG.

도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 쉐도우 마스크의 사시도. 4 is a perspective view of a shadow mask according to the first embodiment of the present invention.

도 5 및 도 6은 본 발명의 제 1 변형예에 따른 정렬키 및 이의 제작 방법을 설명하기 위한 도면.5 and 6 are views for explaining an alignment key and a manufacturing method thereof according to a first modification of the present invention.

도 7은 본 발명의 제 2 변형예에 따른 정렬키 및 이의 제작 방법을 설명하기 위한 도면.7 is a view for explaining an alignment key and a manufacturing method thereof according to a second modification of the present invention.

도 8 및 도 9는 본 발명의 제 3 변형예에 따른 정렬키 및 이의 제작 방법을 설명하기 위한 도면.8 and 9 are views for explaining an alignment key and a manufacturing method thereof according to a third modification of the present invention.

도 10은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 쉐도우 마스크의 사시도. 10 is a perspective view of a shadow mask according to the second embodiment of the present invention.

도 11 및 도 12는 본 발명에 따른 증착 장치에서 쉐도우 마스크와 기판의 정렬을 설명하기 위한 개념도. 11 and 12 are conceptual views for explaining the alignment of the shadow mask and the substrate in the deposition apparatus according to the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

10, 200 : 챔버 20 : 도가니10, 200: chamber 20: crucible

30, 300 : 기판 40, 100 : 쉐도우 마스크30, 300: substrate 40, 100: shadow mask

110 : 마스크 120 : 마스크 프레임110: mask 120: mask frame

130 : 정렬키 500: 정렬수단130: alignment key 500: alignment means

본 발명은 쉐도우 마스크에 관한 것으로, 특히 유기 박막 증착을 위한 쉐도우 마스크에 관한 것이다. The present invention relates to shadow masks, and more particularly to shadow masks for organic thin film deposition.

일반적으로 유기 전기 발광 소자는 전압을 가하면 스스로 발광하는 유기 발광물질의 특성을 이용하여 원하는 화상을 표시하는 디스플레이이다. 이러한 유기전기 발광소자의 기본 구조는 유리 기판 상부에 한 쌍의 투명 전극과 대항 전극을 적층하고 그 전극들 사이에 유기 박막이 삽입된 구조로 이루어진다. 여기서, 유기 박막은 전자와 정공을 운반하고 빛이 발광하도록 정공 주입막, 정공 수송막, 발광막, 전자 수송막 등을 적층한 구조로 제조할 수 있다. 투명 전극과 대항 전극에 소정의 전압을 인가하면, 유기 박막에 정공 및 전자를 주입하고 재결합시킴으로써 여 기자를 생성시키고, 이 여기자가 불활성화될 때 특정 파장의 빛이 방출된다.In general, an organic electroluminescent device is a display that displays a desired image by using characteristics of an organic light emitting material which emits light by applying a voltage. The basic structure of the organic electroluminescent device is composed of a structure in which a pair of transparent electrodes and a counter electrode are stacked on a glass substrate, and an organic thin film is inserted between the electrodes. Here, the organic thin film may be manufactured in a structure in which a hole injection film, a hole transport film, a light emitting film, an electron transport film, and the like are stacked to transport electrons and holes and emit light. When a predetermined voltage is applied to the transparent electrode and the counter electrode, holes and electrons are injected into the organic thin film and recombined to generate excitons, and light of a specific wavelength is emitted when the excitons are inactivated.

한편, 유기전기 발광소자의 제조 방법은 크게 고분자를 용제에 녹여서 코팅하는 방법과 진공중에 유기물질을 증착하는 방법으로 구분된다. 유기전기 발광소자에 사용되는 유기반도체 물질은 무기 반도체 소자에서 사용되는 물질과는 포토레지스트를 이용해서 일부분을 화학적으로 제거하거나, 스퍼터링으로 세정하기에는 적합하지 않다. On the other hand, the manufacturing method of the organic electroluminescent device is largely divided into a method of dissolving a polymer in a solvent coating and a method of depositing an organic material in a vacuum. The organic semiconductor material used in the organic electroluminescent device is not suitable for chemically removing a portion using a photoresist or cleaning by sputtering with the material used in the inorganic semiconductor device.

따라서, 쉐도우 마스크를 사용하여 유기 박막과 전극 패턴을 기판상에 형성하였다. 즉, 소정의 박막이 형성될 영역을 개방하는 개구부를 갖는 쉐도우 마스크를 증착물질과 기판 사이에 배치시켜, 개구부에 의해 노출된 기판 영역에만 증착 물질이 증착되어 소정의 박막패턴을 형성하게 된다. Thus, an organic thin film and an electrode pattern were formed on the substrate using a shadow mask. That is, a shadow mask having an opening for opening a region where a predetermined thin film is to be formed is disposed between the deposition material and the substrate, and the deposition material is deposited only on the substrate region exposed by the opening to form the predetermined thin film pattern.

도 1은 종래의 쉐도우 마스크를 이용한 박막 증착 장치를 설명하기 위한 개념도이다. 1 is a conceptual diagram illustrating a thin film deposition apparatus using a conventional shadow mask.

도 1을 참조하면, 종래의 쉐도우 마스크를 이용한 박막 증착 장치는, 소정의 반응 공간을 갖는 챔버(10)와, 챔버(10) 내부에 배치되어 증착원을 가열하는 도가니(20)와, 증착원이 증착되는 기판(30)과, 상기 기판(30)과 도가니(20) 사이에 배치되어 상기 증착원의 증착경로를 제어하는 쉐도우 마스크(40)를 포함한다. Referring to FIG. 1, a conventional thin film deposition apparatus using a shadow mask includes a chamber 10 having a predetermined reaction space, a crucible 20 disposed inside the chamber 10 to heat a deposition source, and a deposition source. The substrate 30 is deposited, and a shadow mask 40 disposed between the substrate 30 and the crucible 20 to control the deposition path of the deposition source.

상술한 박막 증착 장치의 동작을 간략히 살펴보면, 도가니(20) 내에 증착원을 주입하고, 기판(30)과 쉐도우 마스크(40)를 정렬하여 배치시킨다. 도가니(20) 내의 증착원을 가열하면, 증착원이 기화되어 기판(30)상에 박막 패턴이 증착된다. 이때, 쉐도우 마스크(40)의 개구부 패턴의 형상에 따라 기판(30)에 증착되는 박막 의 형상이 다양하게 변화될 수 있다. Briefly referring to the operation of the thin film deposition apparatus, the deposition source is injected into the crucible 20, and the substrate 30 and the shadow mask 40 are aligned and arranged. When the deposition source in the crucible 20 is heated, the deposition source is vaporized to deposit a thin film pattern on the substrate 30. In this case, the shape of the thin film deposited on the substrate 30 may vary according to the shape of the opening pattern of the shadow mask 40.

일반적으로 기판(30)상에는 다층의 박막이 다양한 패턴으로 적층되기 때문에 하부 층의 박막과 상부 층의 박막 간의 정렬이 매우 중요하고, 인접한 패턴들 간의 정렬 또한 매우 중요하다. 즉, 상하 층의 박막이 균일하게 적층되지 않거나, 인접한 패턴들간의 오정렬이 발생하였을 경우에는 소자의 동작이 불균하게 되어 소자를 사용할 수 없을 뿐만 아니라, 또한, 한층의 오정렬로 인해 전체 소자가 동작하지 않게 되는 문제가 발생한다.In general, since the multilayer thin films are stacked in various patterns on the substrate 30, alignment between the thin film of the lower layer and the thin film of the upper layer is very important, and the alignment between adjacent patterns is also very important. That is, when the thin films of the upper and lower layers are not uniformly stacked or when misalignment occurs between adjacent patterns, the operation of the device becomes uneven and the device cannot be used, and the whole device does not operate due to one misalignment. The problem arises.

이에, 목표로 하는 기판 영역에 정확한 박막 패턴을 형성하기 위해서는 쉐도우 마스크(40) 내의 개구부 패턴을 정확하게 디자인하여야 할 뿐만 아니라, 쉐도우 마스크(40)와 기판(30) 간의 정확한 정렬 또한 매우 중요한 요소로 작용하게 된다. Therefore, in order to form an accurate thin film pattern in the target substrate region, not only the opening pattern in the shadow mask 40 must be accurately designed, but also the precise alignment between the shadow mask 40 and the substrate 30 is also a very important factor. Done.

따라서, 쉐도우 마스크(40)와 기판(30) 간의 정확한 정렬을 위해 기판과 쉐도우 마스크에 정렬키를 형성하여 이들 간을 정렬하였다. Accordingly, alignment keys are formed on the substrate and the shadow mask to align the spaces between the shadow mask 40 and the substrate 30 so as to align them accurately.

도 2는 종래의 기판과 쉐도우 마스크 간의 키 정렬을 설명하기 위한 사시도이다. 도 3a 및 도 3b는 도 2의 A-A선의 단면도이다. 2 is a perspective view illustrating key alignment between a conventional substrate and a shadow mask. 3A and 3B are sectional views taken along the line A-A of FIG.

도 2, 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 종래의 쉐도우 마스크(40)의 마스크 프레임 및/또는 마스크의 일부를 제거하여 관통형 정렬키(41)를 형성하였다. 한편 기판(30) 상에도 이에 대응하는 정렬키(31)를 형성한다. 2, 3A, and 3B, the through-frame alignment key 41 is formed by removing a mask frame and / or a part of the mask of the conventional shadow mask 40. On the other hand, a corresponding alignment key 31 is also formed on the substrate 30.

도 2에 도시된 바와 같이 정렬키(31, 41)는 십자 형상(+)으로 쉐도우 마스크(40) 및 기판(30)의 가장자리 영역에 형성한다. 이를 통해 쉐도우 마스크(40)의 십자 형상의 관통형 정렬키(41)와 기판(30)의 십자 형상의 정렬키(31)를 일치시켜 쉐 도우 마스크(40)와 기판(30) 간을 정렬하였다. 즉, 도 3a에 도시된 바와 같이 쉐도우 마스크(40)의 관통형 정렬키(41) 내부에 기판(30)의 정렬키(31)가 정확히 위치되도록 하여 이들 간을 정렬한다. As shown in FIG. 2, the alignment keys 31 and 41 are formed in a cross shape (+) at the edge regions of the shadow mask 40 and the substrate 30. Through this, the cross-shaped through-type alignment key 41 of the shadow mask 40 and the cross-type alignment key 31 of the substrate 30 are matched to align the shadow mask 40 and the substrate 30. . That is, as shown in FIG. 3A, the alignment keys 31 of the substrate 30 are accurately positioned within the through type alignment keys 41 of the shadow mask 40 to align them.

하지만, 쉐도우 마스크(40)에는 마스크 및/또는 프레임을 제거하여 관통형의 정렬키(41)를 형성하여 기판(30) 및 쉐도우 마스크(40)의 정렬키(41)가 외부로 노출되도록 하고 있다. 이로 인해, 쉐도우 마스크(40)와 기판(30) 간의 키를 정렬시키는 공정에서 빛이 쉐도우 마스크(40)의 관통형 정렬키(41)를 투과하기 때문에 기판(30) 상에 형성된 정렬키(31)의 인식율이 떨어지는 문제점이 발생하였다. 또한, 앞서 설명한 바와 같이 기판(30) 상에 다수번의 증착 공정이 수행될 경우, 도 3b에 도시된 바와 같이 노출된 쉐도우 마스크(40)의 관통형 정렬키(41)와, 기판(30)의 정렬키(31) 상부에 기화된 유기물이 증착되는 현상이 발생한다. 이로 인해 쉐도우 마스크(40) 및 기판(30)의 키들이 인식되지 않게 되어 도 3b의 K영역과 같이 쉐도우 마스크(40)와 기판(30) 간의 정렬이 어긋나는 문제가 발생한다. However, in the shadow mask 40, the mask and / or the frame are removed to form a through type alignment key 41 so that the substrate 30 and the alignment key 41 of the shadow mask 40 are exposed to the outside. . As a result, in the process of aligning the key between the shadow mask 40 and the substrate 30, the light passes through the through-type alignment key 41 of the shadow mask 40, so that the alignment key 31 formed on the substrate 30 is formed. ), The recognition rate decreased. In addition, when a plurality of deposition processes are performed on the substrate 30 as described above, as shown in FIG. 3B, the through alignment key 41 of the exposed shadow mask 40 and the substrate 30 may be formed. A phenomenon in which vaporized organic material is deposited on the alignment key 31 occurs. As a result, the keys of the shadow mask 40 and the substrate 30 are not recognized, thereby causing a problem in that the alignment between the shadow mask 40 and the substrate 30 is misaligned as in the region K of FIG. 3B.

따라서, 본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 유기물이 쉐도우 마스크 및 기판의 정렬키에 코팅되는 현상을 방지할 수 있고, 정렬키의 인식율을 높일 수 있는 쉐도우 마스크를 제공하는 것을 그 목적으로 한다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a shadow mask which can prevent a phenomenon in which an organic material is coated on an alignment key of a shadow mask and a substrate, and improve the recognition rate of the alignment key in order to solve the above problems.

본 발명에 따른 기판에 원하는 박막으로 전사시키는 패턴이 형성되어 있는 마스크 및 상기 마스크 상에 형성되며, 상기 기판과 상기 마스크를 정렬시키기 위해 형성된 정렬키를 포함하는 쉐도우 마스크를 제공한다. A shadow mask is provided on a substrate having a pattern for transferring a desired thin film to a substrate according to the present invention, and a shadow mask formed on the mask, the alignment key formed to align the mask with the substrate.

여기서, 상기 패턴은 상기 마스크를 관통하는 개구부이고, 상기 정렬키는 상기 마스크 또는 상기 마스크를 지지하는 마스크 프레임 상에 형성되는 것이 바람직하다. Here, the pattern is an opening penetrating through the mask, and the alignment key is formed on the mask or a mask frame supporting the mask.

이때, 상기 마스크 또는 상기 마스크 프레임에 형성되는 요부 및 상기 요부 내에 형성되는 상기 정렬키를 포함하는 것이 바람직하다. In this case, it is preferable to include a recess formed in the mask or the mask frame and the alignment key formed in the recess.

상기의 정렬키는 상기 마스크 또는 상기 마스크 프레임 상에 광 흡수 물질, 난반사 물질 그리고 광반사 물질 중 어느 하나를 이용하여 형성하는 것이 바람직하다. 상기 정렬키는 상기 마스크 또는 상기 마스크 프레임 상의 일부를 변색시켜 제작할 수 있다. 물론 상기 정렬키는 별도의 키를 상기 마스크 또는 상기 마스크 프레임 상에 부착시켜 제작할 수도 있다. The alignment key may be formed on the mask or the mask frame using any one of a light absorbing material, a diffuse reflection material, and a light reflection material. The alignment key may be manufactured by discoloring a part of the mask or the mask frame. Of course, the alignment key may be manufactured by attaching a separate key on the mask or the mask frame.

상술한 정렬키의 표면에 난반사 패턴을 형성하거나, 상기 정렬키 상에 난반사막을 형성하는 것이 효과적이다. 상기 정렬키는 코팅, 증착, 도금 또는 도장 방법을 이용하여 형성할 수도 있다. It is effective to form a diffuse reflection pattern on the surface of the above-described alignment key or to form a diffuse reflection film on the alignment key. The alignment key may be formed using a coating, vapor deposition, plating or painting method.

또한, 본 발명에 따른 챔버와, 상기 챔버에 증착 원료를 공급하는 원료 공급부와, 상기 챔버 내의 기판과, 상기 기판 상에 배치되는 쉐도우 마스크와, 상기 기판 상에 형성되는 제 1 정렬키와, 상기 기판과 대향하는 상기 쉐도우 마스크 상에 형성되는 제 2 정렬키 및 상기 제 1 정렬키와 제 2 정렬키를 이용하여 상기 기판과 상기 쉐도우 마스크를 정렬하는 정렬수단을 포함하는 박막 증착 장치를 제공한다. In addition, a chamber according to the present invention, a raw material supply unit for supplying deposition raw materials to the chamber, a substrate in the chamber, a shadow mask disposed on the substrate, a first alignment key formed on the substrate, and Provided is a thin film deposition apparatus including a second alignment key formed on the shadow mask facing the substrate and alignment means for aligning the substrate and the shadow mask using the first alignment key and the second alignment key.

여기서, 상기 정렬수단은, 상기 제 1 및 제 2 정렬키를 감지하여 그 위치를 검출하는 검출부와, 검출된 정렬키들의 위치에 따라 상기 기판과 상기 쉐도우 마스크 간의 정렬여부를 판단하여 제어신호를 생성하는 제어부 및 상기 제어 신호에 따라 기판 또는 쉐도우 마스크를 이동시키는 구동부를 포함하는 것이 바람직하다. Here, the alignment unit may detect the first and second alignment keys and detect a position thereof, and determine whether the alignment is between the substrate and the shadow mask according to the positions of the detected alignment keys to generate a control signal. Preferably, the control unit includes a control unit and a driving unit for moving the substrate or the shadow mask according to the control signal.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment of the present invention in more detail. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms, and only the embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, and to those skilled in the art to fully understand the scope of the invention. It is provided to inform you. Like numbers refer to like elements in the figures.

도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 쉐도우 마스크의 사시도이다. 4 is a perspective view of a shadow mask according to the first embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 쉐도우 마스크(100)는 소정 패턴의 개구부(111)를 갖는 마스크(110)와, 마스크(110)를 지지하는 마스크 프레임(120)을 포함하되, 상기 마스크 프레임(120)의 상부 영역에 형성된 정렬키(130)를 포함한다. 상기 정렬키(130)는 관통되지 않고 마스크 프레임(120)과 기판이 접하면 영역의 표면 영역에 형성되고 이를 통해 기판과 마스크를 정렬한다. Referring to FIG. 4, the shadow mask 100 according to an embodiment of the present invention includes a mask 110 having an opening 111 having a predetermined pattern, and a mask frame 120 supporting the mask 110. And an alignment key 130 formed in an upper region of the mask frame 120. When the alignment key 130 is not penetrated and the mask frame 120 is in contact with the substrate, the alignment key 130 is formed in the surface area of the region to align the substrate with the mask.

상기의 마스크(110)는 금속판을 사용하여 제작하고, 개구부는 금속판에 사진 식각공정을 통해 패턴을 형성하는 것이 바람직하다. 즉, 금속판 상에 감광막을 도 포한 다음, 감광막을 노광하고, 노광된 영역을 현상하여 감광막 패턴을 형성한다. 이후, 감광막 패턴을 식각 마스크로 하는 식각을 실시하여 노출된 영역의 금속판을 제거하여 관통하는 개구부를 갖는 마스크(110)를 형성한다. The mask 110 may be manufactured using a metal plate, and the opening may be formed on the metal plate through a photolithography process. That is, after the photosensitive film is coated on the metal plate, the photosensitive film is exposed, and the exposed area is developed to form a photosensitive film pattern. Subsequently, etching is performed using the photoresist pattern as an etching mask to remove the metal plate of the exposed region to form a mask 110 having an opening therethrough.

마스크 프레임(120)은 마스크(110)의 개구부(111)를 방해하지 않는 범위 내에서 마스크(110)의 쳐짐을 방지하기 위해 마스크(110)의 가장 자리 영역을 감싸는 형상으로 형성된다. 즉, 마스크(110)를 스트레칭 하여 마스크 프레임(120)에 밀착시킨 후, 이들을 접착한다. The mask frame 120 is formed in a shape surrounding the edge region of the mask 110 to prevent the mask 110 from sagging within a range that does not interfere with the opening 111 of the mask 110. That is, the mask 110 is stretched to be in close contact with the mask frame 120 and then bonded to each other.

상술한 마스크(110) 및 마스크 프레임(120)은 금속이나, 금속들의 합금을 사용하거나, 기능성 폴리머를 사용할 수도 있고, 폴리머와 금속의 혼합물을 사용할 수도 있다. 상술한 금속으로 Cr, Al, Fe, Cu, W, Au, Ni, Ag, Ti 등을 사용할 수 있다. The mask 110 and the mask frame 120 described above may use a metal, an alloy of metals, a functional polymer, or a mixture of a polymer and a metal. Cr, Al, Fe, Cu, W, Au, Ni, Ag, Ti or the like may be used as the above-described metal.

상기의 마스크 프레임(120)의 사방 모서리 중 적어도 어느 한 영역의 상부에는 정렬키(130)가 형성되는 것이 바람직하다. 물론 이에 한정되지 않고, 마스크 프레임(120) 상의 어느 영역에서도 정렬키(130)가 형성될 수 있다.  The alignment key 130 may be formed at an upper portion of at least one of the four corners of the mask frame 120. Of course, the present invention is not limited thereto, and the alignment key 130 may be formed in any area on the mask frame 120.

이하, 도면을 참조하여 상술한 정렬키 및 이의 제작 방법을 설명한다. Hereinafter, the above-described alignment key and a manufacturing method thereof will be described with reference to the drawings.

도 5 및 도 6은 본 발명의 제 1 변형예에 따른 정렬키 및 이의 제작 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 5 및 도 6의 (a)는 마스크 프레임의 모서리 영역의 사시도이고, (b)는 (a) 사시도의 B-B선의 단면도이다. 5 and 6 are views for explaining an alignment key and a manufacturing method thereof according to a first modification of the present invention. (A) is a perspective view of the edge area | region of a mask frame, (b) is sectional drawing of the B-B line of (a) perspective view.

본 변형예에 따른 정렬키(130)는 마스크 프레임(120)의 일부에 형성된 요부(131)와, 요부(131) 내에 형성된 키 물질(132)을 포함한다. The alignment key 130 according to the present modification includes a recess 131 formed in a part of the mask frame 120 and a key material 132 formed in the recess 131.

도 5를 참조하면, 마스크 프레임(120)의 상부 영역 일부에 요부(131)를 형성한다. 이때, 기계적 가공은 물론 화학적 가공을 통해 마스크 프레임(120)의 상에 요부(131)를 형성할 수 있다. 즉, 레이저를 이용하여 마스크 프레임(120)의 표면의 일부를 제거하여 요부(131)를 형성하거나, 그라인더와 같은 연마기를 이용하여 마스크 프레임(120)의 표면 일부를 제거하여 요부(131)를 형성할 수도 있고, 감광막 마스크를 이용한 에칭 공정을 통해 마스크 프레임(120)의 표면 일부를 제거하여 요부(131)를 형성할 수도 있다. 이와 달리, 마스크 프레인(120)의 성형 공정시 요부(131)를 함께 형성할 수도 있다. 요부(131)의 폭은 마스크 프레임(120)을 벗어 나지 않는 범위 내에서 조절할 수 있고, 요부(131)의 두께는 마스크 프레임(120)을 관통하지 않는 범위 내에서 조절할 수 있다. Referring to FIG. 5, recesses 131 are formed in a portion of the upper region of the mask frame 120. In this case, the recess 131 may be formed on the mask frame 120 through mechanical processing as well as chemical processing. That is, the recess 131 is formed by removing a portion of the surface of the mask frame 120 using a laser, or the recess 131 is formed by removing a portion of the surface of the mask frame 120 using a grinder such as a grinder. Alternatively, a recess 131 may be formed by removing a portion of the surface of the mask frame 120 through an etching process using a photosensitive film mask. Alternatively, the recesses 131 may be formed together in the molding process of the mask plane 120. The width of the recess 131 may be adjusted within a range not leaving the mask frame 120, and the thickness of the recess 131 may be adjusted within a range not penetrating the mask frame 120.

도면에서는 요부(131)의 형상을 십자(+) 형상으로 하였으나, 이에 한정되지 않고, 정렬키(130)로 사용될 수 있는 점, 직선, 다각형, 원, 타원 등의 모든 도형 형상이 가능 한다.  Although the shape of the recessed portion 131 is a cross shape (+), the shape of the recess 131 is not limited thereto, and any shape such as a dot, a straight line, a polygon, a circle, an ellipse, and the like that can be used as the alignment key 130 is possible.

도 6을 참조하면, 요부(131) 내부에 소정의 키 물질(132)을 형성하여 정렬키(130)를 형성한다. 상기의 키 물질(132)로는 빛을 흡수할 수 있는 착색 물질을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 빛이 산란되어 반사되지 않는 물질을 사용할 수도 있다. 물론 이의 반대의 물질 즉, 빛을 반사시키는 물질을 사용할 수도 있다. 상기 물질은 코팅, 증착, 도금 또는 도장 방법을 이용하여 요부(131) 내에 형성하는 것이 바람직하고, 요부(131)의 내측 영역에만 얇게 형성할 수도 있고, 요부(131)를 매립하도록 형성할 수도 있다. 상술한 착색물질은 흑색물질을 사용할 수 있고, 본 실시예에서는 코발트(cobalt)와 같은 흑색 금속을 사용하는 것이 효과적이다. 이러한 정렬 키(130)의 변색을 방지하기 위한 물질로 내식성이 강한 폴리머인 파릴렌을 사용하여 정렬 키(130) 상에 코팅할 수도 있다. 물론 이에 한정되지 않고, 빛의 파장의 크기와 사용되는 물질의 특성에 따라 광흡수 물질과, 난반사 물질 및 광반사 물질은 다양할 수 있다. 이는 빛의 파장과 물질의 분자 입자와의 반응에 따라 물체는 빛을 흡수, 반사, 투과 또는 공진 시키기 때문이다.Referring to FIG. 6, an alignment key 130 is formed by forming a predetermined key material 132 inside the recess 131. As the key material 132, it is preferable to use a coloring material capable of absorbing light. It is also possible to use a material in which light is scattered and not reflected. Of course, the opposite material may be used, that is, a material that reflects light. The material may be formed in the recess 131 using a coating, vapor deposition, plating, or painting method. The material may be thinly formed only in the inner region of the recess 131, or may be formed to fill the recess 131. . As the coloring material described above, a black material can be used, and in this embodiment, it is effective to use a black metal such as cobalt. The material for preventing discoloration of the alignment key 130 may be coated on the alignment key 130 using parylene, which is a polymer having a high corrosion resistance. Of course, the present invention is not limited thereto, and the light absorption material, the diffuse reflection material, and the light reflection material may vary according to the size of the wavelength of light and the characteristics of the material used. This is because the object absorbs, reflects, transmits or resonates light depending on the wavelength of light and the reaction of molecular particles with the material.

상술한 키 물질(132)은 다층으로 형성될 수도 있다. 즉, 하부에는 빛을 흡수하는 착색 물질을 형성하고, 그 상부에 빛의 난반사를 유도하는 물질로 코팅할 수도 있다. 물론, 빛을 흡수하는 착색물질을 형성한 다음, 착색물질의 표면에 난반사 패턴을 형성할 수도 있다. The key material 132 described above may be formed in multiple layers. That is, a coloring material that absorbs light may be formed on the lower part, and coated with a material that induces diffuse reflection of light on the upper part. Of course, after forming the coloring material that absorbs light, a diffuse reflection pattern may be formed on the surface of the coloring material.

이를 통해 마스크 프레임(120)의 표면에 형성된 정렬키(130)의 인식율을 증대시킬 수 있다. Through this, the recognition rate of the alignment key 130 formed on the surface of the mask frame 120 may be increased.

이뿐 아니라, 마스크 프레임의 소정 영역을 변색시켜 정렬키를 제작할 수도 있다. 이하, 본 발명의 제 2 변형예에 따른 정렬키 및 이의 제작 방법을 설명하되, 앞서 설명과 중복되는 설명은 생략한다. In addition, the alignment key may be manufactured by discoloring a predetermined area of the mask frame. Hereinafter, an alignment key and a method of manufacturing the same according to a second modification of the present invention will be described.

도 7은 본 발명의 제 2 변형예에 따른 정렬키 및 이의 제작 방법을 설명하기 위한 도면이다.7 is a view for explaining an alignment key and a manufacturing method thereof according to a second modification of the present invention.

도 7을 참조하면, 본 변형예에 따른 정렬키(130)는 마스크 프레임(120) 표면의 소정 영역의 일부를 변색시켜 형성한다. 즉, 열 또는 화학적으로 마스크 프레임(120)의 상부 영역 일부를 정렬키(130) 형상으로 변색시킬 수 있다. 도 7의 (a)에 도시된 바와 같이 레이저를 이용하여 마스크 프레임(120)의 표면을 가공하여 그 표면을 마스크 프레임(120) 고유의 색과는 다르게 변색시킬 수 있고, 화학 용액을 이용하여 마스크 프레임(120)의 표면을 변색시킬 수도 있다. 이때, 변색 과정 중에 그 표면에 난반사 패턴이 형성되어 정렬키의 인식율을 높일 수 있다. Referring to FIG. 7, the alignment key 130 according to the present modification is formed by discoloring a portion of a predetermined area of the surface of the mask frame 120. That is, a portion of the upper region of the mask frame 120 may be discolored in the shape of the alignment key 130 thermally or chemically. As shown in (a) of FIG. 7, the surface of the mask frame 120 may be processed using a laser to discolor the surface of the mask frame 120 in a color different from that of the mask frame 120. The surface of the frame 120 may be discolored. At this time, a diffuse reflection pattern is formed on the surface of the discoloration process to increase the recognition rate of the alignment key.

또한, 본 변형예에서는 이뿐만 아니라, 빛을 흡수하는 색채를 갖는 도장물질을 정렬키 영역에 도장하여 마스크 프레임 표면에 정렬키를 형성할 수도 있다. 물론 이의 반대의 경우, 즉 정렬키 영역을 제외한 영역을 빛을 반사하는 물질로 도장하고, 정렬키 영역의 마스크 프레임을 노출시킬 수도 있다. In addition, in the present modification, the alignment key may be formed on the surface of the mask frame by applying a coating material having a color that absorbs light to the alignment key region. Of course, in the opposite case, that is, the area except the alignment key area may be painted with a material that reflects light, and the mask frame of the alignment key area may be exposed.

또한, 본 발명은 정렬키를 외부에서 제작한 다음 이를 마스크 프레임의 표면에 접착시킬 수도 있다. 이하, 본 발명의 제 3 변형예에 따른 정렬키 및 이의 제작 방법을 설명하되, 앞서 설명과 중복되는 설명은 생략한다. In addition, the present invention may be manufactured from the outside of the alignment key and then bonded to the surface of the mask frame. Hereinafter, an alignment key and a method of manufacturing the same according to a third modification of the present invention will be described, and descriptions overlapping with the above description will be omitted.

도 8 및 도 9는 본 발명의 제 3 변형예에 따른 정렬키 및 이의 제작 방법을 설명하기 위한 도면이다.8 and 9 are views for explaining an alignment key and a method of manufacturing the same according to a third modification of the present invention.

도 8을 참조하면, 본 실시예에서는 빛을 흡수하고, 난반사를 유도할 수 있는 정렬키(130)를 외부에서 별도로 제작한다. 이때, 정렬키(130)의 제작 방법은 한정되지 않고, 별도의 성형공정을 통해 제작될 수도 있고, 프레스 가공을 통해 제작될 수도 있다. Referring to FIG. 8, in this embodiment, an alignment key 130 that absorbs light and induces diffuse reflection is separately manufactured from the outside. In this case, the manufacturing method of the alignment key 130 is not limited, and may be manufactured through a separate molding process, or may be manufactured through press working.

도 9를 참조하면, 상기 정렬키(130)를 마스크 프레임(120)의 일부에 밀착 결합시킨다. 이를 통해 마스크 프레임(120)의 상부 영역에 정렬키(130)를 형성할 수 있다. 정렬키(130)는 별도의 접착 물질을 이용하여 마스크 프레임(120)에 부착될 수도 있고, 마스크 프레임(120)의 상에 정렬키(130)와 동일한 형상의 요부를 형성한 다음 요부 내부에 정렬키(130)를 실장할 수도 있고, 정렬키(130)의 하부에 나사와 같은 별도의 결합부재를 두어 이를 이용하여 마스크 프레임(120)과 정렬키(130)를 결합할 수도 있다. Referring to FIG. 9, the alignment key 130 is closely coupled to a portion of the mask frame 120. Through this, the alignment key 130 may be formed in the upper region of the mask frame 120. The alignment key 130 may be attached to the mask frame 120 using a separate adhesive material, and form a recess having the same shape as the alignment key 130 on the mask frame 120 and then align the inside of the recess. The key 130 may be mounted, or the mask frame 120 and the alignment key 130 may be coupled by using a separate coupling member such as a screw under the alignment key 130.

이뿐만 아니라, 본 발명의 쉐도우 마스크의 정렬키는 상술한 마스크 프레임의 상부 영역에 한정되지 않고, 쉐도우 마스크의 마스크 상부 영역에도 형성될 수 있으며, 이를 두 영역에 걸쳐서 형성될 수도 있다. 이하, 도면을 참조하여 마스크 상에 정렬키가 형성된 본 발명의 제 2 실시예에 따른 쉐도우 마스크에 관해 설명한다. 후술되는 실시예는 앞서 설명한 제 1 실시예와 중복되는 설명은 생략한다. In addition, the alignment key of the shadow mask of the present invention is not limited to the upper region of the above-described mask frame, but may also be formed in the upper region of the mask of the shadow mask, and may be formed over two regions. Hereinafter, a shadow mask according to a second embodiment of the present invention in which an alignment key is formed on a mask will be described with reference to the drawings. Embodiments to be described later overlap with the first embodiment described above will be omitted.

도 10은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 쉐도우 마스크의 사시도이다. 10 is a perspective view of a shadow mask according to the second embodiment of the present invention.

도 10을 참조하면, 본 실시예에 따른 쉐도우 마스크(100)는 기판에 목표로 하는 박막으로 전사시키는 패턴과 상부 영역에 정렬키(130)가 형성된 마스크(110)와, 마스크(110)를 지지하는 마스크 프레임(120)을 포함한다. 상기 정렬키(130)는 쉐도우 마스크와 기판이 접하는 영역의 상에 형성되는 것이 바람직하다. Referring to FIG. 10, the shadow mask 100 according to the present embodiment supports a mask 110 having a pattern for transferring a target thin film onto a substrate, an alignment key 130 formed on an upper region, and a mask 110. The mask frame 120 is included. The alignment key 130 may be formed on an area where the shadow mask and the substrate contact each other.

상기 패턴은 상기 마스크를 관통하는 개구부(111)를 지칭한다. 이때, 정렬키(130)는 마스크(110)의 개구부(111)를 제외한 영역에 형성되고, 마스크(110)를 관통하지 않고, 마스크(110)의 상부 영역 내에 형성되는 것이 바람직하다. 또한, 앞서 제 1 실시예에서 설명한 변형예의 방법에 따라 마스크의 표면 영역 내에 형성될 수 있다. The pattern refers to the opening 111 penetrating the mask. In this case, the alignment key 130 may be formed in an area except the opening 111 of the mask 110, and may be formed in the upper area of the mask 110 without penetrating the mask 110. Further, it can be formed in the surface area of the mask according to the method of the modification described in the first embodiment above.

이하, 상술한 쉐도우 마스크를 포함하는 증착 장치 내에서 기판과 쉐도우 마 스크 간의 정렬에 관해 설명한다. Hereinafter, the alignment between the substrate and the shadow mask in the deposition apparatus including the shadow mask described above will be described.

도 11 및 도 12는 본 발명에 따른 증착 장치에서 쉐도우 마스크와 기판의 정렬을 설명하기 위한 개념도이다. 11 and 12 are conceptual views for explaining the alignment of the shadow mask and the substrate in the deposition apparatus according to the present invention.

도 11 및 도 12를 참조하면, 본 발명에 따른 박막 증착 장치는 소정의 반응 공간을 갖는 챔버(200)와, 챔버(200) 내부에 증착 원료를 공급하는 원료 공급부(400)와, 챔버(200)내의 기판(300)과, 기판(300)의 상에 배치된 쉐도우 마스크(100)와, 기판(300) 상에 형성된 제 1 정렬키(310)와, 상기 기판(300)과 대향하는 쉐도우 마스크(100)의 상에 형성된 제 2 정렬키(130)와, 상기 제 1 및 제 2 정렬키(310, 130)를 이용하여 상기 기판(300)과 쉐도우 마스크(100)를 정렬하는 정렬수단(500)을 포함한다. 11 and 12, the thin film deposition apparatus according to the present invention includes a chamber 200 having a predetermined reaction space, a raw material supply unit 400 supplying deposition raw materials into the chamber 200, and a chamber 200. ), A shadow mask 100 disposed on the substrate 300, a first alignment key 310 formed on the substrate 300, and a shadow mask facing the substrate 300. Alignment means 500 for aligning the substrate 300 and the shadow mask 100 by using the second alignment key 130 formed on the 100 and the first and second alignment keys 310 and 130. ).

상기의 기판(300)으로는 투광성 기판을 사용하되, 본 실시예에서는 유리 기판을 사용하는 것이 바람직하다. 정렬수단(500)은 제 1 및 제 2 정렬키(310, 130)를 감지하여 위치를 검출하는 검출부(510)와, 검출된 정렬키들의 위치에 따라 기판과 쉐도우 마스크(100) 간의 정렬여부를 판단하여 제어신호를 생성하는 제어부(520)와, 제어 신호에 따라 기판(300) 또는 쉐도우 마스크(100)를 이동시키는 구동부(530)를 포함한다. 검출부(510)는 소정의 광을 발생하는 광 발생부(미도시)와, 정렬키에 조사된 광을 감지하는 CCD부(미도시)를 포함한다. 이때, 광 감지의 효율을 높이기 위해 랜즈(미도시)가 더 포함될 수도 있다. As the substrate 300, a light-transmissive substrate is used, but in this embodiment, a glass substrate is preferably used. The alignment unit 500 detects the position by detecting the first and second alignment keys 310 and 130 and detects the alignment between the substrate and the shadow mask 100 according to the position of the detected alignment keys. The controller 520 may determine and generate a control signal, and the driver 530 may move the substrate 300 or the shadow mask 100 according to the control signal. The detector 510 includes a light generator (not shown) for generating predetermined light, and a CCD unit (not shown) for detecting light irradiated to the alignment key. In this case, a lens may be further included to increase the efficiency of light sensing.

한편, 정렬수단(500)은 기판(300)을 통해 쉐도우 마스크(100) 상에 형성된 제 2 정렬키(130)를 감지할 수 있는 영역에 배치되어 있는 것이 바람직하다. 도 11 에 도시된 바와 같이 기판(300)과 쉐도우 마스크(100)가 챔버(200)의 상부에 위치하고, 원료 공급부(400)가 챔버(200)의 하부에 위치할 경우, 원료 공급부(400)와 기판(300) 사이에 쉐도우 마스크(100)가 배치되고, 챔버(200)의 상부면과, 기판(300) 사이에 정렬수단이 위치한다. 이때, 제 2 정렬키(130)는 쉐도우 마스크(100)의 프레임 영역에 형성되어 있는 것이 바람직하다. 이때, 정렬수단(500)에 의해 정렬된 기판(300)과 쉐도우 마스크(100)는 별도의 고정 부재(미도시)에 의해 고정된다. 또한, 도 12에 도시된 바와 같이 기판(300)은 챔버(200) 하부에 위치하는 고정부재(320)에 의해 고정되고, 그 상부에 쉐도우 마스크(100)가 배치되고, 챔버(200)의 상부 영역에 원료 공급 부재(400)가 배치된다. 이때, 고정 부재(320)의 일측에 정렬수단(500)이 위치한다. 이때, 도면에서와 같이 마스크 프레임과 기판(300)과의 중첩 영역이 없기 때문에 제 2 정렬키(130)는 쉐도우 마스크(100)의 마스크 영역에 형성되어 있는 것이 바람직하다. On the other hand, the alignment means 500 is preferably disposed in the area that can detect the second alignment key 130 formed on the shadow mask 100 through the substrate 300. As shown in FIG. 11, when the substrate 300 and the shadow mask 100 are positioned above the chamber 200, and the raw material supply unit 400 is positioned below the chamber 200, the raw material supply unit 400 and the shadow mask 100 are located above the chamber 200. The shadow mask 100 is disposed between the substrates 300, and an alignment means is positioned between the upper surface of the chamber 200 and the substrate 300. In this case, the second alignment key 130 is preferably formed in the frame region of the shadow mask 100. At this time, the substrate 300 and the shadow mask 100 aligned by the alignment means 500 are fixed by a separate fixing member (not shown). In addition, as shown in FIG. 12, the substrate 300 is fixed by the fixing member 320 positioned below the chamber 200, and a shadow mask 100 is disposed on the upper portion of the chamber 200. The raw material supply member 400 is disposed in the region. At this time, the alignment means 500 is located on one side of the fixing member 320. In this case, since there is no overlapping area between the mask frame and the substrate 300 as shown in the drawing, the second alignment key 130 is preferably formed in the mask area of the shadow mask 100.

상술한 구조를 갖는 본 실시예의 표면 영역에 정렬키(130)가 형성된 쉐도우 마스크(100)와 기판(300) 간의 정렬 방법에 관해 설명한다. An alignment method between the shadow mask 100 and the substrate 300 having the alignment key 130 formed on the surface area of the present embodiment having the above-described structure will be described.

검출부(510)의 광 발생부를 통해 광을 기판(300)과, 쉐도우 마스크(100)의 정렬키 영역에 조사한다. 이때, 조사된 광은 유리 기판을 관통하여 제 1 및 제 2 정렬키 영역에서 반사되어 CCD를 통해 검출된다. CCD를 통해 정렬키 부분과 유리와의 컨트라스트 차이를 감지하고, 이러한 차이를 제어부(520)에서 판단한다. 이때, 정렬키 영역에 광을 흡수하는 물질이 형성되어 있거나, 난반사 물질이 형성되어 있거나, 난반사 패턴이 형성되어 있을 경우에는 정렬키 영역이 검게 나타난다. 이와 는 반대로 정렬키 영역에 반사 패턴 또는 반사 막이 형성되어 있을 경우에는 정렬키 영역이 밝게 나타난다. The light is irradiated to the substrate 300 and the alignment key region of the shadow mask 100 through the light generator of the detector 510. At this time, the irradiated light penetrates through the glass substrate and is reflected in the first and second alignment key regions and detected by the CCD. The contrast difference between the alignment key portion and the glass is detected through the CCD, and the difference is determined by the controller 520. At this time, when a material absorbing light, a diffuse reflection material, or a diffuse reflection pattern is formed in the alignment key region, the alignment key region appears black. On the contrary, when the reflective pattern or the reflective film is formed in the alignment key region, the alignment key region appears bright.

이때, 제 1 및 제 2 정렬키(310, 130)가 정렬되어 있지 않을 경우에는 제어부(520)에서는 쉐도우 마스크(100)를 움직이기 위한 제어신호를 구동부(530)에 송출한다. 이때, 구동부(530)는 이러한 제어신호에 따라 쉐도우 마스크(100)를 수평 방향으로 이동시켜 제 1 및 제 2 정렬키(310, 130)를 정렬시키게 된다. 한편, 제 1 및 제 2 정렬키(310, 130)가 정확하게 정렬되어 있을 경우에는 그 상태에서 기판(300)과 쉐도우 마스크(100)를 고정한다. In this case, when the first and second alignment keys 310 and 130 are not aligned, the controller 520 transmits a control signal for moving the shadow mask 100 to the driver 530. At this time, the driving unit 530 moves the shadow mask 100 in the horizontal direction according to the control signal to align the first and second alignment keys 310 and 130. Meanwhile, when the first and second alignment keys 310 and 130 are aligned correctly, the substrate 300 and the shadow mask 100 are fixed in the state.

이와 같이 기판과 쉐도우 마스크를 정렬하고 고정시킨 상태에서 원료 공급부를 통해 기화된 유기물질이 챔버 내부로 공급되면 쉐도우 마스크의 개구부 영역과 동일한 형상의 유기물 박막 패턴이 기판상에 형성된다. 이때, 본 발명은 쉐도우 마스크와 기판의 정렬키 영역이 증착 공정 중에 외부로 노출되지 않게 된다. In this way, when the substrate and the shadow mask are aligned and fixed, the organic material vaporized through the raw material supply part is supplied into the chamber, and an organic thin film pattern having the same shape as the opening region of the shadow mask is formed on the substrate. In this case, the shadow mask and the alignment key region of the substrate are not exposed to the outside during the deposition process.

상술한 바와 같이 본 발명은 증착 기판과 접하는 쉐도우 마스크의 표면 영역에 정렬키를 형성하여 기판의 정렬키과, 쉐도우 마스크의 정렬키를 외부로 노출시키지 않을 수 있다. As described above, the present invention may form an alignment key on the surface area of the shadow mask in contact with the deposition substrate so that the alignment key of the substrate and the alignment key of the shadow mask may not be exposed to the outside.

또한, 쉐도우 마스크의 표면 영역에 정렬키를 형성하여 쉐도우 마스크의 프레임은 물론 마스크 상에도 정렬키를 형성할 수 있고, 정렬키의 제작을 단순화 시킬 수 있다. In addition, the alignment key may be formed on the surface area of the shadow mask to form the alignment key on the mask as well as the frame of the shadow mask, and simplify the fabrication of the alignment key.

또한, 정렬키를 빛을 흡수할 수 있는 물질, 난반사 물질 또는 반사 물질로 형성하여 정렬키의 인식율을 높일 수 있다. In addition, the alignment key may be formed of a material capable of absorbing light, a diffuse reflection material, or a reflective material to increase the recognition rate of the alignment key.

Claims (10)

기판에 원하는 박막으로 전사시키는 패턴이 형성되어 있는 마스크; 및A mask on which a pattern for transferring a desired thin film is formed on a substrate; And 상기 마스크 상에 형성되며, 상기 기판과 상기 마스크를 정렬시키기 위해 형성된 정렬키;를 포함하는 쉐도우 마스크.And an alignment key formed on the mask to align the mask with the substrate. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 패턴은 상기 마스크를 관통하는 개구부이고, 상기 정렬키는 상기 마스크 또는 상기 마스크를 지지하는 마스크 프레임 상에 형성되는 쉐도우 마스크.The pattern is an opening penetrating through the mask, and the alignment key is formed on the mask or a mask frame supporting the mask. 청구항 2에 있어서, The method according to claim 2, 상기 마스크 또는 상기 마스크 프레임에 형성되는 요부; 및Recesses formed in the mask or the mask frame; And 상기 요부 내에 형성되는 상기 정렬키를 포함하는 쉐도우 마스크.A shadow mask comprising the alignment key formed in the recess. 청구항 2에 있어서, The method according to claim 2, 상기 정렬키는 상기 마스크 또는 상기 마스크 프레임 상에 광 흡수 물질, 난반사 물질 그리고 광반사 물질 중 어느 하나를 이용하여 형성하는 쉐도우 마스크.The alignment key is a shadow mask formed on the mask or the mask frame using any one of a light absorbing material, a diffuse reflection material and a light reflection material. 청구항 2에 있어서, The method according to claim 2, 상기 정렬키는 상기 마스크 또는 상기 마스크 프레임 상의 일부를 변색시켜 제작된 쉐도우 마스크.The alignment key is a shadow mask manufactured by discoloring a portion of the mask or the mask frame. 청구항 2에 있어서, The method according to claim 2, 상기 정렬키는 별도의 키를 상기 마스크 또는 상기 마스크 프레임 상에 부착시켜 제작된 쉐도우 마스크.The alignment key is a shadow mask produced by attaching a separate key on the mask or the mask frame. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 6, 상기 정렬키의 표면에 난반사 패턴을 형성하거나, 상기 정렬키 상에 난반사막을 형성하는 쉐도우 마스크.The shadow mask to form a diffuse reflection pattern on the surface of the alignment key, or to form a diffuse reflection film on the alignment key. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 6, 상기 정렬키는 코팅, 증착, 도금 또는 도장 방법을 이용하여 형성하는 쉐도우 마스크.The alignment key is a shadow mask formed by using a coating, deposition, plating or painting method. 챔버;chamber; 상기 챔버에 증착 원료를 공급하는 원료 공급부;A raw material supply unit supplying a deposition raw material to the chamber; 상기 챔버 내의 기판;A substrate in the chamber; 상기 기판 상에 배치되는 쉐도우 마스크;A shadow mask disposed on the substrate; 상기 기판 상에 형성되는 제 1 정렬키;A first alignment key formed on the substrate; 상기 기판과 대향하는 상기 쉐도우 마스크 상에 형성되는 제 2 정렬키; 및A second alignment key formed on the shadow mask facing the substrate; And 상기 제 1 정렬키와 제 2 정렬키를 이용하여 상기 기판과 상기 쉐도우 마스크를 정렬하는 정렬수단을 포함하는 박막 증착 장치.And alignment means for aligning the substrate and the shadow mask using the first alignment key and the second alignment key. 청구항 9에 있어서, 상기 정렬수단은,The method according to claim 9, The alignment means, 상기 제 1 및 제 2 정렬키를 감지하여 그 위치를 검출하는 검출부;A detector for detecting the first and second alignment keys and detecting a position thereof; 검출된 정렬키들의 위치에 따라 상기 기판과 상기 쉐도우 마스크 간의 정렬여부를 판단하여 제어신호를 생성하는 제어부; 및A controller configured to determine whether the substrate is aligned with the shadow mask according to the detected alignment keys and generate a control signal; And 상기 제어 신호에 따라 기판 또는 쉐도우 마스크를 이동시키는 구동부를 포함하는 박막 증착 장치.And a driving unit to move the substrate or the shadow mask according to the control signal.
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