JP2007090200A - Drying method, drying equipment, and deposition method, method for manufacturing electrooptical apparatus, and electrooptical apparatus, and electronic equipment - Google Patents

Drying method, drying equipment, and deposition method, method for manufacturing electrooptical apparatus, and electrooptical apparatus, and electronic equipment Download PDF

Info

Publication number
JP2007090200A
JP2007090200A JP2005281512A JP2005281512A JP2007090200A JP 2007090200 A JP2007090200 A JP 2007090200A JP 2005281512 A JP2005281512 A JP 2005281512A JP 2005281512 A JP2005281512 A JP 2005281512A JP 2007090200 A JP2007090200 A JP 2007090200A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
drying
space
partitioning
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2005281512A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Gomi
一博 五味
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2005281512A priority Critical patent/JP2007090200A/en
Publication of JP2007090200A publication Critical patent/JP2007090200A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a drying method for appropriately reducing drying unevenness between the inner regions of a substrate face, drying equipment, and a deposition method using the drying method, a method for manufacturing an electrooptical apparatus, and the electrooptical apparatus and the electronic equipment manufactured by using the drying method. <P>SOLUTION: Drying of the entire part of a substrate 20 is performed in the state of segmenting the upper spaces of the individual patterns 21, ..., of a liquid body arranged over the substrate 20 by partition members 31, etc., in compliance with the arrangement region. Thus, the vapor flow near the individual patterns 21 is uniformized in the intra-surface direction of the substrate and therefore, the drying and filming are performed in each region within the individual patterns 21. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、液状体が塗布された基板を乾燥させて成膜を行う成膜方法、および、そのための乾燥方法、乾燥装置、並びに、当該成膜方法を用いた電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器に関する。   The present invention relates to a film forming method for forming a film by drying a substrate coated with a liquid material, a drying method and a drying apparatus therefor, a method for manufacturing an electro-optical device using the film forming method, The present invention relates to optical devices and electronic devices.

従来、半導体装置や電気光学装置の製造プロセスに用いられる成膜方法として、基板の一面に塗布された液状体を乾燥等により膜化させるいわゆる液相法がある。この液相法においては、液状体近傍の蒸気圧分布を制御することは重要な技術である。例えば、基板の中央領域は、周囲の隣接領域からの蒸気拡散の影響で蒸気の滞留が起こりやすいため、外縁領域に比べて蒸気圧が高くなる傾向があり、このような蒸気圧のムラを低減することは良好なプロファイルの機能性膜(膜)を得る上で重要である。   Conventionally, as a film forming method used in the manufacturing process of a semiconductor device or an electro-optical device, there is a so-called liquid phase method in which a liquid material applied to one surface of a substrate is formed into a film by drying or the like. In this liquid phase method, it is an important technique to control the vapor pressure distribution near the liquid. For example, in the central area of the substrate, vapor stays easily due to the influence of vapor diffusion from surrounding neighboring areas, so that the vapor pressure tends to be higher than the outer edge area, and this unevenness in vapor pressure is reduced. It is important to obtain a functional film (film) having a good profile.

特許文献1には、多孔質の整流板を基板と対向して配置し、基板上方の蒸気を整流板の全面から一様に排気させるようにして、蒸気流の均一化を図った乾燥方法が提案されている。また、この文献に係る乾燥方法では、基板の外縁に臨んで溶剤噴霧手段を設けて、外縁領域における蒸気圧を補正することにより、蒸気圧分布の一層の均一化を図っている。   Patent Document 1 discloses a drying method in which a porous rectifying plate is arranged to face a substrate, and vapor above the substrate is exhausted uniformly from the entire surface of the rectifying plate, thereby achieving a uniform vapor flow. Proposed. In the drying method according to this document, solvent spraying means is provided facing the outer edge of the substrate, and the vapor pressure distribution in the outer edge region is corrected to further uniform the vapor pressure distribution.

特開2004−186419号公報JP 2004-186419 A

しかしながら、上述のような溶剤噴霧手段を利用した乾燥方法の場合、複雑な装置構成の乾燥装置が必要であり、また、多様なサイズや形状の基板に対応させることも困難である。   However, in the case of the drying method using the solvent spraying means as described above, a drying apparatus having a complicated apparatus configuration is required, and it is difficult to cope with substrates of various sizes and shapes.

また近年、微小ノズルから液滴を吐出させて描画を行ういわゆる液滴吐出法により、基板上に液状体をパターニングし、パターン化された機能性膜を形成する手法が広く用いられるようになってきている(例えば、特開平11−274671号公報など)。このようにあらかじめパターニングされている液状体を乾燥させるにあたっては、基板の全面に塗布された液状体の場合とは異なった特有の問題がある。すなわち、個体単位でパターニングされた液状体(以下、個体パターンとする)は、それぞれが独立した集合体をなしているので、各個体パターン内の中央領域と外縁領域との間で、上述したような蒸気圧分布のムラが生じてしまうのである。   In recent years, a technique of patterning a liquid material on a substrate and forming a patterned functional film by a so-called droplet discharge method in which drawing is performed by discharging droplets from minute nozzles has been widely used. (For example, JP-A-11-274671). Thus, in drying the liquid material that has been patterned in advance, there is a specific problem different from the case of the liquid material applied to the entire surface of the substrate. That is, since the liquid material patterned in individual units (hereinafter referred to as individual patterns) forms an independent assembly, as described above, between the central region and the outer edge region in each individual pattern. As a result, uneven vapor pressure distribution occurs.

本発明は、上述の課題を解決するためになされたもので、基板面内領域間の乾燥ムラを好適に低減することができる乾燥方法、乾燥装置、および、当該乾燥方法を用いた成膜方法、電気光学装置の製造方法、並びに、当該乾燥方法を用いて製造された電気光学装置、電子機器を提供することを目的としている。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and a drying method, a drying apparatus, and a film forming method using the drying method that can suitably reduce drying unevenness between regions in the substrate surface. It is an object of the present invention to provide an electro-optical device manufacturing method, and an electro-optical device and an electronic apparatus manufactured using the drying method.

本発明は、一面に液状体の個体パターンが配置された基板についての乾燥方法であって、前記基板の一面側における空間を、前記基板の外形に合わせて物理的に区画する区画工程と、前記基板を乾燥させる乾燥工程と、を有することを特徴とする。   The present invention is a drying method for a substrate on which a solid pattern of a liquid material is arranged on one surface, and a partitioning step for physically partitioning a space on one surface side of the substrate in accordance with an outer shape of the substrate; And a drying step for drying the substrate.

この発明の乾燥方法によれば、基板の一面側の空間を基板の外形に合わせて区画した状態で、基板(個体パターン)の乾燥を行うことにより、区画空間内における液状体の蒸気流を基板面に垂直にするように規制することができる。これにより、比較的簡単な方法でありながら、個体パターン近傍における蒸気圧分布が基板面内の領域間で均一化され、当該領域間の乾燥ムラが低減される。   According to the drying method of the present invention, the substrate (solid pattern) is dried in a state where the space on one surface side of the substrate is partitioned according to the outer shape of the substrate, whereby the vapor flow of the liquid material in the partitioned space is transferred to the substrate. It can be regulated to be perpendicular to the surface. Thereby, although it is a comparatively simple method, the vapor pressure distribution in the vicinity of the solid pattern is made uniform between regions in the substrate surface, and drying unevenness between the regions is reduced.

本発明は、一面に液状体の個体パターンが配置された基板についての乾燥方法であって、前記基板の一面側における空間を、前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画する区画工程と、前記基板を乾燥させる乾燥工程と、を有することを特徴とする。   The present invention is a drying method for a substrate on which a solid pattern of a liquid material is arranged on one side, and a partitioning step of physically partitioning a space on one side of the substrate in accordance with the arrangement area of the individual pattern; And a drying step of drying the substrate.

この発明の乾燥方法によれば、基板の一面側の空間を個体パターンの配置領域に合わせて区画した状態で、基板(個体パターン)の乾燥を行うことにより、区画空間内における液状体の蒸気流を基板面に垂直にするように規制することができる。これにより、個体パターン近傍における蒸気圧分布が個体パターン内の領域間で均一化され、当該領域間の乾燥ムラが低減される。   According to the drying method of the present invention, by drying the substrate (individual pattern) in a state where the space on one surface side of the substrate is partitioned in accordance with the arrangement area of the individual pattern, the vapor flow of the liquid material in the partitioned space is performed. Can be regulated to be perpendicular to the substrate surface. As a result, the vapor pressure distribution in the vicinity of the individual pattern is made uniform between regions in the individual pattern, and drying unevenness between the regions is reduced.

また好ましくは、前記乾燥方法において、前記個体パターンの配置領域と前記区画された空間領域の境界との基板面内距離が、前記区画された空間内における前記液状体の蒸気の平均自由行程ないしその100倍の距離の範囲内で設定されていることを特徴とする。
この発明の乾燥方法によれば、区画空間を形成することによる蒸気流の規制の効果を十分なものとすることができる。
Preferably, in the drying method, an in-plane distance between the arrangement area of the individual pattern and a boundary of the partitioned space area is an average free path of vapor of the liquid material in the partitioned space or the It is characterized by being set within a range of 100 times distance.
According to the drying method of the present invention, the effect of regulating the steam flow by forming the compartment space can be made sufficient.

また好ましくは、前記乾燥方法において、前記区画工程は、前記基板の一面側に仕切り部材を設置して行うことを特徴とする。
この発明の乾燥方法によれば、仕切り部材を用いて簡単に上記区画工程を行うことができる。
Preferably, in the drying method, the partitioning step is performed by installing a partition member on one surface side of the substrate.
According to the drying method of the present invention, the partitioning process can be easily performed using a partition member.

また好ましくは、仕切り部材を用いる前記乾燥方法において、前記仕切り部材と前記基板の一面とを密着させることを特徴とする。
この発明の乾燥方法によれば、区画空間を形成することによる蒸気流の規制をより確実に行うことができる。
Preferably, in the drying method using a partition member, the partition member and one surface of the substrate are brought into close contact with each other.
According to the drying method of the present invention, it is possible to more reliably regulate the steam flow by forming the compartment space.

また好ましくは、前記乾燥方法において、前記区画された空間を介して前記基板と対向するように整流板が配置された状態で、前記乾燥工程を行うことを特徴とする。
この発明の乾燥方法によれば、整流板によって区画空間内における蒸気圧分布をより均一化させることができる。
Preferably, in the drying method, the drying step is performed in a state in which a current plate is disposed so as to face the substrate through the partitioned space.
According to the drying method of the present invention, the vapor pressure distribution in the compartment space can be made more uniform by the current plate.

本発明は、一面に液状体の個体パターンが配置された基板の乾燥を行うための乾燥装置であって、前記基板を収容するための気密室と、前記気密室内において、前記基板の一面側における空間を前記基板の外形に合わせて物理的に区画可能な区画手段と、を備えることを特徴とする。   The present invention is a drying apparatus for drying a substrate on which a solid pattern of a liquid material is arranged on one side, in an airtight chamber for containing the substrate, and in one side of the substrate in the airtight chamber Partitioning means capable of physically partitioning the space according to the outer shape of the substrate.

この発明の乾燥装置によれば、基板の一面側の空間を基板の外形に合わせて区画した状態で、基板(個体パターン)の乾燥を行い、区画空間内における液状体の蒸気流を基板面に垂直にするように規制することができる。これにより、比較的簡単な方法でありながら、個体パターン近傍における蒸気圧分布が基板面内の領域間で均一化され、当該領域間の乾燥ムラが低減される。   According to the drying apparatus of the present invention, the substrate (solid pattern) is dried in a state where the space on one surface side of the substrate is partitioned according to the outer shape of the substrate, and the vapor flow of the liquid material in the partition space is applied to the substrate surface. It can be regulated to be vertical. Thereby, although it is a comparatively simple method, the vapor pressure distribution in the vicinity of the solid pattern is made uniform between regions in the substrate surface, and drying unevenness between the regions is reduced.

本発明は、一面に液状体の個体パターンが配置された基板の乾燥を行うための乾燥装置であって、前記基板を収容するための気密室と、前記気密室内において、前記基板の一面側における空間を前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画可能な区画手段と、を備えることを特徴とする。   The present invention is a drying apparatus for drying a substrate on which a solid pattern of a liquid material is arranged on one side, in an airtight chamber for containing the substrate, and in one side of the substrate in the airtight chamber Partitioning means capable of physically partitioning the space according to the arrangement area of the individual pattern.

この発明の乾燥装置によれば、基板の一面側の空間を個体パターンの配置領域に合わせて区画した状態で、基板(個体パターン)の乾燥を行い、区画空間内における蒸気流を基板面に垂直にするように規制することができる。これにより、個体パターン近傍における蒸気圧分布が個体パターン内の領域間で均一化され、当該領域間の乾燥ムラが低減される。   According to the drying apparatus of the present invention, the substrate (individual pattern) is dried in a state where the space on one surface side of the substrate is partitioned according to the arrangement area of the individual pattern, and the vapor flow in the partition space is perpendicular to the substrate surface. Can be regulated. As a result, the vapor pressure distribution in the vicinity of the individual pattern is made uniform between regions in the individual pattern, and drying unevenness between the regions is reduced.

また好ましくは、前記乾燥装置において、前記区画手段を介して前記基板と対向して配置される整流板をさらに備えることを特徴とする。
この発明の乾燥方法によれば、整流板によって区画空間内の蒸気圧分布をより均一化させることができる。
Preferably, the drying device further includes a current plate arranged to face the substrate through the partitioning means.
According to the drying method of the present invention, the vapor pressure distribution in the compartment space can be made more uniform by the current plate.

本発明の成膜方法は、基板の一面に液状体の個体パターンを配置し、前記乾燥方法で前記基板の乾燥を行って、前記個体パターンを膜化させることを特徴とする。   The film forming method of the present invention is characterized in that a solid pattern of a liquid material is disposed on one surface of a substrate, and the substrate is dried by the drying method to form the solid pattern.

本発明は、パターン化された機能性膜を備える電気光学装置の製造方法であって、前記機能性膜は、前記成膜方法を用いて形成されることを特徴とする。   The present invention is a method for manufacturing an electro-optical device including a patterned functional film, wherein the functional film is formed using the film forming method.

本発明は、パターン化された機能性膜を備える電気光学装置であって、前記機能性膜は、基板の一面に液状体の個体パターンが配置され、前記基板の一面側における空間が前記基板の外形に合わせて物理的に区画された状態で乾燥されて形成されることを特徴とする。   The present invention is an electro-optical device including a patterned functional film, wherein the functional film has a solid pattern of a liquid material disposed on one surface of the substrate, and a space on the one surface side of the substrate is the surface of the substrate. It is formed by being dried in a state of being physically partitioned in accordance with the outer shape.

本発明は、パターン化された機能性膜を備える電気光学装置であって、前記機能性膜は、基板の一面に液状体の個体パターンが配置され、前記基板の一面側における空間が前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画された状態で乾燥されて形成されることを特徴とする。   The present invention is an electro-optical device including a patterned functional film, wherein the functional film has a liquid solid pattern disposed on one surface of the substrate, and a space on the one surface side of the substrate is the solid pattern. It is formed by being dried in a state of being physically partitioned in accordance with the arrangement area.

本発明の電子機器は、前記電気光学装置を備えることを特徴とする。   According to another aspect of the invention, an electronic apparatus includes the electro-optical device.

以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。また、以下の説明で参照する図では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、これらの縮尺を実際のものとは異なるように表している。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
The embodiment described below is a preferred specific example of the present invention, and thus various technically preferable limitations are given. However, the scope of the present invention is particularly limited in the following description. Unless otherwise stated, the present invention is not limited to these forms. In the drawings referred to in the following description, the scales of the layers and the members are shown to be different from the actual ones in order to make each layer and each member recognizable on the drawings.

(第1実施形態)
(乾燥装置)
まずは、図1、図2を参照して本発明に係る乾燥装置について説明する。
図1は、本発明に係る乾燥装置の構成を一部模式化して示す概略図である。図2は、乾燥装置内における整流ユニットと基板との関係を示す斜視図である。
(First embodiment)
(Drying device)
First, the drying apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 is a schematic view showing a part of the configuration of a drying apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a perspective view showing the relationship between the rectifying unit and the substrate in the drying apparatus.

図1に示す乾燥装置1は、一面(基板表面20a)に個体パターン21…が配置された基板20を乾燥させて、機能性膜(膜)を形成(成膜)するのに用いられるものである。ここで、個体パターン21…は、図2に示すように、所定の形状でパターニングされた個体単位の液状体のパターン(集合体)であり、本実施形態では、一つの基板20で9つの個体の機能性膜を形成するようになっている。尚、基板20上に形成される機能性膜の個体数については特別な限定があるわけではなく、例えば、基板20上に単一の個体パターンを配置して機能性膜の形成を行ってもよい。   A drying apparatus 1 shown in FIG. 1 is used to dry a substrate 20 on which a solid pattern 21 is arranged on one surface (substrate surface 20a) to form a functional film (film). is there. Here, as shown in FIG. 2, the individual pattern 21 is a pattern (aggregate) of individual liquid material patterned in a predetermined shape, and in this embodiment, nine individual objects are formed on one substrate 20. The functional film is formed. The number of functional films formed on the substrate 20 is not particularly limited. For example, even if a single individual pattern is arranged on the substrate 20 to form the functional film. Good.

図1において、乾燥装置1は、気密室としてのチャンバ9を形成する容器体2および蓋体3と、チャンバ9内において基板20を載置するための載置台4と、チャンバ9内を減圧するための減圧ポンプ5および送気管6と、チャンバ9内において基板20と対向して設けられた整流ユニット30と、を備えている。送気管6は、容器体2の底部に複数設けられた排気口7を介してチャンバ9と連通されている。整流ユニット30は、蓋体3の内壁側で可動連結部8と連結されており、図示しない駆動機構により図の上下方向に移動可能となっている。   In FIG. 1, a drying apparatus 1 includes a container body 2 and a lid body 3 that form a chamber 9 as an airtight chamber, a mounting table 4 for mounting a substrate 20 in the chamber 9, and a pressure reduction in the chamber 9. For this purpose, the pressure reducing pump 5 and the air supply pipe 6 are provided, and a rectifying unit 30 provided facing the substrate 20 in the chamber 9 is provided. The air supply pipe 6 communicates with the chamber 9 through a plurality of exhaust ports 7 provided at the bottom of the container body 2. The rectifying unit 30 is connected to the movable connecting portion 8 on the inner wall side of the lid 3 and can be moved in the vertical direction in the drawing by a driving mechanism (not shown).

整流ユニット30は、図2に示すように、枠体32と弾性体33とからなる複数の区画手段としての仕切り部材31…と、整流板34と、を備えている。枠体32は、板状部材を加工して形成されており、例えば本実施形態では、厚みが1mm、高さ(図の上下方向の寸法)が5mmのSUSプレートが用いられている。弾性体33には、例えば、ゴム等が用いられている。整流板34には、特許文献1に係るような多孔質のセラミック基板を用いることもできるが、本実施形態では、SUSプレートに1.2mm間隔で直径1mmの貫通孔35を穿設したものが用いられている。   As shown in FIG. 2, the rectification unit 30 includes a plurality of partition members 31... As a partition means composed of a frame body 32 and an elastic body 33, and a rectification plate 34. The frame 32 is formed by processing a plate-like member. For example, in this embodiment, a SUS plate having a thickness of 1 mm and a height (a vertical dimension in the figure) of 5 mm is used. For example, rubber or the like is used for the elastic body 33. As the rectifying plate 34, a porous ceramic substrate according to Patent Document 1 can be used, but in the present embodiment, the SUS plate is provided with through holes 35 having a diameter of 1 mm at intervals of 1.2 mm. It is used.

仕切り部材31…は、整流板34の下面にそれぞれ接着固定されて所定の配列をなしており、弾性体33が基板表面20aと密着した状態において、基板表面20aに配置された個体パターン21…の上方空間を、それぞれの配置領域に合わせて物理的に区画するようになっている。   The partition members 31 are adhesively fixed to the lower surface of the current plate 34 to form a predetermined arrangement, and the individual patterns 21 arranged on the substrate surface 20a in a state where the elastic bodies 33 are in close contact with the substrate surface 20a. The upper space is physically partitioned in accordance with each arrangement area.

上述のように、整流ユニット30における仕切り部材31…の区画形状や配列は、個体パターン21…の形状や位置と関連して決められるものである。そこで、整流ユニット30は、形成される機能性膜の種類に応じて対応したものが用意されており、必要に応じて交換が可能となっている。   As described above, the partition shape and arrangement of the partition members 31 in the rectifying unit 30 are determined in relation to the shape and position of the individual pattern 21. Therefore, the rectifying unit 30 is prepared according to the type of the functional film to be formed, and can be replaced as necessary.

(液滴吐出装置)
次に、図3を参照して、個体パターンの描画に用いる液滴吐出装置について説明する。図3は、液滴吐出装置の構成の一例を示す模式図である。
(Droplet discharge device)
Next, with reference to FIG. 3, a droplet discharge device used for drawing an individual pattern will be described. FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an example of the configuration of the droplet discharge device.

図3において、液滴吐出装置200は、一面に複数のノズル212を配した吐出ヘッド201と、吐出ヘッド201と対向する位置に吐出対象媒体202を載置するための載置台203とを備えている。また、吐出ヘッド201を、吐出対象媒体202との距離を保ったまま縦横に移動(走査)させる走査手段204と、吐出ヘッド201に液状体を供給する液状体供給手段205と、吐出ヘッド201の吐出制御を行う吐出制御手段206と、を備えている。   In FIG. 3, the droplet discharge device 200 includes a discharge head 201 having a plurality of nozzles 212 arranged on one surface, and a mounting table 203 for mounting a discharge target medium 202 at a position facing the discharge head 201. Yes. Further, a scanning unit 204 that moves (scans) the ejection head 201 horizontally and vertically while maintaining a distance from the ejection target medium 202, a liquid material supply unit 205 that supplies a liquid material to the ejection head 201, and the ejection head 201 Discharge control means 206 for performing discharge control.

吐出ヘッド201には、複数に枝分かれした微細な流路が形成されており、当該流路の端部は、圧力室(キャビティ)211、ノズル212となっている。圧力室211の外郭の一面は、圧電素子210によって変形可能となっており、吐出制御手段206からの駆動信号によって圧力室211内に圧力を発生させることで、ノズル212から液滴213が吐出される。尚、吐出技術としては、この例のような電気機械方式の他に、電気信号を熱に変換して圧力を発生させるいわゆるサーマル方式などもある。   The discharge head 201 is formed with a plurality of minute flow paths that branch into a pressure chamber (cavity) 211 and a nozzle 212. One surface of the outer wall of the pressure chamber 211 can be deformed by the piezoelectric element 210, and a droplet 213 is discharged from the nozzle 212 by generating pressure in the pressure chamber 211 by a drive signal from the discharge control means 206. The In addition to the electromechanical system as in this example, the discharge technique includes a so-called thermal system in which an electric signal is converted into heat to generate pressure.

上述の構成において、吐出ヘッド201の走査と同期したノズル212毎の吐出制御を行うことにより、吐出対象媒体202上に所望のパターン(形状、大きさ)で液状体を配置することが可能となっている。尚、液滴吐出装置200は、一走査中において複数種の液状体を吐出可能なように構成することもできる。   In the above configuration, by performing ejection control for each nozzle 212 in synchronization with the scanning of the ejection head 201, it is possible to dispose a liquid material in a desired pattern (shape and size) on the ejection target medium 202. ing. The droplet discharge device 200 can also be configured to discharge a plurality of types of liquid materials during one scan.

(成膜方法)
次に、図4のフローチャートに沿って、図1、図2、図5を参照して、本発明に係る成膜方法(乾燥方法含む)について説明する。
図4は、成膜工程のフローを示すフローチャートである。図5は、区画空間内における蒸気流を示す概略断面図である。
(Film formation method)
Next, a film forming method (including a drying method) according to the present invention will be described along the flowchart of FIG. 4 with reference to FIGS.
FIG. 4 is a flowchart showing a flow of the film forming process. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing the vapor flow in the compartment space.

最初の工程S1では、液滴吐出装置200(図3参照)を用いて、基板表面20a上に図2に示すように液状体の個体パターン21…を配置する。尚、図2では、矩形状のパターンが個々の個体パターン21とされているが、その態様は機能性膜の種類によって様々である。例えば、所定領域に複数の独立パターン(集合体)が互いに分断されて配置されているような態様であっても、当該個々の独立パターンが互いに関連して個体としての性格を有するのならば、全体を一つの個体パターンとみなすことができる。   In the first step S1, liquid solid patterns 21 are arranged on the substrate surface 20a as shown in FIG. 2 using the droplet discharge device 200 (see FIG. 3). In FIG. 2, the rectangular pattern is an individual pattern 21, but the mode varies depending on the type of functional film. For example, even in a mode in which a plurality of independent patterns (aggregates) are separated from each other in a predetermined region, if the individual independent patterns have an individual character in relation to each other, The whole can be regarded as one individual pattern.

液状体には、得ようとする機能性膜を構成する機能性材料を水や有機溶媒に溶解ないし分散させたものが用いられる。また、液状体には、レオロジー特性や保存安定性を調整するための添加剤や、バインダー樹脂等を添加することもできる。   As the liquid, a material obtained by dissolving or dispersing a functional material constituting the functional film to be obtained in water or an organic solvent is used. In addition, an additive for adjusting rheological properties and storage stability, a binder resin, and the like can be added to the liquid.

基板表面20aとは、狭義に基材表面のみのことを表しているのではなく、基材表面上に電気配線等の機能層が形成されている場合も含めた最表層のことを表している。また、個体パターン21…の配置に先立って、基板表面20aの親液性/撥液性の改質のために、プラズマ処理を施したり、官能基を有する鎖状分子からなる自己組織化膜を形成しておくこともできる。また、個体パターン21…の形状を高精度に規定するために、基板表面20aにあらかじめ樹脂等で区画構造物(バンク)を形成しておくこともできる。   The substrate surface 20a does not represent only the base material surface in a narrow sense, but represents the outermost layer including the case where a functional layer such as electric wiring is formed on the base material surface. . Prior to the arrangement of the individual patterns 21..., A plasma treatment or a self-assembled film made of a chain molecule having a functional group is applied to improve the lyophilic / liquid repellency of the substrate surface 20a. It can also be formed. Further, in order to define the shape of the individual pattern 21 with high accuracy, a partition structure (bank) can be formed on the substrate surface 20a in advance with a resin or the like.

次の工程S2では、乾燥装置1の蓋体3を開けて、載置台4上に基板20を移送する。基板20は、図示しない位置決め手段によって載置台4上の所定の位置に載置され、整流ユニット30との位置関係が規定されるようになっている。   In the next step S <b> 2, the lid 3 of the drying apparatus 1 is opened, and the substrate 20 is transferred onto the mounting table 4. The board | substrate 20 is mounted in the predetermined position on the mounting base 4 by the positioning means which is not shown in figure, and the positional relationship with the rectification | straightening unit 30 is prescribed | regulated.

次の工程S3では、図示しない駆動手段によって整流ユニット30が基板20に向かって降下され、基板20上に設置される。これにより、個体パターン21…の上方の空間が各仕切り部材31…によって区画される。すなわち、この工程S3は、本発明における区画工程となっている。   In the next step S <b> 3, the rectification unit 30 is lowered toward the substrate 20 by a driving unit (not shown) and installed on the substrate 20. Thereby, the space above the individual patterns 21 is partitioned by the partition members 31. That is, this step S3 is a partitioning step in the present invention.

次の工程S4では、減圧ポンプ5の稼動によりチャンバ9内を減圧させ、100Pa程度の真空度で基板20(個体パターン21…)の乾燥を行う。すなわち、この工程S4は、本発明における乾燥工程となっている。   In the next step S4, the inside of the chamber 9 is depressurized by the operation of the decompression pump 5, and the substrate 20 (solid pattern 21...) Is dried at a degree of vacuum of about 100 Pa. That is, this step S4 is a drying step in the present invention.

図5に示すように、仕切り部材31で区画された区画空間36内における液状体の蒸気流(矢印で図示)は、基板20の基板面にほぼ垂直となる。これは、仕切り部材31によって蒸気拡散の基板面内方向の成分が打ち消されるためであり、仕切り部材31による区画領域を個体パターン21配置領域に近接させることで、その効果は大きくなる。好ましくは、仕切り部材31と個体パターン21との基板面内距離dを、区画空間36内における蒸気の平均自由行程(数百μmオーダー)ないしその100倍の範囲内とすることが理想的である。また、本実施形態では、弾性体33により仕切り部材31と基板表面20aとを密着させることで、このような蒸気流の規制をより確実に行うようにしている。   As shown in FIG. 5, the vapor flow (illustrated by arrows) of the liquid material in the partition space 36 partitioned by the partition member 31 is substantially perpendicular to the substrate surface of the substrate 20. This is because the component in the in-plane direction of the vapor diffusion is canceled by the partition member 31, and the effect is increased by bringing the partition region by the partition member 31 close to the region where the individual pattern 21 is arranged. Preferably, the in-plane distance d between the partition member 31 and the individual pattern 21 is ideally within the range of the mean free path (several hundred μm order) of steam in the partition space 36 or 100 times that. . In the present embodiment, the partition member 31 and the substrate surface 20a are brought into close contact with each other by the elastic body 33, so that the steam flow is more reliably regulated.

かくして、個体パターン21の近傍における蒸気流が、基板面内方向で均一化されるため、個体パターン21内の各領域においてムラなく乾燥、膜化がなされ、プロファイルの良好な機能性膜を得ることができる。   Thus, since the vapor flow in the vicinity of the individual pattern 21 is made uniform in the in-plane direction of the substrate, each region in the individual pattern 21 is uniformly dried and formed into a film, and a functional film having a good profile is obtained. Can do.

また、本実施形態では、特に基板20と対向して多孔性の整流板34を配置することで、区画空間36内における蒸気流の一層の均一化を図ると共に、個々の区画空間36間の蒸気圧ムラの低減を図っている。これは、整流板34の配置によって、一の区画空間36から排気された蒸気が、隣接する他の区画空間36内に最流入しにくくなるためであり、言い換えるならば、個々の区画空間36が、隣接領域の影響を受けない擬似気密空間としての性格を有することになるためである。   In the present embodiment, in particular, by arranging the porous rectifying plate 34 so as to face the substrate 20, the vapor flow in the partition space 36 is further uniformed, and the steam between the individual partition spaces 36 is also achieved. The pressure unevenness is reduced. This is because the steam exhausted from one partition space 36 hardly flows into the other adjacent partition spaces 36 due to the arrangement of the rectifying plates 34, in other words, the individual partition spaces 36 are separated from each other. This is because it has a character as a pseudo airtight space that is not affected by the adjacent region.

(液晶表示装置およびその製造方法)
次に、図6を参照して、本発明に係る電気光学装置の一例としての液晶表示装置について説明する。
図6は、液晶表示装置の要部構造を示す概略断面図である。
(Liquid crystal display device and manufacturing method thereof)
Next, a liquid crystal display device as an example of an electro-optical device according to the invention will be described with reference to FIG.
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing the main structure of the liquid crystal display device.

図6に示すように、電気光学装置としての液晶表示装置50は、パッシブマトリクス型液晶表示装置であって、複数の着色膜64を有するカラーフィルタ基板(CF基板)61と、複数の電極68を有する対向基板71と、CF基板61と対向基板71との間に狭持された液晶70とを備えた液晶表示パネル60を有している。このような液晶表示装置50は、受光型の表示装置であるため、例えば対向基板71の背面側にLED素子、EL、冷陰極管などの光源を有する照明装置(図示を省略)を備えている。尚、本実施形態の液晶表示装置50は、これに限定されず、例えば対向基板71にTFTやTFDなどのスイッチング素子を備えたアクティブマトリクス型液晶表示装置であってもよい。   As shown in FIG. 6, a liquid crystal display device 50 as an electro-optical device is a passive matrix liquid crystal display device, and includes a color filter substrate (CF substrate) 61 having a plurality of colored films 64 and a plurality of electrodes 68. The liquid crystal display panel 60 includes a counter substrate 71 having a liquid crystal 70 sandwiched between the CF substrate 61 and the counter substrate 71. Since such a liquid crystal display device 50 is a light-receiving display device, for example, an illumination device (not shown) having a light source such as an LED element, EL, or cold cathode tube is provided on the back side of the counter substrate 71. . In addition, the liquid crystal display device 50 of this embodiment is not limited to this, For example, the active substrate type liquid crystal display device provided with switching elements, such as TFT and TFD, in the opposing board | substrate 71 may be sufficient.

対向基板71は、例えば透明な樹脂またはガラス基板を用いており、その液晶70側の表面にITOからなる透明な複数の電極68を有している。電極68は、対向するCF基板61に設けられたITOからなる透明な電極66と直交してY方向に延在している。すなわち、液晶表示パネル60は、互いに対向すると共に直交して格子状に配置された電極66と電極68とを有している。そして電極66と電極68とが直交して重なった部分が表示用の画素領域となっている。   The counter substrate 71 uses, for example, a transparent resin or glass substrate, and has a plurality of transparent electrodes 68 made of ITO on the surface on the liquid crystal 70 side. The electrode 68 extends in the Y direction orthogonal to the transparent electrode 66 made of ITO provided on the opposing CF substrate 61. In other words, the liquid crystal display panel 60 includes electrodes 66 and 68 that are opposed to each other and are orthogonally arranged in a grid pattern. A portion where the electrode 66 and the electrode 68 overlap at right angles is a display pixel region.

CF基板61は、例えば透明な樹脂またはガラス基板を用いており、表面に色要素領域に対応して開口している下層バンクとしての遮光膜62と、遮光膜62の上に設けられた上層バンク63とを備えている。また上層バンク63によって区画された色要素領域にR(赤色)、G(緑色)、B(青色)に対応する色要素としての着色膜64と、着色膜64と上層バンク63とを覆う平坦化層としてのOC(オーバーコート)膜65とを備えている。電極66はOC膜65上に形成されている。尚、電極66との密着性を確保するために、OC膜65の上にさらにSiO2などの薄膜を形成するようにしてもよい。 The CF substrate 61 uses, for example, a transparent resin or glass substrate, and has a light shielding film 62 as a lower bank opened on the surface corresponding to the color element region, and an upper layer bank provided on the light shielding film 62. 63. Further, the color element region partitioned by the upper layer bank 63 is colored to cover the color film 64 as the color element corresponding to R (red), G (green), and B (blue), and the color film 64 and the upper layer bank 63. An OC (overcoat) film 65 is provided as a layer. The electrode 66 is formed on the OC film 65. In order to ensure adhesion with the electrode 66, a thin film such as SiO 2 may be further formed on the OC film 65.

液晶表示パネル60は、このようなCF基板61と対向基板71とをギャップ材72を介して所定の間隔で対向配置させ、図示しないシール材を用いて接合させたものである。また、シール材により液晶70を2つの基板61,71の間に封止したものである。2つの基板61,71の液晶70に面する側には、液晶70を所定の方向に配向させる配向膜67,69が設けられている。   In the liquid crystal display panel 60, such a CF substrate 61 and a counter substrate 71 are arranged to face each other at a predetermined interval via a gap material 72, and are bonded using a seal material (not shown). Further, the liquid crystal 70 is sealed between the two substrates 61 and 71 by a sealing material. Alignment films 67 and 69 for aligning the liquid crystal 70 in a predetermined direction are provided on the two substrates 61 and 71 facing the liquid crystal 70.

尚、液晶表示パネル60の前面側と背面側の表面には、通常、入射あるいは出射する光を偏向させる偏光板や、視角等を改善するための光学機能性フィルムとしての位相差フィルム等が配設されるが、これらは省略している。   The front and back surfaces of the liquid crystal display panel 60 are usually provided with a polarizing plate for deflecting incident or outgoing light, a retardation film as an optical functional film for improving the viewing angle, and the like. However, these are omitted.

遮光膜62は、CF基板61上に、Cr、Ni、Al等の不透明な金属、あるいはこれらの金属の酸化物等の化合物を材料として、気相法とフォトリソグラフィー法を用いて製造することができる。   The light shielding film 62 can be manufactured on the CF substrate 61 using an opaque metal such as Cr, Ni, and Al, or a compound such as an oxide of these metals, using a vapor phase method and a photolithography method. it can.

上層バンク63は、遮光膜62が形成されたCF基板61上に、ロールコート法やスピンコート法により厚みがおよそ2μmの感光性樹脂層を形成した後、フォトリソグラフィー法によりパターニングを施して得ることができる。   The upper layer bank 63 is obtained by forming a photosensitive resin layer having a thickness of about 2 μm by a roll coating method or a spin coating method on the CF substrate 61 on which the light shielding film 62 is formed, and then performing patterning by a photolithography method. Can do.

機能性膜としての着色膜64B,64G,64Rは、それぞれB,G,Rに対応する三色の色材(有機顔料)を含む液状体を用い、上述した成膜方法により形成することができる。すなわち、上層バンク63によって区画された色要素領域に液状体を付与して個体パターンの配置を行い、区画工程S3および乾燥工程S4(図4参照)を経て着色膜64B,64G,64Rを形成する。この場合において、複数の色要素領域にそれぞれ配置された液状体パターンの、液晶表示パネル60の個体毎における集合が、それぞれの個体パターンを構成することになる。   The colored films 64B, 64G, and 64R as functional films can be formed by the above-described film forming method using liquid materials including three color materials (organic pigments) corresponding to B, G, and R, respectively. . That is, a liquid material is applied to the color element regions partitioned by the upper bank 63 to arrange individual patterns, and the colored films 64B, 64G, and 64R are formed through the partitioning step S3 and the drying step S4 (see FIG. 4). . In this case, a set of liquid patterns arranged in the plurality of color element regions for each individual liquid crystal display panel 60 constitutes each individual pattern.

機能性膜としてのOC膜65は、透明なアクリル系樹脂を含む液状体を用いて、スピンコート法、オフセット印刷により形成することができるほか、上述した成膜方法により形成することもできる。   The OC film 65 as a functional film can be formed by spin coating or offset printing using a liquid containing a transparent acrylic resin, or by the above-described film forming method.

機能性膜としての電極66,68は、気相法およびフォトリソグラフィー法を用いて形成することができるほか、液状体としてAu,Ag,Pt等の金属微粒子の分散液を用い、上述した成膜方法により形成することもできる。   The electrodes 66 and 68 as functional films can be formed by using a vapor phase method and a photolithography method, and the above-described film formation is performed using a dispersion liquid of metal fine particles such as Au, Ag, and Pt as a liquid material. It can also be formed by a method.

機能性膜としての配向膜67,69は、ポリイミド樹脂などを含む液状体を用いて、上述した成膜方法により成膜を行った後、ラビング処理により配向性を付与して形成される。   The alignment films 67 and 69 as functional films are formed by forming a film by the above-described film forming method using a liquid material including a polyimide resin or the like and then imparting alignment by a rubbing process.

このように、上述の成膜方法を用いて製造された液晶表示装置50は、プロファイルの良好な各種機能性膜を備えているので、高品質である。   As described above, the liquid crystal display device 50 manufactured using the above-described film forming method is provided with various functional films having good profiles, and thus has high quality.

(電子機器)
次に、図7を参照して、本発明に係る電子機器の一例としての携帯型情報処理装置について説明する。
図7は、携帯型情報処理装置を示す概略斜視図である。
(Electronics)
Next, a portable information processing apparatus as an example of an electronic apparatus according to the invention will be described with reference to FIG.
FIG. 7 is a schematic perspective view showing the portable information processing apparatus.

図7に示すように、電子機器としての携帯型情報処理装置300は、入力用のキーボード301を有する情報処理装置本体303と、表示部302とを備えている。表示部302には、液晶表示装置50が用いられている。この携帯型情報処理装置300は、上記液晶表示装置50を備えているので、高品質である。   As shown in FIG. 7, a portable information processing device 300 as an electronic device includes an information processing device main body 303 having an input keyboard 301 and a display unit 302. A liquid crystal display device 50 is used for the display unit 302. Since this portable information processing device 300 includes the liquid crystal display device 50, it is of high quality.

(第2実施形態)
次に、図8を参照して、本発明の第2実施形態ついて、第1実施形態との相違点を中心に説明する。図8は、第2実施形態に係る仕切り部材と基板との関係を示す断面図である。
(Second Embodiment)
Next, with reference to FIG. 8, a second embodiment of the present invention will be described focusing on differences from the first embodiment. FIG. 8 is a cross-sectional view showing the relationship between the partition member and the substrate according to the second embodiment.

この第2実施形態では、乾燥装置内において、基板20の外形に合わせて個体パターン21…の上方空間を区画するように仕切り部材41が配置され、さらに仕切り部材41を挟んで基板20と対向するように整流板42が配置されるようになっている。仕切り部材41と整流板42とは独立した構成となっており、仕切り部材41は、図示しない位置決め手段によって載置台4上の規定された位置に載置される。また、整流板42は、仕切り部材41の上縁41aからわずかに離間して配置される。   In the second embodiment, the partition member 41 is arranged so as to partition the upper space of the individual pattern 21 in accordance with the outer shape of the substrate 20 in the drying apparatus, and further faces the substrate 20 with the partition member 41 interposed therebetween. Thus, the current plate 42 is arranged. The partition member 41 and the rectifying plate 42 are independent from each other, and the partition member 41 is placed at a specified position on the mounting table 4 by positioning means (not shown). Further, the rectifying plate 42 is arranged slightly spaced from the upper edge 41 a of the partition member 41.

この実施形態のように、仕切り部材と整流板とは独立した構成となっていてもよいし、仕切り部材と整流板とは、離間して配置されるようになっていてもよい。   As in this embodiment, the partition member and the current plate may be independent of each other, or the partition member and the current plate may be arranged separately.

また、この第2実施形態のように、基板20の外形に合わせて区画を行うようにした態様にあっては、仕切り部材41による蒸気流の整流作用によって、基板面内の領域間における蒸気圧分布の均一化が図られる。これにより、個体パターン21…個々の乾燥(膜化)が一様になされ、膜プロファイルの個体ばらつきが好適に抑えられる。   Further, in the embodiment in which the partitioning is performed in accordance with the outer shape of the substrate 20 as in the second embodiment, the vapor pressure between the regions in the substrate surface is obtained by the rectifying action of the vapor flow by the partition member 41. The distribution is made uniform. As a result, the individual patterns 21... Are dried uniformly (film formation), and individual variations in the film profile are suitably suppressed.

本発明は上述の実施形態に限定されない。
例えば、上述の実施形態は、単一の基板上に複数の個体パターンが配置される態様であったが、複数の個片基板を単一パレット上に配列した状態において、個体パターンの配置、区画、乾燥の各工程を行うようにしてもよい。
また、区画工程は、印刷法等を用いて、基板表面上に区画構造物を形成することで行うようにしてもよい。
また、乾燥工程は、整流板を用いず、仕切り部材のみで行うようにしてもよい。
また、乾燥方式は、上述の実施形態のような減圧乾燥に限定されるものではなく、温風送風による乾燥や、自然乾燥等であってもよい。
また、本発明に係る電気光学装置ないし機能性膜の別の例として、有機エレクトロルミネッセンス表示装置における発光膜や正孔輸送膜、プラズマディスプレイ装置における蛍光膜、電界放出型表示装置(表面電界型を含む)などを挙げることができる。また、これらの電気光学装置において、画素駆動用配線やTFT素子などを上述の成膜方法を用いて形成することもできる。
また、各実施形態の各構成はこれらを適宜組み合わせたり、省略したり、図示しない他の構成と組み合わせたりすることができる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment.
For example, in the above-described embodiment, a plurality of individual patterns are arranged on a single substrate. However, in a state where a plurality of individual substrates are arranged on a single pallet, the arrangement and partitioning of individual patterns are performed. Each step of drying may be performed.
Moreover, you may be made to perform a division process by forming a division structure on a substrate surface using a printing method etc.
Moreover, you may make it perform a drying process only with a partition member, without using a baffle plate.
Further, the drying method is not limited to the reduced-pressure drying as in the above-described embodiment, and may be drying by hot air blowing, natural drying, or the like.
Further, as another example of the electro-optical device or the functional film according to the present invention, a light emitting film or a hole transport film in an organic electroluminescence display device, a fluorescent film in a plasma display device, a field emission display device (surface electric field type) Including). In these electro-optical devices, pixel driving wirings, TFT elements, and the like can be formed using the above-described film forming method.
Moreover, each structure of each embodiment can combine these suitably, can be abbreviate | omitted, or can combine with the other structure which is not shown in figure.

本発明に係る乾燥装置の構成を一部模式化して示す概略図。1 is a schematic diagram showing a part of a configuration of a drying apparatus according to the present invention. 乾燥装置内における整流ユニットと基板との関係を示す斜視図。The perspective view which shows the relationship between the rectification | straightening unit in a drying apparatus, and a board | substrate. 液滴吐出装置の構成の一例を示す模式図。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an example of a configuration of a droplet discharge device. 成膜工程のフローを示すフローチャート。The flowchart which shows the flow of a film-forming process. 区画空間内における蒸気流を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the vapor flow in the division space. 液晶表示装置の要部構造を示す概略断面図。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a main part structure of a liquid crystal display device. 携帯型情報処理装置を示す概略斜視図。The schematic perspective view which shows a portable information processing apparatus. 第2実施形態に係る仕切り部材と基板との関係を示す断面図。Sectional drawing which shows the relationship between the partition member which concerns on 2nd Embodiment, and a board | substrate.

符号の説明Explanation of symbols

1…乾燥装置、2…容器体、3…蓋体、4…載置台、5…減圧ポンプ、6…送気管、7…排気口、8…可動連結部、9…気密室としてのチャンバ、20…基板、20a…基板の一面としての基板表面、21…個体パターン、30…整流ユニット、31…区画手段としての仕切り部材、32…枠体、33…弾性体、34…整流板、35…貫通孔、36…区画空間、41…区画手段としての仕切り部材、42…整流板、50…電気光学装置としての液晶表示装置、60…液晶表示パネル、61…CF基板、62…遮光膜、63…上層バンク、64…機能性膜としての着色膜、65…機能性膜としてのOC膜、66,68…機能性膜としての電極、67,69…機能性膜としての配向膜、70…液晶、71…対向基板、72…ギャップ材、300…電子機器としての携帯型情報処理装置、301…キーボード、302…表示部、303…情報処理装置本体。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Drying device, 2 ... Container body, 3 ... Cover body, 4 ... Mounting stand, 5 ... Decompression pump, 6 ... Air supply pipe, 7 ... Exhaust port, 8 ... Movable connection part, 9 ... Chamber as airtight chamber, 20 ... substrate, 20a ... substrate surface as one surface of the substrate, 21 ... solid pattern, 30 ... rectifying unit, 31 ... partition member as partition means, 32 ... frame, 33 ... elastic body, 34 ... rectifying plate, 35 ... penetrating Holes 36... Partitioning space 41. Partitioning member as partitioning means 42 42 rectifying plate 50 50 liquid crystal display device as electro-optical device 60 liquid crystal display panel 61 CF substrate 62 light shielding film 63 Upper layer bank, 64 ... colored film as functional film, 65 ... OC film as functional film, 66, 68 ... electrode as functional film, 67, 69 ... alignment film as functional film, 70 ... liquid crystal, 71 ... Counter substrate, 72 ... Gap material, 300 ... Portable information processing apparatus as a child device, 301 ... keyboard 302 ... display unit, 303 ... information processing apparatus main body.

Claims (14)

一面に液状体の個体パターンが配置された基板についての乾燥方法であって、
前記基板の一面側における空間を、前記基板の外形に合わせて物理的に区画する区画工程と、
前記基板を乾燥させる乾燥工程と、を有することを特徴とする乾燥方法。
A drying method for a substrate on which a solid pattern of liquid material is arranged on one side,
A partitioning step of physically partitioning the space on the one surface side of the substrate according to the outer shape of the substrate;
And a drying step for drying the substrate.
一面に液状体の個体パターンが配置された基板についての乾燥方法であって、
前記基板の一面側における空間を、前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画する区画工程と、
前記基板を乾燥させる乾燥工程と、を有することを特徴とする乾燥方法。
A drying method for a substrate on which a solid pattern of liquid material is arranged on one side,
A partitioning step of physically partitioning the space on the one surface side of the substrate in accordance with the placement region of the individual pattern;
And a drying step for drying the substrate.
前記個体パターンの配置領域と前記区画された空間領域の境界との基板面内距離が、前記区画された空間内における前記液状体の蒸気の平均自由行程ないしその100倍の距離の範囲内で設定されていることを特徴とする請求項2に記載の乾燥方法。   A substrate in-plane distance between the arrangement area of the individual pattern and the boundary of the partitioned space area is set within a range of an average free path of vapor of the liquid material in the partitioned space or a distance that is 100 times the distance. The drying method according to claim 2, wherein the drying method is performed. 前記区画工程は、前記基板の一面側に仕切り部材を設置して行うことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の乾燥方法。   The drying method according to any one of claims 1 to 3, wherein the partitioning step is performed by installing a partition member on one surface side of the substrate. 前記仕切り部材と前記基板の一面とを密着させることを特徴とする請求項4に記載の乾燥方法。   The drying method according to claim 4, wherein the partition member and the one surface of the substrate are brought into close contact with each other. 前記区画された空間を介して前記基板と対向するように整流板が配置された状態で、前記乾燥工程を行うことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一項に記載の乾燥方法。   The drying method according to any one of claims 1 to 5, wherein the drying step is performed in a state in which a current plate is disposed so as to face the substrate through the partitioned space. 一面に液状体の個体パターンが配置された基板の乾燥を行うための乾燥装置であって、
前記基板を収容するための気密室と、
前記気密室内において、前記基板の一面側における空間を前記基板の外形に合わせて物理的に区画可能な区画手段と、を備えることを特徴とする乾燥装置。
A drying apparatus for drying a substrate in which a solid pattern of liquid material is arranged on one side,
An airtight chamber for accommodating the substrate;
A drying apparatus comprising: partitioning means capable of physically partitioning a space on one surface side of the substrate in accordance with an outer shape of the substrate in the hermetic chamber.
一面に液状体の個体パターンが配置された基板の乾燥を行うための乾燥装置であって、
前記基板を収容するための気密室と、
前記気密室内において、前記基板の一面側における空間を前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画可能な区画手段と、を備えることを特徴とする乾燥装置。
A drying apparatus for drying a substrate in which a solid pattern of liquid material is arranged on one side,
An airtight chamber for accommodating the substrate;
A drying apparatus comprising: partitioning means capable of physically partitioning a space on one surface side of the substrate in accordance with an arrangement region of the solid pattern in the hermetic chamber.
前記区画手段を介して前記基板と対向して配置される整流板をさらに備えることを特徴とする請求項7または8に記載の乾燥装置。   The drying apparatus according to claim 7, further comprising a current plate disposed to face the substrate via the partitioning means. 基板の一面に液状体の個体パターンを配置し、請求項1ないし6のいずれか一項に記載の乾燥方法で前記基板の乾燥を行って、前記個体パターンを膜化させる成膜方法。   The film-forming method which arrange | positions the solid pattern of a liquid body on one surface of a board | substrate, and dries the said board | substrate with the drying method as described in any one of Claim 1 thru | or 6, and forms the said individual pattern into a film. パターン化された機能性膜を備える電気光学装置の製造方法であって、
前記機能性膜は、請求項10に記載の成膜方法を用いて形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method of manufacturing an electro-optical device including a patterned functional film,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the functional film is formed by using the film forming method according to claim 10.
パターン化された機能性膜を備える電気光学装置であって、
前記機能性膜は、基板の一面に液状体の個体パターンが配置され、前記基板の一面側における空間が前記基板の外形に合わせて物理的に区画された状態で乾燥されて形成されることを特徴とする電気光学装置。
An electro-optical device comprising a patterned functional film,
The functional film is formed such that a solid pattern of a liquid material is disposed on one surface of a substrate, and the space on one surface side of the substrate is dried in a state of being physically partitioned according to the outer shape of the substrate. Electro-optical device characterized.
パターン化された機能性膜を備える電気光学装置であって、
前記機能性膜は、基板の一面に液状体の個体パターンが配置され、前記基板の一面側における空間が前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画された状態で乾燥されて形成されることを特徴とする電気光学装置。
An electro-optical device comprising a patterned functional film,
The functional film is formed by drying a liquid solid pattern on one surface of the substrate, and a space on the one surface side of the substrate physically partitioned in accordance with the solid pattern placement region. An electro-optical device.
請求項12または13に記載の電気光学装置を備える電子機器。
An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 12.
JP2005281512A 2005-09-28 2005-09-28 Drying method, drying equipment, and deposition method, method for manufacturing electrooptical apparatus, and electrooptical apparatus, and electronic equipment Withdrawn JP2007090200A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005281512A JP2007090200A (en) 2005-09-28 2005-09-28 Drying method, drying equipment, and deposition method, method for manufacturing electrooptical apparatus, and electrooptical apparatus, and electronic equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005281512A JP2007090200A (en) 2005-09-28 2005-09-28 Drying method, drying equipment, and deposition method, method for manufacturing electrooptical apparatus, and electrooptical apparatus, and electronic equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007090200A true JP2007090200A (en) 2007-04-12

Family

ID=37976497

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005281512A Withdrawn JP2007090200A (en) 2005-09-28 2005-09-28 Drying method, drying equipment, and deposition method, method for manufacturing electrooptical apparatus, and electrooptical apparatus, and electronic equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007090200A (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018049806A (en) * 2016-09-23 2018-03-29 東京エレクトロン株式会社 Reduced-pressure drying device and reduced-pressure drying method
US20180123076A1 (en) * 2016-11-01 2018-05-03 Joled Inc. Organic el display panel manufacturing method and ink drying device
JP2018078094A (en) * 2016-11-01 2018-05-17 株式会社Joled Method of manufacturing organic el display panel and ink drying device
US10818879B2 (en) 2018-07-27 2020-10-27 Joled Inc. Organic el display panel manufacturing method
CN113262947A (en) * 2021-05-18 2021-08-17 长园泽晖新能源材料研究院(珠海)有限公司 Air suspension type coating device for oily PVDF coating system
JP2022086766A (en) * 2020-11-30 2022-06-09 株式会社Screenホールディングス Vacuum dryer
WO2022196312A1 (en) * 2021-03-17 2022-09-22 パナソニックIpマネジメント株式会社 Vacuum drying device and vacuum drying method

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018049806A (en) * 2016-09-23 2018-03-29 東京エレクトロン株式会社 Reduced-pressure drying device and reduced-pressure drying method
KR20180033079A (en) * 2016-09-23 2018-04-02 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Decompression drying apparatus and decompression drying method
KR102377344B1 (en) * 2016-09-23 2022-03-21 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Decompression drying apparatus and decompression drying method
CN108011050A (en) * 2016-11-01 2018-05-08 株式会社日本有机雷特显示器 The manufacture method of organic EL display panel and black drying device
JP2018078094A (en) * 2016-11-01 2018-05-17 株式会社Joled Method of manufacturing organic el display panel and ink drying device
CN108011050B (en) * 2016-11-01 2019-11-08 株式会社日本有机雷特显示器 The manufacturing method of organic EL display panel and black drying device
US10553811B2 (en) 2016-11-01 2020-02-04 Joled Inc. Organic EL display panel manufacturing method and ink drying device
US20180123076A1 (en) * 2016-11-01 2018-05-03 Joled Inc. Organic el display panel manufacturing method and ink drying device
US10818879B2 (en) 2018-07-27 2020-10-27 Joled Inc. Organic el display panel manufacturing method
JP2022086766A (en) * 2020-11-30 2022-06-09 株式会社Screenホールディングス Vacuum dryer
JP7309294B2 (en) 2020-11-30 2023-07-18 株式会社Screenホールディングス Vacuum dryer
WO2022196312A1 (en) * 2021-03-17 2022-09-22 パナソニックIpマネジメント株式会社 Vacuum drying device and vacuum drying method
CN113262947A (en) * 2021-05-18 2021-08-17 长园泽晖新能源材料研究院(珠海)有限公司 Air suspension type coating device for oily PVDF coating system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100507963B1 (en) Color filter and electro-optical device
US7920274B2 (en) Method of measuring topology of functional liquid droplet in pixel, topology measuring apparatus of functional liquid in pixel, liquid ejection apparatus, method of manufacturing electro-optical apparatus, electro-optical apparatus, and electronic apparatus
JP3985545B2 (en) Thin film forming apparatus, thin film forming method, liquid crystal device manufacturing apparatus, liquid crystal device manufacturing method, liquid crystal device, thin film structure manufacturing apparatus, thin film structure manufacturing method, thin film structure, and electronic device
JP2007090200A (en) Drying method, drying equipment, and deposition method, method for manufacturing electrooptical apparatus, and electrooptical apparatus, and electronic equipment
WO2017092090A1 (en) Method for manufacturing quantum dot colour film substrate
TW565510B (en) Head unit and method of setting same, drawing device, methods of manufacturing liquid crystal display device, organic EL device, electron discharge device, PDP device, electrophoresis display device, color filter and organic EL, methods of forming spacer
US8366232B2 (en) Method of measuring landed dot, measuring apparatus for landed dot, liquid droplet ejection apparatus, method of manufacturing electro-optic apparatus, electro-optic apparatus, and electronic apparatus
JP4566163B2 (en) Printing apparatus system and pattern forming method using the same
TW200300393A (en) Ejecting method and ejecting apparatus
TW200302783A (en) Ejecting method and ejecting apparatus
US20090058925A1 (en) Suction device, suction system, and liquid droplet ejection apparatus having the device or the system, as well as electro-optical apparatus and manufacturing method thereof
US20230133156A1 (en) Display panel, manufacturing method thereof and display apparatus
KR100856015B1 (en) Liquid crystal display and electronic apparatus
KR20140090301A (en) Display device and method of manufacturing the same
US8523319B2 (en) Method for arranging liquid droplet ejection heads, head unit, liquid droplet ejection apparatus, method for manufacturing electro-optical apparatus, electro-optical apparatus, and electronic device
TWI640650B (en) Gas supply apparatus
TW200921157A (en) Pattern forming substrate, color filter and liquid crystal displayer device
JP4400558B2 (en) COLOR FILTER SUBSTRATE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE, COLOR FILTER SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD
JP2007264187A (en) Coating device and coating method
KR20070057494A (en) Apparatus and method for totally patterning lcd color filter and alignment layer
KR100438576B1 (en) Apparatus for manufacturing pdp
JP5169162B2 (en) Colored photoresist coating method and coating apparatus
JP2003182095A (en) Method and device for cleaning functional liquid ejection head, method of manufacturing liquid crystal display device, method of manufacturing organic el device, method of manufacturing electronic emitting device, method of manufacturing pdp device, method of manufacturing electrophoresis display device, method of manufacturing color filter, method of manufacturing organic el, method of forming spacer, method of forming metallic wiring, method of forming lens, method of forming resist, and method of forming light diffusing body
KR101622639B1 (en) Apparatus and method of fabricating flat display device
WO2015111414A1 (en) Coating film removal apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20070405

A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20081202