KR20060129413A - 티로신 키나제 억제제로서의2-(3-치환된-아릴)아미노-4-아릴-티아졸 - Google Patents

티로신 키나제 억제제로서의2-(3-치환된-아릴)아미노-4-아릴-티아졸 Download PDF

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Abstract

본 발명은 각종 인간 질환 및 동물 질환, 예컨대 세포 증식성, 대사성, 알레르기성 및 퇴행성 장애를 야기하는 특정 천연 및/또는 돌연변이 티로신 키나제에 의해 매개되는 신호 전달을 선택적으로 조정, 조절 및/또는 억제하는, 2-(3-치환된 -아릴)아미노-4-아릴-티아졸 중에서 선택된 신규한 화합물에 관한 것이다. 더 구체적으로, 상기 화합물은 강력하고 선택적인 c-키트 억제제이다.

Description

티로신 키나제 억제제로서의 2-(3-치환된-아릴)아미노-4-아릴-티아졸{2-(3-SUBSTITUTED-ARYL)AMINO-4-ARYL-THIAZOLES AS TYROSINE KINASE INHIBITORS}
본 발명은 각종 인간 질환 및 동물 질환, 예컨대 세포 증식성, 대사성, 알레르기성 및 퇴행성 장애를 야기하는 특정 천연 및/또는 돌연변이 티로신 키나제에 의해 매개되는 신호 전달을 선택적으로 조정, 조절 및/또는 억제하는, 2-(3-치환된 -아릴)아미노-4-아릴-티아졸 중에서 선택된 신규한 화합물에 관한 것이다. 더 구체적으로, 상기 화합물은 강력하고 선택적인 c-키트 억제제이다.
티로신 키나제는 수용체형 또는 비수용체형 단백질이고, 이는 ATP의 말단 포스페이트를 단백질의 티로신 잔기에 전달하여 이에 따라 신호 전달 경로를 활성화하거나 불활성화한다. 이들 단백질은 다수의 세포 메커니즘에 관계된 것으로 공지되어 있고, 파괴되는 경우 비정상적 세포 증식 및 이동, 뿐 아니라 염증과 같은 장애를 야기한다.
현재, 약 58개의 티로신 키나제가 공지되어 있다. 기타 티로신 키나제는 잘 공지되어 있는 VEGF 수용체 (Kim et al., Nature 362, pp. 841-844, 1993), PDGF 수용체, c-키트 및 FLK 패밀리이다. 이들 수용체는 기타 티로신 키나제, 예컨대 Src, Raf, Frk, Btk, Csk, Abl, Fes/Fps, Fak, Jak, Ack 등에 신호를 전달할 수 있 다.
티로신 키나제 수용체 중, c-키트가 특히 주목을 받는다. 실제, c-키트는 다수의 병리학에서 직간접적으로 관련된 것으로 증명된 비만 세포를 활성화하는 핵심 수용체이고, 이에 대하여 출원인은 WO 03/004007, WO 03/004006, WO 03/003006, WO 03/003004, WO 03/002114, WO 03/002109, WO 03/002108, WO 03/002107, WO 03/002106, WO 03/002105, WO 03/039550, WO 03/035050, WO 03/035049, US 60/359,652 및 US 60/359651을 출원하였다.
환자의 조직 중 존재하는 비만 세포는 질환, 예컨대 자가면역 질환(류마티스 관절염, 염증성 장질환(IBD)), 알레르기성 질환, 종양 혈관신생, 염증성 질환, 및 사이질 방광염의 발생에 관여하거나 이에 기여하는 것으로 발견되었다. 상기 질환 에 있어서, 비만 세포는 상이한 프로테아제 및 매개체, 예컨대 히스타민, 중성 프로테아제, 지질 유도된 매개체(프로스타글란딘, 트롬복산 및 루코트리엔) 및 각종 사이토카인 (IL-l, lL-2, IL-3, IL-4, IL-5, IL 6, IL-8, TNF-α, GM-CSF, MIP-la, MIP-lb, MIP-2 및 IFN-γ)의 칵테일을 방출함으로써 조직의 붕괴에 참여하는 것으로 증명되었다.
c-키트 수용체는 또한 돌연변이에 의해 항시적으로 활성화되어 비정상적 세포 증식을 야기하며 비만세포증 및 각종 암과 같은 질환의 발생을 야기할 수 있다.
상기 이유로, 상기 장애를 야기하는 비만 세포를 억제하기 위하여 c-키트를 표적하는 것이 제안되어 왔다.
따라서, 본 발명의 주요 목적은 야생형 및/또는 돌연변이 c-키트를 억제할 수 있는 강력하고 선택적인 화합물을 발견하는 것이다.
다수의 상이한 화합물이 티로신 키나제 억제제로서 기재되어 왔고, 이의 예로서 비스 단환, 이환 또는 복소환 아릴 화합물(WO 92/20642), 비닐렌-아자인돌 유도체 (WO 94/14808) 및 1-시클로프로필-4-피리딜-퀴놀론 (US 5,330,992), 스티릴 화합물 (US 5,217,999), 스티릴 치환된 피리딜 화합물 (US 5,302,606), 셀레노인돌 및 셀레나이드 (WO 94/03427), 삼환 폴리히드록실릭 화합물 (WO 92/21660) 및 벤질포스폰산 화합물 (WO 91/15495), 피리미딘 유도체 (US 5,521,184 및 WO 99/03854), 인돌린 유도체 및 피롤-치환된 인돌리논 (US 5,792,783, EP 934 931, US 5,834,504, US 5,883,116, US 5,883,113, US 5,886,020, WO 96/40116 및 WO 00/38519), 뿐 아니라 비스 단환, 이환 아릴 및 헤테로아릴 화합물(EP 584 222, US 5,656,643 및 WO 92/20642), 퀴나졸린 유도체 (EP 602 851, EP 520 722, US 3,772,295 및 US 4,343,940) 및 아릴 및 헤테로아릴 퀴나졸린 (US 5,721,237, US 5,714,493, US 5,710,158 및 WO 95/15758)을 들 수 있다.
그러나, 상기 화합물 중 어느 것도 c-키트 또는 c-키트 경로의 강력하고 선택적인 억제제로서 기재되지 않았다.
WO2004014903에서 기재되어 있는 본 발명과 관련하여, 본 발명자들은 2-(3-아미노아릴)아미노-4-아릴-티아졸에 상응하는 화합물이 c-키트 또는 c-키트 경로의 강력하고 선택적인 억제제임을 발견하였다. 상기 화합물은 자가면역 질환, 염증 질환, 암 및 비만세포증과 같은 질환을 치료하는 우수한 후보이다.
본 발명자들은 기타 2-(3-치환된-아릴)아미노-4-아릴-티아졸 유도체가 여러 형태의 c-키트에 매우 강력한 억제 활성을 보여준다는 것을 발견하였다.
따라서, 본 발명은 2-(3-케토아릴아미노-4-아릴-티아졸에 속하는 화합물에 관한 것이다. 상기 화합물은 티로신 포스포키나제 c-키트 및 이의 돌연변이 형태를 포함하는 신호 전달을 선택적으로 억제할 수 있다. 제1 실시양태에서, 본 발명은 자유 염기 형태의 물질 또는 이의 약학적 허용염을 나타낼 수 있는, 하기 화학식 I의 화합물에 관한 것이다:
Figure 112006062141116-PCT00001
상기 식 중,
R6 및 R7은 서로 독립적으로 하기 (i) ∼ (v):
(i) 수소, 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨);
(ii) 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트(pendant) 염기성 질소 작용기의 형태임)와 같은 1 이상의 헤테로원자; 뿐만 아니라 트리플루오로메틸, 카르복실, 시아노, 니트로, 및 포르밀로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10, 또는 탄소수 2 또는 3 ∼ 10의 선형, 분지형 또는 환형 알킬기(예를 들어, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실...)로서 정의되는 알킬1 기;
(iii) 페닐, 또는
- 할로겐(I, F, Cl 또는 Br 중에서 선택됨);
- 알킬1 기;
- 펜던트 염기성 질소 작용기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기;
- 트리플루오로메틸, O-알킬1, 카르복실, 시아노, 니트로, 포르밀, 히드록시, NH-알킬1, N(알킬1)(알킬1), 및 아미노(마지막 질소 치환기는 임의로 염기성 질소 작용기의 형태임)
를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 보유하는 페닐의 치환된 변형체로서 정의되는 아릴1 기;
(iv)
- 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨);
- 알킬1 기;
- 펜던트 염기성 질소 작용기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기;
- 트리플루오로메틸, O-알킬1, 카르복실, 시아노, 니트로, 포르밀, 히드록시, NH-알킬1, N(알킬1)(알킬1), 및 아미노(마지막 질소 치환기는 임의로 염기성 질 소 작용기의 형태임)
를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 추가로 보유할 수 있는 피리딜, 피리미디닐, 피라지닐, 피리다지닐, 티에닐, 티아졸릴, 이미다졸릴, 피라졸릴, 피롤릴, 푸라닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 트리아졸릴, 테트라졸릴, 인돌릴, 벤즈이미다졸, 퀴놀리닐 기로서 정의되는 헤테로아릴1 기;
(v) 트리플루오로메틸, 카르복실, 시아노, 니트로, 포르밀, 히드록시, N(알킬1)(알킬1), 및 아미노(마지막 질소 치환기는 임의로 염기성 질소 작용기의 형태임)
중 하나로부터 선택되고;
R8은 하기 (i) ∼ (iii):
(i) 수소, 또는
(ii) 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)와 같은 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 또는
(iii) CO-R8 또는 COOR8 또는 CONHR8 또는 SO2R8[식 중, R8은
- 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)와 같은 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 또는
- 페닐, 또는 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨); 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)와 같은 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기; 뿐만 아니라 트리플루오로메틸, C1-6알킬옥시, 카르복실, 시아노, 니트로, 포르밀, 히드록시, C1-6알킬아미노, 디(C1-6알킬)아미노, 및 아미노(마지막 질소 치환기는 임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임); 뿐만 아니라 CO-R, COO-R, CONH-R, SO2-R 및 SO2NH-R{식 중 R은 1 이상의 헤테로원자, 특히 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기임}를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 보유하는 페닐의 치환된 변형체를 비롯한 아릴기, 또는
- 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨); 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)와 같은 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기; 뿐만 아니라 트리플루오로메틸, C1-6알킬옥시, 카르복실, 시아노, 니트로, 포르밀, 히드록시, C1-6알킬아미노, 디(C1-6알킬)아미노, 및 아미노(마지막 질소 치환기는 임의로 염기성 질소 작용기의 형태임); 뿐만 아니라 CO-R, COO-R, CONH-R, SO2-R 및 SO2NH-R{식 중 R은 1 이상의 헤테로원자, 특히 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 선 형 또는 분지형 알킬기임}를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 추가로 보유할 수 있는 피리딜, 피리미디닐, 피라지닐, 피리다지닐, 티에닐, 티아졸릴, 이미다졸릴, 피라졸릴, 피롤릴, 푸라닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 트리아졸릴, 테트라졸릴, 인돌릴, 벤즈이미다졸, 퀴놀리닐 기를 비롯한 헤테로아릴기일 수 있음]
중 하나이고;
R2, R3, R4 및 R5는 각각 독립적으로 수소; 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨); 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)와 같은 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 뿐만 아니라 트리플루오로메틸, C1-6알킬옥시, 아미노, C1-6알킬아미노, 디(C1-6알킬)아미노, 카르복실, 시아노, 니트로, 포르밀, 히드록시 및 CO-R, COO-R, CONH-R, SO2-R 및 SO2NH-R{식 중 R은 1 이상의 헤테로원자, 특히 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기임} 중에서 선택되고;
A는 CH2, O, S, S02, CO, 또는 COO이고;
B는 결합, 또는 NH, NCH3, NR*, (CH2)n (n은 0, 1 또는 2임), O, S, S02, CO, 또는 COO이고;
B'는 결합, 또는 NH, NCH3, NR*, (CH2)n (n은 0, 1 또는 2임), O, S, S02, CO 또는 COO이고;
R*는 알킬1, 아릴1 또는 헤테로아릴1이며;
W는 결합, 또는 NH, NHCO, NHCOO, NHCONH, NHS02, NHS02NH, CO, CONH, COO, COCH2, (CH2)n (n은 0, 1 또는 2임), CH2-CO, CH2COO, CH2-NH, O, OCH2, S, S02, 및 SO2NH 중에서 선택된 링커이며;
R1은 하기 a) ∼ c):
a) 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기;
b) 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬 또는 아릴 기로 임의 치환된 아릴 또는 헤테로아릴 기;
c) 알킬1, 아릴1 또는 헤테로아릴1
이다.
C1-C10알킬은 메틸, 에틸, 프로필, 및 C2 ∼ C4 알킬 또는 C2 ∼ C10 알킬을 포함하는 것으로 이해될 것이다.
예를 들어, 화합물의 일부는
Figure 112006062141116-PCT00002
에 해당하고, 상기 식 중, R1, R4 및 R6는 상기 정의한 바와 같은 의미를 갖는다.
A-B-B'는
CH2, CH2-CO, CH2-CO-CH2, CH2COO, CH2-CH2-CO, CH2-CH2-COO, CH2-NH, CH2-CH2-NH, CH2-NH-CH2, CH2-NH-CO 또는 CH2-CO-NH
를 포함하지만 이에 국한되지는 않는 것임을 이해할 것이다.
A-B-B'도
CO-CH2, COO-CH2, CO-CH2-CH2, CO-NH,또는 CO-NH-CH2 뿐만 아니라 O-CH2
를 포함하지만 이에 국한되지는 않는 것임을 이해할 것이다.
B 또는 B' 중 NH는 NCH3일 수도 있다는 것을 이해할 것이다.
상기 화학식 I에서, W가 단일 결합이 아닌 경우, A는 NH 또는 NCH3일 수도 있다는 것을 이해할 것이다.
상기 화학식에서, 하기 조합을 생각할 수 있다:
- R6는 (iv)이고, R4는 H 또는 CH3이고, A-B-B'는 CO-NH이며 Rl은 상기 정의 한 바와 같다.
- R6는 (iv)이고, R4는 H 또는 CH3이고, A-B-B'는 CH2-CO-NH이며 Rl은 상기 정의한 바와 같다.
- R6는 (iv)이고, R4는 H 또는 CH3이고, A-B-B'는 CH2-CO이며 Rl은 상기 정의한 바와 같다.
- R6는 (iv)이고, R4는 H 또는 CH3이고, A-B-B'는 CH2-NH-CO이며 Rl은 상기 정의한 바와 같다.
- R6는 (iv)이고, R4는 H 또는 CH3이고, A-B-B'는 CH2-NH이며 Rl은 상기 정의한 바와 같다.
- R6는 (iv)이고, R4는 H 또는 CH3이고, A-B-B'는 CH2이며 Rl은 상기 정의한 바와 같다.
- R6는 W-(iv)이고, R4는 C1-C2 알킬이고, A-B-B'는 CO-NH이며 Rl은 상기 정의한 바와 같다.
- R6는 (iv)이고, R4는 C1-C2 알킬이고, A-B-B'는 CH2-CO-NH이며 Rl은 상기 정의한 바와 같다.
- R6는 (iv)이고, R4는 C1-C2 알킬이고, A-B-B'는 CH2-CO이며 Rl은 상기 정의한 바와 같다.
- R6는 (iv)에 따른 피리딜이고, R4는 C1-C2 알킬이고, A-B-B'는 CO-NH, CH2-CO-NH, CH2-CO, CH2-NH, CH2-NH-CO이며 Rl은 상기 정의한 바와 같다.
상기 조합에서, R1은 알킬1일 수 있다.
상기 조합에서, R1은 아릴1일수 있다.
상기 조합에서, R은 헤테로아릴1일 수 있다.
하나의 바람직한 실시양태에서, ABB`는 CONH이고, 본 발명은 하기 화학식 I-1의 화합물에 관한 것이다:
Figure 112006062141116-PCT00003
상기 식 중,
R은 H 또는 예를 들어 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기 중에서 선택될 수 있는 유기기이다.
하나의 다른 바람직한 실시양태에서, 본 발명은 하기 화학식 I-2의 아미드-아닐린 화합물에 관한 것이다:
Figure 112006062141116-PCT00004
상기 식 중,
R은 H 또는 예를 들어 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 하기 기로 임의 치환되는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기 중에서 선택될 수 있는 유기기이다:
- 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐;
- SO2-R기(식 중, R은 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택되는 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴임);
- CO-R 또는 CO-NRR'기(식 중, R 및 R'는 독립적으로 H, 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기 중에 서 독립적으로 선택됨).
R1이 상기 정의된 의미를 갖는 특정 화합물 중에서, 본 발명은 하기 화학식 I-3의 아미드-벤질아민 화합물에 관한 것이다:
Figure 112006062141116-PCT00005
상기 식 중,
R은 H 또는 예를 들어 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; SO2-R기(식 중, R은 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택되는 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는 CO-R 또는 CO-NRR'기(식 중, R 및 R'는 독립적으로 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 아릴, 헤테로아릴, 알킬 및 시클로알킬기 중에서 선택됨) 중에서 선택될 수 있는 유기기이다.
R1이 상기 정의된 의미를 갖는 특정 화합물 중에서, 본 발명은 하기 화학식 I-4의 아미드-페놀 화합물에 관한 것이다:
Figure 112006062141116-PCT00006
상기 식 중,
R은 H 또는 예를 들어 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; SO2-R기(식 중, R은 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택되는 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는 CO-R 또는 CO-NRR'기(식 중, R 및 R'는 독립적으로 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 아릴, 헤테로아릴, 알킬 및 시클로알킬 기임)중 에서 선택될 수 있는 유기기이다.
화학식 I의 화합물 중, 본 발명은 특히 하기 화학식 I-5의 3-(티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드 화합물에 관한 것이다:
Figure 112006062141116-PCT00007
상기 식 중,
Y는 단일 결합, 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 특히 CH2 또는 CH2-CH2; 또는 NH이고;
상기 식 중, Z는 하기 기:
- 할로겐, 예컨대 F, Cl, Br, I;
- 1 이상의 헤테로원자(예를 들어, 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기;
- O-R(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자(예를 들어, 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는, 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기);
- NRaRb(식 중, Ra 및 Rb는 수소, 또는 1 이상의 헤테로원자(예를 들어, 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는, 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기를 나타냄)
의 임의의 조합으로 고리의 1 이상의 위치에 임의 치환된 아릴 또는 헤테로아릴 기를 나타내고;
R2는 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플루오로메틸, 시아노 또는 알콕시이고;
R3는 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플루오로메틸, 시아노 또는 알콕시이고;
R4는 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플루오로메틸, 시아노 또는 알콕시이고;
R5는 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플루오로메틸, 시아노 또는 알콕시이고;
R6는 하기 (i) ∼ (iv):
(i) 페닐, 또는 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 보유하는 페닐의 치환된 변형체를 비롯한 아릴기;
(ii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 추가로 보유할 수 있는 2, 3, 또는 4-피리딜기를 비롯한 헤테로아릴기;
(iii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 추가로 보유할 수 있는 2-티에닐, 3-티에닐, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴을 비롯한 5원환 방향족 헤테로시클릭기;
(iv) H; I, F Cl 또는 Br 중에서 선택된 할로겐; NH2, NO2 또는 SO2-R (식 중 , R은 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기임)
중 하나이며;
R7은 하기 (i) ∼ (iv):
(i) 페닐, 또는 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 보유하는 페닐의 치환된 변형체를 비롯한 아릴기;
(ii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 추가로 보유할 수 있는 2, 3, 또는 4-피리딜기를 비롯한 헤테로아릴기;
(iii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 추가로 보유할 수 있는 2-티에닐, 3-티에닐, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴을 비롯한 5원환 방향족 헤테로시클릭기, 예컨대 ;
(iv) H; I, F, Cl 또는 Br 중에서 선택된 할로겐; NH2, NO2 또는 SO2-R(식 중, R은 1 ∼ 10개의 탄소 원자와 같은 1 이상의 기를 함유하고, 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 선형 또는 분지형 알킬기임)
중 하나이다.
상기 화학식의 바람직한 화합물의 예로서 하기 화합물을 들 수 있다:
001: 4-[4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤조일아미노]-벤조산 2-디에틸아미노-에틸 에스테르
Figure 112006062141116-PCT00008
화학식 I의 화합물 중, 본 발명은 특히 하기 화학식 II의 화합물에 의해 구현된다:
Figure 112006062141116-PCT00009
상기 식 중,
X는 R 또는 NRR' (식 중, R 및 R'는 독립적으로 H; F, I, Cl 및 Br 중에서 선택된 할로겐과 같은 1 이상의 헤테로 원자로 임의 치환되고 임의로 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 아릴, 헤테로아릴, 알킬, 또는 시클로알킬 기; 또는 F, I, Cl 및 Br 중에서 선택된 할로겐과 같은 1 이상의 헤테로 원자로 임의 치환되고 임의로 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 아릴, 헤테로아릴, 알킬 또는 시클 로알킬 기로 치환된 아릴, 헤테로아릴, 알킬 또는 시클로알킬 기 중에서 선택됨)이고;
R2는 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플루오로메틸 또는 알콕시이고;
R3는 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플루오로메틸 또는 알콕시이고;
R4는 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플루오로메틸 또는 알콕시이고;
R5는 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플루오로메틸 또는 알콕시이며;
R6는 하기 (i) ∼ (iv):
(i) 페닐, 또는 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 보유하는 페닐의 치환된 변형체를 비롯한 아릴기;
(ii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 추가로 보유할 수 있는 2, 3, 또는 4-피리딜기를 비롯한 헤테로아릴기;
(iii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸 및 알콕시를 비 롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 추가로 보유할 수 있는 2-티에닐, 3-티에닐, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴을 비롯한 5원환 방향족 헤테로시클릭기;
(iv) H; I, F, Cl 또는 Br 중에서 선택된 할로겐; NH2, NO2 또는 SO2-R(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기임)
중 하나이다.
화학식 I 및 II에 상응하는 바람직한 화합물 중, 본 발명은 예를 들어 하기 a ∼ m (식 중, 물결선 및 화살선은 화학식 I 또는 II의 핵 구조에 결합하는 지점에 해당함)의 구조식으로 표시되는, 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 치환된 알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기이다:
Figure 112006062141116-PCT00010
Figure 112006062141116-PCT00011
a ∼ f 및 g ∼ m의 기 중, 화학식 I의 R1 및 화학식 II의 X는 바람직하게는 d 기이다. 또한, g ∼ m에 경우, 화살표는 페닐기를 통해 핵 구조에 결합되는 지점을 포함한다.
또한, 화학식 I 또는 II의 바람직한 화합물 중, 본 발명은 R2 및 R3가 수소인 화합물에 관한 것이다. 바람직하게는, R4는 메틸기이고, R5는 수소이다. 또한, R6는 3-피리딜기(하기 구조식 g 참고), 또는 4-피리딜기(하기 구조식 h 참고)인 것이 바람직하다. 구조식 g 및 h의 물결선은 화학식 I 또는 II의 핵 구조에 결합되는 지점에 해당한다.
Figure 112006062141116-PCT00012
따라서, 본 발명은 하기의 화합물에 관한 것이다:
1- 상기 기재된 화학식 II의 화합물(식 중, X는 d기이고 R6는 3-피리딜기임).
2- 상기 기재된 화학식 II의 화합물(식 중, X는 d기이고 R4는 메틸기임).
3- 상기 기재된 화학식 I 또는 II의 화합물(식 중, R1은 d기이고 R2는 H임).
4- 상기 기재된 화학식 I 또는 II의 화합물(식 중, R1은 d기이고 R3는 H임).
5- 상기 기재된 화학식 I 또는 II의 화합물(식 중, R1은 d기이고 R2 및/또는 R3 및/또는 R5는 H임).
6- 상기 기재된 화학식 I 또는 II의 화합물(식 중, R6는 3-피리딜기이고 R3 는 메틸기임).
7- 상기 기재된 화학식 I 또는 II의 화합물(식 중, R6는 3-피리딜기이고 R2는 H임).
8- 상기 기재된 화학식 I 또는 II의 화합물(식 중, R2 및/또는 R3 및/또는 R5는 H이고 R4는 메틸기임).
9- 상기 기재된 화학식 I 또는 II의 화합물(식 중, R2 및/또는 R3 및/또는 R5는 H이고, R4는 메틸기이며, R6는 3-피리딜기임).
화학식 II의 화합물 중, 본 발명은 특히 하기 화학식 II-1의 화합물에 해당하는, R2, R3, R5가 수소인 화합물에 의해 구현된다:
Figure 112006062141116-PCT00013
상기 식 중,
X는 R 또는 NRR' (식 중, R 및 R'는 독립적으로 H 또는 예를 들어, 1 이상의 헤테로 원자로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로 원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로 원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기 중에서 선택됨)이고;
R4는 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플루오로메틸 또는 알콕시이며;
R6는 하기 (i) ∼ (iv):
(i) 페닐, 또는 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 보유하는 또는 페닐의 치환된 변형체를 비롯한 아릴기;
(ii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 추가로 보유할 수 있는 2, 3, 또는 4-피리딜기를 비롯한 헤테로아릴기;
(iii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 추가로 보유할 수 있는 2-티에닐, 3-티에닐, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴을 비롯한 5원환 방향족 헤테로시클릭기;
(iv) H; I, F Cl 또는 Br 중에서 선택된 할로겐; NH2, NO2 또는 SO2-R (식 중, R은 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기임)
중 하나이다.
또다른 대안에서, 화학식 II에서 티아졸 고리의 4 위치에 결합된 치환기 R6는 티아졸 고리의 5 위치에 결합될 수도 있다.
예:
002: N-(3,5-비스-트리플루오로메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딜-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00014
1H NMR (DMSO-d6) δ = 2.36 (s, 3H, ArCH3); 7.43 (d, 1H, J = 7.5Hz, Ar-H); 7.68 (dd, IH, J= 7.5, 1.5Hz, Ar-H); 7.73 (s, IH, 티아졸-H); 7.82 (m, 3H, 피리딜-H+Ar-H); 8.54 (m, 4H, 피리딜-H+2xAr-H); 8.85 (br s, 1H, Ar-H); 9.67 (s, 1H, NH), 10.84 (s, 1H, NH).
003: N-(3,5-비스-트리플루오로메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00015
092: N-시클로헥실-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00016
1H NMR (DMSO-d6) δ = 1.00-1.40 (m, 5H, 시클로-H); 1.50-1.85 (m, 5H, 시클로-H); 2.34 (s, 3H, ArCH3); 7.28 (d, 1H, J = 7.9Hz, Ar-H); 7.48 (dd, 1H, J= 7.9, 1.5Hz, Ar-H); 7.67 (s, 1H, 티아졸-H); 7.82 (d, 2H, J = 6.0Hz, 피리딜-H); 8.57 (d, 2H, J = 6.0Hz, 피리딜 H) ; 8.63 (d, 1H, J = 1.5Hz, Ar-H); 9.55 (s, 1H, NH).
093: 4-메틸-N-(1-메틸-1H-인돌-6-일)-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00017
094: N-(2-메톡시-에틸)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00018
096: N-(2-시아노-에틸)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈 아미드
Figure 112006062141116-PCT00019
화학식 II의 화합물 중, 본 발명은 특히 하기 화학식 II-3의 N-[3-(티아졸-2-일아미노)-페닐]-아미드 패밀리에 상응하는, X가 치환된 아릴기인 화합물에 의해 구현된다:
Figure 112006062141116-PCT00020
상기 식 중,
Ra, Rb, Rc, Rd, Re는 독립적으로 H 또는 예를 들어 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기 중에서 선택될 수 있는 유기기;
- SO2-R 기(식 중, R은 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴임); 또는 -CO-R 또는 -CO-NRR' 기(식 중, R 및 R'는 독립적으로 H 또는 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기 중에서 선택됨) 중에서 선택되고;
Ra, Rb, Rc, Rd, Re는 또한
- I, Cl, Br 및 F와 같은 할로겐;
- NRR' 기(식 중, R 및 R'는 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임);
- OR 기(식 중, R은 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤 테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; -SO2-R' 기{식 중, R'는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴임}임);
- NRaCORb 기(식 중, Ra 및 Rb는 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임);
- NRaCONRbRc 기(식 중, Ra 및 Rb는 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임);
- COOR(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임);
- CONRaRb(식 중, Ra 및 Rb는 수소 또는 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임);
- NHCOOR(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐 으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임);
- OSO2R(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임);
- NRaOSO2Rb(식 중, Ra 및 Rb는 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기이고; Ra는 또한 수소; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기일 수 있음);
- CN 기;
- 트리플루오로메틸기
일 수 있고;
R4는 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플루오로메틸 또는 알콕시이며;
R6는 하기 (i) ∼ (iv):
(i) 페닐, 또는 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 보유하는 또는 페닐의 치환된 변형체를 비롯한 아릴기;
(ii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 추가로 보유할 수 있는 2, 3, 또는 4-피리딜기를 비롯한 헤테로아릴기;
(iii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 추가로 보유할 수 있는 2-티에닐, 3-티에닐, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴을 비롯한 5원환 방향족 헤테로시클릭기;
(iv) H; I, F Cl 또는 Br 중에서 선택된 할로겐; NH2, NO2 또는 SO2-R (식 중, R은 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기임)
중 하나이다.
예
028: N-(2-플루오로-3-트리플루오로메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00021
029: N-(3-플루오로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00022
030: 4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-N-(3-트리플루오로메틸-페닐)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00023
031: 4-메틸-N-(4-메틸-3-트리플루오로메틸-페닐)-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00024
032: N-(2-플루오로-5-트리플루오로메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00025
1H NMR (DMSO-d6) δ = 2.39 (s, 3H, ArCH3); 7.41 (d, 1H, J = 7.9Hz, Ar-H); 7.54-7.70 (m, 3H, Ar-H); 7.72 (s, 1H, 티아졸-H); 7.82 (d, 2H, J= 6.0Hz, 피리딜-H); 8.10 (dd, 1H, J = 6.8, 2.2Hz, Ar-H); 8.55 (d, 2H, J = 6.0Hz, 피리딜-H); 8.84 (d, 1H, J = 1.8Hz, Ar-H) 9.65 (s, 1H, NH); 10.31 (s, 1H, NH).
033: N-(4-시아노-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00026
034: N-(4-플루오로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00027
035: N-(3-플루오로-4-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00028
036: N-(4-tert-부틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00029
038: N-(3-시아노-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00030
039: N-(3-시아노-4-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00031
1H NMR (DMSO-d6) δ = 2.37 (s, 3H, ArCH3); 2.46 (s, 3H, ArCH3); 7.43 (m, 2H, Ar H); 7.63 (dd, 1H, J = 7.9, 1.8Hz, Ar-H); 7.72 (s, 1H, 티아졸-H); 7.83 (d, 2H, J= 6.0Hz, 피리딜-H); 7.96 (dd, 1H, J = 8.3, 1.8Hz, Ar-H) ; 8.19 (d, 1H, J = 2.3Hz, Ar-H); 8.55 (d, 2H, J = 6.0Hz, 피리딜-H); 8.81 (d, 1H, J = 1.5Hz, Ar-H); 9.65 (s, 1H, NH); 10.46 (s, 1H, NH).
040: N-(3-브로모-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00032
041: N-(3-브로모-4-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00033
042: N-(3,5-디브로모-4-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00034
043: N-(3-클로로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00035
044: N-(3-클로로-4-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00036
045: N-(3-메톡시-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00037
046: 4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-N-m-톨릴-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00038
047: N-(4-플루오로-3-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00039
048: N-(3-요오도-4-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00040
049: 4-메틸-N-(3-니트로-페닐)-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00041
050: 4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-N-p-톨릴-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00042
051: 4-메틸-N-페닐-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00043
052: N-(3,4-디메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00044
053: 4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-N-(3-트리플루오로메톡시-페닐)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00045
054: N-(3,4-디시아노-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00046
055: N-(2-플루오로-5-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00047
056: N-(2,4-디플루오로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00048
057. N-(4-시아노-2-플루오로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00049
058: N-(2-플루오로-4-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00050
059: N-(2,4-디플루오로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노) -벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00051
060: N-(4-시아노-2-플루오로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00052
061: N-(2-플루오로-4-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00053
062: N-(4-시아노-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00054
065: N-(4-플루오로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00055
099: 4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-N-m-톨릴-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00056
100: 4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-N-(3-트리플루오로메틸-페닐)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00057
101: 4-메틸-N-(4-메틸-3-트리플루오로메틸-페닐)-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00058
102: N-(2-플루오로-3-트리플루오로메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00059
105: N-(4-시아노-3-트리플루오로메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00060
106: N-(4-시아노-3-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00061
화학식 II의 화합물 중, 본 발명은 특히 하기 화학식 II-4로 표시되고 4-(4-치환된-1-일메틸)-N-[3-(티아졸-2-일아미노)-페닐]-벤즈아미드 패밀리에 해당하는, X가 -치환된-아릴기인 화합물에 의해 구현된다:
Figure 112006062141116-PCT00062
상기 식 중,
X는 헤테로원자, 예컨대 O 또는 N이고;
상기 식 중, Ra, Rb, Rd, Re, Rf, Rg, Rh는 독립적으로 H 또는 예를 들어 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기 중에서 선택될 수 있는 유기기; 또는
- NRR' 기(식 중, R 및 R'는 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기 ; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는
- OR 기(식 중, R은 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; -SO2-R' 기{식 중, R'는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴임}임); 또는
- NRaCORb 기(식 중, Ra 및 Rb는 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는
- NRaCONRbRc 기(식 중, Ra 및 Rb는 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는
- COOR(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는
- CONRaRb(식 중, Ra 및 Rb는 수소 또는 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유 하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는
- NHCOOR(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는
- OSO2R(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는
- NRaOSO2Rb(식 중, Ra 및 Rb는 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기이고; Ra는 또한 수소; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기일 수 있음); 또는
-SO2-R기(식 중, R은 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴임); 또는
-CO-R 또는 -CO-NRR'기(식 중, R 및 R'는 독립적으로 H, 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기 중에서 선택됨)
중에서 선택되고;
Ra, Rb, Rd, Re는 또한 할로겐, 예컨대 Cl, F, Br, I 또는 트리플루오로메틸일 수 있고;
R4는 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플루오로메틸 또는 알콕시이며;
R6는 하기 (i) ∼ (iv):
(i) 페닐, 또는 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 보유하는 또는 페닐의 치환된 변형체를 비롯한 아릴기;
(ii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 추가로 보유할 수 있는 2, 3, 또는 4-피리딜기를 비롯한 헤테로아릴기;
(iii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 추가로 보유할 수 있는 2-티에닐, 3-티에닐, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴을 비롯한 5원환 방향족 헤테로시클릭기;
(iv) H; I, F Cl 또는 Br 중에서 선택된 할로겐; NH2, NO2 또는 SO2-R (식 중, R은 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기임)
중 하나이다.
예
004: 4-메틸-N-{4-(4-메틸-피페라진-1-일메틸)-3-트리플루오로메틸-페닐]-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00063
1H NMR (MeOH-d4) δ = 2.41 (s, 6H, NCH3+ArCH3); 2.50-2.70 (m, 4H, 피페라진-H); 2.90 (m, 4H, 피페라진-H); 3.68 (br s, 2H, CH2-피페라진); 7.38 (d, 1H, J = 7.9Hz, Ar-H); 7.50 (m, 1H, 티아졸-H); 7.60 (m, 1H, Ar-H); 7.76 (d, 1H, J= 8.3Hz, Ar-H); 7.90 (m, 2H, 피리딜-H); 8.00 (m, 1H, Ar-H); 8.12 (m, 1H, Ar-H); 8.46 (m, 2H, 피리딜-H); 8.90 (m, 1H, Ar-H).
005: 4-메틸-N-{4-[1-(4-메틸-피페라진-1-일)-에틸]-페닐}-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00064
화학식 II의 화합물 중, 본 발명은 특히 하기 화학식 II-5로 표시되고 3-이치환된-아미노-N-[3-(티아졸-2-일아미노)-페닐]-벤즈아미드 패밀리에 상응하는, X가 아릴-치환된 기인 화합물에 의해 구현된다:
Figure 112006062141116-PCT00065
상기 식 중,
Ra, Rb, Rc, Rd, Re, Rf, Rg는 독립적으로 H 또는 예를 들어 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기 중에서 선택될 수 있는 유기기; 또는
- NRR' 기(식 중, R 및 R'는 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는
- OR 기(식 중, R은 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; -SO2-R' 기{식 중, R'는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴임}임); 또는
- NRaCORb 기(식 중, Ra 및 Rb는 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는
- NRaCONRbRc 기(식 중, Ra 및 Rb는 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는
- COOR(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는
- CONRaRb(식 중, Ra 및 Rb는 수소 또는 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는
- NHCOOR(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는
- OSO2R(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임); 또는
- NRaOSO2Rb(식 중, Ra 및 Rb는 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기이고; Ra는 또한 수소; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기일 수 있음); 또는
-SO2-R기(식 중, R은 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴임); 또는
-CO-R 또는 -CO-NRR'기(식 중, R 및 R'는 독립적으로 H, 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기 중에서 선택됨)
중에서 선택되고;
Ra, Rb, Rc, Re는 또한 Cl, F, Br, I와 같은 할로겐 또는 트리플루오로메틸일 수 있고;
R4는 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플루오로메틸 또는 알콕시이며;
R6는 하기 (i) ∼ (iv):
(i) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯 한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 보유하는 페닐 또는 페닐의 치환된 변형체를 비롯한 아릴기;
(ii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 추가로 보유할 수 있는 2, 3, 또는 4-피리딜기를 비롯한 헤테로아릴기;
(iii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 보유하는 2-티에닐, 3-티에닐, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴을 비롯한 5원환 방향족 헤테로시클릭기;
(iv) H; I, F, Cl 또는 Br 중에서 선택된 할로겐; NH2, NO2 또는 SO2-R(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기임)
중 하나이다.
예
089: N-(3-디메틸아미노-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00066
1H NMR (DMSO-d6) δ = 2.36 (s, 3H, ArCH3); 2.88 (s, 6H, 2xCH3); 6.50 (d, 1H, J = 7.9Hz, Ar-H); 7.10-7.30 (m, 3 H. Ar-H); 7.38 (d, 1H, J = 7.9Hz, Ar-H); 7.62 (dd, 1H, J = 7.9, 1.5Hz, Ar-H); 7.70 (s, 1H, 티아졸-H); 7.85 (d, 2H, J = 6.4Hz, 피리딜-H); 8.54 (d, 1H, J = 6.4Hz, 피리딜-H); 8.78 (br s, 1H, Ar-H); 9.63 (s, 1H, NH), 10.04 (s, 1H, NH).
090: N-(3-디메틸아미노-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00067
제2 실시양태에서, 본 발명은 상기 기재된 화학식 I의 화합물의 제조 방법에 관한 것이다. 이는 화학식 10의 기질과 유형 11의 티오우레아의 축합 반응을 포함한다.
Figure 112006062141116-PCT00068
Figure 112006062141116-PCT00069
화학식 10의 치환기 "L"은 친핵성 치환 반응에서 핵배척 이탈기이다(예를 들어, L은 클로로, 브로모, 요오도, 톨루엔설포닐옥시, 메탄설포닐옥시, 트리플루오로메탄설포닐옥시 등 중에서 선택될 수 있고, L이 브로모기인 것이 바람직하다).
화학식 11a 중 R1기는 알콕시기에 상응한다.
10과 1 a ∼ d의 반응은 화학식 12 a ∼ d의 티아졸형 생성물을 생성시킨다.
Figure 112006062141116-PCT00070
화학식 12a는 화학식 I과 동일하다. 따라서, 12a의 R1은 화학식 I의 R1에 상응한다.
화합물의 합성예
일반: 사용한 모든 화합물은 시판하는 시약 등급의 제품이었다. 디메틸포름아미드(DMF), 메탄올(MeOH)은 무수의 시판하는 등급의 제품이었고 이는 추가의 정제 없이 사용하였다. 디클로로메탄 및 테트라히드로퓨란(THF)은 사용 전에 아르곤 스트림 하에 새롭게 증류하였다. 반응 과정은 예비코팅된 실리카겔 60F 254, Fluka TLC 플레이트를 사용하는 박층 크로마토그래피에 의해 모니터링하였고, 이를 UV 광 하에 시각화하였다. 1H-NMR 스펙트럼의 다중성은 단일선(s), 광폭 단일선(br,s), 이중선(d), 삼중선(t), 사중선(q) 및 다중선(m)으로 나타내었고, NMR 스펙트럼은 300 MHz Brucker 분광계에서 나타내었다.
4-브로모아세틸-피리딘, HBR 염
Figure 112006062141116-PCT00071
디브롬(17.2 ｇ, 108 mmol)을 격렬한 교반 하에 33%의 HBr(165 ㎖)을 함유하는 아세트산 중 4-아세틸-피리딘(12 ｇ, 99 mmol)의 저온(0℃) 용액에 적가하였다. 격렬하게 교반된 혼합물을 2시간 동안 40℃로 가온한 후 75℃로 가온하였다. 75℃에서 2시간 후, 혼합물을 냉각하였고 에테르(400 ㎖)를 사용하여 희석하여 생성물을 침전시켰고, 이를 여과에 의해 회수하였으며 에테르 및 아세톤으로 세정하여 백색 결정(100%)을 제공하였다. 상기 물질을 메탄올 및 물로부터 재결정화할 수 있다.
1H NMR (DMSO-d6) δ = 5.09 (s, 2H, CH2Br); 8.62 (m, 2H, 피리딜-H); 9. 07 (m, 2H, 피리딜-H).
Figure 112006062141116-PCT00072
4-메틸-3-티오우레이도-벤조산 메틸 에스테르
염화벤조일(5.64 ｇ, 80 mmol)을 아세톤(50 ㎖) 중 티오시안산암모늄(3.54 ｇ, 88 mmol)의 잘 교반된 용액에 적가하였다. 상기 혼합물을 15분 동안 환류한 후, 3-아미노-4-메틸-벤조산 메틸 에스테르(13.2 ｇ, 80 mmol)를 조금씩 첨가하였다. 1시간 후, 반응 혼합물을 물(350 ㎖)에 부었고, 밝은 황색 침전물을 여과에 의해 단리하였다. 상기 미정제 고체를 메탄올 200 ㎖ 중 과량의 무수 탄산칼륨을 사용하여 실온에서 2시간 동안 교반하였다. 그 후, 감압 하에 용매를 제거하였고, 미정제의 생성물 왁스를 아세트산에틸로 추출하였고 물로 세정하였다. 유기층을 Na2SO4 상에서 건조하였고 농축하여 백색 고체를 제공하였다. 상기 고체를 15분 동안 에테르 중 교반하였고 여과하여 최종 생성물을 백색 고체로서 제공하였다.
1H NMR (DMSO-d6) δ = 2.22 (s, 3H, ArCH3); 3.81 (s, 3H, CO2CH3); 7.38 (d, 1H, J = 7.9Hz, Ar-H); 7.70 (dd, 1H, J = 7.9, 1.5Hz, Ar-H); 7.82 (d, 1H, J = 1.8Hz, Ar-H).
4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤조산 메틸 에스테르
Figure 112006062141116-PCT00073
에탄올(10 ㎖) 중 4-브로모아세틸-피리딘, HBr 염(0.40 ｇ, 1.43 mmol), 4-메틸-3-티오우레아-벤조산 메틸 에스테르(0.32 ｇ, 1.43 mmol) 및 KHCO3(∼0.4 ｇ)을 75℃에서 20시간 동안 가열하였다. 혼합물을 냉각하였고, 여과하였으며(KHCO3를 제거함) 감압 하에 증발시켰다. 잔류물을 CHCl3(40 ㎖)에 용해하였고, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 물로 세정하였다. 유기층을 Na2SO4 상에서 건조하였고 농축하였다. 미정제의 생성물을 소량의 아세트산에틸 중 분쇄하여 최종 생성물을 오렌지색 고체로서 제공하였다.
1H NMR (DMSO-d6) δ = 2.38 (s, 3H, ArCH3); 3.88 (s, 3H, CO2CH3); 7.58 (dd, 1H, J= 7.9, 1.8Hz, Ar-H); 7.75 (s, 1H, 티아졸-H); 7.85 (d, 2H, = 6.0Hz, 피리딜-H); 8.62 (d, 1H, = 6.0Hz, 피리딜-H); 9.12 (d, 1H, = 1.8Hz, Ar-H); 9.63 (s, 1H, NH).
N-(4-시아노-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드
Figure 112006062141116-PCT00074
4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤조산 메틸 에스테르
헥산(1.9 ㎖) 중 트리메틸 암모늄 2M 용액을 아르곤 대기 하에 무수 디클로로메탄(30 ㎖) 중 4-아미노-벤조니트릴(0.29 ｇ, 2.46 mmol)의 저온(0℃) 용액에 적가하였다. 상기 혼합물을 실온으로 가온하였고 실온에서 30분 동안 교반하였다. 무수 디클로로메탄(30 ㎖) 중 4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤조산 메틸 에스테르(0.80 ｇ, 2.46 mmol)를 서서히 첨가하였고, 생성된 혼합물을 환류 하에 5시간 동안 가열하였다. 혼합물을 0℃로 냉각하였고 4N의 수산화나트륨 수용액(3 ㎖)을 적가하여 켄칭하였다. 혼합물을 디클로로메탄(3x20 ㎖)으로 추출하였다. 배합된 유기층을 염수(3x20 ㎖)로 세정하였고 무수 MgSO4 상에서 건조하였다. 메탄올 중 미정제 생성물을 분쇄한 후 N-(4-시아노-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2일아미노)-벤조아미드를 98%로 수득하였다.
1H NMR (CDCl3) δ = 2.40 (s, 3H, ArCH3); 7.40 ( d, 1H, J = 7.9Hz, Ar-H); 7. 63 (dd, 1H, J = 7.9, 1.5Hz, Ar-H); 7.72 (s, 1H, 티아졸-H); 7.80-7.88 (m, 4H, Ar-H); 8.10 (d, 2H, J = 8.6Hz, Ar-H); 8.56 ( m, 2H, Ar-H); 8.86 ( d, 1H, J = 1.8Hz, Ar-H); 9.66 (br s, 1H, NH).
예:
Figure 112006062141116-PCT00075
제3 실시양태에서, 본 발명은 상기 기재한 화합물을 포함하는 약학 조성물에 관한 것이다.
상기 의약은 경구 투여용 약학 조성물의 형태일 수 있고, 이는 종래 기술에서 잘 공지되어 있는 약학적으로 허용가능한 담체를 사용하여 적합한 투여량으로 제형화할 수 있다. 상기 담체는 환자가 소화시킬 수 있는 정제, 알약, 당제, 캡슐, 액체, 겔, 시럽, 슬러리, 현탁액 등으로서 약학 조성물을 제형화하는 것을 가능하게 한다. 활성 성분에 부가하여, 상기 약학 조성물은 약학적으로 사용할 수 있는 제제로 활성 화합물을 가공하는 것을 용이하게 하는 부형제 및 보조제를 포함하는, 적절한 약학적 허용 담체를 함유할 수 있다. 제형화 및 투여 기술에 대한 더 세부내용은 [Remington's Pharmaceutical Sciences(Maack Publishing Co., Easton, Pa.]의 최신판에서 찾을 수 있다.
본 발명의 조성물은 또한 국소 투여용 약학 조성물 또는 화장료 조성물의 형태일 수 있다.
상기 조성물은 겔, 페이스트, 연고, 크림, 로션, 수성 액체 현탁액, 수성-알코올 용액, 또는 유성 용액의 형태, 또는 로션 타입 또는 세럼 타입의 분산액의 형태, 무수 겔 또는 친지질성 겔의 형태, 또는 액체 에멀션의 형태, 또는 지방산을 수성상에 분산시키거나 그 반대로 분산시킴으로써 수득한 반고체 농도의 우유 형태, 반고체 농도의 크림 또는 겔 형태, 또는 대안으로 마이크로에멸션의 형태, 마이크로캡슐의 형태, 마이크로입자의 형태 또는 이온성 형태 및/또는 비이온성 형태로의 소포성 분산액의 형태로 제공할 수 있다. 상기 조성물은 표준 방법에 따라 제조한다.
본 발명에 따른 조성물은 피부병 및 화장품에 통상적으로 사용하는 임의의 성분을 포함한다. 이는 친수성 또는 친지질성 겔화제, 친수성 또는 친지질성 활성제, 보존제, 완화제, 점도 증강성 중합체, 보습제, 계면활성제, 보존제, 항산화제, 용매, 및 충전제, 항산화제, 용매, 향수, 충전제, 차폐제, 살균제, 악취 흡수제 및 착색제 중에서 선택된 1 이상의 성분을 포함할 수 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는 오일로서, 광유(액체 파라핀), 식물성유(시어 버터, 해바라기유의 액체 분액), 동물성유, 합성유, 실리콘유(시클로메티콘) 및 불소화유를 들 수 있다. 지방 알콜, 지방산(스테아르산) 및 왁스(파라핀, 카르나우바, 밀납)도 지방 물질로서 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는 에멀션화제로서, 스테아르산글리세롤, 폴리소르베이트 60 및 PEG-6/PEG-32/스테아르산글리콜 혼합물을 들 수 있다.
소수성 겔화제로서, 카르복시비닐 중합체(카보머), 아크릴산 공중합체, 예컨대 아크릴레이트/알킬아크릴레이트 공중합체, 폴리아크릴아미드, 폴리사카리드, 예컨대 히드록시프로필셀룰로오스, 점토 및 천연 검을 들 수 있고, 친지질성 겔화제로서, 개질된 점토, 예컨대 벤톤, 지방산의 금속 염, 예컨대 스테아르산알루미늄 및 소수성 실리카, 또는 대안적으로 에틸셀룰로오스 및 폴리에틸렌을 들 수 있다.
친수성 활성제로서, 단백질 또는 단백질 가수분해물, 아미노산, 폴리올, 요소, 알란토인, 당 및 당 유도체, 비타민, 전분 및 식물 추출물, 특히 알로에 베라의 추출물을 사용할 수 있다.
친지질성 활성제로서, 레티놀(비타민 A) 및 이의 유도체, 토코페롤(비타민 E) 및 이의 유도체, 필수 지방산, 세라미드 및 정유를 사용할 수 있다. 이들 제제는 사용시 추가의 보습 또는 피부 연화 특성을 제공한다.
또한, 계면활성제를 조성물에 포함시켜 거대 세포를 감소시킬 수 있는 화합 물, 예컨대 티로신 키나제 억제제, 바람직하게는 c-키트 억제제를 더 깊이 침두시킬 수 있다.
가능한 성분 중, 본 발명은 예를 들어 광유, 물, 에탄올, 트리아세틴, 글리세린 및 프로필렌 글리콜로 이루어진 군 중에서 선택된 투과성 증진제; 폴리이소부틸렌, 폴리비닐 아세테이트 및 폴리비닐 알콜 중에서 선택된 응집제 및 농후제를 포함한다.
약물의 국소 흡수성을 증진시키는 화학적 방법은 종래 기술에서 잘 공지되어 있다. 예를 들어, 투과성 증진 특성을 갖는 화합물로서 라우릴황산나트륨(Dugard, P. H. and Sheuplein, R. J., "Effects of Ionic Surfactants on the Permeability of Human Epidermis: An Electrometric Study," J. Ivest. Dermatol., V.60, pp. 263-69, 1973), 산화라우릴아민 (Johnson et. al., US 4,411,893), 아존(Rajadhyaksha, US 4,405,616 및 3,989,816) 및 데실메틸 설폭시드 (Sekura, DL. and Scala, J., "The Percutaneous Absorption of Alkylmethyl Sulfides," Pharmacology of the Skin, Advances In Biolocy of Skin, (Appleton-Century Craft) V. 12, pp. 257-69, 1972)를 들 수 있다. 양쪽성 분자 중 헤드 기의 극성을 증가시키는 것은 이들의 투과성 증진 특성을 향상시키는 반면 피부 자극성을 높이게 된다는 것이 관측되었다 (Cooper, E. R. and Berner, B., "Interaction of Surfactants with Epidermal Tissues: Physiochemical Aspects," Surfactant Science Series, V. 16, Reiger, M. M. ed. (Marcel Dekker, Inc.) pp. 195-210, 1987).
제2 부류의 화학적 증진제는 일반적으로 공동 용매로서 일컫는다. 이들 물질은 상대적으로 용이하게 국소적으로 흡수되며, 각종 메커니즘에 의해 일부 약물에 대한 투과성이 강화된다. 에탄올 (Gale et. al., 미국 특허 제 4,615,699호 및 Campbell et. al., 미국 특허 제 4,460,372호 및 4,379,454호), 디메틸 설폭시드 (US 3,740,420 및 3,743,727, 및 US 4,575,515), 및 글리세린 유도체 (US 4,322,433)는 각종 화합물의 흡수성을 증진시키는 능력을 갖는 것으로 나타났다.
본 발명의 약학 조성물은 또한 환자의 기도의 표적 영역에 에어로졸화된 제제로 투여하기 위한 것일 수도 있다.
약물 제제의 에어로졸화된 버스트(burst)의 전달 장치 및 전달 방법은 US 5,906,202에서 개시되어 있다. 제제는 바람직하게는 용액, 예를 들어, 수용액, 에탄올계 용액, 수용액/에탄올계 용액, 식염수, 콜로이드성 현탁액 및 미정질 현탁액이다. 예를 들어, 에어로졸화된 입자는 상기 기재한 활성 성분 및 담체(예를 들어, 약학적 활성 호흡기 약물 및 담체)를 포함하고, 이는 노즐을 통해 제제를 밀어넣을때 형성되며, 상기 노즐은 가요성 다공성 막의 형태인 것이 바람직하다. 상기 입자는 이 입자가 형성될 때 충분한 시간 동안 공기 중 현탁된 상태로 존재하도록 충분히 작아서 환자가 그 입자를 폐까지 흡입할 수 있어야 한다.
본 발명은 US 5,556,611에서 기재된 하기 시스템을 포함한다:
- 가압 용기 중의 액체 가스 시스템(액화 가스는 추진 가스(예를 들어, 저비점 FCHC 또는 프로판, 부탄)으로서 사용함),
- 현탁 에어로졸(활성 물질 입자는 액체 추진 상 중 고체 형태로 현탁됨),
- 가압 가스 시스템(압축 가스, 예컨대 질소, 이산화탄소, 일산화이질소, 공기를 사용함).
따라서, 본 발명에 따라, 약학 제제는 적합한 비독성 매질에 활성 물질이 용해되거나 분산되도록 제조하고, 상기 용액 또는 분산액은 에어로졸로 분무하고, 즉 담체 가스에 극도로 미세하게 분포시킨다. 이는 특히 정확한 개별 투여를 가능하게 하는, 액체 분무 및 고체 분무용의, 예를 들어 에어로졸 추진 가스 팩, 펌프 에어로졸, 또는 그 자체로 공지된 기타 장치의 형태에 의해 기술적으로 가능하다.
따라서, 본 발명은 또한 바람직하게는 정량 분무 밸브를 갖는, 상기 제제 및 상기 정의된 화합물을 포함하는 에어로졸 장치에 관한 것이다.
본 발명의 약학 조성물은 또한 비내 투여를 위한 것일 수 있다.
이와 관련하여, 화합물을 코 점막 표면에 투여하기 위한 약학적 허용 담체는 당업자가 용이하게 식별할 수 있다. 상기 담체는 문헌[Remington's Pharmaceutical Sciences" 16th edition, 1980, Ed. By Arthur Osol]에 기재되어 있고, 이의 내용은 본원에서 참고로 인용한다.
적절한 담체는 사용하는 특정 투여 형태에 따라 선택한다. 상부 위장관을 통한 투여의 경우, 조성물은 액적으로서 또는 분무액으로서 비내 투여하기 위한 용액, 예를 들어, 물 또는 완충되거나 완충되지 않은 등장성 염수로서 또는 현탁액으로서 제형화한다. 바람직하게는, 상기 용액 또는 현탁액은 코 분비물과 등장성이고, 거의 동일한 pH, 예를 들어 약 pH 4.0 ∼ 약 pH 7.4, 또는 pH 6.0 ∼ pH 7.0의 범위를 갖는다. 완충제는 생리학적으로 친화성이어야 하며, 이의 예로서 포스페이 트 완충제를 들 수 있다. 예를 들어, 대표적 비충혈제거제는 약 pH 6.2로 완충되는 것으로 기재되어 있다(Remington's Id. 1445 페이지). 물론, 당업자는 코 및/또는 상부 호흡기 투여용의 무해한 수성 담체에 적합한 염수 함량 및 pH를 용이하게 결정할 수 있다.
통상의 비내 담체로서 점도가 약 10 ∼ 약 300 cps, 또는 약 2500 ∼ 약 6500 cps 이상인 코 겔, 크림, 페이스트 또는 연고를 들 수 있고, 이는 또한 코 점막 표면과 더 지속적으로 접촉되도록 할 수 있다. 상기 점액성 담체 제제는, 예를 들어 알킬셀룰로오스 및/또는 당업자에게 잘 공지되어 있는 고점도의 생체친화성 담체를 주성분으로 할 수 있다(예를 들어, 상기 언급한 Remington의 문헌 참고). 바람직한 알킬셀룰로오스는 예를 들어 그 농도가 담체 100 ㎖당 약 5 ∼ 약 1000 ㎎ 이상의 범위인 메틸셀룰로오스이다.
기타 성분, 예컨대 종래 기술에서 공지된 보존제, 착색제, 윤활제, 또는 광유 또는 식물성유, 향수, 천연 또는 합성 식물 추출물, 예컨대 방향유, 및 보습제, 및 점도 증진제, 예컨대 글리세롤도 포함하여 제제에 추가의 점도, 수분 보유력, 기분좋은 감촉 및 향기를 제공할 수 있다. 본 발명에 따른 용액 또는 현탁액의 코 투여에 있어서, 물방울, 액적 및 분무액을 생성하기 위한 각종 장치가 종래 기술에서 이용가능하다.
액적 또는 분무액으로서 전달하기 위한 용액 또는 현탁액을 함유하는 점적기 또는 분무 장치를 포함하는, 예비 측정한 단위 투약 디스펜서는 투여할 약물의 1회분 이상을 함유하도록 제조하고 이것이 본 발명이 또다른 목적이다. 또한, 본 발명 은 적합한 양의 물을 첨가함으로써 용액 또는 현탁액을 만들 준비가 된, 임의의 필요한 염 및/또는 완충제, 보존제, 착색제 등과 함께 화합물 1회분 이상의 탈수된 투여 단위를 함유하는 키트를 포함한다.
본 발명의 또다른 목적은 의약의 제조를 위한 상기 화합물의 용도에 관한 것이다. 다시 말해, 본 발명은 상기 정의된 화합물의 유효량을 치료를 필요로 하는 포유동물에게 투여하는 것을 포함하는, c-키트의 비제어된 형질도입과 관련된 질환의 치료 방법을 포함한다.
더 구체적으로, 본 발명은 상기 기재된 화합물의 유효량을 치료를 필요로 하는 포유 동물에게 투여하는 것을 포함하는, 자가면역 질환, 알레르기성 질환, 골손실, 암, 예컨대 백혈병 및 GIST, 종양 혈관신생, 염증성 질환, 염증성 장질환(IBD), 간질성 방광염, 비만세포증, 감염성 질환, 대사 장애, 섬유증, 당뇨병 및 CNS 장애 중에서 선택된 질환을 치료하는 방법에 관한 것이다.
상기 기재된 화합물은 하기를 포함하지만 이에 국한되지는 않는, 비제어된 c-키트 형질도입과 관련된 질환의 치료를 위한 의약의 제조에 유용하다.
- 종양성 질환, 예컨대 비만세포증, 견치 비만세포종, 인간 위장관 간질 종양("GIST"), 소세포 폐암, 비소세포 폐암, 급성 골수구성 백혈병, 급성 림프구성 백혈병, 골수형성이상 증후군, 만성 골수성 백혈병, 결장직장 암종, 위 암종, 위장 기질 종양, 고환암, 아교모세포종, 고체 종양 및 별아교세포종.
- 종양 혈관신생.
- 대사성 질환, 예컨대 당뇨병 및 이의 만성 합병증; 비만; 제2형 당뇨병; 고지질혈증 및 이상지혈증; 죽상동맥경화증; 고혈압; 및 심혈관 질환.
- 알레르기성 질환, 예컨대 천식, 알레르기성 비염, 알레르기성 동염, 아나필락시스 증후군, 두드러기, 혈관부종, 아토피 피부염, 알레르기성 접촉 피부염, 결절 홍반, 다형 홍반, 피부 괴사성 정맥염 및 곤충 자창 피부 염증 및 흡혈 기생충 감염.
- 간질성 방광염.
- 골손실(골다공증).
- 염증성 질환, 예컨대 류마티스 관절염, 결막염, 강직 척추염, 골관절염, 통풍 관절염 및 기타 관절염 증상.
- 자가면역 질환, 예컨대 다발성 경화증, 건선, 장 염증 질환, 궤양 대장염, 크롬병, 류마티스 관절염 및 다발관절염, 국소 및 전신 공피증, 전신 홍반 루푸스, 원판상 홍반 루푸스, 피부 루푸스, 피부근염, 다발 근육염, 쇼그렌 증후군, 결절 전층동맥염, 자가면역 창자병증, 뿐만 아니라 증식성 사구체신염.
- 임의의 장기, 예컨대 신장, 췌장, 간, 심장, 폐, 및 골수 이식시 이식편대숙주병 또는 이식 거부.
- 본 발명에 포함되는 기타 자가면역 질환, 예컨대 활성 만성 간염 및 만성 피로 증후군.
- 표피하 수포성 장애, 예컨대 천포창.
- 혈관염.
- 멜라닌 세포 기능장애와 관련된 질환, 예컨대 멜라닌 세포 기능장애로부터 발생하는 멜라닌과다증, 예컨대 흑자, 일광 흑자 및 노인 흑자, 전아세포종성 흑색종, 뿐만 아니라 악성 흑색종, 이와 관련하여, 본 발명은 인간 피부를 희게 하기 위한 의약 조성물 또는 화장료 조성물을 제조하기 위한 상기 정의된 화합물의 용도를 포함한다.
- CNS 장애, 예컨대 정신 질환, 편두통, 통증, 기억 상실 및 신경세포 퇴화. 더 구체적으로, 본 발명에 따른 방법은 하기 장애의 치료에 유용하다: 우울증, 예컨대 기분저하 장애, 순환성 장애, 양극성 우울증, 심한 우울증 또는 "불안성" 우울증, 비정형 우울증, 난치성 우울증, 계절 우울증, 식욕부진, 폭식증, 월경전 증후군, 폐경후 증후군, 기타 증후군, 예컨대 정신 지체 및 집중력 상실, 비관적 근심, 초조, 자기 비하, 성욕 감토, 통증, 예컨대 급성 통증, 수술후 통증, 만성 통증, 통각 통증, 암 통증, 신경병증 통증, 정신성 통증 증후군, 불안 장애, 예컨대 과다호흡 및 심장 부정맥과 관련된 불안, 공포 장애, 강박 장애, 외상후 스트레스 장애, 급성 스트레스 장애, 일반적 불안 장애, 정신적 응급 상태, 예컨대 공황 발작, 정신병, 편집 장애, 전환 장애, 공포증, 조증, 섬망, 해리성 장애, 예컨대 해리성 기억상실, 해리성 둔주, 해리성 주체성 장애, 이인증, 긴장증, 발작, 심한 정신적 응급 상태, 예컨대 자살 행동, 자기 방임, 폭력성 또는 공격성 행동, 외상, 경계성 인격 및 급성 정신병, 정신분열병, 예컨대 편집성 정신분열병, 해체성 정신분열증, 긴장성 정신분열증, 및 미분화형 정신분열증.
- 신경변성 질환, 예컨대 알츠하이머병, 파킨슨병, 헌팅톤병, 프리온 질환, 운동 뉴런 질환(MND), 및 근위축성 축색 경화증(ALS).
- 약물 사용 장애, 이의 비제한적인 예로서 약물 중독, 약물 남용, 약물 습관화, 약물 의존, 금단 증상 및 과량 복용.
- 뇌경색.
- 섬유증.
- 뒤시엔느 근위축증.
비만세포증과 관련하여, 본 발명은 하기의 카테고리로 분류할 수 있는 상이한 카테고리의 질환을 치료하기 위한 상기 정의된 화합물의 용도에 관한 것이다.
카테고리 I은 두개의 하부 카테고리(IA 및 IB)로 구성된다. 카테고리 IA는 거대 세포 침윤이 엄격히 피부에만 국한되는 질환이다. 상기 카테고리는 가장 빈번한 형태의 질환이고, 이는 하기 i) ∼ iv): i) 피부 비만세포증의 가장 일반적인 형태이고, 특히 어린이에게 나타나는 색소성 두드러기, ii) 확산 피부 비만세포증, iii) 고립 비만세포종 및 iv) 일부 드문 아형, 예컨대 홍피성 비만세포증 및 혈관확장 비만세포증을 포함한다. 상기 유형의 질환은 정확하게 예후할 수 있으며, 아이의 경우 자발적으로 완화되고 어른의 경우 거의 무통인 것으로 특징지어진다. 상기 질환 유형의 장기간 생존률은 정상 집단의 생존률에 필적하고, 다른 유형의 비만세포증으로의 전환은 드물다. 카테고리 IB는 피부와 관련되거나 관련되지 않은 무통 전신병(SM)을 나타낸다. 상기 형태는 아이보다 성인에게서 훨씬 더 일반적이다. 상기 질환의 진행과정은 종종 무통이나, 종종 공격성 또는 악성 비만세포증이 발생하여 진행성의 장기 기능 손상을 초래한다.
카테고리 II는 관련된 혈액 이상, 예컨대 골수증식 또는 골수이형성 증후군, 또는 급성 백혈병을 수반하는 비만세포증을 포함한다. 이들 악성 비만세포증은 보통 피부는 포함하지 않는다. 이들 질환은 관련된 혈액 이상의 유형에 따라 다르고, 이에 따라 예후한다.
카테고리 III은 비정상적 거대 새포에 의한 복수 장기의 거대 침윤이 일반적인 공격성 전신 비만세포증으로 특징지어진다. 이러한 종류의 공격성 임상 과정에 있는 환자는, 공수증식 장애를 나타내는 말초 혈액 특성이 더 일반적이다. 상기 질환의 진행은 급성 백혈병과 유사하게 매우 급속적이거나, 일부 환자는 더 긴 생존 시간을 보유주기도 한다.
마지막으로, 비만세포증의 카테고리 V는 백혈구의 10% 초과가 순환성 거대 세포 및 거대 세포 전구체로 존재하는 거대 세포 백혈병을 포함한다. 상기 질환 유형은 인간에게 있어서 가장 드문 백혈병 유형이고, 악성 비만세포증의 급속한 진행성 변이체와 유사하게 예후하기가 매우 어렵다. 거대 세포 백혈병은 새롭게 발생하거나, 색소성 두드러기 또는 전신 비만세포증의 말기로서 발생할 수 있다.
또한, 본 발명은 무증상 기간 이후 재발하는, 재발성 세균 감염, 예컨대 세균성 방광염의 치료 방법에 관한 것이다. 더 구체적으로, 본 발명은 그람 음성 장내세균, 예컨대 이 콜라이, 클레브시엘라 뉴모니아(Klebsiella pneumoniae), 세라티아 마르센스(Serratia marcescens), 시트로박터 프루디(Citrobactor freudii) 및 살모넬라 티피뮤리움(Salmonella typhimurium)과 같은 세균성 감염을 발현하는 FimH를 치료하는 데 사용할 수 있다. 세균성 감염의 치료 방법에 있어서, 바시트라신, 세팔로스포린, 페니실린, 아미노글리코사이드, 테트리사이클린, 스트렙토마이 신 중에서 선택된 1 이상의 항생제, 및 에리트로마이신, 플루오로퀴놀론, 액티노마이신, 설폰아미드 및 트리메토프림과 같은 마이크로라이드 항생제를 별개로, 순차적으로 또는 동시에 투여한다.
하나의 바람직한 실시양태에서, 본 발명은 치료를 필요로 하는 인간 또는 포유동물, 특히 개 및 고양이에게 본원에서 정의된 바와 같은 화합물을 투여하는 것을 포함하는, 종양성 질환, 예컨대 비만세포증, 견치 비만세포종, 인간 위장관 간질 종양("GIST"), 소세포 폐암, 비소세포 폐암, 급성 골수구성 백혈병, 급성 림프구성 백혈병, 골수형성이상 증후군, 만성 골수성 백혈병, 결장직장 암종, 위 암종, 위장 기질 종양, 고환암, 아교모세포종, 고체 종양 및 별아교세포종의 치료 방법에 관한 것이다.
하나의 다른 바람직한 실시양태에서, 본 발명은 치료를 필요로 하는 인간 또는 포유동물, 특히 개 및 고양이에게 본원에서 정의된 바와 같은 화합물을 투여하는 것을 포함하는, 알레르기성 질환, 예컨대 천식, 알레르기성 비염, 알레르기성 동염, 아나필락시스 증후군, 두드러기, 혈관부종, 아토피 피부염, 알레르기성 접촉 피부염, 결절 홍반, 다형 홍반, 피부 괴사성 정맥염 및 곤충 자창 피부 염증 및 흡혈 기생충 감염의 치료 방법에 관한 것이다.
또다른 바람직한 실시양태에서, 본 발명은 치료를 필요로 하는 인간 또는 포유동물, 특히 개 및 고양이에게 본원에서 정의된 바와 같은 화합물을 투여하는 것을 포함하는, 자가면역 질환, 예컨대 다발성 경화증, 건선, 장 염증 질환, 궤양 대장염, 크롬병, 류마티스 관절염 및 다발관절염, 국소 및 전신 공피증, 전신 홍반 루푸스, 원판상 홍반 루푸스, 피부 루푸스, 피부근염, 다발 근육염, 쇼그렌 증후군, 결절 전층동맥염, 자가면역 창자병증, 뿐만 아니라 증식성 사구체신염의 치료 방법에 관한 것이다.
또다른 바람직한 실시양태에서, 본 발명은 치료를 필요로 하는 인간 또는 포유동물, 특히 개 및 고양이에게 본원에서 정의된 바와 같은 화합물을 투여하는 것을 포함하는,임의의 장기, 예컨대 신장, 췌장, 간, 심장, 폐, 및 골수 이식시 이식편대숙주병 또는 이식 거부의 치료 방법에 관한 것이다.
실시예 1: 시험관내 TK 억제 분석
절차
배큐로바이러스 중 발현되는 c-키트의 정제된 세포내 도메인을 사용하여 실험을 수행하였다. 키나제 활성 측정은 확립된 ELISA 분석법에 의해 측정한 티로신 함유 표적 펩티드의 인산화에 의해 평가하였다.
시험 화합물에 대한 실험 결과
표 1의 결과는 IC50<10 μM로 강력한 c-키트의 촉매 활성의 억제 작용을 보여준다. 추가의 실험(기재되지 않음)은 적어도 하나의 화합물이 ATP의 완벽한 경쟁적 억제인자로서 작용함을 나타낸다.
실시예 2: 생체외 TK 억제 분석
절차
WT의 c-키트 및 돌연변이의 c-키트(JM) 분석
증식 분석
세포를 PBS 중 2회 세정한 후, 96 웰 플레이트의 웰당 5 x 104 세포로 평판배양하였고 조혈 성장 인자(HGF)로 자극하거나 자극하지 않았다. 2일 동안 배양한 후, 37 Bq(1.78 Tbq/mmol)의 [3H] 티미딘 (Amersham Life Science, UK)을 6시간 동안 첨가하였다. 세포를 채취하였고 유리 섬유 필터를 통해 정제하였으며 섬광 계수기 중 [3H] 티미딘 도입을 측정하였다. 증식 분석을 위하여, 모든 약물을 DMSO 중 20mM의 저장 용액으로서 제조하였고 -80℃에서 보존하였다. PBS 중 새로운 희석액을 제조한 후 각각의 실험을 수행하였다. 배양 초기에 DMSO에 용해된 약물을 첨가하였다. 상응하는 DMSO 희석액으로 대조군을 배양하였다. 억제제의 부재시 증식율을 100%로 하여 그 결과를 백분율로 나타내었다.
세포
Ba/F3 생쥐 키트 및 인간 키트, Ba/F3 mkitD27(근접막 결실)은 생쥐 IL-3 결핍성 Ba/F3 프로B 림프양 세포 유래이다. FMA3 및 P815 세포주는 키트의 내인성 돌연변이 형태를 발현하는, 즉 생쥐의 수용체-코돈 573 ∼ 579 중 근접막 코딩 영역 에서 프레임 결실된 비만세포종이다. 인간 백혈병성 MC 주 HMC-1은 돌연변이 JM-V560G를 발현한다.
면역침전분석 및 웨스턴 블롯 분석
각 분석에 대하여, (Beslu et al., 1996)에 기재된 바와 같이 각종 c-키트 돌연변이의 5.106 Ba/F3 세포 및 Ba/F3-유도된 세포를 용해하였고 면역 침전시켰으 나, 단 세포를 250 ng/㎖의 rmKL로 자극하였다. 세포 용해물을 KIT 세포질 도메인에 대한 토끼 면역혈청 항 생쥐 KIT로 면역침전시켰다(Rottapel et al., 1991). 웨스턴 블롯을 4G10 항-포스포티로신 항체(UBI) 또는 토끼 면역혈청 항-생쥐 KIT와, 또는 상이한 항체(항체 단락에서 기재됨)와 하이브리드화하였다. 그 후, 막을 HRP-결합된 염소 항 생쥐 IgG 항체 또는 HRP-결합된 염소 항 토끼 IgG 항체(Immunotech)와 함께 항온배양하였다. 그 후, 관심을 갖는 단백질을 ECL 시약(Amersham)과 함께 항온배양함으로써 시각화하였다.
실험 결과
상기 기재한 프로토콜을 사용한 본 발명에 따른 각종 화합물의 실험 결과는 표 2에 제시되어 있다:
Figure 112006062141116-PCT00076

Claims (14)

  1. 하기 화학식 I의 화합물:
    [화학식 I]
    Figure 112006062141116-PCT00077
    상기 식 중,
    R6 및 R7은 서로 독립적으로 하기 (i) ∼ (v):
    (i) 수소, 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨);
    (ii) 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트(pendant) 염기성 질소 작용기의 형태임)와 같은 1 이상의 헤테로원자; 뿐만 아니라 트리플루오로메틸, 카르복실, 시아노, 니트로, 및 포르밀로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10, 또는 탄소수 2 또는 3 ∼ 10의 선형, 분지형 또는 환형 알킬기(예를 들어, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실...)로서 정의되는 알킬1 기;
    (iii) 페닐, 또는
    - 할로겐(I, F, Cl 또는 Br 중에서 선택됨);
    - 알킬1 기;
    - 펜던트 염기성 질소 작용기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로 아릴 기;
    - 트리플루오로메틸, O-알킬1, 카르복실, 시아노, 니트로, 포르밀, 히드록시, NH-알킬1, N(알킬1)(알킬1), 및 아미노(마지막 질소 치환기는 임의로 염기성 질소 작용기의 형태임)
    를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 보유하는 페닐의 치환된 변형체로서 정의되는 아릴1 기;
    (iv)
    - 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨);
    - 알킬1 기;
    - 펜던트 염기성 질소 작용기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기;
    - 트리플루오로메틸, O-알킬1, 카르복실, 시아노, 니트로, 포르밀, 히드록시, NH-알킬1, N(알킬1)(알킬1), 및 아미노(마지막 질소 치환기는 임의로 염기성 질소 작용기의 형태임)
    를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 추가로 보유할 수 있는 피리딜, 피리미디닐, 피라지닐, 피리다지닐, 티에닐, 티아졸릴, 이미다졸릴, 피라졸릴, 피롤릴, 푸라닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 트리아졸릴, 테트 라졸릴, 인돌릴, 벤즈이미다졸, 퀴놀리닐 기로서 정의되는 헤테로아릴1 기;
    (v) 트리플루오로메틸, 카르복실, 시아노, 니트로, 포르밀, 히드록시, N(알킬1)(알킬1), 및 아미노(마지막 질소 치환기는 임의로 염기성 질소 작용기의 형태임)
    중 하나로부터 선택되고;
    R8은 하기 (i) ∼ (iii):
    (i) 수소, 또는
    (ii) 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)와 같은 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 또는
    (iii) CO-R8 또는 COOR8 또는 CONHR8 또는 SO2R8[식 중, R8은
    - 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)와 같은 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 또는
    - 페닐, 또는 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨); 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)와 같은 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기; 뿐만 아니라 트리플루오로메틸, C1-6알킬옥시, 카르복실, 시아노, 니트로, 포르밀, 히드록 시, C1-6알킬아미노, 디(C1-6알킬)아미노, 및 아미노(마지막 질소 치환기는 임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임); 뿐만 아니라 CO-R, COO-R, CONH-R, SO2-R 및 SO2NH-R{식 중 R은 1 이상의 헤테로원자, 특히 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기임}를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 보유하는 페닐의 치환된 변형체를 비롯한 아릴기, 또는
    - 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨); 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)와 같은 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기; 뿐만 아니라 트리플루오로메틸, C1-6알킬옥시, 카르복실, 시아노, 니트로, 포르밀, 히드록시, C1-6알킬아미노, 디(C1-6알킬)아미노, 및 아미노(마지막 질소 치환기는 임의로 염기성 질소 작용기의 형태임); 뿐만 아니라 CO-R, COO-R, CONH-R, SO2-R 및 SO2NH-R{식 중 R은 1 이상의 헤테로원자, 특히 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기임}를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 추가로 보유할 수 있는 피리딜, 피리미디닐, 피라지닐, 피리다지닐, 티에닐, 티아졸릴, 이미다졸릴, 피라졸릴, 피롤릴, 푸라닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 트리아졸릴, 테트라졸릴, 인돌릴, 벤즈이미다졸, 퀴놀리닐 기를 비롯한 헤테로아릴기일 수 있음]
    중 하나이고;
    R2, R3, R4 및 R5는 각각 독립적으로 수소; 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨); 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)와 같은 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 뿐만 아니라 트리플루오로메틸, C1-6알킬옥시, 아미노, C1-6알킬아미노, 디(C1-6알킬)아미노, 카르복실, 시아노, 니트로, 포르밀, 히드록시 및 CO-R, COO-R, CONH-R, SO2-R 및 SO2NH-R{식 중 R은 1 이상의 헤테로원자, 특히 할로겐(F, Cl, Br 또는 I 중에서 선택됨), 산소, 및 질소(임의로 펜던트 염기성 질소 작용기의 형태임)로 임의 치환된 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기임} 중에서 선택되고;
    A는 CH2, O, S, S02, CO, 또는 COO이고;
    B는 결합, 또는 NH, NCH3, NR*, (CH2)n (n은 0, 1 또는 2임), O, S, S02, CO, 또는 COO이고;
    B'는 결합, 또는 NH, NCH3, NR*, (CH2)n (n은 0, 1 또는 2임), O, S, S02, CO 또는 COO이고;
    R*는 알킬1, 아릴1 또는 헤테로아릴1이며;
    W는 결합, 또는 NH, NHCO, NHCOO, NHCONH, NHS02, NHS02NH, CO, CONH, COO, COCH2, (CH2)n (n은 0, 1 또는 2임), CH2-CO, CH2COO, CH2-NH, O, OCH2, S, S02, 및 SO2NH 중에서 선택된 링커이며;
    R1은 하기 a) ∼ c):
    a) 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기;
    b) 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬 또는 아릴 기로 임의 치환된 아릴 또는 헤테로아릴 기;
    c) 알킬1, 아릴1 또는 헤테로아릴1
    이다.
  2. 제1항에 있어서, R6는 (iv)이고, R4는 H 또는 CH3이며, A-B-B'는 CO-NH인 화합물.
  3. 제1항에 있어서, 하기 화학식 II로 표시되는 것인 화합물:
    [화학식 II]
    Figure 112006062141116-PCT00078
    상기 식 중,
    X는 R 또는 NRR' (식 중, R 및 R'는 독립적으로 H; F, I, Cl 및 Br 중에서 선택된 할로겐과 같은 1 이상의 헤테로 원자로 임의 치환되고 임의로 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 아릴, 헤테로아릴, 알킬, 또는 시클로알킬 기; 또는 F, I, Cl 및 Br 중에서 선택된 할로겐과 같은 1 이상의 헤테로 원자로 임의 치환되고 임의로 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 아릴, 헤테로아릴, 알킬 또는 시클로알킬 기로 치환된 아릴, 헤테로아릴, 알킬 또는 시클로알킬 기 중에서 선택됨)이고;
    R2는 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플루오로메틸 또는 알콕시이고;
    R3는 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플루오로메틸 또는 알콕시이고;
    R4는 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플루오로메틸 또는 알콕시이고;
    R5는 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플 루오로메틸 또는 알콕시이며;
    R6는 하기 (i) ∼ (iv):
    (i) 페닐, 또는 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 보유하는 페닐의 치환된 변형체를 비롯한 아릴기;
    (ii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 추가로 보유할 수 있는 2, 3, 또는 4-피리딜기를 비롯한 헤테로아릴기;
    (iii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 추가로 보유할 수 있는 2-티에닐, 3-티에닐, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴을 비롯한 5원환 방향족 헤테로시클릭기;
    (iv) H; I, F, Cl 또는 Br 중에서 선택된 할로겐; NH2, NO2 또는 SO2-R(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기임)
    중 하나이다.
  4. 제1항 또는 제3항에 있어서, R1 및 X는 각각 예를 들어 하기 a ∼ m의 구조식으로 표시되는, 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 치환된 알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기인 화합물:
    Figure 112006062141116-PCT00079
    Figure 112006062141116-PCT00080
    상기 식 중, 물결선 및 화살선은 화학식 I 또는 II의 핵 구조에 결합하는 지점에 해당한다.
  5. 제4항에 있어서, 상기 화살표는 페닐기를 통하여 핵 구조에 결합하는 지점인 화합물.
  6. 제1항 또는 제3항에 있어서, R6는 하기 구조식 g로 표시되는 3-피리딜기, 또는 하기 구조식 h로 표시되는 4-피리딜기이고, 구조식 g 및 h의 물결선은 화학식 I 또는 II의 핵 구조에 결합하는 지점에 해당하는 것인 화합물:
    Figure 112006062141116-PCT00081
  7. 제3항에 있어서, 하기 화학식 II-3으로 표시되는 것인 화합물:
    [화학식 II-3]
    Figure 112006062141116-PCT00082
    상기 식 중,
    Ra, Rb, Rc, Rd, Re는 독립적으로 H 또는 예를 들어 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기 중에서 선택될 수 있는 유기기;
    - SO2-R 기(식 중, R은 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알 킬, 아릴 또는 헤테로아릴임); 또는 -CO-R 또는 -CO-NRR' 기(식 중, R 및 R'는 독립적으로 H 또는 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기 중에서 선택됨) 중에서 선택되고;
    Ra, Rb, Rc, Rd, Re는 또한
    - I, Cl, Br 및 F와 같은 할로겐;
    - NRR' 기(식 중, R 및 R'는 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임);
    - OR 기(식 중, R은 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환 된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; -SO2-R' 기{식 중, R'는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴임}임);
    - NRaCORb 기(식 중, Ra 및 Rb는 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임);
    - NRaCONRbRc 기(식 중, Ra 및 Rb는 H 또는 1 이상의 헤테로원자로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 임의 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임);
    - COOR(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지 형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임);
    - CONRaRb(식 중, Ra 및 Rb는 수소 또는 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임);
    - NHCOOR(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임);
    - OSO2R(식 중, R은 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기임);
    - NRaOSO2Rb(식 중, Ra 및 Rb는 1 이상의 헤테로원자(예를 들어 할로겐)로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기이고; Ra는 또한 수소; 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기; 또는 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 질소 작용기를 보유하는 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환된 시클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 기일 수 있음);
    - CN 기;
    - 트리플루오로메틸기
    일 수 있고;
    R4는 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기, 트리플 루오로메틸 또는 알콕시이며;
    R6는 하기 (i) ∼ (iv):
    (i) 페닐, 또는 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 고리의 임의의 한 위치에 보유하는 또는 페닐의 치환된 변형체를 비롯한 아릴기;
    (ii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 추가로 보유할 수 있는 2, 3, 또는 4-피리딜기를 비롯한 헤테로아릴기;
    (iii) 할로겐, 탄소수 1 ∼ 10의 알킬기, 트리플루오로메틸, 및 알콕시를 비롯한 1 이상의 치환기의 임의의 조합을 추가로 보유할 수 있는 2-티에닐, 3-티에닐, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴을 비롯한 5원환 방향족 헤테로시클릭기;
    (iv) H; I, F Cl 또는 Br 중에서 선택된 할로겐; NH2, NO2 또는 SO2-R (식 중, R은 1 이상의 헤테로원자, 특히 I, Cl, Br 및 F 중에서 선택된 할로겐으로 임의 치환되고/되거나 펜던트 염기성 질소 작용기를 보유하는 탄소수 1 ∼ 10의 선형 또는 분지형 알킬기임)
    중 하나이다.
  8. 제7항에 있어서, N-(2-플루오로-3-트리플루오로메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(3-플루오로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘 -4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, 4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-N-(3-트리플루오로메틸-페닐)-벤즈아미드, 4-메틸-N-(4-메틸-3-트리플루오로메틸-페닐)-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(2-플루오로-5-트리플루오로메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(4-시아노-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(4-플루오로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(3-플루오로-4-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(4-tert-부틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(3-시아노-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(3-시아노-4-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(3-브로모-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(3-브로모-4-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(3,5-디브로모-4-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(3-클로로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(3-클로로-4-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(3-메톡시-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, 4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-N-m-톨릴-벤즈아미드, N-(4-플루오로-3-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(3-요오도-4-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, 4-메틸-N-(3-니트로-페닐)-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, 4-메 틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-N-p-톨릴-벤즈아미드, 4-메틸-N-페닐-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(3,4-디메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, 4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-N-(3-트리플루오로메톡시-페닐)-벤즈아미드, N-(3,4-디시아노-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(2-플루오로-5-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(2,4-디플루오로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(4-시아노-2-플루오로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(2-플루오로-4-메틸-페닐-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(2,4-디플루오로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(4-시아노-2-플루오로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(2-플루오로-4-메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(4-시아노-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(4-플루오로-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, 4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-N-m-톨릴-벤즈아미드, 4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-N-(3-트리플루오로메틸-페닐)-벤즈아미드, 4-메틸-N-(4-메틸-3-트리플루오로메틸-페닐)-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(2-플루오로-3-트리플루오로메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(4-시아노-3-트리플루오로메틸-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(4-시아노-3-메틸- 페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, 4-메틸-N-[4-(4-메틸-피페라진-1-일메틸)-3-트리플루오로메틸-페닐]-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, 4-메틸-N-{4-[1-(4-메틸-피페라진-1-일)-에틸]-페닐}-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(3-디메틸아미노-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-4-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드, N-(3-디메틸아미노-페닐)-4-메틸-3-(4-피리딘-3-일-티아졸-2-일아미노)-벤즈아미드 중에서 선택되는 것인 화합물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 화합물을 포함하는 약학 조성물.
  10. 제9항에 있어서, 경구 투여에 적합한 약학 조성물.
  11. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 화합물의 국소 투여용 피부약학 조성물 또는 화장료 조성물.
  12. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 화합물을 포함하는 수의학 조성물.
  13. 의약 제조를 위한 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 화합물의 용도.
  14. 자가면역 질환, 알레르기성 질환, 골손실; 백혈병 및 GIST를 비롯한 암; 종양 혈관신생, 염증성 질환, 예컨대 관절염, 염증성 장질환(IBD), 간질성 방광염, 비만세포증, 감염성 질환, 대사 장애, 섬유증, 당뇨병 및 CNS 장애 중에서 선택된 질환 치료용 의약의 제조를 위한 제13항에 따른 화합물의 용도.
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