KR20060094723A - Side effusion type evaporation source and vapor deposion apparatus having the same - Google Patents

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KR20060094723A
KR20060094723A KR1020050016120A KR20050016120A KR20060094723A KR 20060094723 A KR20060094723 A KR 20060094723A KR 1020050016120 A KR1020050016120 A KR 1020050016120A KR 20050016120 A KR20050016120 A KR 20050016120A KR 20060094723 A KR20060094723 A KR 20060094723A
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강희철
안재홍
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삼성에스디아이 주식회사
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Abstract

튐 방지턱을 구비하는 측면 분사형 증발원 및 그 증발원을 구비하는 증착장치를 제공한다. 상기 증발원은 측면이 개구된 하우징을 구비한다. 상기 하우징의 내부에 상기 하우징의 개구된 면과 같은 방향의 면이 개구된 몸체와 상기 몸체의 개구된 면에 인접하는 튐 방지턱(spitting preventing protrusion)을 구비하는 도가니가 위치한다. 상기 튐 방지턱은 상기 도가니의 몸체와 일체형이다. 상기 도가니의 개구된 면에 노즐을 구비하는 노즐부가 연결된다. 상기 노즐부 및/또는 상기 도가니를 가열하는 가열부가 배치된다. 이로써, 증발재료가 상기 도가니 몸체와 상기 튐 방지턱 사이로 새어나가는 것을 방지할 수 있다.A side jet type evaporation source having a jaw and a vapor deposition apparatus including the evaporation source are provided. The evaporation source has a housing with an open side. Inside the housing is a crucible having a body having a surface in the same direction as the opened surface of the housing and a spitting preventing protrusion adjacent to the opened surface of the body. The shock absorber is integral with the body of the crucible. A nozzle portion having a nozzle is connected to an open surface of the crucible. A heating section for heating the nozzle section and / or the crucible is arranged. As a result, it is possible to prevent the evaporation material from leaking between the crucible body and the splash prevention jaw.

증발원, 증착장치, 도가니, 튐 방지턱 Evaporation source, evaporation device, crucible, heat sink

Description

튐 방지턱을 구비하는 측면 분사형 증발원 및 그 증발원을 구비하는 증착장치{side effusion type evaporation source and vapor deposion apparatus having the same}측면 side effusion type evaporation source having a projection and a vapor deposition apparatus having the evaporation source {side effusion type evaporation source and vapor deposion apparatus having the same}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 측면 분사형 증발원을 구비한 유기물 증착 장치를 도시한 개략도이다.1 is a schematic diagram showing an organic material deposition apparatus having a side injection type evaporation source according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 측면 분사형 증발원을 나타낸 사시도이다.Figure 2 is a perspective view showing a side injection type evaporation source according to an embodiment of the present invention.

도 3은 도 2에 나타낸 측면 분사형 증발원의 일부 구성요소를 나타낸 분해 사시도이다.3 is an exploded perspective view showing some components of the side injection type evaporation source shown in FIG. 2.

도 4는 도 2의 절단선 I-I'를 따라 취해진 단면도이다.4 is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 2.

(도면의 주요 부위에 대한 부호의 설명)(Explanation of symbols for main parts of drawing)

100 : 증착장치 300 : 측면 분사형 증발원100: deposition apparatus 300: side injection type evaporation source

360 : 도가니 363 : 튐 방지턱360: crucible 363: jaw bump

365 : 격벽 367 : 도가니 몸체 상부면365: bulkhead 367: crucible body upper surface

350 : 노즐부 351 : 노즐350 nozzle part 351 nozzle

370 : 가열부370: heating unit

본 발명은 증발원 및 그를 구비하는 증착장치에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 측면 분사형 증발원 및 그를 구비하는 증착장치에 관한 것이다.The present invention relates to an evaporation source and a deposition apparatus having the same, and more particularly, to a side injection type evaporation source and a deposition apparatus having the same.

일반적으로, 증착장치는 증발재료로부터 증발된 증기를 기판 상에 공급하는 증발원(evaporation source)을 구비한다. 상기 공급된 증기는 상기 기판 상에 박막을 형성한다. 이러한 증발원은 증발재료를 담는 도가니와 상기 도가니를 가열하는 가열수단 및 상기 증발재료로부터 증발된 증기를 분사하는 노즐을 구비한다. 상기 가열수단은 도가니를 가열하고, 가열된 도가니로부터 전달된 열에 의해 증발재료는 증발된다.Generally, the deposition apparatus has an evaporation source for supplying vapor evaporated from the evaporation material onto the substrate. The supplied steam forms a thin film on the substrate. The evaporation source includes a crucible containing evaporation material, heating means for heating the crucible, and a nozzle for injecting vapor evaporated from the evaporation material. The heating means heats the crucible and the evaporation material is evaporated by the heat transferred from the heated crucible.

이러한 증발원 및 증작장치가 대한민국 공개특허 제 2003-0075461호에 개시되었다. 상기 공개특허에 따르면, 증발원은 도가니 내부에 저장된 증발재료가 튀어나가는 것을 방지하기 위해 튐 방지부를 구비한다. 그러나, 상기 튐 방지부와 도가니 사이에는 틈이 있어, 상기 틈을 통해 증발재료가 새어나올 수 있다.Such an evaporation source and a thickening device are disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 2003-0075461. According to the above-mentioned patent, the evaporation source has a splash prevention part to prevent the evaporation material stored in the crucible from popping out. However, there is a gap between the splash prevention portion and the crucible, so that the evaporation material may leak through the gap.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상기한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 증발재료가 새어나가는 것을 방지한 증발원 및 이러한 증발원을 구비하는 증착장치를 제공함에 있다.The technical problem to be achieved by the present invention is to solve the problems of the prior art, to provide an evaporation source and a vapor deposition apparatus having such an evaporation source to prevent the evaporation material leaks.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 일 측면은 증발원을 제공한다. 상기 증발원은 측면이 개구된 하우징을 구비한다. 상기 하우징의 내부에 상기 하우징의 개구된 면과 같은 방향의 면이 개구된 몸체와 상기 몸체의 개구된 면에 인접하는 튐 방지턱(spitting preventing protrusion)을 구비하는 도가니가 위치한다. 상기 튐 방지턱은 상기 도가니의 몸체와 일체형이다. 상기 도가니의 개구된 면에 노즐을 구비하는 노즐부가 연결된다. 상기 노즐부 및/또는 상기 도가니를 가열하는 가열부가 배치된다.In order to achieve the above technical problem, an aspect of the present invention provides an evaporation source. The evaporation source has a housing with an open side. Inside the housing is a crucible having a body having a surface in the same direction as the opened surface of the housing and a spitting preventing protrusion adjacent to the opened surface of the body. The shock absorber is integral with the body of the crucible. A nozzle portion having a nozzle is connected to an open surface of the crucible. A heating section for heating the nozzle section and / or the crucible is arranged.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 일 측면은 증발원을 구비하는 증착장치를 제공한다. 상기 증착장치는 챔버를 구비한다. 상기 챔버 내의 일측면 상에 지면과 70 내지 110도의 각을 가지도록 기판을 고정하는 기판 고정수단이 위치한다. 상기 챔버 내에 상기 기판을 향하는 측면이 개구된 하우징, 도가니, 노즐부 및 가열부를 구비하는 증발원이 위치한다. 상기 도가니는 상기 하우징의 내부에 위치하여 상기 하우징의 개구된 면과 같은 방향의 면이 개구된 몸체와 상기 몸체의 개구된 면에 인접하는 튐 방지턱(spitting preventing protrusion)을 구비한다. 상기 튐 방지턱은 상기 도가니 몸체와 일체형이다. 상기 노즐부는 상기 도가니의 개구된 면에 연결되고 노즐을 구비한다. 상기 가열부는 상기 노즐부 및/또는 상기 도가니를 가열한다.In order to achieve the above technical problem, an aspect of the present invention provides a deposition apparatus having an evaporation source. The deposition apparatus has a chamber. The substrate holding means for fixing the substrate to have an angle of 70 to 110 degrees with the ground on one side in the chamber. An evaporation source including a housing, a crucible, a nozzle portion, and a heating portion having an open side surface facing the substrate is located in the chamber. The crucible has a body which is located inside the housing and has an opening in the same direction as the opened surface of the housing and a spitting preventing protrusion adjacent to the opened surface of the body. The shock absorber is integral with the crucible body. The nozzle portion is connected to the open face of the crucible and has a nozzle. The heating section heats the nozzle section and / or the crucible.

이하, 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소를 나타낸다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings in order to describe the present invention in more detail. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. Like numbers refer to like elements throughout the specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 측면 분사형 증발원을 구비한 증착장치를 도시한 개략도이다.1 is a schematic view showing a deposition apparatus having a side injection type evaporation source according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 증착장치(100)는 그의 몸체를 이루는 챔버(200), 적어도 하나의 증발원(300)을 구비한다.Referring to FIG. 1, the deposition apparatus 100 includes a chamber 200 constituting its body and at least one evaporation source 300.

상기 증발원(300)은 증발재료를 저장하고, 상기 저장된 증발재료를 가열하여 증발시킨 후, 증발된 증기를 기판(S) 상으로 분사(effuse)하여 기판(S) 상에 증착막을 형성하는 기능을 한다. 이 때, 상기 증발원(300)은 상기 증기를 상기 증발원(300)의 일측면을 통해 분사한다.The evaporation source 300 stores the evaporation material, heats the evaporation material and evaporates the stored evaporation material, and then vaporizes the evaporated vapor onto the substrate S to form a deposition film on the substrate S. do. At this time, the evaporation source 300 injects the vapor through one side of the evaporation source 300.

이러한 증발원(300)은 증발원 이송 장치(400)에 의해 상하 방향으로 이송될 수 있다. 따라서, 상기 증발원(300)은 상하 방향으로 이송되면서 상기 기판(S) 상에 증기를 분사시킬 수 있다. 상기 증발원 이송 장치(400)는 볼 스크류(401), 상기 볼 스크류(401)를 회전시키는 모터(403) 및 상기 증발원(300)을 상하 방향으로 안내하기 위한 가이드(402)를 구비한다.The evaporation source 300 may be transferred in the vertical direction by the evaporation source transfer device 400. Therefore, the evaporation source 300 may be sprayed on the substrate (S) while being transferred in the vertical direction. The evaporation source transfer device 400 includes a ball screw 401, a motor 403 for rotating the ball screw 401, and a guide 402 for guiding the evaporation source 300 in a vertical direction.

상기 챔버(200) 내에 상기 기판(S)을 지면에 대해 대략 수직이 되도록 고정하는 기판 고정수단(500)이 위치한다. 이로써, 상기 기판(S) 상에는 상기 상하 방향으로 이송되는 증발원(300)에 의해 증착막이 형성될 수 있다. 바람직하게는 상기 기판 고정수단(500)은 상기 기판(S)을 지면과 70 내지 110도의 각도를 가지도록 고정한다.Substrate fixing means 500 for fixing the substrate S to be substantially perpendicular to the ground is located in the chamber 200. As a result, a deposition film may be formed on the substrate S by the evaporation source 300 transferred in the vertical direction. Preferably, the substrate fixing means 500 fixes the substrate S to an angle of 70 to 110 degrees with respect to the ground.

상기 기판(S)의 상기 증발원(300)을 바라보는 면 상에 섀도우 마스크(M)가 설치될 수 있다. 상기 섀도우 마스크(M)는 증착막의 패턴 형상을 결정하는 역할을 한다.A shadow mask M may be installed on a surface of the substrate S facing the evaporation source 300. The shadow mask M determines a pattern shape of the deposition film.

또한, 상기 증착장치(100)는 상기 기판(S) 상에 증착되는 증착막의 두께를 측정할 수 있는 두께 측정 장치(미도시)를 더 구비할 수도 있다. In addition, the deposition apparatus 100 may further include a thickness measuring device (not shown) capable of measuring the thickness of the deposition film deposited on the substrate (S).

상기 챔버(200)에 진공펌프(미도시)가 연결된다. 이로써, 상기 챔버(200) 내부는 진공상태를 유지할 수 있다.A vacuum pump (not shown) is connected to the chamber 200. As a result, the inside of the chamber 200 may maintain a vacuum state.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 측면 분사형 증발원을 나타낸 사시도이고, 도 3은 도 2에 나타낸 측면 분사형 증발원의 일부 구성요소를 나타낸 분해 사시도이고, 도 4는 도 2의 절단선 I-I'를 따라 취해진 단면도이다.2 is a perspective view showing a side injection evaporation source according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is an exploded perspective view showing some components of the side injection evaporation source shown in Figure 2, Figure 4 is a cut line I-I of FIG. It is a cross-sectional view taken along.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 증발원(300)은 일측면, 자세하게는 기판(도 1의 S)을 향하는 측면이 개구된 하우징(320)을 구비한다. 상기 하우징(320)의 내부에 상기 하우징(320)의 개구된 면과 같은 방향의 면이 개구된 몸체(368)를 구비하는 도가니(360)가 위치한다. 상기 하우징(320)은 상기 도가니(360)를 감싸는 형태를 갖고, 상기 도가니(360)를 외부 환경으로부터 격리한다.2 to 4, the evaporation source 300 includes a housing 320 having one side, in detail, a side facing toward the substrate (S in FIG. 1). A crucible 360 having a body 368 having an open surface in the same direction as the open surface of the housing 320 is located inside the housing 320. The housing 320 has a shape surrounding the crucible 360 and isolates the crucible 360 from the external environment.

상기 도가니(360)는 튐 방지턱(spitting preventing protrusion; 363)을 구비한다. 상기 튐 방지턱(363)은 상기 도가니 몸체(368)의 개구된 면에 인접하여 위치하며, 상기 도가니 몸체(368)와 일체형이다. 자세하게는 상기 튐 방지턱(363)은 상기 도가니 몸체(368)의 바닥면에 일체형으로 연결된다. 따라서, 상기 도가니(360)는 그의 내부에 상기 튐 방지턱(363), 상기 바닥면 및 다른 측면들에 둘러싸인 공간을 구비하게 되며, 상기 공간에는 증발재료(D)가 저장된다.The crucible 360 has a spitting preventing protrusion 363. The shock prevention jaw 363 is located adjacent to the open surface of the crucible body 368 and is integral with the crucible body 368. In detail, the splash prevention jaw 363 is integrally connected to the bottom surface of the crucible body 368. Accordingly, the crucible 360 has a space surrounded therein by the jaw prevention jaw 363, the bottom surface, and other sides, and the evaporation material D is stored in the space.

상기 튐 방지턱(363)은 상기 도가니(360)가 가열되어 상기 증발재료(D)가 증 발될 때, 상기 증발재료(D)가 튀어(spit) 상기 증발원(300) 바깥으로 나가는 것을 방지하는 역할을 한다. 이를 위해, 상기 튐 방지턱(363)의 높이(HS)는 상기 도가니 몸체(368)의 바닥면으로부터 노즐(351)까지의 높이(HN) 보다 큰 것이 바람직하다. 이러한, 튐 현상은 증발 초기단계 또는 상기 증발재료(D)에 밀도의 변화 등이 발생하였을 때 발생하기 쉬우며, 이러한 튐 현상으로 인해 상기 노즐(351)이 막힐 수 있고, 상기 기판(도 1의 S)이 오염되거나 예기치 않은 증착을 유발할 수 있다. 이는 증착막의 질을 저하시키는 요인이 되기도 한다.When the crucible 360 is heated to evaporate the evaporation material D, the splash prevention jaw 363 prevents the evaporation material D from spitting out of the evaporation source 300. do. To this end, the height H S of the shock prevention jaw 363 is preferably greater than the height H N from the bottom surface of the crucible body 368 to the nozzle 351. Such a phenomenon is likely to occur when an initial stage of evaporation or a change in density occurs in the evaporation material D, and the nozzle 351 may be blocked due to such a phenomenon. S) may be contaminated or cause unexpected deposition. This may also be a factor of lowering the quality of the deposited film.

또한, 상기 튐 방지턱(363)이 상기 도가니 몸체(368)와 일체로 형성됨으로써, 상기 튐 방지턱(363)과 상기 도가니 몸체(368)의 바닥면 사이에 틈이 없다. 따라서, 상기 증발재료(D)가 상기 튐 방지턱(363)과 상기 도가니 몸체(368)의 바닥면 사이의 틈으로 새어나가는 것을 방지할 수 있다. 특히 상기 증발재료(D)가 열에 의해 액화될 수 있는 경우 더욱 그러하다.In addition, since the shock prevention jaw 363 is integrally formed with the crucible body 368, there is no gap between the shock prevention jaw 363 and the bottom surface of the crucible body 368. Therefore, it is possible to prevent the evaporation material D from leaking into a gap between the splash prevention jaw 363 and the bottom surface of the crucible body 368. This is especially the case when the evaporation material (D) can be liquefied by heat.

나아가, 상기 도가니 몸체(368)의 상부면(367)은 상기 도가니 몸체(368)의 다른 부분(361)에 대해 탈착가능한 것이 바람직하다. 따라서, 상기 저장공간에 증발재료(D)를 용이하게 적재할 수 있다.Further, the upper surface 367 of the crucible body 368 is preferably detachable with respect to the other portion 361 of the crucible body 368. Therefore, the evaporation material (D) can be easily loaded into the storage space.

한편, 상기 증발원(300)은 수직으로 배치된 기판(도 1의 S)을 가로지르는 방향으로 긴 폭(W)을 갖는 선형 증발원일 수 있다. 이로써, 상기 기판(도 1의 S) 상에 균일한 증착막을 형성할 수 있다. 이 경우, 상기 도가니(360)와 상기 하우징(320) 또한 상기 폭(W)에 대응한 긴 폭을 갖는다.On the other hand, the evaporation source 300 may be a linear evaporation source having a long width (W) in the direction across the substrate (S of FIG. 1) arranged vertically. Thereby, a uniform vapor deposition film can be formed on the said board | substrate (S of FIG. 1). In this case, the crucible 360 and the housing 320 also have a long width corresponding to the width (W).

이 경우, 상기 긴 폭을 갖는 도가니(360)는 상기 증발재료 저장공간을 다수개의 부분으로 분할하는 격벽(partition wall; 365)을 더 구비하는 것이 바람직하다. 이러한 격벽(365)으로 인해 상기 증발원(300)이 좌우 수평을 유지하지 못하더라도 상기 증발재료(D)는 상기 도가니(360) 내에서 어느 한 방향으로 치우치지 않고 균일하게 저장될 수 있다. 또한, 상기 격벽(365)은 상기 도가니 몸체(368)의 바닥면 및 상기 튐 방지턱(363)과 일체로 연결되는 것이 바람직하다. 이로써, 상기 격벽(365)과 상기 도가니 몸체(368)의 바닥면 사이의 틈 또는 상기 튐 방지턱(363)과 상기 격벽(365) 사이의 틈으로 상기 증발재료(D)가 이동하는 것을 방지할 수 있다. 이는 상기 증발재료(D)가 열에 의해 액화되는 경우 더욱 그러하다. 나아가, 상기 격벽(365)은 그의 상부의 적어도 일부분에 단차를 구비할 수 있다. 이로써, 상기 증발재료(D)로부터 증발된 기체의 압력을 상기 도가니(360) 내에서 균일하게 분포하도록 할 수 있다. 이는 상기 단차로 인해 높이가 낮아진 부분을 통해 상기 증발된 기체가 압력의 분포에 따라 자유롭게 이동할 수 있기 때문이다.In this case, the long crucible 360 may further include a partition wall 365 that divides the evaporation material storage space into a plurality of parts. Even if the evaporation source 300 is not horizontally horizontal due to the partition 365, the evaporation material D may be uniformly stored in the crucible 360 without being biased in any direction. In addition, the partition wall 365 is preferably connected integrally with the bottom surface of the crucible body 368 and the splash prevention jaw 363. As a result, the evaporation material D may be prevented from moving to a gap between the partition wall 365 and the bottom surface of the crucible body 368 or a gap between the splash prevention jaw 363 and the partition wall 365. have. This is especially true when the evaporation material (D) is liquefied by heat. Further, the partition 365 may have a step on at least a portion thereof. As a result, the pressure of the gas evaporated from the evaporation material (D) can be uniformly distributed in the crucible (360). This is because the evaporated gas can move freely according to the pressure distribution through the portion whose height is lowered due to the step.

바람직하게는 상기 도가니(360)는 열전도도가 우수한 물질로 형성된다. 구체적으로 상기 도가니(360)은 흑연(graphite)으로 형성될 수 있다. 상기 흑연은 육방정계(hexagonal system)의 다공성 물질로써 단열효율이 매우 우수하다. 따라서 이러한 흑연 도가니는 도가니(360) 내부의 온도를 안정적으로 유지할 수 있다.Preferably, the crucible 360 is formed of a material having excellent thermal conductivity. In detail, the crucible 360 may be formed of graphite. The graphite is a porous material of hexagonal system (hexagonal system) is excellent in heat insulation efficiency. Therefore, such a graphite crucible may stably maintain the temperature inside the crucible 360.

상기 도가니(360) 내에 저장되는 증발재료(D)는 유기물일 수 있다. 상기 유기물은 전계발광성 유기물, 정공주입성 유기물, 정공수송성 유기물, 전자수송성 유기물 또는 전자주입성 유기물일 수 있다.The evaporation material D stored in the crucible 360 may be an organic material. The organic material may be an electroluminescent organic material, a hole injection organic material, a hole transporting organic material, an electron transporting organic material, or an electron injection organic material.

상기 도가니(360)의 개구된 측면에 노즐부(350)가 연결된다. 이러한 노즐부(350)는 상기 노즐부(350)를 이루는 몸체(353)와 상기 몸체(353)를 관통하는 노즐(351)을 구비한다. 이 때, 상기 노즐 몸체(353)의 일측은 상기 도가니(360)의 개구된 측면 내에 끼워져 상기 도가니(360)의 개구된 측면을 밀폐하며, 상기 노즐 몸체(353)의 타측은 상기 도가니(360)의 외측으로 소정길이 연장되어 돌출된다.The nozzle unit 350 is connected to the open side of the crucible 360. The nozzle unit 350 includes a body 353 constituting the nozzle unit 350 and a nozzle 351 penetrating the body 353. At this time, one side of the nozzle body 353 is fitted in the open side of the crucible 360 to seal the open side of the crucible 360, and the other side of the nozzle body 353 is the crucible 360. The predetermined length extends outward and protrudes.

상기 노즐(351)은 상기 증발재료(D)로부터 증발된 기체를 상기 기판(도 1의 S) 상으로 분사하는 역할을 한다. 상기 증발원(300)이 상술한 선형 증발원인 경우, 상기 노즐부(350)는 다수개의 노즐(351)을 구비한다. 이 경우, 상기 노즐들(351)은 상기 노즐부(350)의 중앙부보다 상기 노즐부(350)의 가장자리부에서 더 조밀하게 분포할 수 있다. 이로써, 상기 증발원(300)의 중앙부와 가장자리부에서 분사되는 증기의 량을 균일하게 할 수 있고, 그 결과 상기 기판(도 1의 S) 상에 증착되는 증착막을 균일하게 형성할 수 있다.The nozzle 351 serves to spray the gas evaporated from the evaporation material (D) onto the substrate (S in FIG. 1). When the evaporation source 300 is the linear evaporation source described above, the nozzle unit 350 includes a plurality of nozzles 351. In this case, the nozzles 351 may be more densely distributed at the edge of the nozzle unit 350 than at the center of the nozzle unit 350. As a result, the amount of vapor injected from the central portion and the edge portion of the evaporation source 300 can be made uniform, and as a result, the deposition film deposited on the substrate (S in FIG. 1) can be formed uniformly.

상기 하우징(320) 내에 상기 노즐부(350) 및/또는 상기 도가니(360)를 가열하는 가열부(370)가 배치된다. 상기 가열부(370)로부터 전달된 열에 의해 상기 도가니(360) 내에 저장된 증발재료(D)는 증발되어 상기 노즐(351)을 통해 상기 기판(도 1의 S) 상으로 분사된다. 바람직하게는 상기 가열부(370)는 상기 노즐부(350)가 상기 도가니(360)의 개구된 면으로부터 돌출된 부분에 인접하여 상기 노즐부(350)의 돌출된 부분을 가열한다. 이와 동시에, 상기 가열부(370)는 상기 도가니(360)의 개구된 면으로부터 인접한 부분을 부분 가열할 수 있다. 이로써, 상기 도가니(360)의 개구면과 인접한 부분의 온도가 상기 도가니(360)의 개구면과 먼 부분의 온도보 다 높은 분포를 가질 수 있게 한다. 결과적으로, 상기 노즐부(350) 근처에서 증발재료(D)로부터 증발된 증기의 응축을 방지할 수 있다.A heating unit 370 for heating the nozzle unit 350 and / or the crucible 360 is disposed in the housing 320. The evaporation material D stored in the crucible 360 is evaporated by the heat transferred from the heating unit 370 and sprayed onto the substrate S of FIG. 1 through the nozzle 351. Preferably, the heating unit 370 heats the protruding portion of the nozzle unit 350 adjacent to the portion of the nozzle unit 350 protruding from the open surface of the crucible 360. At the same time, the heating unit 370 may partially heat an adjacent portion from the open surface of the crucible 360. As a result, the temperature of the portion adjacent to the opening surface of the crucible 360 may have a higher distribution than the temperature of the portion far from the opening surface of the crucible 360. As a result, condensation of vapor evaporated from the evaporation material D in the vicinity of the nozzle unit 350 can be prevented.

한편, 상기 가열부(370)는 열원인 열선(373)과 열선 지지체(375)를 구비할 수 있다. 상기 열선 지지체(375)는 상기 열선(373)의 처짐을 방지하는 역할을 한다. 나아가, 가열부(370)의 구조는 상기 노즐부(350)를 감싸는 형태의 히터 터널(heater tunnel) 구조일 수 있다.The heating unit 370 may include a heating wire 373 and a heating support 375, which are heat sources. The hot wire supporter 375 serves to prevent sagging of the hot wire 373. In addition, the structure of the heating unit 370 may be a heater tunnel structure that surrounds the nozzle unit 350.

상기 가열부(370)와 상기 하우징(320) 사이에 열 반사판(330)이 개재될 수 있다. 상기 열 반사판(330)은 상기 도가니(360)의 상부면 및 하부면을 따라 연장될 수 있다. 상기 열 반사판(330)은 상기 가열부(370)에서 발생되는 열 및 상기 가열부(370)에서 발생되는 열을 전달받은 상기 노즐부(350)와 상기 도가니(360)로부터 복사되는 열을 반사할 수 있다. 그 결과 열효율을 높일 수 있다.A heat reflector 330 may be interposed between the heating part 370 and the housing 320. The heat reflector 330 may extend along upper and lower surfaces of the crucible 360. The heat reflector 330 may reflect heat radiated from the nozzle unit 350 and the crucible 360 that receive heat generated from the heating unit 370 and heat generated from the heating unit 370. Can be. As a result, the thermal efficiency can be increased.

또한, 상기 노즐부(350)의 상기 기판(도 1의 S) 방향의 외부면에 열 차단판(340)이 부착될 수 있다. 상기 열 차단판(340)은 노즐부(350)를 통하여 열이 방출되어 상기 기판(도 1의 S) 또는 상기 섀도우 마스크(도 1의 M)에 영향을 미치는 것을 최소화할 수 있다.In addition, a heat shield plate 340 may be attached to an outer surface of the nozzle unit 350 in the direction of the substrate (S of FIG. 1). The heat shield plate 340 may minimize the heat emitted through the nozzle unit 350 to affect the substrate (S in FIG. 1) or the shadow mask (M in FIG. 1).

상기 하우징(320)의 외벽에 단열부재(310)가 설치될 수 있다. 상기 단열부재(310)는 상기 가열부(370)에서 발생된 열 및 상기 노즐부(350)와 상기 도가니(360)로부터 복사된 열이 외부로 방출되는 것을 방지한다.The heat insulating member 310 may be installed on the outer wall of the housing 320. The heat insulating member 310 prevents heat generated from the heating unit 370 and heat radiated from the nozzle unit 350 and the crucible 360 from being discharged to the outside.

이하, 상술한 증발원을 구비하는 증착장치를 사용하여 기판 상에 증착막을 형성하는 방법을 도 1 내지 도 4를 다시 참조하여 설명한다.Hereinafter, a method of forming a deposition film on a substrate using the deposition apparatus having the evaporation source described above will be described with reference to FIGS. 1 to 4 again.

먼저, 증발원(300)의 도가니(360) 내에 증발재료(D)를 적재한다. 자세하게는 도가니 몸체(368)의 상부면(367)을 분리한 후, 증발재료(D)를 적재한다. 이어서, 상기 도가니(360), 상기 노즐부(350), 상기 가열부(370), 상기 열 반사판(330), 상기 하우징(320) 및 상기 단열부재(310)를 조립하여 증발원(300)을 형성하고, 형성된 증발원(300)을 증착장치(100)의 챔버(200) 내에 장착한다.First, the evaporation material D is loaded into the crucible 360 of the evaporation source 300. In detail, after removing the upper surface 367 of the crucible body 368, the evaporation material (D) is loaded. Subsequently, the evaporation source 300 is formed by assembling the crucible 360, the nozzle unit 350, the heating unit 370, the heat reflecting plate 330, the housing 320, and the heat insulating member 310. Then, the formed evaporation source 300 is mounted in the chamber 200 of the deposition apparatus 100.

이어서, 증착장치(100)의 챔버(200) 내에 위치하는 기판 고정수단(500) 상에 기판(S)을 장착한다. 상기 기판(S)은 화소전극이 형성된 유기전계발광소자기판 일 수 있다.Subsequently, the substrate S is mounted on the substrate fixing means 500 positioned in the chamber 200 of the deposition apparatus 100. The substrate S may be an organic light emitting diode substrate on which a pixel electrode is formed.

이어서, 상기 노즐부(350) 및 상기 도가니(360)를 상기 가열부(370)을 사용하여 가열한다. 이 때, 상기 도가니(360) 내에 저장된 증발재료(D)는 가열에 의해 증발되어 증기가 되고, 이러한 증기는 노즐(351)을 통해 상기 기판(S) 상으로 분사된다. 이 때, 튐 방지턱(363)과 상기 도가니 몸체(368)가 일체형이므로 상기 증발재료(D)가 액화되는 경우라 할지라도 상기 튐 방지턱(363)과 상기 도가니 몸체(368) 사이로 상기 액화된 증발재료가 새어나올 염려는 없다.Subsequently, the nozzle unit 350 and the crucible 360 are heated using the heating unit 370. At this time, the evaporation material (D) stored in the crucible 360 is evaporated by heating to become a vapor, the vapor is injected onto the substrate (S) through the nozzle 351. At this time, since the shock prevention jaw 363 and the crucible body 368 are integrated, the liquefied evaporation material between the shock prevention jaw 363 and the crucible body 368 even if the vaporization material D is liquefied. There is no fear of leaking.

상기 노즐(351)을 통해 상기 기판(S) 상으로 분사된 증기는 상기 기판(S) 상에 증착되어 증착막을 형성한다. 이 때, 상기 기판(S) 상에 섀도우 마스크(M)를 장착한 경우, 상기 분사된 증기는 상기 섀도우 마스크(M)의 개구부를 통해서 상기 기판(S) 상에 증착되므로 패턴을 갖는 증착막을 형성할 수 있다.The vapor injected onto the substrate S through the nozzle 351 is deposited on the substrate S to form a deposition film. At this time, when the shadow mask (M) is mounted on the substrate (S), the sprayed vapor is deposited on the substrate (S) through the opening of the shadow mask (M) to form a deposition film having a pattern can do.

이 과정에서 상기 증발원 이송 장치(400)를 사용하여 상기 증발원(300)을 상하방향으로 이송시킴으로써, 상기 기판(S) 상에 균일한 증착막을 형성할 수 있다. In this process, by using the evaporation source transfer device 400 to transfer the evaporation source 300 in the vertical direction, it is possible to form a uniform deposition film on the substrate (S).

상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 도가니 몸체와 튐 방지턱을 일체형으로 형성함으로써, 증발재료가 상기 도가니 몸체와 상기 튐 방지턱 사이로 새어나가는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention as described above, by forming the crucible body and the jaw bumps integrally, it is possible to prevent the evaporation material leaks between the crucible body and the jaw bumps.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed within the scope of the invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below I can understand that you can.

Claims (21)

측면이 개구된 하우징;A housing having a side opening; 상기 하우징의 내부에 상기 하우징의 개구된 면과 같은 방향의 면이 개구된 몸체와 상기 몸체의 개구된 면에 인접하는 튐 방지턱(spitting preventing protrusion)을 구비하는 도가니가 위치하되, 상기 튐 방지턱은 상기 도가니의 몸체와 일체형이고;A crucible having a body having a surface in the same direction as the open surface of the housing and a spitting preventing protrusion adjacent to the open surface of the body is located inside the housing, wherein the spout preventing jaw is formed in the housing. Integral with the body of the crucible; 상기 도가니의 개구된 면에 연결되고, 노즐을 구비하는 노즐부; 및A nozzle unit connected to an open surface of the crucible and having a nozzle; And 상기 노즐부 및/또는 상기 도가니를 가열하는 가열부를 포함하는 것을 특징으로 하는 증발원.And a heating unit for heating the nozzle unit and / or the crucible. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 튐 방지턱의 높이는 상기 도가니 몸체의 바닥면으로부터 상기 노즐까지의 높이보다 큰 것을 특징으로 하는 증발원.The height of the splash prevention jaw is greater than the height from the bottom surface of the crucible body to the nozzle. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도가니 몸체의 상부면은 탈착가능한 것을 특징으로 하는 증발원.Evaporation source, characterized in that the upper surface of the crucible body is removable. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 증발원은 선형증발원인 것을 특징으로 하는 증발원.The evaporation source is an evaporation source, characterized in that the linear evaporation source. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 도가니는 저장공간을 다수개로 분할하는 격벽을 더 구비하되, 상기 격벽은 상기 도가니 몸체와 일체형인 것을 특징으로 하는 증발원.The crucible further includes a partition for dividing the storage space into a plurality, wherein the partition is integral with the crucible body. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도가니 내에 저장되는 증발재료는 유기물인 것을 특징으로 하는 증발원.The evaporation material stored in the crucible is an evaporation source, characterized in that the organic material. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 노즐부는 상기 도가니의 개구된 면으로부터 돌출되고, 상기 가열부는 상기 노즐부의 돌출된 부분을 가열하는 것을 특징으로 하는 증발원.And the nozzle portion protrudes from the open surface of the crucible, and the heating portion heats the protruding portion of the nozzle portion. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도가니는 흑연 도가니인 것을 특징으로 하는 증발원.The crucible is an evaporation source, characterized in that the graphite crucible. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가열부와 상기 하우징 사이에 개재되고, 상기 도가니의 상부면 및 하부면을 따라 연장된 열 반사판을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증발원.And a heat reflecting plate interposed between the heating part and the housing and extending along upper and lower surfaces of the crucible. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 노즐부의 기판 방향 외부면에 부착되는 열 차단판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 증발원.Evaporation source further comprises a heat shield plate attached to the outer surface of the nozzle portion in the direction of the substrate. 챔버;chamber; 상기 챔버 내의 일측면 상에 위치하여 지면과 70 내지 110도의 각을 가지도록 기판을 고정하는 기판 고정수단; 및Substrate fixing means positioned on one side of the chamber and fixing the substrate to have an angle of 70 to 110 degrees with the ground; And 상기 기판을 향하는 측면이 개구된 하우징; 상기 하우징의 내부에 상기 하우징의 개구된 면과 같은 방향의 면이 개구된 몸체와 상기 몸체의 개구된 면에 인접하는 튐 방지턱(spitting preventing protrusion)을 구비하는 도가니가 위치하되, 상기 튐 방지턱은 상기 도가니 몸체와 일체형이고; 상기 도가니의 개구된 면에 연결되고, 노즐을 구비하는 노즐부; 및 상기 노즐부 및/또는 상기 도가니를 가열하는 가열부를 구비하는 증발원을 포함하는 것을 특징으로 하는 증착장치.A housing having a side facing toward the substrate; A crucible having a body having a surface in the same direction as the open surface of the housing and a spitting preventing protrusion adjacent to the open surface of the body is located inside the housing, wherein the spout preventing jaw is formed in the housing. Integral with the crucible body; A nozzle unit connected to an open surface of the crucible and having a nozzle; And an evaporation source including the nozzle unit and / or a heating unit for heating the crucible. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 튐 방지턱의 높이는 상기 도가니 몸체의 바닥면으로부터 상기 노즐까지의 높이보다 큰 것을 특징으로 하는 증착장치.The height of the jaw prevention jaw is greater than the height from the bottom surface of the crucible body to the nozzle. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 도가니 몸체의 상부면은 탈착가능한 것을 특징으로 하는 증착장치.And a top surface of the crucible body is removable. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 증발원은 선형증발원인 것을 특징으로 하는 증발원.The evaporation source is an evaporation source, characterized in that the linear evaporation source. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 도가니는 저장공간을 다수개로 분할하는 격벽을 더 구비하되, 상기 격벽은 상기 도가니 몸체와 일체형인 것을 특징으로 하는 증착장치.The crucible further includes a partition for dividing the storage space into a plurality, wherein the partition is integral with the crucible body. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 도가니 내에 저장되는 증발재료는 유기물인 것을 특징으로 하는 증착장치.Evaporation material stored in the crucible is an organic material. 제 16 항에 있어서,The method of claim 16, 상기 유기물은 전계발광성 유기물, 정공주입성 유기물, 정공수송성 유기물, 전자수송성 유기물 및 전자주입성 유기물로 이루어진 군에서 선택되는 하나의 유기물인 것을 특징으로 하는 증착장치.And the organic material is one organic material selected from the group consisting of an electroluminescent organic material, a hole injection organic material, a hole transporting organic material, an electron transporting organic material, and an electron injection organic material. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 노즐부는 상기 도가니의 개구된 면으로부터 돌출되고, 상기 가열부는 상기 노즐부의 돌출된 부분을 가열하는 것을 특징으로 하는 증착장치.And the nozzle portion protrudes from the open surface of the crucible, and the heating portion heats the protruding portion of the nozzle portion. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 도가니는 흑연 도가니인 것을 특징으로 하는 증착장치.The crucible is a vapor deposition apparatus, characterized in that the graphite crucible. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 가열부와 상기 하우징 사이에 개재되고, 상기 도가니의 상부면 및 하부면을 따라 연장된 열 반사판을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증착장치.And a heat reflecting plate interposed between the heating part and the housing and extending along upper and lower surfaces of the crucible. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 노즐부의 기판 방향 외부면에 부착되는 열 차단판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 증착장치.And a heat shield plate attached to the outer surface of the nozzle unit in the substrate direction.
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WO2016133256A1 (en) * 2015-02-16 2016-08-25 주식회사 파인에바 Linear evaporation deposition apparatus
KR20170032781A (en) * 2015-09-15 2017-03-23 주식회사 원익아이피에스 Linear source and substrate processing system having same
KR20180052792A (en) * 2016-11-10 2018-05-21 주식회사 야스 Tilted linear source

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150072655A (en) * 2013-12-20 2015-06-30 엘지디스플레이 주식회사 Evaporation source and vapor deposition apparatus having the same
WO2016133256A1 (en) * 2015-02-16 2016-08-25 주식회사 파인에바 Linear evaporation deposition apparatus
KR20170032781A (en) * 2015-09-15 2017-03-23 주식회사 원익아이피에스 Linear source and substrate processing system having same
KR20180052792A (en) * 2016-11-10 2018-05-21 주식회사 야스 Tilted linear source

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