KR20060006415A - Tool for grinding edge of glass substrate having grindstone for removing burr - Google Patents
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Abstract
본 발명은 연마용 공구에 관한 것으로서, 특히 액정디스플레이 패널의 유리기판과 같은 판부재의 에지를 연마하는 회전연마공구에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 회전축선을 중심으로 회전하여 연마하는 회전연마공구로서, 회전축선을 중심으로 회전하며 축방향 끝단부를 갖는 본체와, 상기 본체의 상기 축방향 끝단부에 본체로부터 돌출되도록 고정되며 반경방향 바깥으로 갈수록 내려가도록 경사지게 형성된 편평한 제1 가공면을 구비하는 제1 지석과, 상기 본체의 상기 축방향 끝단부에 본체로부터 돌출되도록 고정되고, 제1 가공면의 상기 회전축선을 기준으로 반경방향 바깥에 위치하며 상기 본체로부터 돌출된 제2 가공면을 구비하는 제2 지석을 포함하며, 상기 제1 가공면의 일부분이 상기 제2 가공면보다 상기 축방향으로 상기 본체로부터 더 돌출된 위치에 위치하는 회전연마공구가 제공된다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing tool, and more particularly, to a rotary polishing tool for polishing an edge of a plate member such as a glass substrate of a liquid crystal display panel. According to the present invention, there is provided a rotary polishing tool for rotating and polishing about a rotation axis, the main body having a axial end and a rotation about the rotation axis, and fixed to protrude from the main body at the axial end of the main body and having a radius. A first grindstone having a flat first processing surface formed to be inclined downward toward the outside of the direction, and fixed to protrude from the main body at the axial end of the main body, and radially relative to the rotation axis of the first processing surface A second grindstone positioned outside and having a second processing surface protruding from the main body, wherein a portion of the first processing surface is located at a position protruding further from the main body in the axial direction than the second processing surface Rotary polishing tools are provided.
유리기판, 버, 에지가공, 휠, 지석Glass substrate, burr, edge machining, wheel, grinding wheel
Description
도1은 본 발명의 일실시예에 따른 회전연마공구의 사시도1 is a perspective view of a rotary polishing tool according to an embodiment of the present invention
도2는 도1의 회전연마공구의 단면도로서, 연마되는 유리기판을 함께 도시한 도면FIG. 2 is a cross-sectional view of the rotary polishing tool of FIG. 1, showing a glass substrate being polished together. FIG.
도3은 도2에서 회전연마공구와 유리기판이 닿는 부분을 확대하여 도시한 도면FIG. 3 is an enlarged view of a portion in which the rotary polishing tool and the glass substrate reach in FIG. 2; FIG.
도4는 도1의 회전연마공구의 평면도4 is a plan view of the rotary grinding tool of FIG.
도5는 도1의 회전연마공구에 의한 가공예를 도시한 도면5 is a view showing an example of processing by the rotary grinding tool of FIG.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
10 : 회전연마공구 20 : 휠10: rotary polishing tool 20: wheel
30 : 제1 지석 32 : 제1 가공면30: first grindstone 32: first processing surface
38 : 제1 홈 40 : 제2 지석38: first groove 40: second grindstone
42 : 제2 가공면 48 : 제2 홈42: second machining surface 48: second groove
본 발명은 연마용 공구에 관한 것으로서, 특히 액정디스플레이 패널의 유리기판과 같은 판부재의 에지를 연마하는 회전연마공구에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing tool, and more particularly, to a rotary polishing tool for polishing an edge of a plate member such as a glass substrate of a liquid crystal display panel.
액정디스플레이 패널을 제조하는 과정에서 패턴이 형성된 유리 기판을 절단하는 단계가 있다. 이 절단 단계 후 절단된 유리 기판의 둘레를 이루는 각 변의 상하 에지(edge)(두께를 형성하는 옆면과 판의 윗면 또는 아랫면이 만나는 모서리)는 매우 날카롭고 그 자리에 조그만 크랙이 생기기 쉽다. 이러한 크랙은 이후의 제조공정에서 유리기판의 손상을 야기할 수 있다. 또한, 날카로운 에지는 다루기도 곤란하다. 따라서 이러한 유리 기판의 각 변의 상하 에지를 가공할 필요가 있다.In the process of manufacturing the liquid crystal display panel, there is a step of cutting the glass substrate on which the pattern is formed. After this cutting step, the upper and lower edges (the edges at which the side forming the thickness and the top or bottom of the plate meet each other) forming the circumference of the cut glass substrate are very sharp and tend to have small cracks in place. Such cracks can cause damage to the glass substrate in subsequent manufacturing processes. Sharp edges are also difficult to handle. Therefore, it is necessary to process the upper and lower edges of each side of such a glass substrate.
한편 절단 과정에서 버(burr)가 발생할 수 있다. 여기에서 버라 함은 절단 후 지정된 절단선 이상으로 돌출된 부분을 가리킨다. 통상 종래에는 유리 기판의 각 변의 상하 에지를 가공하기 전에 각 변에 버가 있는지 검사한 후, 버가 발견된 유리 기판은 별도로 제외시킨다. 이는 에지 연마장치뿐 아니라 후에 거치는 공정에서 버가 장치나 공정에 나쁜 영향을 줄 수 있기 때문이다. 버가 있는 기판은 버를 제거하는 공정을 따로 거친 후 다시 후공정에 투입된다. 따라서 버가 있는 기판을 가려내고 별도로 처리해야 하므로 전체적인 공정이 복잡해지고 생산속도가 떨어져 생산성이 저하되는 등의 문제가 있다.Meanwhile, burrs may be generated during the cutting process. Here, the term "bare" refers to a portion protruding beyond the designated cutting line after cutting. Usually, after processing the burr in each side before processing the upper and lower edges of each side of a glass substrate, the glass substrate in which the burr was found is excluded separately. This is because the burr may adversely affect the apparatus or the process in the post grinding process as well as the edge polishing apparatus. Substrates with burrs go through the process of removing burrs and are then fed back into the process. Therefore, since the substrate having the burr needs to be sorted out and processed separately, the overall process is complicated, and the production speed is lowered.
본 발명의 목적은 판부재의 에지 연마용 공구로서 상세하게는 판부재의 각 변에 형성된 버도 함께 제거하는 연마용 공구를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a polishing tool for removing the burrs formed on each side of the plate member in detail as an edge polishing tool of the plate member.
본 발명의 일측면에 따르면, 회전축선을 중심으로 회전하여 연마하는 회전연마공구로서, 회전축선을 중심으로 회전하며 축방향 끝단부를 갖는 본체와, 상기 본체의 상기 축방향 끝단부에 본체로부터 돌출되도록 고정되며 반경방향 바깥으로 갈수록 내려가도록 경사지게 형성된 편평한 제1 가공면을 구비하는 제1 지석과, 상기 본체의 상기 축방향 끝단부에 본체로부터 돌출되도록 고정되고, 제1 가공면의 상기 회전축선을 기준으로 반경방향 바깥에 위치하며 상기 본체로부터 돌출된 제2 가공면을 구비하는 제2 지석을 포함하며, 상기 제1 가공면의 일부분이 상기 제2 가공면보다 상기 축방향으로 상기 본체로부터 더 돌출된 위치에 위치하는 회전연마공구가 제공된다.According to one aspect of the present invention, a rotary polishing tool for rotating and polishing about a rotation axis, the main body having a axial end and rotates about the rotation axis, and protrudes from the main body at the axial end of the main body. A first grindstone which is fixed and has a flat first working surface formed to be inclined downward toward the outside in a radial direction, and is fixed to protrude from the main body at the axial end portion of the main body, based on the rotation axis of the first working surface And a second grindstone which is radially outwardly and has a second machining surface protruding from the body, wherein a portion of the first machining surface protrudes further from the body in the axial direction than the second machining surface. A rotary polishing tool is provided.
상기 회전연마공구에 있어서, 상기 제2 지석은 상기 회전축선을 중심으로 하는 고리형상으로서, 상기 제2 가공면은 반경방향 끝단으로부터 반경방향 안쪽으로 갈수록 올라가도록 경사질 수 있다.In the rotary polishing tool, the second grindstone is an annular shape centered on the rotation axis, and the second processing surface may be inclined so as to go up radially inward from the radial end.
상기 회전연마공구에 있어서, 상기 제1 지석은 상기 회전축선을 중심으로 하는 고리형상일 수 있다.In the rotary polishing tool, the first grindstone may have an annular shape centering on the rotation axis.
상기 회전연마공구에 있어서, 상기 제1 지석과 제2 지석에는 각각 반경방향 안쪽에서 바깥쪽으로 연장되는 제1 홈과 제2 홈이 마련될 수 있다.In the rotary grinding tool, the first grindstone and the second grindstone may be provided with a first groove and a second groove extending outward from the radial direction, respectively.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 판부재의 두께를 이루는 측면을 가공하며 상하면과 측면이 각각 만나는 에지를 가공하는 장치로서, 상기 판부재와 경사지도록 기울어진 제1 회전축선을 중심으로 회전하며 상기 판부재의 측면을 연마하는 제1 가공면을 갖는 제1 지석과, 상기 제1 가공면보다 반경방향 바깥에 위치하며 상기 판부재의 두 에지 중 하나를 연마하는 제2 가공면을 갖는 제2 지석을 구비하는 제1 연마공구와, 상기 판부재와 경사지도록 기울어진 제2 회전축선을 중심으로 회전하며 상기 판부재의 두 에지 중 나머지 하나의 에지를 연마하는 제3 가공면을 갖는 제3 지석을 구비하는 제2 연마공구를 포함하는 가공장치가 제공된다.According to another aspect of the present invention, a device for processing the side surface forming the thickness of the plate member and the edge of the upper and lower surfaces and the side meet, respectively, rotating around the first axis of rotation inclined to the plate member and the plate A first grindstone having a first machining surface for polishing the side of the member, and a second grindstone having a second machining surface located radially outward from the first machining surface and polishing one of two edges of the plate member. And a third grindstone having a first grinding tool and a third machining surface that rotates about a second rotation axis inclined to be inclined with the plate member and polishes the other one of the two edges of the plate member. A processing apparatus is provided that includes a second abrasive tool.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도1과 도2를 참조하면, 연마용 회전공구(10)는 휠 본체(20)와, 휠 본체(20)에 결합된 제1, 제2 지석(30, 40)을 구비한다. 휠(20)은 바람직하기로는 원반형으로서, 그 중심을 지나는 연장선이 회전공구(10)의 회전축선(100)이 된다. 휠(20)의 중앙부에는 회전축선(100)을 따라 연장되며 관통하는 결합통로(22)가 마련된다. 도시되지는 않았으나, 결합통로(22)에 구동장치와 연결된 회전샤프트가 끼워져 결합되며, 회전샤프트는 결합통로(22)의 양쪽 입구 중 어느 쪽을 통해서든지 끼워질 수 있다. 휠(20)의 축방향 일 끝단(24)에는 제1 지석(30)과 제2 지석(40)이 돌출되도록 결합된다.1 and 2, the polishing
도1, 도2, 도4를 참조하면, 제1 지석(30)은 회전축선(100)을 중심으로 원주방향을 따라 연장된 고리모양으로서, 휠 본체(20)의 축방향 일 끝단(24)에 고정되며, 휠(20)로부터 돌출된 축방향 일 끝단으로부터 반경방향 바깥으로 갈수록 내려가도록 경사진(결국, 회전축선(100)에 대하여 경사짐) 제1 가공면(32)을 구비한다. 제1 가공면(32)의 일부는 후술하는 제2 지석(40)의 제2 가공면(42)보다 축방향으로 휠 본체(20)로부터 더 돌출된다. 제1 가공면(32)에 유리기판(200)의 한 변을 형성하는 얇은 일측면(201)이 접하여 변에 형성된 버가 제거된다. 제1 지석(30)에는 반 경방향 안쪽에서 바깥쪽으로 연장되고 축방향 끝단으로부터 휠 본체(20)에 고정된 뿌리측으로 파여 들어간 다수의 제1 홈(38)이 마련된다. 다수의 제1 홈(38)은 바람직하기로는 등간격으로 위치한다. 다수의 제1 홈(38)은 도4에 도시된 바와 같이 반경방향 바깥쪽으로 갈수록 회전방향의 반대방향으로 연장되도록 형성된다. 그러나 본 발명은 이에 제한되는 것은 아니다. 제1 연결홈(38)은 반경방향을 따라 직선으로 연장될 수도 있다. 제1 연결홈(38)을 통해 가공시 냉각수가 지나가고 입자의 탈락이 원활하게 이루어져 공구의 절삭력을 높여준다.1, 2, and 4, the
도1과 도2를 참조하면, 제2 지석(40)은 회전축선(100)을 중심으로 원주방향을 따라 빙 둘러 연장된 고리모양으로서, 휠 본체(20)의 축방향 일 끝단(24)(휠(20)의 앞면)에 고정된다. 제2 지석(40)은 제1 지석(30)보다 회전축선(100)의 반경방향 바깥쪽에 이격되어 위치한다. 제2 지석(40)의 휠(20)로부터 돌출된 축방향 일 끝단은 제2 가공면(42)을 형성한다. 제2 가공면(42)은 편평하며 반경방향 끝단으로부터 반경방향 안쪽으로 갈수록 올라가도록 약간 경사져 있다. 이 경사를 가짐으로서 유리기판(200)의 가공될 부분이 제2 가공면(42)으로 원활하게 진입하게 된다. 제2 지석(40)은 제1 지석(30)보다 휠(20)로부터 축방향으로 돌출되는 높이가 낮게 형성된다. 더욱 상세하게는 제2 지석(30)의 축방향 끝단(제2 가공면(42)에서 반경방향 가장 안쪽부분)이 휠(20)로부터 축방향으로 돌출되는 높이가 제1 지석(30)의 제1 가공면(32) 상에 위치하며, 제1 가공면(32)에서 제2 가공면(42)보다 높게 돌출된 부분에 유리기판(200)의 얇은 일측면(201)이 충분히 접하도록 형성된다. 제2 가공면(42)에 의해 유리기판(200)의 상부 에지(202)가 연마된다. 제2 지석(40)에는 제1 지석(30)에서와 마찬가지로 반경방향 안쪽에서 바깥쪽으로 연장되고 축방향 끝단으로부터 휠 본체(20)에 고정된 뿌리측으로 파여 들어간 다수의 제2 홈(48)이 마련된다. 다수의 제2 홈(48)은 바람직하기로는 등간격으로 위치한다. 다수의 제2 홈(48)은 도4에 도시된 바와 같이 제1 지석(30)의 제1 홈(38)의 연장선 상에 반경방향 바깥쪽으로 갈수록 회전방향의 반대방향으로 연장되도록 형성된다. 그러나 본 발명은 이에 제한되는 것은 아니다. 제2 홈(48)은 반경방향을 따라 직선으로 연장될 수도 있다. 제2 홈(48)은 제1 지석(30)에 마련된 제1 홈(38)과 마찬가지로 냉각수 및 탈락된 입자의 통로 역할을 하게 된다.Referring to FIGS. 1 and 2, the
도2 및 도3에는 연마용 회전공구(10)를 사용하여 유리기판(200)을 가공하는 예가 도시되어 있다. 도2와 도3을 참조하면, 액정디스플레이 패널의 유리기판(200)이 수평으로 배치되어 있으며, 회전공구(10)는 제1 가공면(32)이 유리기판(200)의 한 변을 형성하는 일측면(201)과 접하고 제2 가공면(42)이 제1 가공면(32)에 접하는 일측면(201)의 상부 에지(202)와 접하도록 회전축선(100)이 기울어져서 배치된다. 이 상태에서 도4에 도시된 바와 같이 회전공구(10)가 회전축선(100)을 중심으로 회전하고, 회전공구(10)와 유리기판(200)이 상대 이동함에 따라 가공이 이루어진다. 회전공구(10)와 유리기판(200)의 상대이동에 의해 유리기판(200)의 상부 에지(202)가 먼저 회전공구(10)의 제2 가공면(42)에 닿으며 상부 에지(202)가 가공된다. 그 다음 유리기판(200)의 일측면(201)이 회전공구(10)의 제1 가공면(32)에 닿아 유리기판(200)의 일측면(201)이 가공되며 버가 제거된다.2 and 3 illustrate an example in which the
도5에는 도2에 도시된 가공예에서 동일한 구성의 회전공구를 하나 더 사용하 여 유리기판(200)의 하부 에지(203)도 함께 가공되는 예가 도시되어 있다. 도5를 참조하면, 유리기판(200)의 상부 에지(202)를 가공하는 회전공구(10) 뒤쪽(다른 실시예에서는 앞쪽에 있을 수도 있음)에 하부 에지 가공용 회전공구(10a)가 위치한다. 하부 에지 가공용 회전공구(10a)는 제1 가공면(32a)이 유리기판(200)의 한 변을 형성하는 일측면(201)과 접하고 제2 가공면(42a)이 제1 가공면(32a)에 접하는 일측면(201)의 하부 에지(203)와 접하도록 회전축선(100a)이 기울어져서 배치된다. 이와 같은 가공에 의해 유리기판(200)의 일측면(201)과 상, 하부 에지(202, 203)가 함께 가공된다. 한편 도5에 도시한 예에서 회전공구(10)의 제1 지석(30)의 가공면(32)이 버를 제거한다. 회전공구(10a)의 버 제거용 지석(30a)의 가공면(32a)도 버를 제거할 수 있다. 따라서 회전공구(10)의 제1 지석(30)은 황삭용 지석으로, 회전공구(10a)의 제1 지석(30a)은 정삭용 지석으로 할 수도 있다. 이와는 달리, 다른 실시예에서는 도5에 도시한 회전공구(10a) 대신 에지를 가공하기 위한 제2 지석만을 구비하는 회전공구를 사용할 수도 있다.FIG. 5 shows an example in which the
상기 실시예에서는 연마공구가 액정디스플레이 패널의 유리기판의 에지를 가공하는 것으로 설명하였으나, 본 발명은 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 설명한 연마공구는 모든 종류의 판부재의 에지 가공에 사용될 수 있음을 당업자라면 이해할 수 있을 것이다.In the above embodiment, the abrasive tool is described as processing the edge of the glass substrate of the liquid crystal display panel, but the present invention is not limited thereto. It will be appreciated by those skilled in the art that the above described abrasive tools can be used for the edge machining of all kinds of plate members.
본 발명의 구성을 따르면 앞에서 기재한 본 발명의 목적을 모두 달성할 수 있다. 구체적으로는 본 발명에 의한 회전연마공구를 사용함으로써 유리기판의 에지 가공과 버가 함께 제거되므로 전체 공정이 보다 단순해지고 생산속도가 향상되어 생산성이 증가되고 불량률이 감소하게 된다.According to the configuration of the present invention can achieve all the objects of the present invention described above. Specifically, by using the rotary polishing tool according to the present invention, since the edge processing and burr of the glass substrate are removed together, the overall process becomes simpler, the production speed is improved, the productivity is increased, and the defective rate is reduced.
이상 본 발명을 상기 실시예를 들어 설명하였으나, 본 발명은 이에 제한되는 것이 아니다. 당업자라면, 본 발명의 취지 및 범위를 벗어나지 않고 수정, 변경을 할 수 있으며 이러한 수정과 변경 또한 본 발명에 속하는 것임을 알 수 있을 것이다.Although the present invention has been described with reference to the above embodiments, the present invention is not limited thereto. Those skilled in the art will appreciate that modifications and variations can be made without departing from the spirit and scope of the present invention and that such modifications and variations also fall within the present invention.
Claims (5)
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KR1020040055435A KR20060006415A (en) | 2004-07-16 | 2004-07-16 | Tool for grinding edge of glass substrate having grindstone for removing burr |
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KR1020040055435A KR20060006415A (en) | 2004-07-16 | 2004-07-16 | Tool for grinding edge of glass substrate having grindstone for removing burr |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101151487B1 (en) * | 2010-04-20 | 2012-05-30 | 주식회사 삼아다이아톱 | Grinding wheel for dry process abrader |
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2004
- 2004-07-16 KR KR1020040055435A patent/KR20060006415A/en not_active Application Discontinuation
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KR101151487B1 (en) * | 2010-04-20 | 2012-05-30 | 주식회사 삼아다이아톱 | Grinding wheel for dry process abrader |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |