KR20060000070A - 자기장의 변화를 이용한 온도측정장치 - Google Patents
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- 웨이퍼의 열처리 공정에서 웨이퍼의 온도를 측정하는 장치에 있어서,상기 웨이퍼의 일측 표면에 배치되며, 온도에 따라 전기전도도가 변화하는 적어도 하나의 전도체 구조물;상기 웨이퍼를 중심으로 상기 전도체 구조물과 대향하도록 설치된 자기장 생성부; 및상기 전도체 구조물의 상방에 설치되는 자기장 측정 센서;를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 온도측정장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 자기장 생성부에 교류 전류를 공급하는 교류전원;상기 자기장 측정 센서에서 측정된 자기장의 세기로부터 웨이퍼의 온도를 계산하는 신호처리부; 및상기 계산된 웨이퍼의 온도를 디스플레이 하는 단말기를 더 포함하는 웨이퍼 온도측정장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 신호처리부는:상기 자기장 측정 센서로부터의 신호를 증폭하는 신호증폭기;상기 증폭된 신호로부터 자기장의 크기를 계산하는 자기장 계산부;자기장 생성부에서 발생한 자기장의 크기와 자기장 계산부에서 계산된 자기장의 크기를 비교하여, 상기 전도체 구조물에서 유도된 자기장의 크기를 계산하는 유도자기장 계산부; 및상기 계산된 유도자기장의 크기로부터 웨이퍼의 온도를 계산하는 온도계산부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 온도측정장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 온도계산부는 유도자기장의 크기와 웨이퍼의 온도 사이의 관계를 미리 측정하여 기록한 룩업테이블을 이용하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 온도측정장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 전도체 구조물은 나선형으로 적어도 1회 권선된 유도코일인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 온도측정장치.
- 제 5 항에 있어서,상기 웨이퍼의 표면에 다수의 유도코일이 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 온도측정장치.
- 제 6 항에 있어서,상기 다수의 유도코일은, 상기 웨이퍼의 표면 중 반도체 칩이 형성되지 않는 빈 공간에 배치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 온도측정장치.
- 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,상기 다수의 유도코일 각각에 대응하는 위치에 다수의 자기장 생성부와 자기장 측정 센서가 각각 배치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 온도측정장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 교류전원은 소정의 순서에 따라 소정의 시간 간격으로 각각의 자기장 생성부에 순차적으로 교류 전류를 공급하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 온도측정장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 자기장 생성부는 교류 구동 전자석인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 온도측정장치.
- 상부면에 놓여진 웨이퍼를 균일하게 가열하는 핫플레이트 및 상기 핫플레이트를 밀폐하도록 덮는 커버를 포함하는 웨이퍼의 열처리 장치에 있어서,상기 가열되는 웨이퍼의 상면에 배치되며, 온도에 따라 전기전도도가 변화하는 적어도 하나의 전도체 구조물;상기 웨이퍼를 중심으로 상기 전도체 구조물과 대향하도록 설치된 자기장 생성부; 및상기 전도체 구조물의 상방에 설치되는 자기장 측정 센서;를 구비하는 웨이퍼 온도측정장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 열처리 장치.
- 제 11 항에 있어서,상기 온도측정장치는:상기 자기장 생성부에 교류 전류를 공급하는 교류전원;상기 자기장 측정 센서에서 측정된 자기장의 세기로부터 웨이퍼의 온도를 계산하는 신호처리부; 및상기 계산된 웨이퍼의 온도를 디스플레이 하는 단말기를 더 포함하는 웨이퍼 열처리 장치.
- 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,상기 전도체 구조물은 나선형으로 적어도 1회 권선된 유도코일인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 열처리 장치.
- 제 13 항에 있어서,상기 웨이퍼의 표면에 다수의 유도코일이 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 열처리 장치.
- 제 14 항에 있어서,상기 다수의 유도코일은, 상기 웨이퍼의 표면 중 반도체 칩이 형성되지 않는 빈 공간에 배치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 열처리 장치.
- 제 14 항 또는 제 15 항에 있어서,상기 다수의 유도코일 각각에 대응하는 위치에 다수의 자기장 생성부와 자기장 측정 센서가 각각 배치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 열처리 장치.
- 제 16 항에 있어서,상기 자기장 생성부는 상기 핫플레이트 내에 설치되며, 상기 자기장 측정 센서는 상기 커버의 내면으로부터 하방으로 설치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 열처리 장치.
- 제 16 항에 있어서,상기 교류전원은 소정의 순서에 따라 소정의 시간 간격으로 각각의 자기장 생성부에 순차적으로 교류 전류를 공급하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 열처리 장치.
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