KR20050083766A - Glass panel and depressurization treatment apparatus - Google Patents

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KR20050083766A
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오사무 아사노
쯔구히사 타카모토
토시아키 미즈노
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닛폰 이타가라스 가부시키가이샤
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Abstract

A glass panel (16) has opposite glass sheets (10, 11) and a depressurization layer (12) provided between the glass sheets (10, 11). The pressure in the depressurization layer (12) is reduced by a stainless-steel air-discharging cup (17) installed on at least one of the glass sheets (10, 11). The absolute value of the difference between expansion coefficient of the glass sheet (10) and that of the stainless steel used for the air-discharging cup (17) is 20 X 10-6/°C or less.

Description

유리패널 및 감압처리장치{GLASS PANEL AND DEPRESSURIZATION TREATMENT APPARATUS}GLASS PANEL AND DEPRESSURIZATION TREATMENT APPARATUS}

본 발명은 복수의 판유리로 이루어지고, 당해 복수의 판유리의 사이에 층상 공간을 가지는 유리 패널 및 당해 유리패널의 감압처리장치에 관한 것이다. The present invention relates to a glass panel composed of a plurality of plate glass and having a layered space between the plurality of plate glass, and a pressure reduction treatment apparatus for the glass panel.

종래, 도 8 (a) 및 (b)에 나타낸 바와 같은 대향하는 2장의 판유리(90, 91)와, 그 판유리(90 및 91)의 사이에 형성되는 감압층(92)과, 그 감압층(92)의 주연을 씰(seal)하는 저융점 유리로 된 주연 씰재(93)와, 감압층(92)에 배설되고, 판유리(90 및 91)의 간격을 소정값으로 유지하는 복수의 주상(柱狀) 필러(94)와, 판유리(90)를 관통하는 구멍에 일단이 매립되고, 타단이 봉지(封止)되어 있는 배기관(95)을 구비하고 있는 유리패널(96)이 알려져 있다. 이러한 유리패널(96)은 진공유리, 예를 들면 스페시아(등록상표) 등에 바람직하게 이용된다. 또, 이 유리페널(96)의 기본구조는 플라즈마 디스플레이 패널(이하 PDP라 함) 등에도 적용될 수 있다.Conventionally, two sheets of glass plates 90 and 91 facing each other as shown in FIGS. 8A and 8B, a pressure reduction layer 92 formed between the plates 90 and 91, and the pressure reduction layer ( A plurality of columnar plates disposed in the peripheral sealing material 93 made of a low melting point glass for sealing the peripheral edges of the 92 and the pressure-sensitive layer 92 and for maintaining the interval between the plate glasses 90 and 91 at a predetermined value. I) A glass panel 96 is known which has a filler 94 and an exhaust pipe 95 having one end embedded in a hole penetrating the plate glass 90 and the other end sealed. Such glass panel 96 is preferably used for vacuum glass, for example, Spasia®. The basic structure of the glass panel 96 can also be applied to a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP).

이 유리패널(96)에서의 감압층(92)에 존재하는 기체를 배출하여 감압층(92)을 감압하는 장치로서, 이하에 설명하는 배기컵(100)이 알려져 있다.The exhaust cup 100 demonstrated below is known as an apparatus which discharges the gas which exists in the pressure reduction layer 92 in this glass panel 96, and decompresses the pressure reduction layer 92. As shown in FIG.

도 9는 배기컵(100)의 개략구성을 나타내는 단면도이다.9 is a sectional view showing a schematic configuration of the exhaust cup 100.

도 9에서 배기컵(100)은 금속제의 원기둥으로서, 그 중심축상을 천공하여 형성된 본배기부(101)와, 그 본배기부(101)와 연통하는 포트(102)와, 그 포트(102)와 접속하는 관상의 본배기계(103)와, 상기 중심축과 동심원상에 형성된 홈모양의 차동배기부(104)와, 그 차동배기부(104)와 연통하는 포트(105)와, 그 포트(105)와 접속하는 차동배기계(106)와, 본배기부(101) 내에 배설되는 통상(筒狀)의 필라멘트(107)를 구비한다.In Fig. 9, the exhaust cup 100 is a metal cylinder, which is formed by drilling a central axis on the main exhaust portion 101, a port 102 communicating with the main exhaust portion 101, and a connection with the port 102. A tubular main exhaust machine 103, a groove-shaped differential exhaust unit 104 formed concentrically with the central axis, a port 105 in communication with the differential exhaust unit 104, and the port 105 And a differential exhaust machine 106 to be connected to the main body and a normal filament 107 disposed in the main exhaust unit 101.

배기컵((100)은 필라멘트(107)가 배기관(95)을 그 통내로 내포하도록 판유리(90) 상에 장착된다. 이 때, 차동배기부(104)는 후술하는 로터리 펌프(RP)(112)에 의해 감압되므로, 배기컵(100)은 판유리(90)에 흡착한다. The exhaust cup 100 is mounted on the plate glass 90 so that the filament 107 encloses the exhaust pipe 95 into the cylinder, at which time the differential exhaust portion 104 is a rotary pump (RP) 112 described later. Since the pressure is reduced by), the exhaust cup 100 is attracted to the plate glass 90.

도 10은 유리패널(96)에서의 감압층(92)을 감압하는 때의 환경을 나타내는 도면이다. FIG. 10: is a figure which shows the environment at the time of depressurizing the pressure reduction layer 92 in the glass panel 96. As shown in FIG.

도 10에서, 유리패널(96) 및 배기컵(100)은 내부의 승온, 강온이 자유로운 노(爐)(110)에 수용된다. 본배기계(103)는 노(110)의 밖으로 배설되어 있는 터보분자펌프(TMP)(111)에 접속되고, 차동배기계(106)은 노(110)의 외부에 배설되어 있는 RP(112)에 접속된다. TMP(111)는 본배기계(103)을 통하여 본배기부(101) 및 감압층(92)을 감압하고, RP(112)는 차동배기계(106)를 통하여 차동배기부(104)를 감압한다.In FIG. 10, the glass panel 96 and the exhaust cup 100 are housed in a furnace 110 in which the temperature rises and falls in the interior. The main exhaust system 103 is connected to a turbomolecular pump (TMP) 111 disposed outside the furnace 110, and the differential exhaust system 106 is connected to an RP 112 disposed outside the furnace 110. do. The TMP 111 depressurizes the main exhaust unit 101 and the decompression layer 92 through the main exhaust machine 103, and the RP 112 decompresses the differential exhaust unit 104 through the differential exhaust machine 106.

다음에, 유리패널(96)에서의 감압층(92)의 감압처리에 대하여 설명한다.Next, the pressure reduction process of the pressure reduction layer 92 in the glass panel 96 is demonstrated.

도 11은 유리패널(96)에서의 감압층(92)의 감압처리의 플로차트이다.11 is a flowchart of a pressure reduction process of the pressure reduction layer 92 in the glass panel 96.

먼저, 판유리(91) 상에 복수의 필러(94)를 소정의 규칙에 따라 배열하고, 배열된 필러(94) 상에 판유리(90)를 겹쳐 놓음으로써 판유리(90 및 91)를 페어링(pairing)한다(스텝 S1201).First, the plurality of fillers 94 are arranged on the pane 91 according to a predetermined rule, and the panes 90 and 91 are paired by superimposing the panes 90 on the arranged pillars 94. (Step S1201).

다음에, 페어링된 판유리(90 및 91)의 전체 주연(周緣)에 주연 씰재(93)를 도포하고(스텝 S1202)(도 12A), 배기컵(100)을 필라멘트(107)가 배기관(95)을 그 통내로 내포하도록, 판유리(90)에 장착한다(스텝 S1203)(도 12B). 그 후, 배기컵(100)이 장착된 판유리(90 및 91)를 노(110) 내부에서 소성하여 주연씰재(93)를 용융시킨 후, 당해 판유리(90 및 91)를 봉착(封着)한다( 스텝 S1204)(도 12 C). 이것에 의해 판유리(90 및 91) 사이에 감압층(92)이 형성되고, 판유리(90, 91), 주연 씰재(93) 및 필러(94)의 조합은 유리패널(96)로 되지만, 상술한 처리는 대기중에서 실행되므로, 이 시점에서의 감압층(92)의 압력은 대기압이다.Next, the peripheral seal material 93 is applied to all the peripheral edges of the paired plate glass 90 and 91 (step S1202) (FIG. 12A), and the exhaust cup 100 is filled with the filament 107 by the exhaust pipe 95. Is attached to the plate glass 90 so that it may be contained in the cylinder (step S1203) (FIG. 12B). Thereafter, the plate glass 90 and 91 on which the exhaust cup 100 is mounted are fired in the furnace 110 to melt the peripheral sealant 93, and then the plate glass 90 and 91 are sealed. (Step S1204) (FIG. 12C). Thereby, the pressure reduction layer 92 is formed between the plate glass 90 and 91, and the combination of the plate glass 90 and 91, the peripheral sealing material 93, and the filler 94 turns into the glass panel 96, but it mentioned above Since the process is performed in the atmosphere, the pressure in the pressure reduction layer 92 at this point is atmospheric pressure.

다음에, 노(110) 내의 온도를 일정시간 유지하는 것에 의해 감압층(92)에 존재하는 수분, 유기물, 유지 등을 가스화 되게 하는 동시에, TMP(111)를 가동시켜 상기 가스 및 공기를 감압층(92)에서 배출하는 것에 의해 감압층(92)을 감압하는 베이킹(baking)을 행하고( 스텝 S1205), 감압층(92)의 압력이 소정의 값을 하회하면, 유리패널(96)의 냉각을 개시하고(스텝 S1206), 유리패널의 온도가 거의 실온과 같게 되면, 필라멘트(107)에 통전하고, 이것을 발열시킨다. 이것에 의해, 필라멘트(107)가 내포하는 배기관(95)의 단부(端部)를 용융시켜 감압층(92)을 봉지(封止)한다(스텝 S1207)(도 12 D)(예를 들면, 일본특허공표2002-530184호 공보 참조).Next, by maintaining the temperature in the furnace 110 for a certain time, the water, organic matter, oils and the like present in the pressure reduction layer 92 are gasified, and the TMP 111 is operated to operate the gas and air in the pressure reduction layer. Baking to depressurize the decompression layer 92 by discharging it from 92 (step S1205), and if the pressure of the decompression layer 92 is less than a predetermined value, cooling of the glass panel 96 is stopped. When it starts (step S1206) and the temperature of a glass panel becomes substantially room temperature, it energizes the filament 107 and heats this. Thereby, the edge part of the exhaust pipe 95 which the filament 107 contains is melted, and the pressure reduction layer 92 is sealed (step S1207) (FIG. 12D) (for example, See Japanese Patent Publication No. 2002-530184).

도 11의 감압처리에서의 스텝 S1204 ∼ S1207에서, RP(112)는 항상 가동되고, 차동배기부(104)를 감압하는 것에 의해 배기컵(100)을 판유리(90)에 흡착시키는 동시에, 본배기부(101)로 배기컵(100)의 밖에서 공기의 침입을 방지한다.In steps S1204 to S1207 in the depressurization process of FIG. 11, the RP 112 is always operated, thereby adsorbing the exhaust cup 100 to the plate glass 90 by depressurizing the differential exhaust section 104, and at the same time, the main exhaust section. 101 prevents intrusion of air outside the exhaust cup 100.

도 13은 도 11의 감압처리에서의 시간과 온도의 관계를 나타내는 도면이다. FIG. 13 is a diagram illustrating a relationship between time and temperature in the depressurization process of FIG. 11.

스텝 S1201 ∼ S1203의 각 공정은 t1까지에서 실행되고, 스텝 S1204의 봉착(封着)은 t1∼t4에서 실행되고, 스텝 S1205의 베이킹은 t4∼t5에서 실행되고, 스텝 S1206의 냉각은 t5∼t6에서 실행되고, 스텝 S1207의 봉지(封止)는 t6∼t7에서 실행된다.Each step of steps S1201 to S1203 is executed up to t1, sealing of step S1204 is performed at t1 to t4, baking at step S1205 is performed at t4 to t5, and cooling at step S1206 is t5 to t6 Is executed at step S1207, and the sealing at step S1207 is executed at t6 to t7.

그러나, 도 11의 감압처리에서, 배기컵(100)은 실온분위기 및 저융점 유리가 용융하는 고온분위기의 어느 것에서도 판유리(90)에 흡착할 필요가 있지만, 배기컵(100)을 구성하는 금속의 팽창계수와 판유리(90)의 팽창계수가 대폭으로 달라지면, 노(110)의 분위기가 실온에서 고온으로 변화한 때, 이들의 팽창계수의 차에 기인하여, 판유리(90)에 대한 배기컵(100)의 상대적인 움직임이 발생하고, 판유리(90)와 배기컵(100)과의 사이에 틈이 생기므로, 유리패널(96)에서의 감압층(92)의 진공도가 저하되는 문제가 있다.However, in the depressurization process of FIG. 11, the exhaust cup 100 needs to adsorb to the plate glass 90 in any of the high-temperature atmospheres in which the room temperature atmosphere and the low melting point glass melt, but the metal constituting the exhaust cup 100. If the expansion coefficient of and the expansion coefficient of the plate glass 90 are drastically changed, when the atmosphere of the furnace 110 changes from room temperature to high temperature, due to the difference of these expansion coefficients, the exhaust cup for the plate glass 90 ( Since relative movement of 100 occurs and a gap is formed between the plate glass 90 and the exhaust cup 100, there is a problem that the vacuum degree of the pressure-sensitive layer 92 in the glass panel 96 is lowered.

본 발명은 이상과 같은 문제점에 착안하여 이루어진 것이다. 그 목적은 진공층의 진공도의 저하를 방지하는 유리패널 및 감압처리장치를 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in view of the above problems. Its purpose is to provide a glass panel and a pressure reduction treatment device for preventing a decrease in the degree of vacuum of the vacuum layer.

도1은 본 발명의 실시 형태에 관한 유리패널의 개략구성을 나타내는 도면.1 is a view showing a schematic configuration of a glass panel according to an embodiment of the present invention.

도2는 본 발명의 실시형태에 관한 감압처리장치의 개략구성을 나타내는 도면.2 is a diagram showing a schematic configuration of a pressure reduction processing device according to an embodiment of the present invention.

도3은 도1의 유리패널에서의 감압층의 감압처리의 플로차트.3 is a flowchart of a pressure reduction process of the pressure reduction layer in the glass panel of FIG.

도4 A - D는 도1의 유리패널에서의 감압층의 감압처리의 수순을 나타내는 도면.4A to D are views showing the procedure of the depressurization treatment of the pressure reduction layer in the glass panel of FIG.

도5는 도3의 감압처리에서의 시간과 온도의 관계를 나타내는 도면.FIG. 5 is a diagram showing a relationship between time and temperature in the decompression process of FIG. 3; FIG.

도6은 도 2의 감압처리장치에서의 전기회로의 개략구성을 나타내는 도면.FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of an electric circuit in the pressure reduction processing device of FIG. 2; FIG.

도 7은 도2의 감압처리장치의 개략구성을 나타내는 사시도.7 is a perspective view showing a schematic configuration of the pressure reduction processing device of FIG.

도 8은 종래의 감압층을 가지는 유리패널의 개략구성을 나타내는 도면.8 is a view showing a schematic configuration of a glass panel having a conventional pressure-sensitive layer.

도 9는 배기컵의 개략구성을 나타내는 단면도이다.9 is a sectional view showing a schematic configuration of an exhaust cup.

도 10은 도 8의 유리패널에서의 감압층을 감압할 때의 환경을 나타내는 도면.FIG. 10 is a view showing an environment when the pressure reduction layer in the glass panel of FIG. 8 is reduced in pressure. FIG.

도 11은 도 8의 유리패널에서의 감압층의 감압처리의 플로차트.FIG. 11 is a flowchart of a pressure reduction process of the pressure reduction layer in the glass panel of FIG. 8. FIG.

도 12A-D는 도 8의 유리패널에서의 감압층의 감압처리 수순을 나타내는 도면.12A-D are diagrams showing the depressurizing procedure of the decompression layer in the glass panel of FIG.

도 13은 도11의 감압처리에서의 시간과 온도의 관계를 나타내는 도면.FIG. 13 is a diagram showing a relationship between time and temperature in the decompression process in FIG. 11; FIG.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 제1 태양에 의하면, 대향하는 복수의 판유리와, 상기 복수의 판유리 사이에 설치된 층상 공간을 가지며, 상기 복수의 판유리 중 적어도 1장에 장착된 배기장치가 상기 층상공간에 존재하는 기체를 배출하는 유리패널에 있어서, 상기 판유리의 팽창계수와 상기 배기장치의 구성재료의 팽창계수와의 차의 절대치가 소정치 이하인 유리패널이 제공된다.In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, there is provided an exhaust apparatus provided with at least one of the plurality of plate glass, having a plurality of facing panes and a layered space provided between the plurality of plate glasses. In a glass panel for discharging gas existing in the layered space, a glass panel is provided in which an absolute value of a difference between the expansion coefficient of the plate glass and the expansion coefficient of the constituent material of the exhaust device is equal to or less than a predetermined value.

본 제1 태양에서, 상기 층상공간은 상기 기체이 배출후에 가스가 도입되는 가스 도입층인 것이 바람직하다.In the first aspect, the layered space is preferably a gas introduction layer into which gas is introduced after the gas is discharged.

본 제1 태양에서, 상기 소정치가 20×10-6/℃인 것이 바람직하다.In this 1st aspect , it is preferable that the said predetermined value is 20x10 <-6> / degreeC .

본 제1 태양에서, 상기 층상공간에 존재하는 기체를 배출하는 때에, 상기 배기장치가 장착되는 판유리 부분에서 발생하는 응력은 상기 판유리의 단기 허용응력 이하인 것이 바람직하다.In the first aspect, when discharging the gas present in the layered space, the stress generated in the portion of the plate glass on which the exhaust device is mounted is preferably less than the short term allowable stress of the plate glass.

본 제1 태양에서, 상기 유리패널은 상기 판유리의 단부로부터 5∼100mm의 범위내에 배설되고 상기 층상공간과 외부를 연통하는 연통부를 구비하는 것이 바람직하다.In this 1st aspect, it is preferable that the said glass panel is provided in the range of 5-100 mm from the edge part of the said plate glass, and has a communication part which communicates the said layered space and the exterior.

본 제1 태양에서, 상기 배기장치는 상기 판유리와의 접촉면에서 개구하는 홈을 갖고, 그 홈의 단면적은 0.5㎟ 이상인 것이 바람직하다.In this first aspect, the exhaust device preferably has a groove opening at the contact surface with the pane, and the cross-sectional area of the groove is preferably 0.5 mm 2 or more.

본 제1 태양에서, 상기 연통부는 상기 유리패널이 표시장치로서 사용될 때에, 상기 표시장치의 이면에 상당하는 면에 설치되는 것이 바람직하다.In the first aspect, when the glass panel is used as a display device, it is preferable that the communicating portion is provided on a surface corresponding to the rear surface of the display device.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 제2 태양에 의하면, 대향하는 복수의 판유리와, 상기 복수의 판유리 사이에 설치된 층상공간을 가지는 유리패널에 장착되는 동시에 상기 층상공간에 존재하는 기체를 배출하는 배기장치를 구비하는 감압처리장치에 있어서, 상기 판유리의 팽창계수와 상기 배기장치의 구성재료의 팽창계수와의 차의 절대치가 소정치 이하인 감압처리장치가 제공된다.In order to achieve the above object, according to the second aspect of the present invention, a glass panel having a plurality of opposing panes and a layered space provided between the plurality of plate glasses is mounted on the glass panel and discharges gas present in the layered space. A pressure reduction processing apparatus comprising an exhaust device, wherein a pressure reduction device is provided in which the absolute value of the difference between the expansion coefficient of the plate glass and the expansion coefficient of the constituent material of the exhaust device is equal to or less than a predetermined value.

본 제2태양에서, 상기 소정치는 20×10-6/℃인 것이 바람직하다.In the second aspect, the predetermined value is preferably 20 × 10 −6 / ° C.

본 제2태양에서, 상기 층상공간에 존재하는 기체의 배출 시에, 상기 배기장치가 상기 판유리의 부분에서 발생시키는 응력은 상기 판유리의 단기 허용응력 이하인 것이 바람직하다.In the second aspect, it is preferable that the stress generated by the exhaust device in the portion of the pane at the time of discharge of the gas present in the layered space is less than the short term allowable stress of the pane.

본 제2태양에서, 상기 판유리는 상기 층상공간과 외부를 연통하는 연통부를 가지고, 상기 배기장치는 상기 판유리와의 접촉면에서 개구하는 동시에 상기 연통부를 수용하는 밀봉실을 가지고, 상기 접촉면에서의 상기 밀봉실 주위의 씰부의 적어도 1부는 그 폭이 5mm인 것이 바람직하다.In this second aspect, the plate glass has a communication portion communicating with the layered space and the outside, and the exhaust device has a sealing chamber that opens at the contact surface with the plate glass and simultaneously accommodates the communication portion, and the sealing at the contact surface. At least one part of the seal portion around the seal is preferably 5 mm in width.

본 제2태양에서, 배기장치는 상기 판유리와의 상기 접촉면에서 개구하는 홈을 갖고, 그 홈의 단면적은 0.5㎟ 이상인 것이 바람직하다.In the second aspect, the exhaust device has a groove opening at the contact surface with the pane, and the cross-sectional area of the groove is preferably 0.5 mm 2 or more.

본 제2태양에서, 상기 판유리는 상기 층상공간과 외부를 연통하는 연통부를 가지고, 상기 배기장치는 상기 판유리와의 접촉면에서, 상기 연통부를 수용하는 밀봉실 및 그 밀봉실을 둘러싸는 홈모양의 타 밀봉실을 가지고, 상기 타 밀봉실을 감압하는 감암펌프는 감압계통을 통하여 상기 밀봉실과 접속되고, 상기 타 밀봉실을 감압하는 타 감압펌프는 타 감압계통을 통하여 상기 타 밀봉실과 접속되는 것이 바람직하다.In the second aspect, the plate glass has a communication portion communicating with the layered space and the outside, and the exhaust device has a sealing chamber for accommodating the communication portion and a groove shape surrounding the sealing chamber at a contact surface with the plate glass. It is preferable that the immersion pump having a sealing chamber and decompressing the other sealing chamber is connected to the sealing chamber through a decompression system, and the other decompression pump decompressing the other sealing chamber is connected to the other sealing chamber through another decompression system. .

본 제2태양에서, 상기 배기장치, 상기 감압계통, 및 상기 타 감압계통의 구성재료는 금속 또는 금속 및 세라믹의 조합으로 이루어진 것이 바람직하다.In the second aspect, the exhaust material, the pressure reducing system, and the other material of the pressure reducing system is preferably made of a metal or a combination of metal and ceramic.

본 제2태양에서, 상기 감압계통은 대기 개방밸브를 가지는 것이 바람직하다. In the second aspect, the pressure reducing system preferably has an atmospheric opening valve.

본 제2태양에서, 상기 타 감압계통은 상기 타 밀봉실 및 상기 타 감압펌프의 사이에 배설된 진공계와, 상기 타 감압펌프의 근방에 배설된 타 진공계를 가지는 것이 바람직하다.In the second aspect, the other pressure reducing system preferably has a vacuum system disposed between the other sealing chamber and the other pressure reducing pump, and another vacuum system disposed in the vicinity of the other pressure reducing pump.

본 제2태양에서, 상기 배기장치는 소둔처리가 실시되는 것이 바람직하다.In the second aspect, the exhaust device is preferably subjected to an annealing treatment.

본 제2태양에서, 상기 배기장치는 상기 연통부에 대향하고 그 연통부와 소정의 간격을 유지하여 배설된 발열체를 상기 밀봉실에 가지는 것이 바람직하다.In the second aspect, the exhaust device preferably has a heating element disposed in the sealing chamber that faces the communication portion and is disposed at a predetermined distance from the communication portion.

본 제2태양에서, 상기 발열체의 상기 연통부로의 대향면적이 상기 연통부의 상기 발열체로의 대향면적의 3배 이상인 것이 바람직하다.In the second aspect, the opposing area of the heating element to the communicating portion is preferably three times or more of the opposing area of the communicating portion to the heating element.

본 제2태양에서, 상기 발열체에 정전류를 공급하는 정전류장치를 가지는 것이 바람직하다.In the second aspect, it is preferable to have a constant current device for supplying a constant current to the heating element.

본 제2태양에서 고온분위기를 실현하는 노(爐)를 구비하고, 상기 복수의 유리패널은 그 주연(周緣)에 도포된 봉착재(封着材)를 상기 고온분위기에서 용융하는 것에 의해 서로 봉착(封着)되고, 상기 발열체와 상기 정전류장치를 접속하는 전류도입단자는 상기 노의 밖에 설치되는 것이 바람직하다.In the second aspect, a furnace for realizing a high temperature atmosphere is provided, and the plurality of glass panels are sealed to each other by melting an encapsulant applied on the peripheral edge thereof in the high temperature atmosphere. Preferably, a current induction terminal for connecting the heating element and the constant current device is provided outside the furnace.

본 제2태양에서, 상기 배기장치를 복수 가지고, 상기 복수의 배기장치에서의 상기 발열체의 각각에 순차 전류를 공급하는 전류공급장치를 가지는 것이 바람직하다.In the second aspect, it is preferable to have a plurality of the exhaust devices, and to have a current supply device for sequentially supplying current to each of the heating elements in the plurality of exhaust devices.

본 제2의 태양에서, 상기 노는 순환공기를 공급하는 공급구를 가지고, 그 공급구에 대향하는 위치에서 상기 순환공기를 정류하는 정류판을 가지는 것이 바람직하다.In the second aspect, the furnace preferably has a supply port for supplying circulating air and a rectifying plate for rectifying the circulating air at a position opposite the supply port.

본 제2태양에서, 군을 이루는 복수의 상기 배기장치가 복수의 장소에 배설되는 것이 바람직하다.In the second aspect, it is preferable that a plurality of the exhaust devices forming a group are disposed in a plurality of places.

본 제2태양에서, 상기 유리패널의 봉착(封着)후, 상기 노 내의 서냉시에 상기 발열체의 발열에 의해 상기 연통부를 용융하는 것이 바람직하다.In this 2nd aspect, after sealing the said glass panel, it is preferable to melt | fuse the said communication part by heat_generation | fever of the said heat generating body at the time of slow cooling in the said furnace.

본 제2태양에서, 상기 유리패널은 상기 연통부를 복수 가지고, 그 복수의 연통부 중 하나의 연통부를 통하여 상기 층상공간에 존재하는 기체를 배출하는 동시에, 타 연통부를 통하여 상기 층상공간으로 가스를 도입하는 것이 바람직하다.In the second aspect, the glass panel has a plurality of communication portions, and discharges gas existing in the layered space through one of the plurality of communication portions, and introduces gas into the layered space through the other communication portion. It is desirable to.

본 제2태양에서, 상기 연통부를 통하여 상기 층상공간에 존재하는 기체를 배출한 후에, 상기 연통부를 통해서 상기 층상공간으로 가스를 도입하는 것이 바람직하다.In the second aspect, after discharging the gas existing in the layered space through the communicating portion, it is preferable to introduce gas into the layered space through the communicating portion.

이하, 본 발명의 실시형태에 관한 유리패널 및 감압처리장치에 대하여 도면을 참조하면서 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the glass panel and pressure reduction apparatus which concern on embodiment of this invention are demonstrated, referring drawings.

도1은 본 발명의 실시형태에 관한 유리패널의 개략구성을 나타내는 도면이고, 도 2는 본 발명의 실시형태에 관한 감압처리장치의 개략구성을 나타내는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows schematic structure of the glass panel which concerns on embodiment of this invention, and FIG. 2 is a figure which shows schematic structure of the pressure reduction processing apparatus which concerns on embodiment of this invention.

도 1에 있어서, 유리패널(16)은 대향하는 2장의 판유리(10, 11)와, 드 판유리(10 및 11)의 사이에 형성되는 감압층(12)(층상공간)과, 그 감압층(12)의 주연(周緣)을 씰(seal)하는 저융점 유리로 되는 주연 씰재(13)(봉착재(封着材))와, 감압층(12)에 배설되고 판유리(10 및 11)의 간격을 소정치로 유지하는 복수의 주상(柱狀)의 필러(14)와, 판유리(10)를 관통하는 구멍에 일단이 매설되어 있는 배기관(15)(연통부)을 구비하고 있다.In FIG. 1, the glass panel 16 is the pressure reducing layer 12 (layered space) formed between the two plate glass 10 and 11 which oppose, the de plate glass 10 and 11, and the pressure reduction layer ( The gap between the plate glass 10 and 11 which is arranged in the peripheral seal material 13 (sealing material) which becomes the low melting-point glass which seals the periphery of 12, and the pressure reduction layer 12, and is arrange | positioned. And a plurality of columnar fillers 14 for maintaining the predetermined value and an exhaust pipe 15 (communication portion) having one end embedded in a hole penetrating the plate glass 10.

판유리(10)에 장착되는 배기컵(17)(배기장치)은 원기둥 모양이고, 그 중심축 상을 천공하여 형성된 본배기부(18)(밀봉실)와, 그 본배기부(18)와 연통하는 포트(19)와, 그 포트(19)와 접속하는 관상의 본배기계(20)(감압계통)와, 상기 중심축과 동심원상에 형성된 홈모양의 차동배기부(21)(타 밀봉실)과, 그 차동배기부(21)와 연통하는 포트(22)와, 그 포트(22)와 접속하는 관상의 차동배기계(23)(타 감압계통)와, 본배기부(18) 내에 배설되는 횡으로 놓인 코일상의 필라멘트(24)(발열체)를 구비하고 있다.The exhaust cup 17 (exhaust device) attached to the plate glass 10 has a cylindrical shape, and the main exhaust part 18 (sealing chamber) formed by drilling on the central axis thereof, and a port communicating with the main exhaust part 18. 19, a tubular main exhaust machine 20 (decompression system) connected to the port 19, a groove-shaped differential exhaust unit 21 (other sealing chamber) formed on the concentric circle with the central axis, A port 22 communicating with the differential exhaust section 21, a tubular differential exhaust system 23 (other pressure reducing system) connected to the port 22, and a transverse coil disposed in the main exhaust section 18 The upper filament 24 (heating element) is provided.

또, 배기컵(17)의 구성재료는 스테인레스이고, 특히 0∼500℃의 사이에서 판유리(10)의 팽창계수(8.5×10-6/℃)와 배기컵(17)의 구성재료의 팽창계수와의 차의 절대치가 20×10-6/℃ 이하로 되는 스테인레스, 예를 들면 SUS304 등이 사용되고, 본배기계(20) 및 차동배기계(23)의 구성재료는 금속이다. 또, 배기컵(17)은 본배기부(18)나 차동배기부(21)을 형성하기 위한 용접가공 후, 진공중에서 소둔처리가 실시된다.In addition, the constituent material of the exhaust cup 17 is stainless, in particular, the expansion coefficient (8.5 x 10 -6 / ° C) of the plate glass 10 and the expansion coefficient of the constituent material of the exhaust cup 17 between 0 to 500 ℃. Stainless steel, for example, SUS304 or the like, in which the absolute value of the difference is 20 × 10 −6 / ° C. or less is used, and the constituent materials of the main exhaust machine 20 and the differential exhaust machine 23 are metal. In addition, the exhaust cup 17 is subjected to annealing in vacuum after the welding process for forming the main exhaust 18 and the differential exhaust 21.

배기컵(17)은 필라멘트(24)가 유리패널(16)의 배기관(15)에 대향하고, 배기관(15)과 일정 간격을 유지하도록, 판유리(10) 상에 장착된다. 이 때,차동배기부(21)은 후술하는 RP(27)(타 감압펌프)에 의해 감압되므로, 배기컵(17)은 판유리(10)에 흡착한다. 판유리(10)에 접촉하는 접촉면에는 그 거의 중앙에 본배기부(18)가 설치되고, 본배기부(18)을 둘러싸도록 배기컵(17)의 중심축과 동심원상에 홈모양의 차동배기부(21)가 설치된다. 이 홈모양의 차동배기부(21)는 접촉면에서 개구하고 그리고 그 단면적이 0.5㎟이상, 바람직하게는 1.0㎟ 이상이다. 또,접촉면에서의 본배기부(18) 둘레의 씰부의 폭, 즉 접촉면에서의 본배기부(18)로부터 배기컵(17)의 외부까지 경로거리는 5 mm 이상이다. 여기서 배기컵(17)의 외부로부터 본배기부(18)를 밀봉하기 위해서는 상기 경로거리가 0 mm 보다 크면 되지만, 상기 경로거리가 작으면 당해 경로거리에 따라서 배기관(15)이 배치되는 위치로부터 판유리(10)의 단부까지의 거리도 작게되는 경우가 있다. 이 경우, 판유리(10)의 단부강도가 저하하고, 후술하는 감압층(12)의 감압처리에서의 소성공정이나 베이킹, 또는 시장환경에서의 유리패널의 승온시 등에서, 판유리(10)의 당해 단부에 응력이 집중하여 판유리(10)가 파손되기 쉽다. 따라서, 배기관(15)이 배치되는 위치로부터 판유리(10)의 단부까지의 거리는 소정의 거리, 예를 들면 적어도 5 mm 이상 확보할 필요가 있고, 그러므로 상기 경로거리도 5 mm 이상인 것이 좋다.The exhaust cup 17 is mounted on the plate glass 10 so that the filament 24 faces the exhaust pipe 15 of the glass panel 16 and maintains a constant distance from the exhaust pipe 15. At this time, since the differential exhaust part 21 is decompressed by the RP 27 (other pressure reducing pump) described later, the exhaust cup 17 is attracted to the plate glass 10. The main exhaust part 18 is provided in the contact surface which contacts the plate glass 10 substantially in the center, and the groove-shaped differential exhaust part 21 concentrically with the central axis of the exhaust cup 17 so that the main exhaust part 18 may be enclosed. ) Is installed. The groove-shaped differential exhaust portion 21 opens at the contact surface and has a cross-sectional area of 0.5 mm 2 or more, preferably 1.0 mm 2 or more. The width of the seal portion around the main exhaust portion 18 on the contact surface, that is, the path distance from the main exhaust portion 18 on the contact surface to the outside of the exhaust cup 17 is 5 mm or more. In order to seal the main exhaust portion 18 from the outside of the exhaust cup 17, the path distance may be larger than 0 mm. However, if the path distance is small, the plate glass (from the position where the exhaust pipe 15 is disposed according to the path distance) The distance to the edge part of 10) may also become small. In this case, the edge strength of the plate glass 10 falls, and the said edge part of the plate glass 10 is carried out at the baking process of the pressure reduction process of the pressure reduction layer 12 mentioned later, baking, or the temperature increase of the glass panel in a market environment. The stress is concentrated in the plate glass 10, which is likely to break. Therefore, the distance from the position where the exhaust pipe 15 is arranged to the end of the plate glass 10 needs to be secured at a predetermined distance, for example, at least 5 mm or more, and therefore the path distance is preferably 5 mm or more.

또, 도 2에서, 감압처리장치(25)는 복수의 배기컵(17)과, 각각의 차동배기계(23)에 배기컵(17)의 직하류에서 설치된 아날로그 진공계(28)(진공계)와, 각 차동배기계(23)가 집합된 집합 차동배기계(29)와, 그 집합차동배기계(29)에 RP(27)의 직상류에서 설치된 디지털 진공계(30)(타 진공계)와, 각 본배기계(20)가 집합된 집합 본배기계(31)와, 그 집합 본배기계(31)에 TMP(26)(감압펌프)의 상류에서 설치된 대기개방밸브(32)를 구비하고 있다.In addition, in FIG. 2, the decompression processing apparatus 25 includes a plurality of exhaust cups 17, an analog vacuum gauge 28 (vacuum system) provided in each of the differential exhaust machines 23 directly downstream of the exhaust cups 17, A collective differential exhaust machine 29 in which each differential exhaust machine 23 is assembled, a digital vacuum gauge 30 (other vacuum gauges) provided in the collective differential exhaust machine 29 upstream of the RP 27, and each main exhaust machine 20 ) Is provided with an aggregate main discharge machine 31, and an atmospheric release valve 32 provided upstream of the TMP 26 (decompression pump).

TMP(26)는 집합본배기계(31), 본배기계(20), 포트(19) 및 본배기부(18)를 통해서 감압층(12)를 감압하고, RP(27)는 집합차동배기계(29), 차동배기계(23) 및 포트(22)를 통해서 차동배기부(21)를 감압한다. 각 아날로그 진공계(28)은 대응하는 본배기계(20)의 진공도를 측정하고, 디지털 진공계(30)는 집합차동배기계(29)의 진공도를 측정한다. 또, 유리패널(16) 및 배기컵(17)은 내부의 승온, 강온이 자유로운 노(미도시)에 수용된다.The TMP 26 depressurizes the decompression layer 12 through the collective main exhaust machine 31, the main exhaust machine 20, the port 19, and the main exhaust unit 18, and the RP 27 decompresses the collective differential exhaust machine 29. Then, the differential exhaust unit 21 is depressurized through the differential exhaust machine 23 and the port 22. Each analog vacuum gauge 28 measures the vacuum degree of the corresponding main exhaust machine 20, and the digital vacuum gauge 30 measures the vacuum degree of the collective differential exhaust machine 29. In addition, the glass panel 16 and the exhaust cup 17 are accommodated in the furnace (not shown) which is free in the temperature raising and lowering temperature inside.

배기컵(17)에 의하면, 판유리(10)에 접촉하는 접촉면에는 그의 거의 중앙에 본배기부(18)가 설치되고, 본배기부(18)를 둘러싸도록 배기컵(17)의 중심축과 동심원상에 차동배기부(21)가 설치되므로, 감압층(12)에 존재하는 기체, 예를 들면 공기를 감압층(12)에서 배출하는 때에, 감압된 차동배기부(21)가 배기컵(17)의 외부에서 본배기부(18)로의 공기의 침입을 방지할 수 있고, 감압층(12)의 진공도의 저하를 효율적으로 방지할 수 있다.According to the exhaust cup 17, the main exhaust part 18 is provided in the center of the contact surface which contacts the plate glass 10, and is concentric with the central axis of the exhaust cup 17 so that the main exhaust part 18 may be enclosed. Since the differential exhaust portion 21 is provided, when the gas, for example air, present in the pressure reduction layer 12 is discharged from the pressure reduction layer 12, the reduced pressure differential exhaust portion 21 of the exhaust cup 17 Intrusion of air into the main exhaust part 18 from the outside can be prevented, and the fall of the vacuum degree of the pressure reduction layer 12 can be prevented efficiently.

도 1에서는, 본배기부(18)의 외주에 설치된 차동배기부(21)는 1중의 홈구조이지만, 이것에 한하는 것은 아니고, 접촉면의 면적이 허용하는 한 2중, 3중의 홈구조로 되어도 좋다.In FIG. 1, although the differential exhaust part 21 provided in the outer periphery of this exhaust part 18 is a single groove structure, it is not limited to this, You may have a double and triple groove structure as long as the area of a contact surface allows. .

또, 감압처리장치(25)에 의하면, 각각의 차동배기계(23)이 배기컵(17)의 직하류에서 아날로그 진공계(28)가 설치되고, 집합차동배기계(29)의 RP(27)의 직상류에서 디지털 진공계(30)가 설치되므로, 차동배기부(21)로의 공기의 침입이 있는 때에, 곧바로 이상이 감지될 수 있다.Moreover, according to the pressure reduction processing apparatus 25, the analogue vacuum gauge 28 is installed in each differential exhaust machine 23 directly downstream of the exhaust cup 17, and the linear of the RP 27 of the collective differential exhaust machine 29 is carried out. Since the digital vacuum gauge 30 is installed upstream, the abnormality can be detected immediately when there is air intrusion into the differential exhaust part 21.

당해 이상의 감지방법으로는, 아날로그 진공계(28) 및 디지털 진공계(30)의 표시치의 차이가 크게 되든가 그렇지 않든가로 판단하는 방법이 사용된다. 이 방법에서 기준으로 되는 표시치의 차이는 거의 1000 Pa이다.As the above detection method, a method of judging whether the difference between the display values of the analog vacuum gauge 28 and the digital vacuum gauge 30 is large or not is used. In this method, the difference between the displayed values is approximately 1000 Pa.

당해 이상의 감지방법에서는 표시치의 차이를 데이터로 취입한 컴퓨터(미도시)가 이상을 판단하여도 좋고, 작업자가 목시에 의해서 이상을 판단하여도 좋다.In the above detection method, an abnormality may be determined by a computer (not shown) incorporating the difference in display values as data, and an operator may judge the abnormality by visual observation.

표시치의 차이로 판단하는 경우는 배관저항이 작으면 차이 값이 작게되므로 아날로그 진공계(28)와 디지털 진공계(30)를 가능한 한 분리하여 배치할 필요가 있고, 그러므로 감압처리장치(25)에서는 아날로그 진공계(28)를 배기컵(17)의 직하류에 설치하고, 디지털 진공계(30)를 RP(27)의 직상류에 설치하고 있다. 또, 아날로그 진공계(28)은 고온분위기에서는 사용할 수 없으므로, 아날로그 진공계(28)는 노의 밖으로 설치하는 것이 바람직하다.In the case of judging the difference between the displayed values, the smaller the pipe resistance, the smaller the difference value. Therefore, it is necessary to separate the analog vacuum gauge 28 and the digital vacuum gauge 30 as much as possible. Therefore, the decompression processor 25 uses the analog vacuum gauge. (28) is provided directly downstream of the exhaust cup 17, and the digital vacuum gauge 30 is provided directly upstream of the RP27. In addition, since the analog vacuum gauge 28 cannot be used in a high temperature atmosphere, it is preferable to install the analog vacuum gauge 28 outside the furnace.

복수의 유리패널(16)에 순차로, 배기컵(17)을 장착할 때에는, 유리패널(16)에 장착된 배기컵(17)의 차동배기계(23)는 벤트(미도시)에 의해 폐쇄되어 있으므로, 디지털진공계(30)의 표시값은 모두 작아진다. 따라서, 디지털진공계(30)의 표시값으로는 모두 유리패널(16)에 배기컵(17)이 장착된 후의 표시값을 사용하는 것이 바람직하다.When the exhaust cups 17 are sequentially mounted on the plurality of glass panels 16, the differential exhaust machine 23 of the exhaust cups 17 mounted on the glass panels 16 is closed by a vent (not shown). Therefore, all the display values of the digital vacuum system 30 become small. Therefore, it is preferable to use the display value after the exhaust cup 17 is attached to the glass panel 16 as the display value of the digital vacuum system 30 in all.

게다가, 감압처리장치(25)에 의하면, 배기컵(17)은 본배기부(18) 내에 횡으로 놓인 코일상의 필라멘트(24)를 배기관(15)과 일정 간격을 유지하도록 수용하므로, 배기관(15)의 위치에 주의하지 않고, 배기컵(17)을 설치할 수 있고, 더욱 작업효율을 향상시킬 수 있다. 이 때, 필라멘트(24)는 간단히 횡으로 놓인 코일상의 것에 한하지 않고, 횡으로 놓인 코일상의 것을 수평방향으로 찌부러뜨린 것, 시트상의 것 또는 수평면 내에서 나선형으로 감긴 모양을 나타내는 것이라도 좋고, 어느 것이라도 그 배기관(15)에 대향하는 면의 면적이 배기관(15)에서의 필라멘트(24)에 대향하는 단면의 면적의 거의 3배 이상인 것이 바람직하다. 이것에 의해, 작업자의 수작업에 기인하는 배기관(15)과 필라맨트(24)의 상대위치의 차이를 흡수할 수 있다.In addition, according to the decompression processing apparatus 25, the exhaust cup 17 accommodates the coiled filament 24 placed laterally in the main exhaust portion 18 so as to maintain a constant distance from the exhaust pipe 15, so that the exhaust pipe 15 It is possible to install the exhaust cup 17 without paying attention to the position of, thereby further improving work efficiency. At this time, the filament 24 is not limited to simply a coil on a transverse side, but may be a crushed horizontal coil on a horizontal, a sheet or a spiral wound in a horizontal plane. Even if it is, the area of the surface facing the exhaust pipe 15 is preferably almost three times or more the area of the cross section facing the filament 24 in the exhaust pipe 15. Thereby, the difference in the relative position of the exhaust pipe 15 and the filament 24 by the worker's manual work can be absorbed.

또, 유리페널(16)에서, 배기관(15)은 판유리(10)의 단부에서 5∼100mm의 범위 내에 배설되는 것이 바람직하다.In the glass panel 16, the exhaust pipe 15 is preferably disposed within the range of 5 to 100 mm at the end of the plate glass 10.

여기서, 배기컵(17)에서, 접촉면에서의 본배기부(18) 둘레의 씰부의 폭이 5mm 확보할 수 있으면, 판유리(10)에서의 배기관(15)의 근방의 단부에서 응력이 당해 단부에 집중하지 않고, 판유리(10)의 파손을 방지할 수 있는 동시에, 유리패널(16)에 배기컵(17)을 장착하여 본배기부(18)을 밀봉할 수 있고, 작업효율을 향상시킬 수 있다. 또, 배기컵(17)의 접촉면에서의 본배기부(18) 둘레의 적어도 1부에서 실부의 폭이 5mm이면, 유리패널(16)에서의 배기관(15)의 배치가능영역이 늘어나고, 배기관(15)의 배치를 자유롭게 할 수 있다.Here, in the exhaust cup 17, if the width of the seal portion around the main exhaust portion 18 at the contact surface can be ensured by 5 mm, the stress is concentrated at the end portion near the exhaust pipe 15 in the plate glass 10 at the end portion. In addition, damage to the plate glass 10 can be prevented, and an exhaust cup 17 can be attached to the glass panel 16 to seal the main exhaust portion 18, thereby improving work efficiency. In addition, if the width of the seal portion is 5 mm in at least one portion around the main exhaust portion 18 at the contact surface of the exhaust cup 17, the allowable area of the exhaust pipe 15 in the glass panel 16 increases, and the exhaust pipe 15 ) Can be placed freely.

홈모양의 차동배기부(21)의 단면적은 0.5㎟ 이상, 바람직하게는 1.0 ㎟ 이므로, 그 홈안을 용이하게 감압할 수 있다. 더욱이, 유리패널(16)을 PDP(표시장치)로 사용하는 경우, 배기관(15)은 유리패널(16)에서 PDP의 이면에 상당하는 면에 설치되는 것이 바람직하고, 이것에 의해, PDP의 표면을 평활하게 할 수 있고, 당해 PDP의 의장성을 향상시킬 수 있다.Since the cross-sectional area of the groove-shaped differential exhaust portion 21 is 0.5 mm 2 or more, preferably 1.0 mm 2, the inside of the groove can be easily depressurized. Further, when the glass panel 16 is used as a PDP (display device), the exhaust pipe 15 is preferably provided on the surface corresponding to the rear surface of the PDP in the glass panel 16, whereby the surface of the PDP. Can be made smooth and the designability of the said PDP can be improved.

다음에, 유리패널(16)에서의 감압층(12)의 감압처리에 대하여 설명한다.Next, the pressure reduction process of the pressure reduction layer 12 in the glass panel 16 is demonstrated.

도 3은 유리패널(16)에서의 감압층(12)의 감압처리의 플로차트이다.3 is a flowchart of the pressure reduction treatment of the pressure reduction layer 12 in the glass panel 16.

먼저, 판유리(11) 상에 복수의 필러(14)를 소정의 규칙에 따라 배열하고, 배열된 필러(14)의 위에 판유리(10)를 올려놓음으로써 판유리(10 및 11)를 페어링한다(스텝 S301). First, the plurality of fillers 14 are arranged on the plate glass 11 according to a predetermined rule, and the plate glass 10 and 11 are paired by placing the plate glass 10 on the arranged pillars 14 (step). S301).

다음에, 페어링된 판유리(10 및 11)의 주연 전체에 주연 씰재(13)를 도포하고(스텝 S302)(도 4a), 배기컵(17)을 필라멘트(24)가 유리패널(16)의 배기관(15)에 대향하고 배기관(15)과 일정 간격을 유지하도록, 판유리(10) 상에 장착한다(스텝 S303)(도 4b). 그 후, 배기컵(17)이 장착된 판유리(10 및 11)를 노의 내부에서 소성하여 주연씰재(13)를 용융시킨 후, 당해 판유리(10 및 11)를 냉각하여 주연씰재(13)를 응고시키는 것에 의해 판유리(10 및 11)를 봉착한다(스텝 S304)(도 4c). 이것에 의해, 판유리(10 및 11)의 사이에 감압층(12)이 형성되고, 판유리(10, 11), 주연씰재(13) 및 필러(14)의 조합은 유리패널(16)로 되지만, 상술한 처리는 대기중에서 실행되므로, 감압층(12)의 압력은 대기압이다.Next, the periphery seal member 13 is applied to the entire periphery of the paired plate glass 10 and 11 (step S302) (FIG. 4A), and the exhaust cup 17 is connected to the exhaust pipe of the glass panel 16. It mounts on the plate glass 10 so that it may oppose 15 and maintain a fixed space | interval with the exhaust pipe 15 (step S303) (FIG. 4B). Thereafter, the plate glass 10 and 11 on which the exhaust cup 17 is mounted are fired in the furnace to melt the peripheral seal material 13, and then the plate glass 10 and 11 is cooled to cool the peripheral seal material 13. The plate glass 10 and 11 are sealed by solidifying (step S304) (FIG. 4C). Thereby, the pressure-sensitive layer 12 is formed between the plate glass 10 and 11, and the combination of the plate glass 10 and 11, the peripheral sealing material 13, and the filler 14 turns into the glass panel 16, Since the above-mentioned process is performed in air | atmosphere, the pressure of the pressure reduction layer 12 is atmospheric pressure.

다음에, 노안의 온도를 일정시간 유지함으로써 감압층(12)에 존재하는 수분, 유기물, 유지 등을 가스화시키는 동시에 TMP(26)를 가동시켜 상기 가스 및 공기를 감압층(12)에서 배출하는 것에 의해 감압층(12)을 감압하는 베이킹을 행하고(스텝 S305), 감압층(12)의 압력이 소정의 값을 하회하면, 유리패널(16)의 냉각을 개시하는 동시에 필라멘트(24)에 통전하여, 이것을 발열시킨다. 이것에 의해, 필라멘트(24)가 대향하는 배기관(15)의 단부를 용융시켜 감압층(12)을 봉지(封止)한다(스텝 S306)(도 4d).Then, by maintaining the temperature of the presbyopia for a certain time, the water, organic matter, oils and the like present in the pressure reduction layer 12 is gasified and the TMP 26 is operated to discharge the gas and air from the pressure reduction layer 12. When the pressure reduction layer 12 is baked (step S305), when the pressure of the pressure reduction layer 12 is lower than a predetermined value, the cooling of the glass panel 16 is started and the filament 24 is energized. This heats up. Thereby, the end part of the exhaust pipe 15 which the filament 24 opposes is melted, and the pressure reduction layer 12 is sealed (step S306) (FIG. 4D).

도 3의 감압처리에서의 스텝 S304∼S306에서, RP(27)는 항상 가동되고, 차동배기부(21)를 감압하는 것에 의해 배기컵(17)을 판유리(10)에 흡착시킬 뿐만 아니라, 본배기부(18)로의 배기컵(17)의 밖으로부터의 공기의 침입을 방지한다.In steps S304 to S306 in the depressurization process of FIG. 3, the RP 27 is always operated, and the exhaust cup 17 is not only adsorbed to the plate glass 10 by depressurizing the differential exhaust part 21, but also the main ship. Intrusion of air from the outside of the exhaust cup 17 into the base 18 is prevented.

도 5는 도 3의 감압처리의 시간과 온도의 관계를 나타내는 도면이다. 스텝 S301∼S303의 각 공정은 T1까지 실행되고, 스텝 S304의 봉착(封着)은 T1∼T4에서 실행되고, 스텝 S305의 베이킹은 T4∼T5에서 실행되고, 스텝 S306의 냉각·봉지(封止)는 T5∼T6(노내의 서냉)에서 실행된다.FIG. 5 is a diagram illustrating a relationship between time and temperature of the depressurization process of FIG. 3. Each step of steps S301 to S303 is executed up to T1, sealing of step S304 is performed from T1 to T4, baking of step S305 is performed from T4 to T5, and cooling and encapsulation of step S306 ) Is performed at T5 to T6 (slow cooling in the furnace).

즉, T1∼T2에서 노의 내부의 분위기온도를 주연 씰재(13)의 용융온도까지 높이고, T2∼T3에서 상기 용융온도까지 높아진 상기 분위기온도를 유지하고, T3∼T4에서 노의 내부의 분위기온도를 주연씰재(13)의 용융온도를 어느 정도 하회하는 소정의 온도까지 강하시키고, T4∼T5에서 상기 분위기온도를 상기 소정의 온도로 유지하고, T5∼T6에서 상기 분위기온도를 실온까지 서서히 강하시키지만, 분위기온도가 거의 250℃까지 강하한 경우, 필라멘트(24)에 통전하여 감압층(12)을 봉지(封止)한다.That is, the atmosphere temperature inside the furnace is increased from T1 to T2 to the melting temperature of the peripheral sealant 13, the atmosphere temperature increased from T2 to T3 to the melting temperature is maintained, and the atmosphere temperature inside the furnace from T3 to T4. Lowers the melting temperature of the peripheral sealant 13 to a certain temperature, maintains the atmosphere temperature at the predetermined temperature in T4 to T5, and gradually decreases the atmosphere temperature to room temperature in T5 to T6. When the atmospheric temperature drops to almost 250 ° C., the filament 24 is energized to seal the pressure-sensitive layer 12.

도 3의 감압처리에 의하면, 베이킹(스텝 S305) 후, 유리패널(16)의 냉각을 개시하고, 필라멘트(24)가 대향하는 배기관(15)의 단부를 용융시켜 감압층(12)을 봉지(스텝 S306)하므로, 베이킹시의 고온에서 약간 냉각된 만큼의 분위기(거의 250℃의 열에너지를 배기관(15)의 단부의 용융에 이용할 수 있고, 필라멘트(24)의 발열량을 삭감하는 것에 의해, 에너지를 삭감할 수 있고, 배기관(15)의 봉지(封止)를 안정하게 행할 수 있다. 게다가, 유리패널(16)을 냉각하면서 배기관(15)의 봉지(封止)가 가능하므로, 공수(工數)의 삭감도 행할 수 있다.According to the pressure reduction process of FIG. 3, after baking (step S305), cooling of the glass panel 16 is started, the edge part of the exhaust pipe 15 which the filament 24 opposes is melted, and the pressure reduction layer 12 is sealed ( Step S306), so that the atmosphere (nearly 250 ° C. of heat energy can be used for melting of the end of the exhaust pipe 15 can be used as it is slightly cooled at a high temperature at the time of baking, and energy is reduced by reducing the amount of heat generated by the filament 24. It is possible to reduce and stably seal the exhaust pipe 15. Furthermore, since the exhaust pipe 15 can be encapsulated while the glass panel 16 is cooled, the air supply can be reduced. ) Can also be reduced.

여기서, T5∼T6에서, 배기관(15)의 봉지를 안정하게 행하는 이유는 필라멘트(24)가 배기관(15)의 단부에 가해지는 열에너지가 작아지기 때문이고, 예를 들어 가해지는 열에너지가 떨어졌다고 하여도, 그 떨어지는 절대량이 작기때문이라고 추찰된다. 따라서, 예를 들면, 필라멘트(24)에 공급되는 전압이나 전류가 변동하여도 안정하게 배기관(15)의 봉지를 행할 수 있다.Here, in T5 to T6, the reason why the sealing of the exhaust pipe 15 is performed stably is because the thermal energy applied to the end of the exhaust pipe 15 becomes smaller, for example, that the thermal energy applied is lowered. It is also inferred that the falling absolute amount is small. Therefore, for example, even if the voltage or current supplied to the filament 24 fluctuates, the exhaust pipe 15 can be sealed stably.

도 3의 감압처리에서, 유리패널(16)을 PDP로 사용하는 경우에도, 유리패널(16)이 배기관(15)을 복수 가지고 있는 경우, 감압처리장치(25)는 하나의 배기관(15)을 통하여 감압층(12)에 존재하는 기체를 배출하고, 타 배기관(15)을 통하여 감압층(12)으로 가스(예를 들면, 크세논 등의 희유 가스)를 도입하여도 좋고, 이것에 의해, 가스의 충전 효율을 향상시킬 수 있다. 또 유리패널(16)이 배기관(15)을 하나만 가지는 경우, 배기관(15)을 통하여 감압층(12)을 감압한 후에, 배기관(15)을 통하여 감압층(12)에 가스를 도입하여도 좋고, 이것에 의해, 감압과 가스 층전을 연속하여 행할 수 있고, 작업효율을 행할 수 있다. 이 때, 가스가 도입된 감압층(12)은 가스 도입층을 형성한다.In the depressurization process of FIG. 3, even when the glass panel 16 is used as the PDP, when the glass panel 16 has a plurality of exhaust pipes 15, the pressure reduction processing device 25 is configured to provide one exhaust pipe 15. The gas which exists in the pressure reduction layer 12 may be discharged | emitted, and gas (for example, rare gas, such as xenon) may be introduce | transduced into the pressure reduction layer 12 through the other exhaust pipe 15, and, thereby, gas It is possible to improve the charging efficiency. In addition, when the glass panel 16 has only one exhaust pipe 15, after depressurizing the pressure reducing layer 12 through the exhaust pipe 15, gas may be introduced into the pressure reducing layer 12 through the exhaust pipe 15. As a result, the reduced pressure and the gas layer can be continuously performed, and work efficiency can be performed. At this time, the pressure reduction layer 12 into which gas was introduced forms a gas introduction layer.

감압처리장치(25)에 의하면, 0∼500℃의 사이에서 판유리(10)의 팽창계수와 배기컵(17)의 구성재료의 팽창계수의 차의 절대값이 20×10-6/℃ 이하이므로, 도 3의 감압처리의 사이, 판유리(10)에 대한 배기컵(17)의 상대적인 움직임을 방지할 수 있고, 판유리(10)과 배기컵(17)의 사이에 틈이 생기지 않고, 감압층(12)의 진공도의 저하를 방지할 수 있다.According to the pressure reduction processing apparatus 25, since the absolute value of the difference between the expansion coefficient of the plate glass 10 and the expansion coefficient of the constituent material of the exhaust cup 17 is 0x10 <-6> / degrees C or less between 0-500 degreeC. 3, the relative movement of the exhaust cup 17 with respect to the plate glass 10 can be prevented during the decompression treatment of FIG. 3, and a gap is not formed between the plate glass 10 and the exhaust cup 17, and the pressure reducing layer ( The fall of the vacuum degree of 12) can be prevented.

상술한 바와 같이, 도 3의 감압처리장치에서의 스텝 S304∼S306에서, 배기컵(17)을 판유리(10)에 흡착시키기 위해, RP(27)는 차동배기부(21)을 감압하지만, 특히 유리패널(16)의 봉착(스텝 S304)에서, RP(27)가 차동배기부(21)와 본배기부(18) 사이에서의 판유리(10) 및 배기컵(17)의 미소한 틈을 통하여 본배기부(18)을 감압하는 것이 있고, 그 결과, 감압층(12)이 감압되기 때문에, 용융한 주연씰재(13)가 감압층(12)으로 약 20mm 정도 끌어들여지는 문제가 있다.As described above, in steps S304 to S306 in the depressurization processing apparatus of FIG. 3, the RP 27 depressurizes the differential exhaust portion 21 in order to adsorb the exhaust cup 17 to the plate glass 10. In the sealing of the glass panel 16 (step S304), the RP 27 is delivered through a minute gap between the plate glass 10 and the exhaust cup 17 between the differential exhaust portion 21 and the main exhaust portion 18. There is a problem in that the base 18 is reduced in pressure, and as a result, the pressure-sensitive layer 12 is depressurized, so that the molten peripheral seal material 13 is drawn into the pressure-sensitive layer 12 by about 20 mm.

그러나, 감압처리장치(25)에 의하면, 본배기계(20)는 대기개방밸브(32)를 가지므로, RP(27)가 차동배기부(21)를 감압하고 있어도, 대기개방밸브(32)를 개방하는 것에 의해 본배기부(18)를 대기압으로 유지할 수 있고, 감압층(12)이 감압되는 일이 없고, 용융한 주연씰재(13)를 감압층(12)에 끌어들이는 것을 억제할 수 있다. 대기개방밸브(32)를 개방한 경우, 유리패널(16)의 봉착 후의 주연씰재(13)의 감압층(12)으로의 침입량은 6∼7 mm 정도이다.However, according to the decompression processing apparatus 25, since the main exhaust machine 20 has the atmospheric release valve 32, even if the RP 27 is depressurizing the differential exhaust portion 21, the atmospheric release valve 32 is kept. By opening, the main exhaust part 18 can be maintained at atmospheric pressure, and the pressure reduction layer 12 is not reduced in pressure, and it can be suppressed that the molten peripheral seal material 13 is attracted to the pressure reduction layer 12. . When the air release valve 32 is opened, the amount of penetration of the peripheral sealant 13 into the pressure-sensitive layer 12 after the glass panel 16 is sealed is about 6 to 7 mm.

또, 도 3의 감압처리에서는, 판유리(10 및 11)를 봉착한 때(스텝 S304), 감압층(12)의 감압은 대기압이고, 그 후, 베이킹(스텝 S305)에서 감압층(12)의 감압을 개시하면, 본배기부(18)는 거의 진공상태에 곧바로 도달하지만, 감압층(12)은 배기관(15)의 관로저항에 의해, 대기압으로 유지된다. 따라서, 베이킹의 초기에서 판유리(10)에서의 배기컵(17)이 장착되는 부분, 특히, 본배기부(18)에 대향하는 부분에는 본배기부(18)의 부압에 의해 굽힘응력(배기장치가 장착되는 판유리의 부분에서 발생하는 응력)이 발생한다. 이 때, 당해 굽힘응력이 판유리(10)의 단기허용응력 이하로 되는 유리패널(16)을 이용하는 것이 바람직하고, 이것에 의해, 판유리(10)의 클럭의 발생을 방지할 수 있다. 특히, 본배기부(18)의 개구부의 지름인 φ38mm의 범위에서, 부압으로서 대기압의 절대치 상당 압력이 부하된때, 판유리(10)에 발생하는 굽힘응력이 판유리(10)의 단기허용응력 이하인 것이 바람직하다.In addition, in the pressure reduction process of FIG. 3, when the plate glass 10 and 11 are sealed (step S304), the pressure reduction of the pressure reduction layer 12 is atmospheric pressure, Then, baking (step S305) of the pressure reduction layer 12 is carried out. When the depressurization is started, the main exhaust part 18 immediately reaches almost the vacuum state, but the decompression layer 12 is maintained at atmospheric pressure by the pipe resistance of the exhaust pipe 15. Therefore, the bending stress (exhaust device is mounted) by the negative pressure of the main exhaust portion 18 in the portion where the exhaust cup 17 is mounted in the plate glass 10, particularly the portion opposite to the main exhaust portion 18 at the beginning of baking. Stresses occurring in the part of the pane that is to be generated. At this time, it is preferable to use the glass panel 16 whose bending stress becomes below the short-term allowable stress of the plate glass 10, and it can prevent generation | occurrence | production of the clock of the plate glass 10 by this. In particular, in the range of 38 mm, the diameter of the opening of the main exhaust portion 18, when the absolute equivalent pressure of atmospheric pressure is loaded as the negative pressure, the bending stress generated in the plate glass 10 is preferably shorter than the short-term allowable stress of the plate glass 10. Do.

또한, 도 3의 감압처리에서, 배기컵(17)은 스테인레스제이고, 본배기계(20) 및 차동배기계(23)는 금속제이므로, 고운분위기에 견딜 수 있고, 유리패널(16)의 봉착(스텝 S303)으로부터 베이킹(스텝 S304)에 걸쳐, 유리패널(16)에 배기컵(17), 본배기계(20), 및 차동배기계(23)를 장착한 채로 처리할 수 있고, 공수(工數)를 삭감할 수 있고, 배기컵(17), 본배기계(20), 및 차동배기계(23)의 탈착을 위해 유리패널(16)을 냉각할 필요가 있으므로, 에너지의 삭감도 할 수 있다. 다만, 배기컵(17), 본배기계(20) 및 차동배기계(23)는 금속으로만 되는 것에 한하지 않고, 금속 및 세라믹의 조합으로 되는 것이어도 좋다.In addition, in the depressurization process of FIG. 3, since the exhaust cup 17 is made of stainless steel, and the main exhaust machine 20 and the differential exhaust machine 23 are made of metal, it can withstand a fine atmosphere, and the sealing of the glass panel 16 (step) is carried out. From S303) to baking (step S304), the glass panel 16 can be treated with the exhaust cup 17, the main exhaust machine 20, and the differential exhaust machine 23 attached thereto, and the air transport is carried out. Since the glass panel 16 needs to be cooled for removal of the exhaust cup 17, the main exhaust machine 20, and the differential exhaust machine 23, the energy can be reduced. However, the exhaust cup 17, the main exhaust machine 20, and the differential exhaust machine 23 are not limited to metal but may be a combination of metal and ceramic.

감압처리장치(25)에 의하면, 배기컵(17)은 소둔처리가 시행되므로, 배기컵(17)의 용접가공시에 생기는 가공비틀림을 제거할 수 있고, 유리패널(16)의 봉착(스텝 S304)이나 베이킹(스텝 S305)에서, 배기컵(17)에 열비틀림이 발생하여도, 배기컵(17)이 변형하지 않는다. 그 결과, 판유리(10)와 배기컵(17)과의 사이에 틈이 생기는 일이 없고, 감압층(12)의 진공도의 저하를 확실하게 방지할 수 있다. 또, 배기컵(17)은 진공중에서 처리되므로, 그 표면이 산화하는 일이 없고, 소둔처리후의 본배기계(20)나 차동배기계(23)의 용접을 용이하게 행할 수 있다.According to the pressure reduction processing apparatus 25, since the annealing process of the exhaust cup 17 is performed, the process twist which arises at the time of the welding process of the exhaust cup 17 can be removed, and the sealing of the glass panel 16 is carried out (step S304). ) And baking (step S305), even if heat distortion occurs in the exhaust cup 17, the exhaust cup 17 does not deform. As a result, a gap does not arise between the plate glass 10 and the exhaust cup 17, and the fall of the vacuum degree of the pressure reduction layer 12 can be prevented reliably. In addition, since the exhaust cup 17 is processed in a vacuum, the surface thereof does not oxidize, and welding of the main exhaust machine 20 and the differential exhaust machine 23 after the annealing process can be easily performed.

도 6은 도 2의 감압처리장치(25)에서의 전기회로의 개략구성을 나타낸 도면이다.FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of an electric circuit in the pressure reduction processing apparatus 25 of FIG. 2.

도 6에서, 전원(70)은 정전류장치(71)(전류공급장치)에 접속되고, 정전류장치(71)는 복수의 분기배선(72, 73, 74)을 가지고, 복수의 분기배선(72, 73, 74)의 각각은 대응하는 배기컵(17)에서의 필라멘트(24)로 접속되고, 각 필라멘트(24)는 본배기계(20)를이용하는 복귀회로(75)는 감압처리장치(25)가 가지는 상면(床面)(76)으로 접속되고, 상면(76)은 어스선(77)을 통하여 어스된다. 상면은 감압처리장치(25)의 구성부품이지만, 상술한 노의 상면(床面)도 겸한다. 따라서 필라멘트(24)는 노내에 수용되지만, 정전류장치(71) 및 노 밖에 배치된다. 또, 분기배선(72, 73, 74)을 노내 부분과 노외 부분으로 구획하는 전류도입단자(78)는 노외 그리고 상면(76)으로부터 소정의 거리만큼 떨어진 위치에 설치된다. 또, 분기배선(72, 73, 74)의 각각은 대응하는 배기컵(17)의 본배기계(20)에 수용된다.정정류장치(71)는 분기배선(72, 73, 74)의 각각에 일정의 전류를 공급할 뿐만 아니라, 분기배선(72, 73, 74)으로의 전류의 공급의 순서를 제어하고, 분기배선(72, 73, 74)으로 순차 전류를 공급한다.In Fig. 6, the power supply 70 is connected to a constant current device 71 (current supply device), and the constant current device 71 has a plurality of branch wirings 72, 73, 74, and a plurality of branch wirings 72, Each of the 73 and 74 is connected to the filament 24 in the corresponding exhaust cup 17, and each of the filaments 24 is connected to the return circuit 75 using the main exhaust machine 20. The branches are connected to an upper surface 76, and the upper surface 76 is earthed through an earth line 77. The upper surface is a component of the pressure reduction processing device 25, but also serves as the upper surface of the furnace described above. Thus, the filament 24 is housed in the furnace, but is disposed outside the constant current device 71 and the furnace. In addition, the current introduction terminals 78 for dividing the branch wirings 72, 73, and 74 into the furnace part and the furnace part are provided at positions away from the furnace and the upper surface 76 by a predetermined distance. Further, each of the branch wirings 72, 73, 74 is housed in the main distribution machine 20 of the corresponding exhaust cup 17. The rectifier 71 is provided in each of the branch wirings 72, 73, 74. In addition to supplying a constant current, the order of supply of current to the branch wirings 72, 73, and 74 is controlled, and the current is sequentially supplied to the branch wirings 72, 73, and 74.

필라멘트(24)의 발열량을 제어하기 위해서는 통상 필라멘트(24)에 부하되는 전압을 제어하면 된다. 그러나, 각 필라멘트(24)에 접속되는 분기배선(72, 73, 74)의 길이는 각각 다르므로, 분기배선(72, 73, 74)의 회로저항(r1, r2, r3)는 각각 다른 값으로 되고, 전원(70)을 공유하는 경우, 각 필라멘트(24)에 부하되는 전압을 동일하게 하는 것은 곤란하고, 전압을 부하하는 피라멘트(24)를 변경하는 때에 회로저항을 고려하여 전압의 조정을 행할 필요가 있다.In order to control the amount of heat generated by the filament 24, the voltage which is normally loaded on the filament 24 may be controlled. However, since the lengths of the branch wirings 72, 73, and 74 connected to the filaments 24 are different, the circuit resistances r1, r2, and r3 of the branch wirings 72, 73, and 74 have different values. In the case of sharing the power source 70, it is difficult to equalize the voltages to be loaded on the filaments 24, and the voltage is adjusted in consideration of the circuit resistance when changing the filament 24 to load the voltages. It must be done.

감압처리장치(25)에 의하면, 정전류장치(71)가 필라멘트(24)에 일정의 전류를 공급하므로, 분기배선(72, 73, 74)의 회로저항(r1, r2, r3)을 고려할 필요가 없고, 도 필라멘트(24)의 발열량을 용이하게 제어할 수 있다.According to the pressure reduction processing device 25, since the constant current device 71 supplies a constant current to the filament 24, it is necessary to consider the circuit resistances r1, r2, r3 of the branch wirings 72, 73, 74. The amount of heat generated by the filament 24 can be easily controlled.

또, 통상, 전류도입단자(78)은 구성재로로서 세라믹으로 되고, 분기배선(72, 73, 74)의 각각에 대응하여 설치된 관통공을 가진다. 관통공에 분기배선을 통한 때에 발생하는 관통공의 벽과 분기배선과의 틈에는 여재가 충전되지만, 여재를 노내의 고온분위기에 직접 폭로하는 여재가 산화하는 문제가 있다. In general, the current introduction terminal 78 is made of ceramic as a constituent material and has through holes provided corresponding to the branch wirings 72, 73, and 74, respectively. Although the filter medium is filled in the gap between the wall of the through hole and the branch wiring generated when the through hole is branched, there is a problem in that the filter medium which directly exposes the filter to the high temperature atmosphere in the furnace is oxidized.

감압처리장치(25)에 의하면, 노외 그리고 상면(76)으로부터 소정의 거리만큼 떨어진 위치에 설치되므로, 전류도입단자(78)에서 사용되는 여재가 고온분위기에 폭로되는 일이 없고, 여재의 산화를 방지할 수 있고, 또 전류도입단자(78)의 내구성을 향상시킬 수 있다.According to the pressure reduction processing apparatus 25, since it is installed outside the furnace and at a predetermined distance from the upper surface 76, the media used in the current introduction terminal 78 are not exposed to the high temperature atmosphere, and oxidation of the media is prevented. The durability of the current introduction terminal 78 can be improved.

또, 분기배선(72, 73, 74)의 각각은 대응하는 배기컵(17)의 본배기계(20)에 수용되므로, 노내의 구성을 간소한 것으로 할 수 있다.Moreover, since each of the branch wirings 72, 73 and 74 is accommodated in the main exhaust machine 20 of the corresponding exhaust cup 17, the structure of the furnace can be simplified.

더욱이, 감압처리장치(25)에 의하면, 정전류장치(71)는 분기배선(72, 73, 74)으로의 전류의 공급의 순서를 제어하고, 분기배선(72, 73, 74)으로 순차 전류를 공급하므로, 필라멘트(24)의 수에 일대일로 대응한 수의 전원(70)을 구비할 필요가 없고, 감압처리장치(25)의 비용을 삭감하고, 감압처리장치(25)의 크기를 축소할 수 있다.Further, according to the pressure reduction processing device 25, the constant current device 71 controls the order of supply of current to the branch wirings 72, 73 and 74, and sequentially transfers the current to the branch wirings 72, 73 and 74. Since it is supplied, it is not necessary to provide the power supply 70 of the number corresponding to the number of filaments 24 one-to-one, and the cost of the pressure reduction processing apparatus 25 can be reduced, and the size of the pressure reduction processing apparatus 25 can be reduced. Can be.

또, 도 6에서, 전원(70)에는 3개의 필라멘트(24)가 접속되지만, 접속되는 필라멘트(24)의 수는 이것에 한하지 않고, 예를 들면 전원(70)에 15개의 필라멘트(24)가 접속되어도 좋고, 감압처리장치(25)가 가지는 전원(70)의 수도 한개에 한하지 않고, 복수, 예를 들면 4개여도 좋다.전원(70)을 늘리는 것에 의해 하나의 전원(7)이 전류를 공급하는 필라멘트(24)의 수를 삭감할 수 있고, 또 봉지(封止)에 요하는 시간을 저감할 수 있다.In FIG. 6, three filaments 24 are connected to the power supply 70, but the number of filaments 24 to be connected is not limited thereto, and for example, the fifteen filaments 24 are connected to the power supply 70. May be connected, and the number of the power sources 70 included in the pressure reduction processing device 25 may not only be one, but may also be a plurality of, for example, four. The number of filaments 24 which supply electric current can be reduced, and the time required for sealing can be reduced.

도 7은 도 2의 감압처리장치(25)의 개략구성을 나타내는 사시도이다.7 is a perspective view showing a schematic configuration of the pressure reduction processing apparatus 25 of FIG. 2.

도 7에서, 감압처리장치(25)는 상면(76)을 가지는 기부(80)와, 기부(80)에서의 상면(76)의 단부 근방에 배설된 4개의 배기탑(81)과, 유리패널(16)을 적층하여 적재가능한 랙(미도시)을 구비하고 있다.In Fig. 7, the pressure reduction processing device 25 includes a base 80 having an upper surface 76, four exhaust towers 81 disposed near the end of the upper surface 76 of the base 80, and a glass panel. A rack (not shown) which can stack and stack 16 is provided.

또, 노는 그 내부를 승온, 강온시키기 위한 순환공기를 공급하는 공급구를 가지지만, 감압처리장치(25)는 공급구에 대향하는 위치에서 배기탑(81)에 지지된 펀칭메탈로 되는 정류판(82)을 구비한다. The furnace also has a supply port for supplying circulating air for raising and lowering the inside thereof, but the depressurization treatment device 25 is a rectifying plate made of a punching metal supported by the exhaust tower 81 at a position facing the supply port. And (82).

배기탑(81)의 각각에는 군을 이루는 복수의 배기컵(17)이 본배기계(20) 및 차동배기계(23)를 통해서 접속되고, 이들 복수의 배기컵(17)은 본배기계(20) 및 차동배기계(23)가 플렉시블 튜브 구조를 가지므로, 기부(80)의 네귀퉁이의 각각에 대응한 위치(복수의 위치)까지 이동가능하다.A plurality of exhaust cups 17 forming a group are connected to each of the exhaust towers 81 through the main exhaust machine 20 and the differential exhaust system 23, and the plurality of exhaust cups 17 are connected to the main exhaust machine 20 and the main exhaust machine 17. Since the differential exhaust machine 23 has a flexible tube structure, the differential exhaust machine 23 is movable to a position (plural positions) corresponding to each of the four corners of the base 80.

종래, 노의 공급구에서 공급된 환경공기는 공급구에 대응한 위치에 적재된 유리패널(16)에만 취부(吹付)되므로, 공급구에 대응한 위치에 적재된 유리패널(16)만 봉착(封着), 베이킹이 적절하게 행해지고, 공급구로부터 떨어진 위치에 적재된 유리패널(16)은 봉착, 베이킹이 적절하게 행해지지 않는 문제가 있다.Conventionally, since the environmental air supplied from the supply port of the furnace is mounted only on the glass panel 16 loaded at the position corresponding to the supply port, only the glass panel 16 loaded at the position corresponding to the supply port is sealed ( ) 着) Baking is performed suitably, and the glass panel 16 mounted in the position away from a supply port has a problem that sealing and baking are not performed properly.

그러나, 감압처리장치(25)에 의하면, 공급구에 대향하는 위치에서 순환공기를 정류하는 정류판(82)을 구비하므로, 공급구에 대향한 위치에서 처리되는 유리패널(16)만에 순환공기가 취부(吹付)되는 일이 없고, 노내의 전체의 유리패널(16)에 거의 균일하게 순환공기를 취부할 수 있고, 전체 유리패널(16)에 봉착, 베이킹을적절하게 행할 수 있다. 또, 정류판(82)으로는 상술한 펀칭메탈에 한하는 것이 아니고, 슬릿이 설치된 평판이나 망 등이라도 좋다.However, according to the pressure reduction processing apparatus 25, since it has the rectifying plate 82 which rectifies circulation air in the position which opposes a supply port, the circulation air only in the glass panel 16 processed in the position which opposes a supply port. It is possible to mount the circulating air almost uniformly on the entire glass panel 16 in the furnace, and to seal and bake the entire glass panel 16 properly. The rectifying plate 82 is not limited to the punching metal described above, but may be a flat plate or a net provided with slits.

또, 감압처리장치에 의하면, 군을 이루는 복수의 배기컵(17)은 기부(80)의 네귀퉁이의 각각에 대응한 위치까지 이동가능하므로, 복수의 유리패널(16)의 배치를 자유로이 행할 수 있고, 랙의 겹쳐 쌓음에 지장이 되지 않고, 작업효율을 향상시킬 수 있다.Moreover, according to the pressure reduction processing apparatus, since the some exhaust cup 17 which comprises a group can move to the position corresponding to each of the four corners of the base 80, the several glass panel 16 can be arrange | positioned freely. It does not interfere with stacking of racks, and can improve work efficiency.

상술한 감압처리장치(25)는 복수의 유리패널(16)을 배치처리하는 구성이지만, 배기컵(17), 본배기계(20), 차동배기계(23), RP(27), TMP(26) 및 전원(70)을 하나씩 구비하고, 1장의 유리패널(16)에 대하여 하나의 감압처리장치(25)가 대응하는 구성으로 하여도 좋고, 이것에 의해, 유리패널(16)을 개별로 감압처리할 수 있으므로, 상술한 배치처리가 아니라, 연속처리(연속프로세스)가 가능하게 된다.Although the above-mentioned pressure reduction processing apparatus 25 is the structure which batch-processes the some glass panel 16, the exhaust cup 17, the main exhaust machine 20, the differential exhaust machine 23, the RP27, and the TMP 26 And a power source 70, and one pressure reduction processing unit 25 may be configured to correspond to one glass panel 16. As a result, the glass panels 16 are individually reduced in pressure. Therefore, the continuous processing (continuous process) is possible instead of the batch processing described above.

또, 유리패널(16)에서의 감압층(12)의 진공도는 임의이고, 완전 진공에서도, 가스가 도입되는 것에 기인하는 저진공이어도 좋다. 예를 들면, 당해 유리패널(16)을 PDP에 이용하는 때에는 가스도입층인 감압층(12)의 진공도가 약 100 Torr 에서 600 Torr, 바람직하게는 450 Torr인 것이 좋고, 이것에 의해 유리패널(16)을 PDP 등에 바람직하게 이용할 수 있다.Moreover, the vacuum degree of the pressure reduction layer 12 in the glass panel 16 may be arbitrary, and even low vacuum may be sufficient because a gas is introduce | transduced even in full vacuum. For example, when the glass panel 16 is used for a PDP, the vacuum degree of the pressure reduction layer 12 which is a gas introduction layer is preferably about 100 Torr to 600 Torr, preferably 450 Torr, whereby the glass panel 16 ) Can be preferably used for PDP and the like.

이상, 상세하게 설명한 바와 같이, 본 발명의 유리패널 및 감압처리장치에 의하면, 판유리의 팽창계수와 배기장치의 구성재료의 팽창계수와의 차의 절대값이 소정값 이하이므로, 판유리에 대한 배기장치의 상대적인 움직임을 방지할 수 있고, 판유리와 배기장치와의 사이에 틈이 생기지 않고, 층상공간의 진공도의 저하를 방지할 수 있다.As described above in detail, according to the glass panel and the decompression processing apparatus of the present invention, since the absolute value of the difference between the expansion coefficient of the plate glass and the expansion coefficient of the constituent material of the exhaust device is less than or equal to the predetermined value, the exhaust device for the plate glass. It is possible to prevent the relative movement of the glass plate and to prevent the gap between the plate glass and the exhaust device from occurring and to reduce the vacuum degree of the layered space.

본 발명의 유리패널에 의하면, 층상공간은 기체의 배출후에 가스가 도입되는 가스도입층이므로, 당해 유리패널을 PDP 등에 바람직하게 사용할 수 있다.According to the glass panel of this invention, since a layered space is a gas introduction layer into which gas is introduce | transduced after gas discharge | emission, this glass panel can be used suitably for PDP etc.

본 발명의 유리패널 및 감압처리장치에 의하면, 소정값은 20×10-6/℃이므로, 층상공간의 진공도의 저하를 보다 더 방지할 수 있다.According to the glass panel and the pressure reduction processing apparatus of the present invention, since the predetermined value is 20 × 10 −6 / ° C., the lowering of the degree of vacuum in the layered space can be further prevented.

본 발명의 유리패널 및 감압처리장치에 의하면, 층상공간에 존재하는 기체를 배출하는 때에, 배기장치가 장착되는 판유리의 부분에서 발생하는 응력이 판유리의 단기허용응력 이하이므로, 판유리의 크랙의 발생을 방지할 수 있다.According to the glass panel and the pressure reduction processing apparatus of the present invention, when the gas existing in the layered space is discharged, the stress generated in the portion of the plate glass on which the exhaust device is mounted is less than the short-term allowable stress of the plate glass, so that the cracks of the plate glass are prevented. You can prevent it.

본 발명의 유리패널에 의하면, 판유리의 단부로부터 5∼100mm의 범위내에 배설되고 층상공간과 외부를 연통하는 연통부를 구비하므로, 판유리에서의 연통부의 근방의 단부에서 응력이 당해 단부에 집중하는 일이 없고, 판유리의 파손을 방지하는 것이 가능하고, 배기장치를 장착하여 감압층을 감압할 수 있고, 작업효율을 향상시킬 수 있다.According to the glass panel of this invention, since it has a communication part arrange | positioned within the range of 5-100 mm from the edge part of a plate glass, and communicates with a layered space, the stress concentrates on the said end part in the vicinity of the communication part in plate glass. It is possible to prevent breakage of the plate glass, to equip the exhaust device to reduce the pressure reduction layer, and to improve the working efficiency.

본 발명의 유리패널 및 감압처리장치에 의하면, 판유리와의 접촉면에서 개구하는 홈을 가지며, 그 홈의 단면적은 0.5㎟ 이상이므로, 그 홈내를 용이하게 감압할 수 있다.According to the glass panel and the pressure reduction processing apparatus of this invention, it has the groove | channel opened at the contact surface with plate glass, and since the cross-sectional area of the groove | channel is 0.5 mm <2> or more, the inside of this groove can be easily depressurized.

본 발명의 유리패널에 의하면, 연통부는 유리패널이 표시장치로서 이용될 때, 표시장치의 이면에 상당하는 면에 설치되므로, 표시장치의 표면을 평활하게 할 수 있고, 당해 표시장치의 의장성을 향상시킬 수 있다.According to the glass panel of the present invention, when the glass panel is used as the display device, the communicating portion is provided on the surface corresponding to the back side of the display device, so that the surface of the display device can be smoothed and the designability of the display device can be achieved. Can be improved.

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 판유리는 층상공간과 외부를 연통하는 연통부를 갖고, 배기장치는 판유리와의 접촉면에서 개구하는 동시에 연통부를 수용하는 밀봉실을 가지고, 접촉면에서의 밀봉실 둘레의 씰부의 적어도 1부는 그 폭이 5mm이므로, 유리패널에서의 연통관의 배치를 자유롭게 행할 수 있다.According to the pressure reduction processing apparatus of this invention, the plate glass has a communication part which communicates with a layered space and the outside, and the exhaust apparatus has the sealing chamber which opens at the contact surface with a plate glass and accommodates a communication part, and seals around the sealing chamber at a contact surface Since at least one part of the part has a width of 5 mm, it is possible to freely arrange the communicating tube in the glass panel.

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 판유리는 층상공간과 외부를 연통하는 연통부를 가지고, 배기장치는 판유리와의 접촉면에서 연통부를 수용하는 밀봉실 및 그 밀봉실을 둘러싸는 홈모양의 타 밀봉실을 가지므로, 층상공간에 존재하는 기체를 배출하는 때에, 배기장치의 외부로부터 밀봉실로의 공기의 침입을 방지할 수 있고, 층상공간의 진공도의 저하를 효율적으로 방지할 수 있다.According to the pressure reduction processing apparatus of this invention, the plate glass has a communication part which communicates with a layered space and the outside, and the exhaust apparatus has the sealing chamber which accommodates a communication part in the contact surface with plate glass, and the other sealing chamber of the groove shape surrounding the sealing chamber. Therefore, when the gas existing in the layered space is discharged, intrusion of air into the sealed chamber from the outside of the exhaust device can be prevented, and a decrease in the degree of vacuum in the layered space can be effectively prevented.

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 배기장치, 감압계통, 및 타 감압계통의 구성재료는 금속 또는 금속과 세라믹의 조합으로 된 것이므로, 유리패널을 고온분위기에서 복수회 처리하는 때에, 배기장치, 감압계통, 및 타 감압계통을 장착한 채로 처리할 수 있고, 공수(工數)를 삭감할 수 있는 동시에 배기장치, 감압계통, 및 다른 감압계통의 탈착을 위해 유리패널을 냉각할 필요가 없으므로, 에너지의 삭감도 가능하다.According to the depressurization treatment apparatus of the present invention, since the exhaust device, the decompression system, and the components of the other decompression system are made of metal or a combination of metal and ceramic, the exhaust device, depressurization when the glass panel is processed multiple times in a high temperature atmosphere. The system can be equipped with a system and other decompression systems, which can reduce air flow and cool the glass panels for desorption of the exhaust system, decompression system and other decompression systems. Reduction of is possible, too.

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 감압계통은 대기개방밸브를 가지므로, 유리패널의 주연에 도포된 봉착재를 용융하는 때에, 타 밀봉실을 감압하여도, 밀봉실이 감압되는 일이 없고, 이것에 의해 용융한 봉착재가 층상공간에 침입하는 것을 방지할 수 있다.According to the pressure reduction processing apparatus of the present invention, since the pressure reduction system has an air release valve, the sealing chamber is not depressurized even when the other sealing chamber is depressurized when the sealing material applied to the periphery of the glass panel is melted. This can prevent the molten sealing material from intruding into the layered space.

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 타 감압계통은 타 밀봉실 및 타 감압펌프 사이에 배설된 진공계와, 타 감압펌프 근방에 배설된 타 진공계를 가지므로, 타 밀봉실로의 공기의 침입이 있는 때에, 곧바로 이상이 감지될 수 있다.According to the pressure reduction processing apparatus of the present invention, the other pressure reducing system has a vacuum system disposed between the other sealing chamber and the other pressure reducing pump and another vacuum system disposed near the other pressure reducing pump, so that when there is air intrusion into the other sealing chamber, , Anomalies can be detected immediately.

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 배기장치는 소둔처리가 행해지므로, 배기장치의 용접가공시에 생기는 가공비틀림을 제거할 수 있고, 유리패널이 고온분위기엣 처리되는 경우, 판유리와 배기장치 사이에 틈이 생기는 일이 없고, 층상공간의 진공도의 저하를 확실하게 방지할 수 있다.According to the pressure reduction processing apparatus of the present invention, since the exhaust apparatus is subjected to annealing treatment, it is possible to eliminate the processing distortion generated during the welding processing of the exhaust apparatus, and when the glass panel is subjected to the high temperature atmosphere, A gap does not arise and the fall of the vacuum degree of a layered space can be prevented reliably.

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 배기장치는 연통부에 대향하고 그 연통부와 소정의 간격을 유지하여 배설된 발열체를 밀봉실에 가지므로, 연통부의 위치에 주의를 기울이지 않고, 배기장치를 장착할 수 있고, 작업효율을 향상시킬 수 있다.According to the pressure reduction processing apparatus of the present invention, since the exhaust device has a heating element disposed in the sealing chamber facing the communication portion and maintained at a predetermined distance from the communication portion, the exhaust device is mounted without paying attention to the position of the communication portion. Can improve the working efficiency.

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 발열체의 연통부로의 대향면적이 연통부의 발열체로의 대향면적의 3배 이상이므로, 연통부의 위치에 주의를 기울이지 않고 배기장치를 장착하여도 확실하게 발열체를 연통부에 대향시킬 수 있다.According to the pressure reduction processing apparatus of the present invention, since the opposing area of the heating element to the communicating portion is three times or more of the opposing area to the heating element of the communicating portion, the heating element can be reliably communicated even if the exhaust device is mounted without paying attention to the position of the communicating portion. Can be opposed to

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 발열체에는 정전류장치에 의해 정전류를 공급하므로, 정전류장치로부터 발열체까지의 배선에서의 회로저항을 고려할 필요가 없게 할 수 있고, 발열체의 발열량을 용이하게 제어할 수 있다.According to the pressure reduction processing apparatus of the present invention, since the constant current is supplied to the heating element by the constant current device, it is not necessary to consider the circuit resistance in the wiring from the constant current device to the heating element, and the amount of heat generated by the heating element can be easily controlled. .

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 발열체와 정전류장치를 접속하는 전류도입단자는 노의 밖에 설치되므로, 전류도입단자는 노내의 고온분위기에 폭로되는 일이 없고, 전류도입단자에 사용되는 여재의 산화를 방지할 수 있고, 전류도입단자의 내구성을 향상시킬 수 있다.According to the pressure reduction processing apparatus of the present invention, since the current introduction terminal connecting the heating element and the constant current device is provided outside the furnace, the current introduction terminal is not exposed to the high temperature atmosphere in the furnace and oxidation of the media used in the current introduction terminal is performed. Can be prevented and the durability of the current introduction terminal can be improved.

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 배기장치를 복수 가지고, 그 복수의 배기장치에서의 발열체의 각각에 순차 전류를 공급하는 전류공급장치를 구비하므로, 발열체의 수에 일대일로 대응한 수의 전류공급장치를 구비할 필요가 없고, 또 감압처리장치의 코스트를 삭감하고, 감압처리장치의 크기를 축소할 수 있다.According to the depressurizing apparatus of the present invention, since a plurality of exhaust devices are provided and a current supply device is provided to sequentially supply current to each of the heating elements in the plurality of exhaust devices, the number of current supplies in a one-to-one correspondence to the number of heating elements is provided. It is not necessary to provide an apparatus, and the cost of the pressure reduction processing apparatus can be reduced, and the size of the pressure reduction processing apparatus can be reduced.

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 노는 순환공기의 공급구를 가지고, 그 공급구에 대향하는 위치에서 순환공기를 정류하는 정류판을 가지므로, 공급구에 대향한 위치에서 처리되는 유리패널만이 고온분위기에 노출되는 일이 없고, 노내의 유리패널의 모두를 대개 균일하게 고온분위기에 노출될 수 있고, 유리패널의 품질을 안정시킬 수 있다.According to the depressurizing apparatus of the present invention, the furnace has a supply port for circulating air and a rectifying plate for rectifying the circulating air at a position opposite to the supply port, so that only the glass panel treated at the position facing the supply port is used. It is not exposed to a high temperature atmosphere, all of the glass panels in a furnace can be generally exposed to a high temperature atmosphere uniformly, and the quality of a glass panel can be stabilized.

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 군을 이루는 복수의 배기장치가 복수의 장소에 배설되므로, 복수의 유리패널의 배치를 자유롭게 행할 수 있고, 작업효율을 향상시킬 수 있다.According to the pressure reduction processing apparatus of this invention, since the some exhaust apparatus which comprises a group is arrange | positioned in a some place, it is possible to arrange | position a some glass panel freely and can improve work efficiency.

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 유리패널의 봉착후, 노내의 서냉 시에, 발열체의 발열에 의해 연통부를 용융함으로써 봉지(封止)되므로, 고온에서 약간 냉각된 때의 분위기의 열에너지를 이용하는 것에 의해, 발열체의 발열량을 안정하게 봉지(封止)할 수 있다.According to the pressure reduction processing apparatus of the present invention, since sealing is carried out by melting the communicating portion by the heat generation of the heating element during the slow cooling of the furnace after sealing of the glass panel, it is possible to use the thermal energy of the atmosphere when it is slightly cooled at a high temperature. Thereby, the calorific value of the heat generating element can be sealed stably.

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 유리패널은 연통부를 복수 가지고, 그 복수의 연통부 중 하나의 연통부를 통하여 층상공간에 존재하는 기체를 배출하는 동시에 타 연통부를 통해서 층상공간으로 가스를 도입하므로, 가스의 충전효율을 향상시킬 수 있다.According to the depressurizing apparatus of the present invention, the glass panel has a plurality of communicating portions, and because gas is discharged from the layered space through one of the communicating portions, gas is introduced into the layered space through the other communicating portion. The filling efficiency of the gas can be improved.

본 발명의 감압처리장치에 의하면, 연통부를 통하여 층상공간에 존재하는 기체를 배출한 후에, 연통부를 통해서 층상공간으로 가스를 도입하므로, 층상공간의 감압과 가스의 충전을 연속하여 행할 수 있고, 작업효율을 향상시킬 수 있다.According to the pressure reduction processing apparatus of the present invention, after the gas existing in the layered space is discharged through the communicating portion, gas is introduced into the layered space through the communicating portion, so that the pressure reduction of the layered space and the filling of the gas can be performed continuously. The efficiency can be improved.

Claims (27)

대향하는 복수의 판유리와, 상기 복수의 판유리 사이에 설치된 층상 공간을 가지며, 상기 복수의 판유리 중 적어도 1장에 장착된 배기장치가 상기 층상공간에 존재하는 기체를 배출하는 유리패널에 있어서, A glass panel having a plurality of plate glass facing each other and a layered space provided between the plurality of plate glass, wherein an exhaust device mounted on at least one of the plurality of plate glass discharges gas present in the layered space. 상기 판유리의 팽창계수와 상기 배기장치의 구성재료의 팽창계수와의 차의 절대치가 소정치 이하인 것을 특징으로 하는 유리패널.And an absolute value of a difference between the expansion coefficient of the plate glass and the expansion coefficient of the constituent material of the exhaust device is equal to or less than a predetermined value. 제1항에 있어서, 상기 층상공간은 상기 기체의 배출후에 가스가 도입되는 가스 도입층인 것을 특징으로 하는 유리패널.The glass panel according to claim 1, wherein the layered space is a gas introduction layer into which gas is introduced after the gas is discharged. 제1항에 있어서, 상기 소정치는 20×10-6/℃인 것을 특징으로 하는 유리패널.The glass panel according to claim 1, wherein the predetermined value is 20 × 10 −6 / ° C. 3 . 제1항에 있어서, 상기 층상공간에 존재하는 기체를 배출하는 때에, 상기 배기장치가 장착되는 판유리 부분에서 발생하는 응력은 상기 판유리의 단기 허용응력 이하인 것을 특징으로 하는 유리패널.The glass panel according to claim 1, wherein when discharging the gas existing in the layered space, the stress generated in the portion of the plate glass on which the exhaust device is mounted is less than the short term allowable stress of the plate glass. 제1항에 있어서, 상기 판유리의 단부로부터 5∼100mm의 범위내에 배설되고 상기 층상공간과 외부를 연통하는 연통부를 구비하는 것을 특징으로 하는 유리패널.The glass panel according to claim 1, further comprising a communicating portion disposed within a range of 5 to 100 mm from an end of the plate glass and communicating with the layered space. 제1항에 있어서, 상기 배기장치는 상기 판유리와의 접촉면에서 개구하는 홈을 갖고, 그 홈의 단면적은 0.5㎟ 이상인 것을 특징으로 하는 유리패널.The glass panel according to claim 1, wherein the exhaust device has a groove that opens at a contact surface with the plate glass, and a cross-sectional area of the groove is 0.5 mm 2 or more. 제5항에 있어서, 상기 연통부는 상기 유리패널이 표시장치로서 이용된 때에, 상기 표시장치의 이면에 상당하는 면에 설치되는 것을 특징으로 하는 유리패널.The glass panel according to claim 5, wherein the communicating portion is provided on a surface corresponding to the rear surface of the display device when the glass panel is used as the display device. 대향하는 복수의 판유리와, 상기 복수의 판유리의 사이에 설치된 층상공간을 가지는 유리패널에 장착되고 상기 층상공간에 존재하는 기체를 배출하는 배기장치를 구비하는 감압처리장치에 있어서, A pressure reduction processing apparatus comprising: an exhaust device mounted on a glass panel having a plurality of opposing panes and a layered space provided between the plurality of panes and for discharging gas present in the layered space, 상기 판유리의 팽창계수와 상기 배기장치의 구성재료의 팽창계수와의 차의 절대치가 소정치 이하인 것을 특징으로 하는 감압처리장치.And the absolute value of the difference between the expansion coefficient of the plate glass and the expansion coefficient of the constituent material of the exhaust device is equal to or less than a predetermined value. 제8항에 있어서, 상기 소정치는 20×10-6/℃인 것을 특징으로 하는 감압처리장치.The pressure reduction processing apparatus according to claim 8, wherein the predetermined value is 20x10 -6 / deg. 제8항에 있어서, 상기 층상공간에 존재하는 기체의 배출 시에, 상기 배기장치가 상기 판유리의 부분에서 발생시키는 응력은 상기 판유리의 단기 허용응력 이하인 것을 특징으로 하는 감압처리장치.The decompression processing apparatus according to claim 8, wherein the stress generated by the exhaust device in the portion of the plate glass at the time of discharging the gas existing in the layered space is less than the short-term allowable stress of the plate glass. 제8항에 있어서, 상기 판유리는 상기 층상공간과 외부를 연통하는 연통부를 가지고, 상기 배기장치는 상기 판유리와의 접촉면에서 개구하고 상기 연통부를 수용하는 밀봉실을 가지고, 상기 접촉면에서의 상기 밀봉실 둘레의 씰부의 적어도 1부는 그 폭이 5mm인 것을 특징으로 하는 감압처리장치.The said glass pane has a communication part which communicates with the said layered space, and the exterior, The said exhaust apparatus has a sealing chamber which opens in the contact surface with the said plate glass, and accommodates the said communication part, The said sealing chamber in the said contact surface At least one portion of the circumferential seal portion has a width of 5 mm. 제8항에 있어서, 배기장치는 상기 판유리와의 상기 접촉면에서 개구하는 홈을 갖고, 그 홈의 단면적은 0.5㎟ 이상인 것을 특징으로 하는 감압처리장치.The pressure reduction processing apparatus according to claim 8, wherein the exhaust device has a groove that opens at the contact surface with the plate glass, and the cross-sectional area of the groove is 0.5 mm 2 or more. 제8항에 있어서, 상기 판유리는 상기 층상공간과 외부를 연통하는 연통부를 가지고, 상기 배기장치는 상기 판유리와의 접촉면에서, 상기 연통부를 수용하는 밀봉실 및 그 밀봉실을 둘러싸는 홈모양의 타 밀봉실을 가지고, 상기 타 밀봉실을 감압하는 감암펌프는 감압계통을 통하여 상기 밀봉실과 접속되고, 상기 타 밀봉실을 감압하는 타 감압펌프는 타 감압계통을 통하여 상기 타 밀봉실과 접속되는 것을 특징으로 하는 감압처리장치.9. The plate glass according to claim 8, wherein the plate glass has a communication portion communicating with the layered space and the outside, and the exhaust device has a sealing chamber accommodating the communication portion at a contact surface with the plate glass and a groove shape surrounding the sealing chamber. The immersion pump having a sealing chamber and decompressing the other sealing chamber is connected to the sealing chamber through a decompression system, and the other decompression pump for decompressing the other sealing chamber is connected to the other sealing chamber through another decompression system. Decompression treatment apparatus. 제13항에 있어서, 상기 배기장치, 상기 감압계통, 및 상기 타 감압계통의 구성재료는 금속 또는 금속 및 세라믹의 조합으로 이루어진 것을 특징으로 하는 감압처리장치.The pressure reduction processing apparatus according to claim 13, wherein the exhaust device, the pressure reduction system, and the constituent materials of the other pressure reduction system are made of metal or a combination of metal and ceramic. 제13항에 있어서, 상기 감압계통은 대기 개방밸브를 가지는 것을 특징으로 하는 감압처리장치. The pressure reduction processing system according to claim 13, wherein the pressure reduction system has an atmospheric opening valve. 제13항에 있어서, 상기 타 감압계통은 상기 타 밀봉실 및 상기 타 감압펌프의 사이에 배설된 진공계와, 상기 타 감압펌프의 근방에 배설된 타 진공계를 가지는 것을 특징으로 하는 감압처리장치.The decompression processing apparatus according to claim 13, wherein the other decompression system has a vacuum system disposed between the other sealing chamber and the other decompression pump, and another vacuum system disposed in the vicinity of the other decompression pump. 제8항에 있어서, 상기 배기장치는 소둔처리가 행해지는 것을 특징으로 하는 감압처리장치.9. The pressure reduction treatment device according to claim 8, wherein the exhaust device is subjected to an annealing process. 제13항에 있어서, 상기 배기장치는 상기 연통부에 대향하고 그 연통부와 소정의 간격을 유지하여 배설된 발열체를 상기 밀봉실에 가지는 것을 특징으로 하는 감압처리장치.The decompression processing apparatus according to claim 13, wherein the exhaust device has a heating element disposed in the sealing chamber facing the communication portion and disposed at a predetermined distance from the communication portion. 제18항에 있어서, 상기 발열체의 상기 연통부로의 대향면적이 상기 연통부의 상기 발열체로의 대향면적의 3배 이상인 것을 특징으로 하는 감압처리장치.19. The pressure reduction processing apparatus according to claim 18, wherein an area of the opposing portion of the heating element to the communicating portion is three times or more of an area of the opposing portion of the communicating portion to the heating element. 제18항에 있어서, 상기 발열체에 정전류를 공급하는 정전류장치를 가지는 것을 특징으로 하는 감압처리장치.19. The pressure reduction processing device according to claim 18, further comprising a constant current device for supplying a constant current to the heat generator. 제20항에 있어서 고온분위기를 실현하는 노(爐)를 구비하고, 복수의 유리패널은 그 주연(周緣)에 도포된 봉착재(封着材)를 상기 고온분위기에서 용융하는 것에 의해 서로 봉착(封着)되고, 상기 발열체와 상기 정전류장치를 접속하는 전류도입단자는 상기 노의 밖에 설치되는 것을 특징으로 하는 감압처리장치.21. A furnace according to claim 20, comprising a furnace for realizing a high temperature atmosphere, wherein the plurality of glass panels are encapsulated with each other by melting in a high temperature atmosphere a sealing material applied to the periphery thereof. And a current introduction terminal for connecting the heating element and the constant current device to the outside of the furnace. 제18항에 있어서, 상기 배기장치를 복수 가지고, 상기 복수의 배기장치에서의 상기 발열체의 각각에 순차 전류를 공급하는 전류공급장치를 가지는 것을 특징으로 하는 감압처리장치.19. The pressure reduction processing apparatus according to claim 18, further comprising a current supply device having a plurality of the exhaust devices and supplying a current sequentially to each of the heating elements in the plurality of exhaust devices. 제21항에 있어서, 상기 노는 순환공기를 공급하는 공급구를 가지고, 그 공급구에 대향하는 위치에서 상기 순환공기를 정류하는 정류판을 가지는 것을 특징으로 하는 감압처리장치.The depressurizing apparatus according to claim 21, wherein the furnace has a supply port for supplying circulating air and a rectifying plate for rectifying the circulating air at a position opposite the supply port. 제8항에 있어서, 군을 이루는 복수의 상기 배기장치가 복수의 장소에 배설되는 것을 특징으로 하는 감압처리장치.The decompression processing apparatus according to claim 8, wherein the plurality of exhaust devices forming a group are disposed at a plurality of places. 제21항에 있어서, 상기 유리패널의 봉착(封着)후, 상기 노 내의 서냉시에 상기 발열체의 발열에 의해 상기 연통부를 용융하는 것을 특징으로 하는 감압처리장치.The decompression processing apparatus according to claim 21, wherein after the sealing of the glass panel, the communicating portion is melted by heat generation of the heating element during slow cooling in the furnace. 제13항에 있어서, 상기 유리패널은 상기 연통부를 복수 가지고, 그 복수의 연통부 중 하나의 연통부를 통하여 상기 층상공간에 존재하는 기체를 배출하고, 타 연통부를 통하여 상기 층상공간으로 가스를 도입하는 것을 특징으로 하는 감압처리장치.14. The glass panel of claim 13, wherein the glass panel has a plurality of communication portions, discharges gas present in the layered space through one of the plurality of communication portions, and introduces gas into the layered space through another communication portion. Decompression treatment apparatus, characterized in that. 제13항에 있어서, 상기 연통부를 통하여 상기 층상공간에 존재하는 기체를 배출한 후에, 상기 연통부를 통해서 상기 층상공간으로 가스를 도입하는 것을 특징으로 하는 감압처리장치.The pressure reduction processing apparatus according to claim 13, wherein after discharging the gas existing in the layered space through the communicating portion, gas is introduced into the layered space through the communicating portion.
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