KR20050064021A - 2,6-나프탈렌디카르복실산의 정제 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 비교적 순도가 높은 NDA를 사용하여 직접 중합에 사용될 수 있는 초고순도의 NDA를 얻기 위한 방법에 관한 것으로, 순도 98% 이상의 조 2,6-나프탈렌디카르복실산과 물을 1:5 내지 1:99의 중량비로 슬러리 제조용기에 투입하는 단계, 예비가열기에 의해 승온되어져 용해조로 투입되는 단계, 용해조에서 불용 성분을 제거하고 균일액상을 수소화 반응기로 공급하는 단계, 수소분압 5∼20 atm에서 수소화시키는 단계를 포함하며, 상기 수소화반응기는 0.1∼1중량%의 백금이 담지된 활성탄 촉매로 충진되어 있음을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 정제방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 2,6-디메틸나프탈렌(DMN)의 산화반응으로 생성된 2,6-나프탈렌디카르복실산(NDA)의 정제 방법에 관한 것이다.
2,6-나프탈렌디카복실산은 폴리에스테르 및 폴리아미드와 같은 고성능 중합체 물질의 제조에 유용한 단량체이다. 이러한 고성능 폴리에스테르 중의 하나인 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트(PEN)는 2,6-나프탈렌디카복실산 또는 디메틸-2,6-나프탈렌디카복실레이트와 에틸렌 글리콜과의 축합으로 제조된다. 상기와 같이 제조된 PEN은 필름과 섬유등의 제조에 사용되는데, PEN으로부터 제조된 필름과 섬유는 기존의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)로부터 만들어진 필름과 섬유보다 우수한 강도 및 열적 특성을 갖는다. 따라서 PEN으로부터 제조된 필름은 자기 기록 테이프 및 전자 부품을 제조하는 데 사용될 수 있고, PEN으로부터 제조된 고강도 섬유는 타이어 코드를 제조하는 데 유리하게 사용된다.
또한, PEN은 기체 확산, 특히 이산화탄소, 산소 및 수증기의 확산에 대한 우수한 저항성을 갖기 때문에, PEN으로부터 제조된 필름은 식품 용기, 특히 소위 "핫 필(hot fill)"형 식품 용기를 제조하는 데 유용하다. 테레프탈산과 2,6-나프탈렌디카복실산 또는 디메틸-2,6-나프탈렌디카복실레이트와의 혼합물로부터 제조된 폴리에스테르는 또한, 기체 확산에 대한 저항성과 같은 독특하고도 바람직한 특성을 갖는 것으로 밝혀졌으며, 이러한 특성은 이들을 음료수 용기 또는 기타 식품용 용기를 제조하는 데 적합하도록 한다.
이처럼 PEN 수지가 물성면에서 PET 수지보다 우수하여 이에 대한 수요가 급증하고 있으나, PEN 수지 제조용 원료인 NDA의 공급은 아직까지 부족한 상태로, NDA의 제조와 관련하여 연구가 계속 진행 중에 있다.
2,6-나프탈렌디카복실산은 통상 산화 반응용 산소 공급원으로서 분자 산소, 특히 공기를 사용하고 액상 중금속 촉매를 사용하여 2,6-디메틸나프탈렌을 산화시켜 제조한다. 이러한 산화 반응에 의해 2,6-디메틸나프탈렌의 나프탈렌 환에 존재하는 메틸 치환체는 카복실산 치환체로 산화된다. 이러한 액상 반응에 의해 2,6-디메틸나프탈렌을 2,6-나프탈렌디카복실산으로 산화시키는 방법은 공지되어 있다. 예를 들면, 하퍼(Harper) 등에게 허여된 미국 특허 제5,183,933호에는, 산화 반응 혼합물에 첨가된 다량의 망간 및 코발트 산화 촉매 금속을 사용하여 2,6-디메틸나프탈렌을 2,6-나프탈렌디카복실산으로 산화시키는 방법이 기재되어 있다.
그러나 통상 이러한 산화반응에 의해 생성된 NDA에는, 촉매금속인 코발트, 망간 외에 산화반응의 중간생성물인 포르밀나프토산(FNA)과 메틸나프토산(MNA), 분해생성물인 트리멜리트산(TMLA), 브롬 부가 생성물인 나프탈렌디카르복실산브로마이드(Br-NDA) 그리고 원료인 DMN에 함유되어 있던 불순물로부터 유래된 나프토산(NA) 등의 각종 불순물이 다량 포함되어 있어서, 이러한 불순한 NDA를 에틸렌글리콜과 바로 중합시키면 중합생성물인 PEN의 내열성과 연화점이 저하되고 착색이 발생하는 등 심각한 품질저하가 초래된다. 특히, FNA가 특정치 이상 포함되어 있으면 중합도는 향상되지 않고 겔화나 착색이 발생하게 된다. 따라서 고품질의 PEN을 얻기 위해서는 순도가 99.9%에 가까운 고순도의 NDA가 요구된다.
이러한 순도를 얻기 위해서는 NDA 내의 불순물 제거를 위한 정제가 필수적이지만 NDA는 300℃ 이상의 고온에서 분해되므로 증류법을 사용할 수 없고, 일반적인 용매에는 난용성이므로 단순한 재결정법을 사용할 수 없다. 따라서, 대체 방법으로 나프탈렌디카르복실산을 메틸알콜 등의 알콜류와 반응시켜 일단 나프탈렌디카르복실산 에스테르로 전환한 후 증류 또는 재결정 등을 행하는 정제 방법이 행하여지고 있으나, 그 과정이 복잡하고 비경제적인 단점이 있다.
NDA를 직접 용매에 용해하고, 정제하는 방법으로서 다음과 같은 방법이 제안되고 있다.
일본특허공개 소62-230747은 NDA를 디메틸설폭사이드, 디메틸포름아미드 등의 용매로 용해하고 불용성분을 제거하고 재결정하는 정제 방법을 개시하고 있다. 그러나, 2,6-NDA의 상기 용매에 대한 용해도가 낮고, 불순물을 수소화시킬 때 용매도 함께 수소화되기 때문에 수소화 처리가 가능하지 않으며, 포르밀나프토산(FNA)의 완전한 제거도 어렵다.
미국 특허 제5,256,817호는 NDA를 초산 또는 초산수용액을 용매로 하여 310℃ 이상의 고온에서 용해하고 수소첨가 반응을 이용하여 정제하는 방법을 개시하고 있다. 이 방법은 높은 용해도를 얻기 위해 고온이 필요하고, 이로 인해, 부반응 즉 탈탄산 반응에 의한 나프토산이 생성되며, 수소 첨가 반응에 의한 테트랄린디카르복실산이 생기기 쉽다.
미국 특허 제6,255,525호는 물을 용매로 하고 carbon을 촉매로 한 수소화 반응에 의한 정제방법을 개시하고 있으나 얻어지는 NDA의 색도가 높고 촉매의 수명이 짧다는 단점이 있다.
한편 상기 방법들은 정제에 사용되는 조 NDA로 순도가 98% 이하의 시료를 사용하고 있으며 그 결과 직접 중합에 사용될 정도의 고순도의 NDA를 얻을 수가 없거나 고순도의 NDA를 얻기 위해 가혹한 수소화 반응 조건을 사용함으로써 원하지 않는 부반응물이 생성되는 등의 단점이 있으며 결과적으로 NDA의 회수율이 떨어지게 된다.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결한 것으로, 순도가 높은 조 NDA를 사용하여 비교적 온화한 조건에서 순도 99.8%이상의 NDA, 바람직하게는 99.9% 이상의 NDA를 얻어 직접 중합에 사용하는 NDA의 정제방법에 관한 것이다.
본 발명은 비교적 순도가 높은 조 NDA를 사용하여 직접 중합에 사용될 수 있는 초고순도의 NDA를 얻기 위한 방법에 관한 것으로, 순도 98% 이상의 조 2,6-나프탈렌디카르복실산과 물을 1:5 내지 1:99의 중량비로 슬러리 제조기에 투입하는 단계, 예비가열기에 의해 승온되어져 용해조로 투입되는 단계, 용해조에서 불용 성분을 제거하고 균일액상을 수소화 반응기로 공급하는 단계, 수소분압 5∼20 atm에서 수소화시키는 단계를 포함하며, 상기 수소화반응기는 0.1∼1중량%의 백금이 담지된 활성탄 촉매로 충진되어 있음을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 정제방법에 관한 것이다.
또한 본 발명은 상기 순도 98% 이상의 조 2,6-나프틸렌디카르복실산이 2,6-디메틸나프탈렌을 코발트, 망간 및 브롬을 포함하는 촉매 및 0 내지 30중량%의 물을 포함하는 초산용매 하에서, 디메틸나프탈렌 1몰당 4 내지 20몰의 산소가 반응할 수 있는 양의 산소 또는 산소를 포함하는 기체에 의한 산화반응에 의해 제조됨을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 정제방법에 관한 것이다.
또한 본 발명은 정제에 사용되는 조 2,6-나프탈렌디카르복실산의 순도가 바람직하게는 98.3% 이상, 보다 바람직하게는 99.0%이상임을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 정제방법에 관한 것이다.
또한 본 발명은 조 2,6-나프탈렌디카르복실산에 대해 물을 1:10 내지 1:99 사용하고 300℃ 이하에서 수소화시킴을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 정제방법에 관한 것이다.
또한 본 발명은 결정화조에서 배출되는 반응액 및/또는 세정액 중 전부 또는 일부를 재순환시킴으로써 용매의 지나친 소모없이 과량의 용매 조건을 만족시킴을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 정제방법에 관한 것이다.
이하 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명에 의해 정제되는 2,6-나프탈렌디카르복실산은 통상적으로 브롬/코발트/망간으로 구성되는 촉매계를 이용하여 초산 용매하에서 2,6-디메틸나프탈렌 및 공기와 희석가스를 연속적으로 공급하여 반응온도 180∼220℃에서 반응시켜 제조되는 것으로 순도가 98%이상이라면 그 제조방법에 한정됨이 없다. 다만 본 발명자들에 의해 특허출원된 대하민국 특허출원 제2002-88183에 기재된 방법으로 제조하는 경우, 별도의 정제과정 없이 순도가 98% 이상인 NDA를 얻을 수 있으므로 본 발명의 정제방법을 위한 시료로 바람직하다.
이렇게 제조된 조 NDA는 우선 수소화 반응에 사용되어지는 용매와 일정비율로 혼합되어지고 균일한 슬러리상으로 만들어진다. 이 때 용매로 물이 사용되어지는데 이는 기타 유기용매를 사용할 경우보다 반응 후 폐액의 처리, 비용 등의 문제에서 유리하다.
조 NDA와 용매의 혼합 중량비는 1:5 내지 1:99이며, 바람직하게는 수소화반응의 온도, 압력 조건에서 NDA가 용매상에 균일 액상으로 존재할 수 있도록 1:10 이상인 것이 좋다. 특히 조 NDA 대비 용매의 양이 1:10 이상인 경우 비교적 저온, 즉 300℃ 이하에서 수소화반응이 가능하다는 장점이 있다. 이 때 비교적 과량 사용되는 용매는 생성된 NDA의 여과 후 배출된 반응액 및/또는 NDA에 대한 세정액 중 전부 또는 일부 재순환하여 사용함으로써 그 소모량을 줄일 수 있다.
상기 슬러리 제조기 내의 온도를 일정온도 이상으로 유지함으로써 균일 슬러리를 제조하기 위한 시간을 단축시킬 수 있고, 제조된 슬러리상의 균일성이 현저히 양호해져서 바람직하다. 이러한 목적을 위해 슬러리 제조기의 온도는 40∼150℃, 바람직하게는 60∼100℃로 유지한다.
상기 조건에서 제조된 슬러리는 예비가열기를 통해 수소화 반응 온도까지 승온되고, 이 때 NDA는 대부분 용매에 용해된다. 예비 가열기는 권선형의 튜브 형태로 형성되어 있으며, 고온에서 부식성을 고려하여 하스텔로이-C와 같은 특수 합금이나, 티타늄 재질을 사용하는 것이 바람직하다. 예비 가열기 튜브 내경은 슬러리가 고체와 액체로 분리됨이 없이 균일하게 수소화 반응기까지 공급될 수 있도록 설계될 필요가 있다. 또한 슬러리의 균일한 이송을 위하여 튜브관내의 슬러리 유속을 초당 0.5∼5m, 바람직하게는 초당 1∼3m로 유지하는 것이 좋다.
예비 가열기를 통해 가열된 슬러리는 수소화 반응기로 유입되기 전, 용해조를 통과하게 된다. 용해조에서는 녹지 않고 남아있던 미량의 NDA가 추가적으로 용해되고, 용매에 불용성인 불순물, 예를들면, 산화반응시 생성된 NDA 올리고머 및 기타 유기물질과 금속성분을 제거하여 완전한 균일상을 만들어 준다. 상기 NDA 올리고머는 용매에 녹지 않을 뿐만 아니라, 수소화 반응으로 제거하기 곤란한 물질이므로, 수소화 반응 전에 제거하여 수소화의 부하를 줄여 줌과 동시에 반응 효율을 높일 필요가 있다. 또한 불용성분의 흡착을 막아주어 수소화 반응에 사용되는 촉매의 사용 기간을 연장시키는 효과도 기대할 수 있다.
불용성분의 제거를 위해 용해조의 출구는 50㎛ 이하의 가는 메쉬 형태로 되어 있으며, 여기에서 불용성분들은 걸러지게 된다. 용해조에서의 NDA 체류시간은수분 이내가 적당하나, 너무 짧은 경우 완전한 액상이 되지 않을 수 있다. 용해조의 온도 및 압력은 수소화 반응의 온도, 압력 조건과 동일하거나 약간 높은 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 수소화 반응의 온도, 압력보다 온도는 2∼5℃, 압력은 1∼5 atm 만큼 높은 것이 좋다.
상기 용해조를 통과한 용해액은 수소화 반응기로 유입된다. 수소화 반응기로 백금(Pt)이 담지된 활성탄이 충진되어 있는 고정층 촉매 반응기를 사용한다. 상기 활성탄에 담지되는 백금의 함량은 0.1∼1 중량%, 바람직하게는 0.3∼0.7 중량%이다.
수소화 반응시 온도는 250∼350℃, 바람직하게는 280∼330℃이다. 반응온도가 250℃보다 낮은 경우 NDA를 녹이기 위해 필요한 용매의 양이 급격히 증가한다. 반응온도가 350℃를 초과하는 경우 NDA의 과도한 분해반응이 유발될 수 있다.
수소화 반응시 수소분압은 0.1∼30 atm, 바람직하게는 1∼20 atm로 조절된다. 수소화 반응의 원료인 NDA의 순도가 높을수록 즉, 제거할 불순물의 함량이 낮을수록 수소 공급량은 줄어들며, 따라서 수소 분압은 내려가게 된다. 특히 원료로 사용되는 NDA의 순도가 99.0중량% 이상일 경우, 수소 분압을 현저히 낮출 수 있으며, 이로 인해 수소화 반응의 부산물인 2,6-디카르복시테트랄린 및 FNA의 수소화에 의한 MNA의 생성량을 감소시킬 수 있다.
상기 수소화 반응에 의해 FNA 및 Br-NDA 등의 불순물이 수소화되어 제거되거나 제거되기 쉬운 불순물로 전화된다.
수소화 반응기를 거친 NDA는 결정화조에서 냉각되어 정제된 NDA가 결정화된다. 이때 결정화조에서의 냉각 속도는 분당 30℃ 이하이며, 바람직하게는 분당 20℃ 이하이다. 본 단계에서는 반응 부산물들은 용매에 용해되어 있으면서 최대한 많은 양의 NDA가 석출되는 상태까지 냉각시켜 분리하는 것이 좋으며 이러한 온도 범위는 150∼250℃, 바람직하게는 150∼230℃이다. 250℃를 초과하는 온도에서 용매를 분리할 경우 정제된 NDA의 손실량이 증가하여 수율이 현저히 떨어지며, 150℃ 미만에서 분리할 경우에는 NA, MNA, DCT등의 부산물들이 함께 결정화되므로 바람직하지 않다.
이렇게 얻어진 NDA는 부반응물, 불순물 및 잔존 용매를 제거하기 위해 물로 1∼3회 세정한다. 이때 온도는 NDA 용매의 분리온도와 동일한 범위인 150∼250℃로 유지하며 용매의 양은 NDA 중량대비 1∼5배를 사용하는 것이 바람직하다.
상기의 과정에 의해 PEN 제조에 직접적으로 사용될 수 있는 고순도의 NDA가 제조될 수 있으며 이러한 공정은 연속공정 또는 배치방식공정 모두 가능하다.
이하에서 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하고자 하나 하기의 실시예는 설명의 목적을 위한 것으로, 본 발명을 제한하기 위한 것은 아니다.
<제조예> : 조 2,6-나프탈렌디카르복실산의 제조
환류콘덴서, 교반기, 가열기, 공기, 희석가스 도입부를 갖추고, 환류콘덴서 후단부에 산소, 이산화탄소, 일산화탄소 분석기가 장착된 2리터의 티타늄 반응기에 다음 표 1에서와 같은 조성으로 촉매와 용매를 투입하였다.
<표 1>
초산 | 339g |
코발트아세테이트 | 3.02g |
망간아세테이트 | 0.79g |
48% 브롬산 | 2.26g |
증류수 | 10.7g |
반응온도는 200℃로, 반응 압력은 20 atm으로 조절한 후 교반기를 700rpm으로 설정하여 투입되는 반응기체가 적절히 분산되도록 하였다. 초산에 대한 디메틸나프탈렌의 중량비가 10%인 반응 용액을 12.5g/min의 속도로 공급하고 추가로 표 2와 같이 제조된 촉매 용액을 2g/min로 공급하며 45분간 반응을 진행하였다.
<표 2>
초산 | 200g |
코발트아세테이트 | 8.38g |
망간아세테이트 | 2.21g |
48% 브롬산 | 6.27g |
증류수 | 29.72g |
반응 중 공기의 투입은 1몰당 공기가 37.5몰이 되도록 투입하고 반응용액과 촉매용액의 공급을 중단한 후, 30분가 추가로 투입하였다. 그 후 60℃까지 냉각 후 슬러리 형태의 반응물을 회수한 후 고액 분리하고 고상분을 중량 기준 3배의 초산으로 20분간 교반한 후 액상과 고상을 분리하여 건조시켰다. 얻어진 조 NDA의 조성은 표 3에 나타내었다.
[실시예 1]
수소화 반응기의 구성은 크게 NDA와 용매와의 슬러리 조제부, 예비가열기, 용해조, 수소화용 고정층 촉매 반응기 및 반응 유출물 결정화 및 세정을 위한 결정화조로 이루어진다.
표 3의 제조예 성분으로 구성된 정제되지 아니한 상태의 NDA를 용매와 함께 95℃로 유지되는 슬러리 제조용기에 투입하였다. 용매는 물을 사용하였고, 슬러리의 농도 즉 물과 NDA의 혼합비는 9 대 1 중량비로 하였다. 슬러리 제조용기에서 충분한 균일성을 가진 슬러리는 예비가열기를 거치면서 310℃까지 승온되어져 용해조로 혼입되고 여기서 불용성분이 제거되어진 균일 액상의 NDA 용액은 315℃로 승온되어져 수소화 반응기로 공급된다. 수소화 반응기는 0.5중량%의 백금이 담지된 활성탄 촉매로 충진되어 있고, 반응 중 수소의 분압은 8∼9 atm를 유지하도록 공급하였으며 반응온도는 310℃이다. 수소화 반응기를 통과한 반응 유출물은 결정화조에서 210℃로 냉각되어져 결정화되고, 용매는 결정화조 바닥에 설치된 필터를 통해 NDA와 분리시켰다. 용매와 분리된 NDA는 200℃의 물로 재슬러리 및 용매분리의 과정을 2회 반복하여 세정한 후 건조하였다. 최종 정제된 NDA의 조성은 표 3에 나타내었다.
[실시예 2]
물과 조 NDA의 혼합비는 19 대 1 중량비로 하고 반응온도를 290℃까지 승온하여 반응을 진행한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시하였다. 최종 정제된 NDA의 조성은 표 3에 나타내었다.
[실시예 3]
물과 조 NDA의 혼합비는 19 대 1 중량비로 하고 반응온도를 290℃까지 승온하여 반응을 진행하되, 용매로 결정화조에서 분리되어 나온 반응액 및 세정액 중 일부를 재순환하여 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시하였다. 최종 정제된 NDA의 조성은 표 3에 나타내었다.
[비교예 1]
90.3wt%의 조 NDA를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하다. 최종 정제된 NDA의 조성은 표 3에 나타내었다.
[비교예 2]
90.8wt%의 조 NDA를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일하다. 최종 정제된 NDA의 조성은 표 3에 나타내었다.
<표 3>
NDA: 나프탈렌디카르복실산, NA: 나프토산, MNA: 메틸나프토산, TMLA: 트리멜리트산, FNA: 포르밀나프토산, Br-NDA: 나프탈렌디카르복실산브로마이드 DCT: 디카르복시테트랄린
본 발명에 의해 PEN의 제조에 직접적으로 사용될 수 있는 고순도의 NDA를 제공할 수 있다. 특히 순도가 98% 이상의 NDA를 원료로 과량의 용매를 사용함으로써 비교적 저온에서 수소화반응시켜 순도 및 색도면에서 개선된 고순도 NDA를 얻을 수 있다.
도 1은 본 발명의 NDA 정제공정의 흐름도이다.
*도면부호의 설명
1 : 슬러리 제조기 2 : 예비가열기
3 : 용해조 4 : 수소화 반응기
5 : 결정화조 6 : 조NDA 공급라인
7 : 용매 공급라인 8 : 수소 공급라인
9 : 용매 공급라인 10 : 용매 배출라인
11 : 용매 재순환라인
Claims (7)
- 순도 98% 이상의 조 2,6-나프탈렌디카르복실산과 물을 1:5 내지 1:99의 중량비로 슬러리 제조용기에 투입하는 단계, 예비가열기에 의해 승온되어져 용해조로 투입되는 단계, 용해조에서 불용 성분을 제거하고 균일액상을 수소화 반응기로 공급하는 단계, 수소분압 5∼20 atm에서 수소화시키는 단계를 포함하며, 상기 수소화반응기는 0.1∼1중량%의 백금이 담지된 활성탄 촉매로 충진되어 있음을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 정제방법.
- 제1항에 있어서, 상기 순도 98% 이상의 조 2,6-나프틸렌디카르복실산이 2,6-디메틸나프탈렌을 코발트, 망간 및 브롬을 포함하는 촉매 및 0 내지 30중량%의 물을 포함하는 초산용매 하에서, 2,6-디메틸나프탈렌 1몰당 4 내지 20몰의 산소가 반응할 수 있는 양의 산소 또는 산소를 포함하는 기체에 의해 산화시키는 공정으로부터 얻어지는 것을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 정제방법.
- 제1항에 있어서, 정제에 사용되는 조 2,6-나프탈렌디카르복실산의 순도가 98.3% 이상임을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 정제방법.
- 제2항에 있어서, 정제에 사용되는 조 2,6-나프탈렌디카르복실산의 순도가 99.0% 이상임을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 정제방법.
- 제1항에 있어서, 조 2,6-나프탈렌디카르복실산에 대해 물을 1:10 내지 1:99 사용하고 300℃ 이하에서 수소화시킴을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 정제방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 결정화조에서 배출되는 반응액 및/또는 세정액 중 전부 또는 일부를 재순환시키는 것을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 정제방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 활성탄에 담지된 백금의 양이 0.5중량%임을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 정제방법.
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KR1020030095290A KR20050064021A (ko) | 2003-12-23 | 2003-12-23 | 2,6-나프탈렌디카르복실산의 정제 방법 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100780173B1 (ko) * | 2006-12-29 | 2007-11-28 | 주식회사 효성 | 2,6-나프탈렌디카르복실산 정제용 촉매, 그 제조방법 및이를 이용한 정제공정 |
KR100841151B1 (ko) * | 2006-12-22 | 2008-06-24 | 주식회사 효성 | 고순도 나프탈렌디카르복실산의 제조방법 |
-
2003
- 2003-12-23 KR KR1020030095290A patent/KR20050064021A/ko active Search and Examination
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KR100841151B1 (ko) * | 2006-12-22 | 2008-06-24 | 주식회사 효성 | 고순도 나프탈렌디카르복실산의 제조방법 |
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