KR20050009089A - AlGaInP계 발광 다이오드 및 그 제조방법 - Google Patents
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- p형 투명 기판과;상기 p형 투명 기판 하부에 형성되는 p형 전극과;상기 p형 투명 기판의 상부에 순차적으로 형성되는 p형 윈도우층, p형 클래드층, 활성층, n형 클래드층, n형 윈도우층 및 n형 전극을 포함하여 이루어지는 AlGaInP계 발광 다이오드.
- 제 1항에 있어서, 상기 p형 투명 기판은 GaP, ZnSe 또는 ZnS로 이루어지는 것을 특징으로 하는 AlGaInP계 발광 다이오드.
- 제 2항에 있어서, 상기 p형 투명 기판의 두께는 50∼350㎛인 것을 특징으로 하는 AlGaInP계 발광 다이오드.
- 제 1항에 있어서, 상기 p형 윈도우층, p형 클래드층, 활성층, n형 클래드층 및 n형 윈도우층은 AlGaInP로 이루어지는 것을 특징으로 하는 AlGaInP계 발광 다이오드.
- 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 p형 투명 기판과 상기 p형 윈도우층은 기판 융합에 의해 접합되는 것을 특징으로 하는 AlGaInP계 발광 다이오드.
- 제 1항에 있어서, 상기 n형 전극은 상기 n형 윈도우층의 전면에 위치되도록 형성되고, 상기 p형 전극은 p형 투명 기판의 소정영역에 위치되도록 형성되며,공융 금속층과 서브 마운트층이 상기 n형 윈도우층 하부에 순차적으로 위치되도록 상기 n형 윈도우층과 상기 n형 전극 사이에 상기 공융 금속층과 상기 서브 마운트가 개재되는 것을 특징으로 하는 AlGaInP계 발광 다이오드.
- 제 1항에 있어서, 상기 n형 전극은 상기 n형 윈도우층의 전면에 위치되도록 형성되고, 상기 p형 전극은 p형 투명 기판의 소정영역에 위치되도록 형성되며,상기 n형 전극 표면에 공융금속층이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 AlGaInP계 발광 다이오드.
- 제 5항에 따른 AlGaInP계 발광 다이오드를 제조하는 방법은,n형 GaAs 기판 상에 상기 n형 윈도우층, n형 클래드층, 활성층, p형 클래드층 및 p형 윈도우층을 순차적으로 형성하는 단계와;상기 p형 윈도우층과 상기 p형 투명 기판을 기판 융합으로 접합하는 단계와;상기 n형 GaAs 기판을 제거하는 단계와;상기 p형 투명 기판에 p형 금속을 증착하고, 상기 n형 윈도우층에 n형 금속을 증착하여 오믹접촉시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 AlGaInP계 발광다이오드 제조방법.
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