KR20050004446A - 나노 입자의 정전 스프레이 방식을 이용한 나노 크기구조의 패터닝 방법 - Google Patents
나노 입자의 정전 스프레이 방식을 이용한 나노 크기구조의 패터닝 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20050004446A KR20050004446A KR1020030044625A KR20030044625A KR20050004446A KR 20050004446 A KR20050004446 A KR 20050004446A KR 1020030044625 A KR1020030044625 A KR 1020030044625A KR 20030044625 A KR20030044625 A KR 20030044625A KR 20050004446 A KR20050004446 A KR 20050004446A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- nanoparticles
- substrate
- pattern
- nanoparticle
- charged
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Abstract
Description
Claims (4)
- 나노 입자 부착에 의한 패터닝 방법에 있어서,나노 입자 분산액을 전위차 인가 수단이 부착된 모세관 분사 노즐을 통하여 소정 양의 전하로 대전시키고 분무시키는 단계;상기 분무된 입자로부터 현탁 용매를 증발시켜 대전된 나노 입자를 형성하는 단계; 및마스크 재료의 부분적 잔류에 의하여 그 표면에 미세 패턴이 형성되어 있는 전도성 기판 상의 노출된 영역에 상기 대전된 나노 입자를 부착시키는 단계를 포함하는나노 입자 부착에 의한 패터닝 방법.
- 제 1항에 있어서,상기 마스크 재료는 포토레지스트(photoresist)인 나노 입자 부착에 의한 패터닝 방법.
- 제 1항 및 제 2항의 어느 한 항에 있어서,상기 기판 상에 미세 패턴을 형성하고 있는 상기 잔류된 마스크 재료를 제거하는 단계를 더 포함하는 나노 입자 부착에 의한 패터닝 방법.
- 나노 입자 부착에 의한 패터닝 방법에 있어서,나노 입자 분산액을 전위차 인가 수단이 부착된 모세관 분사 노즐을 통하여 소정의 전하로 대전시키고 분무시키는 단계;상기 분무된 입자로부터 현탁 용매를 증발시켜 대전된 나노 입자를 형성하는 단계; 및표면의 국부적 대전을 통하여 상기 나노 입자의 전하와 반대 극성을 갖는 전하 패턴을 그 표면에 형성시킨 기판 상의 상기 전하 패턴 상에, 상기 대전된 나노 입자를 부착시키는 단계를 포함하는 나노 입자 부착에 의한 패터닝 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030044625A KR100583910B1 (ko) | 2003-07-02 | 2003-07-02 | 나노 입자의 정전 스프레이 방식을 이용한 나노 크기구조의 패터닝 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030044625A KR100583910B1 (ko) | 2003-07-02 | 2003-07-02 | 나노 입자의 정전 스프레이 방식을 이용한 나노 크기구조의 패터닝 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050004446A true KR20050004446A (ko) | 2005-01-12 |
KR100583910B1 KR100583910B1 (ko) | 2006-05-29 |
Family
ID=37219111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020030044625A KR100583910B1 (ko) | 2003-07-02 | 2003-07-02 | 나노 입자의 정전 스프레이 방식을 이용한 나노 크기구조의 패터닝 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100583910B1 (ko) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100932898B1 (ko) * | 2007-07-31 | 2009-12-21 | 한국전자통신연구원 | ZnO 나노와이어 네트워크 패턴 및 ZnO 나노와이어네트워크 소자의 형성방법 |
KR101254825B1 (ko) * | 2005-12-26 | 2013-04-15 | 엘지디스플레이 주식회사 | 박막 패턴 제조 방법 |
KR101350152B1 (ko) * | 2010-11-19 | 2014-01-10 | 울산대학교 산학협력단 | 정전분무법을 이용한 금속 다공체 제조 시스템 |
CN107402440A (zh) * | 2016-05-20 | 2017-11-28 | 清华大学 | 一种观测纳米结构表面电荷分布的方法 |
CN107402184A (zh) * | 2016-05-20 | 2017-11-28 | 清华大学 | 一种测量纳米结构表面电荷分布的方法 |
CN110928135A (zh) * | 2019-12-20 | 2020-03-27 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | 一种预防静电损伤的光罩及预防光罩静电损伤的方法 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100723427B1 (ko) | 2006-05-12 | 2007-05-30 | 삼성전자주식회사 | 기판상에 생체분자 액적을 프린팅하는 장치 및 방법 |
KR100937663B1 (ko) * | 2007-12-24 | 2010-01-19 | 주식회사 동부하이텍 | 이미지 센서의 제조 방법 |
KR101125170B1 (ko) | 2009-04-30 | 2012-03-19 | 한국과학기술연구원 | 금속산화물 나노입자를 이용한 가스센서 및 그 제조방법 |
KR101744760B1 (ko) | 2010-10-25 | 2017-06-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 소자의 발광층 형성 방법, 상기 발광층 형성 방법을 포함하는 유기 발광 소자의 제조 방법, 및 상기 제조 방법에 의한 유기 발광 소자 |
KR101481939B1 (ko) | 2013-04-22 | 2015-01-15 | 엔라이팅 주식회사 | 투명분말을 이용한 광추출용 나노패터닝 기판 제조방법 |
KR101537187B1 (ko) * | 2014-02-27 | 2015-07-15 | 엔라이팅 주식회사 | 광 추출 효율을 향상시킨 나노구조 기판의 제조방법 |
KR101818569B1 (ko) | 2016-06-23 | 2018-02-21 | 포항공과대학교 산학협력단 | 박막 복합체 및 그의 제조방법 |
-
2003
- 2003-07-02 KR KR1020030044625A patent/KR100583910B1/ko active IP Right Grant
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101254825B1 (ko) * | 2005-12-26 | 2013-04-15 | 엘지디스플레이 주식회사 | 박막 패턴 제조 방법 |
KR100932898B1 (ko) * | 2007-07-31 | 2009-12-21 | 한국전자통신연구원 | ZnO 나노와이어 네트워크 패턴 및 ZnO 나노와이어네트워크 소자의 형성방법 |
KR101350152B1 (ko) * | 2010-11-19 | 2014-01-10 | 울산대학교 산학협력단 | 정전분무법을 이용한 금속 다공체 제조 시스템 |
CN107402440A (zh) * | 2016-05-20 | 2017-11-28 | 清华大学 | 一种观测纳米结构表面电荷分布的方法 |
CN107402184A (zh) * | 2016-05-20 | 2017-11-28 | 清华大学 | 一种测量纳米结构表面电荷分布的方法 |
CN107402184B (zh) * | 2016-05-20 | 2020-01-03 | 清华大学 | 一种测量纳米结构表面电荷分布的方法 |
CN110928135A (zh) * | 2019-12-20 | 2020-03-27 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | 一种预防静电损伤的光罩及预防光罩静电损伤的方法 |
CN110928135B (zh) * | 2019-12-20 | 2023-09-08 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | 一种预防静电损伤的光罩及预防光罩静电损伤的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100583910B1 (ko) | 2006-05-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100740984B1 (ko) | 나노입자의 집속 증착 패터닝 방법 | |
Glass et al. | Block copolymer micelle nanolithography | |
KR100583910B1 (ko) | 나노 입자의 정전 스프레이 방식을 이용한 나노 크기구조의 패터닝 방법 | |
US7223444B2 (en) | Particle deposition apparatus and methods for forming nanostructures | |
Lenggoro et al. | Nanoparticle assembly on patterned “plus/minus” surfaces from electrospray of colloidal dispersion | |
US9365946B2 (en) | Damascene template for directed assembly and transfer of nanoelements | |
Fang et al. | Control of droplet size in liquid nanodispensing | |
JP5010766B2 (ja) | ナノ粒子を統計的に特徴付ける方法および装置 | |
Wang et al. | Fabrication of nanochannels via near-field electrospinning | |
Soliwoda et al. | Electrospray deposition of gold nanoparticles from aqueous colloids on solid substrates | |
US20050112505A1 (en) | Field-assisted micro- and nano-fabrication method | |
Sanedrin et al. | Temperature controlled dip-pen nanolithography | |
Pearson et al. | Parallel patterning of mesoscopic ring arrays using nanochannel glass replica masks | |
KR101086162B1 (ko) | 박막 형성 방법 | |
KR100638091B1 (ko) | 나노입자 패터닝 방법 및 이를 이용한 소결체의 제조 방법 | |
KR100590632B1 (ko) | 유전영동을 이용한 나노물질의 패터닝방법 | |
Xu et al. | Polymer nano nozzle fabricated by nanoscale electrohydrodynamic jet printing for high-resolution printing of low-viscosity inks | |
US20060093750A1 (en) | Method for patterning nano-sized structure | |
KR100813113B1 (ko) | 금 나노 선 제조방법 | |
JP2004148198A (ja) | 超微細インクジェット印刷用ノズルおよびその製造方法 | |
KR100563855B1 (ko) | 나노패턴 구조물 | |
Lee et al. | Organized molecular assemblies for scanning probe microscope lithography | |
JP2020510993A (ja) | 化学機械的平坦化なしで製作されたナノ要素プリンティング用のダマシンテンプレート | |
US20070212808A1 (en) | Method of selective removal of organophosphonic acid molecules from their self-assembled monolayer on Si substrates | |
Sugimura et al. | Scanning Probe Surface Modification: Chemical Conversion of Terminal Functional Groups on Organosilane Self‐Assembled Monolayers |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130508 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140507 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160516 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170405 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180328 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190515 Year of fee payment: 14 |