KR20040085762A - Method for fabricating electromagnetic wave shilding film and display panel module using the same, and fabricating method tererof - Google Patents
Method for fabricating electromagnetic wave shilding film and display panel module using the same, and fabricating method tererof Download PDFInfo
- Publication number
- KR20040085762A KR20040085762A KR1020030020559A KR20030020559A KR20040085762A KR 20040085762 A KR20040085762 A KR 20040085762A KR 1020030020559 A KR1020030020559 A KR 1020030020559A KR 20030020559 A KR20030020559 A KR 20030020559A KR 20040085762 A KR20040085762 A KR 20040085762A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- display panel
- film
- shielding film
- forming
- electromagnetic shielding
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/44—Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters, black matrices, light reflecting means or electromagnetic shielding means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/07—Electric details
- H05K2201/0707—Shielding
- H05K2201/0715—Shielding provided by an outer layer of PCB
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10007—Types of components
- H05K2201/10128—Display
Abstract
Description
본 발명은 전자파 차폐막에 관한 것으로, 특히 제조 공정을 단순화하고 재료를 절감할 수 있는 전자파 차폐막의 제조 방법과 그를 이용한 표시 패널 모듈 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electromagnetic wave shielding film, and more particularly, to a manufacturing method of an electromagnetic wave shielding film capable of simplifying a manufacturing process and saving materials, a display panel module using the same, and a manufacturing method thereof.
일반적으로, 화상을 표시하는 디스플레이 장치의 전면에는 외부로 방사되는 전자파를 차폐하기 위한 전자파 차폐막이 구비된다. 이러한 전자파 차폐막은 전자파를 차폐하면서도 디스플레이 장치에서 요구되는 가시광 투과율을 확보하기 위하여 메쉬(Mesh) 형태의 도전 패턴을 구비하고 있다. 그러나, 종래의 메쉬 형태의 도전 패턴은 가시광 투과율을 저하시킴과 아울러 모아레(Moare) 현상을 유발하여 화질을 저하시키는 문제점이 있다. 이하, 종래 전자파 차폐막의 문제점을 가스 방전을 이용하여 화상을 표시하는 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel; 이하, PDP라 함)을 예로 들어 상세히 살펴보기로 한다.In general, an electromagnetic shielding film for shielding electromagnetic radiation emitted to the outside is provided on the front surface of the display device for displaying an image. The electromagnetic shielding film has a conductive pattern in the form of a mesh in order to shield electromagnetic waves and to secure visible light transmittance required by a display device. However, the conventional conductive pattern in the form of a mesh has a problem of lowering the visible light transmittance and causing a moare phenomenon to deteriorate the image quality. Hereinafter, a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP) for displaying an image using gas discharge will be described in detail with respect to the problem of the conventional electromagnetic shielding film.
PDP는 디지털 비디오 데이터에 따라 화소들 각각의 가스 방전 기간을 조절함으로써 화상을 표시하게 된다. 이러한 PDP로는 도 1에 도시된 바와 같이 3전극을 구비하고 교류 전압에 의해 구동되는 교류형 PDP가 대표적이다.The PDP displays an image by adjusting the gas discharge period of each of the pixels according to the digital video data. As such a PDP, an AC type PDP having three electrodes and driven by an AC voltage is typical.
도 1은 통상적으로 교류(AC)형 PDP의 구조를 도시한 사시도로서, 특히 하나의 서브 화소에 해당되는 방전셀의 구조를 도시한다.1 is a perspective view of a structure of an AC (AC) type PDP, in particular, showing a structure of a discharge cell corresponding to one sub-pixel.
도 1에 도시된 방전셀은 상부 기판(10) 상에 순차적으로 형성된 유지 전극쌍(12A, 12B), 상부 유전체층(14) 및 보호막(16)을 가지는 상판(15)과, 하부 기판(18) 상에 순차적으로 형성된 데이터 전극(20), 하부 유전체층(22), 격벽(24) 및 형광체층(26)을 가지는 하판(25)을 구비한다.The discharge cell shown in FIG. 1 includes an upper plate 15 having sustain electrode pairs 12A and 12B, an upper dielectric layer 14, and a protective layer 16 sequentially formed on the upper substrate 10, and the lower substrate 18. A lower plate 25 having a data electrode 20, a lower dielectric layer 22, a partition wall 24, and a phosphor layer 26 sequentially formed thereon is provided.
상부 기판(10)과 하부 기판(18)은 격벽(24)에 의해 평행하게 이격된다. 유지 전극쌍(12A, 12B) 각각은 상대적으로 넓은 폭을 가지며 가시광 투과를 위한 투명 전극과, 상대적으로 좁은 폭을 가지며 투명 전극의 저항성분을 보상하기 위한 금속 전극으로 구성된다. 이러한 유지 전극쌍(12A, 12B)은 주사 전극(12A) 및 유지 전극(12B)으로 구성된다. 주사 전극(12A)은 데이터 공급 시간을 결정하는 주사신호와 방전 유지를 위한 유지 신호를 주로 공급하고, 유지 전극(12B)은 그 방전 유지를 위한 유지 신호를 주로 공급한다. 상부 유전체층(14)과 하부 유전체층(22)에는 가스 방전시 생성된 전하들이 축적된다. 보호막(16)은 플라즈마의 스퍼터링에 의한 상부 유전체층(14)의 손상을 방지하여 PDP의 수명을 늘릴 뿐만 아니라 2차 전자의 방출 효율을 높이게 된다. 보호막(16)으로는 통상 산화 마그네슘(MgO)이 이용된다. 이러한 유전체층(14, 22)과 보호막(16)은 외부에서 인가되는 방전 전압을 낮출 수 있게 한다. 데이터 전극(20)은 상기 유지 전극쌍(12A, 12B)과 교차하게 형성된다. 이 데이터 전극(20)은 표시되어질 셀들을 선택하기 위한 데이터 신호를 공급한다. 격벽(24)은 상하부 기판(10, 18)과 함께 방전 공간을 마련함과 아울러 데이터 전극(20)과 나란하게 형성되어 가스 방전으로 생성된 자외선이 인접한 셀에 누설되는 것을 방지한다. 형광체층(26)은 하부 유전체층(22) 및 격벽(24)의 표면에 도포되어 적색, 녹색 또는 청색 중 어느 하나의 가시 광선을 발생하게 된다. 방전 공간에는 가스 방전을 위한 He, Ne, Ar, Xe, Kr 등의 불활성 가스, 이들이 조합된 방전가스, 또는 방전에 의해 자외선을 발생시킬 수 있는 엑시머(Excimer) 가스가 충진된다.The upper substrate 10 and the lower substrate 18 are spaced apart in parallel by the partition wall 24. Each of the sustain electrode pairs 12A and 12B has a relatively wide width and is composed of a transparent electrode for transmitting visible light, and a relatively narrow width and metal electrode for compensating for the resistance component of the transparent electrode. The sustain electrode pairs 12A and 12B are constituted by the scan electrode 12A and the sustain electrode 12B. The scan electrode 12A mainly supplies a scan signal for determining the data supply time and a sustain signal for sustaining discharge, and the sustain electrode 12B mainly supplies a sustain signal for sustaining the discharge. Charges generated during gas discharge are accumulated in the upper dielectric layer 14 and the lower dielectric layer 22. The protective layer 16 prevents damage to the upper dielectric layer 14 due to the sputtering of the plasma, thereby increasing the lifetime of the PDP and increasing the emission efficiency of the secondary electrons. As the protective film 16, magnesium oxide (MgO) is usually used. The dielectric layers 14 and 22 and the protective layer 16 may lower the discharge voltage applied from the outside. The data electrode 20 is formed to cross the storage electrode pairs 12A and 12B. This data electrode 20 supplies a data signal for selecting the cells to be displayed. The partition wall 24 forms a discharge space together with the upper and lower substrates 10 and 18, and is formed in parallel with the data electrode 20 to prevent the ultraviolet rays generated by the gas discharge from leaking into adjacent cells. The phosphor layer 26 is applied to the surfaces of the lower dielectric layer 22 and the partition wall 24 to generate visible light of any one of red, green, and blue. The discharge space is filled with an inert gas such as He, Ne, Ar, Xe, Kr for gas discharge, a discharge gas having a combination thereof, or an excimer gas capable of generating ultraviolet rays by discharge.
이러한 구조의 방전셀은 데이터 전극(20)과 주사 전극(12A) 사이의 대향 방전에 의해 선택된 다음, 유지 전극쌍(12A, 12B) 사이의 면방전에 의해 방전을 유지하게 된다. 이에 따라, 방전셀에서는 유지 방전시 발생되는 자외선에 의해 형광체(26)가 발광함으로써 가시광이 셀 외부로 방출된다. 이 경우, 방전셀은 비디오 데이터에 따라 셀의 방전 유지 기간, 즉 유지 방전 횟수를 조절하여계조(Gray Scale Level)를 구현하게 된다.The discharge cell of this structure is selected by the counter discharge between the data electrode 20 and the scan electrode 12A, and then holds the discharge by the surface discharge between the sustain electrode pairs 12A and 12B. As a result, in the discharge cell, the fluorescent material 26 emits light by ultraviolet rays generated during sustain discharge, so that visible light is emitted outside the cell. In this case, the discharge cell implements a gray scale by adjusting the discharge sustain period of the cell, that is, the number of sustain discharges, according to the video data.
도 2는 도 1에 도시된 PDP(30)를 포함하는 PDP 세트를 개략적으로 도시한 분해사시도이다.FIG. 2 is an exploded perspective view schematically showing a PDP set including the PDP 30 shown in FIG. 1.
도 2에 도시된 PDP 세트는 케이스(60)와, 케이스(60) 내에 수납되는 인쇄 회로 기판(Printed Circuit Board; 이하, PCB라 함)(50), PDP(30), 글래스형 전면 필터(40)와, 글래스형 전면 필터(40)의 전면 외곽부를 감싸면서 케이스(60)와 체결되는 커버(70)를 구비한다.The PDP set illustrated in FIG. 2 includes a case 60, a printed circuit board (hereinafter referred to as a PCB) 50, a PDP 30, and a glass type front filter 40 housed in the case 60. And a cover 70 which is fastened to the case 60 while surrounding the front outer portion of the glass type front filter 40.
PDP(30)는 도 1에 도시된 바와 같은 상판(15)과 하판(25)이 접합되어 형성된다.The PDP 30 is formed by joining the upper plate 15 and the lower plate 25 as shown in FIG. 1.
PDP(30)의 배면측에 위치하는 PCB(50)는 PDP(30)에 형성된 유지 전극쌍(12A, 12B) 및 어드레스 전극(20)을 구동하기 위한 다수의 구동 및 제어 회로들을 구비한다. 이러한 PCB(50)와 PDP(30)의 사이에는 PDP(30) 및 PCB(50)로부터 방출되는 열을 방출시키기 위한 방열판(미도시)이 설치된다.The PCB 50 located on the rear side of the PDP 30 includes a plurality of driving and control circuits for driving the sustain electrode pairs 12A and 12B and the address electrode 20 formed in the PDP 30. A heat sink (not shown) for dissipating heat emitted from the PDP 30 and the PCB 50 is installed between the PCB 50 and the PDP 30.
글래스형 전면 필터(40)는 PDP(30)에서 전면측으로 발생된 전자파 차폐, 외부광 반사 방지, 근적외선 차폐, 그리고 색 보정과 같은 기능을 하게 된다. 이를 위하여, 글래스형 전면 필터(40)는 도 3에 도시된 바와 같이 유리 기판(42)의 전면에 부착된 제1 반사방지막(44)과, 유리 기판(42)의 배면에 순차적으로 부착된 전자파 차폐막(46), 근적외선 차폐막(48), 색보정막(52), 그리고 제2 반사방지막(54)를 구비한다.The glass type front filter 40 has functions such as electromagnetic shielding, external light reflection prevention, near infrared shielding, and color correction generated from the PDP 30 to the front side. To this end, the glass type front filter 40 has a first anti-reflection film 44 attached to the front surface of the glass substrate 42 and electromagnetic waves sequentially attached to the rear surface of the glass substrate 42 as shown in FIG. 3. A shielding film 46, a near infrared shielding film 48, a color correction film 52, and a second antireflection film 54 are provided.
유리 기판(42)은 강화 유리를 사용하여 글래스형 전면 필터(40)를 지지하고,전면 필터(40) 및 PDP(30)가 외부 충격에 의해 파손되지 않도록 보호하게 된다. 제1 및 제2 반사방지(Antireflection)막(44, 54)은 외부로부터 입사된 광이 다시 외부로 반사되는 것을 방지하여 콘트라스트를 향상시키게 된다. 전자파 차폐막(46)은 PDP(30)로부터 발생된 전자파를 흡수하여 그 전자파가 외부로 방출되는 것을 차폐하게 된다. 근적외선(Near InfraRed) 차폐막(48)은 PDP(30)에서 발생된 약 800~1000nm 파장 대역의 근적외선을 흡수하여 외부로 방사되는 것을 차폐함으로써 리모콘 등에서 발생된 제어용 적외선(약 947nm 정도)이 상기 근적외선의 방해없이 PDP 세트에 마련된 적외선 수신부에 정상적으로 입력될 수 있게 한다. 색보정막(52)은 색 조절 염료(Color Dye)를 포함하여 색조를 조절함으로써 색순도를 높이게 된다. 이러한 다수의 박막들(44, 46, 48, 52, 54)은 점착체 또는 접착제를 통해 유리 기판(42)에 부착된다.The glass substrate 42 supports the glass type front filter 40 by using tempered glass, and protects the front filter 40 and the PDP 30 from being damaged by an external impact. The first and second antireflection films 44 and 54 improve contrast by preventing light incident from the outside from being reflected back to the outside. The electromagnetic shielding film 46 absorbs electromagnetic waves generated from the PDP 30 to shield the electromagnetic waves from being emitted to the outside. The near-infrared shielding film 48 absorbs near-infrared rays of about 800-1000 nm wavelength band generated by the PDP 30 to shield them from being radiated to the outside. Allows normal input to the infrared receiver provided in the PDP set without interference. The color correction layer 52 includes a color control dye (Color Dye) to increase the color purity by adjusting the color tone. These multiple films 44, 46, 48, 52, 54 are attached to the glass substrate 42 via adhesive or adhesive.
케이스(60)는 PCB(50) 및 글래스형 전면 필터(40)와 함께 수납되는 PDP(30)를 외부 충격으로부터 보호함과 아울러 PDP(30)의 측면 및 배면으로 방출되는 전자파를 차폐한다. 또한, 케이스(60)는 글래스형 전면 필터(40)를 PDP(30)과 이격되도록 그의 배면측에서 지지하는 지지부재(미도시)를 통해 글래스형 전면 필터(40)의 전자파 차폐막(46)과 전기적으로 접속된다. 이에 따라, 케이스(60)는 글래스형 전면 필터(40)의 전자파 차폐막(46)과 함께 그라운드 전원에 접지되어 PDP(30)로부터 방출된 전자파를 흡수하여 방전시킴으로써 전자파가 외부로 방출되는 것을 차폐하게 된다.The case 60 protects the PDP 30 accommodated together with the PCB 50 and the glass-type front filter 40 from external shocks and shields electromagnetic waves emitted to the side and the back of the PDP 30. In addition, the case 60 includes an electromagnetic shielding film 46 of the glass front filter 40 through a support member (not shown) that supports the glass front filter 40 on the rear side thereof to be spaced apart from the PDP 30. Electrically connected. Accordingly, the case 60 is grounded together with the electromagnetic shielding film 46 of the glass-type front filter 40 to absorb and discharge electromagnetic waves emitted from the PDP 30 to shield the electromagnetic waves from being emitted to the outside. do.
커버(70)는 글래스형 전면 필터(40)의 전면 외곽부를 감싸면서 케이스(60)와체결된다.The cover 70 is fastened to the case 60 while surrounding the front outer portion of the glass type front filter 40.
이와 같이, 종래의 PDP 세트는 전자파를 차폐함과 아울러 광학 특성을 보정하기 위한 글래스형 전면 필터(40)를 사용한다. 그러나, 글래스형 전면 필터(40)는 상대적으로 두꺼운 유리 기판, 즉 강화 유리(42)를 포함함에 따라 PDP 세트의 두께 및 무게 증가의 주요 원인이 될 뿐만 아니라 제조 원가가 높다는 단점을 가진다.As such, the conventional PDP set uses a glass type front filter 40 for shielding electromagnetic waves and correcting optical characteristics. However, the glass type front filter 40 includes a relatively thick glass substrate, i.e., tempered glass 42, which is not only a major cause of increasing the thickness and weight of the PDP set, but also has a disadvantage of high manufacturing cost.
이에 따라, 도 4에 도시된 바와 같이 유리 기판을 제거한 필름형 전면 필터가 제안되었다. 도 4에 도시된 필름형 전면 필터(60)는 PDP(30)의 상판(15)에 순차적으로 부착된 색보정막(68), 근적외선 차폐막(66), 전자파 차폐막(64), 그리고 반사방지막(62)을 구비한다.Accordingly, a film type front filter in which the glass substrate is removed as shown in FIG. 4 has been proposed. The film type front filter 60 illustrated in FIG. 4 includes a color correction film 68, a near infrared shielding film 66, an electromagnetic wave shielding film 64, and an antireflection film that are sequentially attached to the upper plate 15 of the PDP 30. 62).
반사방지막(62)은 외부로부터 입사된 광이 다시 외부로 반사되는 것을 방지한다. 전자파 차폐막(64)은 PDP(30)로부터 발생된 전자파를 흡수하여 방전시킴으로써 그 전자파가 외부로 방출되는 것을 차폐한다. 근적외선 차폐막(66)은 PDP(30)에서 발생된 근적외선을 흡수하여 외부로 방사되는 것을 차폐한다. 색보정막(68)은 색 조절 염료를 포함하여 색조를 조절함으로써 색순도를 높이게 된다. 이러한 다수의 박막들(62, 64, 66, 68)은 점착체 또는 접착제를 통해 PDP(30)의 상판(15)에 부착된다.The anti-reflection film 62 prevents light incident from the outside from being reflected back to the outside. The electromagnetic wave shielding film 64 absorbs and discharges electromagnetic waves generated from the PDP 30 to shield the electromagnetic waves from being emitted to the outside. The near-infrared shielding film 66 absorbs the near-infrared generated from the PDP 30 and shields it from being radiated to the outside. The color correction film 68 includes a color control dye to increase color purity by adjusting the color tone. Such a plurality of thin films 62, 64, 66, 68 are attached to the top plate 15 of the PDP 30 through an adhesive or an adhesive.
이와 같이 도 3에 도시된 글래스형 전면 필터(40)와 필름형 전면 필터(60)는 PDP(30)로부터 발생된 전자파를 차폐하기 위한 전자파 차폐막(46, 64)을 구비한다. 전자파 차폐막(46, 64)은 투과율 확보를 위하여 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이도전성 메쉬(Mesh)(74)와, 도전성 메쉬(74)를 지지하는 프레임(72)과, 도전성 메쉬(74) 및 프레임(72)이 형성된 베이스 필름(76)을 구비한다.Thus, the glass type front filter 40 and the film type front filter 60 shown in FIG. 3 are equipped with the electromagnetic wave shielding film 46 and 64 for shielding the electromagnetic wave which generate | occur | produced from the PDP 30. As shown in FIG. The electromagnetic shielding films 46 and 64 may be formed of a conductive mesh (Mesh) 74, a frame 72 supporting the conductive mesh 74, and a conductive mesh 74 as shown in FIGS. 5 and 6 to secure transmittance. ) And the base film 76 on which the frame 72 is formed.
도 5 및 도 6에 있어서, 도전성 메쉬(74)는 은(Ag), 구리(Cu) 등을 이용한 금속층을 포토리쏘그래피 공정 및 식각 공정으로 패터닝하여 형성한다. 상세히 하면, 베이스 필름 위에 금속 박막을 형성하고, 그 금속 박막 위에 포토레지스트를 도포한다. 이어서, 포토레지스트를 마스크를 이용하여 패터닝함으로써 프레임과 메쉬 형태의 포토레지스트 패턴을 형성한다. 이러한 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 금속 박막을 패터닝함으로써 도 6에 도시된 바와 같이 베이스 필름(76) 위에 프레임(72)과 도전성 메쉬(74)가 형성된다. 그리고, 프레임(72) 및 도전성 메쉬(74) 위에 남아있는 포토레지스터 패턴을 스트립 공정으로 제거한다.5 and 6, the conductive mesh 74 is formed by patterning a metal layer using silver (Ag), copper (Cu), or the like by a photolithography process and an etching process. In detail, a metal thin film is formed on a base film, and a photoresist is apply | coated on this metal thin film. Subsequently, the photoresist is patterned using a mask to form photoresist patterns in the form of frames and meshes. By using the photoresist pattern as a mask to pattern a metal thin film, a frame 72 and a conductive mesh 74 are formed on the base film 76 as shown in FIG. 6. Then, the photoresist pattern remaining on the frame 72 and the conductive mesh 74 is removed by a strip process.
이와 같이, 종래의 전자파 차폐막 제조 방법은 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 포토리쏘그래피 공정과 금속 박막을 패터닝하기 위한 식각 공정을 포함한다. 이에 따라, 종래의 전자파 차폐막 제조 방법은 공정 수가 많아 복잡할 뿐만 아니라 포토리쏘그래피 공정과 식각 공정으로 인한 재료 손실이 많다는 문제점이 있다.As such, the conventional method of manufacturing an electromagnetic shielding film includes a photolithography process for forming a photoresist pattern and an etching process for patterning a metal thin film. Accordingly, the conventional method for manufacturing an electromagnetic wave shielding film has a number of processes, which are complicated, and there is a problem that a lot of material loss is caused by the photolithography process and the etching process.
따라서, 본 발명의 목적은 공정 수와 재료 손실을 절감할 수 있는 전자파 차폐막 제조 방법과 그를 이용한 표시 패널 모듈 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing an electromagnetic shielding film, a display panel module using the same, and a method for manufacturing the same, which can reduce the number of steps and material loss.
도 1은 종래의 3전극 교류 면방전형 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 도시한 사시도.1 is a perspective view showing the structure of a conventional three-electrode AC surface discharge type plasma display panel.
도 2는 도 1에 도시된 플라즈마 디스플레이 패널을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 세트의 분해 사시도.FIG. 2 is an exploded perspective view of a plasma display panel set including the plasma display panel shown in FIG. 1.
도 3은 도 2에 도시된 글래스형 전면 필터와 플라즈마 디스플레이 패널의 수직 구조를 도시한 단면도.3 is a cross-sectional view illustrating a vertical structure of the glass front filter and the plasma display panel shown in FIG.
도 4는 종래의 필름형 전면 필터가 부착된 플라즈마 디스플레이 패널의 수직 구조를 도시한 단면도.4 is a cross-sectional view showing a vertical structure of a plasma display panel to which a conventional film type front filter is attached.
도 5는 도 3 및 도 4에 도시된 전자파 차폐막의 구체적인 구조를 도시한 평면도.5 is a plan view illustrating a specific structure of the electromagnetic shielding film illustrated in FIGS. 3 and 4.
도 6은 도 5에 도시된 전자파 차폐막을 A-A'선을 따라 절단하여 도시한 단면도.FIG. 6 is a cross-sectional view of the electromagnetic shielding film of FIG. 5 taken along line AA ′. FIG.
도 7은 본 발명의 실시 예에 따른 전자파 차폐막의 제조 방법을 단계적으로설명하는 흐름도.7 is a flowchart illustrating a step-by-step method of manufacturing an electromagnetic shielding film according to an embodiment of the present invention.
도 8은 본 발명의 제조 방법에 따른 전자파 차폐막을 도시한 단면도.8 is a sectional view showing an electromagnetic shielding film according to the manufacturing method of the present invention.
도 9은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 전자파 차폐막의 제조 방법을 단계적으로 설명하는 흐름도.9 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an electromagnetic shielding film, in accordance with another embodiment of the present invention.
도 10은 본 발명의 실시 예에 따른 필름형 광학 필터를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 모듈을 도시한 단면도.10 is a cross-sectional view showing a plasma display panel module having a film type optical filter according to an embodiment of the present invention.
도 11은 도 10에 도시된 플라즈마 디스플레이 패널 모듈의 제조 방법을 단계적으로 설명하는 흐름도.FIG. 11 is a flowchart for explaining a manufacturing method of the plasma display panel module shown in FIG. 10 step by step;
도 12a 내지 도 12d는 도 11에 도시된 흐름도에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 모듈의 제조 방법을 단계적으로 도시한 단면도들.12A through 12D are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a plasma display panel module according to the flowchart shown in FIG. 11.
도 13은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 글래스형 광학 필터를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 모듈을 도시한 단면도.13 is a cross-sectional view showing a plasma display panel module having a glass optical filter according to another embodiment of the present invention.
도 14는 도 13에 도시된 플라즈마 디스플레이 패널 모듈의 제조 방법을 단계적으로 설명하는 흐름도.14 is a flowchart for explaining a manufacturing method of the plasma display panel module shown in FIG. 13 step by step;
도 15a 내지 도 15c는 도 14에 도시된 흐름도에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 모듈의 제조 방법을 단계적으로 도시한 도면들.15A to 15C are sectional views illustrating a method of manufacturing a plasma display panel module according to the flowchart shown in FIG. 14.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>
10 : 상부 기판 12A : 주사 전극10: upper substrate 12A: scanning electrode
12B : 유지 전극 14 : 상부 유전체층12B: sustain electrode 14, upper dielectric layer
15, 92 : 상판 16 : 보호막15, 92: top plate 16: protective film
18 : 하부 기판 20 : 데이터 전극18: lower substrate 20: data electrode
22 : 하부 유전체층 24 : 격벽22: lower dielectric layer 24: partition wall
26 : 형광체 25, 94 : 하판26: phosphor 25, 94: lower plate
30, 90 : PDP 40 : 글래스형 전면 필터30, 90: PDP 40: glass type front filter
50 : PCB 60 : 케이스50: PCB 60: Case
70 : 커버 42, 106 : 유리 기판70: cover 42, 106: glass substrate
44, 48, 54, 98, 108, 109 : 반사 방지막 46, 64, 80, 88 : 전자파 차폐막44, 48, 54, 98, 108, 109: antireflection film 46, 64, 80, 88: electromagnetic shielding film
48, 66, 96, 104 : 근적외선 차폐막 52, 102 : 색보정막48, 66, 96, 104: near infrared shielding film 52, 102: color correction film
60 : 필름형 전면 필터 72, 86 : 프레임60: film type front filter 72, 86: frame
74, 84 : 도전성 메쉬 76, 82 : 베이스 필름74, 84: conductive mesh 76, 82: base film
100 : 필름형 광학 필터 110 : 글래스형 광학 필터100: film type optical filter 110: glass type optical filter
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 전자파 차폐막의 제조 방법은 베이스 필름을 마련하는 단계와; 상기 베이스 필름 상에 스크린 프린팅법 및 잉크젯법 중 어느 하나를 이용하여 도전성 패턴들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the manufacturing method of the electromagnetic shielding film according to the present invention comprises the steps of providing a base film; And forming conductive patterns on the base film using any one of a screen printing method and an inkjet method.
상기 도전성 패턴들을 형성하는 단계는 상기 베이스 필름 상에 금속 페이스트를 원하는 패턴으로 형성하는 단계와; 상기 형성된 금속 페이스트를 소성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The forming of the conductive patterns may include forming a metal paste in a desired pattern on the base film; Firing the formed metal paste.
상기 도전성 패턴들을 형성하는 단계는 도전성 메쉬를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The forming of the conductive patterns may include forming a conductive mesh.
상기 도전성 패턴들을 형성하는 단계는 상기 도전성 메쉬를 외곽에서 지지하는 프레임을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다.The forming of the conductive patterns may further include forming a frame that supports the conductive mesh from the outside.
상기 도전성 패턴들을 형성하기 전에 상기 베이스 필름 상에 투명 도전막을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다.The method may further include forming a transparent conductive film on the base film before forming the conductive patterns.
본 발명의 한 특징에 따른 표시 패널 모듈은 표시 패널과; 상기 표시 패널의 상면에 형성되어 상기 표시 패널로부터의 전자파 방출을 방지하기 위한 도전성 패턴들을 포함하는 전자파 차폐막과; 상기 전자파 차폐막 상에 부착된 필름형 광학 필터를 구비한다.A display panel module according to an aspect of the present invention includes a display panel; An electromagnetic shielding film formed on an upper surface of the display panel and including conductive patterns for preventing electromagnetic emission from the display panel; A film type optical filter attached to the said electromagnetic wave shielding film is provided.
본 발명의 다른 특징에 따른 표시 패널 모듈은 표시 패널과; 상기 표시 패널의 상면에 형성되어 상기 표시 패널로부터의 전자파 방출을 방지하기 위한 도전성 패턴들을 포함하는 전자파 차폐막과; 상기 전자파 차폐막 상에 이격되어 장착된 글래스형 광학 필터를 구비한다.According to another aspect of the present invention, a display panel module includes a display panel; An electromagnetic shielding film formed on an upper surface of the display panel and including conductive patterns for preventing electromagnetic emission from the display panel; It is provided with a glass type optical filter spaced apart on the electromagnetic shielding film.
상기 도전성 패턴들은 도전성 메쉬를 구비하는 것을 특징으로 한다.The conductive patterns have a conductive mesh.
상기 도전성 패턴들은 상기 도전성 메쉬를 외곽에서 지지하는 프레임을 추가로 구비하는 것을 특징으로 한다.The conductive patterns may further include a frame that supports the conductive mesh from the outside.
상기 전자파 차폐막은 상기 도전성 패턴들과 상기 표시 패널 사이에 형성되는 베이스 필름과 투명 도전막 중 적어도 하나를 추가로 구비하는 것을 특징으로 한다.The electromagnetic shielding film may further include at least one of a base film and a transparent conductive film formed between the conductive patterns and the display panel.
본 발명의 한 특징에 따른 표시 패널의 제조 방법은 표시 패널을 마련하는 단계와; 상기 표시 패널의 상면에 상기 표시 패널로부터의 전자파 방출을 방지하기 위한 도전성 패턴들을 포함하는 전자파 차폐막을 형성하는 단계와; 상기 전자파 차폐막 상에 필름형 광학 필터를 부착하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a display panel according to an aspect of the present invention includes providing a display panel; Forming an electromagnetic shielding film on the upper surface of the display panel including conductive patterns for preventing electromagnetic emission from the display panel; Attaching a film type optical filter on the electromagnetic shielding film.
본 발명의 다른 특징에 따른 표시 패널 모듈의 제조 방법은 표시 패널을 마련하는 단계와; 상기 표시 패널의 상면에 상기 표시 패널로부터의 전자파 방출을 방지하기 위한 도전성 패턴들을 포함하는 전자파 차폐막을 형성하는 단계와; 상기 전자파 차폐막 상에 글래스형 광학 필터를 이격되게 장착하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing a display panel module includes preparing a display panel; Forming an electromagnetic shielding film on the upper surface of the display panel including conductive patterns for preventing electromagnetic emission from the display panel; And mounting a glass type optical filter spaced apart from the electromagnetic shielding film.
상기 전자파 차폐막을 형성하는 단계는 상기 스크린 프린팅법 및 잉크젯법 중 어느 하나를 이용하여 금속 페이스트를 상기 표시 패널의 상면에 형성하는 단계와; 상기 형성된 금속 페이스트를 소성하여 상기 도전성 패턴들을 형성하는 단계를포함하는 것을 특징으로 한다.The forming of the electromagnetic shielding film may include forming a metal paste on an upper surface of the display panel using any one of the screen printing method and the inkjet method; Firing the formed metal paste to form the conductive patterns.
상기 전자파 차폐막을 형성하는 단계는 도전성 메쉬를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The forming of the electromagnetic shielding film may include forming a conductive mesh.
상기 전자파 차폐막을 형성하는 단계는 상기 도전성 메쉬를 외곽에서 지지하는 프레임을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다.The forming of the electromagnetic shielding film may further include forming a frame that supports the conductive mesh from the outside.
상기 전자파 차폐막을 형성하는 단계는 상기 도전성 패턴들을 형성하기 전에 상기 표시 패널의 상면에 베이스 필름과 투명 도전막 중 적어도 하나를 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다.The forming of the electromagnetic shielding film may further include forming at least one of a base film and a transparent conductive film on an upper surface of the display panel before forming the conductive patterns.
상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and features of the present invention in addition to the above objects will become apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 도 7 내지 도 15c를 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 7 to 15C.
도 7은 본 발명의 실시 예에 따른 전자파 차폐막의 제조 방법을 단계적으로 설명하는 흐름도이고, 도 8은 도 7에 도시된 제조 방법에 따라 형성된 전자파 차폐 필름을 도시한 단면도이다.7 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an electromagnetic shielding film according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating an electromagnetic shielding film formed according to the manufacturing method illustrated in FIG. 7.
우선, 단계 10(S10)에서 베이스 필름(82)을 준비한다. 이어서, 단계 12(S12)에서 준비된 베이스 필름(82) 상에 스크린 프린팅 방법을 이용하여 금속 페이스트를 프레임 및 메쉬 형상으로 인쇄한다. 여기서, 금속 페이스트는 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 니켈(Ni), 금(Au), 또는 카본 나노 튜브(CNT)의 나노 파티클(Nano Particle) 또는 파우더(Powder)를 포함하게 된다. 그리고, 단계 14(S14)에서 인쇄된 금속 페이스트를 소성시킴으로써 도 7에 도시된 바와 같이 도전성 메쉬(84) 및 프레임(86)으로 구성되는 도전성 패턴들을 형성하게 된다. 이 경우, 베이스 필름(82) 상에는 프레임(86) 없이 도전성 메쉬(84)만을 구성하는 도전성 패턴들이 형성될 수 있다. 또한, 상기 도전성 패턴들(84, 86) 형성되기 전에 베이스 필름(82) 상에 투명 도전막이 스퍼터링 등과 같은 증착 방법을 통해 추가적으로 도포될 수 있다.First, the base film 82 is prepared in step 10 (S10). Subsequently, the metal paste is printed in a frame and mesh shape using a screen printing method on the base film 82 prepared in step 12 (S12). The metal paste may be formed of nano particles or powders of aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), nickel (Ni), gold (Au), or carbon nanotubes (CNT). It will be included. Then, by firing the metal paste printed in step 14 (S14) to form the conductive patterns consisting of the conductive mesh 84 and the frame 86 as shown in FIG. In this case, conductive patterns constituting only the conductive mesh 84 without the frame 86 may be formed on the base film 82. In addition, before the conductive patterns 84 and 86 are formed, a transparent conductive film may be additionally applied on the base film 82 through a deposition method such as sputtering.
도 9는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 전자파 차폐막의 제조 방법을 단계적으로 설명하는 흐름도이다.9 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an electromagnetic shielding film according to another exemplary embodiment of the present invention.
우선, 단계 20(S20)에서 베이스 필름(82)을 준비한다. 이어서, 단계 22(S22)에서 준비된 베이스 필름(82)의 특정 영역에 잉크젯 방법으로 금속 페이스트를 분사시킴으로써 프레임 및 메쉬 형상으로 금속 페이스트가 형성되게 한다. 여기서, 금속 페이스트는 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 니켈(Ni), 금(Au), 또는 카본 나노 튜브(Carbon Nano Tube; CNT)의 나노 파티클(Nano Particle) 또는 파우더(Powder)를 포함하게 된다. 그리고, 단계 24(S24)에서 형성된 금속 페이스트를 소성시킴으로써 도 7에 도시된 바와 같이 도전성 메쉬(84) 및 프레임(86)으로 구성되는 도전성 패턴들을 형성하게 된다. 이 경우, 베이스 필름(82) 상에는 프레임(86) 없이 도전성 메쉬(84)만을 구성하는 도전성 패턴들이 형성될 수 있다. 또한, 상기 도전성 패턴들(84, 86) 형성되기 전에 베이스 필름(82) 상에 투명 도전막이 스퍼터링 등과 같은 증착 방법을 통해 추가적으로 도포될 수 있다.First, the base film 82 is prepared in step 20 (S20). Subsequently, the metal paste is sprayed onto a specific region of the base film 82 prepared in step 22 (S22) by an inkjet method to form a metal paste in a frame and mesh shape. The metal paste may be nano particles or powder of aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), nickel (Ni), gold (Au), or carbon nano tube (CNT). It will contain the Powder. Then, by firing the metal paste formed in step 24 (S24) to form conductive patterns consisting of the conductive mesh 84 and the frame 86 as shown in FIG. In this case, conductive patterns constituting only the conductive mesh 84 without the frame 86 may be formed on the base film 82. In addition, before the conductive patterns 84 and 86 are formed, a transparent conductive film may be additionally applied on the base film 82 through a deposition method such as sputtering.
이와 같이, 본 발명에 따른 전자파 차폐막(80)의 제조 방법은 스크린 프린팅방법 또는 잉크젯 방법을 이용하여 베이스 필름(82) 상에 도전성 패턴들을 형성하게 된다. 이에 따라, 본 발명에 따른 전자파 차폐막의 제조 방법은 공정 수가 줄어듦과 아울러 기존의 포토리쏘그래피 공정 및 식각 공정을 포함하지 않으므로 재료 손실을 절감할 수 있게 된다.As such, in the method of manufacturing the electromagnetic shielding film 80 according to the present invention, conductive patterns are formed on the base film 82 by using a screen printing method or an inkjet method. Accordingly, the method of manufacturing the electromagnetic shielding film according to the present invention reduces the number of processes and does not include the conventional photolithography process and the etching process, thereby reducing material loss.
이러한 전자파 차폐막(80)은 글래스형 전면 필터에 포함되어 PDP 상에 장착되거나, 필름형 전면 필터에 포함되어 PDP에 부착된다.The electromagnetic shielding film 80 is included in the glass type front filter and mounted on the PDP, or is included in the film type front filter and attached to the PDP.
또한, 본 발명에 따른 전자파 차폐막은 PDP의 상면에 상기 스크린 프린팅 방법 또는 잉크젯 방법을 이용하여 직접 형성될 수도 있다. 이하, 상면에 직접 형성된 전자파 차폐막을 갖는 PDP 모듈과 그의 제조 방법에 대하여 상세히 하면 다음과 같다.In addition, the electromagnetic shielding film according to the present invention may be directly formed on the upper surface of the PDP using the screen printing method or the inkjet method. Hereinafter, a PDP module having an electromagnetic shielding film formed directly on its upper surface and a manufacturing method thereof will be described in detail.
도 10은 본 발명의 실시 예에 따른 필름형 전면 필터를 갖는 PDP 모듈을 도시한 단면도이다.10 is a cross-sectional view showing a PDP module having a film-type front filter according to an embodiment of the present invention.
도 10에 도시된 PDP 모듈은 서로 합착된 상판(92) 및 하판(94)과, 상판(92)의 상면에 형성된 전자파 차폐막(88)을 구비하는 PDP(90)와, PDP(90)의 전자파 차폐막(88) 위에 부착된 필름형 광학 필터(100)를 구비한다.The PDP module shown in FIG. 10 includes a PDP 90 having an upper plate 92 and a lower plate 94 bonded to each other, an electromagnetic shielding film 88 formed on an upper surface of the upper plate 92, and an electromagnetic wave of the PDP 90. The film type optical filter 100 attached on the shielding film 88 is provided.
PDP(90)에 포함되는 상판(92) 및 하판(94)은 내부에 가스 방전 공간을 마련하면서 서로 합착되고, 그 가스 방전을 이용하여 화상을 표시한다.The upper plate 92 and the lower plate 94 included in the PDP 90 are bonded to each other while providing a gas discharge space therein, and display an image using the gas discharge.
전자파 차폐막(88)은 상판(92)의 상면에 전술한 스크린 프린팅 방법 또는 잉크젯 방법을 통해 직접 형성된 도전성 메쉬 및 프레임, 또는 도전성 메쉬와 같은 도전성 패턴들을 구비하여 PDP(90)로부터 전자파가 방출되는 것을 차폐하게 된다.이러한 전저파 차폐막(88)은 상기 도전성 패턴들이 형성되기 전에 상판(92) 상에 형성된 베이스 필름, 또는 투명 도전막, 또는 베이스 필름 및 투명 도전막이 추가적으로 구비할 수 있다.The electromagnetic shielding film 88 is provided with conductive patterns such as a conductive mesh and a frame or a conductive mesh directly formed on the upper surface of the upper plate 92 by the above-described screen printing method or inkjet method, thereby emitting electromagnetic waves from the PDP 90. The electromagnetic wave shielding film 88 may further include a base film, a transparent conductive film, or a base film and a transparent conductive film formed on the upper plate 92 before the conductive patterns are formed.
필름형 광학 필터(100)는 PDP(90)로부터 방출되는 근적외선을 흡수하기 위한 근적외선 흡수제와, 색 조절을 위한 색 보정용 염료(Color Dye)를 포함하는 근적외선 차폐막(96)과, 근적외선 차폐막(96) 위에 부착되어 외부광 반사를 방지하는 반사방지막(98)을 구비한다. 이러한 구성을 갖는 필름형 광학 필터(100)는 PDP(90)의 상판(92)에 형성된 전자파 차폐막(88)과 점작체 또는 접착제를 통해 부착된다.The film type optical filter 100 includes a near infrared ray shielding film 96 including a near infrared ray absorber for absorbing near infrared rays emitted from the PDP 90, a color correction dye for color adjustment, and a near infrared ray shielding film 96. It is provided with an anti-reflection film 98 attached to prevent the reflection of external light. The film type optical filter 100 having such a structure is attached to the electromagnetic wave shielding film 88 formed on the upper plate 92 of the PDP 90 through a tack or adhesive.
도 11은 도 10에 도시된 PDP 모듈의 제조 방법을 단계적으로 설명하는 흐름도이고, 도 12a 내지 도 12c는 그 제조 방법을 단계적으로 도시한 단면도들이다.FIG. 11 is a flowchart for explaining a manufacturing method of the PDP module shown in FIG. 10 step by step, and FIGS. 12A to 12C are cross-sectional views illustrating the manufacturing method step by step.
우선, 단계 30(S30)에서 도 12a에 도시된 바와 같이 상판(92)과 하판(94)이 합착된 PDP(90)를 마련한다.First, in step 30 (S30), as shown in FIG. 12A, a PDP 90 having an upper plate 92 and a lower plate 94 bonded together is prepared.
이어서, 단계 32(S32)에서 도 12b에 도시된 바와 같이 PDP(90)의 상판(92) 상에 전술한 바와 같이 금속 페이스트를 스크린 프린팅 방법 또는 잉크젯 방법을 통해 도전성 패턴들을 갖는 전자파 차폐막(88)을 형성한다. 이 경우, 도전성 패턴들은 가시광 투과 및 전자파 차폐를 위한 도전성 메쉬만을 구비하거나, 그 도전성 메쉬를 외곽에서 지지하는 프레임을 추가적으로 구비한다. 또한, 전자파 차폐막(88)은 상기 도전성 패턴들이 형성되기 전에 상판(92) 상에 형성된 베이스 필름, 또는 투명 도전막, 또는 베이스 필름 및 투명 도전막을 추가로 구비할 수 있다.Subsequently, in step 32 (S32), an electromagnetic wave shielding film 88 having conductive patterns on the top plate 92 of the PDP 90 as described above by means of a screen printing method or an inkjet method as described above. To form. In this case, the conductive patterns may include only a conductive mesh for transmitting visible light and shielding electromagnetic waves, or additionally include a frame supporting the conductive mesh from the outside. In addition, the electromagnetic shielding film 88 may further include a base film, a transparent conductive film, or a base film and a transparent conductive film formed on the upper plate 92 before the conductive patterns are formed.
그 다음, 단계 34(S34)에서 도 12c에 도시된 바와 같이 근적외선 차폐막(96)과 반사방지막(98)을 갖는 필름형 광학 필터(90)를 마련하여 점착제 또는 접착제를 통해 PDP(90)의 전자파 차폐막(88)에 부착시키게 된다.Next, in step 34 (S34), as shown in FIG. 12C, a film-type optical filter 90 having a near infrared shielding film 96 and an antireflection film 98 is provided, and an electromagnetic wave of the PDP 90 is applied through an adhesive or an adhesive. It is attached to the shielding film 88.
도 13은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 글래스형 전면 필터를 갖는 PDP 모듈을 도시한 단면도이다.13 is a cross-sectional view illustrating a PDP module having a glass front filter according to another embodiment of the present invention.
도 13에 도시된 PDP 모듈은 서로 합착된 상판(92) 및 하판(94)과, 상판(92)의 상면에 형성된 전자파 차폐막(88)을 구비하는 PDP(90)와, PDP(90) 상에 이격되어 장착된 글래스형 광학 필터(110)를 구비한다.The PDP module illustrated in FIG. 13 includes a PDP 90 having an upper plate 92 and a lower plate 94 bonded to each other, an electromagnetic shielding film 88 formed on an upper surface of the upper plate 92, and a PDP 90. And a glass type optical filter 110 spaced apart.
PDP(90)에 포함되는 상판(92) 및 하판(94)은 내부에 가스 방전 공간을 마련하면서 서로 합착되고, 그 가스 방전을 이용하여 화상을 표시한다.The upper plate 92 and the lower plate 94 included in the PDP 90 are bonded to each other while providing a gas discharge space therein, and display an image using the gas discharge.
전자파 차폐막(88)은 상판(92)의 상면에 전술한 스크린 프린팅 방법 또는 잉크젯 방법을 통해 형성된 도전성 메쉬 및 프레임, 또는 도전성 메쉬와 같은 도전성 패턴들을 구비하여 PDP(90)로부터 전자파가 방출되는 것을 차폐하게 된다. 이러한 전저파 차폐막(88)은 상기 도전성 패턴들이 형성되기 전에 상판(92) 상에 형성된 베이스 필름, 또는 투명 도전막, 또는 베이스 필름 및 투명 도전막이 추가적으로 구비할 수 있다.The electromagnetic shielding film 88 includes conductive meshes and frames formed on the upper surface of the upper plate 92 by the above-described screen printing method or inkjet method, or conductive patterns such as conductive meshes to shield electromagnetic waves from being emitted from the PDP 90. Done. The electromagnetic wave shielding film 88 may further include a base film, a transparent conductive film, or a base film and a transparent conductive film formed on the upper plate 92 before the conductive patterns are formed.
글래스형 광학 필터(110)는 그 글래스형 전면 필터(110)를 지지하는 유리 기판(106)과, 유리 기판(106)의 일측면에 부착되고 PDP(90)로부터 방출되는 근적외선을 흡수하기 위한 근적외선 차폐막(104)과, 근적외선 차폐막(104)에 부착되고 색 조절을 위한 색 보정용 염료(Color Dye)를 포함하는 색보정막(102)과, 유리기판(106)과 색보정막(102) 각각에 부착되어 외부광 반사를 방지하는 제1 및 제2 반사방지막(108, 109)를 구비한다. 이러한 구성을 갖는 글래스형 광학 필터(110)는 전자파 차폐막(88)이 형성된 PDP(90)와 소정의 이격거리를 두고 PDP 세트에 마련되는 별도의 지지부재(미도시)에 장착된다.The glass-type optical filter 110 includes a glass substrate 106 supporting the glass-type front filter 110 and a near infrared ray attached to one side of the glass substrate 106 and absorbing near infrared rays emitted from the PDP 90. A color correction film 102 attached to the shielding film 104, a near infrared shielding film 104, and including a color correction dye (Color Dye) for color adjustment, a glass substrate 106 and a color correction film 102, respectively. And first and second anti-reflection films 108 and 109 attached thereto to prevent reflection of external light. The glass type optical filter 110 having such a configuration is mounted on a separate support member (not shown) provided in the PDP set at a predetermined distance from the PDP 90 having the electromagnetic shielding film 88 formed thereon.
도 14은 도 13에 도시된 PDP 모듈의 제조 방법을 단계적으로 설명하는 흐름도이고, 도 15a 내지 도 15c는 그 제조 방법을 단계적으로 도시한 단면도들이다.FIG. 14 is a flowchart for explaining a manufacturing method of the PDP module shown in FIG. 13 step by step, and FIGS. 15A to 15C are cross-sectional views illustrating the manufacturing method step by step.
우선, 단계 40(S40)에서 도 15a에 도시된 바와 같이 상판(92)과 하판(94)이 합착된 PDP(90)를 마련한다.First, in step 40 (S40), as shown in FIG. 15A, a PDP 90 having an upper plate 92 and a lower plate 94 bonded together is prepared.
이어서, 단계 42(S42)에서 도 15b에 도시되 바와 같이 PDP(90)의 상판(92) 상에 전술한 바와 같이 금속 페이스트를 스크린 프린팅 방법 또는 잉크젯 방법을 통해 도전성 패턴들을 갖는 전자파 차폐막(88)을 형성한다. 이 경우, 도전성 패턴들은 가시광 투과 및 전자파 차폐를 위한 도전성 메쉬만을 구비하거나, 그 도전성 메쉬를 외곽에서 지지하는 프레임을 추가적으로 구비한다. 또한, 전자파 차폐막(88)은 상기 도전성 패턴들이 형성되기 전에 상판(92) 상에 형성된 베이스 필름, 또는 투명 도전막, 또는 베이스 필름 및 투명 도전막을 추가로 구비할 수 있다.Subsequently, in step 42 (S42), the electromagnetic shielding film 88 having conductive patterns on the top plate 92 of the PDP 90 as shown in FIG. 15B through the screen printing method or the inkjet method as described above. To form. In this case, the conductive patterns may include only a conductive mesh for transmitting visible light and shielding electromagnetic waves, or additionally include a frame supporting the conductive mesh from the outside. In addition, the electromagnetic shielding film 88 may further include a base film, a transparent conductive film, or a base film and a transparent conductive film formed on the upper plate 92 before the conductive patterns are formed.
그 다음, 단계 44(S44)에서 도 15c에 도시된 바와 같이 제2 반사방지막(109), 색보정막(102), 근적외선 차폐막(104), 유기 기판(106), 제1 반사방지막(108)이 순차적으로 적층된 구조를 갖는 글래스형 광학 필터(110)가 전자파 차폐막(88)이 형성된 PDP(90)와 소정의 이격거리를 두고 PDP 세트에 마련되는별도의 지지부재(미도시)에 장착된다.Next, at step 44 (S44), as shown in FIG. 15C, the second anti-reflection film 109, the color correction film 102, the near-infrared shield film 104, the organic substrate 106, and the first anti-reflection film 108 are shown. The glass-type optical filter 110 having the sequentially stacked structure is mounted on a separate supporting member (not shown) provided in the PDP set at a predetermined distance from the PDP 90 having the electromagnetic shielding film 88 formed thereon. .
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 전자파 차폐막의 제조 방법은 스크린 프린팅 또는 잉크젯 방법을 이용하여 도전성 패턴들을 형성함으로써 제조 공정을 단순화시킬 수 있음과 아울러 포토리쏘그래피 공정 및 식각 공정을 포함하지 않음으로 재료 손실을 절감할 수 있게 된다.As described above, the method of manufacturing the electromagnetic shielding film according to the present invention can simplify the manufacturing process by forming conductive patterns using screen printing or inkjet method, and does not include a photolithography process and an etching process. The loss can be reduced.
또한, 본 발명에 따른 표시 패널 모듈과 그의 제조 방법은 상기 전자파 차폐막의 제조 방법을 이용하여 전자파 차폐막을 표시 패널 상에 직접 형성함으로써 제조 공정을 단순화시킬 수 있음과 아울러 재료 손실을 절감할 수 있게 된다.In addition, the display panel module and its manufacturing method according to the present invention can simplify the manufacturing process and reduce material loss by directly forming the electromagnetic shielding film on the display panel using the method for manufacturing the electromagnetic shielding film. .
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.
Claims (16)
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020030020559A KR20040085762A (en) | 2003-04-01 | 2003-04-01 | Method for fabricating electromagnetic wave shilding film and display panel module using the same, and fabricating method tererof |
| JP2004109191A JP2004312014A (en) | 2003-04-01 | 2004-04-01 | Process for producing electromagnetic wave shielding layer, display employing it and its manufacturing process |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020030020559A KR20040085762A (en) | 2003-04-01 | 2003-04-01 | Method for fabricating electromagnetic wave shilding film and display panel module using the same, and fabricating method tererof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20040085762A true KR20040085762A (en) | 2004-10-08 |
Family
ID=33475957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020030020559A KR20040085762A (en) | 2003-04-01 | 2003-04-01 | Method for fabricating electromagnetic wave shilding film and display panel module using the same, and fabricating method tererof |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004312014A (en) |
| KR (1) | KR20040085762A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100678419B1 (en) * | 2005-04-01 | 2007-02-02 | 삼성전기주식회사 | Method for surface treatment of board, method for forming wiring and wiring substrate |
| KR100768341B1 (en) * | 2005-11-09 | 2007-10-17 | 주식회사 나노신소재 | Metallic ink, and method for forming of electrode using the same and substrate |
| KR100819904B1 (en) * | 2007-02-12 | 2008-04-08 | 주식회사 나노신소재 | Metallic ink, and method for forming of electrode using the same and substrate |
| WO2008120952A1 (en) * | 2007-04-03 | 2008-10-09 | Lg Chem, Ltd. | Blackened electromagnetic interference shield glass and method of producing the same |
| WO2008120951A1 (en) * | 2007-04-02 | 2008-10-09 | Lg Chem, Ltd. | Electromagnetic interference shield glass with blackened conductive pattern and method of producing the same |
| KR101368682B1 (en) * | 2012-12-21 | 2014-02-28 | 백주민 | Outlet devices to neutralize harmful electromagnetic waves |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005115070A1 (en) * | 2004-05-24 | 2005-12-01 | Gunze Limited | Electromagnetic wave shielding material and process for producing the same |
| JP4519914B2 (en) | 2005-06-03 | 2010-08-04 | Ｄｉｃ株式会社 | Electromagnetic wave shielding material and manufacturing method thereof |
| KR101211810B1 (en) * | 2007-02-06 | 2012-12-12 | 주식회사 엘지화학 | Display panel and method for producing the same and display apparatus comprising the same |
| KR100950680B1 (en) | 2007-11-28 | 2010-03-31 | 전자부품연구원 | Flexible printed circuit board and the method thereof |
-
2003
- 2003-04-01 KR KR1020030020559A patent/KR20040085762A/en not_active Application Discontinuation
-
2004
- 2004-04-01 JP JP2004109191A patent/JP2004312014A/en active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100678419B1 (en) * | 2005-04-01 | 2007-02-02 | 삼성전기주식회사 | Method for surface treatment of board, method for forming wiring and wiring substrate |
| KR100768341B1 (en) * | 2005-11-09 | 2007-10-17 | 주식회사 나노신소재 | Metallic ink, and method for forming of electrode using the same and substrate |
| KR100819904B1 (en) * | 2007-02-12 | 2008-04-08 | 주식회사 나노신소재 | Metallic ink, and method for forming of electrode using the same and substrate |
| WO2008120951A1 (en) * | 2007-04-02 | 2008-10-09 | Lg Chem, Ltd. | Electromagnetic interference shield glass with blackened conductive pattern and method of producing the same |
| KR100864152B1 (en) * | 2007-04-02 | 2008-10-16 | 주식회사 엘지화학 | Emi shield glass with blackened conductive pattern and a method for preparing thereof |
| WO2008120952A1 (en) * | 2007-04-03 | 2008-10-09 | Lg Chem, Ltd. | Blackened electromagnetic interference shield glass and method of producing the same |
| KR100863408B1 (en) * | 2007-04-03 | 2008-10-14 | 주식회사 엘지화학 | Emi shield glass with blackened conductive pattern and a method for preparation thereof |
| US8168300B2 (en) | 2007-04-03 | 2012-05-01 | Lg Chem, Ltd. | Blackened electromagnetic interference shield glass and method of producing the same |
| KR101368682B1 (en) * | 2012-12-21 | 2014-02-28 | 백주민 | Outlet devices to neutralize harmful electromagnetic waves |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2004312014A (en) | 2004-11-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20070289774A1 (en) | Electromagnetic interference shielding filter and manufacturing method thereof | |
| KR100546261B1 (en) | Display Panel Moudle | |
| US7321186B2 (en) | Front filter, and plasma display apparatus having the same | |
| US20070145897A1 (en) | Front filter in plasma display panel | |
| CN100409041C (en) | CMI screening film in flat plate display device and front end optical filter containing said film | |
| KR20040102593A (en) | Front-filter and fabricating method thereof | |
| US20070188854A1 (en) | Front filter in plasma display panel | |
| US20070029932A1 (en) | Display panel module and manufacturing method thereof | |
| JP2008158530A (en) | External light shielding layer for display filter, filter for display apparatus, and display apparatus | |
| KR20040085765A (en) | Front-filter of film type using plasma display panel | |
| KR20040085762A (en) | Method for fabricating electromagnetic wave shilding film and display panel module using the same, and fabricating method tererof | |
| EP1755139B1 (en) | Plasma display apparatus | |
| KR100738212B1 (en) | Plasma Display Panel | |
| KR100579329B1 (en) | Plasma Display Apparatus | |
| KR20070054850A (en) | Front film filter for plasma display panel and the manufacturing method thereof | |
| KR100709879B1 (en) | Film filter of a plasma display panel | |
| KR20040088700A (en) | Front-filter and display panel module using the same | |
| KR20040085766A (en) | Electromagnetic wave shielding film of plasma display panel | |
| KR20050106622A (en) | Plasma display equipment and method of making therof | |
| KR20040090076A (en) | Display panel module and fabricating method tererof | |
| KR20060113147A (en) | Flim-type front-filter and manufacturing method thereof | |
| KR100748956B1 (en) | Plasma Display Panel and method of forming filter thereof | |
| KR20040080157A (en) | Plasma display panel with front-filter of film type | |
| KR100696820B1 (en) | Plasma display device | |
| KR20050106623A (en) | Plasma display equipment |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E90F | Notification of reason for final refusal | ||
| E601 | Decision to refuse application |