KR20030096763A - Electrode head of an ion beam generator - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 이온빔 발생장치의 일렉트로드 헤드에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 서프레션 커런트(suppression current)가 안정적으로 유지되도록 하며, 이로 인해 이온빔 발생장치로부터 발생되는 이온빔의 질을 일정하게 유지시킴과 아울러 장치의 가동율을 향상시키는 이온빔 발생장치의 일렉트로드 헤드에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrorod head of an ion beam generator, and more particularly, a suppression current is maintained stably, thereby maintaining a constant quality of the ion beam generated from the ion beam generator. The present invention relates to an electrorod head of an ion beam generator for improving the operation rate of the device.
일반적으로 반도체 소자를 제조하기 위하여 여러 가지 단위공정이 실시되며, 이러한 단위공정중 웨이퍼 표면에 불순물을 플라즈마 상태의 이온빔 상태로 만든 후 웨이퍼 표면에 침투시켜 필요한 전도형 및 비저항의 소자를 얻기 위해 이온주입공정이 실시된다.In general, various unit processes are performed to manufacture a semiconductor device. During the unit process, impurities are implanted into a plasma ion beam state and penetrated into the wafer surface to obtain a device of required conductivity and resistivity. The process is carried out.
이온주입공정을 실시하기 위해 이온빔을 발생하기 위한 장치가 구비되며, 이온빔 발생장치에는 소스 헤드(source head)의 아크챔버(arc chamber)로부터 발생되는 각종의 이온들에 전기장을 걸어 추출시키는 일렉트로드 헤드(electrode head)가 구비된다.A device for generating an ion beam is provided to perform an ion implantation process, and the ion beam generating device includes an electrorod head which extracts an electric field by applying an electric field to various ions generated from an arc chamber of a source head. (electrode head) is provided.
종래의 이온빔 발생장치의 일렉트로드 헤드를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Referring to the accompanying drawings, the electrolytic head of the conventional ion beam generator is as follows.
도 1은 종래의 이온빔 발생장치의 일렉트로드 헤드를 도시한 정면도이다. 도시된 바와 같이, 일렉트로드 헤드(10)는 미도시된 소스 헤드의 아크챔버로부터 발생되는 각종의 이온들이 통과하도록 챔버 바디(11)의 정면에 고전압용 및 저전압용의 애퍼처(12)가 한 쌍으로 구비되고, 이 애퍼처(12)를 통과하는 각종 이온들에 전기장을 걸기 위해 전원공급부(미도시)로부터 순차적으로 연결되는 전원단자(13), 피드 스로우 브라켓(feed through bracket;14), 그리고 리드와이어(lead wire; 15)를 통해 전원을 공급받는다.1 is a front view showing an electrorod head of a conventional ion beam generator. As shown, the electrorod head 10 has a high voltage and low voltage aperture 12 in front of the chamber body 11 to pass various ions generated from the arc chamber of the source head not shown. A power supply terminal 13, a feed through bracket 14, which are provided in pairs and are sequentially connected from a power supply unit (not shown) to apply an electric field to various ions passing through the aperture 12; Power is supplied through the lead wire 15.
한편, 일렉트로드 헤드(10)는 소스 헤드의 아크챔버(미도시)로부터 나온 빔을 가장 밀도가 높은 위치에서 통과시키기 위해 전후의 이동을 콘크롤하는 Z갭(Z-gap) 및 좌우를 콘트롤하는 사이드갭(side gap)이 구비된다. 따라서, 전원공급부(미도시)로부터 일렉트로드 헤드(10)는 전후 또는 좌우로 이동하기 때문에 리드와이어(15)가 신축이 자유롭도록 코일형태를 이루고 있다.On the other hand, the electrorod head 10 controls the Z-gap (Z-gap) and the left and right to scroll the front and rear movement in order to pass the beam from the arc chamber (not shown) of the source head in the most dense position Side gaps are provided. Therefore, since the electrified head 10 is moved back and forth or left and right from the power supply unit (not shown), the lead wire 15 has a coil shape so that the stretching is free.
그러나, 이러한 종래의 이온빔 발생장치의 일렉트로드 헤드(10)는 전후 또는 좌우로 이동시 리드와이어(15)가 인장 또는 수축함으로써 챔버 바디(11)에 접촉되어 쇼트(shot)됨으로써 절연 불량을 일으켜 서프레션 커런트(suppression current)를 증가시키게 되어 이온빔 발생장치의 이온빔의 질을 저하시키고, 장치의 가동율을 현저하게 저하시키는 문제점을 가지고 있다.However, when the lead rod 10 of the conventional ion beam generator moves back, forth, or left and right, the lead wire 15 is stretched or contracted to contact the chamber body 11 and short, resulting in poor insulation resulting in suppression. Increasing the current (suppression current) has a problem of lowering the quality of the ion beam of the ion beam generating device, significantly lowering the operation rate of the device.
본 발명은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 전후 또는 좌우로 이동하는 일렉트로드 헤드에 전원을 공급함과 아울러 신축이 자유로운 리드와이어를 챔버 바디와 절연시킴으로써 서프레션 커런트(suppression current)가 안정적으로 유지되도록 하며, 이로 인해 이온빔 발생장치로부터 발생되는 이온빔의 질을 일정하게 유지시킴과 아울러 장치의 가동율을 향상시키는 이온빔 발생장치의 일렉트로드 헤드를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to supply power to an electric rod head moving forward, backward, left and right, and to insulate the lead wire freely stretched from the chamber body to suppress the current. In order to maintain a stable current, and thereby to maintain a constant quality of the ion beam generated from the ion beam generator, and to provide an electro-rod head of the ion beam generator to improve the operation rate of the device.
이와 같은 목적을 실현하기 위한 본 발명은, 전원공급부로부터 신축이 자유로운 리드와이어를 통해 전원을 공급받는 일렉트로드 헤드를 구비한 이온빔 발생장치에 있어서, 리드와이어는 그 외주면에 외측과의 절연을 위하여 인슐레이터가 설치되는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides an ion beam generator having an electrorod head supplied with power through a lead wire freely stretched from a power supply, wherein the lead wire is insulated from the outer circumferential surface of the insulator for insulation from the outside. Characterized in that is installed.
도 1은 종래의 이온빔 발생장치의 일렉트로드 헤드를 도시한 정면도이고,1 is a front view showing an electrorod head of a conventional ion beam generator,
도 2는 본 발명에 따른 이온빔 발생장치의 일렉트로드 헤드를 도시한 정면도이다.2 is a front view showing an electrorod head of the ion beam generator according to the present invention.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>
100 ; 일렉트로드 헤드 110 ; 챔버 바디100; Electrorod head 110; Chamber body
120 ; 애퍼처 130 ; 전원단자120; Aperture 130; Power terminal
140 ; 피드 스로우 브라켓 150 ; 리드와이어140; Feed throw bracket 150; Lead wire
160 ; 인슐레이터160; Insulator
이하, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 더욱 상세히 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention.
도 2는 본 발명에 따른 이온빔 발생장치의 일렉트로드 헤드를 도시한 정면도이다. 도시된 바와 같이, 일렉트로드 헤드(100)는 챔버 바디(110)의 정면에 고전압용 및 저전압용의 애퍼처(120)가 각각 구비되고, 전원공급부(미도시)에 전기적으로 연결되는 전원단자(130), 피드 스로우 브라켓(feed through bracket; 140) 그리고 리드와이어(lead wire; 150)를 통해 전원을 공급받으며, 리드와이어(150)의 외주면에는 인슐레이터(insulator; 160)가 설치된다.2 is a front view showing an electrorod head of the ion beam generator according to the present invention. As shown, the electric load head 100 is provided with a high voltage and a low voltage aperture 120 in front of the chamber body 110, respectively, and a power terminal electrically connected to a power supply (not shown) ( 130, power is supplied through a feed through bracket 140 and a lead wire 150, and an insulator 160 is installed on an outer circumferential surface of the lead wire 150.
리드와이어(150)는 전원공급부(미도시)에 전기적으로 연결되는 전원단자(130)에 볼트로 결합되는 피드 스로우 브라켓(140)에 일단이 연결되며, 타단은 고리모양의 연결부(151)를 형성하여 이 연결부(151)가 일렉트로드 헤드(100)에 너트(N)로 연결된다.The lead wire 150 has one end connected to a feed throw bracket 140 that is bolted to a power terminal 130 electrically connected to a power supply unit (not shown), and the other end forms a ring-shaped connecting portion 151. Thus, the connecting portion 151 is connected to the electrorod head 100 with a nut N.
또한, 리드와이어(150)는 그 외주면에 외측, 특히 챔버 바디(110)와의 절연을 위하여 인슐레이터(160)가 설치된다.In addition, the insulator 160 is installed on the outer circumferential surface of the lead wire 150 to insulate the outside, in particular, the chamber body 110.
인슐레이터(160)는 세라믹(ceramic), 자기 등의 재질로 형성된다. 또한 인슐레이트(160)는 리드와이어(150)의 외주면에 일정한 간격을 두고 끼워지도록 링형상을 가지며, 복수개로 이루어짐이 바람직하다. 따라서, 인슐레이터(160)가 복수개로 이루어져 서로 일정한 간격을 가짐으로써 리드와이어(150)의 신축에 의해 인슐레이터(160)가 리드와이어(150) 외주면으로부터 이탈되거나 파손되는 것을 방지한다.Insulator 160 is formed of a material such as ceramic (ceramic), porcelain. In addition, the insulator 160 has a ring shape so as to be fitted at regular intervals on the outer circumferential surface of the lead wire 150, and is preferably made of a plurality. Accordingly, the insulator 160 is formed in plural to have a predetermined interval therebetween to prevent the insulator 160 from being separated or damaged from the outer circumferential surface of the lead wire 150 by the expansion and contraction of the lead wire 150.
이상과 같이 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 일렉트로드 헤드(100)가 소스 헤드의 아크챔버(미도시)로부터 나온 빔을 가장 밀도가 높은 위치에서 통과시키기 위해 전후 또는 좌우로 이동함으로써 리드와이어(150)가 신축을 하는 경우 그 외주면에 설치된 인슐레이터(160)에 의해 챔버 바디(110)와 접촉되어 쇼트(shot)되는 것을 방지하여 서프레션 커런트(suppression current)를 일정하게 유지한다.As described above, according to the preferred embodiment of the present invention, the lead wire 100 is moved back and forth or left and right to pass the beam from the arc chamber (not shown) of the source head in the most dense position. When the 150 is stretched, the contact current is prevented from being shorted by contact with the chamber body 110 by the insulator 160 installed on the outer circumferential surface thereof, thereby maintaining a constant suppression current.
또한, 인슐레이터(160)가 복수개로 이루어져 리드와이어(150) 외주면에 일정 간격으로 끼워짐으로써 리드와이어(150)의 신축에 의해 인슐레이터(160)가 리드와이어(150)의 외주면으로부터 이탈되거나 파손되는 것을 방지한다.In addition, since the insulator 160 is formed in plural and is inserted into the outer circumferential surface of the lead wire 150 at regular intervals, the insulator 160 is separated from or damaged from the outer circumferential surface of the lead wire 150 by expansion and contraction of the lead wire 150. prevent.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 이온빔 발생장치의 일렉트로드 헤드는 전후 또는 좌우로 이동하는 일렉트로드 헤드에 전원을 공급함과 아울러 신축이 자유로운 리드와이어를 챔버 바디와 절연시킴으로써 서프레션 커런트(suppression current)가 안정적으로 유지되도록 하며, 이로 인해 이온빔 발생장치로부터 발생되는 이온빔의 질을 일정하게 유지시킴과 아울러 장치의 가동율을 향상시키는 효과를 가지고 있다.As described above, the electrostatic load head of the ion beam generating apparatus according to the present invention supplies a power supply to the electrification head moving forward, backward, left and right, and insulates the lead wire freely stretched from the chamber body to suppress the current. Is maintained stably, thereby maintaining a constant quality of the ion beam generated from the ion beam generator and improving the operation rate of the device.
이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 이온빔 발생장치의 일렉트로드 헤드를 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.What has been described above is just one embodiment for implementing the electrorod head of the ion beam generating apparatus according to the present invention, and the present invention is not limited to the above embodiment, and as claimed in the following claims, Without departing from the gist of the invention, anyone of ordinary skill in the art to which the present invention will have the technical spirit of the present invention to the extent that various modifications can be made.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020020033778A KR20030096763A (en) | 2002-06-17 | 2002-06-17 | Electrode head of an ion beam generator |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| KR1020020033778A KR20030096763A (en) | 2002-06-17 | 2002-06-17 | Electrode head of an ion beam generator |
Publications (1)
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| KR20030096763A true KR20030096763A (en) | 2003-12-31 |
Family
ID=32387364
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| KR1020020033778A KR20030096763A (en) | 2002-06-17 | 2002-06-17 | Electrode head of an ion beam generator |
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| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20030096763A (en) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61161636A (en) * | 1985-01-11 | 1986-07-22 | Hitachi Ltd | Electrode for ion source |
| US5420415A (en) * | 1994-06-29 | 1995-05-30 | Eaton Corporation | Structure for alignment of an ion source aperture with a predetermined ion beam path |
| KR19990058316A (en) * | 1997-12-30 | 1999-07-15 | 김덕중 | Cathode structure of plasma ion implanter |
-
2002
- 2002-06-17 KR KR1020020033778A patent/KR20030096763A/en not_active Application Discontinuation
Patent Citations (3)
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