KR20030093515A - 홀로그램 집광판을 포함하는 유기 발광소자 - Google Patents

Abstract

본 발명은 홀로그램 집광판을 포함하는 유기 발광소자에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판과 양극 사이에 서로 다른 굴절율을 가지는 적어도 2 종 이상의 물질로 구성된 홀로그램 집광판을 포함하여 기판에 평행한 방향으로의 발광을 감소시키고 뷰어를 향한 방향으로 출력을 증가시킬 수 있는 유기발광소자에 관한 것이다.

Description

홀로그램 집광판을 포함하는 유기 발광소자{ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICES CONTAINED HOLOGRAM COLLIMATOR FILM}

본 발명은 홀로그램 집광판을 포함하는 유기 발광소자에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 다른 굴절율을 가지는 적어도 2 종 이상의 물질로 이루어진 홀로그램 집광판 (Hologram Collimator)을 포함하여 내부의 전반사를 최소화함으로써 기판에 평행한 방향으로의 출력을 최소화하고 뷰어 방향으로의 출력을 증가시켜 고휘도 칼라 및 흑백 디스플레이용으로 사용할 수 있는 유기 발광소자에 관한 것이다.

최근 유기 발광 소자(OLED)에 대한 연구가 각광을 받으면서 고휘도를 구현하는 가장 효과적인 방법들이 개발되어 왔다. 일반적인 유기 발광소자의 단면도는 도 1에 나타낸 바와 같다.

상기 유기 발광 소자의 구동은 전위차가 디바이스에 인가될 때, 음으로 하전된 전자는 전자 주입 층으로 이동되고 유기 재료층으로 이동된다. 동시에 "정공"이라고 하는 양으로 하전된 홀(hole)은 정공 주입층으로 이동되고, 최종적으로 동일한 유기성 발광층으로 이동된다. 이러한 홀과 음전하가 만날 때 이들의 결합에 의해 광자가 형성되고 빛을 발광하게 된다. 유기 발광소자의 제작을 위해서는 먼저, 투명 기판에 양극 물질을 입히는데, 주로 ITO (Indium tin Oxide)가 많이 사용된다. 다음에 정공 주입층(hole injection layer)을 입히며 주로 코퍼 프탈로시아닌(copper phthalocyanine)을 약 10 - 30 nm 두께로 도포한다. 그 위에 정공 수송층(hole transfer layer)을 형성하게 되는데, 주로 N,N'-디페닐-N,N'-비스(3-메틸페닐)-(1,1'-비페닐)-4,4'-디아민(N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-(1,1'-biphenyl)-4,4'-diamine: TPD) 등을 사용할 수 있고, 약 30 - 60 nm 정도의 두께로 증착한다. 그 다음에 유기 발광층 (organic emitting layer)을 형성하는데, 약 30 - 60 nm 정도의 두께를 갖도록 한다. 다음에 전자 수송층 (electron transfer layer)을 단독으로 사용하거나, 전자 주입층(electron injection layer)을 함께 순차적으로 형성한다. 전자 주입층으로는 LiF 또는 Li₂O 를 얇게 도포하거나 알칼리 금속 등을 이용할 수 있다. 그런 다음 음극을 약 1000 Å정도 입히고 보호막을 입혀 유기 발광소자를 제작한다.

그러나 이러한 구조는 휘도와 관련하여 빛의 방출 특성을 조절해야하는 문제를 갖고 있다. 통상 약 75% 정도의 출력은 기판과 평행한 방향으로 방출되기 때문에 OLED 자체의 막대한 휘도의 손실을 가져오게 되고, 이에 따라 칼라순도 및 콘트라스트에도 영향을 미치게 된다. 이러한 문제를 해결하는 방법의 하나로 대한민국 공개특허 2001-0020501호는 미세 활성 증진 구조물 또는 미소 공동 (microcavity) 스텍을 이용하여 휘도를 증진시키는 방법에 대해 언급하고 있다. 그러나, 상기 방법은 미소 공동의 제작이 상당히 복잡하고 또한 무기 금속 성분 등이 상호 확산될 가능성 등으로 인해 실제 사용에 어려움이 있다. 이러한 이유로 기판과 평행한 방향으로의 발광을 억제하고 뷰어의 방향으로 증가된 출력을 나타내는 효과적인 방법은 스핀코팅 등의 간단한 공정이 가능하고 화학적으로 안정한 유기물을 이용하는 것이 바람직하다고 하겠다.

최근 액정 디스플레이에서의 광시야각을 구현하기 위해 대한민국 공개 특허 공보 제1999-019701호에서 홀로그램 확산판 (Hologram Diffuser)이 제안되었는데, 액정 표시장치의 칼라필터 기판에 확산판을 형성하여 높은 콘트라스트와 광시야각을 갖도록 하는 내용이 알려져 있다. 이 확산판은 중크롬산염 젤라틴, 포토레지스트, 포토폴리머, 실버할라이드가 포함된 광굴절 물질에 레이저 광을 조사하여 스펙클 무늬를 형성하여 줌으로써 제조되는 것이다. 또한 대한민국 공개 특허 공보 제1998-044022호는 자외선 경화도료를 이용한 홀로그램 필름의 제조 방법을 언급하고 있다.

그러나, 상기 방법들은 아직까지 출력에 대한 문제점을 개선하기에는 미흡하여, 이를 해결하기 위한 새로운 유기발광소자의 개발이 요구되고 있다.

본 발명은 상기 종래 기술의 문제점을 고려하여, 유기 발광 소자의 투명기판과 양극(anode) 사이에 홀로그램 집광판(Hologram Collimator)을 형성하여 방사상으로 분사되는 빛의 각도를 뷰어의 방향으로 모아 주게 됨에 따라 투명 기판에 입사되는 광의 각도를 전반사가 일어나지 않도록 조절하여 고휘도를 갖는 유기 발광소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 다른 목적은 상기 유기 발광 소자의 제조방법을 제공하는 것이다.

도 1은 종래 유기발광소자의 단면도를 나타낸 것이고,

도 2는 본 발명의 홀로그램 집광판 필름층을 포함하는 유기발광소자의 단면도를 나타낸 것이다.

도면부호 1은 기판, 2는 홀로그램 집광판 필름층, 3은 양극, 4는 정공주입층, 5는 정공수송층, 6은 유기발광층, 7은 전자수송층, 8은 전자 주입층, 9는 음극이다.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 유기 발광 소자에 있어서, 기판과 양극 사이에 홀로그램 집광판(Hologram Collimator)을 포함하는 유기 발광 소자를 제공한다.

또한 본 발명은 기판 위에 양극, 정공주입층, 정공 수송층, 유기 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층, 및 음극을 차례로 형성하는 단계를 포함하는 유기 발광 소자의 제조방법에 있어서,

상기 기판 위에

굴절율이 서로 다른 적어도 2 종 이상의 유기 또는 무기물 중 굴절율이 낮은 유기 또는 무기물을 도포하고, 홀로그램 금형에서 사출 또는 몰딩하여 홀로그램 패턴을 형성한 후 그 위에 굴절율이 높은 유기 또는 무기물을 도포하여 홀로그램 집광판을 필름으로 형성하는 단계; 및

상기 홀로그램 집광판 위에 양극을 형성하는 단계

를 포함하는 유기 발광 소자의 제조방법을 제공한다.

이하에서 본 발명을 상세하게 설명한다.

본 발명은 투명 기판과 양극 사이에 굴절율이 서로 다른 적어도 2 종 이상의 유기 또는 무기 물질을 도포하여 두 물질 계면에 형성되는 홀로그램 패턴에 의해 발광 각도가 조절되는 구조를 갖는 컬러 및 흑백 디스플레이용 유기 발광소자(Organic Light Emiting Diode : OLED)를 제공하는 것이다.

상기 유기발광소자는 기판 상에 형성되는 적층 유기 발광 구조물로서, 바람직하게는 아래로부터 기판, 홀로그램 집광판, 양극, 유기발광층 및 음극을 포함하며, 이때 상기 양극과 음극 사이에는 정공주입층, 정공이송층, 및 전자 이송층 중의 적어도 한 층을 추가로 포함할 수 있다. 상기 유기발광층은 정공이송층과 전자이송층 사이, 정공이송층 및 음극사이, 양극 및 전자이송층 사이, 또는 양극 및 음극사이에 위치되는 것이 바람직하다.

그러면, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 홀로그램 집광판을 이용하는 유기발광소자에 대하여 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다. 도 2는 본 발명의 유기발광소자의 구조를 나타낸 것이다.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 유기발광소자는 아래로부터 기판 1, 홀로그램 집광판 필름층 2, 양극 3, 정공주입층 4, 정공수송층 5, 유기발광층 6, 전자수송층 7, 전자 주입층 8, 음극 9가 차례로 적층되어 있는 구조를 갖는다.

특히, 본 발명은 양극과 투명 기판 사이에 굴절율이 서로 다른 적어도 2 종이상의 유기 또는 무기 물질로 이루어진 홀로그램 집광판을 포함하여 기판에 평행한 방향으로의 발광을 감소시키고 뷰어를 향한 방향으로 출력을 증가시킬 수 있는 특징이 있다.

상기 홀로그램 집광판은 방사상으로 입사된 빛을 정해진 각도로 굴절시켜 유기 발광소자의 휘도를 증가시키는 작용을 하며, 점진 굴절율(Graded Refractive Index)를 가진다. 이러한, 본 발명의 홀로그램 집광판 필름은 홀로그램 확산판의 작용과 정반대의 작용을 하도록 제작하는 것이 바람직하다.

상기 홀로그램 집광판은 굴절율이 서로 다른 적어도 2 종 이상의 유기 또는 무기물층을 각각 0.5 내지 5 마이크론의 두께로 포함한다.

상기 굴절율이 서로 다른 2 종의 유기 또는 무기물 중 하나는 굴절율이 1.2 내지 1.5 인 것 중에서 선택하여 사용할 수 있고, 나머지 하나는 굴절율이 1.4 내지 1.8 인 것 중에서 선택하여 사용할 수 있다. 바람직하게는, 상기 굴절율이 서로 다른 적어도 2 종 이상의 유기 또는 무기물은 굴절율의 차이가 0.1 내지 0.5 이 되도록 한다. 즉, 굴절율이 서로 다른 유기 또는 무기물을 포함하는 한층의 굴절율이 1.3인 경우는 나머지 다른 층의 굴절율은 1.4 내지 1.8인 것이 바람직하며, 상기 굴절율이 1.8을 초과하면 본 발명의 효과가 얻을 수 없다. 또한, 한층의 굴절율이 1.5인 경우 나머지 한층은 굴절율이 1.6 내지 2.0인 것이 바람직하다.

상기 굴절율이 서로 다른 2종의 유기 또는 무기물은 기판 위에 굴절율이 낮은 것을 먼저 도포하고, 그 위에 굴절율이 높은 유기 또는 무기물을 형성시키는 것이 바람직하다.

상기 홀로그램 집광판은 투명 기판에 양극 물질인 ITO(Indium tin oxide) 등과 같은 금속 산화물을 도포하기 전에 형성한다. 상기 홀로그램 집광판은 굴절율이 서로 다른 적어도 2 종 이상의 유기 또는 무기물 중 굴절율이 낮은 유기 또는 무기물을 기판위에 도포하고, 홀로그램 금형에서 사출 또는 몰딩하여 홀로그램 패턴을 형성한 후 굴절율이 높은 유기 또는 무기물을 도포하여 필름으로 형성되는 것이 바람직하다.

즉, 본 발명은 투명 기판 위에 굴절율이 낮은 유기물 또는 무기물을 0.5 내지 5 마이크론 두께로 도포한 후 홀로그램 금형을 갖는 스템프로 패턴을 전이시키고 필요에 따라 자외선으로 경화한 후, 굴절율이 높은 유기물 또는 무기물을 다시 0.5 내지 5 마이크론 두께로 도포하는 것이 바람직하다. 이때, 상기 굴절율이 서로 다른 2종의 유기 또는 무기물의 도포 두께가 0.5 마이크론 미만이거나 5 마이크론을 초과하면 집광효과가 떨어지는 문제가 있다. 상기 홀로그램 집광판 필름을 기판에 부착할 경우에는 점착제를 사용할 수 있다. 이러한 과정을 통해 형성된 비정형의 홀로그램 패턴은 방사 형태의 발광 각도를 뷰어 방향으로 개선시키는 효과가 있다.

이후, 본 발명은 상기 홀로그램 집광판 필름 위에 양극 물질을 도포하고 일반적인 유기 발광 소자의 제조와 같은 순서를 따라 유기발광소자를 제조한다. 이하, 본 발명의 유기발광소자에 있어서 각 구성요소에 대해 일예를 들어 설명하면 다음과 같다.

기판 1은 유기발광 소자에서 전극과 유기물질의 박막층을 형성하는 지지체역할을 한다. 일반적으로는 평탄성과 기계적 강도, 여러 가지 공정을 견딜 수 있는 열적 안정성, 그리고 빛이 기판을 통하여 방출될 경우 투명성을 요구하지만, 음극방향이나 측면발광을 필요로 하는 경우에는 반사율이 높은 기판을 사용할 수 있다. 또한 일반적으로 기판은 유기 발광소자로의 수분이나 공기의 침투를 막아주는 보호막의 역할을 할 수 있는 것이 바람직하다. 투명성을 가진 물질로 기판에 쓰일 수 있는 예는 유리, 석영, 투명 플라스틱 필름이나 시트 등이 있으며, 필요에 따라서는 공기나 수분의 침투를 막는 적절한 보호막을 형성한 플라스틱을 사용할 수 있다. 빛이 음극쪽을 통하여 방출될 경우 기판은 반사율이 높은 것을 사용하는 것이 유리하다. 이 경우, 상기의 기판에 반사율이 높은 물질을 코팅하여 사용하는 방법과 자체적으로 높은 반사율을 갖는 물질을 기판으로 사용할 수 있다. 투명하지 않은 기판의 재료로는 실리콘 웨이퍼, 세라믹 또는 크롬, 금 등의 금속 등이 사용될 수 있으며, 상기의 기판 재료들이 다층을 이루어 사용될 수 있다.

상기 홀로그램 집광판 2 위에 위치된 양극 3은 박막 형태로 존재하며 도면에는 표시되어 있지 않으나, 음극 9와 스위치나 제어판을 통하여 전원에 연결되어 있다. 양극 3은 전도성을 가지며 일함수가 비교적 높은 물질 중에서 선택된다. 일반적으로 일함수가 4eV 이상인 물질이 바람직하며 기판과 안정된 계면을 이루는 것이 바람직하다. 양극으로 사용되는 물질의 예로는 인듐-주석 산화물 (indium tin oxide), 인듐-아연 산화물 (indium zinc oxide), 주석 산화물 (tin oxide) 등의 금속 산화물이 사용될 수 있으며, 알루미늄, 금, 크롬, 바나듐, 구리, 아연, 은 등의 금속 및 그들의 혼합물이 사용될 수도 있다. 필요에 따라서는 티오펜계의 전도성고분자 (polythiophene)인 폴리(3-메틸티오펜)(poly(3-methylthiophene)), 폴리(3,4-(에틸렌-1,2-디옥시)티오펜)(poly(3,4-(ethylene-1,2-dioxy)thiophene)) 등이 단독 또는 보조적인 역할로 양극재료로 사용될 수 있다. 그 이외에도 피롤계 고분자 (polypyrrole), 아닐린계 고분자 (polyaniline) 등의 전도성 고분자도 역시 사용 가능하다. 이러한 전도성 고분자들은 비록 전도성은 기존에 쓰이던 금속이나 금속 산화물계의 양극재에 비하여 전도성은 떨어지지만, 유기물질인 정공주입층 또는 정공 이송층과 안정한 계면을 이룰 수 있는 장점이 있다. 양극층의 두께는 사용되는 양극의 종류와 요구되는 유기 발광 소자의 성질에 따라서 변할 수 있으나, 바람직하게는 10nm 내지 1000nm이고, 보다 바람직하게는 10nm 내지 500nm이다.

상기 양극 3위에 위치되는 정공 주입층 4는 양극으로부터 정공을 주입 받아 정공 수송층 5로 운반해주는 역할을 하며 이때 양극과 안정한 계면을 이루어야 한다. 즉, 정공 주입층 4는 유기 발광소자에 순방향 전계를 가하였을 때, 양극으로부터 정공을 주입 받아 정공이송층으로 전달하는 역할을 한다. 일반적으로 정공주입층은 정공수송층 5가 양극과 충분한 계면 안정성을 유지하지 못할 경우, 또는 정공수송층과 양극층을 이루는 물질사이에 정공주입을 위한 에너지 장벽이 너무 클 때, 또는 유기 발광소자에서 전자와 정공 사이의 평형 (balancing)을 최적화하여 높은 양자효율을 얻고자 할 때 사용한다.

상기 정공 주입층을 이루는 물질의 예로는 코퍼 프탈로시아닌(copper phthalocyanine), 포피린계열의 금속착체(metal porphyrine), 올리고 티오펜 (oligothiophene) 등이 사용될 수 있고, 아릴아민 (arylamine) 계열의 물질도 이러한 목적에 이용될 수 있다. 바람직하기로는, 정공 주입층으로는 코퍼 프탈로시아닌(copper phthalocyanine)을 사용할 수 있다. 정공 주입층은 10 내지 30 nm의 두께로 도포하는 것이 바람직하다.

상기 정공주입층 4위에 위치된 정공 수송층 5는 정공 주입층으로부터 공급받은 정공을 유기발광층 6으로 이송하는 역할을 하며 적절한 물질의 예로는 정공의 이동도 (hole mobility)가 높은 아릴아민 (arylamine)계열의 물질들이 있다. 또한 일반적으로 정공수송층은 전자수송층에서 발광층으로 이송된 전자들을 양극쪽으로 넘어가는 것을 방지해주는 역할을 하기도 한다. 특별한 경우에는 정공수송층에 형광성 도판트를 혼합 시켜 정공수송층에서 발광을 하도록 유도할 수 있다. 정공수송층이 양극과 충분한 계면 안정성을 함유하고 소자에서 정공과 전자의 평형(balancing)이 맞을 경우, 별도의 정공주입층의 사용 없이 양극 위에 정공수송층을 형성할 수 있다. 이러한 조건을 만족시키는 정공수송물질로는 아릴아민계 물질인 N,N'-디페닐-N,N'-비스(3-메틸페닐)-(1,1'-비페닐)-4,4'-디아민(N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-(1,1'-biphenyl)-4,4'-diamine: TPD), 4,4'-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐아미노]비페닐(4,4’-bis[N-(1-naphthyl)-N-phenylamino]biphenyl, 이하 NPB라 약칭함) 등이 사용될 수 있으며, 이들의 다양한 유도체들도 널리 알려져 있다. 상기 정공 수송층(hole transfer layer)은 30 내지 60 nm 정도의 두께로 증착하는 것이 바람직하다.

상기 정공 이송층 5위에 위치되는 유기 발광층 6은 전자 수송층 및 정공 수송층으로부터 이송된 전자와 정공이 재결합을 하는 장소가 된다. 상기 발광층에서는 전자와 정공이 결합하면 엑시톤 (exiton)을 형성하고, 생성된 엑시톤은 발광층을 구성하는 호스트 물질이나, 도핑이 적절히 되어있을 경우 도판트 물질에서 바닥상태의 에너지로 떨어지면서 빛을 생성한다. 본 발명에서 양극과 음극 사이에 존재하는 유기물 층은 필요에 따라 역할이 더욱 세분화되어 층의 수가 늘어날 수도 있으며 반대로 한 층이 여러 역할을 하게 됨으로써 층의 수가 감소할 수 있다. 상기 유기발광층은 1가지 물질 이상의 혼합물로 이루어 질 수 있다. 상기 유기발광층에 사용되는 화합물로는 Alq3 등이 있다. 상기 유기 발광층은 30 내지 60 nm 정도의 두께를 갖도록 하는 것이 바람직하다.

상기 유기발광층 6위에 위치된 전자 수송층 7은 음극 9로부터의 전자 주입을 원활히하는 역할을 함과 동시에 발광층으로 전자를 이송하는 역할을 한다. 원활한 전자의 주입을 위하여서는 음극을 이루는 물질의 일함수와 전자이송물질의 LUMO (Lowest Unoccupied Molecular orbital)간의 에너지 차이가 작아야 한다. 또한 전자이송물질 내에서 전자의 이동도가 높아야 하며 발광층으로 이송된 정공이 음극쪽으로의 이동을 막아주는 정공의 장벽 역할을 하는 것이 바람직하다. 필요에 따라서는 전자수송층을 다층막으로 형성하여, 음극과의 계면을 안정화시키고 전자를 주입받는 역할을 하는 층과 전자를 이송하는 층으로 나눌 수 있다. 이러한 조건을 만족하는 물질로는 Alq3, 유기 라디칼 물질 등이 사용될 수 있다.

상기 전자 수송층 7위에 위치되는 전자 주입층 8은 전자 수송층에 전자를 주입하는 역할을 한다. 전자 주입층으로는 LiF 또는 Li₂O 를 얇게 도포하거나 알칼리금속 등을 이용할 수 있다.

상기 전자 수송층 (electron transfer layer)은 단독으로 사용하거나, 전자 주입층(electron injection layer)과 함께 순차적으로 형성할 수 있다.

상기 전자 주입층 위에 위치되는 음극 9는 전자 수송층에 전자를 주입하는 역할을 한다. 음극층 9는 일함수가 비교적 작은 전도성 물질로 이루어진다. 그러한 예로는 마그네슘, 칼슘, 리튬, 알루미늄, 인듐, 칼륨, 이트륨, 스트론튬, 유로퓸 (europium), 나트륨, 갈륨 (Ga), 사마륨 (Sm) 등이 있으며 또한 그들의 혼합물도 가능하다. 또한 도면에는 표시되어있지 않으나, 음극층 9는 다층으로 이루어질 수 있다. 그 예로는 0.1 내지 10 nm 두께의 리튬플로라이드 (LiF) 또는 리튬 산화물 (Li₂O), 마그네슘 플로라이드 (magnesium fluoride) 등의 절연성 금속 산화물을 전자수송층과 전극 사이에 박막으로 형성 시켜 구동 전압을 낮춤과 동시에 안정한 음극을 형성시킬 수 있다. 이때 절연막의 두께는 전자수송층과 음극의 종류에 따라 변할 수 있지만, 바람직하게는 0.2 내지 7 nm이다. 생성된 빛이 음극을 통하여 방출될 경우, 투명한 음극이 선호되며 그것을 만족시키기 위해서는 투과도가 유지될 정도 두께의 금속성 음극 위에 투명한 전극, 예를 들어 인듐-주석 산화물 (이하 ITO라 약칭함) 또는 인듐-아연 산화물을 박막 증착하여 사용하기도 한다.

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 단, 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이지 이들만으로 한정하는 것은 아니다.

[실시예 1]

도 2에 도시한 바와 같이, 투명 기판 위에 플로린(Fluorine)을 함유한 공중합체를 약 0.5 - 5 마이크론의 두께로 도포하였다. 이때 유기 고분자의 굴절율은 1.38 이었다. 다음에 홀로그램 금형을 이용하여 비정형의 홀로그램 패턴을 전이한 후 자외선을 이용하여 경화시켰다. 그 위에 다시 굴절율이 1.65 가 되는 유기 고분자 물질을 약 0.5 - 5 마이크론의 두께로 도포하여 홀로그램 집광판을 완성하였다. 그 위에 ITO (Indium tin Oxide)를 사용하여 양극을 형성한 다음, 정공 주입층, 정공 수송층, 유기 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층을 차례로 형성하였다. 정공 주입층으로 CuPc(copper phthalocyanine)을 20 nm 두께로 입히고, 정공 수송층으로는 4,4'-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐-아미노]비페닐 (4,4'-bis [N-(1-naphtyl)-N-phenyl-amino]biphenyl: NPD)을 30 - 60 nm로 증착하였다. 유기 발광층은 녹색 발광의 경우 트리스(8-히드록시-퀴놀레이트 알루미늄(tris(8-hydroxy-quinolate aluminum: Alq3)를 약 30 nm 의 두께로 증착하고 그 위에 전자 주입층으로 LiF 를 0.5 nm 이하로 증착하였다. 다음에 전극층인 Al 을 약 10 nm 정도 입혔다. 이렇게 제작된 유기 발광 소자는 기존의 유기 발광 소자에 비해 뷰어 방향으로의 휘도가 5 ∼ 30% 증가하였다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 유기 발광 소자는 기판에 평행하게 진행하여 손실되는 빛을 제어함으로써 뷰어의 방향으로 휘도를 증가시켜 소자의 수명을 극대화시킬 수 있다.

Claims (8)

1. 유기 발광 소자에 있어서, 기판과 양극 사이에 홀로그램 집광판을 포함하는 유기 발광 소자.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 홀로그램 집광판은 굴절율이 서로 다른 적어도 2 종 이상의 유기 또는 무기물을 포함하는 유기 발광 소자.
3. 제 1 항에 있어서, 상기 홀로그램 집광판은 굴절율이 서로 다른 적어도 2 종 이상의 유기 또는 무기물층을 각각 0.5 내지 5 마이크론의 두께로 포함하는 유기 발광 소자.
4. 제 2 항에 있어서, 상기 굴절율이 서로 다른 적어도 2 종 이상의 유기 또는 무기물은 굴절율의 차이가 0. 1 내지 0.5 인 유기 발광 소자.
5. 제 1 항에 있어서, 상기 홀로그램 집광판은 필름인 유기발광소자.
6. 제 1 항에 있어서, 상기 유기발광소자는 아래로부터 기판, 홀로그램 집광판 필름층, 양극, 정공주입층, 정공 수송층, 유기 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층, 및 음극을 포함하는 유기발광소자.
7. 제 1 항에 있어서, 상기 홀로그램 집광판은 점착제로 기판에 부착되는 유기 발광 소자.
8. 기판 위에 양극, 정공주입층, 정공 수송층, 유기 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층, 및 음극을 차례로 형성하는 단계를 포함하는 유기 발광 소자의 제조방법에 있어서,

   상기 기판 위에

   굴절율이 서로 다른 적어도 2 종 이상의 유기 또는 무기물 중 굴절율이 낮은 유기 또는 무기물을 도포하고, 홀로그램 금형에서 사출 또는 몰딩하여 홀로그램 패턴을 형성한 후 그 위에 굴절율이 높은 유기 또는 무기물을 도포하여 홀로그램 집광판을 필름으로 형성하는 단계; 및

   상기 홀로그램 집광판 위에 양극을 형성하는 단계

   를 포함하는 유기 발광 소자의 제조방법.