KR20030069684A - Device for fixing mask and Ultraviolet irradiating device using the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 액정표시소자(Liquid Crystal Display : LCD)의 제조장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 UV(Ultraviolet)경화형 씨일재를 경화시키기 위한 UV조사장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for manufacturing a liquid crystal display (LCD), and more particularly, to a UV irradiation apparatus for curing a UV (ultraviolet) curing type sealing material.
표시화면의 두께가 수 센치미터(cm)에 불과한 초박형의 평판표시소자(Flat Panel Display), 그 중에서도 액정표시소자는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.Ultra-thin flat panel displays with a display screen thickness of only a few centimeters (cm). Among them, liquid crystal displays have low operating voltages, which consume less power and can be used as portable devices. Applications range from monitors to spacecraft to aircraft.
이와 같은 액정표시소자는 일반적으로 도 1과 같이, 박막트랜지스터 (미도시), 화소전극(3), 및 배향막(미도시)이 형성되어 있는 하부기판(1)과, 차광막(4), 칼라필터층(6), 공통전극(8), 및 배향막(미도시)이 차례로 형성되어 있는 상부기판(2)과, 그리고 상기 양 기판(1, 2) 사이에 형성되어 있는 액정층(5)으로 구성되어 있으며, 상기 화소전극(5)과 공통전극(8)에 의해 양 기판(1, 2) 사이에 전기장이 형성되어 액정층(5)이 구동되고, 그 구동되는 액정층(5)을 통해서 광투과도가 조절되어 화상이 디스플레이되게 된다.Such a liquid crystal display device generally includes a lower substrate 1 on which a thin film transistor (not shown), a pixel electrode 3, and an alignment layer (not shown) are formed, a light blocking film 4, and a color filter layer, as shown in FIG. 1. (6), the common electrode 8, and the upper substrate 2 in which the alignment film (not shown) are formed in turn, and the liquid crystal layer 5 formed between the substrates 1 and 2, respectively. An electric field is formed between the substrates 1 and 2 by the pixel electrode 5 and the common electrode 8 to drive the liquid crystal layer 5, and the light transmittance through the driven liquid crystal layer 5. Is adjusted so that the image is displayed.
또한, 상기 양 기판(1, 2) 사이에는 액정(5)이 바깥으로 새는 것을 방지하고양 기판을 접착하기 위해서 씨일재(10)가 형성되어 있다.In addition, a sealing material 10 is formed between the substrates 1 and 2 to prevent the liquid crystal 5 from leaking out and to adhere the substrates.
상기 씨일재(10)는 상기 하부기판(1) 또는 상부기판(2) 위에 도포된 후 양 기판(1, 2)의 합착 공정을 거쳐 경화공정을 통해 경화되는데, 열에 의해 경화되는 열경화형 씨일재와 UV에 의해 경화되는 UV경화형 씨일재로 나뉜다.The seal material 10 is applied on the lower substrate 1 or the upper substrate 2, and then cured through a curing process through the bonding process of both substrates 1 and 2, which is cured by heat. It is divided into UV curing type sealing material which is cured by and UV.
한편, 이와 같은 열경화형 또는 UV경화형 씨일재는 액정표시소자의 제조방식에 따라 변경하여 선택될 수 있다.On the other hand, such a thermosetting or UV curing seal material may be selected by changing depending on the manufacturing method of the liquid crystal display device.
즉, 하부기판과 상부기판을 제조한 후 양 기판을 합착하고 그 후에 모세관현상과 압력차를 이용하여 합착기판에 액정을 주입시키는 소위 진공주입방식에 있어서는, 양 기판을 합착한 후 액정을 주입하기 전에 씨일재의 경화공정을 수행하므로 일반적으로 씨일재가 가열되는 동안 흘러나온다 하더라도 액정을 오염시킬 염려가 없으므로 열경화형 씨일재를 주로 사용한다.That is, in the so-called vacuum injection method in which the lower substrate and the upper substrate are manufactured and then the two substrates are bonded together, and then the liquid crystal is injected into the bonded substrate using capillary phenomenon and the pressure difference, the liquid crystal is injected after the two substrates are bonded together. Since the curing process of the seal material is performed before, there is no fear of contaminating the liquid crystal even if the seal material flows during heating. Therefore, a thermosetting seal material is mainly used.
그러나, 하부기판과 상부기판을 제조한 후 양 기판 중 어느 하나의 기판에 액정을 적하하고 양 기판을 합착하는 소위 액정적하방식에 있어서는, 액정층이 형성된 후에 씨일재의 경화공정을 수행하므로 열경화형 씨일재를 사용하면 씨일재가 가열되는 동안 흘러나와 액정을 오염시키게 된다. 따라서, 이와 같은 액정적하방식에 의해 액정표시소자를 제조하는 경우에는 UV경화형 씨일재를 주로 사용하게 된다.However, in the so-called liquid crystal dropping method in which a liquid crystal is dropped on one of the two substrates and the two substrates are bonded after the lower substrate and the upper substrate are manufactured, the curing process of the sealing material is performed after the liquid crystal layer is formed. If the material is used, it flows out while the seal material is heated, contaminating the liquid crystal. Therefore, when the liquid crystal display device is manufactured by the liquid crystal dropping method, the UV-curable seal material is mainly used.
도 2는 이와 같이 종래의 액정적하방식에 의한 액정표시소자에서 UV경화형 씨일재를 경화시키기 위한 UV조사장치의 개략도로서, 종래의 UV조사장치는 도 2와 같이 기판 스테이지(20)와 상기 기판 스테이지(20) 상측에 위치되며 UV램프(32)가구비된 UV광원부(30)로 이루어져 있다.FIG. 2 is a schematic view of a UV irradiation apparatus for curing a UV-curable seal material in a liquid crystal display device according to the conventional liquid crystal dropping method. The conventional UV irradiation apparatus includes a substrate stage 20 and the substrate stage as shown in FIG. (20) It is located on the upper side and consists of a UV light source unit 30 equipped with a UV lamp (32).
이와 같은 종래의 UV조사장치를 이용한 씨일재의 경화공정은 상기 UV조사장치의 기판 스테이지(20)에 UV경화형 씨일재(10)가 형성되어 있는 합착기판(1,2)을 안착한 후 상기 UV광원부(30)에서 UV를 조사하여 수행하게 된다.In the curing process of the seal material using the conventional UV irradiation device, the UV light source unit (1, 2) on which the UV-curable seal material 10 is formed on the substrate stage 20 of the UV irradiation device is seated. 30) is performed by irradiation with UV.
한편, 종래의 UV조사장치는 UV광원부(30)에서 조사되는 UV가 합착기판이 안착되는 기판 스테이지(20)의 전면에 조사되도록 되어 있어, 결과적으로 합착기판의 전면에 UV가 조사되게 된다.On the other hand, the conventional UV irradiation apparatus is such that the UV irradiated from the UV light source unit 30 is irradiated to the front surface of the substrate stage 20 on which the bonded substrate is seated, and as a result UV is irradiated onto the entire surface of the bonded substrate.
그러나, 이와 같이 합착기판의 전면에 UV가 조사되게 되면, 기판 상에 형성된 박막트랜지스터 등의 소자 특성에 악영향이 미치게 되고, 액정의 초기배향을 위해 형성된 배향막의 프리틸트각(pretilt angle)이 변하게 되는 문제점이 발생된다.However, when UV is irradiated on the entire surface of the bonded substrate as described above, the characteristics of devices such as thin film transistors formed on the substrate are adversely affected, and the pretilt angle of the alignment layer formed for the initial alignment of the liquid crystal is changed. Problems arise.
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 배향막 및 박막트랜지스터 등의 특성에 악영향을 미치지 않고 UV경화형 씨일재를 경화시킬 수 있도록, 씨일재 형성영역 이외의 영역으로의 UV조사를 차단하는 마스크를 구비한 UV조사장치를 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, the object of the present invention is to cure the UV-curable seal material without adversely affecting the characteristics of the alignment film, thin film transistor, etc., UV to the region other than the seal material forming region It is to provide a UV irradiation apparatus having a mask that blocks the irradiation.
본 발명의 다른 목적은 상기 마스크를 효과적으로 고정시키기 위한 마스크 고정장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a mask fixing device for effectively fixing the mask.
도 1은 일반적인 액정표시소자의 개략적 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a general liquid crystal display device.
도 2는 종래의 UV경화형 씨일재를 경화시키기 위한 UV조사장치의 개략적 사시도이다.2 is a schematic perspective view of a UV irradiation apparatus for curing a conventional UV curing seal material.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 UV조사장치의 개략적 사시도이다.3 is a schematic perspective view of a UV irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 고정장치의 사시도이다.Figure 4a is a perspective view of a mask fixing device according to an embodiment of the present invention.
도 4b는 도 4a의 마스크 고정장치에 고정된 마스크를 위에서 본 평면도이다.4B is a plan view of the mask fixed to the mask holding device of FIG. 4A seen from above.
도 4c는 도 4b의 A-A라인을 자른 단면도이다.4C is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG. 4B.
도 4d는 도 4b의 B-B라인을 자른 단면도이다.4D is a cross-sectional view taken along the line B-B of FIG. 4B.
도 5 내지 도 10은 각각 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 UV조사장치용 마스크 고정장치의 사시도이다.5 to 10 are each a perspective view of a mask fixing device for UV irradiation apparatus according to another embodiment of the present invention.
<도면의 주요부에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>
100 : 기판 스테이지 200 : UV광원부100: substrate stage 200: UV light source
300 : 마스크 400 : 하부기구물300: mask 400: lower fixture
410 : 사각프레임 420 : 돌출구조물410: rectangular frame 420: protrusion structure
430 : 플레이트 형상물 450 : 제1체결부430: plate shape 450: first fastening portion
460 : 지지바 500, 510, 520 : 상부기구물460: support bar 500, 510, 520: upper fixture
550 : 제2체결부 600 : 체결구550: second fastening part 600: fastener
상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 기판 스테이지; UV광원부; 상기 기판 스테이지 및 UV광원부 사이에 형성된 마스크; 및 상기 마스크를 고정하는 마스크 고정장치로 이루어진 UV조사장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is a substrate stage; UV light source; A mask formed between the substrate stage and the UV light source portion; And it provides a UV irradiation device consisting of a mask fixing device for fixing the mask.
또한, 본 발명은 사각프레임, 상기 사각프레임의 안쪽 면에 형성되며 제1체결부가 구비된 주 마스크 지지부, 및 상기 주 마스크 지지부에 연결되며 UV투과물질로 이루어진 보조 마스크 지지부로 구성된 하부 기구물; 및 상기 주 마스크 지지부의 제1체결부에 대응하는 제2체결부가 구비된 상부 기구물을 포함하는 UV조사장치용 마스크 고정장치를 제공한다.In addition, the present invention is a rectangular frame, a lower mechanism formed on the inner surface of the rectangular frame, the main mask support portion having a first fastening portion, and the auxiliary mask support portion connected to the main mask support portion and made of a UV-transparent material; And an upper mechanism provided with a second fastening part corresponding to the first fastening part of the main mask support part.
또한, 본 발명은 사각프레임, 상기 사각프레임의 안쪽 면에 형성되며 제1체결부가 구비된 주 마스크 지지부, 및 상기 사각프레임의 안쪽 면에 연결되며 UV투과물질로 이루어진 보조 마스크 지지부로 구성된 하부 기구물; 및 상기 주 마스크 지지부의 제1체결부에 대응하는 제2체결부가 구비된 상부 기구물을 포함하는 UV조사장치용 마스크 고정장치를 제공한다.In addition, the present invention comprises a lower frame consisting of a rectangular frame, a main mask support portion formed on the inner surface of the rectangular frame and having a first fastening portion, and an auxiliary mask support portion connected to the inner surface of the square frame and made of a UV-transparent material; And an upper mechanism provided with a second fastening part corresponding to the first fastening part of the main mask support part.
이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 UV조사장치의 개략도로서, 도 3과 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 UV조사장치는 기판 스테이지(100); UV광원부(200); 상기 기판 스테이지(100) 및 UV광원부(200) 사이에 형성된 마스크(300); 및 상기 마스크(300)를 고정하는 하부기구물(400) 및 상부기구물(500)로 구성된 마스크 고정장치로 이루어져 있다.3 is a schematic view of a UV irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention, the UV irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention as shown in Figure 3 includes a substrate stage (100); UV light source unit 200; A mask 300 formed between the substrate stage 100 and the UV light source unit 200; And it consists of a mask fixing device consisting of a lower mechanism 400 and the upper mechanism 500 for fixing the mask 300.
상기 기판 스테이지(100)는 씨일재(750)가 형성된 합착기판(700)이 안착되는 곳으로서, 대량 생산을 위해서 컨베이어 벨트 등을 이용하여 이동가능 하도록 형성될 수 있다.The substrate stage 100 is a place where the bonded substrate 700 on which the seal member 750 is formed is seated, and may be formed to be movable using a conveyor belt for mass production.
상기 UV광원부(200)에는 UV램프(210)가 형성되어 있는데, 도면에는 하나의 UV램프만이 도시되어 있으나, 기판이 대면적화 됨에 따라 복수개의 UV램프가 형성될 수 있다.The UV light source unit 200 is formed with a UV lamp 210. Although only one UV lamp is shown in the drawing, a plurality of UV lamps may be formed as the substrate becomes larger.
상기 마스크(300)는 합착기판(700)의 씨일재(750) 형성 영역으로만 UV가 조사되도록 상기 씨일재(750) 패턴과 동일한 패턴(310)이 형성되어 있다. 따라서, 액정표시소자의 모델이 변경되어 씨일재(750) 패턴이 변경되면 상기 마스크 패턴(310)도 변경하여 형성된다.The mask 300 is formed with the same pattern 310 as the seal material 750 pattern so that UV is irradiated only to the seal material 750 forming region of the bonded substrate 700. Therefore, when the model of the liquid crystal display is changed and the seal material 750 pattern is changed, the mask pattern 310 is also changed.
이와 같은 마스크(300)는 상기 하부기구물(400)과 상부기구물(500) 사이에 위치되어 고정되는데, 상기 하부기구물(400)과 상부기구물(500)의 구조, 및 상기 마스크(300)가 마스크 고정장치에 고정되는 모습을 이하에 설명한다.Such a mask 300 is positioned and fixed between the lower mechanism 400 and the upper mechanism 500, the structure of the lower mechanism 400 and the upper mechanism 500, and the mask 300 is fixed to the mask The fixing to the apparatus is described below.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 고정장치의 사시도이고, 도 4b는 도 4a의 마스크 고정장치에 고정된 마스크를 위에서 본 평면도이고, 도 4c 및 도 4d는 각각 도 4b의 A-A라인 및 B-B라인을 자른 단면도이다.4A is a perspective view of a mask fixing device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4B is a plan view of the mask fixed to the mask fixing device of FIG. 4A, and FIGS. 4C and 4D are lines AA and FIG. 4B, respectively. This is a cross-sectional view of the BB line.
도 4a와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 고정장치는 하부기구물(400), 상부기구물(510), 그리고 상기 하부기구물(400)에 상부기구물(510)을 체결하기 위한 체결구(600)로 이루어져 있다.As shown in Figure 4a, the mask fixing device according to an embodiment of the present invention is a fastener 600 for fastening the upper mechanism 510, the lower mechanism 400, the upper mechanism 510, and the lower mechanism 400. )
이때, 상기 하부기구물(400)은 사각프레임(410), 및 상기 사각프레임(410)의 안쪽 면에 형성된 복수개의 돌출구조물(420), 상기 돌출구조물(420)에 연결된 지지바(460)로 이루어져 있고, 상기 사각프레임(410)의 모서리부에 있는 돌출구조물에는 제1체결부(450)가 형성되어 있다.At this time, the lower mechanism 400 is composed of a rectangular frame 410, a plurality of protrusion structures 420 formed on the inner surface of the rectangular frame 410, the support bar 460 connected to the protrusion structure 420. In addition, the first fastening part 450 is formed at the protruding structure at the corner of the rectangular frame 410.
상기 돌출구조물(420)은 마스크를 지지하는 주 마스크 지지부이고, 상기 지지바(460)는 보조 마스크 지지부이다. 즉, 기판이 대면적화됨에 따라 마스크의 크기가 증가되어 상기 돌출구조물(420)만으로 마스크를 지지하게 되면 마스크의 중앙부가 쳐지게 될 우려가 있다. 따라서, 상기 지지바(460)를 형성하여 마스크의 처짐을 방지하는 것이다.The protruding structure 420 is a main mask support for supporting a mask, and the support bar 460 is an auxiliary mask support. That is, as the substrate becomes larger in area, the size of the mask is increased, and if the mask is supported only by the protrusion structure 420, the center portion of the mask may be struck. Therefore, the support bar 460 is formed to prevent sagging of the mask.
이때, 합착기판의 씨일재에 UV가 조사되는 영역인 마스크(300)의 패턴(310) 중 일부가 상기 보조 마스크 지지부인 지지바(460)와 겹쳐지게 되므로, 상기 지지바(460)는 아크릴, 석영 등과 같은 UV가 투과가 가능한 물질로 형성된다.In this case, since a part of the pattern 310 of the mask 300, which is a region where the seal material of the bonded substrate is irradiated with UV, overlaps the support bar 460 which is the auxiliary mask support part, the support bar 460 is made of acrylic, UV is formed of a material that can transmit, such as quartz.
상기 돌출구조물(420) 및 지지바(460)는 도면과 같이 상기 사각프레임(410)의 좌우 면에 형성될 수도 있고, 사각프레임(410)의 상하면에 형성될 수도 있다. 또한, 상기 돌출구조물(420) 및 지지바(460)의 폭은 다양하게 변경될 수 있고, 상기 지지바(460)는 2개 이상의 복수개로 형성될 수도 있다.The protruding structure 420 and the support bar 460 may be formed on the left and right sides of the rectangular frame 410, as shown in the figure, may be formed on the upper and lower surfaces of the rectangular frame 410. In addition, the widths of the protruding structure 420 and the support bar 460 may be variously changed, and the support bar 460 may be formed in two or more.
상기 상부기구물(510)은 한 쌍의 일자형 기구물의 형상으로, 상기 상부기구물(510)에는 상기 돌출구조물(420)의 제1체결부(450)에 대응하도록 제2체결부(550)가 형성되어 있다.The upper mechanism 510 has a shape of a pair of straight appliances, the second mechanism 550 is formed on the upper mechanism 510 to correspond to the first fastening portion 450 of the protruding structure 420. have.
이와 같은 상부기구물(510)은 하부기구물(400)의 사각프레임(410) 안쪽에 형성된 돌출구조물(420)에 체결되는 것으로 그에 대응하는 크기로 형성된다.The upper mechanism 510 is fastened to the protruding structure 420 formed inside the square frame 410 of the lower mechanism 400 and is formed in a size corresponding thereto.
상기 구성의 마스크 고정장치에 마스크를 고정하는 방법은 도 4b, 도 4c, 및 도 4d에서 알 수 있듯이, 상기 하부기구물(400)의 돌출구조물(420)에 마스크(300)를 위치시키고, 그 위에 상기 상부기구물(510)을 위치시킨 후, 상기돌출구조물(420)의 제1체결부(450)와 상기 상부기구물(510)의 제2체결부(550)에 체결구(600)를 형성함으로써, 결국 마스크(300)를 고정시키게 된다.The method for fixing the mask to the mask fixing device of the above configuration, as can be seen in Figures 4b, 4c, and 4d, by placing the mask 300 on the protrusion structure 420 of the lower mechanism 400, After positioning the upper mechanism 510, by forming a fastener 600 in the first fastening portion 450 of the protrusion structure 420 and the second fastening portion 550 of the upper mechanism 510, As a result, the mask 300 is fixed.
한편, 전술한 바와 같이 마스크(300)는 제품 모델에 따라 그 패턴이 변경되어 교체되어야 한다. 따라서, 상기 체결구(600)는 상기 하부기구물(400)에 상부기구물(510)을 영구적으로 체결하는 것이 아니라, 볼트 등과 같이 탈착이 가능한 것이 바람직하다.On the other hand, as described above, the mask 300 must be replaced by changing its pattern according to the product model. Accordingly, the fastener 600 is not capable of permanently fastening the upper mechanism 510 to the lower mechanism 400, but may be detachable such as a bolt.
또한, 상기 마스크(300)의 패턴(310)은 UV가 통과되어 합착기판의 씨일재에 UV가 조사되는 영역이므로, 상기 마스크(300)의 패턴(310)이 상기 마스크 고정장치 내부까지 침입한 경우는 결과적으로 합착기판의 씨일재에 UV가 조사되지 않게 된다. 따라서, 상기 마스크(300)를 고정하고 있는 하부기구물의 돌출구조물(420)과 상부기구물(510)은 아크릴, 석영 등과 같은 UV가 투과가 가능한 물질로 형성되는 것이 바람직하다.In addition, since the pattern 310 of the mask 300 is a region through which UV is transmitted and UV is irradiated onto the sealing material of the bonded substrate, the pattern 310 of the mask 300 invades the inside of the mask fixing device. As a result, UV is not irradiated on the sealing material of the bonded substrate. Therefore, the protrusion structure 420 and the upper mechanism 510 of the lower mechanism fixing the mask 300 are preferably formed of a material that can transmit UV such as acrylic and quartz.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 마스크 고정장치의 사시도로서, 지지바(460)가 돌출구조물(420)에 연결된 것이 아니라, 사각프레임(410)의 안쪽면에 연결된 것을 제외하고 전술한 도 4에 따른 실시예와 동일하다. 따라서, 동일한 도면부호를 부여하였다.5A and 5B are perspective views of a mask fixing device according to another embodiment of the present invention, except that the support bar 460 is not connected to the protruding structure 420, but is connected to the inner surface of the rectangular frame 410. And the same as the embodiment according to FIG. 4 described above. Therefore, the same reference numerals are given.
이때, 도 5a는 지지바(460)가 복수개의 돌출구조물(420) 사이의 사각프레임(410)의 안쪽면에 연결된 것에 관한 것이고, 도 5b는 지지바(460)가 돌출구조물(420)이 형성되지 않은 사각프레임(410)의 안쪽면에 연결된 것에 관한 것이다.At this time, Figure 5a relates to the support bar 460 is connected to the inner surface of the rectangular frame 410 between the plurality of protrusion structure 420, Figure 5b is the support bar 460 is formed by the protrusion structure 420 It is connected to the inner surface of the rectangular frame 410 that is not.
한편, 도면에 도시하지 않았으나, 도 4a, 도 5a, 및 도 5b에 도시된 지지바(460)를 조합하여 복수개 형성하는 것도 가능하다.Although not shown in the drawings, a plurality of support bars 460 illustrated in FIGS. 4A, 5A, and 5B may be combined.
도 6은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 마스크 고정장치의 사시도로서, 도 6에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 마스크 고정장치는 복수개의 돌출구조물(420)을 사각프레임(410)의 상하 또는 좌우 안쪽 면에 형성시킨 것이 아니라, 상하 및 좌우의 네면 모두에 형성시켜 보다 안정적으로 마스크를 지지할 수 있도록 한 것이다.6 is a perspective view of a mask fixing device according to another embodiment of the present invention. As can be seen in FIG. 6, the mask fixing device according to another embodiment of the present invention includes a plurality of protrusion structures 420. It is not formed on the upper and lower or left and right inner surface of the square frame 410, it is formed on all four sides of the upper and lower and left and right to support the mask more stably.
한편, 도 6에는 지지바(460)가 돌출구조물(420)에 연결되어 있으나, 도 5b와 같이 복수개의 돌출구조물(420) 사이의 사각프레임(410)의 안쪽면에 연결될 수도 있다.Meanwhile, although the support bar 460 is connected to the protruding structure 420 in FIG. 6, it may be connected to the inner surface of the rectangular frame 410 between the plurality of protruding structures 420 as shown in FIG. 5B.
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 마스크 고정장치의 사시도로서, 본 발명의 또 다른 일 실시예는 상부기구물로서 한 쌍의 일자형 기구물을 사용한 것이 아니라, 사각형 기구물(520)을 사용한 것에 관한 것이다. 이와 같이, 사각형 기구물(520)을 상부기구물로서 사용함으로써 보다 안정적으로 마스크를 고정시킬 수 있다.7A and 7B are perspective views of a mask fixing device according to another embodiment of the present invention, and another embodiment of the present invention does not use a pair of straight instruments as the upper mechanism, but a rectangular instrument 520. It is about using. As such, by using the rectangular instrument 520 as the upper instrument, the mask can be more stably fixed.
이때, 도 7a에 도시된 마스크 고정장치는 돌출구조물(420)이 사각프레임(410)의 좌우 또는 상하 안쪽 면에 형성된 것에 관한 것이고, 도 7b에 도시된 마스크 고정장치는 돌출구조물(420)이 사각프레임(410)의 좌우 및 상하 안쪽 네 면에 형성된 것에 관한 것이다.At this time, the mask fixing device shown in Figure 7a relates to the protrusion structure 420 is formed on the left and right or upper and lower inner surface of the rectangular frame 410, the mask fixing device shown in Figure 7b is the protrusion structure 420 is square. It relates to the four sides formed on the left and right and up and down inside of the frame 410.
또한, 지지바(460)는 도 4a, 도 5a, 및 도 5b에 도시된 바와 같이 다양하게연결되어 형성될 수 있다.In addition, the support bar 460 may be formed by variously connected as shown in Figure 4a, 5a, and 5b.
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 마스크 고정장치의 사시도로서, 본 발명의 또 다른 일 실시예는 마스크를 지지하는 주 지지부로서 돌출구조물이 아니라 플레이트 형상물(430)을 사각프레임(410)의 좌우 또는 상하 안쪽 면에 형성한 것에 관한 것이다.8A and 8B are perspective views of a mask fixing device according to another embodiment of the present invention, and another embodiment of the present invention is a main support for supporting a mask, and not a protrusion structure but a plate shape 430. It is related to what is formed in the left and right or upper and lower inner surface of the frame 410.
이때, 보조 지지부인 지지바(460)는 도 8a와 같이 플레이트 형상물(430)에 연결될 수도 있고, 도 8b와 같이 사각프레임(410)에 연결될 수도 있으며, 도 8a 및 도 8b의 지지바(460)가 조합되어 형성될 수도 있다. 또한 지지바(460)를 복수개 형성하는 것도 가능하다. 그 외의 부분은 전술한 실시예를 통해 충분히 이해할 수 있을 것이다.In this case, the support bar 460, which is an auxiliary support, may be connected to the plate-like object 430 as shown in FIG. 8A, or may be connected to the square frame 410 as shown in FIG. 8B, and the support bar 460 of FIGS. 8A and 8B. May be formed in combination. It is also possible to form a plurality of support bars 460. Other parts will be fully understood through the above-described embodiment.
도 9는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 마스크 고정장치의 사시도로서, 플레이트 형상물(430)을 사각프레임(410)의 좌우 또는 상하 안쪽면에 형성한 것이 아니라, 좌우 및 상하 안쪽 네면에 형성한 것을 제외하고 전술한 도 8에 따른 마스크 고정장치와 동일하다.9 is a perspective view of a mask fixing apparatus according to another embodiment of the present invention, the plate-shaped material 430 is not formed on the left and right or top and bottom inner surface of the square frame 410, but formed on the four sides of the left and right and up and down inside Same as the mask fixing device according to FIG. 8 described above except for one.
도 10a 및 도 10b는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 마스크 고정장치의 사시도로서, 본 발명의 또 다른 일 실시예는 하부기구물의 주 마스크 지지부로서 플레이트 형상물(430)을 사용하고, 상부기구물로서 한 쌍의 일자형 기구물을 사용한 것이 아니라, 사각형 기구물(520)을 사용한 것에 관한 것이다.10A and 10B are perspective views of a mask fixing apparatus according to another embodiment of the present invention, and another embodiment of the present invention uses a plate-like member 430 as a main mask support of the lower mechanism, and the upper mechanism. The invention relates to the use of a rectangular instrument 520, rather than a pair of straight instruments.
이때, 도 10a에 도시된 마스크 고정장치는 돌출구조물(420)이 사각프레임(410)의 좌우 또는 상하 안쪽 면에 형성된 것에 관한 것이고, 도 10b에도시된 마스크 고정장치는 돌출구조물(420)이 사각프레임(410)의 좌우 및 상하 안쪽 네 면에 형성된 것에 관한 것이다.At this time, the mask fixing device shown in Figure 10a relates to the protrusion structure 420 is formed on the left and right or upper and lower inner surface of the rectangular frame 410, the mask fixing device shown in Figure 10b is the protrusion structure 420 is square. It relates to the four sides formed on the left and right and up and down inside of the frame 410.
또한, 지지바(460)는 도 8a 및 도 8b에 도시된 바와 같이 다양하게 연결되어 형성될 수 있다.In addition, the support bar 460 may be formed in various ways as shown in Figure 8a and 8b.
이상, 본 발명에 따른 다양한 형태의 실시예를 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 범위내에서 변경 실시될 수 있을 것이다.As described above, various embodiments of the present invention have been described, but the present invention is not limited to the above embodiments, and may be modified and implemented within a range obvious to those skilled in the art. There will be.
본 발명에 따르면 UV경화형 씨일재 형성 영역 이외의 영역을 마스크로 가리고 UV조사를 수행할 수 있어 합착기판 상에 형성된 배향막 및 박막트랜지스터 등의 특성에 악영향을 미치지 않고 UV경화형 씨일재를 경화시킬 수 있다.According to the present invention, the UV curable seal material can be cured without adversely affecting the properties of the alignment film and the thin film transistor formed on the bonded substrate by covering the area other than the UV curable seal material forming area with a mask. .
또한, 본 발명에 따른 마스크 고정장치는 상기 마스크의 처짐을 방지하며 마스크를 보다 효율적으로 고정시킬 수 있으며, 합착기판의 씨일재 패턴이 변경되어 마스크 패턴이 변경된다 하더라도 다양하게 적용 가능하다.In addition, the mask fixing device according to the present invention prevents the deflection of the mask and can fix the mask more efficiently, and can be variously applied even if the mask pattern is changed by changing the sealing material pattern of the bonded substrate.
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