JPH08190206A - Photomask fixing tool for aligner - Google Patents
Photomask fixing tool for alignerInfo
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- JPH08190206A JPH08190206A JP3110595A JP3110595A JPH08190206A JP H08190206 A JPH08190206 A JP H08190206A JP 3110595 A JP3110595 A JP 3110595A JP 3110595 A JP3110595 A JP 3110595A JP H08190206 A JPH08190206 A JP H08190206A
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- photomask
- glass
- plate
- fixture
- substrate
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- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、露光機のフォトマスク
固定具に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photomask fixture for an exposure machine.
【０００２】[0002]
【従来の技術】プリント配線板の製造プロセスにおける
画像形成工程の初期段階では、ドライフィルムレジスト
が貼着された銅張積層板に対する露光・現像が行われ
る。前記露光工程においては、ネガまたはポジのパター
ンを有するフォトマスクが銅張積層板に密着される。し
かし、このようなフォトマスクは、一般的に肉薄で取り
扱いにくい。また、フォトマスクは、銅張積層板に対し
て正確な位置に配置される必要がある。従って、露光機
による露光工程を行う際には、フォトマスクを確実に固
定しておくための器具を使用する必要がある。2. Description of the Related Art In the initial stage of an image forming process in a printed wiring board manufacturing process, a copper clad laminate having a dry film resist attached thereto is exposed and developed. In the exposure step, a photomask having a negative or positive pattern is brought into close contact with the copper clad laminate. However, such a photomask is generally thin and difficult to handle. Further, the photomask needs to be placed at an accurate position with respect to the copper clad laminate. Therefore, it is necessary to use an instrument for securely fixing the photomask when performing the exposure process by the exposure machine.
【０００３】従来においては、図８（ａ），図８（ｂ）
に示されるように、透明なアクリル板からなる矩形状の
フォトマスク固定具６０が一般的に使用されている。こ
の固定板６０の片側面には、樹脂製かつフィルム状のフ
ォトマスク６１が取り付けられる。一方、基板ホルダ６
２には、露光対象物である銅張積層板６３が固定され
る。露光工程において、対向して配置されたフォトマス
ク６１と銅張積層板６３とは、位置合わせされた後に互
いに密着される。そして、この状態で固定具６０の裏面
側（即ち、フォトマスク６１が取り付けられていない面
側）から紫外線が照射される。すると、銅張積層板６３
に貼着された図示しないドライフィルムレジストが部分
的に光重合する。この後、現像やエッチング等の諸工程
を経ることによって、最終的には銅張積層板６３上に所
望の画像が形成される。Conventionally, FIG. 8 (a), FIG. 8 (b)
As shown in FIG. 2, a rectangular photomask fixture 60 made of a transparent acrylic plate is generally used. A resin-made film mask 61 is attached to one side surface of the fixing plate 60. On the other hand, the substrate holder 6
A copper clad laminate 63, which is an object to be exposed, is fixed to 2. In the exposure step, the photomask 61 and the copper clad laminate 63 that are arranged so as to face each other are aligned and then brought into close contact with each other. Then, in this state, ultraviolet rays are emitted from the back surface side of the fixture 60 (that is, the surface side on which the photomask 61 is not attached). Then, the copper clad laminate 63
The dry film resist (not shown) adhered to is partially photopolymerized. After that, a desired image is finally formed on the copper-clad laminate 63 through various processes such as development and etching.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来のフォ
トマスク固定具６０の場合、露光工程において露光用ラ
ンプの熱を受けると、アクリルの熱膨張に起因して固定
具６０が伸張してしまう。その結果、位置合わせがなさ
れたフォトマスク６１に位置ずれが生じ、画像形成精度
が悪化する。However, in the case of the conventional photomask fixture 60, when the heat of the exposure lamp is received in the exposure process, the fixture 60 expands due to the thermal expansion of acrylic. As a result, the misaligned photomask 61 is displaced, and the image forming accuracy deteriorates.
【０００５】この問題を解決するためには、固定具６０
の形成材料をアクリルよりも熱膨張係数の小さい材料、
例えばガラス等に変更すればよいと予想される。しか
し、固定具６０の形成材料を単にガラスに変更した場合
には、次のような不都合も予想される。即ち、固定具６
０の交換作業を行う場合、固定具６０の外縁部が周囲の
部材６４に摺接することによって、当該部分が破損する
おそれがある。このため、慎重に交換作業を行わなけれ
ばならず、従来に比べて取り扱いにくいものとなる。To solve this problem, the fixture 60
The material of which the thermal expansion coefficient is smaller than that of acrylic,
For example, it is expected that it may be changed to glass or the like. However, when the material for forming the fixture 60 is simply changed to glass, the following disadvantages are expected. That is, the fixture 6
When performing the replacement work of 0, there is a possibility that the outer edge portion of the fixture 60 may be damaged by sliding contact with the surrounding member 64. For this reason, the replacement work must be performed carefully, and it becomes more difficult to handle than in the past.
【０００６】本発明は上記の課題を解消するためになさ
れたものであり、その目的は、画像形成精度及び取扱性
に優れた露光機のフォトマスク固定具を提供することに
ある。The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a photomask fixture for an exposure machine which is excellent in image forming accuracy and handleability.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項１に記載の発明は、全体として板状をな
し、その片側面にフォトマスクを密着させるための領域
を有する露光機のフォトマスク固定具であって、前記領
域は光透過性を有する板ガラス上に設けられ、少なくと
も前記板ガラスの外縁には樹脂材料が配置されている露
光機のフォトマスク固定具をその要旨としている。In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 has a plate-like shape as a whole, and an exposing machine having an area for adhering a photomask on one side surface thereof. The photomask fixture of the exposure machine, wherein the region is provided on a plate glass having a light transmitting property, and a resin material is arranged at least on the outer edge of the plate glass.
【０００８】請求項２に記載の発明は、全体として板状
をなし、その片側面にフォトマスクを密着させるための
領域を有する露光機のフォトマスク固定具であって、樹
脂材料からなる板材の所定箇所に嵌合部を設け、その嵌
合部に光透過性を有する板ガラスを嵌合した露光機のフ
ォトマスク固定具をその要旨としている。According to a second aspect of the present invention, there is provided a photomask fixture for an exposure machine, which has a plate-like shape as a whole and has an area for adhering a photomask on one side surface thereof. The gist is a photomask fixture of an exposure machine in which a fitting portion is provided at a predetermined position and a plate glass having a light transmitting property is fitted into the fitting portion.
【０００９】請求項３に記載の発明は、請求項２におい
て、前記嵌合部は、前記板材の中央部をくり抜くことに
よって形成されている。According to a third aspect of the present invention, in the second aspect, the fitting portion is formed by hollowing out a central portion of the plate material.
【００１０】[0010]
【作用】請求項１〜３に記載の発明によると、熱膨張係
数の充分に小さなガラスが使用されているため、露光用
ランプの熱によって温度が上昇したとしても、板ガラス
に生じる伸張の度合いは極めて小さい。従って、フォト
マスクに位置ずれが生じにくくなる。また、板ガラスの
外縁が樹脂材料によって保護されているため、交換作業
等を行う場合でも、当該部分が周囲の部材にじかに摺接
することはない。従って、摺接に起因する板ガラスの破
損も未然に回避される。さらに、この板ガラスは光透過
性を有するものであるため、光が透過する際のエネルギ
ーロスも小さい。According to the invention described in claims 1 to 3, since glass having a sufficiently small coefficient of thermal expansion is used, even if the temperature rises due to the heat of the exposure lamp, the degree of expansion occurring in the plate glass Extremely small. Therefore, the photomask is less likely to be displaced. Further, since the outer edge of the plate glass is protected by the resin material, even when the replacement work or the like is performed, the portion does not directly slide on the surrounding members. Therefore, the breakage of the plate glass due to the sliding contact can be avoided in advance. Further, since this plate glass has a light-transmitting property, the energy loss when light is transmitted is small.
【００１１】請求項２に記載の発明によると、樹脂材料
からなる板材にガラス板を嵌合した構成であるため、縦
方向及び横方向からの応力に対して強くなる。請求項３
に記載の発明によると、樹脂材料からなる板材のうち前
記領域に相当する部分がくり抜かれていることから、照
射された光はガラスのみを通過して反対側に到る。従っ
て、樹脂からなる板材を通過することに起因する光エネ
ルギーのロスもない。According to the second aspect of the present invention, since the glass plate is fitted to the plate material made of the resin material, it becomes strong against the stress from the longitudinal direction and the lateral direction. Claim 3
According to the invention described in (1), since the portion corresponding to the region is hollowed out of the plate material made of the resin material, the irradiated light passes through only the glass and reaches the opposite side. Therefore, there is no loss of light energy due to passing through the plate material made of resin.
【００１２】[0012]
〔実施例１〕以下、本発明のフォトマスク固定具を具体
化した一実施例を図１〜図４に基づき詳細に説明する。[Embodiment 1] An embodiment in which the photomask fixture of the present invention is embodied will be described in detail below with reference to FIGS.
【００１３】フォトプロセスを行うための典型的なシス
テムは、例えば上流側から順にプレヒータ、基板洗浄装
置、ラミネータ及び両面自動露光機の順にレイアウトさ
れる。両面自動露光機以外の機器の構成及び作用につい
ては、ここでは詳細な説明を省略する。In a typical system for performing a photo process, for example, a preheater, a substrate cleaning device, a laminator, and a double-sided automatic exposure device are laid out in this order from the upstream side. The detailed description of the configuration and operation of devices other than the double-sided automatic exposure device will be omitted here.
【００１４】図１に示されるように、本実施例の両面自
動露光機は、図示しないローダ、アンローダ９及び露光
機本体１０によって構成されている。さらに、露光機本
体１０は、左半分の第１露光部（図示略）と右半分の第
２露光部１２とに大別される。これらの露光部１２は、
基本的には同様の構成を有しているため、ここでは図２
の第２露光部１２の構成を例として説明する。As shown in FIG. 1, the double-sided automatic exposure machine of this embodiment comprises a loader, an unloader 9 and an exposure machine body 10 which are not shown. Further, the exposure machine main body 10 is roughly divided into a first exposure unit (not shown) in the left half and a second exposure unit 12 in the right half. These exposure units 12 are
Since it basically has the same configuration, FIG.
The configuration of the second exposure unit 12 will be described as an example.
【００１５】図１，図２に示されるように、露光機本体
１０の前面側には、基板（詳細にはドライフィルムが両
面に貼着されたリジッドな銅張積層板）１３を水平方向
に（詳細には図３の左方向に）搬送するためのロールコ
ンベア１４が配設されている。ロールコンベア１４の終
端には、基板１３を垂直に引き起こすための回動式のハ
ンドラ１５が約９０°回動可能に設けられている。この
ハンドラ１５は、基板１３を真空吸着するための機構を
備えていおり、常にはロールコンベア１４の下部に位置
している。また、ハンドラ１５の両側には、搬送されて
きた基板１３の位置をロールコンベア１４の中心に合わ
せるためのセンタリング機構１６が設けられている。こ
のセンタリング機構１６は、ロールコンベア１４の搬送
方向に対して直交する方向に移動可能に設けられた一対
の押圧板からなる。さらに、ロールコンベア１４の終端
には、基板１３の終端位置を決定するためのフォトセン
サ１７が設けられている。As shown in FIGS. 1 and 2, a substrate (specifically, a rigid copper clad laminate having a dry film adhered on both sides) 13 is horizontally provided on the front side of the exposure machine body 10. A roll conveyor 14 for transporting (in detail, leftward in FIG. 3) is provided. A rotary handler 15 for vertically raising the substrate 13 is provided at the end of the roll conveyor 14 so as to be rotatable about 90 °. The handler 15 has a mechanism for vacuum-sucking the substrate 13, and is always located under the roll conveyor 14. Further, on both sides of the handler 15, centering mechanisms 16 for aligning the position of the conveyed substrate 13 with the center of the roll conveyor 14 are provided. The centering mechanism 16 includes a pair of pressing plates movably provided in a direction orthogonal to the transport direction of the roll conveyor 14. Further, at the end of the roll conveyor 14, a photo sensor 17 for determining the end position of the substrate 13 is provided.
【００１６】前記ハンドラ１５によって基板１３が引き
起こされる位置には、図４に示されるような基板ホルダ
１８が立設されている。同基板ホルダ１８は、図示しな
い駆動手段によって露光機本体１０の奥行き方向に沿っ
て水平移動する。基板ホルダ１８の真空吸着面には、そ
の外周を包囲するようにゴムラバーシール１９が設けら
れている。ゴムラバーシール１９の内側には、基板１３
を真空吸着するための吸着エリアＲ2 が設けられてい
る。吸着エリアＲ2 には、真空引きのための溝（図示
略）が縦横方向に沿っていくつか形成されている。ま
た、ゴムラバーシール１９と吸着エリアＲ2 との中間に
あたる部分には、真空引き用のポート２０が形成されて
いる。本実施例では、各コーナー部に４つのポート２０
がそれぞれ配置されている。各ポート２０は、配管２１
を介して電磁バルブ２２に連結されている。同電磁バル
ブ２２は、図示しない真空ポンプに連結されている。な
お、基板ホルダ１８は、各露光部１２について２個づつ
設置されている。一組の基板ホルダ１８は、使用位置と
退避位置との間を交互に移動する。At a position where the substrate 13 is raised by the handler 15, a substrate holder 18 as shown in FIG. 4 is erected. The substrate holder 18 is horizontally moved along the depth direction of the exposure machine body 10 by a driving unit (not shown). A rubber rubber seal 19 is provided on the vacuum suction surface of the substrate holder 18 so as to surround the outer periphery thereof. Inside the rubber rubber seal 19, the substrate 13
A suction area R2 for vacuum suctioning is provided. In the suction area R2, some grooves (not shown) for vacuuming are formed in the vertical and horizontal directions. Further, a port 20 for vacuuming is formed at a portion intermediate between the rubber rubber seal 19 and the suction area R2. In this embodiment, four ports 20 are provided at each corner.
Are arranged respectively. Each port 20 has a pipe 21
Is connected to the electromagnetic valve 22 via. The electromagnetic valve 22 is connected to a vacuum pump (not shown). Two substrate holders 18 are installed for each exposure unit 12. The set of substrate holders 18 alternately moves between the use position and the retracted position.
【００１７】図１，図２に示されるように、基板ホルダ
１８の使用位置には、全体として板状をしたフォトマス
ク固定具３０が対向して配置される。このフォトマスク
固定具３０は、その上部側縁及び下部側縁に相当する位
置に設けられた断面コ字状のガイド部材３１によって摺
動可能に保持されている。このため、フォトマスク固定
具３０は交換可能となっている。As shown in FIGS. 1 and 2, a photomask fixture 30 having a plate shape as a whole is arranged to face the use position of the substrate holder 18. The photomask fixture 30 is slidably held by a guide member 31 having a U-shaped cross section provided at positions corresponding to the upper side edge and the lower side edge thereof. Therefore, the photomask fixture 30 is replaceable.
【００１８】フォトマスク固定具３０の一方の側面に
は、樹脂製かつフィルム状のフォトマスク３２を密着さ
せるための領域Ｒ1 が設けられている。フォトマスク固
定具３０の他方の側面には、位置合わせ用のＣＣＤカメ
ラ３３が所定距離を隔てて配置されている。ＣＣＤカメ
ラ３３は、フォトマスク３２の外形線に沿って移動する
際、基板１３側の各検出マーク１３ａと、それに対応す
るフォトマスク３２側の各検出ホール３２ａとを撮像す
る。ＣＣＤカメラ３３の撮像データは、図示しないコン
ピュータに出力される。前記コンピュータは、各検出マ
ーク１３ａ及び各検出ホール３２ａの一致・不一致を判
断し、この判断結果に基づいて図示しない固定具位置修
正手段を駆動させる。その結果、基板１３に対するフォ
トマスク３２の位置が修正される。なお、前記ＣＣＤカ
メラ３３の後部には、露光用ランプや反射鏡等からなる
露光手段（図示略）が配置されている。この露光手段
は、フォトマスク３２に対して、紫外線領域を含む所定
の強さの平行光を所定時間のあいだ照射する。A region R1 is provided on one side surface of the photomask fixture 30 for adhering the resinous and film-shaped photomask 32. A CCD camera 33 for alignment is arranged on the other side surface of the photomask fixture 30 at a predetermined distance. When the CCD camera 33 moves along the outline of the photomask 32, the CCD camera 33 images each detection mark 13a on the substrate 13 side and each corresponding detection hole 32a on the photomask 32 side. The image data of the CCD camera 33 is output to a computer (not shown). The computer determines whether or not each detection mark 13a and each detection hole 32a are coincident with each other, and drives a fixture position correcting means (not shown) based on the result of the determination. As a result, the position of the photomask 32 with respect to the substrate 13 is corrected. At the rear of the CCD camera 33, an exposing means (not shown) including an exposing lamp and a reflecting mirror is arranged. This exposure means irradiates the photomask 32 with parallel light of a predetermined intensity including the ultraviolet region for a predetermined time.
【００１９】以上のように構成された両面自動露光機の
場合、まず最初にローダによって第１露光部に基板１３
が搬送される。基板１３は、図示しない吊下式のハンド
ラの真空吸着によって引き起こされた後、基板ホルダ１
８に受け渡される。基板１３を受け取った基板ホルダ１
８は、その基板１３を真空吸着した状態で退避位置から
使用位置へと移動する。そこで、上述した方法でフォト
マスク３２の位置合わせがなされた後、基板ホルダ１８
とフォトマスク固定具３０との間の距離が狭められる。In the case of the double-sided automatic exposure machine configured as described above, first, the substrate 13 is placed on the first exposure section by the loader.
Is transported. After the substrate 13 is triggered by vacuum suction of a hanging handler (not shown), the substrate holder 1
Delivered to 8. Substrate holder 1 that received substrate 13
8 moves from the retracted position to the used position while the substrate 13 is vacuum-sucked. Therefore, after the photomask 32 is aligned by the method described above, the substrate holder 18
The distance between the photomask fixture 30 and the photomask fixture 30 is reduced.
【００２０】次いで、真空ポンプの駆動及び電磁バルブ
の開成によって、真空引きが開始される。その結果、基
板ホルダ１８、フォトマスク固定具３０及びゴムラバー
シール１９によって区画される真空引き空間から空気が
排出され、同空間内の圧力が低下する。そして、最終的
には基板１３とフォトマスク３２とが密着する。この状
態に到った後、露光手段から平行光が照射される。する
と、基板１３両面に貼着された図示しないドライフィル
ムレジストのうち、平行光を受けた面側のものが部分的
に光重合する。Next, the evacuation is started by driving the vacuum pump and opening the electromagnetic valve. As a result, air is exhausted from the vacuum drawing space defined by the substrate holder 18, the photomask fixture 30, and the rubber rubber seal 19, and the pressure in the space drops. Then, finally, the substrate 13 and the photomask 32 come into close contact with each other. After reaching this state, parallel light is emitted from the exposure means. Then, among the dry film resists (not shown) attached to both surfaces of the substrate 13, the one on the side receiving the parallel light partially undergoes photopolymerization.
【００２１】露光が終了した後に電磁バルブが閉成され
ると、前記空間内の真空度が小さくなり、フォトマスク
固定具３０が基板ホルダ１８から離れやすくなる。この
後、基板ホルダ１８は使用位置から退避位置へと復帰す
る。When the electromagnetic valve is closed after the exposure is completed, the degree of vacuum in the space is reduced, and the photomask fixture 30 is easily separated from the substrate holder 18. After that, the substrate holder 18 returns from the use position to the retracted position.
【００２２】以上のように第１回めの露光が終了した
後、基板１３は、吊下式のハンドラによって露光面が下
側になるようにロールコンベア１４上に載置される。ロ
ールコンベア１４は、第１の露光部から第２の露光部１
２へ基板１３を搬送する。基板１３は、センタリング機
構１６によってセンタリングされた後、回動式のハンド
ラ１５によって吸着される。その後、ハンドラ１５は垂
直になるまで回動し、基板ホルダ１８に基板１３を受け
渡す。After the first exposure is completed as described above, the substrate 13 is placed on the roll conveyor 14 by the hanging handler so that the exposure surface is on the lower side. The roll conveyor 14 includes the first exposure unit to the second exposure unit 1.
The substrate 13 is transported to 2. The substrate 13 is centered by the centering mechanism 16 and then adsorbed by the rotary handler 15. After that, the handler 15 rotates until it becomes vertical and transfers the substrate 13 to the substrate holder 18.
【００２３】これ以降、第１の露光工程と同様の動作に
よって、未露光のドライフィルムレジストが露光され
る。そして、両面のドライフィルムの露光が終了した基
板１３は、ハンドラ１５によって再びロールコンベア１
４上に載置される。ロールコンベア１４は、その基板１
３をアンローダ９に搬送する。この後、基板１３は、現
像やエッチング等の諸工程を経る。その結果、最終的に
は基板１３上に所望の画像が形成される。Thereafter, the unexposed dry film resist is exposed by the same operation as the first exposure step. Then, the substrate 13 on which the dry films on both sides have been exposed is again processed by the handler 15 by the roll conveyor 1.
4. The roll conveyor 14 has its substrate 1
3 is conveyed to the unloader 9. After that, the substrate 13 goes through various steps such as development and etching. As a result, a desired image is finally formed on the substrate 13.
【００２４】次に、本実施例のフォトマスク固定具３０
の構成を図３に基づいて詳細に説明する。同図に示され
るように、フォトマスク固定具３０は、従来までのもの
とは異なり、２種の材料（即ち、樹脂とガラス）を用い
て形成されている。樹脂材料からなる板材としてのアク
リル板３５は、矩形状の嵌合部３５ａを備えている。こ
の嵌合部３５ａは、アクリル板３５の中央部を、フォト
マスク３２の外形よりもひとまわり大きくくり抜くこと
によって形成される。なお、実施例では、厚さ５mm〜８
mm程度の透明なアクリル板３５が使用されている。アク
リル板３５の嵌合部３５ａには、光透過性を有する透明
な板ガラス３６が嵌合されている。アクリル板３５及び
板ガラス３６は、従来公知の接着剤によって接着されて
いる。そして、この板ガラス３６の片側面は、フォトマ
スク３２を密着させるための密着領域Ｒ1 となってい
る。なお、この板ガラス３６を基準としてみると、板ガ
ラス３６の外縁は、それを包囲するアクリル板３５によ
って保護されていると把握することもできる。Next, the photomask fixture 30 of this embodiment
The configuration will be described in detail with reference to FIG. As shown in the figure, the photomask fixture 30 is formed using two kinds of materials (that is, resin and glass), unlike the conventional ones. The acrylic plate 35 as a plate material made of a resin material includes a rectangular fitting portion 35a. The fitting portion 35 a is formed by hollowing out the central portion of the acrylic plate 35 to a size larger than the outer shape of the photomask 32. In the example, the thickness is 5 mm to 8 mm.
A transparent acrylic plate 35 of about mm is used. A transparent plate glass 36 having a light transmitting property is fitted to the fitting portion 35 a of the acrylic plate 35. The acrylic plate 35 and the plate glass 36 are bonded by a conventionally known adhesive. Then, one side surface of the plate glass 36 serves as a contact region R1 for contacting the photomask 32. When the plate glass 36 is used as a reference, it can be understood that the outer edge of the plate glass 36 is protected by the acrylic plate 35 surrounding the plate glass 36.
【００２５】本実施例の場合、板ガラス３６の厚さはア
クリル板３５の厚さよりも薄く、４．９mm〜５．０mm程
度である。板ガラス３６が厚くなりすぎると、板ガラス
３６を透過するときの光エネルギーのロスが大きくなる
ばかりでなく、全体の重量増を招くおそれがある。一
方、板ガラス３６が薄すぎると、上記の問題は起こりに
くくなる反面、板ガラス３６の機械的強度が損なわれる
ため、真空吸着時や交換作業時に破損しやすくなる。In the case of this embodiment, the plate glass 36 is thinner than the acrylic plate 35 and is about 4.9 mm to 5.0 mm. If the plate glass 36 becomes too thick, not only the loss of light energy when passing through the plate glass 36 becomes large, but also the weight of the entire plate may increase. On the other hand, if the plate glass 36 is too thin, the above problems are less likely to occur, but the mechanical strength of the plate glass 36 is impaired, so that the plate glass 36 is easily damaged during vacuum suction or replacement work.
【００２６】フォトマスク固定具３０に使用される板ガ
ラス３６としては、以下に列挙するものがある。即ち、
酸性成分として珪酸を主成分とする板ガラス（例えば
ソーダ石灰ガラス、ソーダ石灰アルミガラス、カリ石灰
ガラス、カリ鉛ガラス）、酸性成分として珪酸と他の
酸とを同時に成分組成とするガラス（例えばほう珪クラ
ウンガラス、ほう珪フリントガラス）、酸性成分とし
て珪酸を用いないでほう酸またはりん酸を用いたガラス
（例えばほう酸フリントガラス、りん酸クラウンガラ
ス）、酸性成分として珪酸を用い塩基性成分としてア
ルカリだけを用いたガラス、ほとんど珪酸だけを主成
分とするガラス（例えば石英ガラス）、希元素を含む
ガラス、などである。The plate glass 36 used for the photomask fixture 30 includes those listed below. That is,
A plate glass containing silicic acid as a main component as an acidic component (for example, soda lime glass, soda lime aluminum glass, potash lime glass, potash lead glass), a glass having at the same time a component composition of silicic acid and another acid as an acidic component (for example, borosilicate). Crown glass, borosilicate flint glass), glass using boric acid or phosphoric acid without using silicic acid as the acidic component (eg boric acid flint glass, phosphoric acid crown glass), silicic acid as the acidic component, and only alkali as the basic component. Examples of the used glass include glass containing almost only silicic acid as a main component (eg, quartz glass), and glass containing a rare element.
【００２７】ガラス転移点よりも低い温度におけるガラ
スの熱膨張係数は、一般的なものにおいて２×１０-6／
℃〜１０×１０-6／℃程度であり、樹脂の熱膨張係数
（一般的に１０×１０-6／℃よりも幾分大きい値）に比
較して小さい。また、先に列挙したもののなかでも、例
えば熱膨張係数の極めて小さい（０．４×１０-6／℃〜
０．５×１０-6／℃程度）、の石英ガラスを選択する
ことが好ましい。さらに、のほう珪クラウンガラスや
ほう珪フリントガラス（２×１０-6／℃〜５×１０-6／
℃程度）等も比較的好ましい。The coefficient of thermal expansion of glass at a temperature lower than the glass transition point is 2 × 10 −6 / general.
C. to about 10.times.10.sup.-6 / .degree. C., which is smaller than the thermal expansion coefficient of resin (generally, a value somewhat larger than 10.times.10.sup.-6 / .degree. C.). In addition, among those listed above, for example, the coefficient of thermal expansion is extremely small (0.4 × 10 −6 / ° C.
It is preferable to select quartz glass of about 0.5 × 10 −6 / ° C.). Furthermore, silica glass crown glass and silica glass flint glass (2 × 10 −6 / ° C. to 5 × 10 −6 /
(° C.) And the like are also relatively preferable.
【００２８】さて、次に本実施例のフォトマスク固定具
３０の作用効果について説明する。上述したように、こ
のフォトマスク固定具３０における密着領域Ｒ1 を形成
する材料は、樹脂に比較して熱膨張係数の充分に小さな
ガラスである。このため、露光手段３４の熱によって温
度が上昇したとしても、板ガラス３６に生じる伸張の度
合いは樹脂のときに比べて極めて小さい。ちなみに、５
００mm×５００mmの大きさのフォトマスク３２を使用し
た場合、その最大伸張量は５０μｍ以内になることが実
験的に確かめられている。従って、フォトマスク３２に
位置ずれが生じにくくなり、画像形成精度が確実に向上
する。Now, the function and effect of the photomask fixture 30 of this embodiment will be described. As described above, the material forming the contact region R1 in the photomask fixture 30 is glass having a sufficiently small coefficient of thermal expansion as compared with resin. Therefore, even if the temperature rises due to the heat of the exposure unit 34, the degree of expansion that occurs in the plate glass 36 is extremely smaller than that of resin. By the way, 5
It has been experimentally confirmed that when the photomask 32 having a size of 00 mm × 500 mm is used, the maximum extension amount is within 50 μm. Therefore, the photomask 32 is less likely to be displaced, and the image forming accuracy is reliably improved.
【００２９】また、板ガラス３６の外縁は、アクリル樹
脂３５によって保護されている。このため、フォトマス
ク固定具３０の交換作業等を行う場合でも、板ガラス３
６の外縁がガイド部材３１にじかに摺接することはな
い。従って、ガイド部材３１との摺接に起因する板ガラ
ス３６の破損を未然に回避することができる。よって、
破損を回避するために作業を慎重に行う必要があった従
来と比較して、フォトマスク固定具３０の取扱性が向上
する。特に、この実施例の場合、アクリル樹脂３５は枠
状であるため、縦方向及び横方向からの応力にも強い。
従って、このフォトマスク固定具３０は、全体の剛性に
も優れている。The outer edge of the plate glass 36 is protected by the acrylic resin 35. Therefore, even when the photomask fixture 30 is replaced, the plate glass 3
The outer edge of 6 does not directly contact the guide member 31. Therefore, it is possible to prevent damage to the plate glass 36 due to sliding contact with the guide member 31. Therefore,
The handling property of the photomask fixture 30 is improved as compared with the conventional case in which the work needs to be performed carefully in order to avoid damage. In particular, in the case of this embodiment, since the acrylic resin 35 has a frame shape, it is strong against stress in the longitudinal direction and the lateral direction.
Therefore, the photomask fixture 30 is also excellent in overall rigidity.
【００３０】さらに、密着領域Ｒ1 に使用されている板
ガラス３６は光透過性を有するものであることに加え、
アクリル樹脂３５において密着領域Ｒ1 に相当する部分
は大きくくり抜かれている。このため、露光手段から照
射された平行光は、肉薄の板ガラス３６のみを通過して
フォトマスク固定具３０の反対側に到ることができる。
よって、アクリル板３５の通過に起因する光エネルギー
のロスはなく、しかも平行光が板ガラス３５を通過する
際のエネルギーロスも比較的小さい。よって、露光時間
が長くなり作業性が悪化するなどの問題も特に起こらな
い。また、実施例のように樹脂及びガラスという２種類
の材料からなる構成であると、ガラスのみからなる構成
のときに比べて軽量化を図ることができる。このことは
取扱性の向上にもつながる。Further, in addition to the plate glass 36 used for the adhesion region R1 having a light transmitting property,
A portion of the acrylic resin 35 corresponding to the contact area R1 is largely hollowed out. Therefore, the parallel light emitted from the exposing means can reach only the thin plate glass 36 and reach the opposite side of the photomask fixture 30.
Therefore, there is no loss of light energy due to passage through the acrylic plate 35, and the energy loss when parallel light passes through the plate glass 35 is relatively small. Therefore, the problem that the exposure time becomes long and the workability is deteriorated does not occur. Further, when the structure is made of two kinds of materials such as resin and glass as in the embodiment, the weight can be reduced as compared with the structure made of only glass. This also leads to improved handling.
【００３１】そして、この実施例の基板ホルダ１８によ
ると、基板１３とフォトマスク３２とを密着させる際、
各コーナー部に設けられた４つのポート２０を介して真
空引きが行われる。よって、１つのポート２０しか備え
ていなかった従来の基板ホルダにおいて問題であった真
空引きのムラが確実に解消される。これは、複数のポー
ト２０を離間させて配置したことによって、これまでよ
りもスムーズに真空引きがなされることに伴う利益であ
る。従って、露光時における基板１３とフォトマスク３
２との密着性が高くなり、結果として画像形成精度も向
上する。しかも、真空引きに要する時間が短くなるた
め、露光工程の作業効率化が図られる。なお、ポート２
０の数を２個や３個にしたときでも、上記のような効果
を得ることができる。勿論、ポート２０の数を４個以上
にすれば、さらによい結果が期待できる。また、ポート
２０の形成位置をコーナー部以外の位置にすることも許
容される。According to the substrate holder 18 of this embodiment, when the substrate 13 and the photomask 32 are brought into close contact with each other,
Vacuuming is performed through four ports 20 provided at each corner. Therefore, the unevenness of vacuum drawing, which is a problem in the conventional substrate holder having only one port 20, can be reliably eliminated. This is an advantage associated with the fact that the plurality of ports 20 are arranged apart from each other so that the vacuum can be drawn more smoothly than ever. Therefore, the substrate 13 and the photomask 3 at the time of exposure
The adhesion to the sheet 2 is increased, and as a result, the image forming accuracy is also improved. Moreover, since the time required for vacuuming is shortened, the work efficiency of the exposure process can be improved. In addition, port 2
Even when the number of 0s is set to 2 or 3, the above effect can be obtained. Of course, if the number of ports 20 is 4 or more, a better result can be expected. It is also permissible to set the formation position of the port 20 to a position other than the corner portion.
【００３２】次に、反りが生じている基板１３を露光す
る場合に好適なハンドラ１５の構成について説明する。
まず、従来における問題点を簡単に説明する。図５
（ａ），図５（ｂ）に示されるように、本実施例の回動
式のハンドラ１５は、ステンレス等といった金属製の材
料によって形成されている。また、ハンドラ１５の吸着
面には、図示しない樹脂層が形成されている。ハンドラ
１５を構成するメインアーム１５ａからは、複数本のサ
ブアーム１５ｂが垂直に突出している。メインアーム１
５ａ及びサブアーム１５ｂの所定箇所には、多数の吸着
パッド１５ｃが形成されている。具体的にいうと、吸着
パッド１５ｃは、サブアーム１５ｂの外縁部に一列に配
置されるとともに、メインアーム１５ａの部分にも配置
されている。これらの吸着パッド１５ｃは、図示しない
電磁バルブを介して図示しない真空ポンプに接続されて
いる。従って、電磁バルブを開いた状態で真空引きを行
うと、各吸着パッド１５ｃによって基板１３がハンドラ
１５の吸着面に吸着される。よって、ハンドラ１５は、
基板ホルダ１８の所定位置に基板１３を受け渡すことが
できるようになっている。Next, the structure of the handler 15 which is suitable for exposing the warped substrate 13 will be described.
First, the problems in the prior art will be briefly described. Figure 5
As shown in FIGS. 5A and 5B, the rotary handler 15 of this embodiment is made of a metal material such as stainless steel. A resin layer (not shown) is formed on the suction surface of the handler 15. A plurality of sub-arms 15b are vertically projected from the main arm 15a constituting the handler 15. Main arm 1
A large number of suction pads 15c are formed at predetermined locations on the 5a and the sub-arm 15b. Specifically, the suction pads 15c are arranged in a line at the outer edge of the sub arm 15b, and are also arranged at the main arm 15a. These suction pads 15c are connected to a vacuum pump (not shown) via an electromagnetic valve (not shown). Therefore, when vacuuming is performed with the electromagnetic valve open, the substrate 13 is attracted to the attraction surface of the handler 15 by each attraction pad 15c. Therefore, the handler 15
The substrate 13 can be transferred to a predetermined position of the substrate holder 18.
【００３３】しかしながら、従来のハンドラ１５である
と、図５（ｂ）において実線で示されるように、反りの
生じた基板１３を確実に吸着できない場合があった。よ
って、基板１３を受け渡す位置にずれが生じたり、基板
１３を受け渡す前に基板１３を落下させたりすることが
あった。However, with the conventional handler 15, as shown by the solid line in FIG. 5 (b), the warped substrate 13 may not be surely adsorbed. Therefore, the position where the substrate 13 is delivered may be displaced, or the substrate 13 may be dropped before the substrate 13 is delivered.
【００３４】そこで、従来からある吸着パッド１５ｃと
は別に、サブアーム１５ｂの先端部にも吸着パッド１５
ｄを設けることとした。そして、従来からある吸着パッ
ド群と、新たに設けた吸着パッド群（図５(a),(b) にお
いてＰ1 で示す）とを別系統にして真空引きすることと
した。即ち、従来からある吸着パッド群を１つの電磁バ
ルブを介して真空ポンプに接続し、新たに設けた吸着パ
ッド群Ｐ1 を１つまたは複数の電磁バルブを介して同様
の別の真空ポンプに接続した。Therefore, in addition to the conventional suction pad 15c, the suction pad 15 is also provided at the tip of the sub-arm 15b.
d will be provided. Then, the conventional suction pad group and the newly provided suction pad group (indicated by P1 in FIGS. 5 (a) and 5 (b)) are set as separate systems for vacuuming. That is, a conventional suction pad group is connected to a vacuum pump via one electromagnetic valve, and the newly provided suction pad group P1 is connected to another vacuum pump of the same type via one or more electromagnetic valves. .
【００３５】この構成であると、ハンドラ１５の中央部
のみでなく両端部においても真空吸着されるため、反り
のある基板１３をハンドラ１５の吸着面に確実に吸着さ
せることができる。よって、受け渡しの際における基板
１３の位置ずれや落下を未然に防止することができる。
また、新たに設けた吸着パッド群Ｐ1 を、それぞれのサ
ブアーム１５ｂ毎に設けた複数の電磁バルブを介して真
空ポンプに接続する構成であると、次のようなメリット
が生じる。即ち、基板１３の外形サイズが小さい場合、
特定の電磁バルブを閉めることによって、吸着に関与し
ない吸着パッド群Ｐ1 からの真空引きを停止させること
ができる。そして、特定の吸着パッド群Ｐ1 からの真空
引きを停止させた分だけ、吸着に関与する吸着パッド群
Ｐ1 による吸着力が増加し、基板１３が確実に吸着され
る。なお、真空ポンプの大容量化によって真空吸着力の
増大を図ってもよい。また、以上のような改良は、反り
のない基板１３の引き起こしについても有効である。 〔実施例２〕次に、実施例２のフォトマスク固定具５０
を図６に基づいて説明する。According to this structure, since not only the central portion of the handler 15 but also both end portions are vacuum-sucked, the warped substrate 13 can be surely sucked to the suction surface of the handler 15. Therefore, it is possible to prevent the displacement and the drop of the substrate 13 during the delivery.
Further, if the newly provided suction pad group P1 is connected to the vacuum pump via a plurality of electromagnetic valves provided for each sub-arm 15b, the following merits occur. That is, when the outer size of the substrate 13 is small,
By closing a specific electromagnetic valve, it is possible to stop the evacuation from the suction pad group P1 which is not involved in the suction. Then, the suction force by the suction pad group P1 involved in the suction is increased by the amount of stopping the evacuation from the specific suction pad group P1, and the substrate 13 is securely sucked. The vacuum suction force may be increased by increasing the capacity of the vacuum pump. Further, the above-mentioned improvements are also effective for causing the substrate 13 having no warp. [Embodiment 2] Next, a photomask fixture 50 of Embodiment 2
Will be described with reference to FIG.
【００３６】このフォトマスク固定具５０は、アクリル
板５１の嵌合部５１ａに板ガラス３６を嵌合させてな
る。ただし、実施例１における嵌合部３５ａとは異な
り、前記嵌合部５１ａはアクリル板５１の表裏を貫通し
ていない。以上のような構成であっても、実施例１と同
様の作用効果を奏する。また、この構成であると、実施
例１のフォトマスク固定具３０に比較して透過性の点で
若干劣る反面、全体の剛性に優れたものとなる。 〔実施例３〕次に、実施例３のフォトマスク固定具５５
を図７に基づいて説明する。The photomask fixture 50 is formed by fitting the plate glass 36 into the fitting portion 51a of the acrylic plate 51. However, unlike the fitting portion 35a in the first embodiment, the fitting portion 51a does not penetrate the front and back of the acrylic plate 51. Even with the above configuration, the same operational effect as that of the first embodiment is achieved. Further, with this configuration, although the transparency is slightly inferior to the photomask fixture 30 of the first embodiment, the overall rigidity is excellent. [Embodiment 3] Next, a photomask fixture 55 of Embodiment 3
Will be described with reference to FIG.
【００３７】このフォトマスク固定具５５は、板ガラス
３６の上部及び下部の外縁に、アクリル等の樹脂材料か
らなるサポータ５６を嵌着させてなる。前記サポータ５
６は断面コ字状を呈しており、その一部に嵌合溝５６ａ
を有している。従って、板ガラス３６の外縁が一対のサ
ポータ５６によって保護された状態となっている。以上
のような構成であっても、実施例１と同様の作用効果を
奏する。The photomask fixture 55 is made by fitting a supporter 56 made of a resin material such as acrylic to the outer edges of the upper and lower portions of the plate glass 36. The supporter 5
6 has a U-shaped cross section, and a fitting groove 56a is formed in a part thereof.
have. Therefore, the outer edge of the plate glass 36 is protected by the pair of supporters 56. Even with the above configuration, the same operational effect as that of the first embodiment is achieved.
【００３８】なお、本発明は例えば次のように変更する
ことが可能である。 （１）実施例１〜３において使用した樹脂材料からなる
板材３５及びサポータ５６は、アクリルのみに限定され
ることはない。例えば塩化ビニル、ガラスエポキシ樹
脂、アルミニウム等のように、アクリル以外の材料であ
ってもよい。The present invention can be modified as follows, for example. (1) The plate member 35 made of the resin material and the supporters 56 used in Examples 1 to 3 are not limited to acrylic. For example, materials other than acrylic, such as vinyl chloride, glass epoxy resin, and aluminum, may be used.
【００３９】（２）板ガラス３６に対して、その板ガラ
ス３６よりもひとまわり大きな外形寸法のアクリル板３
５を貼り着けることによって、フォトマスク固定具を形
成してもよい。この構成であると、板ガラス３６よりも
アクリル板３５のほうが突出しているため、板ガラス３
６の外縁が保護される。(2) The acrylic plate 3 having an outer dimension slightly larger than the plate glass 36 with respect to the plate glass 36.
You may form a photomask fixing tool by sticking 5. With this configuration, since the acrylic plate 35 projects more than the plate glass 36, the plate glass 3
The outer edge of 6 is protected.
【００４０】（３）板ガラス３６は、光透過性を有する
ものであれば若干色がついていてもよい。ここで、特許
請求の範囲に記載された技術的思想のほかに、前述した
実施例及び別例によって把握される技術的思想をその効
果とともに以下に列挙する。(3) The plate glass 36 may be slightly colored as long as it has a light transmitting property. Here, in addition to the technical ideas described in the claims, the technical ideas grasped by the above-described embodiments and other examples will be listed below together with their effects.
【００４１】（１）請求項３において、前記板材は５mm
〜８mm厚のアクリル板であること。なお、本明細書中に
おいて使用した技術用語を次のように定義する。 「フォトマスク： プリント配線板の画像形成工程にお
いて使用される、ネガまたはポジのパターンを有する薄
い板材をいう。」(1) In claim 3, the plate material is 5 mm
Must be an acrylic plate with a thickness of ~ 8 mm. The technical terms used in this specification are defined as follows. "Photomask: A thin plate material having a negative or positive pattern used in an image forming process of a printed wiring board."
【００４２】[0042]
【発明の効果】以上詳述したように、請求項１に記載の
発明によれば、板ガラスの使用によってフォトマスクに
位置ずれが生じにくくなるため、画像形成精度に優れた
露光機のフォトマスク固定具を提供することができる。
また、板ガラスの外縁が保護されることにより破損が未
然に回避されるため、フォトマスク固定具の取扱性の向
上が図られる。As described in detail above, according to the first aspect of the present invention, the use of the plate glass makes it difficult for the photomask to be displaced, so that the photomask of the exposure machine having excellent image forming accuracy can be fixed. A tool can be provided.
Further, since the outer edge of the plate glass is protected and damage is prevented in advance, the handling property of the photomask fixture can be improved.
【００４３】請求項２に記載の発明によれば、板材に板
ガラスを嵌合させる構造を採ったことで縦方向及び横方
向からの応力に対して強くなるため、フォトマスク固定
具の剛性の向上が図られる。請求項３に記載の発明によ
れば、樹脂からなる板材の通過に起因する光エネルギー
のロスがないため、露光時間の長時間化に伴う作業性の
悪化も防止することができる。According to the second aspect of the invention, since the structure in which the plate glass is fitted to the plate material is adopted, the plate material becomes strong against the stress from the longitudinal direction and the lateral direction, so that the rigidity of the photomask fixture is improved. Is planned. According to the invention described in claim 3, since there is no loss of light energy due to the passage of the plate material made of resin, it is possible to prevent the workability from being deteriorated due to the lengthening of the exposure time.
【図１】両面自動露光機の露光機本体を示す部分概略平
面図。FIG. 1 is a partial schematic plan view showing an exposure machine body of a double-sided automatic exposure machine.
【図２】第２露光部を示す概略斜視図。FIG. 2 is a schematic perspective view showing a second exposure section.
【図３】（ａ）は実施例１のフォトマスク固定具の概略
正面図、（ｂ）は同じく概略側断面図。3A is a schematic front view of the photomask fixture of Example 1, and FIG. 3B is a schematic side sectional view of the same.
【図４】基板ホルダの概略正面図。FIG. 4 is a schematic front view of a substrate holder.
【図５】（ａ）はハンドラの部分概略正面図、（ｂ）は
Ａ−Ａ線における概略断面図。5A is a partial schematic front view of the handler, and FIG. 5B is a schematic sectional view taken along line AA.
【図６】（ａ）は実施例２のフォトマスク固定具の概略
正面図、（ｂ）は同じく概略側断面図。FIG. 6A is a schematic front view of a photomask fixture of Example 2, and FIG. 6B is a schematic side sectional view of the same.
【図７】（ａ）は実施例３のフォトマスク固定具の概略
正面図、（ｂ）は同じく概略側断面図。7A is a schematic front view of a photomask fixture of Example 3, and FIG. 7B is a schematic side sectional view of the same.
【図８】（ａ）は従来の問題点を説明するための概略正
面図、（ｂ）は同じく概略側断面図。FIG. 8A is a schematic front view for explaining a conventional problem, and FIG. 8B is a schematic side sectional view of the same.
３０，５０，５５…フォトマスク固定具、３２…フォト
マスク、３５，５１…樹脂材料からなる板材としてのア
クリル板、３５ａ，５１ａ…嵌合部、３６…板ガラス、
Ｒ1 …領域。30, 50, 55 ... Photomask fixture, 32 ... Photomask, 35, 51 ... Acrylic plate as plate material made of resin material, 35a, 51a ... Fitting portion, 36 ... Plate glass,
R1 ... area.
Claims (3)
トマスクを密着させるための領域を有する露光機のフォ
トマスク固定具であって、前記領域は光透過性を有する
板ガラス上に設けられ、少なくとも前記板ガラスの外縁
には樹脂材料が配置されている露光機のフォトマスク固
定具。1. A photomask fixture for an exposure machine, which has a plate-like shape as a whole and has a region for adhering a photomask to one side surface thereof, said region being provided on a plate glass having a light transmitting property. A photomask fixture for an exposure machine in which a resin material is arranged at least on the outer edge of the plate glass.
トマスクを密着させるための領域を有する露光機のフォ
トマスク固定具であって、樹脂材料からなる板材の所定
箇所に嵌合部を設け、その嵌合部に光透過性を有する板
ガラスを嵌合した露光機のフォトマスク固定具。2. A photomask fixture for an exposure machine, which has a plate shape as a whole and has a region for adhering a photomask to one side surface thereof, wherein a fitting portion is provided at a predetermined position of a plate material made of a resin material. A photomask fixture for an exposure machine, which is provided with a light-transmissive plate glass fitted in the fitting portion.
くことによって形成されている請求項２に記載の露光機
のフォトマスク固定具。3. The photomask fixing tool for an exposure machine according to claim 2, wherein the fitting portion is formed by hollowing out a central portion of the plate material.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3110595A JPH08190206A (en) | 1994-11-09 | 1995-02-20 | Photomask fixing tool for aligner |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-275399 | 1994-11-09 | ||
| JP27539994 | 1994-11-09 | ||
| JP3110595A JPH08190206A (en) | 1994-11-09 | 1995-02-20 | Photomask fixing tool for aligner |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08190206A true JPH08190206A (en) | 1996-07-23 |
Family
ID=26369558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3110595A Pending JPH08190206A (en) | 1994-11-09 | 1995-02-20 | Photomask fixing tool for aligner |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08190206A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100595310B1 (en) * | 2002-02-22 | 2006-07-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Device for fixing mask and Ultraviolet irradiating device using the same |
| KR100595308B1 (en) * | 2002-02-21 | 2006-07-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Device for fixing mask and Ultraviolet irradiating device using the same |
| KR100595309B1 (en) * | 2002-02-22 | 2006-07-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Device for fixing mask and Ultraviolet curing device using the same |
-
1995
- 1995-02-20 JP JP3110595A patent/JPH08190206A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100595308B1 (en) * | 2002-02-21 | 2006-07-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Device for fixing mask and Ultraviolet irradiating device using the same |
| KR100595310B1 (en) * | 2002-02-22 | 2006-07-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Device for fixing mask and Ultraviolet irradiating device using the same |
| KR100595309B1 (en) * | 2002-02-22 | 2006-07-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Device for fixing mask and Ultraviolet curing device using the same |
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