KR20020091661A - Gas supply system and gas supply method for manufacturing semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 소자 제조용 가스 공급 시스템 및 가스 공급 방법에 관한 것으로, 특히 가스 봄베가 내장된 캐비넷을 이용하는 반도체 소자 제조 설비에서 각 캐비넷에서의 가스 공급 상태를 원격 제어하기 위한 반도체 소자 제조용 가스 공급 시스템 및 가스 공급 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a gas supply system and a gas supply method for manufacturing a semiconductor device, and in particular, a gas supply system for manufacturing a semiconductor device for remotely controlling the gas supply state in each cabinet in a semiconductor device manufacturing facility using a cabinet with a built-in gas cylinder; It relates to a gas supply method.
일반적으로, 반도체 소자의 제조 공정에서는 다양한 종류의 공정 가스가 필요하다. 반도체 소자 제조 공정중에는 이들 공정 가스에 의하여 CVD 설비에 의하여 다양한 성막 공정(成膜工程)을 거칠 뿐 만 아니라 불순물 주입 공정, 박막 식각 공정 등 다양한 공정을 행하게 된다. 이와 같이 반도체 소자 제조 공정에 필요한 가스는 봄베라 불리우는 반응 가스 용기 내에 고압으로 충진되어 있으며, 각각의 공정 가스가 충진된 봄베는 캐비넷 내에 내장되어 있고, 캐비넷에 설치된 CRT와 같은 국부 모니터 장치에 의하여 그 가스 공급 상태가 모니터링 가능하다.In general, various kinds of process gases are required in the manufacturing process of a semiconductor device. During the semiconductor device manufacturing process, not only the various gas deposition processes are performed by these CVD facilities but also various processes such as an impurity implantation process and a thin film etching process are performed by these process gases. As such, the gas required for the semiconductor device manufacturing process is filled with a high pressure in a reaction gas container called a bomber, and the cylinder filled with each process gas is embedded in a cabinet, and is provided by a local monitor device such as a CRT installed in the cabinet. Gas supply status can be monitored.
그러나, 종래 기술에 따른 가스 공급 시스템에서는 봄베를 내장한 캐비넷이 서비스 영역 또는 지하에 보관되어 있는 상태로 사용되고 있다. 따라서, 가스 공급 상태를 모니터링하기 위하여는 각각의 위치에 보관된 캐비넷을 일일이 확인하여야 하므로 번거로울 뿐 만 아니라 시간 손실이 크다. 또한, 봄베로부터의 가스 공급 상태에 에러가 발생하였을 때 경보음이 발생하더라도 이를 쉽게 확인할 수 없는 문제점이 있다.However, in the gas supply system according to the prior art, a cabinet in which a bomb is built is used in a state of being stored in a service area or underground. Therefore, in order to monitor the gas supply state, the cabinets stored at each location must be checked in one day, which is not only cumbersome but also large in time loss. In addition, even when an alarm occurs when an error occurs in the gas supply state from the bomb there is a problem that can not be easily confirmed.
본 발명의 목적은 종래 기술에 따른 가스 공급 시스템에서의 문제점들을 해결하기 위한 것으로, 가스 공급 상태의 효율적인 모니터링을 통하여 모니터링에 필요한 시간 손실을 최소화할 수 있는 반도체 소자 제조용 가스 공급 시스템을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to solve the problems in the gas supply system according to the prior art, to provide a gas supply system for semiconductor device manufacturing that can minimize the time loss required for monitoring through the efficient monitoring of the gas supply state.
본 발명의 다른 목적은 반도체 소자 제조 공정에서 가스 공급 상태를 효율적으로 모니터링할 수 있는 반도체 소자 제조용 가스 공급 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a gas supply method for manufacturing a semiconductor device that can efficiently monitor the gas supply state in the semiconductor device manufacturing process.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 소자 제조용 가스 공급 시스템의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.1 is a view schematically showing the configuration of a gas supply system for manufacturing a semiconductor device according to a preferred embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 소자 제조용 가스 공급 방법을 설명하기 위한 플로차트이다.2 is a flowchart illustrating a gas supply method for manufacturing a semiconductor device according to a preferred embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
10: 봄베, 12: 국부 모니터 장치, 20: 캐비넷, 30: 채널, 40: 통합 관리 시스템, 50: 중앙 제어부, 52: 채널 선택부, 60: 중앙 표시 장치. 70: 경보 장치.10: cylinder, 12: local monitor device, 20: cabinet, 30: channel, 40: integrated management system, 50: central control unit, 52: channel selection unit, 60: central display unit. 70: alarm device.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 반도체 소자 제조용 가스 공급 시스템은 반응 가스가 충진되어 있는 봄베가 내장된 복수의 캐비넷과, 봄베로부터의 가스 공급 상태를 모니터링하기 위하여 상기 각 캐비넷에 설치되어 있는 국부 모니터 장치와, 상기 각 캐비넷 내의 봄베로부터의 가스 공급 상태를 통합 관리하기 위하여 상기 각 캐비넷 내의 봄베로부터의 가스 공급 상태를 원격 제어하기 위한 중앙 제어부를 갖춘 통합 관리 시스템을 포함한다.In order to achieve the above object, the gas supply system for manufacturing a semiconductor device according to the present invention is provided with a plurality of cabinets with a built-in cylinder filled with a reactive gas, and installed in each cabinet to monitor the gas supply state from the cylinder. And an integrated management system having a local monitor device and a central control unit for remotely controlling the gas supply state from the bombs in each cabinet to collectively manage the gas supply states from the bombs in each cabinet.
상기 통합 관리 시스템은 상기 각 캐비넷으로부터 제공되는 가스 공급에 관한 정보를 표시하기 위한 중앙 표시 장치를 더 포함할 수 있다.The integrated management system may further include a central display device for displaying information on the gas supply provided from each cabinet.
또한, 상기 통합 관리 시스템은 상기 각 캐비넷에서의 가스 공급 상태에 에러가 발생하였을 때 상기 중앙 제어부로부터의 제어 신호에 따라 경보음을 발생시키기 위한 경보 장치를 더 포함할 수 있다.The integrated management system may further include an alarm device for generating an alarm sound according to a control signal from the central controller when an error occurs in a gas supply state in each cabinet.
또한, 본 발명에 따른 반도체 소자 제조용 가스 공급 시스템은 상기 각 캐비넷으로부터 제공되는 가스 공급에 관한 정보를 상기 국부 모니터 장치로부터 상기 중앙 표시 장치로 전송하기 위한 복수의 채널을 더 포함할 수 있다.In addition, the gas supply system for manufacturing a semiconductor device according to the present invention may further include a plurality of channels for transmitting information on the gas supply from each of the cabinets from the local monitor device to the central display device.
상기 중앙 제어부는 상기 복수의 채널중 하나의 채널을 선택하는 채널 선택부를 포함할 수 있다. 이 때, 상기 중앙 표시 장치는 상기 중앙 제어부의 채널 선택부에서 선택된 채널이 연결되어 있는 캐비넷에서의 가스 공급에 관한 정보를 표시한다.The central control unit may include a channel selector which selects one channel among the plurality of channels. In this case, the central display apparatus displays information on gas supply in a cabinet to which a channel selected by the channel selector of the central controller is connected.
상기 다른 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 반도체 소자 제조용 가스 공급 방법에서는 반응 가스가 충진되어 있는 봄베가 내장된 복수의 캐비넷에서상기 봄베로부터의 가스 공급 상태를 국부 모니터링한다. 상기 각 캐비넷에서 국부 모니터링된 가스 공급 상태에 관한 정보를 복수의 채널을 통하여 중앙 제어부에 전송한다. 상기 복수의 채널을 통하여 전송된 정보를 중앙 표시 장치에 표시한다. 상기 중앙 표시 장치에 표시된 정보에 따라 상기 각 캐비넷 내의 봄베로부터의 가스 공급 상태를 원격 제어한다.In order to achieve the above another object, in the gas supply method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention, the gas supply state from the bomb is locally monitored in a plurality of cabinets in which a reaction gas is filled. Information about the locally monitored gas supply state in each of the cabinets is transmitted to the central control unit through a plurality of channels. The information transmitted through the plurality of channels is displayed on the central display device. The gas supply state from the bomb in each cabinet is remotely controlled in accordance with the information displayed on the central display unit.
상기 복수의 캐비넷중 적어도 하나의 캐비넷 내의 봄베로부터의 가스 공급 상태에 에러가 발생하였을 때에는 상기 중앙 제어부로부터의 제어 신호에 따라 경보음을 발생시킨다.When an error occurs in a gas supply state from a bomb in at least one of the plurality of cabinets, an alarm sound is generated in accordance with a control signal from the central control unit.
또한, 본 발명에 따른 반도체 소자 제조용 가스 공급 방법에서는 상기 중앙 제어부에서 상기 복수의 캐비넷중 하나의 캐비넷을 선택한다. 상기 선택된 캐비넷 내의 봄베에서의 가스 공급 상태에 관한 정보를 상기 채널을 통하여 상기 중앙 제어부에 전송한다. 상기 전송된 정보를 상기 중앙 표시 장치에 표시한다.In addition, in the gas supply method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention, the central control unit selects one of the plurality of cabinets. Information about a gas supply state in a bomb in the selected cabinet is transmitted to the central control unit through the channel. The transmitted information is displayed on the central display device.
본 발명에 의하면, 반응 가스가 충진되어 있는 가스 봄베를 내장한 캐비넷에 설치된 국부 모니터 장치가 채널을 통하여 하나의 통합 괸리 시스템에 연결되어 있다. 따라서, 상기 각각의 캐비넷이 서로 다른 위치에 보관되어 사용되고 있어도 각 캐비넷에서의 국부 모니터 장치의 표시 내용을 통합 관리 시스템 내의 중앙 표시 장치를 통하여 모니터링할 수 있고, 이를 원격 제어 방식으로 통합 관리하는 것이 가능하다. 따라서, 반도체 소자 제조 공정중 가스 공급 장치를 모니터링하는 데 소요되는 시간을 최소화할 수 있고, 반도체 소자 제조 공정에서 가스 공급 상태를 효율적으로 모니터링할 수 있다.According to the present invention, a local monitor device installed in a cabinet containing a gas cylinder filled with a reaction gas is connected to one integrated management system through a channel. Therefore, even if the respective cabinets are stored and used in different locations, the display contents of the local monitor devices in each cabinet can be monitored through the central display unit in the integrated management system, which can be integrated and managed remotely. Do. Therefore, the time required for monitoring the gas supply device during the semiconductor device manufacturing process can be minimized, and the gas supply state can be efficiently monitored in the semiconductor device manufacturing process.
다음에, 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Next, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 소자 제조용 가스 공급 시스템의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.1 is a view schematically showing the configuration of a gas supply system for manufacturing a semiconductor device according to a preferred embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 반도체 소자 제조용 가스 공급 시스템은 반응 가스가 충진되어 있는 봄베(10)가 각각 내장된 복수의 캐비넷(20)을 포함한다. 상기 봄베(10)로부터의 가스 공급 상태를 모니터링하기 위하여 상기 각 캐비넷(20)에는 CRT와 같은 국부 모니터 장치(12)가 설치되어 있다.Referring to FIG. 1, the gas supply system for manufacturing a semiconductor device according to the present invention includes a plurality of cabinets 20 each containing a cylinder 10 filled with a reaction gas. In order to monitor the gas supply state from the cylinder 10, each cabinet 20 is provided with a local monitor 12 such as a CRT.
또한, 상기 각 캐비넷(20) 내의 봄베(10)로부터의 가스 공급 상태를 통합 관리하기 위하여 통합 관리 시스템(40)을 포함하고 있다. 상기 통합 괸리 시스템(40)은 상기 각 캐비넷(20) 내의 봄베(10)로부터의 가스 공급 상태를 원격 제어하기 위한 중앙 제어부(50)를 갖추고 있으며, 복수의 채널(30)을 통하여 각각의 캐비넷(20)에 연결되어 있다. 따라서, 상기 채널(30)을 통하여 상기 각 캐비넷(20)으로부터 제공되는 가스 공급에 관한 정보를 상기 국부 모니터 장치(12)로부터 상기 중앙 표시 장치(60)로 전송 가능하다.In addition, the integrated management system 40 is included for integrated management of the gas supply state from the cylinder 10 in each cabinet 20. The integrated control system 40 includes a central control unit 50 for remotely controlling the gas supply state from the cylinder 10 in each cabinet 20, and each cabinet (30) through a plurality of channels (30). 20). Therefore, the information about the gas supply provided from each cabinet 20 through the channel 30 can be transmitted from the local monitor device 12 to the central display device 60.
상기 통합 관리 시스템(40)에는 상기 각 채널(30)을 통하여 각 캐비넷(20)으로부터 제공되는 가스 공급에 관한 정보를 표시하기 위한 중앙 표시 장치(60)가 포함되어 있다. 또한, 상기 통합 관리 시스템(40)에는 상기 각 캐비넷(20)에서의 가스 공급 상태에 에러가 발생하였을 때 상기 중앙 제어부(50)로부터의 제어 신호에 따라 경보음을 발생시키기 위한 경보 장치(70)가 포함되어 있다.The integrated management system 40 includes a central display unit 60 for displaying information on the gas supply provided from each cabinet 20 through each channel 30. In addition, the integrated management system 40, the alarm device 70 for generating an alarm sound in accordance with the control signal from the central control unit 50 when an error occurs in the gas supply state in each cabinet 20 Is included.
상기 중앙 제어부(50)에는 채널 선택부(52)가 설치되어 있다. 상기 채널 선택부(52)를 이용하여 상기 복수의 채널(30)중 하나의 채널(30)을 선택할 수 있다. 상기 채널 선택부(52)에 의하여 선택된 채널(30)을 통하여 전송되는 가스 공급 상태에 관한 정보를 상기 통합 관리 시스템(40)의 중앙 표시 장치(60)에 선택적으로 표시할 수 있다. 이 때, 상기 중앙 표시 장치(60)에서는 상기 중앙 제어부(50)의 채널 선택부(52)에서 선택된 채널(30)이 연결되어 있는 캐비넷(20)에서의 가스 공급에 관한 정보를 표시하게 된다.The central control unit 50 is provided with a channel selector 52. One channel 30 of the plurality of channels 30 may be selected using the channel selector 52. Information on the gas supply state transmitted through the channel 30 selected by the channel selector 52 may be selectively displayed on the central display device 60 of the integrated management system 40. At this time, the central display device 60 displays information on gas supply from the cabinet 20 to which the channel 30 selected by the channel selector 52 of the central controller 50 is connected.
상기와 같은 구성에서, 각각의 캐비넷(20)에 설치된 국부 모니터 장치(12)가 채널(30)을 통하여 상기 통합 괸리 시스템(40)에 연결되어 있으므로, 상기 각 캐비넷(20)이 각각 서로 다른 위치에 보관되어 사용되고 있어도 상기 각 국부 모니터 장치(12)의 표시 내용을 중앙 표시 장치(60) 하나를 통하여 모니터링할 수 있고, 이를 원격 제어 방식으로 통합 관리하는 것이 가능하므로, 작업자가 각각의 캐비넷(20)이 설치된 위치까지 가서 각각의 봄베(10)가 내장된 캐비넷(20)을 일일이 확인하는 작업이 필요없다. 따라서, 반도체 소자 제조 공정중 가스 공급 장치를 모니터링하는 데 소요되는 시간을 최소화할 수 있다. 또한, 상기 복수의 캐비넷(20)중 어느 하나의 캐비넷(20)에서 가스 공급 상태에 에러가 발생한 경우에도 상기 통합 관리 시스템(40)에 설치되어 있는 상기 경보 장치(70)를 통하여 경보음이 발생되므로 에러 발생시 이를 확인하는 것이 용이하다.In the above configuration, since the local monitor device 12 installed in each cabinet 20 is connected to the integrated management system 40 through the channel 30, the respective cabinets 20 are each different positions. Even if it is stored in and used, the display contents of each of the local monitor devices 12 can be monitored through one central display device 60, and it is possible to integrate and manage them in a remote control manner. Go to the installed position) does not need to check each cabinet 10, the cabinet 20 is built. Therefore, it is possible to minimize the time required to monitor the gas supply device during the semiconductor device manufacturing process. In addition, even when an error occurs in a gas supply state in any one of the cabinets 20, an alarm sound is generated through the alarm device 70 installed in the integrated management system 40. Therefore, it is easy to check when an error occurs.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 소자 제조용 가스 공급 방법을 설명하기 위한 플로차트이다.2 is a flowchart illustrating a gas supply method for manufacturing a semiconductor device according to a preferred embodiment of the present invention.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 반도체 소자 제조용 가스 공급 방법에서는 반응 가스가 충진되어 있는 봄베(10)가 내장된 복수의 캐비넷(20)에서 상기 봄베(10)로부터의 가스 공급 상태를 상기 각 캐비넷(20)에 설치된 CRT와 같은 국부 모니터 장치(12)를 통하여 국부 모니터링한다 (단계 110). 상기 각 캐비넷(20)에서 국부 모니터링된 가스 공급 상태에 관한 정보를 복수의 채널(30)을 통하여 상기 통합 관리 시스템(40)의 중앙 제어부(50)에 전송한다 (단계 120). 상기 복수의 채널(30)을 통하여 전송된 정보를 상기 통합 관리 시스템(40) 내의 중앙 표시 장치(60)에 표시한다 (단계 130). 이 때, 상기 중앙 제어부(50)의 채널 선택부(52)에 의하여 상기 복수의 캐비넷(20)중 하나의 캐비넷(20)을 선택하여 표시하도록 할 수 있다. 상기 채널 선택부(52)를 이용하여 하나의 캐비넷(20)이 선택되면, 그 선택된 캐비넷(20) 내에서 상기 국부 모니터 장치(12)에 표시된 봄베(10)에서의 가스 공급 상태에 관한 정보를 상기 채널(30)을 통하여 상기 중앙 제어부(50)에 전송하고, 이 전송된 정보를 상기 중앙 표시 장치(60)에 표시한다.1 and 2, in the gas supply method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention, a gas supply state from the cylinder 10 is provided in a plurality of cabinets 20 in which a cylinder 10 in which reactant gas is filled is embedded. Local monitoring through a local monitor 12, such as a CRT installed in each cabinet 20 (step 110). Information about the locally monitored gas supply state in each cabinet 20 is transmitted to the central control unit 50 of the integrated management system 40 via a plurality of channels 30 (step 120). Information transmitted through the plurality of channels 30 is displayed on the central display device 60 in the integrated management system 40 (step 130). In this case, the channel selector 52 of the central controller 50 may select and display one cabinet 20 of the plurality of cabinets 20. When one cabinet 20 is selected by using the channel selector 52, information about a gas supply state in the cylinder 10 displayed on the local monitor device 12 is displayed in the selected cabinet 20. The central control unit 50 transmits the information to the central control unit 50 through the channel 30 and displays the transmitted information on the central display device 60.
상기 중앙 표시 장치(60)에 정보가 표시되면 그 표시된 정보에 따라 상기 각 캐비넷(20) 내의 봄베(10)로부터의 가스 공급 상태를 원격 제어한다 (단계 140). 여기서, 상기 복수의 캐비넷(20)중 적어도 하나의 캐비넷(20) 내의 봄베(10)로부터의 가스 공급 상태에 에러가 발생하였을 때 상기 중앙 제어부(50)로부터의 제어 신호에 따라 상기 경보 장치(70)에서 경보음을 발생시킨다 (단계 150). 또한, 상기 채널 선택부(52)를 이용하여 하나의 캐비넷(20)을 선택한 경우에도 그 선택된 캐비넷(20) 내의 봄베(10)에서의 가스 공급 상태에 에러가 발생하였을 때 상기 중앙 제어부(50)로부터의 제어 신호에 따라 경보음을 발생시키게 된다.When information is displayed on the central display device 60, the gas supply state from the bomb 10 in each cabinet 20 is remotely controlled according to the displayed information (step 140). Here, when an error occurs in the gas supply state from the cylinder 10 in at least one cabinet 20 of the plurality of cabinets 20, the alarm device 70 according to a control signal from the central control unit 50. In step 150). In addition, even when one cabinet 20 is selected by using the channel selector 52, when an error occurs in the gas supply state of the cylinder 10 in the selected cabinet 20, the central controller 50 may be used. In response to a control signal from the alarm sound will be generated.
본 발명에 따른 반도체 소자 제조용 가스 공급 시스템은 반응 가스가 충진되어 있는 가스 봄베를 내장한 캐비넷이 각각 다양한 위치에 분산되어 있어도 이들로부터의 가스 공급 상태를 하나의 시스템으로 통합하여 모니터링할 수 있도록 각각의 캐비넷에 설치된 국부 모니터 장치가 채널을 통하여 하나의 통합 괸리 시스템에 연결되어 있다. 따라서, 상기 각각의 캐비넷이 서로 다른 위치에 보관되어 사용되고 있어도 각 캐비넷에서의 국부 모니터 장치의 표시 내용을 통합 관리 시스템 내의 중앙 표시 장치를 통하여 모니터링할 수 있고, 이를 원격 제어 방식으로 통합 관리하는 것이 가능하다. 또한, 작업자가 각각의 캐비넷이 설치된 위치까지 가서 각각의 봄베가 내장된 캐비넷을 일일이 확인하여야 하는 번거로운 작업이 필요없다. 따라서, 반도체 소자 제조 공정중 가스 공급 장치를 모니터링하는 데 소요되는 시간을 최소화할 수 있다. 또한, 복수의 캐비넷중 어느 하나의 캐비넷에서 가스 공급 상태에 에러가 발생한 경우에도 통합 관리 시스템에 설치되어 있는 경보 장치를 통하여 경보음이 발생되므로 에러 발생시 이를 확인하는 것이 용이하다.The gas supply system for manufacturing a semiconductor device according to the present invention can be integrated into each system so that the gas supply state can be monitored in one system even if cabinets each containing a gas cylinder filled with reactive gases are dispersed in various locations. Local monitor units installed in the cabinet are connected to a single integrated management system via channels. Therefore, even if the respective cabinets are stored and used in different locations, the display contents of the local monitor devices in each cabinet can be monitored through the central display unit in the integrated management system, which can be integrated and managed remotely. Do. In addition, the operator does not have to go to the location where each cabinet is installed and has to check each cabinet in which the cabinet is built. Therefore, it is possible to minimize the time required to monitor the gas supply device during the semiconductor device manufacturing process. In addition, even when an error occurs in the gas supply state of any one of the plurality of cabinets, an alarm sound is generated through the alarm device installed in the integrated management system, so that it is easy to check the error occurrence.
상기와 같은 가스 공급 시스템을 사용하는 본 발명에 따른 가스 공급 방법에 따르면, 반도체 소자 제조 공정에서 가스 공급 상태의 효율적인 모니터링이 가능하다.According to the gas supply method according to the present invention using the gas supply system as described above, it is possible to efficiently monitor the gas supply state in the semiconductor device manufacturing process.
이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러가지 변형이 가능하다.The present invention has been described in detail with reference to preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention. Do.
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100806211B1 (en) * | 2006-12-12 | 2008-02-22 | 주식회사 비비테크 | A structure of utility multi system |
| KR100812185B1 (en) * | 2006-08-16 | 2008-03-12 | 박종하 | Gas Saver for Semiconductor Manufacturing |
| KR102272028B1 (en) * | 2021-01-22 | 2021-07-02 | 주식회사 솔텍크 | Data Analysis Service System and Method for Semiconductor Manufacturing |
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2001
- 2001-05-31 KR KR1020010030527A patent/KR20020091661A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100812185B1 (en) * | 2006-08-16 | 2008-03-12 | 박종하 | Gas Saver for Semiconductor Manufacturing |
| KR100806211B1 (en) * | 2006-12-12 | 2008-02-22 | 주식회사 비비테크 | A structure of utility multi system |
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