KR20020050158A - 일면이 무광인 시일성 이축배향 폴리에스테르 필름 - Google Patents

일면이 무광인 시일성 이축배향 폴리에스테르 필름 Download PDF

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KR20020050158A
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힐커트고트프리드
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힐커트
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Abstract

본 발명은 적어도 하나의 기저층(B), 시일성 커버층(A) 및 부가적 무광 커버층(C)을 가지며, 상기 시일성 커버층(A)은 최소 시일온도가 120℃이고, 시일강도가 적어도 필름폭 15mm 당 1.3N 이상이며, 시일성 커버층(A)의 형상 특성 및 무광택 시머링(shimmering) 커버층(C)이 소정 특성을 갖는 것인 일면이 무광인 시일성 이축배향 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. 본 발명에 따른 필름은 유연성 포장재용, 특히 고속운전 포장기계와 관련하여 사용될 때 적합하다.

Description

일면이 무광인 시일성 이축배향 폴리에스테르 필름{One-Sided Mat, Sealable, Biaxially Oriented Polyester Film}
본 발명은 적어도 하나의 기저층(B) 및 기저층(B)의 양측에 도포된 커버층(A 및 C)으로 구성된 일면이 무광인 시일성 이축배향 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. 또 본 발명은 상기 필름의 제조방법 및 그 용도에 관한 것이다.
시일성 이축배향 폴리에스테르 필름은 이 기술분야에서 공지되어 있다.
GB-A 1 465 973에 이소프탈산 및 테레프탈산을 함유하는 공중합에스테르로 구성된 일층과 폴리에틸렌 테레프탈레이트로 구성된 타층으로 구성된 공압출된 이중 폴리에스테르 필름에 대해 게재되어 있다. 상기 필름에는 충전재가 없기 때문에 필름제조가 확실하지 않고(필름이 권취되지 않는다), 후속 공정에만 제한적으로 사용할 수 있다.
EP-A-0 035 835에는 권취 및 가공 특성을 개선하기 위해 평균 입자크기가 시일층의 두께를 초과하는 입자가 시일층에 포함되어 있는 공압출 시일성 폴리에스테르 필름이 기재되어 있다. 이들 미립자 첨가물은 표면에 돌기를 형성하여 불필요하게 블로킹되거나 가이드 또는 롤러에 필름이 붙는 것을 방지한다. 그러나 필름의 다른 비시일성층에 항블로킹제를 사용하는 것에 대해서는 기술되어 있지 않다. 이 층이 어떤 항블로킹제를 함유하고 있는지는 여전히 불분명하다. 본 문헌에는 시일 온도 범위에 대해 어떠한 언급도 없다. 140℃에서 측정된 시일강도는 63∼120N/m이었다(필름폭 15mm 당 0.97∼1.8N에 상응).
EP-A-0 432 886에는 한 면에 시일층을 가지고, 제2 면에는 아크릴레이트층을 갖는 공압출 다층 폴리에스테르 필름이 게재되어 있다. 여기서도 시일성 커버층은 이소프탈산 또는 테레프탈산을 함유하는 공중합에스테르로 구성될 수 있으며, 배면을 코팅하여 가공 특성을 개선한다. 본 문헌에는 시일온도 범위에 대해 어떠한 언급도 없다. 시일강도는 140℃에서 측정하였고, 두께 11㎛인 시일층의 시일시임강도는 761.5N/m로 기재되어 있다(필름폭 15mm 당 11.4N에 상응). 배면을 아크릴레이트 층으로 코팅하면 더이상 시일성 커버층에 시일되지 않는다는 단점이 있다. 따라서 이 필름은 제한적으로만 사용 가능하다.
EP-A-0 515 096에는 시일층에 부가적인 첨가제를 함유하는 공압출 다층 시일성 폴리에스테르 필름이 기재되어 있다. 첨가물로는 무기 입자를 들 수 있고, 필름 제조 중에 수성 코팅 형태로 필름에 도포되는 것이 바람직하다. 이에 따라 필름은 우수한 시일성을 유지할 수 있고, 우수한 가공성을 갖게된다. 배면은 주로 재과립을 거쳐서 이 층에 첨가된 매우 소량의 입자만을 포함한다. 본 문헌에도 시일온도 범위에 대한 어떠한 언급도 없다. 140℃에서 측정된 시일강도는 200N/m 이상이다(필름폭 15mm 당 3N에 상응). 두께 3mm의 시일층은 시일강도가 275N/m로 기재되어있다.
WO 98/06575에는 시일성 커버층 및 비시일성 기저층을 갖는 공압출 다층 폴리에스테르 필름이 게재되어 있다. 기저층은 하나 이상의 층으로 구성되어 있으며, 그 중 어느 한 층과 시일성 층이 접촉되어 있다. 다른(외) 층은 제2 비시일성 커버층을 형성한다. 여기에서도 시일성 커버층은 이소프탈산과 테레프탈산을 포함하는 공중합에스테르로 구성될 수 있다. 그러나, 이 공중합에스테르는 어떤 항블로킹 입자도 포함되어 있지 않다. 이와는 별도로, 상기 필름은 기저층에 첨가된 자외선 흡수제를 0.1∼10중량% 포함한다. 본 필름의 기저층은 통상의 항블로킹제를 갖고 있다. 본 필름은 또한 무광일 수 있다. 본 필름은 우수한 시일 특성은 가지고 있으나, 소정의 가공 특성을 갖고 있지 않으며 광학 특성(광택 및 불투명도)에도 결함이 있다.
또 이 기술분야에서 무광의 유백색 이축배향 폴리에스테르 필름이 알려져 있다.
DE-A 23 53 347에는 단일 또는 다층의 유백색 폴리에스테르 필름의 제조방법이 게재되어 있으며, 여기에서 에틸렌 또는 프로필렌으로 제조된 단일중합체 또는 공중합체를 3∼27중량% 함유한 선형 폴리에스테르로부터 입자 혼합물을 제조하고, 상기 혼합물을 압출하여 필름을 형성하고, 형성된 필름을 냉각하고 직교방향으로 연신하여 이축배향한 다음, 열고정한다. 이 과정에서의 단점은 필름이 황색으로 변하기 때문에 제조 공정중에 얻어진 분쇄물(주로 폴리에스테르 원료와 에틸렌 또는 프로필렌 공중합체와의 혼합물)을 더 이상 재사용할 수 없다는 점이다. 이로 인해상기 방법은 비경제적이고, 분쇄물로 제조된 착색된 필름은 시장에서 성공할 수 없다. 일반적으로 폴리에스테르 내의 공중합체 농도를 증가시키면 필름은 유백색 특성을 잃게 되고, 불투명도가 높은 흰색으로 변하게 된다.
본 발명은 종래 기술에 따른 필름의 단점을 갖지 않으며, 뛰어난 광학 특성(높은 무광택도와 우수한 투명도), 매우 우수한 시일성 및 개선된 가공성을 갖는 일면이 무광인 시일성 이축배향 폴리에스테르 필름을 제공하는데 목적이 있다. 또한, 고속 가공기계에서도 안전하고 문제없는 가공성이 보장되어야 한다. 상기 방법으로 제조된 필름의 물리적, 광학적 특성에 심각한 부작용을 초래하지 않으면서 필름제조 결과로 생긴 폐물질을 필름 총 중량을 기준으로 60중량%까지 필름제조에 재사용할 수 있어야 한다.
본 발명은 적어도 하나 이상의 기저층(B), 시일성 커버층(A) 및 무광 커버층(c)으로 구성된 일면이 무광인 시일성 이축배향 공압출 폴리에스테르 필름을 제공함으로써 상기 목적을 달성하였으며, 상기 필름 특성은 다음과 같다.
a) 시일성 커버층(A)의 최소 시일온도는 120℃ 미만이고, 최소 시일시임강도는 필름폭 15mm 당 1.0N이며, 최대 Ra값은 100㎚이고, 표면 가스 유동값이 20∼4000초이다.
b) 무광 커버층(C)의 최대 광택은 100이고, 최소 Ra값은 150nm이며, 표면 가스 유동값은 0∼50초이다.
c) 불투명도는 50% 이하이다.
이하에, 본 발명의 바람직한 실시예를 정의하고 있는 종속항에 대해 설명한다.
본 발명에 따라 상기 필름은 적어도 3개 이상의 층을 가지며, 기저층(B), 시일성 커버층(A) 및 비시일성 커버층(C)를 포함한다.
기저층(B)는 적어도 90중량% 이상의 열가소성 폴리에스테르로 이루어지는 것이 바람직하다. 본 발명의 목적에 적합한 폴리에스테르로는 에틸렌 글리콜과 테레프탈산으로 제조된 폴리에스테르(= 폴리에틸렌 테레프탈레이트, PET), 에틸렌 글리콜과 나프탈렌-2,6-디카르복실산으로 제조된 폴리에스테르(= 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트, PEN), 1,4-비스-히드록시메틸-시클로헥산과 테레프탈산으로 제조된 폴리에스테르(= 폴리(1,4-시클로헥산디메틸렌 테레프탈레이트), PCDT), 에틸렌글리콜, 나프탈렌-2,6-디카르복실산 및 비페닐-4,4'-디카르복실산으로 제조된 폴리에스테르 (= 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트비벤조에이트, PENBB)를 들 수 있다. 특히 에틸렌 글리콜 유니트와 테레프탈산 유니트로 제조된 폴리에스테르, 또는 에틸렌 글리콜 유니트와 나프탈렌-2,6-디카르복실산 유니트로 제조된 폴리에스테르를 90몰% 이상, 바람직하게는 95몰% 이상 함유하는 것이 바람직하다. 나머지 단량체 유니트는 다른 지방족, 지환족 또는 방향족 디올, 또는 각각의 디카르복실산으로부터 선택될 수 있으며, 이는 커버층 A(또는 커버층 C)에 존재할 수도 있다.
다른 적합한 지방족 디올로는, 예를 들어 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 일반식 HO-(CH2)n-OH(n은 3∼6의 정수)의 지방족 글리콜(프로판-1,3-디올, 부탄-1,4-디올, 펜탄-1,5-디올 및 헥산-1,6-디올) 또는 6개 이하의 탄소원자를 갖는 분지 지방족 글리콜을 들 수 있다. 지환족 디올로는 시클로헥산디올(특히, 시클로헥산-1,4-디올)을 들 수 있다. 다른 적합한 방향족 디올로는, 예를 들어 화학식 HO-C6H4-X-C6H4-OH(식중, X는 -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -O-, -S- 또는 -SO2-)인 것을 들 수 있다. 또한 화학식 HO-C6H4-C6H4-OH의 비스페놀이 가장 적합하다.
다른 바람직한 방향족 디카르복실산으로는 벤젠 디카르복실산, 나프탈렌 디카르복실산(예를 들어, 나프탈렌-1,4'-디카르복실산 또는 나프탈렌-1,6-디카르복실산), 비페닐-x,x'-디카르복실산(특히, 비페닐-4,4'-디카르복실산), 디페닐아세틸렌 -x,x'-디카르복실산(특히, 디페닐아세틸렌-4,4'-디카르복실산) 또는 스틸벤-x,x'-디카르복실산을 들 수 있다. 지환족 디카르복실산로는, 시클로헥산 디카르복시산(특히, 시클로헥산-1,4-디카르복시산)을 들 수 있다. 지방족 디카르복시산으로는, 알칸부분이 직쇄 또는 분지쇄인 C3-C19의 알칸 이산이 특히 적합하다.
폴리에스테르는 에스테르교환반응에 의해 제조할 수 있다. 여기에서 출발물질은 디카르복시산 에스테르 및 디올이며, 이들을 아연, 칼슘, 리튬, 마그네슘 및 망간염 등의 통상의 에스테르교환 촉매하에 반응시킨다. 그 후, 중간물질을 삼산화안티몬이나 티탄염 등의 공지의 중축합 촉매하에 중축합시킨다. 또 중축합 촉매하에 직접 에스테르화 반응에 의해 제조할 수도 있다.
공압출에 의해 기저층(B)에 도포된 시일성 커버층(A)는 폴리에스테르 공중합체를 기초로 하며, 실질적으로는 주로 이소프탈산과 테레프탈산유니트 및 에틸렌 글리콜 유니트로 구성된 공중합에스테르로 이루어진다. 나머지 단량체 유니트는 다른 지방족, 지환족 또는 방향족 디올, 각각의 디카르복시산으로부터 선택될 수 있고, 이는 또한 기저층에 존재할 수도 있다. 소정의 시일성을 갖는 공중합에스테르는 에틸렌 테레프탈레이트 및 에틸렌 이소프탈레이트 유니트로 제조하는 것이 바람직하다. 에틸렌 테레프탈레이트의 함량은 40∼95몰%이고, 각각의 에틸렌 테레프탈레이트의 함량은 60∼5몰%이다. 공중합에스테르는 에틸렌 테레프탈레이트 함량이 50∼90몰%이고, 각각의 에틸렌 테레프탈레이트 함량은 50∼10몰%인 것이 바람직하며, 특히 바람직한 것은 에틸렌 테레프탈레이트 함량이 60∼85몰%이고, 각각의 에틸렌 테레프탈레이트의 함량은 40∼15몰%이다.
본 발명에 따른 필름의 소정의 시일성 및 가공성은 시일성 커버층(A)에 사용된 공중합에스테르의 특성과, 시일성 커버층(A) 및 무광 커버층(B)의 표면 형상성의 조합으로부터 얻어진다.
상기한 공중합체를 시일성 커버층(A)에 사용하면, 120℃의 바람직한 최소 시일온도 및 필름폭 15mm 당 1.0N의 최소 시일강도를 얻을 수 있다. 소정의 처리성 및 우수한 가공성을 얻기 위해서는 시일성 커버층(A)를 더 개질한다.
이것은, 특히 바람직한 실시예에 있어서, 소정 크기의 적합한 항블로킹제를 시일층에 적당량 첨가하여 필름의 블로킹을 최소화하고, 시일성 열화를 단지 극소화함으로써 달성된다.
시일성 커버층(A)의 항블로킹제는 기본적으로 무광 커버층(C)과 동일하다.무광 커버층(C)와 비교할 때, 시일성 커버층(A)의 항블로킹제의 양은 상당히 적다. 상기한 특성을 얻기 위해서, 시일성 커버층(A)의 항블로킹제는 0.01∼1중량%, 바람직하게는 0.015∼0.08중량%, 보다 바람직하게는 0.02∼0.08중량% 함유한다. 시일성 커버층(A)의 형상특성을 하기 매개변수로 정의하는 경우 원하는 특성을 얻을 수 있다.
Ra값으로 표현되는 시일성 커버층의 조도는 60㎚ 이하이어야 한다. 그렇지 않으면 본 발명에 따른 시일성에 악영향을 미친다. 표면 가스 유동값은 20∼4000초 이어야 한다. 20초 이하의 값은 본 발명에 따른 시일성에 악영향을 미치게 되며, 4000초 이상의 값은 필름의 취급성에 심각한 악영향을 준다.
바람직한 실시예에 있어서, 시일성 커버층(A) 자체의 최대 마찰계수(COF)는 1.0이고, 특히 바람직한 실시예에서는 0.8 이하이다. 특히 바람직한 최대마찰계수를 갖는 필름의 경우, 취급성 및 가공성은 매우 우수하다.
바람직한 무광/무광택도를 얻기 위해서, 커버층(C)은 커버층(C)의 총 질량을 기준으로 입자(첨가물 또는 안료라고도 칭함) 0.5∼20중량%를 함유한다. 본 발명에 따른 필름의 바람직한 실시예에 있어서, 입자 함유량은 1.0∼18중량%, 특히 바람직하게는 1.5∼16중량%이다.
필름의 무광택도에 긍정적인 영향을 미치는 통상의 입자로는 무기 및/또는 유기입자, 예를 들어 탄산칼슘; 비정질 규산; 활석; 탄산마그네슘; 탄산바륨; 황산칼슘; 황산바륨; 인산리튬; 인산칼슘; 인산마그네슘; 산화알루미늄; 불화리튬; 사용된 디카르복실산의 칼슘, 바륨, 아연 또는 망간염; 카아본블랙; 이산화티타늄; 카오린입자 또는 가교결합된 중합체 입자(예를 들어, 폴리스티롤 또는 아크릴레이트 입자)를 들 수 있다.
또한, 둘 이상의 다른 입자계의 혼합물 또는 화학 조성은 같으나 입자크기가 다른 입자계의 혼합물을 사용할 수 있다. 이들 입자는, 예를 들어 중축합시 글리콜 분산형으로 또는 압출시 마스터배치의 방식으로 각 층의 중합체에 적절한 농도로 첨가할 수 있다.
바람직한 입자는 콜로이드 및 사슬형 SiO2입자이다. 이들 입자는 중합체 메트릭스에 쉽게 통합될 수 있다. 사용되는 입자의 직경은 제한이 없으나, 평균 입자 직경(통상 d50값)이 1㎛ 이상, 바람직하게는 1.5∼10㎛, 특히 바람직하게는 2∼8㎛인 입자를 사용하는 것이 유용한 것으로 판명되었다.
따라서 각 층의 착색은 가변적일 수 있으며, 이는 주로 필름구조(층구조)와, 소정의 광학특성 및 제조시 가공성을 만족해야 하는 필름의 요건에 따라 좌우된다.
다른 바람직한 실시예에 있어서, 커버층(C)은 폴리에틸렌 테레프탈레이트 단일 중합체 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 공중합체 외에도 추가의 중합성분(I)을 더 함유한다. 상기의 성분(I)은 폴리에틸렌 테레프탈레이트-공중합체로서, 폴리에스테르를 형성할 수 있는 다음의 단량체의 축합물로 구성된다.
a) 이소프탈산 40∼99몰%,
b) 화학식 HOOC(CH2)nCOOH (식중, n은 1∼11)로 표시되는 적어도 하나 이상의지방족 카르복시산 0∼60몰%,
c) 디카르복시산의 방향족 부분에 알카리금속 술폰산염이 부착된 적어도 하나 이상의 술포단량체 1∼15몰%, 및
d) 100몰% 축합물을 형성하는데 필요로 하는 공중합성 지방족 또는 지환족 글리콜의 화학양론적 양(여기에서, 각 백분율은 성분(I)을 형성하는 모노머의 총양을 기준으로 한다.).
상세한 설명은 본문에 참조문헌으로 인용된 EP-A-0 144 878에 기재되어 있다.
추가의 중합성분으로서 성분(I)을 60중량% 이하의 중량비로 무광 커버층에 적절히 첨가한다. 이 경우, 성분(I)은 그 층에 존재하는 다른 중합체와 함께, 배합물(blend) 또는 혼합물을 형성하며, 심지어 압출과정 중 에스테르 교환반응을 통해 공중합체를 형성하기도 한다.
본 발명에 의한 혼합물은 각 성분을 기계적으로 혼합한 혼합물이다. 본 발명의 목적을 위해서, 우선 각 성분을 소형의 압축 성형물, 예를 들어 렌즈형, 구형 또는 과립형으로 혼합하고, 적당한 진동기를 사용하여 기계적으로 혼합한다. 또 혼합물을 제조하는 다른 방법으로, 성분(I)과 커버층(C)의 다른 중합체를 각각 커버층용 압출기에 공급하고, 압출기 내에서 각각의 용융물을 포함하는 시스템으로 혼합공정을 행하는 방법이 있다.
본 발명에 의한 배합물은 더 이상 본래의 성분으로 분해될 수 없는 개개 성분의 합금처럼 결합된 것이다. 배합물은 균질물로서 동일한 특성을 가지며, 적절한매개변수에를 갖는다는 특징이 있다.
특히 무광 심머링 커버층(C)의 형상 특성이 하기 파라미터에 의해 정의되는 경우에 바람직한 특성이 얻어질 수 있다.
a) Ra값으로 표현되는 필름조도가 150∼1000nm, 바람직하게는 175∼950nm, 특히 바람직하게는 200∼900nm이다. 150nm 이하의 값은 표면의 무광택도에 악영향을 미치며, 1000nm를 초과하는 값은 필름의 광학특성을 손상시킨다.
b) 표면 가스 유동값은 0∼80초, 바람직하게는 1∼50초이다. 80초를 초과하는 값은 필름의 무광택도에 악영향을 미친다.
기저층(B)는 안정제 및/또는 안료(=충전재) 등의 통상의 첨가물을 포함할 수도 있다. 바람직한 안정제로는, 예를 들어 인산 또는 인산 에스테르와 같은 인산 화합물을 들 수 있다.
통상적인 기저층용 안료(=충전재)로는 무기 및/또는 유기입자, 예를 들어, 탄산칼슘; 비정질 규산; 활석; 탄산마그네슘; 탄산바륨; 황산칼슘; 황산바륨; 인산리튬; 인산칼슘; 인산마그네슘; 산화알루미늄; 불화리튬; 사용된 디카르복시산의 칼슘, 바륨, 아연 또는 망간염; 카아본블랙; 이산화 티타늄; 카오린입자; 가교결합된 폴리스티롤 입자 또는 아크릴레이트 입자를 들 수 있다.
바람직한 실시예에 있어서, 필름은 기저층(B), 기저층의 양면에 도포된 커버층(A) 및 커버층(C)의 3층으로 되어 있으며, 커버층(A)는 그 자체 및 커버층(C)에 대해 시일성을 갖는다.
별도의 중간층은 선택적으로 기저층(B)와 덮개층(A, C) 사이에 개재할 수 있으며, 기저층(B) 또는 커버층(A 및 C)에 대해 언급한 중합체로 제조할 수 있다. 본 발명의 특히 바람직한 실시예에서는 기저층에 사용된 폴리에스테르로 제조되고, 전기한 통상의 첨가제를 함유할 수도 있다. 중간층의 두께는 일반적으로 0.3㎛ 이상, 바람직하게는 0.5∼15㎛, 보다 바람직하게는 1.0∼10㎛, 특히 바람직하게는 1.0∼5㎛이다.
본 발명에 따른 필름의 보다 바람직한 실시예에 있어서, 커버층(A) 및 (C)의 두께는 일반적으로 0.1∼5.0㎛, 바람직하게는 0.2∼4.5㎛, 특히 바람직하게는 0.3∼4.0㎛이고, 이 때 커버층 (A) 및 (C)의 두께는 같거나 다를 수 있다.
본 발명에 의한 폴리에스테르 필름의 전체 두께는 일정한 범위내에서 다양할 수 있으며, 3∼350㎛, 바람직하게는 5∼250㎛이고, 기저층(B)는 전체 두께의 5∼95%이다
필름제조시 기저층(B) 및 커버층(A, C)용 중합체를 세개의 압출기에 공급한다. 만약 이물질이나 오염물이 존재하면, 압출전 또는 압출중에 적절한 필터로 상기 폴리에스테르 용융물로부터 제거할 수 있을 것이다. 그 후, 용융물을 평판 필름 다이에서 편평한 용융필름으로 형성하고 다른 것 위에 적층한다. 그 후, 다층 필름을 냉각롤과 선택적으로 또다른 롤 상에서 권취하고 응고시킨다.
또한 본 발명은 공지의 공압출법에 의한 본 발명에 따른 폴리에스테르 필름의 제조방법에 관한 것이다.
본 방법은 각각의 층 (A),(B) 및 (C)에 대응하는 용융물을 평판 필름 다이를 통해 공압출하는 단계, 수득된 필름을 하나 이상의 롤 상에서 권취하여 응고시키는단계, 이축연신하는 단계, 이축연신된 필름을 열고정하는 단계, 처리할 표면층을 선택적으로 코로나처리 또는 화염처리하는 단계를 포함한다.
공압출시에, 각 층에 대한 중합체 또는 중합체 혼합물을 압출기에서 압착하여 액화한다. 이 경우, 중합체 또는 중합체 혼합물에 미리 선택적으로 첨가물을 첨가할 수 있다. 이후, 용융물을 평판 필름다이(슬롯다이)를 통하여 동시 압출시키고, 압출된 다층 용융물을 하나 이상의 전도롤(take-off rolls)에서 인출하여 용융물을 냉각하여 경화 예비필름으로 한다.
이축배향은 일반적으로 연속적으로 수행한다. 먼저 예비필름을 길이방향(기계방향)으로 연신한 후, 횡방향(기계방향에 직각)으로 연신하는 것이 바람직하다. 이로 인해 중합체사슬이 공간 배향된다. 길이방향의 연신은 소정의 연신율에 따라 서로 다른 비율로 회전하는 2개의 롤러에 의해 행해질 수 있다. 횡방향 연신은 필름의 양모서리를 클램프하여 승온하에 양측으로 끌어당기는 텐터프레임을 사용하는 것이 바람직하다.
배향온도의 범위는 비교적 넓고, 원하는 필름의 특성에 따라 좌우된다. 일반적으로 길이방향의 배향은 약 80∼130℃에서 수행하고, 횡방향의 배향은 90∼150℃에서 수행한다. 길이방향의 연신율은 일반적으로 2.5:1∼6:1, 바람직하게는 3:1∼5.5:1이다. 횡방향의 연신율은 일반적으로 3.0:1∼5.0:1, 바람직하게는 3.5:1∼4.5:1이다. 길이방향 배향 후, 횡방향 배향 전에 필름의 한면 또는 양면을 상기한 방법으로 인라인코팅할 수 있다. 인라인 코팅은 후에 가해질 금속층 또는 인쇄잉크의 점착성을 개선할 뿐 아니라, 방전특성 및 제조공정을 개선할 수 있다.
우수한 시일특성을 가지면서 상대적으로 낮은 헤이즈(haze)를 갖는 필름을 제조하기 위해서, 평면배향(△p)은 0.170 이하, 바람직하게는 0.168 이하, 보다 바람직하게는 0.166 이하가 유리하다는 것이 판명되었다. 그래서, 시일시임강도를 결정할 때, 두께 방향의 필름 계수가 매우 높으면, 시임에 따라 시일이 분리되고 필름은 찢어지거나 더이상 인열되지 않게 된다. 게다가, 이로 인해 각 입자 주위에 불투명성을 야기하는 액포의 형성을 억제한다.
평면배향성(△p)에 영향을 미치는 중요 변수는 사용 원료의 SV값 뿐 아니라, 길이방향 배향 및 횡방향 배향의 공정 파라미터인 것으로 밝혀졌다. 가공 매개변수는 길이방향 및 횡방향의 연신율(λMD및 λTD), 길이방향 및 횡방향의 연신 온도(TMD및 TTD), 필름라인속도 및 연신 종류이고, 특히 기계 방향에서의 매개변수이다. 예를 들어, 만일 특정 필름 라인 상에서, λMD=4.8, λTD=4.0, 길이방향의 연신온도(TMD) 80∼118℃, 횡방향 연신온도(TMD) 80∼125℃의 매개변수에서 평면 배향성(△p)이 0.172인 경우, 길이방향의 연신온도(TMD)를 80∼125℃로 증가시키고, 횡방향의 연신온도(TTD)를 80∼135℃로 증가시키거나, 또는 길이방향의 연신율(λMD)을 4.3으로 낮추고, 횡방향의 연신율(λTD)을 3.7로 낮춤으로써 평면배향성(△p)을 바람직한 범위 내로 할 수 있다. 이 경우, 필름라인속도가 340m/min이고 재료의 SV값이 약 730이다. 상기 길이방향의 연신율 데이터는 저 배향 연신(LOE) 및 고속 연신 공정(REP)으로 이루어진 소위 N-TEP 연신에 기초한 것이다. 다른 연신 장치에는기본적으로 같은 비율과 같은 공정 매개변수 값을 보이지만, 이는 약간 다를 수도 있다. 주어진 온도는 길이방향 연신인 경우에는 각각의 롤러 온도에 근거한 것이며, 횡방향 연신인 경우에는 IR로 측정한 필름온도에 기초한 것이다.
이어서, 필름을 150∼250℃에서 0.1∼10초 동안 열처리 한 후, 통상의 방법으로 권취한다.
이축배향 후에, 필름의 일면 또는 양면을 공지의 방법으로 코로나처리 또는 화염처리하는 것이 바람직하다. 상기 처리의 강도는 표면 장력이 45mN/m 이상이 되도록 설정한다.
또한 필름은 소정의 다른 특성을 얻기 위해서, 추가적으로 코팅할 수 있다. 통상의 코팅으로 부착성, 정전기방지성, 미끄럼개선, 또는 릴리스 특성을 갖게 된다. 이러한 추가층은 횡방향의 연신단계 전에 수성 분산액을 사용하여 인라인 코팅으로 필름에 도포하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 일면이 무광인 시일성 필름은 뛰어난 시일성, 우수한 광학 특성, 매우 우수한 취급성, 및 매우 우수한 가공특성을 갖는다. 필름의 시일성 커버층(A)는 단지 그 자체(핀 시일) 뿐 아니라, 무광 커버층(C)(랩 시일)에 대해서도 시일된다.
또한 본 필름은 헤이즈의 상당한 감소(증가)없이 우수한 무광 커버층(A)에 의해 인상적이다. 또한, 필름 제조시에 생겨난 폐물질을 필름의 물리적 특성에 어떠한 심각한 부작용도 초래하지 않으면서 필름의 전체 중량을 기준으로 10∼60중량%까지 필름 제조용 분쇄물로서 재사용할 수 있다는 점이 보장된다.
따라서 본 필름은 신축성 포장재의 제조에 적합하며, 특히 뛰어난 시일 특성 및 우수한 가공성이 필요한 곳에서 적합하다. 특히, 고속 포장용 기계에 사용하는 경우에 적합하다.
하기 표 1은 가장 중요한 필름 특성들을 요약한 것이다.
범위 단위 측정방법
일반적인 바람직한 특히 바람직한
커버층 A
최소 시일온도 < 120 < 115 < 110 ℃ 내부
시일강도 > 1.0 > 1.2 > 1.4 N/15mm 내부
평균 조도 Ra ≤ 100 ≤ 90 ≤ 80 nm DIN 4768,0.25mm 절단
표면가스유동값 측정범위 20-4000 50-3500 60-3000 Sec 내부
광택, 60 ° > 100 > 110 > 120 DIN 67530
커버층 C
광택, 60 ° < 100 < 90 < 80 DIN 67530
평균 조도 Ra 150-1000 175-950 200-900 nm DIN 4768,0.25mm 절단
표면가스유량값의 측정범위 ≤ 80 1-50 2-30 Sec 내부
COF < 0.6 < 0.45 < 0.40 DIN 53375
부가 필름의 특성
탁도(haze) < 50 < 45 < 40 % ASTM-D 1003-52
평면배향성 △p < 0.170 < 0.168 < 0.166 내부
본 발명에 사용된 하기의 검사 방법을 이용하여 원료 및 필름을 특정하였다.
SV(표준점도)
표준점도 SV(DCE)는 DIN 53726에 의한 방법에 따라 디클로로 아세트산 중에서 측정하였다. 고유점도(IV)는 표준점도로부터 다음과 같이 계산하였다.
IV(DCE) = 6.907 ×10-4SV(DCE) + 0.063096.
최소 시일온도의 결정(Determination of the Minimum Sealing Temperature)
시일기계 HSG/ET(Brugger)로 2개의 가열된 시일 슈를 사용하여 다른 온도에서 시일한 필름으로 열시일 샘플(시일시임 20mm×100mm)을 제조하였다. 폭 15mm의 샘플 스트립을 시일된 시료로부터 잘라내었다. T-시일 시임강도는 상기 시일 시임강도와 같은 방법으로 측정하였다. 최소 시일온도는 시일강도가 적어도 0.5M/15mm 이상이 얻어지는 온도이다.
시일 시임강도(Seal Seam Strength)
시일강도를 측정하기 위하여 폭 15mm의 2개의 필름 스트립 중 어느 하나를 다른 하나 위에 배치하여 시일압력 2bar, 시일온도 130℃에서 0.5초 동안 시일하였다(기계: Brugger NDS, 일면이 가열된 시일 슈). 시일강도는 T-Peel법에 따라 측정하였다.
마찰(COF)
마찰은 DIN 53 375에 따라 측정하였다. 마찰계수는 제조 후 14일에 측정하였다.
표면장력(Surface Tension)
표면장력은 소위 잉크법(DIN 53 375)에 의해 측정하였다.
헤이즈(Haze)
휼즈(Hlz)에 따른 헤이즈는 ASTM-D 1003-52에 의해 측정하였으나, 최적의 스캐닝 범위를 사용하기 위해 적층구조의 4개의 필름층 상에서 측정하였고, 4°홀 오리피스 대신에 1°슬릿 오리피스를 사용하였다.
광택(Gloss)
광택은 DIN 67 530에 따라 측정하였다. 필름 표면의 광학 매개변수로서 반사값을 측정하였다. 표준 ASTM-D 523-78 및 ISO 2813에 이어 광 입사각을 20°또는 60°로 설정하였다. 광선은 미리 설정된 입사각으로 평면 시험 표면을 치고 반사되거나 산란되었다. 광전 수용체에 도달한 광빔은 비례 전기 단위로 표시된다. 매개변수는 단위없이 입사각과 함께 기재되어야 한다.
표면 가스 유동시간(Surface Gas-Flow Time)
측정법의 원리는 필름의 한쪽 면과 매끄러운 실리콘 웨이퍼판 사이의 공기 흐름에 기초한다. 대기는 유체 흐름에 저항체로서 작용하는 필름과 실리콘 웨이퍼 판 사이의 경계면을 따라 진공 하에서 쳄버 안으로 흐른다.
원형 필름샘플을 수용체에 연결부로서 작용하는 드릴 홀(drill-hole)의 중간에 있는 실리콘 웨이퍼 판 위에 배치한다. 이 수용체 내의 압력을 0.1mbar 이하로 감압하였다. 대기가 수용체 내의 압력을 56mbar로 증가시키는데 필요한 시간을 초단위로 측정하였다.
측정 조건:
측정 면적45.1㎠
압력 중량1276g
공기 온도23℃
공기 습도50%RH
가스 부피 1.2㎤
압력 간격 56mbar
평면 배향성(△p) 결정(Determination of Planar Orientation △p)
평면배향성은 내부 조작 과정에 따라 Abbe 굴절계를 사용하여 굴절지수의 측정을 통해 결정하였다.
샘플 준비:
샘플 크기 및 길이: 60∼100mm
샘플 폭: 10mm 프리즘 폭에 상응
nMD및 na(=nz)를 결정하기 위해, 필름으로부터 측정할 샘플을 잘라낸다. 샘플의 가장자리는 TD 방향과 정확히 일치하여야 한다. nTD및 na(=nz)를 결정하기 위해 필름으로부터 측정할 샘플을 잘라내고, 샘플의 가장자리는 MD 방향과 정확히 일치하여야 한다. 샘플은 필름의 중간에서 채취하여야 한다(가로방향). Abbe 굴절계의 온도는 23℃이어야 하는 것에 주의한다. 유리막대를 사용하여 소량의 CH2J2(N=1.745), 및 이요오드 메탄-브롬 나프탈렌 혼합물을 측정전에 잘 세척한 하부 프리즘에 도포한다. 혼합물의 굴절 계수는 1.685 이상이어야 한다. 첫 단계로 TD 방향으로 잘라두었던 샘플을 프리즘의 전 표면을 덮도록 혼합물 위에 둔다. 종이 타월로 필름을 프리즘에 대고 단단하고 부드럽게 다림질한다. 과잉 액체는 제거하고, 소량의 측정액을 필름 위에 배치한다. 두 번째 프리즘을 뒤집어 단단하게 압착시킨다. 지시눈금이 1.62∼1.68 범위에서 밝음에서 어둠으로의 전이가 지시 창에서 관찰될 때까지 움직인다. 밝음에서 어둠으로의 전이가 뚜렷하지 않으면 밝은 지대와 어두운 지대가 구별되도록 색을 합친다. 그 후, 뚜렷한 경계선이 두사선의 교차점으로 이동한다(접안 렌즈상에서). 계기판의 눈금을 읽고 기록지에 기재한다. 이것이 기계 방향의 굴절 지수 nMD이다. 눈금은 1.49∼1.50으로 이동하며 접안 렌즈에서 관찰이 가능하였다. 다음으로 na또는 nz(필름의 두께 방향)의 굴절 지수를 결정한다. 육안으로 전이 지역을 더 잘 보기 위하여 편광 필름을 접안 렌즈에 고정시킨다. 이 필름을 전이 지역이 선명하게 보일 때까지 회전시킨다. nMD를 결정하기 위한 방법도 마찬가지다. 만일 밝음에서 어둠으로의 전이가 뚜렷하지 않으면 뚜렷한 경계가 보일 때까지 색을 합친다. 이 뚜렷한 경계선은 두개의 사선의 교차점으로 이동하며 게이지 눈금을 읽고 표에 기재한다.
이 후 샘플을 회전시키고 배면의 굴절지수 nMD및 na(=nZ)를 결정하여 각각 표에 기재한다.
기계방향 및 두께방향의 굴절지수를 각각 측정한 후, 샘플 스트립을 기계방향으로 잘라내어 굴절지수 nTD및 na(=nZ)를 측정하였다. 그리고 나서 스트립을 뒤집어 B면에 대한 값도 측정한다. A면 및 B면에 대한 값을 계산하여 평균 굴절지수를얻는다. 하기의 식에 따라 굴절지수를 기초로 배향값을 계산한다.
△n = nMD- nTD
△p = (nMD+ nTD)/2 -nZ
nav= (nMD+ nTD+ nZ)/3
실시예 1
폴리에틸렌 테레프탈레이트 칩(에스테르 교환반응으로 제조, 에스테르 교환반응 촉매로서 Mn사용, Mn함량:100 ppm)을 150℃에서 수분이 100 ppm 이하로 될 때까지 건조시키고 기저층(B)의 압출기에 공급하였다.
또한, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 칩과 충전재를 무광 커버층(C)의 압출기에 공급하였다.
에틸렌 테레프탈레이트 78몰%와 에틸렌 이소프탈레이트 22몰%로 된 비정질 공중합에스테르(이후, 공중합에스테르(I)로 칭함)로 구성된 선형 폴리에스테르로 만들어진 칩을 제조하였다(에스테르 교환반응에 의해 제조, 에스테르 교환반응 촉매로 Mn사용, Mn함량: 100ppm). 공중합에스테르(I)을 100℃에서 수분이 200ppm 이하로 감소될 때까지 건조시키고 시일층(A)의 압출기에 공급하였다.
공압출과, 길이방향 및 횡방향으로의 뒤이은 단계적 배향에 의해 ABC구조로 총 두께가 12㎛인 투명 3층 필름을 제조하였다. 각 층의 두께는 표 2에서 알 수 있다.
커버층(A):
SV값이 800인 공중합에스테르(I) 96.0중량%,
공중합에스테르(I) 97.75중량%, ?Sylobloc 44 H(합성SiO2, 그레이스사) 1.0중량%, 및 ?Aerosil TT 600(발열SiO2,데구사) 1.25중량%로 된 마스터배치 4.0중량%.
기저층(B):
SV값이 800인 폴리에틸렌 테레프탈레이트 100.0중량%
커버층(C):
SV값이 800인 폴리에틸렌 테레프탈레이트 40중량%,
폴리에틸렌 테레프탈레이트 95중량% 및 평균 입자크기가 4.5㎛인 규산 입자(?Sylobloc 44 H, 그레이스사) 5.0중량%로 된 혼합물 60중량%.
제조 중 각 공정 단계의 조건은 다음과 같았다.
압출 온도 A층: 270 ℃
B층: 290 ℃
C층: 290 ℃
슬롯 다이 폭 2.5 mm
take-off 롤러의 온도 30 ℃
길이방향 배향 온도 80-126 ℃
길이방향의 연신율 4.0
온도 80-135 ℃
횡방향 배향 횡방향의 연신율 4.0
고정 온도 230 ℃
지속기간 3 초
필름은 소정의 낮은 광택, 낮은 불투명도 및 우수한 시일성을 가졌다. 또한 필름은 바람직한 취급성 및 가공성을 가졌다. 필름 구조 및 이러한 방법으로 제조된 필름의 특성을 표 2 및 표 3 에 나타낸다.
실시예 2
실시예 1과 비교하여 필름 구조 및 제조방법은 동일하게 하고, 시일성 커버층(A)의 두께를 1.5∼2.0㎛로 증가시켰다. 이로서, 시일성을 개선할 수 있었고, 특히 시일강도의 현저한 증가가 관찰되었다.
실시예 3
실시예 1과 비교하여 23㎛의 두께를 갖는 필름을 제조하였다. 시일성 커버층(A)의 두께는 2.5㎛이었고, 비시일성층(C)는 2.0㎛이었다. 필름의 광택은 더 감소하였고, 시일성은 다시 향상될 수 있었으며, 특히 시일강도가 다시 상당히 증가하였다. 또한 필름의 취급성이 향상되었다.
실시예 4
실시예 3과 비교하여 시일층(A)의 공중합체를 바꾸었다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트 78몰% 및 에틸렌 이소프탈레이트 22몰%로 된 비정질 공중합체 대신에, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 70몰% 및 에틸렌 이소프탈레이트 30몰%로 된 비정질 공중합에스테르를 사용하였다. 원료 물질을 진공 배출구를 갖는 이중나사 압출기 안에서 예비건조없이 가공하였다. 시일성 커버층(A)의 두께는 다시 2.5㎛이었고, 비시일성층(C)의 두께는 2.0㎛이었다. 시일특성이 개선되었고, 특히 시일강도는 현저하게 증가하였다. 보다 좋은 취급 특성 및 개선된 필름의 가공성을 얻기 위해 시일성 커버층(A)안에 안료의 양을 약간 증가시켰다.
실시예 5
실시예 3과 비교하여 무광 커버층(C)의 조성을 변화시켰다. SV값이 800인 폴리에틸렌 테레프탈레이트 대신에, 무광 커버층(C)의 중합체 성분 (I: 황함유 성분)을 20% 첨가하였다. 성분(I)은
a) 이소프탈산 90몰%,
b) 술포이소프탈산 나트륨염 10몰%로 구성된다.
무광 커버층에 성분(I)을 첨가함으로써, 필름의 불투명도 및 (C)면에 대한 (A)면의 시일성이 향상되었다.
커버층 (C):
SV값이 800인 폴리에틸렌 테레프탈레이트 20중량%,
성분(I) 20중량%,
폴리에틸렌 테레프탈레이트 95중량% 및 평균 입자크기가 4.5㎛인 규산(?Sylobloc 44, 그레이스) 5.0중량%로 된 마스터배치 60중량%
비교예 1
실시예 1과 비교하여 시일성 커버층(A)에 입자를 포함시키지 않았다. 이로 인해 시일성은 약간 향상되었으나, 필름의 취급성 및 가동성에 심각한 손실을 초래하였다.
비교예 2
실시예 1과 비교하여 시일성 커버층(A)에 비시일성층(C)와 같은 양의 입자를 포함시켰다. 이로 인해 취급성 및 가동성은 향상되었으나, 반면 시일성이 상당히 손상되었다.
비교예 3
실시예 1과 비교하여 비시일성 커버층(C)에 입자를 상당히 조금만 포함시켰다. 이로 인해 필름의 취급성 및 가공성이 매우 불량해졌다.
비교예 4
EP-A 0 035 835의 실시예 1을 반복하였다. 시일성, 취급성 및 가공성이 본 발명에 따른 실시예에서 보다 저조하였다.
실시예 필름 두께(㎛) 필름 구조 층 두께(㎛) 층 내의 안료 층 내의 안료의 평균 직경(㎛) 안료 농도(ppm)
A B C A B C A B C A B C
E1 12 ABC 1.5 9 1.5 Sylobloc 44HAerosil TT600 None Sylobloc 44 2.50.04 4.5 300375 0 30000
E2 12 ABC 2.0 8.5 1.5 Sylobloc 44HAerosil TT600 None Sylobloc 44 2.50.04 4.5 300375 0 30000
E3 23 ABC 2.5 18.5 2.0 Sylobloc 44HAerosil TT600 None Sylobloc 44 2.50.04 4.5 300375 0 30000
E4 23 ABC 2.5 18.5 2.0 Sylobloc 44HAerosil TT600 None Sylobloc 44 2.50.04 4.5 400500 0 30000
E5 23 ABC 2.5 18.5 2.0 Sylobloc 44HAerosil TT600 None Sylobloc 44 2.50.04 4.5 400500 0 30000
CE1 12 ABC 1.5 9 1.5 None None Sylobloc 44HAerosil TT600 2.50.04 0 12001500
CE2 12 ABC 1.5 9 1.5 Sylobloc 44HAerosil TT600 None Sylobloc 44HAerosil TT600 2.50.04 2.50.04 300375 0 12001500
CE3 12 ABC 1.5 9 1.5 Sylobloc 44HAerosil TT600 None Sylobloc 44HAerosil TT600 2.50.04 2.50.04 300375 0 600750
CE4 15 AB 2.25 12.75 Gasil 35 None 3 2500 0
실시예 최소시일온도(℃) 시일강도(N/15mm) 마찰(COF) 평균조도 Ra(nm) 표면 가스유량값(s) △p 광택 헤이즈 권취작동 및 취급성 가공성
A면에 대한A면의 시일 A면에 대한A면의 시일 A면에 대한C면의 시일 C면에 대한C면의 시일 A면 C면 A면 C면 A면 C면
E1 100 2.0 1.3 0.40 25 230 1200 10 0.165 140 55 45 ++ ++
E2 98 2.7 1.5 0.40 26 230 1280 10 0.165 140 55 45 ++ ++
E3 95 3.0 1.8 0.40 23 230 1110 10 0.165 130 50 47 ++ ++
E4 85 3.3 2.0 0.40 23 230 1300 10 0.165 130 50 47 ++ ++
E5 85 3.3 2.0 0.40 23 250 1300 8 0.165 130 45 35 ++ ++
CE1 98 2.1 0.45 10 65 10000 80 0.165 160 170 1.5 - -
CE2 110 1.0 0.45 65 65 80 80 0.165 130 170 2.8 - -
CE3 100 2.0 0.45 25 37 1200 150 0.165 160 190 1.5 - -
CE4 115 0.97 >2 70 20 50 >5000 12 - -
"권취 작동 및 취급 특성" 칼럼에 대한 범례
++: 롤러 또는 다른 기계부에 달라붙는 경향이 없고, 포장용 기계의 권취 및 가공 중에 블로킹으로 인한 문제가 없으며, 제조비용이 낮다.
+: 중간정도의 제조비용
-: 롤러 또는 다른 기계부에 달라붙는 경향이 있고, 포장 기계상의 권취 및 가공 중에 블로킹이 일어나며, 필름 취급성이 비쌈에 따라 제조비용이 크다.
본 발명에 따른 일면이 무광인 시일성 필름은 뛰어난 시일성, 우수한 광학 특성, 매우 우수한 취급성, 및 매우 우수한 가공특성을 갖는다. 필름의 시일성 커버층(A)는 단지 그 자체(핀 시일) 뿐 아니라, 무광 커버층(C)(랩 시일)에 대해서도 시일된다.
또한 본 필름은 헤이즈의 상당한 감소(증가)없이 우수한 무광 커버층(A)에 의해 인상적이다. 또한, 필름 제조시에 생겨난 폐물질을 필름의 물리적 특성에 어떠한 심각한 부작용도 초래하지 않으면서 필름의 전체 중량을 기준으로 10∼60중량%까지 필름 제조용 분쇄물로서 재사용할 수 있다는 점이 보장된다. 따라서 본 필름은 신축성 포장재의 제조에 적합하며, 특히 뛰어난 시일 특성 및 우수한 가공성이 필요한 곳에서 적합하다. 특히, 고속 포장용 기계에 사용하는 경우에 적합하다.

Claims (13)

  1. 열가소성 폴리에스테르를 적어도 80중량% 이상 함유하는 적어도 하나 이상의 기저층(B), 시일성 커버층(A) 및 무광 커버층(C)을 포함하며,
    a) 상기 시일성 커버층(A)의 최소 시일온도가 120℃ 이하이고, 시일강도가 15mm 필름폭 당 1.0N 이상이며, 최대 Ra값이 100nm이고, 표면 가스 유동은 20∼4000초의 범위 이내이며;
    b) 상기 무광 커버층(C)의 최대 광택이 100이고, 최소 Ra값이 150nm이며, 표면 가스 유동이 0∼80초의 범위 이내이고;
    c) 불투명도가 50% 미만인 것을 특징으로 하는 일면이 무광인 시일성 이축배향 및 공압출 폴리에스테르 필름.
  2. 제1항에 있어서, 상기 시일성 커버층(A)는 에틸렌 테레프탈레이트, 에틸렌 이소프탈레이트 및 에틸렌 글리콜 유니트로 된 비정질 공중합에스테르를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
  3. 제2항에 있어서, 상기 시일성 커버층(A)의 비정질 공중합에스테르는 에틸렌 테레프탈레이트 40∼95몰% 및 에틸렌 이소프탈레이트 60∼5몰%, 바람직하게는 에틸렌 테레프탈레이트 50∼90몰% 및 에틸렌 이소프탈레이트 50∼10몰%, 특히 바람직하게는 에틸렌 테레프탈레이트 60∼85몰% 및 에틸렌 이소프탈레이트 40∼15몰%를 함유하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 시일성 커버층(A)의 두께는 0.2∼3㎛인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 시일성 커버층은 항블로킹제를 0.01∼1중량%, 바람직하게는 0.015∼0.08중량%, 특히 바람직하게는 0.02∼0.08중량% 함유하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 시일성 커버층(A) 자체에 대한 마찰계수는 1.0 이하, 바람직하게는 0.8 이하인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 커버층(C)는 d50값으로 표시되는 평균직경이 1㎛이상, 바람직하게는 1.5∼10㎛인 입자를 커버층(C)의 중량을 기준으로 0.5∼20중량%, 바람직하게는 1.0∼18중량%, 특히 바람직하게는 1.5∼16 중량% 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 커버층(C)는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 단일 중합체 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 공중합체, 이 외에 폴리에스테르를 형성할 수 있는 하기의 단량체 또는 그 유도체의 축합물로 구성된 중합체 성분(I)을 함유하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
    a) 이소프탈산 40∼99몰%;
    b) 화학식 HOOC(CH2)nCOOH (식중, n은 1~11)로 표시되는 적어도 하나 이상의 지방족 디카르복시산 0∼60몰%;
    c) 디카르복시산의 방향족 부분에 알칼리 금속 술폰산염이 부착된 적어도 하나 이상의 술포단량체 1∼15몰%; 및
    d) 100몰%의 축합체를 형성하는데 필요한 탄소원자 2∼11개의 공중합성 지방족 또는 지환족 글리콜의 화학양론적 양(여기에서, 백분율은 성분(I)을 형성하는 단량체의 총량을 기준으로 함.).
  9. 미리 선택적으로 첨가물을 함유한 필름의 각 층 (A),(B) 및 (C)에 상응하는 중합체 또는 중합체 혼합물을 압출기 내에서 압착하여 액화하고, 용융물을 평판 필름다이를 통하여 동시 압출시키고, 압출된 다층 용융물을 하나 이상의 전도롤에서 인출하여 냉각시키고, 응고시켜 예비필름을 형성하고, 상기 예비필름을 이축연신하고, 이축연신된 필름을 열고정하고, 처리할 표면을 선택적으로 코로나처리 또는 불꽃처리한 후, 권취하는 단계를 포함하며, 상기에서 길이방향의 연신은 80∼130℃의 온도에서 수행하고, 횡방향의 연신은 90∼150℃의 온도에서 수행하며, 길이방향의연신율는 2.5:1∼6:1, 바람직하게는 3:1∼5.5:1이고, 횡방향의 연신율는 3.0:1∼5.0:1, 바람직하게는 3.5:1∼4.5:1인 것을 특징으로 하는 공압출법에 의한 제1항 내지는 제8항 중 어느 한 항의 폴리에스테르 필름의 제조방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 열고정을 위해, 상기 필름을 150∼250℃의 온도에서 0.1∼10초 동안 유지하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 제조방법.
  11. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 필름의 한면 또는 양면을 열고정한 후, 코로나처리 또는 불꽃처리하며, 그 처리강도는 처리된 표면의 장력이 45mN/m 이상이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 제조방법.
  12. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 필름제조중 발생하는 폐물질을 필름의 총 중량을 기준으로 10∼60중량%까지 압출용 재생물질로 재사용하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 제조방법.
  13. 유연성 포장재용, 특히 고속 운전포장기계에 사용되는 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 폴리에스테르 필름의 용도.
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