KR20020036251A - 반도체 제조 설비 - Google Patents

반도체 제조 설비 Download PDF

Info

Publication number
KR20020036251A
KR20020036251A KR1020000066346A KR20000066346A KR20020036251A KR 20020036251 A KR20020036251 A KR 20020036251A KR 1020000066346 A KR1020000066346 A KR 1020000066346A KR 20000066346 A KR20000066346 A KR 20000066346A KR 20020036251 A KR20020036251 A KR 20020036251A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
unit
semiconductor
wafer
bake
units
Prior art date
Application number
KR1020000066346A
Other languages
English (en)
Inventor
오현돈
박태신
Original Assignee
윤종용
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 윤종용, 삼성전자 주식회사 filed Critical 윤종용
Priority to KR1020000066346A priority Critical patent/KR20020036251A/ko
Priority to US09/939,556 priority patent/US6786970B2/en
Publication of KR20020036251A publication Critical patent/KR20020036251A/ko

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67161—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
    • H01L21/67178—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers vertical arrangement
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70916—Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70991—Connection with other apparatus, e.g. multiple exposure stations, particular arrangement of exposure apparatus and pre-exposure and/or post-exposure apparatus; Shared apparatus, e.g. having shared radiation source, shared mask or workpiece stage, shared base-plate; Utilities, e.g. cable, pipe or wireless arrangements for data, power, fluids or vacuum
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67207—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
    • H01L21/67225—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process comprising at least one lithography chamber
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00—Material or article handling
    • Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명은 복수개의 단위 공정이 스텝 바이 스텝(step by step) 방식으로 연속 진행될 때, 임의의 단위 공정중 발생할 수 밖에 없는 공정 저해 물질에 의해 나머지 단위 공정이 영향 받는 것을 최소화하여 패턴 불량 발생 빈도를 감소시킨 반도체 제조 설비에 관한 것으로, 본 발명에 의하면, 반도체 제조 설비에서 각기 다른 복수개의 단위 공정이 동시에 진행될 때, 임의의 어느 한 단위 공정에서 발생한 공정 저해 물질이 다른 단위 공정에 영향을 미치는 것을 방지함으로써 연속적으로 진행되는 반도체 제조 공정중 발생하는 공정 오류를 사전에 방지할 수 있다.

Description

반도체 제조 설비{Equpiment for farbricating semiconductor}
본 발명은 반도체 제조 설비에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 복수개의 단위 공정이 스텝 바이 스텝(step by step) 방식으로 연속 진행될 때, 임의의 단위 공정중 발생할 수 밖에 없는 공정 저해 물질에 의해 나머지 단위 공정이 영향 받는 것을 최소화하여 패턴 불량 발생 빈도를 감소시킨 반도체 제조 설비에 관한 것이다.
최근들어 컴퓨터 산업, 정보통신 산업, 우주 항공산업에 이르기까지 대부분 산업 발달이 급속히 가속되어 이들 산업에 의하여 생산된 제품은 보다 향상된 작업 성능을 갖으면서도 제품의 크기는 작아지고 있다.
이와 같은 각종 산업에서 생산된 제품의 경량, 고성능 추세는 단위 면적당 저장할 수 있는 데이터 수의 비약적 증가는 물론 방대한 데이터를 단위 시간내 처리할 수 있도록 하는 반도체 제품의 성능 향상에 기인한 것으로, 최근에는 더욱 향상된 성능을 갖는 반도체 제품의 개발이 가속되고 있는 실정이다.
이와 같은 반도체 제품은 최근들어 회로 선폭이 약 0.1㎛ 정도 밖에 되지 않을 정도로 매우 정밀하게 제작되는 바, 이와 같은 정밀한 반도체 제품을 생산하기 위해서는 무엇보다도 정밀한 반도체 제조 공정 및 반도체 제조 공정을 정밀하게 수행하는 반도체 제조 설비를 필요로 한다.
이들 중 반도체 제조 공정은 약 0.1㎛ 정도 밖에 되지 않는 선폭을 갖는 회로 패턴을 형성하기 위하여 선행 반도체 제조 공정과 후속 반도체 제조 공정으로 구성된다.
구체적으로 선행 반도체 제조 공정으로는 "웨이퍼"라 불리우는 순수 실리콘 기판상에 광에 노출됨으로써 제거 또는 잔류가 가능한 포토레지스트 박막을 형성한 후, 포토레지스트 박막에 회로 패턴대로 개구된 레티클을 위치시킨 후 포토레지스트 박막에 광이 노출되도록 함으로써 웨이퍼 중 회로 패턴이 형성될 부분이 외부에 노출되도록 하는 사진 현상 공정을 예로 들수 있을 것이다.
후속 반도체 제조 공정으로는 개구된 부분에 필요한 이온을 주입하는 이온주입 공정, 다른 특성을 갖는 박막을 증착하는 증착 공정, 에천트 또는 식각 가스로 식각홈 또는 콘택홀 형성하는 과정을 반복하는 식각 공정, 회로 패턴을 전기적으로 연결하는 메탈 공정 등을 예로 들 수 있다.
이와 같은 선행 반도체 제조 공정, 후속 반도체 제조 공정은 교대로 진행되면서 반도체 제품의 핵심 부분인 반도체 칩이 제작되고, 반도체 칩에는 외부 기기와 전기적 접속은 물론 반도체 칩을 외부 열악한 환경으로부터 보호하는 역할을 하는 패키지 공정 및 테스트 공정을 거친 후에야 반도체 제품이 제작된다.
이와 같이 복잡한 여러 공정을 거친 후에야 제작되는 반도체 제품의 회로 선폭이 작아질수록 후속 반도체 제조 공정 보다는 선행 반도체 제조 공정을 진행하는 선행 반도체 제조 설비의 정밀도가 크게 향상되어야 한다.
특히, 최근에는 복수개의 단위 공정 유닛, 예를 들면, 웨이퍼에 포토레지스트를 도포하는 포토레지스트 도포 유닛, 베이크 유닛, 웨이퍼와 포토레지스트의 접착력을 향상시키는 어드히젼 유닛(Adhsion unit), 노광 유닛인 스텝퍼, 포토레지스트 도포 유닛-베이크 유닛-어드히젼 유닛 및 인터페이스 유닛 및 현상 유닛까지 인-라인 방식으로 연계된 인-라인 타입 포토리소그라피(In-line type photolithograph) 설비가 개발된 바 있다.
그러나, 이와 같은 인-라인 타입 포토리소그라피 설비의 경우 웨이퍼가 연속적으로 이동하면서 선행 반도체 제조 공정을 진행함으로써 설비 효율은 극대화할 수 있지만, 단위 공정 유닛 중 어드히젼 유닛에 사용되는 화학물질인 핵사메틸디실란(HexaMethylDiSilane;HMDS)으로부터 암모니아(NH4)가 발생하여 인접한 단위 공정 유닛, 예를 들면, 베이크 유닛에서 공정 불량을 유발하는 문제점을 갖는 바, 문제점을 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
도 1에는 한 장의 웨이퍼가 공정 개시로부터 공정 종료 시점까지의 암모니아의 변화량이 도시되어 있는 바, 그래프를 참조하면 일부 구간에서는 암모니아의 변화량이 급격히 변동되고, 암모니아의 변화량 변화가 급격하게 발생하였을 경우, 웨이퍼가 현상 유닛에서 현상까지 종료된 후에는 포토레지스트 박막의 프로파일이 균일한 수직을 이루지 않고 마치 T 형상으로 포토레지스트 박막의 상단이 잔류되는 티 탑(T-top) 현상이 발생하여 포토리소그라피 공정 불량을 유발시키는 문제점을 갖는다.
따라서, 본 발명은 이와 같은 종래 문제점을 감안한 것으로써, 본 발명의 목적은 서로 다른 공정을 수행하는 단위 유닛들이 인접하여 인-라인 방식으로 연속 공정을 진행하면서 임의의 단위 유닛으로부터 발생한 공정 불량 유발 물질이 임의의 단위 유닛과 인접한 다른 단위 유닛에 미치는 영향이 최소가 되도록 함에 있다.
본 발명의 다른 목적들은 상세하게 후술될 본 발명의 상세한 설명에 의하여 보다 명확해질 것이다.
도 1은 종래 반도체 제조 설비의 하나인 인-라인 포토리소그라피 설비의 베이크 유닛에서의 암모니아 농도 변화를 도시한 그래프.
도 2는 본 발명에 의한 반도체 제조 설비의 일실시예인 인-라인 포토리소그라피 설비의 레이아웃을 도시한 평면도.
도 3은 본 발명에 의한 인-라인 포토리소그라피 설비의 부분 절개 사시도.
도 4는 본 발명에 의한 베이크 유닛, 쿨링 유닛, 어드히젼 유닛과 공기 흐름과의 위치 관계를 설명하기 위한 측면도.
이와 같은 본 발명의 목적을 구현하기 위한 본 발명에 의한 반도체 제조 설비는 청정 공기가 다운 플로우 되는 생산 시설에 설치되며, 소정 반도체 제조 공정 진행 중 공정 저해 가스가 발생되는 제 1 반도체 단위 공정 유닛과, 제 1 반도체 단위 공정 유닛과 연계하여 반도체 공정이 진행되며 공정 저해 가스에 의하여 공정 불량이 발생하는 제 2 반도체 단위 공정 유닛을 포함하며, 제 2 반도체 단위 공정 유닛은 제 1 반도체 단위 공정 유닛 보다 높은 곳에 설치된다.
이하, 본 발명에 의한 반도체 제조 설비의 보다 구체적인 구성 및 구성에 따른 독특한 작용 및 효과를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같으며, 본 발명에서는 바람직한 일실시예로 인-라인 방식 포토리소그라피 설비를 설명하기로 한다.
첨부된 도 2 내지 도 4에는 본 발명에 의한 인-라인 방식 포토리소그라피 설비가 도시되어 있는 바, 첨부된 도면을 참조하면, 인-라인 방식 포토리소그라피 설비(400)는 전체적으로 보아 포토레지스트 처리 유닛(100), 인터페이스 버퍼 유닛(200) 및 노광 유닛(300)으로 구성된다.
포토레지스트 처리 유닛(100)은 도 3을 참조하였을 때, 다시 베이스 몸체(110)에 설치된 복수개의 단위 공정 유닛으로 구성된다.
단위 공정 유닛들은 구체적으로 웨이퍼 카세트 로더/언로더 유닛(120), 웨이퍼 트랜스퍼 유닛(도 2 참조;130), 어드히젼 유닛(Adhsion unit,AD;140), 쿨링 유닛(Cooling unit,COL;150), 베이크 유닛(161,162,163;160), 스핀 코팅 유닛(170),현상 유닛(180)으로 구성된다.
이들 단위 공정 유닛 중 웨이퍼 카세트 로더/언로더 유닛(120)은 선행 공정이 종료된 웨이퍼가 로트(lot) 단위로 수납된 적어도 1 개 이상의 웨이퍼 카세트(121)가 로딩/언로딩되는 것이 가능한 유닛으로, 웨이퍼 로딩/언로딩이 용이한 베이스 몸체(110)의 상면 일측 단부에 해당하는 부분에 설치된다.
본 발명에서는 일실시예로 웨이퍼 카세트 로더/언로더 유닛(120)에 4 개의 웨이퍼 카세트(121)를 수납하기로 한다.
한편, 단위 공정 유닛 중 웨이퍼 카세트 로더/언로더 유닛(120)과 인접한 베이스 몸체(110)의 상면에는 적어도 1 개 이상의 스핀 코팅 유닛(170) 및 현상 유닛(180)이 직렬 방식으로 설치된다.
이때, 직렬 방식으로 설치된 스핀 코팅 유닛(170) 및 현상 유닛(180)과 소정 간격을 두고 대향한 곳에는 복수개의 어드히젼 유닛(140), 복수개의 쿨링 유닛(150), 복수개의 베이크 유닛(160)이 집합체를 이루며 적층 방식으로 설치된다.
이하, 이들 어드히젼 유닛(140), 쿨링유닛(150), 베이크 유닛(160)을 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
어드히젼 유닛(140)은 도 4에 AD로 표시된 부분으로, 어드히젼 유닛(140)은 소정 용적을 갖는 챔버의 내부에 웨이퍼가 로딩된 상태에서 질소 가스 등을 매개로 기체 상태로 상변화된 핵사메틸디실랜(Hexamethyldisilane;HMDS)을 웨이퍼에 공급하여 포토레지스트 도포 공정 이전에 웨이퍼와 포토레지스트의 부착력을 강화시키는 공정을 진행하는 역할을 수행한다.
베이크 유닛(160)은 다시 제 1 베이크 유닛(161), 제 2 베이크 유닛(162) 및 제 3 베이크 유닛(163)으로 구성된다.
보다 구체적으로, 제 1 베이크 유닛(161)은 앞서 설명한 스핀 코팅 유닛(170)에서 웨이퍼에 포토레지스트 박막이 도포된 후, 포토레지스트 박막을 1차 경화시키는 역할을 하는 일종의 소프트 베이크 유닛으로 도 4에 HP라 표시된 곳 중 어느 한 곳에서 공정이 진행된다.
제 2 베이크 유닛(162)은 포토레지스트 박막이 도포된 웨이퍼에 노광 공정이 진행된 후, 수행되는 포스트 익스포우저 베이크 유닛(Post Exposure Bake unit;PEB)으로 도 4에 PEB라 표시된 곳 중 어느 한곳에서 공정이 진행되며, 제 3 베이크 유닛(163)은 앞서 설명한 현상 유닛(180)에서 현상이 종료되어 패터닝된 포토레지스트 박막에 수행되는 하드 베이크 유닛으로 역시 도 4에 HP라 표시된 곳 중 어느 한 곳에서 공정이 진행된다.
한편, 도 4에 도면부호 164로 도시되었지만, 설명되지 않은 HHP는 보다 높은 베이크 온도가 요구되는 웨이퍼의 베이크 공정을 진행하기 위하여 마련된 베이크 유닛의 하나이다.
이와 같이 어드히젼 유닛(140) 및 제 1, 제 2, 제 3 베이크 유닛(161,162,163)에서 공정이 진행된 웨이퍼는 도 4에 COL로 도시된 쿨링 유닛(150)에 의하여 상온으로 서냉 공정이 수행된다.
이때, 도 4에 도시된 바와 같이 어드히젼 유닛(140)은 쿨링유닛(150) 및 제1, 제 2, 제 3 베이크 유닛(161,162,163)보다 아래쪽에 위치하는 바, 어드히젼 유닛(140)의 위치는 절대적인 것이 아니라 본 발명에 의한 인-라인 방식 포토리소그라피 설비(400)가 설치된 생산 라인의 공기 흐름에 의하여 결정된다.
이와 같이 생산 라인의 공기 흐름에 따라서 어드히젼 유닛(140), 쿨링 유닛(150), 베이크 유닛(160)의 위치를 고려함은 어드히젼 유닛(140)의 공정 특성 즉, 어드히젼 유닛(140)에서 공정 진행 중 발생하는 암모니아 가스의 흐름에 따라서 포토레지스트 박막 패턴 불량이 발생하기 때문이다.
보다 구체적으로, 생산 라인의 공기 흐름이 도시된 바와 같이 다운 플로우이고, 어드히젼 유닛(140)이 베이크 유닛(160) 및 쿨링 유닛(150)보다 높은 곳에 설치될 경우, 어드히젼 유닛(140)에서 공정 중 발생한 소량의 암모니아 가스는 공기 흐름을 따라 베이크 유닛(160) 및 쿨링 유닛(150) 방향으로 흘러들어게 되고 이들 중 베이크 유닛(160) 내부로 암모니아 가스가 유입될 경우 앞서 설명한 바와 같이 포토레지스트 박막에는 티-탑(T-top) 현상이 발생하여 공정 불량이 발생하게 된다.
본 발명에서는 일실시예로 생산 라인의 공기 흐름이 다운 플로우(down flow) 즉, 청정 공기의 흐름이 천정으로부터 바닥의 흐름을 갖을 때에는 도 4에 도시된 바와 같이 베이스 몸체(110)를 기준으로 베이스 몸체(110)에는 어드히젼 유닛(140)이 가장 먼저 설치된 후, 어드히젼 유닛(140)의 상면 또는 동일 평면상에 쿨링 유닛(150) 또는 베이크 유닛(160)들이 임의의 순서대로 적층 설치되도록 하여 앞서 설명한 공정 불량을 방지한다.
이와 같은 이유로 적층된 베이크 유닛(160), 쿨링 유닛(150) 및 어드히젼 유닛(140)과 앞서 설명한 스핀 코팅 유닛(170), 현상 유닛(180)의 사이에 형성된 빈 공간에는 베이크 유닛(160)으로부터 쿨링 유닛(150), 어드히젼 유닛(140)으로부터 쿨링 유닛(150), 스핀 코팅 유닛(170)으로부터 베이크 유닛(160), 현상 유닛(180)으로부터 베이크 유닛(160)으로 웨이퍼를 이송하는 웨이퍼 트랜스퍼 유닛(130)이 안착되는 바, 웨이퍼 트랜스퍼 유닛(130)은 가이드 레일(131)을 따라 직선왕복운동하는 이송 유닛(132), 이송 유닛(132)에 설치되어 웨이퍼를 로딩/언로딩하기 위하여 공간상에서 자유로운 움직임이 가능한 로봇 암(133)으로 구성된다.
이와 같은 구성을 갖는 포토레지스트 처리 유닛(100)과 인접한 곳에는 다시 노광 유닛(300)의 하나인 스텝퍼(steeper) 또는 스캔 방식 노광 유닛이 설치되고, 노광 유닛(300)과 포토레지스트 처리 유닛(100)의 사이에는 포토레지스트 처리 유닛(100)으로부터 노광 유닛(300)으로 노광 유닛(300)으로부터 포토레지스트 처리 유닛(100)으로 웨이퍼가 이송되도록 하는 인터페이스 버퍼 유닛(200)이 설치된다.
이하, 본 발명에 의한 반도체 제조 설비의 하나인 인-라인 방식 포토리소그라피 설비(400)의 작용을 한 매의 웨이퍼에 포토레지스트 박막을 형성하는 과정을 일실시예로 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
먼저, 웨이퍼 카세트 로더/언로더 유닛(120)으로부터 웨이퍼 트랜스퍼 유닛(130)의 로봇 암(133)에 의하여 언로딩된 한 장의 웨이퍼는 가장 먼저, 베이스 몸체(110)에 직접 설치된 복수개의 어드히젼 유닛(140) 중 어느 하나에 로딩된 후, HMDS 가스에 의하여 웨이퍼와 포토레지스트 박막의 부착력을 상승시키는 공정이 진행된다.
이처럼 웨이퍼와 포토레지스트 박막의 부착력을 상승시키는 공정 진행중 발생한 암모니아 가스는 다운 플로우를 갖는 공기의 흐름에 의하여 베이크 유닛(160) 또는 쿨링 유닛(150)에 어떠한 영향도 미치지 않은 상태에서 그대로 배기된다.
이후, 어드히젼 유닛(140)에서 공정이 종료된 웨이퍼는 다시 웨이퍼 트랜스퍼 유닛(130)에 의하여 쿨링 유닛(150)으로 이송되어 서냉되고, 이후, 서냉된 웨이퍼는 다시 스핀 코팅 유닛(170)으로 이송되어 웨이퍼에는 포토레지스트 박막이 형성된다.
이어서, 포토레지스트 박막이 형성된 웨이퍼는 다시 제 1 베이크 유닛(161)으로 이송되어 소프트 베이크 공정이 진행된 후, 다시 쿨링 유닛(150)으로 이송되어 서냉된다.
이후, 소프트 베이크 공정까지 종료된 웨이퍼는 인터페이스 버퍼 유닛(200)으로 이송된 후, 노광 유닛(300)으로 이송되어 소정 패턴 형상대로 노광 공정이 수행된다.
노광 공정까지 종료된 웨이퍼는 다시 인터페이스 버퍼 유닛(200)을 거쳐 제 2 베이크 유닛(162)으로 이송되어 포스트 익스포우저 베이크 공정이 진행된다.
포스트 익스포우저 베이크 공정이 종료된 웨이퍼는 다시 웨이퍼 트랜스퍼 유닛(130)에 의하여 쿨링 유닛(150)으로 이송되어 서냉된 후, 현상 유닛(180)중 어느 하나로 이송되어 현상 공정이 진행됨으로써 빛에 노출된 포토레지스트 박막이 현상 되도록 한다.
이후, 현상 공정까지 진행된 웨이퍼는 다시 웨이퍼 트랜스퍼 유닛(130)에 의하여 제 3 베이크 유닛(163)으로 이송된 후 하드 베이크 공정이 진행된다.
이후, 하드 베이크 공정이 진행된 웨이퍼는 다시 쿨링 유닛(150)으로 이송된 후 웨이퍼 카세트 로딩/언로딩 유닛으로 이송된다.
이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 반도체 제조 설비에서 각기 다른 복수개의 단위 공정이 동시에 진행될 때, 임의의 어느 한 단위 공정에서 발생한 공정 저해 물질이 다른 단위 공정에 영향을 미치는 것을 방지함으로써 연속적으로 진행되는 반도체 제조 공정중 발생하는 공정 오류를 사전에 방지할 수 있는 효과가 있다.

Claims (3)

  1. 청정 공기가 다운 플로우 되는 생산 시설에 설치되며, 소정 반도체 제조 공정 진행 중 공정 저해 가스가 발생되는 제 1 반도체 단위 공정 유닛과;
    상기 제 1 반도체 단위 공정 유닛과 연계하여 반도체 공정이 진행되며 상기 공정 저해 가스에 의하여 공정 불량이 발생하는 제 2 반도체 단위 공정 유닛을 포함하며,
    상기 제 2 반도체 단위 공정 유닛은 상기 제 1 반도체 단위 공정 유닛 보다 높은 곳에 설치된 반도체 제조 설비.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 반도체 단위 공정 유닛은 웨이퍼에 포토레지스트 박막을 도포할 때 상기 웨이퍼와 상기 포토레지스트 박막의 부착력을 강화하는 부착력 강화 물질이 공급되는 어드히젼 챔버를 포함하는 어드히젼 유닛(Adhsion unit)이고, 상기 제 2 반도체 단위 공정 유닛은 상기 포토레지스트 박막이 형성된 웨이퍼를 베이크하는 베이크 유닛(bake unit)인 반도체 제조 설비.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 공정 저해 가스는 암모니아(NH4)인 반도체 제조 설비.
KR1020000066346A 2000-11-09 2000-11-09 반도체 제조 설비 KR20020036251A (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000066346A KR20020036251A (ko) 2000-11-09 2000-11-09 반도체 제조 설비
US09/939,556 US6786970B2 (en) 2000-11-09 2001-08-28 Equipment for fabricating a semiconductor product

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000066346A KR20020036251A (ko) 2000-11-09 2000-11-09 반도체 제조 설비

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20020036251A true KR20020036251A (ko) 2002-05-16

Family

ID=19698023

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020000066346A KR20020036251A (ko) 2000-11-09 2000-11-09 반도체 제조 설비

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6786970B2 (ko)
KR (1) KR20020036251A (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100192844A1 (en) * 2009-01-30 2010-08-05 Semes Co., Ltd. Apparatus and method for treating substrate
JP5562759B2 (ja) * 2009-11-04 2014-07-30 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10135307A (ja) * 1996-11-01 1998-05-22 Tokyo Electron Ltd 処理装置
JPH10284413A (ja) * 1997-04-10 1998-10-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置および基板処理用露光装置
JPH10335216A (ja) * 1997-05-30 1998-12-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5826129A (en) * 1994-06-30 1998-10-20 Tokyo Electron Limited Substrate processing system
KR100257902B1 (ko) * 1998-03-27 2000-06-01 윤종용 청정실내의환경분석용시스템및환경분석방법
KR100602104B1 (ko) * 1999-05-25 2006-07-19 동경 엘렉트론 주식회사 레지스트 도포현상처리장치
JP3442686B2 (ja) * 1999-06-01 2003-09-02 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP3416078B2 (ja) * 1999-06-09 2003-06-16 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP3635214B2 (ja) * 1999-07-05 2005-04-06 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10135307A (ja) * 1996-11-01 1998-05-22 Tokyo Electron Ltd 処理装置
JPH10284413A (ja) * 1997-04-10 1998-10-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置および基板処理用露光装置
JPH10335216A (ja) * 1997-05-30 1998-12-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20020055276A1 (en) 2002-05-09
US6786970B2 (en) 2004-09-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3202929B2 (ja) 処理システム
KR100847888B1 (ko) 반도체 소자 제조 장치
US6790286B2 (en) Substrate processing apparatus
US20050260824A1 (en) Semiconductor device manufacturing method and manufacturing line thereof
JP4849969B2 (ja) 基板処理システムおよび基板搬送方法
US20110000426A1 (en) Substrate processing apparatus with heater element held by vacuum
JP2002260994A (ja) 基板処理装置
US8046095B2 (en) Substrate processing system and substrate transfer method
JP4080021B2 (ja) 基板処理装置
JP2000353648A (ja) 基板処理装置
KR20020036251A (ko) 반도체 제조 설비
JPH10144765A (ja) 基板処理システム
JP2003209093A (ja) 基板処理方法及び基板処理装置
KR20220109504A (ko) 기판 반송 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치
JP2000353649A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
US20240030057A1 (en) Substrate treating apparatus and substrate treating method
US20130040463A1 (en) Method and apparatus for manufacturing semiconductor device
JP2834970B2 (ja) 基板収納装置
KR20060064788A (ko) 기판 가공 방법
KR100726611B1 (ko) 포토리소그라피 인라인 시스템
KR20230039286A (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
US7896563B2 (en) Photo spinner apparatus and wafer carrier loading/unloading method using the same
JPH09115983A (ja) 生産システム及びデバイス生産方法
KR19990015818A (ko) 포토 설비의 레이아웃
KR20060092356A (ko) 반도체 디바이스 제조용 오버레이 장치의 로봇팔

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application