KR19990013392U - 반도체 제조장비의 기포제거장치 - Google Patents

반도체 제조장비의 기포제거장치 Download PDF

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Abstract

본 고안은 반도체 제조장비의 기포제거장치에 관한 것으로, 종래에는 약액조의 교환시에 공기의 유입으로 기포가 발생하거나 또는 펌핑시 펌프에 의해 기포가 발생됨에도 불구하고, 그대로 공정베쓰로 이동되어 도포, 식각, 세정불량 등을 초래하게 되는 문제점이 있었던 바, 본 고안에서는 상기 약액조와 공정베쓰를 연통시키는 튜브라인의 중간에 설치되고 그 일측에 기포벤트용 배기구가 형성되는 간이통과, 그 간이통의 화학액에 기포여부를 파악하기 위하여 상기 간이통 일측에 장착되는 기포감지센서와, 상기 기포벤트용 배기구가 에어벤트라인으로 연통되는 에어 케미컬 배틀과, 상기 기포벤트용 배기구의 일측에 장착되어 기포감지센서에 의해 기포발생시에만 개방되는 온/오프 밸브로 구성함으로써, 약액조로부터 공급되는 화학액에 기포가 포함되었는지를 정확하게 감지하여 제거시킬 수 있게 되므로, 기포에 의한 각종 공정상의 불량을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.

Description

반도체 제조장비의 기포제거장치
본 고안은 반도체 제조장비에 관한 것으로, 특히 화학액에 포함되어 있는 기포를 제거할 수 있는 반도제 제조장비의 기포제거장치에 관한 것이다.
일반적인 반도체 제조장비중에서 도포, 식각, 세정 등 화학액(Chemical Liquid)을 사용하여 각종 공정을 수행하는 장비는, 통상 도 1에 도시된 바와 같이 소정량의 화학액이 채워져 있어 화학액의 공급원이 되는 약액조(1)와, 그 약액조(1)의 화학액이 공정베쓰(미도시)쪽으로 이동하기 위한 경로가 되도록 상기 약액조(1)와 공정베쓰(미도시)간에 연통되는 튜브라인(2)과, 그 튜브라인(2)의 단부에 결합되어 이동되는 화학액을 분사하는 분사노즐(3)과, 상기 튜브라인(2)의 중간부에 설치되어 상기 약액조(1)로부터 화학액을 흡입하여 공정베쓰(미도시)측으로 토출하기 위한 케미컬 펌프(4)로 구성되어 있다.
상기와 같이 구성되는 종래의 반도체 제조장비에 있어서는, 소정의 제어동작으로 인해 상기 케미컬 펌프(4)에 전류가 인가되어 회전하게 되면, 그 케미컬 펌프(4)에 의해 상기 약액조(1)에 채워져 있던 화학액이 튜브라인(2)을 통해 공정베쓰(미도시)쪽으로 이동하게 되고, 그 약액조(1)는 튜브라인(2)의 단부에 결합된 분사노즐(3)에서 공정베쓰(미도시)로 분사되면서 소정의 공정을 진행하게 되는 것이었다.
그러나, 상기와 같이 배관되는 종래의 반도체 장비에 있어서는, 상기 약액조(1)의 교환시에 공기의 유입으로 기포가 발생하거나 또는 펌핑시 펌프(4)에 의해 기포가 발생됨에도 불구하고, 그대로 공정베쓰(미도시)로 이동되어 도포, 식각, 세정불량 등을 초래하게 되는 한편, 도면에 도시되지는 않았으나 소정의 기포제거장치가 구비된 경우라 할지라도, 그 기포제거장치가 기포여부를 정확하게 감지하지 못하고 일방적으로 화학액의 상부층에 부유되는 기포만을 제거하도록 하는 것으로, 이는 충분한 기포제거효과를 기대할 수 없다는 문제점이 있었다.
따라서, 본 고안은 상기와 같은 종래 반도체 제조장비가 가지는 제반 문제점을 감안하여 안출한 것으로, 약액조로부터 공급되는 화학액에 기포가 포함되었는지를 정확하게 감지하여 제거시킬 수 있는 반도체 제조장비의 기포제거장치를 제공하는데 본 고안의 목적이 있다.
도 1은 종래 반도체 제조장비의 개략적인 배관도.
도 2는 본 고안에 의한 기포제거장치가 구비된 반도제 제조장비의 개략적인 배관도.
***도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명***
1 : 약액조 2 : 튜브라인
3 : 분사노즐 4 : 케미컬 펌프
10 : 간이통 20 : 기포감지센서
30 : 에어 벤트라인 40 : 에어 케미컬 배틀
50 : 온/오프 밸브
이와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여, 소정량의 화학액이 채워진 약액조로부터 공정베쓰로 화학액을 이동 분사시켜 각종 공정을 실시하는 반도체 제조장비에 있어서 ; 상기 약액조와 공정베쓰를 연통시키는 튜브라인의 중간에 설치되고 그 일측에 기포벤트용 배기구가 형성되는 간이통과, 그 간이통의 화학액에 기포여부를 파악하기 위하여 상기 간이통 일측에 장착되는 기포감지센서와, 상기 기포벤트용 배기구가 에어벤트라인으로 연통되는 에어 케미컬 배틀과, 상기 기포벤트용 배기구의 일측에 장착되어 기포감지센서에 의해 기포발생시에만 개방되는 온/오프 밸브로 구성한 반도체 제조장비의 기포제거장치가 제공된다.
이하, 본 고안에 의한 반도체 제조장비의 기포제거장치를 첨부도면에 도시된 일실시예에 의거하여 상세하게 설명한다.
도 2는 본 고안에 의한 반도체 제조장비의 기포제거장치를 보인 배관도로서 이에 도시된 바와 같이, 본 고안에 의한 반도체 제조장비의 기포제거장치는, 소정량의 화학액이 채워져 있어 화학액의 공급원이 되는 약액조(1)와, 그 약액조(1)의 화학액이 공정베쓰(미도시)쪽으로 이동하기 위한 경로가 되도록 상기 약액조(1)와 공정베쓰(미도시)간에 연통되는 튜브라인(2)과, 그 튜브라인(2)의 단부에 결합되어 이동되는 화학액을 분사하는 분사노즐(3)과, 상기 튜브라인(2)의 중간부에 설치되어 상기 약액조(1)로부터 화학액을 흡입하여 공정베쓰(미도시)측으로 토출하기 위한 케미컬 펌프(4)로 구성되는 반도체 제조장비의 배관에 있어서, 상기 튜브라인(2)의 중간, 즉 약액조(1)와 케미컬 펌프(4)의 사이에 기포벤트용 배기구(11)가 형성된 간이통(10)이 설치되고, 그 간이통(10)의 일측에는 화학액에 기포여부를 파악하기 위한 기포감지센서(20)가 장착되며, 상기 기포벤트용 배기구(11)는 에어벤트라인(30)으로 에어 케미컬 배틀(40)과 연통되고, 상기 기포벤트용 배기구(11)의 일측에는 기포감지센서(20)에 의해 기포발생시에만 개방되는 온/오프 밸브(50)로 장착된다.
도면중 종래와 동일한 부분에 대하여는 동일한 부호를 부여하였다.
상기와 같은 본 고안에 의한 반도체 제조장비의 기포제거장치는, 소정의 제어동작으로 인해 상기 케미컬 펌프(4)에 전류가 인가되어 회전하게 되면, 그 케미컬 펌프(4)에 의해 상기 약액조(1)에 채워져 있던 화학액이 튜브라인(2)을 통해 공정베쓰(미도시)쪽으로 이동한 후에 상기 튜브라인(2)의 단부에 결합된 분사노즐(3)에서 공정베쓰(미도시)로 분사되면서 소정의 공정을 진행하게 되는 것이다.
이때, 상기 튜브라인(2)을 통과하는 화학액이 그 튜브라인(2)의 중간에 결합된 간이통(10)에서 일시 정체되어 기포감지센서(20)에 의해 기포여부를 감지하게 되고, 만약 화학액에 기포가 발생되어 있다면 상기 온/오프 밸브(50)가 열리면서 간이통(10)에 존재하는 기포를 벤트시키게 되며, 그 벤트되는 화학액은 에어 벤트라인(30)을 따라 유도되어 에어 케미컬 배틀(40)에 고이게 되는 것이다.
반면, 상기 기포감지센서(20)에 의해 기포가 발생되지 않았음을 감지하게 되면, 상기 온/오프 밸브(50)가 닫히면서 화학액이 정상적으로 펌핑되어 분사노즐(3)을 통해 공정베쓰(미도시)로 유도되는 것이다.
여기서는, 상기 기포제거장치가 약액조와 케미컬 펌프(4)의 사이에 설치된 예를 도시하고 설명하였으나, 상기 기포제거장치가 케미컬 펌프(4)의 출구측에 설치하더라도 본 고안에 의해 얻어지는 효과는 앞에서 언급된 경우와 동일하다. 그리고, 이처럼 상기 기포제거장치가 케미컬 펌프(4)의 출구측에 설치하게 되는 경우에는 화학액이 케미컬 펌핑중에 발생되는 미세한 기포마저도 제거할 수 있는 부수적인 효과도 기대할 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 고안에 의한 반도체 제조장비의 기포제거장치는, 상기 약액조와 공정베쓰를 연통시키는 튜브라인의 중간에 설치되고 그 일측에 기포벤트용 배기구가 형성되는 간이통과, 그 간이통의 화학액에 기포여부를 파악하기 위하여 상기 간이통 일측에 장착되는 기포감지센서와, 상기 기포벤트용 배기구가 에어벤트라인으로 연통되는 에어 케미컬 배틀과, 상기 기포벤트용 배기구의 일측에 장착되어 기포감지센서에 의해 기포발생시에만 개방되는 온/오프 밸브로 구성함으로써, 약액조로부터 공급되는 화학액에 기포가 포함되었는지를 정확하게 감지하여 제거시킬 수 있게 되므로, 기포에 의한 각종 공정상의 불량을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.

Claims (1)

  1. 소정량의 화학액이 채워진 약액조로부터 공정베쓰로 화학액을 이동 분사시켜 각종 공정을 실시하는 반도체 제조장비에 있어서 ; 상기 약액조와 공정베쓰를 연통시키는 튜브라인의 중간에 설치되고 그 일측에 기포벤트용 배기구가 형성되는 간이통과, 그 간이통의 화학액에 기포여부를 파악하기 위하여 상기 간이통 일측에 장착되는 기포감지센서와, 상기 기포벤트용 배기구가 에어벤트라인으로 연통되는 에어 케미컬 배틀과, 상기 기포벤트용 배기구의 일측에 장착되어 기포감지센서에 의해 기포발생시에만 개방되는 온/오프 밸브로 구성한 반도체 제조장비의 기포제거장치.
KR2019970026657U 1997-09-25 1997-09-25 반도체 제조장비의 기포제거장치 KR19990013392U (ko)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100580873B1 (ko) * 1999-06-17 2006-05-16 엘지.필립스 엘시디 주식회사 식각장치
KR100780936B1 (ko) * 2001-09-07 2007-12-03 삼성전자주식회사 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100580873B1 (ko) * 1999-06-17 2006-05-16 엘지.필립스 엘시디 주식회사 식각장치
KR100780936B1 (ko) * 2001-09-07 2007-12-03 삼성전자주식회사 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법

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