KR19980080482A - 레이저 가공장치 - Google Patents

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케이지 이소
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오자와미또시
스미또모쥬우끼가이고우교가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은 레이저 가공장치, 특히 주로 홀 제조 공정을 위해 고안되고 공정 속도가 빨라지도록 보완된 레이저 가공장치에 관한 것이다.
레이저 오실레이터(10)로부터 펄스화된 레이저 빔이 빔분할기(13)에 의해 두 개로 분할된다. 이 분할된 레이저 빔은 X-Y 스캐너(14와 16)에 의해 작업 렌즈(17)를 통해 제품(20)상에 방사된다. 이 제품에 부가하여, 레이저 빔은 X-축과 Y-축 방향으로 스윙한다. 이들 X-Y 스캐너는 제품상에 분할되고 세팅된 다수의 가공영역을 동시에 가공한다.

Description

레이저 가공장치
본 발명은 레이저 가공장치, 특히 주로 홀 제조 공정을 위해 고안되고 가공 속도를 높이도록 개선된 레이저 가공장치에 관한 것이다.
휴대폰, 디지털 비디오 카메라 및 개인용 컴퓨터 등의 전자장치에서, 고밀도 다층 배선 보드가 사용된다. 고밀도 다층 배선 보드는 다수의 층 보드로 구성된다. 고밀도 다층 배선 보드를 제조하는 동안 내부-층 보드와 외부-층 보드 사이의 신호 도체 라인을 통과시키기 위해 비아 홀(via hole)이라 불리는 관통 홀이 각각의 층보드에 만들어질 필요가 있다. 특히, 고밀도의 배선을 얻기 위해, 비아 홀의 직경이 최소화될 필요가 있다.
고밀도 다층 기록 보드는 단일 머더(mother) 보드를 다수의 피스로 만들어서 제조될 수 있다. 특히, 머더 보드상에서, 고밀도 다층 기록 보드를 가공하기 위해 미리 설정된 크기를 가진 다수의 가공영역은 매트릭스 방식으로 세팅된다. 그리고 나서, 각각의 미리 설정된 가공영역내의 다수의 미리 설정된 위치에 홀이 만들어진다. 이러한 머더 보드는 제조 공정에 있는 제품(이하 제품)이라 불린다.
최근에는 마이크로-직경의 홀을 만들기 위한 장치로서 레이저 가공장치가 널리 사용된다. 주로 홀을 만드는 공정을 위해 고안된 레이저 가공장치에는 일반적으로 X-Y 스테이지가 제공된다. X-Y 스테이지 상에, 제품가 장착되고 X-축과 Y-축 방향으로의 수평 이동이 가능하다. 레이저 가공장치에서, X-Y 스테이지상의 제품을 이동시킴에 따라 펄스화된 레이저 빔으로 가공될 위치가 변화된다. 이러한 이유로, X-Y 스테이지에 의한 위치 지정은 시간이 많이 소요된다. 따라서 가공 속도가 제한된다.
그러므로, 본 발명의 목적은 전반적으로 빨라진 가공 속도를 가진 레이저 가공장치를 제공하는 것이다.
도 1은 갈바노-스캐너를 사용하는 종래의 레이저 가공장치의 구성을 도시한다.
도 2 는 X-Y 스캐너의 구성을 도시한다.
도 3은 본 발명에 따른 레이저 가공장치의 기본 구성을 도시한다.
도 4는 본 발명에 따른 레이저 가공장치에 의해 가공된 제품 가공영역을 도시한다.
도 5는 본 발명의 첫 번째 실시예에 따른 레이저 가공장치의 정면도이다.
도 6은 도 5의 레이저 가공장치의 평면도이다.
도 7은 도 5의 레이저 가공장치의 측면도이다.
도 8은 본 발명에 따른 레이저 가공장치에 의해 가공되는 가공영역을 가진 또다른 제품의 예를 도시한다.
도 9는 본 발명의 두 번째 실시예에 따른 레이저 가공장치의 기본 구성을 도시한다.
도 10은 도 9의 레이저 가공장치에서 사용하기 위한 빔 초퍼 내의 회전체의 구성을 도시하는 정면도이다.
도 11은 도 10의 A-A'선을 따른 단면도이다.
도 12는 펄스화된 레이저 빔이 도 10의 빔 초퍼에 의해 분할되는 것을 도시한다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 레이저 오실레이터 13 : 빔분할기
14, 16 : X-Y 스캐너 17, 18 : 작업 렌즈
20 : 제품
이러한 목적과 그 이외의 목적을 구현하기 위해, 본 발명은 펄스화된 레이저빔을 발생시키기 위한 레이저 오실레이터, 레이저 빔을 다수의 분할된 빔으로 분할하기 위한 분할 수단 및 분할된 레이저 빔을 제품 표면에 따라 X-축 방향과 Y-축 방향으로 스윙하고 방사하기 위한 X-Y 스캐너를 포함하는 레이저 가공장치를 제공한다. 제품상에서 분할되고 세팅된 다수의 가공영역이 다수의 X-Y 스캐너에 의해 동시에 가공된다.
본 발명의 이해를 돕기 위해, 갈바노-스캐너를 사용하는 종래의 레이저 가공장치가 도 1을 참조로 설명될 것이다. 도 1에서, 레이저 오실레이터(1)로부터 방사된 펄스화된 레이저 빔이 반사경(2)을 통해 마스크(3)로 유도된다. 마스크(3)를 통과한 펄스화된 레이저 빔은 반사경(4)에 의해 아래로 반사된다. 반사경(4)에 의해 반사된 레이저 빔은 X-Y 스캐너(5)에 의해 제품(6)상의 X-축과 Y-축 방향으로 스윙된다. 이하에서 상세히 설명되듯이 X-Y 스캐너(5)는 제 1 갈바노-거울(5-1)과 제 2 갈바노-거울(5-2)을 포함한다. 갈바노-거울은 200 내지 800Hz의 동작 주파수에 응답한다. X-Y 스캐너(5)에 의해 스윙된 레이저 빔은 작업 렌즈(7)를 통해 제품(6)상에 세팅된 가공영역(6a)으로 방사된다. 작업 렌즈(7)는 일반적으로 fθ 렌즈로 불린다.
부가적으로, 제품(6)은 X-Y 스테이지(8)상에 장착된다. 여기서는, X-Y 스테이지(8)내의 구동 시스템에 대한 도면과 설명이 생략되었다. 또한, 렌즈(9a)와 CCD 카메라(9b)를 사용한 제품의 위치 지정을 위해 반사경(4) 위에 정렬 시스템이 제공된다. 이 정렬 시스템에 대한 설명 역시 생략되었다.
도 2를 참조하여 X-Y 스캐너(5)가 설명될 것이다. X-Y 스캐너(5)는 제 1 및 제 2의 갈바노-거울(5-1, 5-2)의 조합에 의해 구성되는 갈바노-스캐너라 불린다. 잘 알려진 바와 같이, 제 1 갈바노-거울(5-1)은 반사경(5-1a)과 반사경(5-1a)을 회전시키기 위한 구동 메커니즘(5-1b)으로 구성된다. 같은 방법으로, 제 2 갈바노-거울(5-2)은 반사경(5-2a)과 반사경(5-2a)을 회전시키기 위한 구동 메커니즘(5-2b)으로 구성된다. 갈바노-미터의 동작 원리에 따라, 두 반사경(5-1a와 5-2a)의 독립적인 회전에 의해, 레이저 빔 LB가 작업 렌즈(7)를 통해 제품(6)상에 원하는 다수의 위치에 연속적으로 방사될 수 있다.
레이저 가공장치에서, 제품(6)의 가공영역(6a)에 따라 레이저 빔을 스윙시킴에 의해 가공 공정이 행해진다. 가공영역(6a)의 가공이 끝나면, 바로 다음의 가공영역이 작업 렌즈(7)의 바로 아래에 위치하도록 하는 방법으로 제품(6)이 X-Y 스테이지(8)에 의해 이동된다.
X-Y 스캐너(5)와 X-Y 스테이지(8)의 조합에 의해, 레이저 가공장치의 가공 속도가 위에서 설명된 레이저 가공장치에 비해 빨라질 수 있다.
제품(6)의 크기에 관해서는, 제품(6)은 각 면이 300 내지 600mm인 정사각형이다. 제품(6)로부터 다수의 피스를 얻기 위해, 일반적으로 열 이상의 가공영역(6a)이 매트릭스 방식으로 미리 설정된다. 한편, 갈바노-거울에 의해 스캐닝될 수 있는 영역은 일반적으로 각 면이 약 50mm인 정사각형이다. 그러므로, 비록 레이저 가공장치라 할지라도 단일 제품로 구성된 모든 가공영역을 가공하는데는 상당한 시간을 필요로 한다.
본 발명에 따른 레이저 가공장치의 기본 구성이 도 3을 참조하여 설명될 것이다.
도 3에서, 레이저 오실레이터(10)로부터의 펄스화된 레이저 빔은 반사경(11과 12)을 통해 빔분할기(13)로 유도된다. 부가적으로, 마스크(도시되지 않았음)가 도 1에 도시된 것과 같은 방법으로 빔분할기(13)앞에 위치한다. 따라서 레이저 빔은 미리 설정된 빔 크기를 갖는다. 빔분할기(13)는 입사 빔을 둘로 분할한다. 빔분할기(13) 대신에 예를 들면, 프리즘, 반투명 유리 또는 다른 광 엘리먼트가 사용될 수 있다. 분할된 레이저 빔중 하나는 제 1 X-Y 스캐너(14)로 유도된다. 다른 분할된 레이저 빔은 반사경(15)을 통해 제 2 X-Y 스캐너(16)로 유도된다. X-Y 스캐너는 도 2 에 도시된 구조와 같은 구조를 갖는다. 제 1 및 제 2 X-Y 스캐너(14, 16)로부터 방사된 레이저 빔은 작업 렌즈(17, 18)를 통해 제품(20)상에 방사된다. 제품(20)은 X-축과 Y-축 방향으로 수평 이동할 수 있는 X-Y 스테이지 위에 장착된다.
부가적으로, 작업 렌즈(17 또는 18)는 공지된 방법으로 레이저 빔을 집속하는데 사용되고, 이는 또한 fθ 렌즈라고 불린다. 각각의 작업 렌즈(17, 18)는 실제로 원추형 하우징에 포함되는 다수의 볼록 렌즈와 오목 렌즈의 조합으로 구성된다. 이러한 조합은 fθ 렌즈 어셈블리라 불린다. 도 3에서, 편의를 위해, fθ 렌즈 어셈블리가 단일 작업 렌즈로 대표된다. 부가적으로, 위에서 언급된 구성 엘리먼트는 제어 디바이스(도시되지 않았음)에 의해 제어된다. 제어 디바이스는 필요한 가공 조건을 수치 데이터로 입력하는 데이터 입력 디바이스다.
레이저 오실레이터(10)로서는, CO2가스 레이저 오실레이터, YAG 높은 조화파 레이저 오실레이터, 엑시머(EXCIMER) 레이저 오실레이터 등이 사용될 수 있다. 레이저 오실레이터로부터, 수 천와트의 출력을 얻을 수 있다. 하지만, 인쇄된 보드나 다른 합성수지 플레이트에 홀을 만드는데 필요한 출력 전력은 일반적으로 십 와트 이하이다. 그러므로, 레이저 오실레이터(10)로부터의 레이저 빔이 둘로 분할된다 할지라도 가공하는데는 아무런 문제가 없다.
도 4는 다수의 피스를 얻을 수 있는 제품(20)상에 다수의 미리 설정된 가공영역을 도시한다. 여기서, 열 여섯(4×4=16) 개의 가공영역(20-1)이 매트릭스 방식으로 세팅되었다. 각각의 가공영역(20-1)은 최종 생산품과 같은 보드 크기를 가진다. 이는 최종 생산품이 실제로 장착된 전자 디바이스의 크기에 의해 결정된다. 어느 경우이든지, 도 4에 도시된 제품(20)이 내부에 홀을 만들 때, 제 1 절반 영역(A)은 제 1 X-Y 스캐너(14)와 작업 렌즈(17)에 의해 가공된다. 제 2 절반 영역(B)은 제 2 X-Y 스캐너(16)와 작업 렌즈(18)에 의해 가공된다. 예를 들어, 제 1 X-Y 스캐너(14)와 작업 렌즈(17)가 도 4에 도시된 가공영역(20-1a)의 좌측으로부터 가공을 시작할 때, 제 2 X-Y 스캐너(16)와 작업 렌즈(18) 또한 도 4에 도시된 가공영역(20-1b)의 좌측으로부터 가공을 시작한다. 결과적으로, 가공이 끝났을 때, 같은 공정 패턴이 얻어진다. 이어서, X-축과 Y-축 방향으로 X-Y 스테이지(21)를 이동시킴에 의해, X-Y 스캐너와 작업 렌즈의 조합에 의해 같은 공정 패턴으로의 레이저 가공이 도 4의 화살표 방향으로 행해진다. 이 경우에, 작업 렌즈(17, 18)의 중심 사이의 거리 D는 일정하게 유지된다.
부가적으로, 제품(20)의 크기는 최종 생산품의 보드 크기에 따라 변화된다. 제품(20)은 각 면이 300 내지 600mm의 크기를 갖는다. 그러므로, 작업 렌즈(17, 18) 사이의 거리 D는 150〈D〈300의 범위에서 변화될 수 있다. 이러한 이유로, 제 1 X-Y 스캐너(14)와 작업 렌즈(17)의 조합과 제 2 X-Y 스캐너(16)와 작업 렌즈(18)의 조합중 적어도 하나는 수평 방향으로 이동할 수 있어야 한다. 이 점에 관해서는 이후에 설명될 것이다.
제품(20)은 X-Y 스테이지(21)상의 플레이트에 수동으로 또는 자동 제품 교체 디바이스에 의해 세팅된다. 플레이트(도시되지 않았음)는 진공 상태에서 제품을 유지하도록 제공된다. 더욱이, 도 1의 경우와 같이, 이미지 가공 디바이스로 구성된 정렬 시스템(도시되지 않았음)이 도 3에 도시된 빔분할기(13)와 반사경(15) 위에 장착된다. 정렬 시스템에서, 제품(20)상에 미리 위치된 (일반적으로 정렬 부호라 불리는)참조 위치 부호가 인식되고 난 후, 제품(20)의 세트 위치가 10㎛이하 정도로 정밀하게 검출된다. 따라서 가공영역(20-1)이 결정된다. 이러한 경우, 조작자는 데이터 입력 디바이스를 통해 가공영역(20-1)의 크기, 간격 등을 미리 입력한다. 제어 디바이스는 입력 데이터에 기초해 최적의 거리 D를 결정한다. 거리 D에 기초해, 가공영역(20-1)이 세팅되는 동안 제 1 X-Y 스캐너(14)와 작업 렌즈(17)의 조합과 제 2 X-Y 스캐너(16)와 작업 렌즈(18)의 조합이 배열된다.
본 발명의 제 1 실시예에 따른 레이저 가공장치는 도 5 내지 도 7을 참조하여 설명될 것이다. 도 5에서, 레이저 가공장치는 제 1 X-Y 스캐너(14)와 작업 렌즈(17)의 조합이 구성 요소로서 장착된 제 1 스캐닝 시스템(31)과 제2 X-Y 스캐너(16)와 작업 렌즈(18)의 조합이 구성 요소로서 장착된 제 2 스캐닝 시스템(32)을 가진다. 제 1 X-Y 스캐너(14)는 제 1 및 제 2의 갈바노-거울(14-1, 14-2)을 가진다. 제 2 X-Y 스캐너(16)는 제 1 및 제 2의 갈바노-거울(16-1, 16-2)을 가진다. 제 1 스캐닝 시스템(31)은 (제품(20)에 수직인)Z-축 방향으로 동작할 수 있는 제 1 Z-축 스테이지(33) 위에 장착된다. 제 1 Z-축 스테이지(33)는 제품(20)의 면과 평행한 L-축 방향으로 동작될 수 있는 L-축 스테이지(34) 위에 장착된다. L-축 스테이지(34)는 베이스 프레임(35)에 부착된다. 한편, 제 2 스캐닝 시스템(32)은 Z-축 방향으로 동작될 수 있는 Z-축 스테이지(36)상에 장착된다. 제 2 Z-축 스테이지(36)는 베이스 프레임(35)에 부착된다. 그러므로, 제 1 스캐닝 시스템(31)은 Z-축과 L-축 방향으로 이동가능하고, 제 2 스캐닝 시스템(32)은 오로지 Z-축 방향으로만 이동 가능하다.
본 실시예의 레이저 가공장치는 제 1 및 제 2 X-Y 스캐너(14, 16)가 대칭이 되도록 제 1 및 제 2 스캐닝 시스템(31, 32)이 정렬된다는 점에서 도 3의 기본 구성과는 다르다. 따라서 제 1 및 제 2 작업 렌즈(17, 18)의 중심 사이의 거리 Da는 최소화될 수 있다. 역으로, 도 5에서는 예를 들어, 제 1 X-Y 스캐너(14)내의 제 1 및 제 2 갈바노-거울(14-1, 14-2)의 방향과 같은 방향으로 제 2 X-Y 스캐너(16)내의 제 1 및 제 2 갈바노-거울(16-1, 16-2)이 향할 때, 제 1 및 제 2 갈바노-거울(16-1과 16-2)의 광축은 도 5의 우측 쪽으로 빗나간다. 이 경우, 거리 Da는 그만큼 증가되어야 한다.
여기서, 분할된 레이저 빔을 받기 위한 반사경(37, 38)은 반대 방향으로부터의 분할된 레이저 빔을 받기 위해 반대 방향으로 위치된다. 반사경(38)에 의해 반사된 레이저 빔은 반사경(39)을 통해 제 2 X-Y 스캐너(16)로 유도된다. 같은 방법으로, 반사경(37)으로부터의 레이저 빔은 반사경(도시되지 않았음)을 통해 제 1 X-Y 스캐너(14)로 유도된다.
이러한 구조에서, 가공은 또한 제 1 및 제 2 스캐닝 시스템(31, 32)에 의해 대칭적으로 행해진다. 예를 들면, 제 1 스캐닝 시스템(31)이 도 4에 도시된 가공영역(20-1a)의 좌측으로부터 가공을 시작할 때 , 제 2 스캐닝 시스템(32)은 도 4의 가공영역(20-1b)의 우측으로부터 가공을 시작한다. 하지만, 가공이 끝나면, 같은 공정 패턴이 얻어진다. 가공동안, 제 2 X-Y 스캐너(16)의 스캐닝 순서는 제 1 X-Y 스캐너(14)의 스캐닝 순서와 반대일 것이다. 이러한 이유로, 제 2 X-Y 스캐너(16)에 제공되는 스캐닝 동작 신호는 제 1 X-Y 스캐너(14)에 제공되는 스캐닝 동작 신호의 역신호일 것이다. 물론, 이는 제어 디바이스내에서 행해진다. 부가적으로, 가공영역은 도 4에서와 같은 방법으로 X-Y 스테이지(21)를 동작시키고 제어함에 의해 순서대로 이동된다.
또한 본 실시예에서, 제품의 크기와 가공영역의 크기에 따라, 제 1 스캐닝 시스템(31)은 제 1 및 제 2 작업 렌즈(17, 18)의 중심 사이의 거리 Da를 변화시키기 위해 L-축 방향으로 이동된다. 부가적으로, 제 2 스캐닝 시스템(32)은 L-축 스테이지(34)와 유사한 L-축 방향 스테이지에 의해 제 1 스캐닝 시스템(31)의 이동 방향과 반대 방향으로 이동된다.
위에서 언급된 바와 같이, 제 1 및 제 2 X-Y 스캐너(14, 16)는 제어 디바이스에 의해 동작되고 제어된다. 소정 가공영역의 레이저 가공이 끝난 후, X-Y 스테이지(21) 또한 제품(20)을 이동시키고 다음 가공영역으로 옮기도록 제어 디바이스에 의해 동작된다. X-Y 스테이지(21)는 X-축 방향과 Y-축 방향으로 수평 이동된다.
가공영역(20-1)에 대한 공정 위치는 제어 디바이스로부터 각각의 X-Y 스캐너에 주어지는 회전 각도에 관한 명령값에 의해 결정된다. 규칙적으로 배열된 홀뿐만 아니라 불규칙적으로 배열된 홀 또한 만들어질 수 있다.
레이저 가공장치는 도 1에 도시된 레이저 가공장치의 가공 속도의 두 배의 속도로 가공을 행할 수 있다.
도 8에 도시된 바와 같이, 모든 수의 가공영역(20-1)이 두 개로 분할되지 않을 때, 제품(20')은 이하와 같이 가공된다: 우선, 가공영역(21)의 같은 수를 가진 분할 영역(A와 B)이 동시에 가공된다. 남겨진 영역(C)은 예를 들어, 제 1 스캐닝 시스템(31)으로부터의 레이저 빔의 경로에 빔 셔터를 위치시킴으로써 레이저 빔이 차단된다. 그리고 나서, 영역(C)은 제 2 스캐닝 시스템(32)에 의해 가공된다.
본 발명의 제 2 실시예에 따른 레이저 가공장치가 도 9 내지 도 12를 참조하여 설명될 것이다. 도 9에서, 도 3에서와 같은 부분은 같은 참조 부호로 표시되고, 이에 대한 설명은 생략되었다. 제 2 실시예에서, 레이저 빔을 분할하기 위해 위에서 설명된 광 엘리먼트대신에 빔 초퍼라 불리는 기계적 분할기가 제공된다. 도 9 내지 도 11에 도시된 바와 같이, 빔 초퍼는 회전체(60)를 포함한다. 회전체(60)는 회전축(61) 주위를 따라 레이저 빔 반사경(62)과 투과 영역(63)을 같은 비율로 교대 배열시킴으로써 구성된다. 빔 초퍼는 회전체(60)를 회전시키고 동작시키기 위한 모터를 구비하는 구동 메커니즘(64)과 이 구동 메커니즘(64)을 제어하기 위한 동기 콘트롤러(65)를 더 포함한다. 동기 콘트롤러(65)는 레이저 오실레이터(10)로부터의 펄스화된 레이저 빔이 반복하여 반사되고 투과되도록 하는 방법으로 구동 메커니즘(64)을 제어한다. 본 실시예에서, 회전체(60)는 네 개의 반사경(62)을 고리 모양의 프레임(66)에 레이저 빔의 입사 방향에 대해 45°의 각도로 부착시킴으로써 구성된다.
동기 콘트롤러(65)는 트리거 펄스를 펄스화된 레이저 빔의 출력 타이밍을 결정하기 위한 레이저 오실레이터(10)로 투과한다. 출력 타이밍과 동기적으로, 동기 콘트롤러(65)는 연속하는 펄스화된 레이저 빔을 교대로 반사하고 투과하도록 하는 방법으로 구동 메커니즘(64)의 모터 회전 속도를 제어한다. 결과적으로, 도 12에 도시된 바와 같이, 빗금 쳐진 부분의 펄스화된 레이저 빔은 빔 초퍼를 통해 반사경(15)(도 9)에 도달한다. 빗금 쳐지지 않은 부분의 펄스화된 레이저 빔은 반사경(62)에 의해 반사되어 제 1 X-Y 스캐너(14)(도 9)에 도달한다.
빔 초퍼가 사용될 때, 도 3에 도시된 광학 엘리먼트로 구성된 분할기와는 달리 공정 표면상의 레이저 빔의 펄스당 에너지 밀도는 감소하지 않는다. 다시 말해, 도 3의 실시예에서, 예를 들면 50%의 투과율을 가진 빔분할기(13)가 사용될 때 공정 표면상의 레이저 빔의 펄스당 에너지 밀도는 반으로 감소한다. 그러므로, 본 실시예에 따라, 본 발명은 낮은 펄스 에너지를 가진 레이저 오실레이터에 응용할 수 있다. 예를 들면, 비아 홀이 인쇄된 보드에 만들어질 때 공정 표면상의 레이저 에너지 밀도는 바람직하게는 10J/cm2또는 그 이상이고, 이는 인쇄된 보드의 물질에 따라 변화한다. 하지만, 낮은 펄스 에너지를 가진 레이저 오실레이터의 경우에, 에너지 밀도가 감소하기 때문에 광 엘리먼트에 의한 분할을 통해 인쇄된 보드에 비아 홀을 만드는 것은 어렵다. 그러나, 본 실시예에 따른 빔 초퍼를 사용함으로써 비아 홀은 원하는 에너지 밀도로 만들어질 수 있다.
이상에서, 본 발명의 두 실시예가 설명되었다. 하지만 본 발명은 이 실시예에만 한정되는 것이 아니라 다양하게 변형될 수 있다. 예를 들어, 두 세트의 X-Y 스캐너와 작업 렌즈가 본 실시예에서 사용되었다. 하지만, 셋 이상의 세트의 X-Y 스캐너와 작업 렌즈가 사용될 수도 있다. 부가적으로, 인쇄된 보드 뿐만 아니라 다른 물질 또한 홀을 만들 수 있거나 또는 가공될 수 있다.
따라서 본 발명은 홀 제조시 공정 속도가 빨라지는 효과를 가진다.

Claims (5)

  1. 펄스화된 빔을 발생시키기 위한 레이저 오실레이터;
    상기 레이저 빔을 다수의 분할된 레이저 빔으로 분할하는 분할 수단; 및
    제품 표면에 대하여 X-축과 Y-축 방향으로 상기 분할된 레이저 빔을 스윙하고 방사시키기 위한 다수의 X-Y 스캐너를 포함하며,
    상기 제품상에서 분할되고 세팅되는 다수의 가공영역은 상기 다수의 X-Y 스캐너에 의해 동시에 가공되는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 장치에는 두 개의 X-Y 스캐너가 제공되고 또한 상기 X-Y 스캐너중 적어도 하나가 수평 이동됨으로써 상기 두 X-Y 스캐너 사이의 거리가 변화될 수 있는 구동 메커니즘이 제공되는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 장치는 상기 제품이 스테이지상에 장착될 때 X-축 방향과 Y-축 방향으로 수평 이동이 가능한 X-Y 스테이지를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치.
  4. 제 2 항에 있어서, 상기 제품은 단일 머더 보드로부터 미리 설정된 크기를 가진 다수의 보드를 얻도록 상기 미리 설정된 크기를 가진 가공영역이 상기 머더 보드상에 매트릭스 방식으로 세팅되는 인쇄 보드이며,
    상기 두 X-Y 스캐너는 홀 제조 공정을 연속적으로 수행하여, 상기 X-Y 스캐너사이의 중간 위치에 대해 대칭적으로 위치된 미리 설정된 크기를 가진 각각의 가공영역상에 같은 공정 패턴이 얻어질 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 장치에는 상기 분할 수단으로서 빔 초퍼를 포함하며,
    상기 빔 초퍼에는 중심 축으로부터 같은 비율 분할된 영역에 레이저 빔 반사경과 투과 영역을 교대로 배열한 구성을 갖는 회전체, 상기 회전체를 회전시키고 동작시키기 위한 구동 메커니즘 및 상기 펄스화된 레이저 빔이 교대로 반사되고 투과되는 것을 반복하도록 상기 구동 메커니즘을 제어하기 위한 제어 수단이 제공되는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100347766B1 (ko) * 2000-02-17 2002-08-09 주식회사 이오테크닉스 레이저 빔 분할 장치
KR100665312B1 (ko) * 2006-07-12 2007-01-04 주식회사 쿠키혼 레이저 가공장치 및 레이저 금형 가공장치
KR100817825B1 (ko) * 2007-05-02 2008-03-31 주식회사 이오테크닉스 레이저 가공장치
KR100904034B1 (ko) * 2007-06-25 2009-06-19 (주)하드램 레이저멀티커팅장치
KR101241119B1 (ko) * 2006-12-20 2013-03-11 박근노 레이저 커팅 장치
KR102331715B1 (ko) * 2020-05-29 2021-11-29 한국생산기술연구원 단일 레이저빔 기반 다중 레이저빔 스캐닝 장치 및 방법

Families Citing this family (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6548370B1 (en) * 1999-08-18 2003-04-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of crystallizing a semiconductor layer by applying laser irradiation that vary in energy to its top and bottom surfaces
TW494444B (en) * 1999-08-18 2002-07-11 Semiconductor Energy Lab Laser apparatus and laser annealing method
US6479790B1 (en) * 2000-01-31 2002-11-12 General Electric Company Dual laser shock peening
US6433303B1 (en) * 2000-03-31 2002-08-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method and apparatus using laser pulses to make an array of microcavity holes
US7078321B2 (en) 2000-06-19 2006-07-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method of manufacturing the same
DE10043548C2 (de) * 2000-08-14 2003-12-04 Kochendoerfer & Kiep Metallver Anwendung des Laserbeschichtens
DE10193737B4 (de) * 2000-08-29 2009-07-30 Mitsubishi Denki K.K. Laserbearbeitungsvorrichtung
JP2002172479A (ja) * 2000-09-20 2002-06-18 Seiko Epson Corp レーザ割断方法、レーザ割断装置、液晶装置の製造方法並びに液晶装置の製造装置
US6576870B2 (en) * 2000-11-13 2003-06-10 Hannstar Display Corp. Apparatus with double laser beams for cutting two bonded glass substrates and method thereof
US8497450B2 (en) * 2001-02-16 2013-07-30 Electro Scientific Industries, Inc. On-the fly laser beam path dithering for enhancing throughput
US7245412B2 (en) 2001-02-16 2007-07-17 Electro Scientific Industries, Inc. On-the-fly laser beam path error correction for specimen target location processing
JP3855684B2 (ja) * 2001-06-05 2006-12-13 松下電器産業株式会社 レーザ加工装置およびレーザ加工方法
US6642477B1 (en) 2001-10-23 2003-11-04 Imra America, Inc. Method for laser drilling a counter-tapered through-hole in a material
JP4031239B2 (ja) * 2001-12-19 2008-01-09 日立ビアメカニクス株式会社 加工装置
US6821472B2 (en) * 2002-04-10 2004-11-23 Siemens Dematic Electronics Assembly Systems, Inc. Method of laser machining materials with minimal thermal loading
DE10262053A1 (de) * 2002-09-05 2004-08-12 Daimlerchrysler Ag Verfahren zur Laserbearbeitung beschichteter Bleche
US6947454B2 (en) * 2003-06-30 2005-09-20 Electro Scientific Industries, Inc. Laser pulse picking employing controlled AOM loading
US7139294B2 (en) * 2004-05-14 2006-11-21 Electro Scientific Industries, Inc. Multi-output harmonic laser and methods employing same
KR100598878B1 (ko) 2004-06-21 2006-07-10 현대자동차주식회사 레이저빔 스포트를 이용한 용접장치
US20060114948A1 (en) * 2004-11-29 2006-06-01 Lo Ho W Workpiece processing system using a common imaged optical assembly to shape the spatial distributions of light energy of multiple laser beams
US7723703B2 (en) 2005-02-28 2010-05-25 Technical Co., Ltd. Multidirectional electromagnetic wave irradiation system of workpiece and laser material processing system employing it
GB2439962B (en) * 2006-06-14 2008-09-24 Exitech Ltd Process and apparatus for laser scribing
KR100746209B1 (ko) 2006-07-18 2007-08-03 주식회사 한광옵토 레이저 패터닝 장치
CN101253018B (zh) * 2006-09-28 2010-05-19 三菱电机株式会社 激光加工装置
KR100828392B1 (ko) 2006-10-09 2008-05-08 현대자동차주식회사 레이저 용접장치
EP1920864B1 (en) * 2006-11-13 2022-07-13 Volvo Car Corporation Method for laser brazing with twinspot
KR100809361B1 (ko) 2006-12-13 2008-03-07 주식회사 이오테크닉스 레이저 가공장치
US8258427B2 (en) * 2008-05-30 2012-09-04 Corning Incorporated Laser cutting of glass along a predetermined line
WO2010042858A1 (en) * 2008-10-10 2010-04-15 J.P. Sercel Associates Inc. Laser machining systems and methods with debris extraction
KR101135537B1 (ko) * 2010-07-16 2012-04-13 삼성모바일디스플레이주식회사 레이저 조사 장치
KR101300575B1 (ko) * 2011-09-30 2013-08-27 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 패키지 제조용 레이저 가공 장치 및 방법
DE102011116974A1 (de) * 2011-10-26 2013-05-02 Vollmer Werke Maschinenfabrik Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Führungsfase an einem Werkstück, insbesondere an einem schneidenden Werkzeug
US8921734B2 (en) * 2011-11-10 2014-12-30 Mitsubishi Electric Research Laboratories, Inc. Laser cutting machine
CN102489873B (zh) * 2011-11-16 2014-07-16 中国科学院上海光学精密机械研究所 在多孔玻璃内部制备三维微流通道的方法
JP5920662B2 (ja) * 2012-06-05 2016-05-18 三菱マテリアル株式会社 レーザ加工装置およびレーザ加工方法
JP5920661B2 (ja) * 2012-06-05 2016-05-18 三菱マテリアル株式会社 レーザ加工装置およびレーザ加工方法
CN103056518B (zh) * 2012-10-08 2015-01-28 华南师范大学 一种激光器异路传输激光的控制***及方法
KR101416411B1 (ko) * 2012-12-28 2014-08-08 현대자동차 주식회사 레이저 용접기
EP2778784B8 (en) * 2013-03-11 2022-02-23 Esko-Graphics Imaging GmbH Apparatus and method for multi-beam direct engraving of elastomeric printing plates and sleeves
CN103192149B (zh) * 2013-04-07 2015-10-28 常州大学 X80管线钢激光钎焊的焊接方法
JP2015196163A (ja) * 2014-03-31 2015-11-09 三菱重工業株式会社 加工装置及び加工方法
KR101582161B1 (ko) * 2014-12-17 2016-01-05 에이피시스템 주식회사 레이저를 이용한 3차원 패터닝 방법
US10509390B2 (en) 2015-02-12 2019-12-17 Glowforge Inc. Safety and reliability guarantees for laser fabrication
CN107438494B (zh) 2015-02-12 2023-09-19 格罗弗治公司 用于激光加工的视觉预览
JP6374336B2 (ja) * 2015-03-20 2018-08-15 ビアメカニクス株式会社 レーザ加工装置及びレーザ加工方法
JP2017159317A (ja) * 2016-03-09 2017-09-14 住友重機械工業株式会社 レーザ加工装置
JP6721439B2 (ja) * 2016-07-11 2020-07-15 株式会社ディスコ レーザー加工装置
WO2018098398A1 (en) * 2016-11-25 2018-05-31 Glowforge Inc. Preset optical components in a computer numerically controlled machine
WO2018098393A1 (en) 2016-11-25 2018-05-31 Glowforge Inc. Housing for computer-numerically-controlled machine
WO2018098397A1 (en) 2016-11-25 2018-05-31 Glowforge Inc. Calibration of computer-numerically-controlled machine
WO2018098399A1 (en) 2016-11-25 2018-05-31 Glowforge Inc. Controlled deceleration of moveable components in a computer numerically controlled machine
WO2018098396A1 (en) 2016-11-25 2018-05-31 Glowforge Inc. Multi-user computer-numerically-controlled machine
CN108115273A (zh) * 2016-11-28 2018-06-05 深圳中科光子科技有限公司 一种用于对工件进行多面加工的激光加工装置及方法
JP6682148B2 (ja) * 2016-12-13 2020-04-15 住友重機械工業株式会社 レーザパルス切出装置及び切出方法
CN106670645B (zh) * 2017-02-17 2018-09-11 京东方科技集团股份有限公司 一种激光加工装置及激光加工方法
CN111201099B (zh) * 2017-10-09 2022-07-01 Slm方案集团股份公司 制造三维工件的设备和方法
CN107835571A (zh) * 2017-10-31 2018-03-23 安徽深泽电子股份有限公司 一种电路板生产辅助工装
CN109719387B (zh) * 2017-10-31 2021-03-09 上海微电子装备(集团)股份有限公司 激光加工装置和方法、激光封装方法、激光退火方法
JP6793806B1 (ja) * 2019-12-04 2020-12-02 株式会社ソディック 積層造形装置
US11740608B2 (en) 2020-12-24 2023-08-29 Glowforge, Inc Computer numerically controlled fabrication using projected information
US11698622B2 (en) 2021-03-09 2023-07-11 Glowforge Inc. Previews for computer numerically controlled fabrication

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3925785A (en) * 1974-08-09 1975-12-09 Bell Telephone Labor Inc Pattern generating apparatus
US4504727A (en) * 1982-12-30 1985-03-12 International Business Machines Corporation Laser drilling system utilizing photoacoustic feedback
JPS60261686A (ja) * 1984-06-08 1985-12-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd レ−ザ−加工機
JPS60121089A (ja) * 1983-12-02 1985-06-28 Mitsubishi Electric Corp レ−ザビ−ムによる鋼板のつき合わせ溶接法
WO1992002331A1 (en) * 1990-07-31 1992-02-20 Materials And Intelligent Devices Reserch Co., Ltd. Yag laser working machine for precision working of thin film
TW207588B (ko) * 1990-09-19 1993-06-11 Hitachi Seisakusyo Kk
JPH058072A (ja) * 1991-07-04 1993-01-19 Nec Corp レーザ加工方法
JP2658809B2 (ja) * 1992-08-27 1997-09-30 三菱電機株式会社 レーザ加工装置
JP3257157B2 (ja) * 1993-07-16 2002-02-18 松下電器産業株式会社 Co2レーザ穴加工装置及び方法
JP3114533B2 (ja) * 1994-11-24 2000-12-04 住友重機械工業株式会社 レーザ穴あけ加工装置及びレーザ穴あけ加工方法
JPH08215875A (ja) * 1995-02-13 1996-08-27 Nikon Corp レーザ加工装置
US5786560A (en) * 1995-03-31 1998-07-28 Panasonic Technologies, Inc. 3-dimensional micromachining with femtosecond laser pulses
JPH10156570A (ja) * 1996-11-20 1998-06-16 Ibiden Co Ltd レーザ加工装置、多層プリント配線板の製造装置及び製造方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100347766B1 (ko) * 2000-02-17 2002-08-09 주식회사 이오테크닉스 레이저 빔 분할 장치
KR100665312B1 (ko) * 2006-07-12 2007-01-04 주식회사 쿠키혼 레이저 가공장치 및 레이저 금형 가공장치
KR101241119B1 (ko) * 2006-12-20 2013-03-11 박근노 레이저 커팅 장치
KR100817825B1 (ko) * 2007-05-02 2008-03-31 주식회사 이오테크닉스 레이저 가공장치
KR100904034B1 (ko) * 2007-06-25 2009-06-19 (주)하드램 레이저멀티커팅장치
KR102331715B1 (ko) * 2020-05-29 2021-11-29 한국생산기술연구원 단일 레이저빔 기반 다중 레이저빔 스캐닝 장치 및 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JPH10323785A (ja) 1998-12-08
KR100446056B1 (ko) 2004-10-14
TW359634B (en) 1999-06-01
CN1195591A (zh) 1998-10-14
JP3213882B2 (ja) 2001-10-02
CN1161203C (zh) 2004-08-11
CN1519075A (zh) 2004-08-11
CN1274450C (zh) 2006-09-13
US6087625A (en) 2000-07-11

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