KR19980033233A - 산 세척 법에 사용되는 산을 회수하는 동안에 생기는 매우 미세한 산화물 입자들을 제거하는 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 열 분해에 의해서 산 세척 법에 사용되는 산을 회수 동안에 생기는 매우 미세한 산화물 입자들을 제거하는 방법에 관한 것이다. 물방울은, 그것이 분리되기 전에 노즐들을 통해서 분무되는 것을 특징으로 한다. 본 발명은 또한 상기 방법을 실행하는 장치에 관한 것이고, 노즐(18)은 물방울을 분무하기 위하여 분적기(13)앞에 장착되어 있는 것을 특징으로 한다.

Description

산 세척 법에 사용되는 산을 회수하는 동안에 생기는 매우 미세한 산화물 입자들을 제거하는 방법
본 발명은, 열 분해에 의해서 산 세척 법에 사용되는 산을 회수하는 동안에 생기는 매우 미세한 산화물 입자들을 제거하는 방법에 관한 것이다.
열 분해에 의해서, 예를 들면, 분무-가열(spray-roasting) 또는 유동화 베드(fluidized bed), 산 세척 법에 사용되는 산 및 관련 산화 산출물을 회수하는데 있어서, 매우 미세한 산화물 입자들은 항상 배출 공기 중에 먼지의 형태로서 배출된다. 회수 장치로부터의 배출 공기 내에 있는 먼지 배출 물의 평균치는 현재로서는 당국에서 허용하는 기준치보다 더 많다.
본 발명에 따르면, 이는, 물방울이 분리되기 전에 물방울이 노즐을 통해서 분무됨으로서 가능하다. 노즐을 통해서 물을 분무함으로서, 먼지 입자들은 붙잡힌 다음, 종래의 장치에 포함되어 있는 분적기(分滴器)내에 있는 물방울과 함께 제거된다.
본 발명의 바람직한 형태는, 0.01mm보다 적은 물방울을 특징으로 한다. 따라서, 불과 수 마이크로미터를 나타내는 먼지 입자들이 쉽게 제거될 수 있다.
또한, 본 발명의 적절한 전개는, 0.5초보다 더 길고, 바람직하게는 1초보다 더 긴 배출 공기 내의 물방울 유지 시간을 특징으로 한다. 이 같은 유지 시간으로, 가장 적은 먼지 입자들조차도 만족스럽게 제거될 수 있다.
더욱, 본 발명은, 산 세척 법에 사용되는 산을 회수하는 동안 생기는 매우 미세한 입자들을 제거하는 장치에 관한 것이고, 노즐이 물방울을 분무하기 위하여 분적기 앞에 장착되어 있는 것을 특징으로 한다. 또한, 이 같은 노즐은 투 콤포넌트(two component) 노즐일 수 있다. 물이 분무될 때, 미세한 먼지 입자들은 붙잡힐 수 있고, 투 콤포넌트 노즐이 사용되는 경우, 작은 물방울은 차례로 더 적은 먼지 입자들을 제거할 수 있도록 형성될 수 있다.
또한, 본 발명의 바람직한 전개는, 벤튜리 와셔, 충전 기둥 또는 알칼리성 충전 와셔인, 분적기를 특징으로 한다. 그곳에서 먼지 입자들로 충만 되어 있는 물방울들은, 이 같은 타입의 분적기로 매우 효율적으로 제거될 수 있다.
따라서, 본 발명의 목적은, 당국에서 허용하는 기준치보다 더 아래의 기준치가 될 수 있도록, 동일한 산화물 특성을 유지하면서, 배출 공기 내에 있는 먼지 배출 물을 줄이기 위한 것이다.
도 1은 종래의 기술에 의한 회수 장치를 도시하고 있다.
도 2는 본 발명에 의한 회수 장치를 도시하고 있다.
도 3은 도 2 장치의 주요부를 도시하고 있다.
이하, 예시된 도면들을 참조하여 본 발명을 상세히 살펴보자.
도 1은 종래의 기술에 의한 염화 수소(HCl) 회수 장치를 도시하고 있다. 폐기된 산 세척 액은 (1)에 있는 회수 장치로 유입되어 탱크(2)로 공급된다. 탱크(2)내에 있는 대부분의 산은 파이프(3) 및 노즐을 통해 열 분해 반응기(4)로, 여기에서 분무 가열 반응 기로 도시되어 있는, 공급되고, 그곳에서 가스(5) 및 공기(6)는 산을 태워서 산화시키기 위하여 첨가된다. 산화물 입자들은 회전 날개 공급기(6)에 의해 배출되어 공기(5')에 의해 저장 탱크(7)로 향한다. 열 분해 반응기(4)내에 모이는 배출 공기는 미세한 물질들을 제거하기 위하여 집진 장치(8)를 통해서 벤튜리 와셔(9)로 공급된다. 그곳으로부터, 가스 및 액체의 혼합물은 그 다음 반응을 위하여 기둥(10)으로 공급된 다음 분리된다. 회수된 액체는 기둥(10)으로부터 제거되고, 가스는, 충전 기둥으로 설계되어 있는, 분적기(13)에 도달하기 전에, 파이프(11) 및 열 교환기(12)를 통해서 흐른다. 상기 액체는 물방울에 의한 응결을 향상시키기 위하여 파이프(14)를 통해서 퍼 올려 진다. 더욱, 담수(15)는 노즐을 통해서 부가된다. 약간의 먼지 입자들로 차 있는 배출 공기는 (16)에서 대기 중으로 방출된다.
산화물 먼지들은 열 분해 반응기(4)내에서 발생한다. 배출 공기는 매우 미세한 먼지 입자들을 싣고 있고, 입자들의 일부는 겨우 수 마이크로미터를 나타낸다. 입자들은 매우 미세하기 때문에, 벤튜리 와셔(9)내에서 만족스럽게 제거될 수 있고, 또한 그 다음의 기둥(10,13)내에서 제거될 수 없어서, 많은 양의 먼지 입자들은 배출 공기(16)에 남아 있다.
도 2는 본 발명에 의한 장치를 도시하고 있다. 배출 가스 내에 있는 매우 미세한 많은 양의 먼지 입자들을 줄이기 위하여, 담수(17)는 노즐(18)을 통해 기둥(10) 다음의 파이프(11)내로 공급된다. 만약 투 콤포넌트 노즐(18)이 여기에 사용된다면, 약 0.01mm의 직경을 나타내는 물방울들을 얻을 수 있다. 만약, 연무 상태의 입자들이, 0.01mm를 나타내는 액체 물방울에 먼지 입자들을 부착함으로서 0.01mm 보다 더 커진다면, 이같은 입자들은 분적기내에서 분리될 수 있다. 입자들을 분리하기 위해 필요로 하는 0.5 내지 1 초의 유지 시간은 파이프(11)내에서의, 일반적으로는 10m에 달하는, 약 10m/sec의 파이프 흐름 속도에서 손쉽게 얻을 수 있다.
도 3은, 담수 공급기(17) 및 압축 공기가 파이프(19)를 통해서 역시 공급되는 투 콤포넌트 노즐(18)뿐만 아니라 기둥(10), 파이프(11), 분적기(13)를 포함하고 있는 도 2의 주요부를 도시하고 있다.
예들:
변화되는 주 매개 변수가 과잉 공기 량인, 여러 비교 시험들이 하나의 장치에서 행해진다. 약 9㎥/h의 산 세척 액체가 벤튜리 와셔(9)로 공급되고, 약 6㎥/h의 산 세척 농축 액이 분무 가열 반응기(4)로 흐르는 경우, 아래의 평균치들은, 과잉 공기 량에 따라서, 약 25,000N㎥/h의 배출 공기로 얻어진다.
시험 번호 과잉 공기량 λ 물 분무가 없는 mg/N㎥의 먼지 물 분무가 있는 mg/N㎥의 먼지
1 1.45 72.5
2 1.45 41.2
3 1.65 35.8
4 1.65 21.8
5 1.60 47.3
6 1.60 27.5
이 같은 시험들에서, 약 300 l/h 물은 노즐(18)을 통해서 분무된다.
이 같은 물 분무는 배출 공기 내에 있는 먼지의 기준치를 약 40% 감소시킬 수 있다. 모든 경우에서, 기준치는 당국의 지침에 의해 설정된 50mg/N㎥의 기준치 아래이다.
더욱, 먼지 방출 양을 줄이기 위하여, 산화물 저장 탱크(7)로부터 안내되는 파이프(20)는, 필요시 파이프(11)의 제 1 단면(21)내로 결합될 수 있어서, 물을 분무함으로서 배출 증기로부터 먼지의 기준치를 줄일 수 있다.

Claims (6)

  1. 열 분해에 의해서 산 세척 법에 사용되는 산을 회수하는 동안에 생기는 매우 미세한 산화물 입자들을 제거하는 방법에 있어서,
    물방울은, 그것이 분리되기 전에, 노즐을 통해 분무되는 것을 특징으로 하는 열 분해에 의해서 산 세척 법에 사용되는 산을 회수하는 동안에 생기는 매우 미세한 산화물 입자들을 제거하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 물방울은
    0.01mm 보다 더 적은 것을 특징으로 하는 열 분해에 의해서 산 세척 법에 사용되는 산을 회수하는 동안에 생기는 매우 미세한 산화물 입자들을 제거하는 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    배출 공기 내에 있는 물방울의 유지 시간은
    0.5초 보다 길고, 바람직하게는 1초 보다 긴 것을 특징으로 하는 열 분해에 의해서 산 세척 법에 사용되는 산을 회수하는 동안에 생기는 매우 미세한 산화물 입자들을 제거하는 방법.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 항을 따르는 방법을 실행하기 위하여, 산 세척 법에 사용되는 산을 회수하는 동안에 생기는 매우 미세한 산화물 입자들을 제거하는 장치에 있어서,
    노즐(18)은 물방울을 분무하기 위하여 분적기(13) 앞에 장착되는 것을 특징으로 산 세척 법에 사용되는 산을 회수하는 동안에 생기는 매우 미세한 산화물 입자들을 제거하는 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 노즐(18)은
    투 콤포넌트 노즐인 것을 특징으로 산 세척 법에 사용되는 산을 회수하는 동안에 생기는 매우 미세한 산화물 입자들을 제거하는 장치.
  6. 제 4 항 또는 제 5 항 중 어느 항에 있어서,
    상기 분적기(13)는
    벤튜리 와셔, 충전 기둥 또는 알칼리성 충전 와셔인 것을 특징으로 하는 산 세척 법에 사용되는 산을 회수하는 동안에 생기는 매우 미세한 산화물 입자들을 제거하는 장치.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT409373B (de) * 1997-08-06 2002-07-25 Andritz Ag Maschf Verfahren und vorrichtung zur gewinnung bzw. rückgewinnung von säuren aus lösungen
AT404678B (de) * 1997-08-08 1999-01-25 Andritz Patentverwaltung Absorptionskolonne
AT411900B (de) * 2001-04-25 2004-07-26 Andritz Ag Maschf Verfahren und vorrichtung zur gewinnung von metalloxiden
DE10133991B4 (de) * 2001-07-12 2012-08-02 Doosan Lentjes Gmbh Vorrichtung zur Reinigung von Verbrennungsabgasen
AT501627B1 (de) * 2005-04-06 2007-03-15 Wolfgang Dipl Ing Dr Kladnig Gewinnung von reinem eisenoxid mit spezifisch grosser oberfläche aus chloridischen lösungen mittels der sprührösttechnologie
CN113042481A (zh) * 2021-03-03 2021-06-29 广西柳州钢铁集团有限公司 盐酸再生***在线清洗吸收塔规整填料的方法

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3310435A (en) * 1963-11-18 1967-03-21 Dravo Corp Process for continuous pickling of steel strip and regeneration of the contact acid
US3445284A (en) * 1963-11-18 1969-05-20 Dravo Corp Process for pickling of steel strip and regeneration of the contact acid
NL132526C (ko) * 1965-04-17
NL134070C (ko) * 1966-03-28 1900-01-01
DE1667195C3 (de) * 1968-01-31 1979-09-27 Metallgesellschaft Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von Halogenwasserstoffsäuren und von Metalloxiden
US3502432A (en) * 1968-09-09 1970-03-24 Ross Eng Co Inc Reclamation of spent hydrochloric acid
US3607482A (en) * 1969-08-11 1971-09-21 Wilson & Co Process of regeneration of metal treating solutions
US3745207A (en) * 1971-01-25 1973-07-10 Environmental Technology Process for the recovery of waste pickle liquor
US3894851A (en) * 1972-02-07 1975-07-15 Midwest Research Inst Removal of particulate matter with supersonic droplets
US4049788A (en) * 1972-12-14 1977-09-20 Metallgesellschaft Aktiengesellschaft Thermal transformation of metal chlorides to oxides in a fluidized bed
AU512846B2 (en) * 1976-07-02 1980-10-30 Toledo Pickling and Steel Service, Inc System for the regeneration of waste hydrochloric acid pickle liquor
FI58519C (fi) * 1978-12-07 1981-02-10 Rosenlew Ab Oy W Foerfarande foer regenerering av betningssyror
FI67030B (fi) * 1981-06-26 1984-09-28 Outokumpu Oy Foerfarande och anordning foer rening av gaser innehaollandefasta och gasformiga foeroreningar
NL8402751A (nl) * 1984-09-10 1986-04-01 Philips Nv Inrichting voor het opwerken van beits- en etsvloeistoffen.
US5087432A (en) * 1990-05-24 1992-02-11 Hansen Engineering, Inc. Method for the separation of acid from acid-laden vapors
US5076884A (en) * 1990-07-19 1991-12-31 Westinghouse Electric Corp. Process of precipitating zirconium or hafnium from spent pickling solutions
FI87541C (fi) * 1991-04-19 1993-01-25 Outokumpu Research Oy Flergastvaettare
SE470478B (sv) * 1992-10-01 1994-05-24 Flaekt Ab Sätt och anordning för rening av en gas
AT399516B (de) * 1993-07-21 1995-05-26 Andritz Patentverwaltung Verfahren zur regeneration von salzsäure aus beizanlagen
US5370720A (en) * 1993-07-23 1994-12-06 Welhelm Environmental Technologies, Inc. Flue gas conditioning system
DE4402028C2 (de) * 1994-01-25 1996-11-28 Gewerk Keramchemie Verfahren zur Regenerierung einer verbrauchten, Flußsäure enthaltenden Prozeßlösung
DE4405010C2 (de) * 1994-02-17 1997-07-17 Hoelter Abt Gmbh Verfahren zur Reinigung eines Verbrennungsabgases
DE4417104A1 (de) * 1994-05-16 1995-11-30 Starck H C Gmbh Co Kg Verfahren zur Herstellung von Fluorwasserstoff und/oder Metalloxiden sowie entsprechend erhaltenes Nioboxid und Tantaloxid
AT404031B (de) * 1994-10-14 1998-07-27 Andritz Patentverwaltung Verfahren zur regeneration von hcl-beizsäuren mit beimengungen von zink in einem sprühröstprozess
DE19614712A1 (de) * 1996-04-13 1997-10-16 Koenig Ag Vorrichtung zur Reinigung schadstoffbelasteter Abluft

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Publication number Publication date
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CN1188818A (zh) 1998-07-29
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EP0839567B1 (de) 2004-03-17
DE59711411D1 (de) 2004-04-22
KR100477962B1 (ko) 2005-07-05
US5939041A (en) 1999-08-17
CN1087179C (zh) 2002-07-10
AT403665B (de) 1998-04-27
TW460624B (en) 2001-10-21
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