KR102621170B1 - Cover substrate and display device comprising the same - Google Patents

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Abstract

실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재는, 일면 및 상기 일면과 반대되는 타면을 포함하는 연성 기재; 상기 일면 상에 배치되는 표면 강화층; 및 상기 표면 강화층 상에 배치되는 기능층을 포함하고, 상기 기능층은 상기 굴절률이 상이한 복수의 층을 포함하고, 상기 기능층은 388㎚ 내지 700㎚의 광 파장 대역에서, 광 투과율이 평균 90% 이상이고, 상기 기능층은 250㎚ 내지 388㎚의 광 파장 대역에서, 평균 광 투과율이 90% 미만이고, 최소 광 투과율이 60% 이하이다.A cover substrate for a display according to an embodiment includes a flexible substrate including one side and another side opposite to the one side; a surface reinforcement layer disposed on the one surface; and a functional layer disposed on the surface reinforcement layer, wherein the functional layer includes a plurality of layers having different refractive indices, and wherein the functional layer has an average light transmittance of 90 in the light wavelength band of 388 nm to 700 nm. % or more, and the functional layer has an average light transmittance of less than 90% and a minimum light transmittance of 60% or less in the light wavelength band of 250 nm to 388 nm.

Description

디스플레이용 커버 기재 및 이를 포함하는 디스플레이 장치{COVER SUBSTRATE AND DISPLAY DEVICE COMPRISING THE SAME}Cover substrate for display and display device including same {COVER SUBSTRATE AND DISPLAY DEVICE COMPRISING THE SAME}

실시예는 디스플레이용 커버 기재 및 이를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다.The embodiment relates to a cover substrate for a display and a display device including the same.

최근 다양한 전자 제품에서 휘어지는 디스플레이 장치가 적용되고 있다. 예를 들어, 적어도 일 방향으로 휘어지거나, 접거나 구부릴 수 있는(folding) 디스플레이 장치에 대한 관심이 증가되고 있다.Recently, flexible display devices have been used in various electronic products. For example, interest in display devices that can bend, fold, or bend in at least one direction is increasing.

예를 들어, 이러한 플렉서블 디스플레이 장치는 화면을 반으로 접는 경우, 스마트폰으로 활용할 수 있고, 화면을 펼치게 되면 태블릿으로 사용할 수 있는 IT 기기, 종이책처럼 좌우를 펼칠 수 있는 전자책 등에 적용될 수 있다.For example, these flexible display devices can be used as smartphones when the screen is folded in half, IT devices that can be used as tablets when the screen is unfolded, and e-books that can be opened left and right like a paper book.

이러한 플렉서블 디스플레이 장치는 접거나 벤딩할 수 있기 때문에, 플렉서블한 특징과 함께 경도를 적절하게 제어해야 하는 문제점이 있다.Since these flexible display devices can be folded or bent, there is a problem in that hardness must be appropriately controlled along with flexible characteristics.

특히, 플렉서블 디스플레이 장치의 경우 벤딩을 위해 두께를 감소시키는 것이 중요할 수 있다.In particular, in the case of flexible display devices, it may be important to reduce the thickness for bending.

이러한 플렉서블 디스플레이 장치의 두께를 감소시키기 위해 유기전계발광 표시패널을 이용할 수 있으나, 이러한 유기전계발광 표시패널의 경우, 외부로부터 유입되는 자외선(UV) 광에 취약한 문제점이 있다.Organic electroluminescent display panels can be used to reduce the thickness of such flexible display devices, but these organic electroluminescent display panels have the problem of being vulnerable to ultraviolet (UV) light flowing in from the outside.

따라서, 상기와 같은 문제점을 해결할 수 있는 새로운 구조의 커버 기재 및 이를 포함하는 디스플레이 장치가 요구된다.Accordingly, there is a need for a cover material with a new structure that can solve the above problems and a display device including the same.

실시예는 향상된 신뢰성을 가지는 디스플레이용 커버 기재 및 이를 포함하는 디스플레이 장치를 제공하고자 한다.Embodiments seek to provide a display cover material with improved reliability and a display device including the same.

실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재는, 일면 및 상기 일면과 반대되는 타면을 포함하는 연성 기재; 상기 일면 상에 배치되는 표면 강화층; 및 상기 표면 강화층 상에 배치되는 기능층을 포함하고, 상기 기능층은 상기 굴절률이 상이한 복수의 층을 포함하고, 상기 기능층은 388㎚ 내지 700㎚의 광 파장 대역에서, 광 투과율이 평균 90% 이상이고, 상기 기능층은 250㎚ 내지 388㎚의 광 파장 대역에서, 평균 광 투과율이 90% 미만이고, 최소 광 투과율이 60% 이하이다.A cover substrate for a display according to an embodiment includes a flexible substrate including one side and another side opposite to the one side; a surface reinforcement layer disposed on the one surface; and a functional layer disposed on the surface reinforcement layer, wherein the functional layer includes a plurality of layers having different refractive indices, and wherein the functional layer has an average light transmittance of 90 in the light wavelength band of 388 nm to 700 nm. % or more, and the functional layer has an average light transmittance of less than 90% and a minimum light transmittance of 60% or less in the light wavelength band of 250 nm to 388 nm.

실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재는 향상된 강도 및 신뢰성을 가질 수 있다.A cover substrate for a display according to an embodiment may have improved strength and reliability.

자세하게, 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재는 연성 기재의 일면 및 타면 중 적어도 하나의 면 상에 표면 강화층을 배치하여, 디스플레이용 커버 기재의 경도를 향상시켜 향상된 강도를 가질 수 있다.In detail, the cover substrate for a display according to an embodiment may have improved strength by improving the hardness of the cover substrate for a display by disposing a surface reinforcement layer on at least one of one side and the other side of the flexible substrate.

또한, 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재는 표면 강화층 상에 다층의 기능층을 배치하여, 외부에서 입사되는 광 중 특정 파장 영역대에서의 광의 투과율을 감소시킬 수 있다.In addition, the cover substrate for a display according to an embodiment can reduce the transmittance of light in a specific wavelength range among light incident from the outside by disposing a multi-layered functional layer on the surface reinforcement layer.

자세하게, 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재는 약 388㎚ 이하의 광 자세하게, UV 광의 투과율을 감소시킬 수 있다.In detail, the cover material for a display according to an embodiment can reduce the transmittance of UV light, especially light of about 388 nm or less.

이에 따라, 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재를 디스플레이용 장치에 적용할 때 디스플레이용 커버 기재의 하부에 배치되는 표시 패널의 내부로 UV 광이 입사되는 것을 감소시킬 수 있다.Accordingly, when applying the display cover material according to the embodiment to a display device, it is possible to reduce UV light entering the interior of the display panel disposed below the display cover material.

이에 따라, 표시 패널의 내부에 배치되는 자발광소자가 상기 자외선에 의해 손상 또는 변형되는 것을 방지할 수 있어, 디스플레이 장치의 신뢰성 및 수명을 향상시킬 수 있다.Accordingly, self-luminous elements disposed inside the display panel can be prevented from being damaged or deformed by ultraviolet rays, thereby improving the reliability and lifespan of the display device.

도 1은 제 1 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재의 단면도를 도시한 도면이다.
도 2는 도 1은 제 1 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재의 다른 단면도를 도시한 도면이다.
도 3은 제 2, 3 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재의 단면도를 도시한 도면이다.
도 4는 제 2, 3 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재의 다른 단면도를 도시한 도면이다.
도 5 내지 도 8은 제 1 실시예 및 비교예에 따른 디스플레이용 커버 기재의 광 투과율을 설명하기 위한 그래프이다.
도 9 내지 도 12는 제 2 실시예 및 비교예에 따른 디스플레이용 커버 기재의 광 투과율을 설명하기 위한 그래프이다.
도 13 내지 도 15는 제 3 실시예 및 비교예에 따른 디스플레이용 커버 기재의 광 투과율을 설명하기 위한 그래프이다.
도 16은 제 1 실시예에 따른 커버 윈도우가 적용되는 디스플레이 장치의 단면도를 도시한 도면이다.
도 17은 제 2, 3 실시예에 따른 커버 윈도우가 적용되는 디스플레이 장치의 단면도를 도시한 도면이다.
도 18 및 도 19는 실시예들에 따른 터치 디바이스가 적용되는 터치 디바이스 장치의 일례를 도시한 도면들이다.FIG. 1 is a cross-sectional view of a cover substrate for a display according to a first embodiment.
Figure 2 is a diagram showing another cross-sectional view of the cover base material for a display according to the first embodiment of Figure 1.
Figure 3 is a cross-sectional view of a cover substrate for a display according to the second and third embodiments.
Figure 4 is a diagram showing another cross-sectional view of the cover substrate for a display according to the second and third embodiments.
5 to 8 are graphs for explaining the light transmittance of the cover substrate for a display according to the first example and comparative example.
9 to 12 are graphs for explaining the light transmittance of the cover substrate for a display according to the second embodiment and comparative example.
13 to 15 are graphs for explaining the light transmittance of the cover substrate for a display according to the third example and comparative example.
Figure 16 is a cross-sectional view of a display device to which a cover window according to the first embodiment is applied.
Figure 17 is a cross-sectional view of a display device to which cover windows according to the second and third embodiments are applied.
FIGS. 18 and 19 are diagrams illustrating an example of a touch device to which a touch device according to embodiments is applied.

실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.In the description of the embodiments, each layer (film), region, pattern or structure is “on” or “under” the substrate, each layer (film), region, pad or pattern. The description of being formed in “includes being formed directly or through another layer.” The standards for top/top or bottom/bottom of each floor are explained based on the drawing.

또한, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다. Additionally, when a part is said to be "connected" to another part, this includes not only cases where it is "directly connected," but also cases where it is "indirectly connected" with another member in between. Additionally, when a part "includes" a certain component, this means that it does not exclude other components, but may further include other components, unless specifically stated to the contrary.

도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다.The thickness or size of each layer (film), region, pattern, or structure in the drawings may be modified for clarity and convenience of explanation, and therefore does not entirely reflect the actual size.

이하. 도면들을 참조하여, 실시예들에 따른 디스플레이용 커버 기재를 설명한다.below. With reference to the drawings, a cover substrate for a display according to embodiments will be described.

도 1 및 도 2를 참조하면, 제 1 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재(1000)는 연성 기재(100), 표면 강화층(200) 및 기능층(300)을 포함할 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 2 , the cover substrate 1000 for a display according to the first embodiment may include a flexible substrate 100, a surface reinforcement layer 200, and a functional layer 300.

상기 연성 기재(100)는 투명한 물질을 포함할 수 있다. 상기 연성 기재(100)는 플렉서블한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 연성 기재(100)는 투명한 플라스틱 물질을 포함할 수 있다.The flexible substrate 100 may include a transparent material. The flexible substrate 100 may include a flexible material. For example, the flexible substrate 100 may include a transparent plastic material.

예를 들어, 상기 연성 기재(100)는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리이미드(PI), 폴리카보네이트(PC), 폴리스티렌(PS), 폴리에테르술폰(PES) 및 실리콘 수지 중 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.For example, the flexible substrate 100 may be made of polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyimide (PI), polycarbonate (PC), polystyrene (PS), polyethersulfone (PES), and silicone. It may contain at least one substance among resins.

상기 연성 기재(100)의 두께(T1)는 약 150㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 연성 기재(100)의 두께(T1)는 약 20㎛ 내지 약 150㎛일 수 있다. 더 자세하게, 상기 연성 기재(100)의 두께(T1)는 약 30㎛ 내지 약 50㎛일 수 있다. The thickness T1 of the flexible substrate 100 may be about 150 μm or less. In detail, the thickness T1 of the flexible substrate 100 may be about 20 μm to about 150 μm. In more detail, the thickness T1 of the flexible substrate 100 may be about 30 μm to about 50 μm.

상기 연성 기재(100)의 두께(T1)가 약 20㎛ 미만인 경우 커버 윈도우의 전체적인 강도가 저하되어 상기 커버 윈도우가 적용되는 디스플레이 장치의 신뢰성이 저하될 수 있다.If the thickness T1 of the flexible substrate 100 is less than about 20㎛, the overall strength of the cover window may decrease and the reliability of the display device to which the cover window is applied may decrease.

또한, 상기 연성 기재(100)의 두께(T1)가 약 150㎛을 초과하는 경우, 상기 연성 기재(100)의 두께에 의해 상기 커버 윈도우가 적용되는 디스플레이 장치를 일 방향으로 구부릴 때 연성 기재에 크랙이 발생될 수 있어, 디스플레이 장치의 신뢰성이 저하될 수 있다.In addition, when the thickness T1 of the flexible substrate 100 exceeds about 150㎛, cracks may occur in the flexible substrate when the display device to which the cover window is applied is bent in one direction due to the thickness of the flexible substrate 100. This may occur, and the reliability of the display device may deteriorate.

상기 연성 기재(100)는 일면 및 타면을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 연성 기재(100)는 서로 반대되는 상기 일면 및 타면을 포함할 수 있다.The flexible substrate 100 may include one side and the other side. For example, the flexible substrate 100 may include one side and the other side that are opposite to each other.

도 1을 참조하면, 상기 표면 강화층(200)은 상기 연성 기재(100) 상에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 표면 강화층(200)은 상기 연성 기재(100)의 일면 상에 배치될 수 있다.Referring to FIG. 1, the surface reinforcement layer 200 may be disposed on the flexible substrate 100. In detail, the surface reinforcement layer 200 may be disposed on one surface of the flexible substrate 100.

상기 표면 강화층(200)은 상기 연성 기재(100)의 일면과 직접 또는 간접적으로 접촉하며 배치될 수 있다.The surface reinforcement layer 200 may be disposed in direct or indirect contact with one surface of the flexible substrate 100.

또는, 도 2를 참조하면, 상기 표면 강화층(200)은 상기 연성 기재(100)의 일면 및 타면 상에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 표면 강화층(200)은 상기 연성 기재(100)의 일면 상에 배치되는 제 1 표면 강화층(210) 및 상기 연성 기재(100)의 타면 상에 배치되는 제 2 표면 강화층(220)을 포함할 수 있다.Alternatively, referring to FIG. 2, the surface reinforcement layer 200 may be disposed on one side and the other side of the flexible substrate 100. In detail, the surface reinforcement layer 200 includes a first surface reinforcement layer 210 disposed on one side of the flexible substrate 100 and a second surface reinforcement layer 220 disposed on the other side of the flexible substrate 100. ) may include.

상기 표면 강화층(200)은 수지 조성물을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 표면 강화층(200)은 각각 상기 연성 기재(100)의 일면 상에 상기 수지 조성물을 코팅함으로써 형성될 수 있다. 즉, 상기 표면 강화층(200)은 연성 기재의 일면 상에 코팅되는 하드코팅층으로 정의될 수 있다. The surface reinforcement layer 200 may include a resin composition. In detail, the surface reinforcement layer 200 may be formed by coating the resin composition on one surface of each of the flexible substrates 100. That is, the surface reinforcement layer 200 may be defined as a hard coating layer coated on one side of a flexible substrate.

상기 수지 조성물은 수지 물질, 광 개시제, 가교성 모노머 및 첨가제를 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 수지 물질, 광 개시제, 가교성 모노머 및 첨가제는 프로필렌 글리?A 모노메틸 에테르(Propylene Glycol Monomethyl Ether, PGME) 등의 용매에 혼합되어 수지 조성물을 형성할 수 있다.The resin composition may include a resin material, a photoinitiator, a crosslinkable monomer, and additives. In detail, the resin material, photoinitiator, crosslinking monomer, and additives may be mixed in a solvent such as propylene glycol monomethyl ether (PGME) to form a resin composition.

상기 수지 물질은 가교성 작용기를 가지는 광 경화성 수지 및 열 경화성 수지 중 적어도 하나의 수지 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 수지 물질은 아크릴계 수지 및 우레탄계 수지 중 적어도 하나의 수지 물질을 포함할 수 있다.The resin material may include at least one of a photo-curable resin and a thermo-curable resin having a crosslinkable functional group. For example, the resin material may include at least one of an acrylic resin and a urethane resin.

또한, 상기 광 개시제는 가교성 작용기를 경화시키는 광 개시제 물질을 포함할 수 있다.Additionally, the photoinitiator may include a photoinitiator material that cures the crosslinkable functional group.

또한, 상기 수지 조성물은 가교성 모노머를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 수지 조성물은 아크릴레이트기, 에폭시기 및 옥세탄기 중 적어도 하나의 작용기를 가지는 가교성 모노머를 더 포함할 수 있다. 상기 가교성 모노머에 의해 상기 강화층의 경도를 향상시킬 수 있다.Additionally, the resin composition may include a crosslinkable monomer. For example, the resin composition may further include a crosslinkable monomer having at least one functional group of an acrylate group, an epoxy group, and an oxetane group. The hardness of the reinforcement layer can be improved by the crosslinkable monomer.

또한, 상기 수지 조성물은 첨가제를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 수지 조성물은 실리카 입자(SiO2)를 더 포함할 수 있다. 상기 실리카 입자는 상기 수지 조성물에 분산되며 배치될 수 있다.Additionally, the resin composition may further include additives. For example, the resin composition may further include silica particles (SiO 2 ). The silica particles may be dispersed and disposed in the resin composition.

상기 실리카 입자에 의해 상기 표면 강화층의 경도를 향상시킬 수 있다.The hardness of the surface reinforcement layer can be improved by the silica particles.

상기 실리카 입자는 나노 단위의 입경을 가질 수 있다. 상기 실리카 입자는 약 20㎚ 이하의 입경을 가질 수 있다. 자세하게, 상기 실리카 입자는 약 1㎚ 내지 15㎚ 이하의 입경을 가질 수 있다. 더 자세하게, 상기 실리카 입자는 약 5㎚ 내지 10㎚ 이하의 입경을 가질 수 있다.The silica particles may have a nanoscale particle size. The silica particles may have a particle size of about 20 nm or less. In detail, the silica particles may have a particle size of about 1 nm to 15 nm or less. More specifically, the silica particles may have a particle size of about 5 nm to 10 nm or less.

상기 실리카 입자의 입경이 약 20㎚를 초과하는 경우, 실리카 입자의 분산성이 저하될 수 있다.If the particle size of the silica particles exceeds about 20 nm, the dispersibility of the silica particles may decrease.

상기 실리카 입자는 상기 수지 조성물 전체에 대해 약 10 중량% 내지 약 65 중량% 만큼 포함될 수 있다. 자세하게, 상기 실리카 입자는 상기 수지 조성물 전체에 대해 30 중량% 내지 약 65 중량% 만큼 포함될 수 있다. 상기 실리카 입자가 약 10 중량% 미만으로 포함되는 경우 상기 표면 강화층의 경도가 저하될 수 있다. 또한, 상기 실리카 입자가 약 65 중량%를 초과하여 포함되는 경우 경도는 향상될 수 있으나, 벤딩 특성이 저하되어 커버 기재를 구부릴 때, 표면 강화층에 크랙이 발생될 수 있다.The silica particles may be included in an amount of about 10% by weight to about 65% by weight based on the total weight of the resin composition. In detail, the silica particles may be included in an amount of 30% by weight to about 65% by weight based on the total weight of the resin composition. If the silica particles are included in less than about 10% by weight, the hardness of the surface reinforcement layer may decrease. In addition, when the silica particles are included in an amount exceeding about 65% by weight, hardness may be improved, but bending characteristics may decrease and cracks may occur in the surface reinforcement layer when the cover substrate is bent.

상기 표면 강화층(200)의 두께(T2)는 약 20㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 표면 강화층(200)의 두께(T2)는 약 5㎛ 내지 약 20㎛일 수 있다. 더 자세하게, 상기 표면 강화층(200)의 두께(T2)는 약 10㎛ 내지 약 15㎛일 수 있다.The thickness T2 of the surface reinforcement layer 200 may be about 20㎛ or less. In detail, the thickness T2 of the surface reinforcement layer 200 may be about 5㎛ to about 20㎛. In more detail, the thickness T2 of the surface reinforcement layer 200 may be about 10㎛ to about 15㎛.

상기 표면 강화층(200)의 두께(T2)가 약 5㎛ 미만인 경우, 상기 표면 강화층(200)이 외부 충격으로부터 상기 연성 기재를 효과적으로 보호할 수 없다. 또한, 상기 표면 강화층(200)의 두께(T2)가 약 15㎛을 초과하는 경우, 상기 표면 강화층(200)의 두께에 의해 상기 커버 기재가 적용되는 디스플레이 장치를 일 방향으로 구부릴 때 커버 기재에 크랙이 발생될 수 있어, 디스플레이 장치의 신뢰성이 저하될 수 있다.When the thickness T2 of the surface reinforcement layer 200 is less than about 5㎛, the surface reinforcement layer 200 cannot effectively protect the flexible substrate from external shock. In addition, when the thickness T2 of the surface reinforcement layer 200 exceeds about 15㎛, when the display device to which the cover substrate is applied is bent in one direction due to the thickness of the surface reinforcement layer 200, the cover substrate Cracks may occur in the display device, which may reduce the reliability of the display device.

또한, 상기 제 1 표면 강화층(210)의 두께(T2a) 및 상기 제 2 표면 강화층(220)의 두께(T2b)는 동일하거나 또는 유사할 수 있다.Additionally, the thickness T2a of the first surface enhancement layer 210 and the thickness T2b of the second surface enhancement layer 220 may be the same or similar.

예를 들어, 상기 제 1 표면 강화층(210)의 두께(T2a) 및 상기 제 2 표면 강화층(220)의 두께(T2b)는 약 5㎛ 내지 약 20㎛일 수 있고, 상기 제 1 표면 강화층(210)의 두께(T2a) 및 상기 제 2 표면 강화층(220)의 두께(T2b) 차이는 약 5㎛ 이하일 수 있다.For example, the thickness T2a of the first surface reinforcement layer 210 and the thickness T2b of the second surface reinforcement layer 220 may be about 5㎛ to about 20㎛, and the first surface reinforcement layer 210 may have a thickness T2a and a thickness T2b of the second surface reinforcement layer 220. The difference between the thickness T2a of the layer 210 and the thickness T2b of the second surface reinforcement layer 220 may be about 5 μm or less.

상기 표면 강화층(200)에 의해 상기 연성 기재(100)를 포함하는 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재의 상면에서의 경도는 약 7H 이상일 수 있다.The hardness of the upper surface of the display cover substrate according to the embodiment including the flexible substrate 100 by the surface reinforcement layer 200 may be about 7H or more.

이에 따라, 실시예에 따른 커버 기재 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 상기 표면 강화층에 의해 외부의 충격으로부터 보호될 수 있어, 커버 기재 및 이를 포함하는 디스플레이 장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.Accordingly, the cover material and the display device including the same according to the embodiment can be protected from external impacts by the surface reinforcement layer, thereby improving the reliability of the cover material and the display device including the same.

상기 기능층(300)은 상기 연성 기재(100) 상에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 기능층(300)은 상기 연성 기재(100)의 일면 상에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 기능층(300)은 상기 연성 기재(100)의 일면 상에서 상기 표면 강화층(200) 상에 배치될 수 있다.The functional layer 300 may be disposed on the flexible substrate 100. In detail, the functional layer 300 may be disposed on one surface of the flexible substrate 100. In detail, the functional layer 300 may be disposed on the surface reinforcement layer 200 on one side of the flexible substrate 100.

상기 기능층(300)은 상기 표면 강화층(200) 상에 배치되어, 외부에서 입사되는 광을 제어할 수 있다. 자세하게, 상기 기능층(300)은 외부에서 입사되는 광의 반사를 방지하여 투과율을 증가시킬 수 있다. 즉, 상기 기능층은 반사 방지층일 수 있다.The functional layer 300 is disposed on the surface reinforcement layer 200 to control light incident from the outside. In detail, the functional layer 300 can increase transmittance by preventing reflection of light incident from the outside. That is, the functional layer may be an anti-reflection layer.

또한, 상기 기능층(300)은 외부에서 입사되는 광 중 특정 파장 대역의 광의 투과율을 제어할 수 있다. 예를 들어, 상기 기능층(300)은 외부에서 입사되는 광 중 자외선(UV) 파장 대역의 광의 투과율을 감소시킬 수 있다. 즉, 상기 기능층은 자외선 차단층일 수 있다. Additionally, the functional layer 300 can control the transmittance of light in a specific wavelength band among light incident from the outside. For example, the functional layer 300 may reduce the transmittance of light in the ultraviolet (UV) wavelength band among light incident from the outside. That is, the functional layer may be an ultraviolet ray blocking layer.

즉, 상기 기능층(300)은 반사 방지-자외선 차단층일 수 있다.That is, the functional layer 300 may be an anti-reflection-ultraviolet blocking layer.

또한, 도면에는 도시되지 않았지만, 상기 기능층(300) 상에는 추가적인 기능층이 더 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 기능층(300) 상에는 지문 방지층이 더 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 기능층(300) 상에는 불소 화합물을 포함하는 지문 방지층이 더 배치될 수 있다. In addition, although not shown in the drawing, additional functional layers may be further disposed on the functional layer 300. In detail, an anti-fingerprint layer may be further disposed on the functional layer 300. In detail, an anti-fingerprint layer containing a fluorine compound may be further disposed on the functional layer 300.

상기 기능층(300)은 적어도 하나의 층을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 기능층(300)은 복수 개의 층을 포함할 수 있다. 즉, 상기 기능층(300)은 다층으로 형성될 수 있다.The functional layer 300 may include at least one layer. In detail, the functional layer 300 may include a plurality of layers. That is, the functional layer 300 may be formed in multiple layers.

도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 기능층(300)은 제 1 층(310) 및 제 2 층(320)을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 기능층(300)은 상기 표면 강화층(200) 상의 제 1 층(310) 및 상기 제 1 층(310) 상의 제 2 층(320)을 포함할 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 2 , the functional layer 300 may include a first layer 310 and a second layer 320 . In detail, the functional layer 300 may include a first layer 310 on the surface reinforcement layer 200 and a second layer 320 on the first layer 310.

상기 제 1 층(310) 및 상기 제 2 층(320)은 산화물을 포함할 수 있다. 상기 제 1 층(310) 및 상기 제 2 층(320)은 서로 다른 물질을 포함할 수 있다. 상기 제 1 층(310) 및 상기 제 2 층(320)은 서로 다른 산화물을 포함할 수 있다.The first layer 310 and the second layer 320 may include oxide. The first layer 310 and the second layer 320 may include different materials. The first layer 310 and the second layer 320 may include different oxides.

예를 들어, 상기 제 1 층(310)은 이산화티타늄(TiO2) 또는 이산화지르코늄(ZrO2)을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 2 층(320)은 이산화규소(SiO2)를 포함할 수 있다.For example, the first layer 310 may include titanium dioxide (TiO 2 ) or zirconium dioxide (ZrO 2 ). Additionally, the second layer 320 may include silicon dioxide (SiO 2 ).

상기 제 1 층(310) 및 상기 제 2 층(320)은 서로 다른 굴절률을 가질 수 있다. 자세하게, 상기 제 1층(310)의 굴절률은 상기 제 2 층(320)의 굴절률보다 클 수 있다.The first layer 310 and the second layer 320 may have different refractive indices. In detail, the refractive index of the first layer 310 may be greater than the refractive index of the second layer 320.

또한, 상기 제 1 층(310)의 굴절률은 상기 연성 기재(100)의 굴절률보다 클 수 있다. 또한, 상기 연성 기재(100)의 굴절률은 상기 제 2 층(320)의 굴절률보다 클 수 있다.Additionally, the refractive index of the first layer 310 may be greater than the refractive index of the flexible substrate 100. Additionally, the refractive index of the flexible substrate 100 may be greater than the refractive index of the second layer 320.

예를 들어, 상기 연성 기재(100)의 굴절률은 약 1.5 내지 1.6일 수 있다. 또한, 상기 제 1 층(310)의 굴절률은 약 2.0 이상일 수 있다. 또한, 상기 제 2 층(320)의 굴절률은 약 1.5 이하일 수 있다.For example, the refractive index of the flexible substrate 100 may be about 1.5 to 1.6. Additionally, the refractive index of the first layer 310 may be about 2.0 or more. Additionally, the refractive index of the second layer 320 may be about 1.5 or less.

상기 기능층(300)의 두께는 약 300㎚ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 기능층(300)의 두께는 약 50㎚ 내지 약 250㎚일 수 있다. 더 자세하게, 상기 기능층(300)의 두께는 약 70㎚ 내지 약 200㎚일 수 있다.The thickness of the functional layer 300 may be about 300 nm or less. In detail, the thickness of the functional layer 300 may be about 50 nm to about 250 nm. In more detail, the thickness of the functional layer 300 may be about 70 nm to about 200 nm.

상기 기능층(300)의 두께가 약 300㎚을 초과하는 경우, 상기 기능층(300)의 두께에 의해 상기 커버 기재가 적용되는 디스플레이 장치를 일 방향으로 구부릴 때 커버 기재에 크랙이 발생될 수 있어, 디스플레이 장치의 신뢰성이 저하될 수 있다.If the thickness of the functional layer 300 exceeds about 300 nm, cracks may occur in the cover material when the display device to which the cover material is applied is bent in one direction due to the thickness of the functional layer 300. , the reliability of the display device may decrease.

상기 제 1 층(310)과 상기 2 층(320)의 두께는 서로 다를 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 층(310)의 두께(T3a)는 상기 제 2 층(320)의 두께(T3b)보다 작을 수 있다. 즉, 상기 제 2 층(320)의 두께(T3b)의 두께는 상기 제 1 층(310)의 두께(T3a)보다 클 수 있다.The thickness of the first layer 310 and the second layer 320 may be different. In detail, the thickness T3a of the first layer 310 may be smaller than the thickness T3b of the second layer 320. That is, the thickness T3b of the second layer 320 may be greater than the thickness T3a of the first layer 310.

예를 들어, 상기 제 1 층(310)의 두께(T3a)는 약 1㎚ 내지 약 25㎚일 수 있다. 또한, 상기 제 2 층(320)의 두께(T3b)는 약 80㎚ 내지 약 120㎚일 수 있다. 상기 제 1 층(310)의 두께(T3a)와 상기 제 2 층(320)의 두께(T3b)의 크기비는 약 3.2 내지 120일 수 있다.For example, the thickness T3a of the first layer 310 may be about 1 nm to about 25 nm. Additionally, the thickness T3b of the second layer 320 may be about 80 nm to about 120 nm. The size ratio between the thickness T3a of the first layer 310 and the thickness T3b of the second layer 320 may be about 3.2 to 120.

상기 제 1 층(310)의 두께(T3a) 및 상기 제 2 층(320)의 두께(T3b)가 상기 범위 및 상기 크기 비를 벗어나는 경우, 388㎚ 이하의 광 파장 대역에서의 광 투과율이 증가될 수 있으며, 이에 따라, 커버 기재의 하부에 배치되는 표시 패널 등이 388㎚ 이하의 UV 광 등에 의해 손상되거나 변형되어 디스플레이 장치의 전체적인 신뢰성 및 수명이 저하될 수 있다.When the thickness T3a of the first layer 310 and the thickness T3b of the second layer 320 are outside the range and the size ratio, the light transmittance in the light wavelength band of 388 nm or less will increase. Accordingly, the display panel disposed below the cover material may be damaged or deformed by UV light of 388 nm or less, thereby reducing the overall reliability and lifespan of the display device.

또한, 388㎚ 이상의 광 파장 대역에서 광 투과율이 급격히 감소될 수 있다. 이에 따라, 디스플레이에서 방출되는 광이 충분히 투과되지 못해 디스플레이 장치에서 선명한 화질을 제공할 수 없는 문제점이 발생할 수 있다.Additionally, light transmittance may be rapidly reduced in the light wavelength band of 388 nm or more. Accordingly, a problem may arise in which the display device cannot provide clear image quality because the light emitted from the display is not sufficiently transmitted.

이하, 도 3 및 도 4를 참조하여, 제 2 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재를 설명한다. 제 2 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재에 대한 설명에서는 앞서 설명한 제 1 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재와 동일 또는 유사한 구성에 대해서는 설명을 생략하며 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여한다.Hereinafter, with reference to FIGS. 3 and 4, a cover substrate for a display according to a second embodiment will be described. In the description of the display cover base according to the second embodiment, the description of the same or similar components as the display cover base according to the first embodiment described above will be omitted, and the same reference numerals will be assigned to the same components.

도 3 및 도 4를 참조하면, 제 2 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재(2000)는 연성 기재(100), 표면 강화층(200) 및 기능층(300)을 포함할 수 있다.Referring to FIGS. 3 and 4 , the cover substrate 2000 for a display according to the second embodiment may include a flexible substrate 100, a surface reinforcement layer 200, and a functional layer 300.

제 2 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재(2000)는 제 1 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재와 다르게 상기 기능층(300)이 제 3 층(330) 및 제 4 층(340)을 더 포함할 수 있다.Unlike the display cover material 2000 according to the second embodiment, the functional layer 300 may further include a third layer 330 and a fourth layer 340. You can.

자세하게, 상기 기능층(300)은 상기 표면 강화층(200) 상의 제 1 층(310), 상기 제 1 층(310) 상의 제 2 층(320), 상기 제 2 층(320) 상의 제 3 층(330) 및 상기 제 3 층(330) 상의 제 4 층(340)을 포함할 수 있다.In detail, the functional layer 300 includes a first layer 310 on the surface reinforcement layer 200, a second layer 320 on the first layer 310, and a third layer on the second layer 320. 330 and a fourth layer 340 on the third layer 330.

상기 제 1 층(310), 상기 제 2 층(320), 상기 제 3 층(330) 및 상기 제 4 층(340)은 산화물을 포함할 수 있다. 상기 제 1 층(310), 상기 제 2 층(320), 상기 제 3 층(330) 및 상기 제 4 층(340)은 서로 다른 물질을 포함할 수 있다. 상기 제 상기 제 1 층(310), 상기 제 2 층(320), 상기 제 3 층(330) 및 상기 제 4 층(340)은 서로 다른 산화물을 포함할 수 있다.The first layer 310, the second layer 320, the third layer 330, and the fourth layer 340 may include oxide. The first layer 310, the second layer 320, the third layer 330, and the fourth layer 340 may include different materials. The first layer 310, the second layer 320, the third layer 330, and the fourth layer 340 may include different oxides.

예를 들어, 상기 제 1 층(310) 및 상기 제 3 층(330)은 이산화티타늄(TiO2) 및 이산화지르코늄(ZrO2) 중 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 2 층(320) 및 상기 제 4층(340)은 이산화규소(SiO2)를 포함할 수 있다.For example, the first layer 310 and the third layer 330 may include at least one of titanium dioxide (TiO 2 ) and zirconium dioxide (ZrO 2 ). Additionally, the second layer 320 and the fourth layer 340 may include silicon dioxide (SiO 2 ).

상기 제 1 층(310), 상기 제 2 층(320), 상기 제 3 층(330) 및 상기 제 4 층(340)은 서로 다른 굴절률을 가질 수 있다. 자세하게, 상기 제 1층(310) 및 상기 제 3 층(330)의 굴절률은 상기 제 2 층(320) 및 상기 제 4 층(340)의 굴절률보다 클 수 있다.The first layer 310, the second layer 320, the third layer 330, and the fourth layer 340 may have different refractive indices. In detail, the refractive index of the first layer 310 and the third layer 330 may be greater than the refractive index of the second layer 320 and the fourth layer 340.

또한, 상기 제 1 층(310) 및 상기 제 3 층(330)의 굴절률은 상기 연성 기재(100)의 굴절률보다 클 수 있다. 또한, 상기 연성 기재(100)의 굴절률은 상기 제 2 층(320) 및 상기 제 4 층(340)의 굴절률보다 클 수 있다.Additionally, the refractive index of the first layer 310 and the third layer 330 may be greater than the refractive index of the flexible substrate 100. Additionally, the refractive index of the flexible substrate 100 may be greater than the refractive index of the second layer 320 and the fourth layer 340.

예를 들어, 상기 연성 기재(100)의 굴절률은 약 1.5 내지 1.6일 수 있다. 또한, 상기 제 1 층(310) 및 상기 제 3 층(330)의 굴절률은 약 2.0 이상일 수 있다. 상기 제 1 층(310) 및 상기 제 3 층(330)의 굴절률은 상기 범위 SO에서 동일하거나 다를 수 있다. 또한, 상기 제 2 층(320) 및 상기 제 4 층(340)의 굴절률은 약 1.5 이하일 수 있다. 상기 제 2 층(320) 및 상기 제 4 층(340)의 굴절률은 상기 범위 내에서 동일하거나 다를 수 있다.For example, the refractive index of the flexible substrate 100 may be about 1.5 to 1.6. Additionally, the refractive index of the first layer 310 and the third layer 330 may be about 2.0 or more. The refractive indices of the first layer 310 and the third layer 330 may be the same or different in the range SO. Additionally, the refractive index of the second layer 320 and the fourth layer 340 may be about 1.5 or less. The refractive indices of the second layer 320 and the fourth layer 340 may be the same or different within the above range.

상기 기능층(300)의 두께는 약 300㎚ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 기능층(300)의 두께는 약 50㎚ 내지 약 250㎚일 수 있다. 더 자세하게, 상기 기능층(300)의 두께는 약 70㎚ 내지 약 200㎚일 수 있다.The thickness of the functional layer 300 may be about 300 nm or less. In detail, the thickness of the functional layer 300 may be about 50 nm to about 250 nm. In more detail, the thickness of the functional layer 300 may be about 70 nm to about 200 nm.

상기 기능층(300)의 두께가 약 300㎚을 초과하는 경우, 상기 기능층(300)의 두께에 의해 상기 커버 기재가 적용되는 디스플레이 장치를 일 방향으로 구부릴 때 커버 기재에 크랙이 발생될 수 있어, 디스플레이 장치의 신뢰성이 저하될 수 있다.If the thickness of the functional layer 300 exceeds about 300 nm, cracks may occur in the cover material when the display device to which the cover material is applied is bent in one direction due to the thickness of the functional layer 300. , the reliability of the display device may decrease.

상기 제 1 층(310), 상기 제 2 층(320), 상기 제 3 층(330) 및 상기 제 4 층(340)의 두께는 서로 다를 수 있다. The thicknesses of the first layer 310, the second layer 320, the third layer 330, and the fourth layer 340 may be different from each other.

자세하게, 상기 제 2 층(320)의 두께(T3b)는 상기 제 1 층(310)의 두께(T3a)보다 클 수 있다. 또한, 상기 제 3 층(330)의 두께(T3c)는 상기 제 2 층(320)의 두께(T3b)보다 클 수 있다. 또한, 상기 제 4 층(340)의 두께(T3d)는 상기 제 3 층(330)의 두께(T3c)보다 클 수 있다.In detail, the thickness T3b of the second layer 320 may be greater than the thickness T3a of the first layer 310. Additionally, the thickness T3c of the third layer 330 may be greater than the thickness T3b of the second layer 320. Additionally, the thickness T3d of the fourth layer 340 may be greater than the thickness T3c of the third layer 330.

또는, 상기 제 2 층(320)의 두께(T3b)는 상기 제 1 층(310)의 두께(T3a)보다 클 수 있다. 또한, 상기 제 3 층(330)의 두께(T3c)는 상기 제 2 층(320)의 두께(T3b)보다 클 수 있다. 또한, 상기 제 4 층(340)의 두께(T3d)는 상기 제 3 층(330)의 두께(T3c)보다 작을 수 있다.Alternatively, the thickness T3b of the second layer 320 may be greater than the thickness T3a of the first layer 310. Additionally, the thickness T3c of the third layer 330 may be greater than the thickness T3b of the second layer 320. Additionally, the thickness T3d of the fourth layer 340 may be smaller than the thickness T3c of the third layer 330.

예를 들어, 상기 제 1 층(310)의 두께(T3a)는 약 10㎚ 내지 약 25㎚일 수 있다. 또한, 상기 제 2 층(320)의 두께(T3b)는 약 10㎚ 내지 약 50㎚일 수 있다. 또한, 상기 제 3 층(330)의 두께(T3c)는 약 110㎚ 내지 약 200㎚일 수 있다. 또한, 상기 제 4 층(340)의 두께(T3d)는 약 25㎚ 내지 약 110㎚일 수 있다. For example, the thickness T3a of the first layer 310 may be about 10 nm to about 25 nm. Additionally, the thickness T3b of the second layer 320 may be about 10 nm to about 50 nm. Additionally, the thickness T3c of the third layer 330 may be about 110 nm to about 200 nm. Additionally, the thickness T3d of the fourth layer 340 may be about 25 nm to about 110 nm.

또는, 상기 제 1 층(310)의 두께(T3a)는 약 10㎚ 내지 약 50㎚일 수 있다. 또한, 상기 제 2 층(320)의 두께(T3b)는 약 10㎚ 내지 약 50㎚일 수 있다. 또한, 상기 제 3 층(330)의 두께(T3c)는 약 40㎚ 내지 약 70㎚일 수 있다. 또한, 상기 제 4 층(340)의 두께(T3d)는 약 60㎚ 내지 약 120㎚일 수 있다. Alternatively, the thickness T3a of the first layer 310 may be about 10 nm to about 50 nm. Additionally, the thickness T3b of the second layer 320 may be about 10 nm to about 50 nm. Additionally, the thickness T3c of the third layer 330 may be about 40 nm to about 70 nm. Additionally, the thickness T3d of the fourth layer 340 may be about 60 nm to about 120 nm.

상기 제 1 층(310), 상기 제 2 층(320), 상기 제 3 층(330) 및 상기 제 4 층(340)의 두께가 상기 범위 및 상기 크기 비를 벗어나는 경우, 388㎚ 이하의 광 파장 대역에서의 광 투과율이 증가될 수 있고, 이에 따라, 커버 기재의 하부에 배치되는 표시 패널 등이 388㎚ 이하의 UV 광 등에 의해 손상되거나 변형되어 디스플레이 장치의 전체적인 신뢰성 및 수명이 저하될 수 있다.When the thickness of the first layer 310, the second layer 320, the third layer 330, and the fourth layer 340 are outside the range and the size ratio, the light wavelength of 388 nm or less Light transmittance in the band may increase, and accordingly, the display panel disposed below the cover material may be damaged or deformed by UV light of 388 nm or less, reducing the overall reliability and lifespan of the display device.

또한, 388㎚ 이상의 광 파장 대역에서 광 투과율이 급격히 감소될 수 있다. 이에 따라, 디스플레이에서 방출되는 광이 충분히 투과되지 못해 디스플레이 장치에서 선명한 화질을 제공할 수 없는 문제점이 발생할 수 있다.Additionally, light transmittance may be rapidly reduced in the light wavelength band of 388 nm or more. Accordingly, a problem may arise in which the display device cannot provide clear image quality because the light emitted from the display is not sufficiently transmitted.

이하, 실시예들 및 비교예들에 따른 디스플레이용 커버 기재를 통하여 본 발명을 좀더 상세하게 설명한다. 이러한 실시예는 본 발명을 좀더 상세하게 설명하기 위하여 예시로 제시한 것에 불과하다. 따라서 본 발명이 이러한 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through display cover materials according to examples and comparative examples. These embodiments are merely provided as examples to explain the present invention in more detail. Therefore, the present invention is not limited to these examples.

실시예 1Example 1

폴리이미드를 포함하는 기재 상에 아크릴계 수지를 포함하는 표면 강화층을 코팅하였다.A surface reinforcement layer containing an acrylic resin was coated on a substrate containing polyimide.

이어서, 상기 표면 강화층 상에 이산화티탄을 포함하는 제 1 층을 배치하고, 상기 제 1 층 상에 이산화규소를 포함하는 제 2 층을 배치하여 디스플레이용 커버 기재를 제조하였다.Next, a first layer containing titanium dioxide was placed on the surface reinforcement layer, and a second layer containing silicon dioxide was placed on the first layer to prepare a cover substrate for a display.

이 때, 제 1 층의 두께는 1㎚ 내지 25㎚ 이었고, 제 2 층의 두께는 80nm 내지 120㎚이었다. At this time, the thickness of the first layer was 1 nm to 25 nm, and the thickness of the second layer was 80 nm to 120 nm.

이어서, 디스플레이용 커버 기재의 경도 및 파장대별 광 투과율을 측정하였다.Next, the hardness and light transmittance of each wavelength band of the display cover material were measured.

비교예 1Comparative Example 1

제 1 층의 두께가 30㎚이고, 제 2층의 두께가 100㎚ 이었다는 점을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 디스플레이용 커버 기재를 제조하고, 디스플레이용 커버 기재의 경도 및 파장대별 광 투과율을 측정하였다.A cover base material for a display was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the first layer was 30 nm and the thickness of the second layer was 100 nm, and the hardness and light transmittance by wavelength of the cover base material for the display were measured. Measured.

비교예 2Comparative Example 2

제 1 층의 두께가 3㎚이고, 제 2층의 두께가 70㎚ 이었다는 점을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 디스플레이용 커버 기재를 제조하고, 디스플레이용 커버 기재의 경도 및 파장대별 광 투과율을 측정하였다.A cover base material for a display was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the first layer was 3 nm and the thickness of the second layer was 70 nm, and the hardness and light transmittance by wavelength of the cover base material for the display were measured. Measured.

비교예 3Comparative Example 3

제 1 층의 두께가 3㎚이고, 제 2층의 두께가 130㎚ 이었다는 점을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 디스플레이용 커버 기재를 제조하고, 디스플레이용 커버 기재의 경도 및 파장대별 광 투과율을 측정하였다.A cover substrate for a display was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the first layer was 3 nm and the thickness of the second layer was 130 nm, and the hardness and light transmittance by wavelength of the cover substrate for the display were measured. Measured.

실시예 1Example 1 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2 Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 경도(H)Hardness (H) 7H7H 7H7H 7H7H 7H7H

표 1 및 도 5 내지 도 8을 참조하면, 실시예 1에 따른 디스플레이용 커버 기재의 경도는 약 7H 이상으로서 고경도를 가지는 것을 알 수 있다.Referring to Table 1 and FIGS. 5 to 8, it can be seen that the hardness of the cover substrate for a display according to Example 1 is about 7H or more, which is high hardness.

또한, 도 5 내지 도 9를 참조하면, 실시예 1에 따른 디스플레이용 커버 기재는 비교예 1 내지 3에 따른 디스플레이용 커버 기재에 비해 자외선 파장 대역의 광의 투과율이 낮고 가시광선 파장 대역의 광의 투과율이 높은 것을 알 수 있다.In addition, referring to FIGS. 5 to 9, the display cover material according to Example 1 has a low transmittance of light in the ultraviolet wavelength band and a low transmittance of light in the visible light wavelength band compared to the display cover material according to Comparative Examples 1 to 3. You can see that it is high.

자세하게, 도 5를 참조하면, 실시예 1에 따른 디스플레이용 커버 기재는 388㎚ 내지 700㎚의 가시광선 파장 대역에서는 약 90% 이상의 광 투과율율 가지는 것을 알 수 있다.In detail, referring to FIG. 5, it can be seen that the display cover material according to Example 1 has a light transmittance of about 90% or more in the visible light wavelength band of 388 nm to 700 nm.

즉, 실시예 1에 따른 디스플레이용 커버 기재는 기능층에 의해 광의 반사를 감소시킬 수 있어, 전체적으로 향상된 광 투과율을 가지는 것을 알 수 있다.That is, it can be seen that the cover material for a display according to Example 1 can reduce reflection of light by the functional layer, and thus has an overall improved light transmittance.

또한, 실시예 1에 따른 디스플레이용 커버 기재는 250㎚ 내지 388㎚의 자외선 광 파장 대역에서, 평균 광 투과율이 90% 미만이고, 최소 광 투과율은 60% 미만인 것을 알 수 있다. 자세하게, 실시예 1에 따른 디스플레이용 커버 기재는 388㎚ 미만의 자외선 광 파장 대역에서, 최대 광 투과율이 90% 미만이고, 최저 광 투과율은 30% 미만인 것을 알 수 있다.In addition, it can be seen that the display cover material according to Example 1 has an average light transmittance of less than 90% and a minimum light transmittance of less than 60% in the ultraviolet light wavelength band of 250 nm to 388 nm. In detail, it can be seen that the display cover material according to Example 1 has a maximum light transmittance of less than 90% and a minimum light transmittance of less than 30% in the ultraviolet light wavelength band of less than 388 nm.

특히, 240㎚ 내지 340㎚의 광 파장 대역에서 광 투과율이 가장 낮은 것을 알 수 있다.In particular, it can be seen that the light transmittance is lowest in the light wavelength band of 240 nm to 340 nm.

디스플레이용 커버 기재로 입사되는 태양광 중 300㎚이하의 파장의 대부분은 대기권 도달 전 산란되므로, 대기 중의 주요 광은 300㎚ 내지 388㎚의 자외선일 수 있다. 이에 따라, 240nm 이하의 파장 영역에서 투과율이 최소값을 가지거나, 340㎚ 이상의 파장 영역에서 투과율이 최소값을 가지는 경우, 대기 중에서 입사되는 자외선 광을 효과적으로 차단할 수 없다.Most of the sunlight incident on the display cover material with a wavelength of 300 nm or less is scattered before reaching the atmosphere, so the main light in the atmosphere may be ultraviolet rays of 300 nm to 388 nm. Accordingly, if the transmittance has a minimum value in a wavelength range of 240 nm or less, or if the transmittance has a minimum value in a wavelength range of 340 nm or more, ultraviolet light incident from the atmosphere cannot be effectively blocked.

실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재는 상기 파장 영역에서의 자외선이 투과되는 것을 충분히 차단할 수 있어 디스플레이용 커버 기재가 디스플레이 장치에 적용되는 경우, 표시 패널 방향으로 상기 파장 영역의 광이 입사되는 것을 효과적으로 차단할 수 있다.The display cover material according to the embodiment can sufficiently block ultraviolet rays in the wavelength range from being transmitted, so that when the display cover material is applied to a display device, it can effectively block light in the wavelength range from being incident in the direction of the display panel. You can.

즉, 실시예 1에 따른 디스플레이용 커버 기재는 388㎚ 내지 700㎚의 가시광선 광 파장 대역에서는 높은 광 투과율을 가지고, 388㎚ 미만의 자외선 광 파장 대역에서는 낮은 광 투과율을 가지는 것을 알 수 있다.That is, it can be seen that the display cover material according to Example 1 has high light transmittance in the visible light wavelength band of 388 nm to 700 nm, and has low light transmittance in the ultraviolet light wavelength band of less than 388 nm.

반면에, 도 6을 참조하면, 비교예 1에 따른 디스플레이용 커버 기재는 388㎚ 내지 700㎚의 가시광선 광 파장 대역에서 광 투과율이 90% 미만이고, 비교예 2, 3에 따른 디스플레이용 커버 기재는 240㎚ 내지 340㎚의 광 파장 대역에서 90% 이상의 광 투과율을 가지는 것을 알 수 있다.On the other hand, referring to FIG. 6, the display cover material according to Comparative Example 1 has a light transmittance of less than 90% in the visible light wavelength band of 388 nm to 700 nm, and the display cover material according to Comparative Examples 2 and 3 It can be seen that it has a light transmittance of more than 90% in the light wavelength band of 240 nm to 340 nm.

즉, 비교예 1 내지 비교예 3에 따른 디스플레이용 커버 기재는 실시예 1에 따른 디스플레이용 커버 기재에 비해 388㎚ 미만의 자외선 광 파장 대역에서는 광 투과율이 높고, 388㎚ 내지 700㎚의 가시광선 광 파장 대역에서는 광 투과율이 낮은 것을 알 수 있다.That is, the display cover materials according to Comparative Examples 1 to 3 have higher light transmittance in the ultraviolet light wavelength band of less than 388 nm compared to the display cover materials according to Example 1, and visible light of 388 nm to 700 nm. It can be seen that the light transmittance is low in the wavelength band.

즉, 비교예 1 내지 비교예 3에 따른 디스플레이용 커버 기재는 실시예 1에 따른 디스플레이용 커버 기재에 비해 가시광선이 적게 투과되고, 자외선이 많이 투과되는 것을 알 수 있다.That is, it can be seen that the cover substrate for a display according to Comparative Examples 1 to 3 transmits less visible light and transmits more ultraviolet rays than the cover substrate for a display according to Example 1.

실시예 2Example 2

폴리이미드를 포함하는 기재 상에 아크릴계 수지를 포함하는 표면 강화층을 코팅하였다.A surface reinforcement layer containing an acrylic resin was coated on a substrate containing polyimide.

이어서, 상기 표면 강화층 상에 이산화티탄을 포함하는 제 1 층을 배치하고, 상기 제 1 층 상에 이산화규소를 포함하는 제 2 층을 배치하고, 상기 제 2층 상에 이산화지르코늄을 포함하는 제 3 층을 배치하고, 상기 제 3 층 상에 이산화규소를 포함하는 제 4 층을 배치하여 디스플레이용 커버 기재를 제조하였다.Then, a first layer comprising titanium dioxide is disposed on the surface strengthening layer, a second layer comprising silicon dioxide is disposed on the first layer, and a second layer comprising zirconium dioxide is placed on the second layer. A cover substrate for a display was manufactured by arranging three layers and disposing a fourth layer containing silicon dioxide on the third layer.

이 때, 제 1 층의 두께는 10㎚ 내지 25㎚ 이었고, 제 2 층의 두께는 10nm 내지 50㎚이었고, 제 3 층의 두께는 110㎚ 내지 200㎚ 이었고, 제 4 층의 두께는 25㎚ 내지 110㎚이었다.At this time, the thickness of the first layer was 10 nm to 25 nm, the thickness of the second layer was 10 nm to 50 nm, the thickness of the third layer was 110 nm to 200 nm, and the thickness of the fourth layer was 25 nm to 25 nm. It was 110 nm.

이어서, 디스플레이용 커버 기재의 경도 및 파장대별 광 투과율을 측정하였다.Next, the hardness and light transmittance of each wavelength band of the display cover material were measured.

비교예 4Comparative Example 4

제 1 층의 두께가 7.5㎚이고, 제 2층의 두께가 33㎚ 이었고, 제 3 층의 두께가 113㎚이었고, 제 4층의 두께가 76㎚ 이었다는 점을 제외하고는 실시예 2와 동일하게 디스플레이용 커버 기재를 제조하고, 디스플레이용 커버 기재의 경도 및 파장대별 광 투과율을 측정하였다.The same as Example 2 except that the thickness of the first layer was 7.5 nm, the thickness of the second layer was 33 nm, the thickness of the third layer was 113 nm, and the thickness of the fourth layer was 76 nm. A cover material for a display was manufactured, and the hardness and light transmittance of each wavelength band of the cover material for a display were measured.

비교예 5Comparative Example 5

제 1 층의 두께가 30㎚이고, 제 2층의 두께가 33㎚ 이었고, 제 3 층의 두께가 113㎚이었고, 제 4층의 두께가 76㎚ 이었다는 점을 제외하고는 실시예 2와 동일하게 디스플레이용 커버 기재를 제조하고, 디스플레이용 커버 기재의 경도 및 파장대별 광 투과율을 측정하였다.The same as Example 2 except that the thickness of the first layer was 30 nm, the thickness of the second layer was 33 nm, the thickness of the third layer was 113 nm, and the thickness of the fourth layer was 76 nm. A cover material for a display was manufactured, and the hardness and light transmittance of each wavelength band of the cover material for a display were measured.

비교예 6Comparative Example 6

제 1 층의 두께가 15㎚이고, 제 2층의 두께가 33㎚ 이었고, 제 3 층의 두께가 164㎚이었고, 제 4층의 두께가 152㎚ 이었다는 점을 제외하고는 실시예 2와 동일하게 디스플레이용 커버 기재를 제조하고, 디스플레이용 커버 기재의 경도 및 파장대별 광 투과율을 측정하였다.The same as Example 2 except that the thickness of the first layer was 15 nm, the thickness of the second layer was 33 nm, the thickness of the third layer was 164 nm, and the thickness of the fourth layer was 152 nm. A cover material for a display was manufactured, and the hardness and light transmittance of each wavelength band of the cover material for a display were measured.

실시예 2Example 2 비교예 4Comparative Example 4 비교예 5Comparative Example 5 비교예 6Comparative Example 6 경도(H)Hardness (H) 7H7H VV 7H7H 7H7H

표 2 및 도 9 내지 도 12를 참조하면, 실시예 2에 따른 디스플레이용 커버 기재의 경도는 약 7H 이상으로서 고경도를 가지는 것을 알 수 있다.Referring to Table 2 and FIGS. 9 to 12, it can be seen that the hardness of the cover substrate for a display according to Example 2 is about 7H or more, which is high hardness.

또한, 도 9 내지 도 12를 참조하면, 실시예 2에 따른 디스플레이용 커버 기재는 비교예 4 내지 6에 따른 디스플레이용 커버 기재에 비해 자외선 파장 대역의 광의 투과율이 낮고 가시광선 파장 대역의 광의 투과율이 높은 것을 알 수 있다.In addition, referring to FIGS. 9 to 12, the display cover material according to Example 2 has a lower transmittance of light in the ultraviolet wavelength band and a lower transmittance of light in the visible light wavelength band than the display cover material according to Comparative Examples 4 to 6. You can see that it is high.

자세하게, 도 9를 참조하면, 실시예 2에 따른 디스플레이용 커버 기재는 388㎚ 내지 700㎚의 가시광선 파장 대역에서는 약 90% 이상의 광 투과율율 가지는 것을 알 수 있다.In detail, referring to FIG. 9, it can be seen that the display cover material according to Example 2 has a light transmittance of about 90% or more in the visible light wavelength band of 388 nm to 700 nm.

즉, 실시예 2에 따른 디스플레이용 커버 기재는 기능층에 의해 광의 반사를 감소시킬 수 있어, 전체적으로 향상된 광 투과율을 가지는 것을 알 수 있다.That is, it can be seen that the cover material for a display according to Example 2 can reduce reflection of light by the functional layer, and thus has an overall improved light transmittance.

또한, 실시예 2에 따른 디스플레이용 커버 기재는 250㎚ 내지 388㎚의 자외선 광 파장 대역에서, 최소 광 투과율은 60% 미만인 것을 알 수 있다.In addition, it can be seen that the display cover material according to Example 2 has a minimum light transmittance of less than 60% in the ultraviolet light wavelength band of 250 nm to 388 nm.

특히, 240㎚ 내지 340㎚의 광 파장 대역에서 광 투과율이 가장 낮은 것을 알 수 있다.In particular, it can be seen that the light transmittance is lowest in the light wavelength band of 240 nm to 340 nm.

즉, 실시예 2에 따른 디스플레이용 커버 기재는 388㎚ 내지 700㎚의 가시광선 광 파장 대역에서는 높은 광 투과율을 가지고, 388㎚ 미만의 자외선 광 파장 대역에서는 낮은 광 투과율을 가지는 것을 알 수 있다.That is, it can be seen that the display cover material according to Example 2 has high light transmittance in the visible light wavelength band of 388 nm to 700 nm, and has low light transmittance in the ultraviolet light wavelength band of less than 388 nm.

반면에, 도 10을 참조하면, 비교예 4에 따른 디스플레이용 커버 기재는 388㎚ 미만의 자외선 광 파장 대역에서 60% 이상의 광 투과율을 가지고, 도 11 및 도 12를 참조하면, 비교예 5, 6에 따른 디스플레이용 커버 기재는 388㎚ 내지 700㎚의 가시광선 광 파장 대역에서 90% 미만의 광 투과율을 가지는 것을 알 수 있다.On the other hand, referring to Figure 10, the display cover material according to Comparative Example 4 has a light transmittance of more than 60% in the ultraviolet light wavelength band of less than 388 nm, and referring to Figures 11 and 12, Comparative Examples 5 and 6 It can be seen that the display cover material according to has a light transmittance of less than 90% in the visible light wavelength band of 388 nm to 700 nm.

즉, 비교예 4 내지 비교예 6에 따른 디스플레이용 커버 기재는 실시예 2에 따른 디스플레이용 커버 기재에 비해 388㎚ 미만의 자외선 광 파장 대역에서 광 투과율이 높고, 388㎚ 내지 700㎚의 가시광선 광 파장 대역에서 광 투과율이 낮은 것을 알 수 있다.That is, the display cover materials according to Comparative Examples 4 to 6 have higher light transmittance in the ultraviolet light wavelength band of less than 388 nm compared to the display cover materials according to Example 2, and visible light of 388 nm to 700 nm It can be seen that the light transmittance is low in the wavelength band.

즉, 비교예 4 내지 비교예 6에 따른 디스플레이용 커버 기재는 실시예 2에 따른 디스플레이용 커버 기재에 비해 가시광선이 적게 투과되고, 자외선이 많이 투과되는 것을 알 수 있다.That is, it can be seen that the display cover materials according to Comparative Examples 4 to 6 transmit less visible light and more ultraviolet rays than the display cover materials according to Example 2.

실시예 3Example 3

폴리이미드를 포함하는 기재 상에 아크릴계 수지를 포함하는 표면 강화층을 코팅하였다.A surface reinforcement layer containing an acrylic resin was coated on a substrate containing polyimide.

이어서, 상기 표면 강화층 상에 이산화지르코늄을 포함하는 제 1 층을 배치하고, 상기 제 1 층 상에 이산화규소를 포함하는 제 2 층을 배치하고, 상기 제 2층 상에 이산화지르코늄을 포함하는 제 3 층을 배치하고, 상기 제 3 층 상에 이산화규소를 포함하는 제 4 층을 배치하여 디스플레이용 커버 기재를 제조하였다.Then, a first layer comprising zirconium dioxide is disposed on the surface strengthening layer, a second layer comprising silicon dioxide is disposed on the first layer, and a second layer comprising zirconium dioxide is placed on the second layer. A cover substrate for a display was manufactured by arranging three layers and disposing a fourth layer containing silicon dioxide on the third layer.

이 때, 제 1 층의 두께는 10㎚ 내지 50㎚ 이었고, 제 2 층의 두께는 10nm 내지 50㎚이었고, 제 3 층의 두께는 40㎚ 내지 70㎚ 이었고, 제 4 층의 두께는 60㎚ 내지 120㎚이었다.At this time, the thickness of the first layer was 10 nm to 50 nm, the thickness of the second layer was 10 nm to 50 nm, the thickness of the third layer was 40 nm to 70 nm, and the thickness of the fourth layer was 60 nm to 60 nm. It was 120 nm.

이어서, 디스플레이용 커버 기재의 경도 및 파장대별 광 투과율을 측정하였다.Next, the hardness and light transmittance of each wavelength band of the display cover material were measured.

비교예 7Comparative Example 7

제 1 층의 두께가 59㎚이고, 제 2층의 두께가 33㎚ 이었고, 제 3 층의 두께가 56㎚이었고, 제 4층의 두께가 75㎚ 이었다는 점을 제외하고는 실시예 3과 동일하게 디스플레이용 커버 기재를 제조하고, 디스플레이용 커버 기재의 경도 및 파장대별 광 투과율을 측정하였다.The same as Example 3 except that the thickness of the first layer was 59 nm, the thickness of the second layer was 33 nm, the thickness of the third layer was 56 nm, and the thickness of the fourth layer was 75 nm. A cover material for a display was manufactured, and the hardness and light transmittance of each wavelength band of the cover material for a display were measured.

비교예 8Comparative Example 8

제 1 층의 두께가 7.5㎚이고, 제 2층의 두께가 33㎚ 이었고, 제 3 층의 두께가 56㎚이었고, 제 4층의 두께가 75㎚ 이었다는 점을 제외하고는 실시예 3과 동일하게 디스플레이용 커버 기재를 제조하고, 디스플레이용 커버 기재의 경도 및 파장대별 광 투과율을 측정하였다.The same as Example 3 except that the thickness of the first layer was 7.5 nm, the thickness of the second layer was 33 nm, the thickness of the third layer was 56 nm, and the thickness of the fourth layer was 75 nm. A cover material for a display was manufactured, and the hardness and light transmittance of each wavelength band of the cover material for a display were measured.

실시예 3Example 3 비교예 7Comparative Example 7 비교예 8Comparative Example 8 경도(H)Hardness (H) 7H7H 7H7H 7H7H

표 3 및 도 13 내지 도 15를 참조하면, 실시예 3에 따른 디스플레이용 커버 기재의 경도는 약 7H 이상으로서 고경도를 가지는 것을 알 수 있다.Referring to Table 3 and FIGS. 13 to 15, it can be seen that the hardness of the cover substrate for a display according to Example 3 is about 7H or more, which is high hardness.

또한, 도 13 내지 도 15를 참조하면, 실시예 3에 따른 디스플레이용 커버 기재는 비교예 7 내지 8에 따른 디스플레이용 커버 기재에 비해 자외선 파장 대역의 광의 투과율이 낮고 가시광선 파장 대역의 광의 투과율이 높은 것을 알 수 있다.In addition, referring to FIGS. 13 to 15, the display cover material according to Example 3 has a lower transmittance of light in the ultraviolet wavelength band and a lower transmittance of light in the visible light wavelength band than the display cover material according to Comparative Examples 7 to 8. You can see that it is high.

자세하게, 도 13을 참조하면, 실시예 3에 따른 디스플레이용 커버 기재는 388㎚ 내지 700㎚의 가시광선 파장 대역에서는 약 90% 이상의 광 투과율율 가지는 것을 알 수 있다.In detail, referring to FIG. 13, it can be seen that the display cover material according to Example 3 has a light transmittance rate of about 90% or more in the visible light wavelength band of 388 nm to 700 nm.

즉, 실시예 3에 따른 디스플레이용 커버 기재는 기능층에 의해 광의 반사를 감소시킬 수 있어, 전체적으로 향상된 광 투과율을 가지는 것을 알 수 있다.That is, it can be seen that the cover material for a display according to Example 3 can reduce reflection of light by the functional layer, and thus has an overall improved light transmittance.

또한, 실시예 3에 따른 디스플레이용 커버 기재는 250㎚ 내지 388㎚의 자외선 광 파장 대역에서, 최소 광 투과율은 60% 미만인 것을 알 수 있다.In addition, it can be seen that the display cover material according to Example 3 has a minimum light transmittance of less than 60% in the ultraviolet light wavelength band of 250 nm to 388 nm.

특히, 240㎚ 내지 340㎚의 광 파장 대역에서 광 투과율이 가장 낮은 것을 알 수 있다.In particular, it can be seen that the light transmittance is lowest in the light wavelength band of 240 nm to 340 nm.

즉, 실시예 3에 따른 디스플레이용 커버 기재는 388㎚ 내지 700㎚의 가시광선 광 파장 대역에서는 높은 광 투과율을 가지고, 388㎚ 미만의 자외선 광 파장 대역에서는 낮은 광 투과율을 가지는 것을 알 수 있다.That is, it can be seen that the display cover material according to Example 3 has high light transmittance in the visible light wavelength band of 388 nm to 700 nm, and has low light transmittance in the ultraviolet light wavelength band of less than 388 nm.

반면에, 도 14를 참조하면, 비교예 7에 따른 디스플레이용 커버 기재는 388㎚ 미만의 자외선 광 파장 대역에서 60% 이상의 광 투과율을 가지고, 388㎚ 내지 700㎚의 가시광선 광 파장 대역에서 90% 미만의 광 투과율을 가지며, 도 15를 참조하면, 비교예 8에 따른 디스플레이용 커버 기재는 3388㎚ 미만의 자외선 광 파장 대역에서 60% 이상의 광 투과율을 가지는 것을 알 수 있다.On the other hand, referring to Figure 14, the display cover material according to Comparative Example 7 has a light transmittance of more than 60% in the ultraviolet light wavelength band of less than 388 nm and 90% in the visible light wavelength band of 388 nm to 700 nm. It has a light transmittance of less than, and referring to FIG. 15, it can be seen that the display cover material according to Comparative Example 8 has a light transmittance of more than 60% in the ultraviolet light wavelength band of less than 3388 nm.

즉, 비교예 7 내지 비교예 8에 따른 디스플레이용 커버 기재는 실시예 3에 따른 디스플레이용 커버 기재에 비해 388㎚ 미만의 자외선 광 파장 대역에서 광 투과율이 높고, 388㎚ 내지 700㎚의 가시광선 광 파장 대역에서 광 투과율이 낮은 것을 알 수 있다.That is, the cover substrate for displays according to Comparative Examples 7 to 8 has a higher light transmittance in the ultraviolet light wavelength band of less than 388 nm compared to the cover substrate for displays according to Example 3, and visible light of 388 nm to 700 nm. It can be seen that the light transmittance is low in the wavelength band.

즉, 비교예 7 내지 비교예 8에 따른 디스플레이용 커버 기재는 실시예 3에 따른 디스플레이용 커버 기재에 비해 가시광선이 적게 투과되고, 자외선이 많이 투과되는 것을 알 수 있다.That is, it can be seen that the display cover materials according to Comparative Examples 7 to 8 transmit less visible light and more ultraviolet rays than the display cover materials according to Example 3.

이하, 도 16 및 도 17을 참조하여 앞서 설명한 실시예들에 따른 디스플레이용 커버 기재를 포함하는 디스플레이 장치를 설명한다. 실시예에 따른 디스플레이 장치의 설명에서는 앞서 설명한 실시예들에 따른 커버 기재와 동일 또는 유사한 내용에 대해서는 설명을 생략하며, 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여한다.Hereinafter, a display device including a display cover material according to the above-described embodiments will be described with reference to FIGS. 16 and 17. In the description of the display device according to the embodiment, description of content that is the same or similar to the cover material according to the previously described embodiments will be omitted, and the same reference numerals will be assigned to the same components.

도 17 내지 도 18을 참조하면, 실시예에 따른 디스플레이 장치는 커버 기재(1000, 2000) 및 상기 커버 기재(1000, 2000)의 하부에 배치되는 데코층(400) 및 보강층(500), 상기 보강층(500)의 하부에 배치되는 편광층(600) 및 터치 패널(700), 상기 터치 패널(700)의 하부에 배치되는 접착층(800) 및 상기 접착층(800)의 하부에 배치되는 표시 패널(900)을 포함할 수 있다.17 to 18, the display device according to the embodiment includes a cover substrate (1000, 2000), a decoration layer 400 and a reinforcement layer 500 disposed below the cover substrate (1000, 2000), and the reinforcement layer A polarizing layer 600 and a touch panel 700 disposed below 500, an adhesive layer 800 disposed below the touch panel 700, and a display panel 900 disposed below the adhesive layer 800. ) may include.

도 17은 앞서 설명한 도 1의 커버 기재를 포함하는 디스플레이 장치를 설명하기 위한 도면이고, 도 18은 앞서 설명한 도 3의 커버 기재를 포함하는 디스플레이 장치를 설명하기 위한 도면이다.FIG. 17 is a diagram for explaining a display device including the cover material of FIG. 1 described above, and FIG. 18 is a diagram for explaining a display device including the cover material of FIG. 3 described above.

상기 커버 기재(1000, 2000)는 유효 영역(AA) 및 비유효 영역(UA)을 포함할 수 있다. 상기 유효 영역(AA)에서는 디스플레이가 표시될 수 있고, 상기 유효 영역(AA) 주위에 배치되는 상기 비유효 영역(UA)에서는 디스플레이가 표시되지 않을 수 있다.The cover substrates 1000 and 2000 may include an active area (AA) and an unactive area (UA). A display may be displayed in the effective area AA, and the display may not be displayed in the unactive area UA disposed around the effective area AA.

상기 데코층(400)은 상기 커버 기재(1000, 2000)의 하부에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 데코층(400)은 상기 비유효 영역(UA) 상에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 데코층(400)은 상기 비유효 영역(UA) 상에서 상기 커버 기재(1000, 2000)와 접촉하며 배치될 수 있다.The decoration layer 400 may be disposed below the cover substrates 1000 and 2000. In detail, the decoration layer 400 may be disposed on the unactive area (UA). In detail, the decoration layer 400 may be disposed in contact with the cover substrates 1000 and 2000 on the unactive area UA.

상기 데코층(400)은 상기 비유효 영역 상에 배치되는 배선 전극과 상기 배선 전극을 외부 회로에 연결하는 인쇄회로기판 등을 외부에서 보이지 않도록 할 수 있게 소정의 색을 가지는 물질을 도포하여 형성할 수 있다. The decoration layer 400 is formed by applying a material of a predetermined color so that the wiring electrode disposed on the non-effective area and the printed circuit board connecting the wiring electrode to an external circuit are invisible from the outside. You can.

상기 데코층(400)은 원하는 외관에 적합한 색을 가질 수 있는데, 일례로 흑색 또는 흰색 안료 등을 포함하여 흑색 또는 흰색을 나타낼 수 있다. 또는 다양한 칼라 필름 등을 사용하여 빨강색, 파란색 등의 다양한 칼라색을 나타낼 수 있다.The decoration layer 400 may have a color suitable for a desired appearance. For example, it may include black or white pigment to display black or white. Alternatively, various colors such as red and blue can be displayed using various color films.

그리고 상기 데코층(400)에는 다양한 방법으로 원하는 로고 등을 형성할 수 있다. 이러한 데코층(400)은 증착, 인쇄, 습식 코팅 등에 의하여 형성될 수 있다.Additionally, a desired logo, etc. can be formed on the decoration layer 400 using various methods. This decoration layer 400 may be formed by deposition, printing, wet coating, etc.

상기 데코층(400)은 적어도 1층 이상으로 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 데코층(400)은 하나의 층으로 배치되거나 또는 폭이 서로 다른 적어도 두 층으로 배치될 수 있다.The decoration layer 400 may be arranged in at least one layer. For example, the decoration layer 400 may be arranged as one layer or at least two layers with different widths.

상기 보강층(500)은 상기 커버 기재(1000, 2000)의 하부에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 보강층(500)은 상기 유효 영역(AA) 및 상기 비유효 영역(UA) 상에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 보강층(500)은 상기 유효 영역(AA) 상에서는 상기 커버 기재(1000, 2000)와 접촉하며 배치되고, 상기 비유효 영역(UA) 상에서는 상기 데코층(400)과 접촉하며 배치될 수 있다.The reinforcement layer 500 may be disposed below the cover substrates 1000 and 2000. In detail, the reinforcement layer 500 may be disposed on the active area (AA) and the unactive area (UA). In detail, the reinforcement layer 500 may be disposed in contact with the cover substrates 1000 and 2000 on the effective area (AA), and may be disposed in contact with the decoration layer 400 on the unactive area (UA). .

상기 보강층(500)은 상기 데코층(400)이 배치되는 상기 커버 기재(1000, 2000)의 하면을 평평하게 할 수 있다. 즉, 상기 보강층(500)은 상기 커버 기재(1000, 2000)의 하면에서 상기 데코층을 감싸면서 배치되어, 상기 데코층에 따른 단차를 제거할 수 있다. 즉, 상기 보강층(500)은 평탄화층일 수 있다.The reinforcement layer 500 can flatten the lower surface of the cover substrate 1000, 2000 on which the decoration layer 400 is disposed. That is, the reinforcing layer 500 is disposed on the lower surface of the cover substrate 1000, 2000 while surrounding the decoration layer, thereby eliminating steps due to the decoration layer. That is, the reinforcement layer 500 may be a planarization layer.

상기 보강층(500)의 하부에는 편광층(600) 및 터치 패널(700)이 배치될 수 있다.A polarizing layer 600 and a touch panel 700 may be disposed below the reinforcement layer 500.

상기 편광층(600)은 편광 필름일 수 있다. 상기 편광층(600)은 유색의 필름일 수 있다. 예를 들어, 상기 편광 필름(600)은 흑색의 필름일 수 있다. 상기 편광층(600)의 두께는 약 5㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 편광층(600)의 두께는 약 2㎛ 이하일 수 있다.The polarizing layer 600 may be a polarizing film. The polarizing layer 600 may be a colored film. For example, the polarizing film 600 may be a black film. The thickness of the polarizing layer 600 may be about 5 μm or less. In detail, the thickness of the polarizing layer 600 may be about 2㎛ or less.

상기 편광층(600)은 배향막 및 상기 배향막 상의 액정 염료층을 포함할 수 있다. 상기 액정 염료층은 서로 다른 색을 갖는 두 가지 염료가 부착된 액정 분자들로 이루어지며, 액정 염료층 내에 액정 분자들은 이색성을 가지기 때문에 연신방향으로 진동하는 빛을 흡수, 수직한 방향으로 진동하는 빛은 투과하는 기능을 가질 수 있다.. 또한, 상기 액정 염료층에 들어가는 이색성 색소는 요오드를 포함할 수 있다.The polarizing layer 600 may include an alignment layer and a liquid crystal dye layer on the alignment layer. The liquid crystal dye layer is made of liquid crystal molecules to which two dyes of different colors are attached. The liquid crystal molecules in the liquid crystal dye layer have dichroism, so they absorb light vibrating in the stretching direction and vibrate in the vertical direction. Light may have a function of transmitting. Additionally, the dichroic dye entering the liquid crystal dye layer may include iodine.

상기 편광층(600)의 하부에는 터치 패널(700)이 배치될 수 있다. 상기 터치 패널(700)은 감지 전극을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 터치 패널(700)은 서로 교차하는 방향으로 연장하는 제 1 감지 전극 및 제 2 감지 전극을 포함할 수 있다.A touch panel 700 may be disposed below the polarization layer 600. The touch panel 700 may include a sensing electrode. For example, the touch panel 700 may include a first sensing electrode and a second sensing electrode extending in a direction crossing each other.

이에 따라, 상기 유효 영역 등에서 입력 장치(예를 들어, 손가락 또는 스타일러스 펜 등)의 위치를 감지할 수 있다. 자세하게, 상기 커버 기재(1000, 2000)의 터치 면 상에 손가락 등의 입력 장치가 접촉되면, 입력 장치가 접촉된 부분에서 제 1, 2 감지 전극에 의해 정전 용량의 차이가 발생하고, 이러한 차이가 발생한 부분을 접촉 위치로 검출할 수 있다Accordingly, the position of an input device (eg, a finger or a stylus pen, etc.) can be detected in the effective area. In detail, when an input device such as a finger touches the touch surface of the cover substrate 1000, 2000, a difference in capacitance occurs due to the first and second sensing electrodes at the area where the input device touches, and this difference is The affected part can be detected by the contact location.

상기 터치 패널(700)의 하부에는 표시 패널(900)이 배치될 수 있다. 상기 터치 패널(700)과 상기 표시 패널(900) 사이에는 접착층(800)이 배치되고, 상기 터치 패널(700)과 상기 표시 패널(900)은 상기 접착층(800)에 의해 서로 접착될 수 있다.A display panel 900 may be disposed below the touch panel 700. An adhesive layer 800 is disposed between the touch panel 700 and the display panel 900, and the touch panel 700 and the display panel 900 can be adhered to each other by the adhesive layer 800.

상기 표시 패널(900)은 액정 표시패널 또는 유기전계발광 표시패널을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 표시 패널(900)은 유기전계발광 표시패널을 포함할 수 있다.The display panel 900 may include a liquid crystal display panel or an organic electroluminescence display panel. For example, the display panel 900 may include an organic electroluminescent display panel.

자세하게, 상기 표시 패널(900)은 별도의 광원이 요구되지 않는 자발광 소자를 포함하는 유기전계발광 표시패널을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 표시 패널(800)은 기판 상에 박막트랜지스터가 형성되고, 상기 박막트랜지스터와 접촉하는 유기발광소자가 형성될 수 있다. 상기 유기발광소자는 양극, 음극 및 상기 양극과 음극 사이에 형성된 유기발광층을 포함할 수 있다. 또한, 상기 유기발광소자 상에 인캡슐레이션을 위한 봉지 기판 역할을 하는 다른 기판을 더 포함할 수 있다.In detail, the display panel 900 may include an organic electroluminescence display panel including a self-luminous element that does not require a separate light source. For example, in the display panel 800, a thin film transistor may be formed on a substrate, and an organic light emitting device may be formed in contact with the thin film transistor. The organic light emitting device may include an anode, a cathode, and an organic light emitting layer formed between the anode and the cathode. In addition, another substrate that serves as an encapsulation substrate for encapsulation may be further included on the organic light emitting device.

실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재는 향상된 강도 및 신뢰성을 가질 수 있다.A cover substrate for a display according to an embodiment may have improved strength and reliability.

자세하게, 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재는 연성 기재의 일면 및 타면 중 적어도 하나의 면 상에 표면 강화층을 배치하여, 디스플레이용 커버 기재의 경도를 향상시켜 향상된 강도를 가질 수 있다.In detail, the cover substrate for a display according to an embodiment may have improved strength by improving the hardness of the cover substrate for a display by disposing a surface reinforcement layer on at least one of one side and the other side of the flexible substrate.

또한, 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재는 표면 강화층 상에 다층의 기능층을 배치하여, 외부에서 입사되는 광 중 특정 파장 영역대에서의 광의 투과율을 감소시킬 수 있다.In addition, the cover substrate for a display according to an embodiment can reduce the transmittance of light in a specific wavelength range among light incident from the outside by disposing a multi-layered functional layer on the surface reinforcement layer.

자세하게, 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재는 약 388㎚ 이하의 광 자세하게, UV 광의 투과율을 감소시킬 수 있다.In detail, the cover material for a display according to an embodiment can reduce the transmittance of UV light, especially light of about 388 nm or less.

이에 따라, 실시예에 따른 디스플레이용 커버 기재를 디스플레이용 장치에 적용할 때 디스플레이용 커버 기재의 하부에 배치되는 표시 패널의 내부로 UV 광이 입사되는 것을 감소시킬 수 있다.Accordingly, when applying the display cover material according to the embodiment to a display device, it is possible to reduce UV light entering the interior of the display panel disposed below the display cover material.

이에 따라, 표시 패널의 내부에 배치되는 자발광소자가 상기 자외선에 의해 손상 또는 변형되는 것을 방지할 수 있어, 디스플레이 장치의 신뢰성 및 수명을 향상시킬 수 있다.Accordingly, self-luminous elements disposed inside the display panel can be prevented from being damaged or deformed by ultraviolet rays, thereby improving the reliability and lifespan of the display device.

이하, 도 18 및 도 19를 참조하여, 앞서 설명한 실시예들에 따른 커버 기재가 적용되는 디스플레이 장치의 일례를 설명한다.Hereinafter, with reference to FIGS. 18 and 19, an example of a display device to which the cover material according to the previously described embodiments is applied will be described.

도 18을 참고하면, 디스플레이 장치의 일례로서, 이동식 단말기가 도시되어 있다. 상기 이동식 단말기는 유효 영역 및 비유효 영역을 포함할 수 있다. 상기 유효 영역은 손가락 등의 터치에 의해 터치 신호를 감지하고, 상기 비유효 영역에는 명령 아이콘 패턴부 및 로고 등이 형성될 수 있다.Referring to FIG. 18, a mobile terminal is shown as an example of a display device. The mobile terminal may include an active area and an unactive area. The effective area may detect a touch signal by a touch such as a finger, and a command icon pattern portion, a logo, etc. may be formed in the non-effective area.

도 19를 참조하면, 또한, 디스플레이 장치는 휘어지거나 접혀지는 플렉서블(flexible) 디바이스를 포함할 수 있다. 따라서, 이를 포함하는 디스플레이 장치는 플렉서블 디바이스 장치일 수 있다. 따라서, 사용자가 손으로 휘거나 구부릴 수 있다. 이러한 플렉서블 디바이스 장치는 스마트 와치(smart watch) 등의 웨어러블 터치 등에 적용될 수 있다.Referring to FIG. 19, the display device may also include a flexible device that is bent or folded. Accordingly, a display device including this may be a flexible device. Therefore, the user can bend or bend it by hand. These flexible device devices can be applied to wearable touch devices such as smart watches.

상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The features, structures, effects, etc. described in the above-described embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to only one embodiment. Furthermore, the features, structures, effects, etc. illustrated in each embodiment can be combined or modified and implemented in other embodiments by a person with ordinary knowledge in the field to which the embodiments belong. Therefore, contents related to such combinations and modifications should be construed as being included in the scope of the present invention.

또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.In addition, although the description has been made focusing on the embodiments above, this is only an example and does not limit the present invention, and those skilled in the art will understand the above examples without departing from the essential characteristics of the present embodiments. You will be able to see that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments can be modified and implemented. And these variations and differences in application should be construed as being included in the scope of the present invention as defined in the attached claims.

Claims (13)

일면 및 상기 일면과 반대되는 타면을 포함하는 연성 기재;
상기 일면 상에 배치되는 표면 강화층; 및
상기 표면 강화층 상에 배치되는 기능층을 포함하고,
상기 기능층은 상기 표면 강화층 상의 제 1 층; 및 상기 제 1 층 상의 제 2 층을 포함하고,
상기 제 1 층의 굴절률은 상기 연성 기재의 굴절률보다 크고,
상기 연성 기재의 굴절률은 상기 제 2 층의 굴절률보다 크고,
상기 연성 기재의 굴절률은 1.5 내지 1.6이고,
상기 제 1 층의 굴절률은 2.0 이상이고,
상기 2 층의 굴절률은 1.5 이하이고,
상기 제 1 층의 두께는 1㎚ 내지 25㎚이고,
상기 제 2 층의 두께는 80㎚ 내지 120㎚이고,
상기 기능층은 388㎚ 내지 700㎚의 광 파장 대역에서, 광 투과율이 평균 90% 이상이고,
상기 기능층은 250㎚ 내지 388㎚의 광 파장 대역에서, 평균 광 투과율이 90% 미만이고, 최소 광 투과율이 60% 이하이고
상기 기능층은 240㎚ 내지 340㎚의 광 파장 대역에서 상기 광 투과율이 가장 낮은 디스플레이용 커버 기재.A flexible substrate including one side and another side opposite to the first side;
a surface reinforcement layer disposed on the one surface; and
It includes a functional layer disposed on the surface reinforcement layer,
The functional layer includes a first layer on the surface reinforcement layer; and a second layer on the first layer,
The refractive index of the first layer is greater than the refractive index of the flexible substrate,
The refractive index of the flexible substrate is greater than the refractive index of the second layer,
The refractive index of the soft substrate is 1.5 to 1.6,
The refractive index of the first layer is 2.0 or more,
The refractive index of the two layers is 1.5 or less,
The thickness of the first layer is 1 nm to 25 nm,
The thickness of the second layer is 80 nm to 120 nm,
The functional layer has an average light transmittance of 90% or more in the light wavelength band of 388 nm to 700 nm,
The functional layer has an average light transmittance of less than 90% and a minimum light transmittance of 60% or less in the light wavelength band of 250 nm to 388 nm.
The functional layer is a cover substrate for a display having the lowest light transmittance in the light wavelength band of 240 nm to 340 nm. 제 1항에 있어서,
상기 기능층은 388㎚ 미만의 광 파장 대역에서 최대 광 투과율이 90% 미만이고,
상기 기능층은 388㎚ 미만의 광 파장 대역에서 최저 광 투과율이 30% 미만인 디스플레이용 커버 기재.According to clause 1,
The functional layer has a maximum light transmittance of less than 90% in a light wavelength band of less than 388 nm,
The functional layer is a cover substrate for a display having a minimum light transmittance of less than 30% in a light wavelength band of less than 388 nm. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 기능층의 두께는 300㎚ 이하인 디스플레이용 커버 기재.According to clause 1,
A cover substrate for a display wherein the thickness of the functional layer is 300 nm or less. 삭제delete 일면 및 상기 일면과 반대되는 타면을 포함하는 연성 기재;
상기 일면 상에 배치되는 표면 강화층; 및
상기 표면 강화층 상에 배치되는 기능층을 포함하고,
상기 표면 강화층 상의 제 1 층;
상기 제 1 층 상의 제 2 층;
상기 제 2 층 상의 제 3 층; 및
상기 제 3 층 상의 제 4 층을 포함하고,
상기 제 1 층 및 상기 제 3 층의 굴절률은 상기 연성 기재의 굴절률보다 크고,
상기 연성 기재의 굴절률은 상기 제 2 층 및 제 4 층의 굴절률보다 크고,
상기 연성 기재의 굴절률은 1.5 내지 1.6이고,
상기 제 1 층 및 상기 제 3 층의 굴절률은 2.0 이상이고,
상기 2 층 및 제 4 층의 굴절률은 1.5 이하이고,
상기 제 1 층의 두께는 1㎚ 내지 25㎚이고,
상기 제 2 층의 두께는 10㎚ 내지 50㎚이고,
상기 제 3 층의 두께는 110㎚ 내지 200㎚이고,
상기 제 4 층의 두께는 25㎚ 내지 110㎚이고,
상기 기능층은 388㎚ 내지 700㎚의 광 파장 대역에서, 광 투과율이 평균 90% 이상이고,
상기 기능층은 250㎚ 내지 388㎚의 광 파장 대역에서, 최소 광 투과율이 60% 이하이고,
상기 기능층은 240㎚ 내지 340㎚의 광 파장 대역에서 상기 광 투과율이 가장 낮은 디스플레이용 커버 기재.A flexible substrate including one side and another side opposite to the first side;
a surface reinforcement layer disposed on the one surface; and
It includes a functional layer disposed on the surface reinforcement layer,
a first layer on the surface reinforcement layer;
a second layer on the first layer;
a third layer on the second layer; and
comprising a fourth layer on the third layer,
The refractive index of the first layer and the third layer is greater than the refractive index of the flexible substrate,
The refractive index of the flexible substrate is greater than the refractive index of the second and fourth layers,
The refractive index of the soft substrate is 1.5 to 1.6,
The refractive index of the first layer and the third layer is 2.0 or more,
The refractive index of the second and fourth layers is 1.5 or less,
The thickness of the first layer is 1 nm to 25 nm,
The thickness of the second layer is 10 nm to 50 nm,
The thickness of the third layer is 110 nm to 200 nm,
The thickness of the fourth layer is 25 nm to 110 nm,
The functional layer has an average light transmittance of 90% or more in the light wavelength band of 388 nm to 700 nm,
The functional layer has a minimum light transmittance of 60% or less in the light wavelength band of 250 nm to 388 nm,
The functional layer is a cover substrate for a display having the lowest light transmittance in the light wavelength band of 240 nm to 340 nm. 삭제delete 삭제delete 일면 및 상기 일면과 반대되는 타면을 포함하는 연성 기재;
상기 일면 상에 배치되는 표면 강화층; 및
상기 표면 강화층 상에 배치되는 기능층을 포함하고,
상기 기능층은,
상기 표면 강화층 상의 제 1 층;
상기 제 1 층 상의 제 2 층;
상기 제 2 층 상의 제 3 층; 및
상기 제 3 층 상의 제 4 층을 포함하고,
상기 제 1 층 및 상기 제 3 층의 굴절률은 상기 연성 기재의 굴절률보다 크고,
상기 연성 기재의 굴절률은 상기 제 2 층 및 제 4 층의 굴절률보다 크고,
상기 연성 기재의 굴절률은 1.5 내지 1.6이고,
상기 제 1 층 및 상기 제 3 층의 굴절률은 2.0 이상이고,
상기 2 층 및 제 4 층의 굴절률은 1.5 이하이고,
상기 제 1 층의 두께는 10㎚ 내지 50㎚이고,
상기 제 2 층의 두께는 10㎚ 내지 50㎚이고,
상기 제 3 층의 두께는 40㎚ 내지 70㎚이고,
상기 제 4 층의 두께는 60㎚ 내지 120㎚이고,
상기 기능층은 388㎚ 내지 700㎚의 광 파장 대역에서, 광 투과율이 평균 90% 이상이고,
상기 기능층은 250㎚ 내지 388㎚의 광 파장 대역에서, 최소 광 투과율이 60% 이하이고,
상기 기능층은 240㎚ 내지 340㎚의 광 파장 대역에서 상기 광 투과율이 가장 낮은 디스플레이용 커버 기재.A flexible substrate including one side and another side opposite to the first side;
a surface reinforcement layer disposed on the one surface; and
It includes a functional layer disposed on the surface reinforcement layer,
The functional layer is,
a first layer on the surface reinforcement layer;
a second layer on the first layer;
a third layer on the second layer; and
comprising a fourth layer on the third layer,
The refractive index of the first layer and the third layer is greater than the refractive index of the flexible substrate,
The refractive index of the flexible substrate is greater than the refractive index of the second and fourth layers,
The refractive index of the soft substrate is 1.5 to 1.6,
The refractive index of the first layer and the third layer is 2.0 or more,
The refractive index of the second and fourth layers is 1.5 or less,
The thickness of the first layer is 10 nm to 50 nm,
The thickness of the second layer is 10 nm to 50 nm,
The thickness of the third layer is 40 nm to 70 nm,
The thickness of the fourth layer is 60 nm to 120 nm,
The functional layer has an average light transmittance of 90% or more in the light wavelength band of 388 nm to 700 nm,
The functional layer has a minimum light transmittance of 60% or less in the light wavelength band of 250 nm to 388 nm,
The functional layer is a cover substrate for a display having the lowest light transmittance in the light wavelength band of 240 nm to 340 nm. 제 1항에 있어서,
상기 연성 기재는 폴리이미드를 포함하고,
상기 연성 기재의 두께는 30㎛ 내지 150㎛이고.
상기 표면 강화층의 두께는 5㎛ 내지 20㎛이고,
상기 표면 강화층은 나노 실리카를 포함하는 디스플레이용 커버 기재.According to clause 1,
The flexible substrate includes polyimide,
The thickness of the flexible substrate is 30㎛ to 150㎛.
The thickness of the surface reinforcement layer is 5㎛ to 20㎛,
The surface reinforcement layer is a cover substrate for a display including nano silica. 유효 영역 및 비유효 영역을 포함하는 커버 기재;
상기 비유효 영역과 대응되는 상기 커버 기재의 하부면 상에 배치되는 데코층;
상기 유효 영역 및 상기 비유효 영역과 대응되는 상기 커버 기재의 하부면 상에 배치되는 보강층;
상기 보강층의 하부에 배치되는 편광층;
상기 편광층의 하부에 배치되는 터치 패널; 및
상기 터치 패널의 하부에 배치되는 표시 패널을 포함하고,
상기 커버 기재는,
일면 및 상기 일면과 반대되는 타면을 포함하는 연성 기재;
상기 일면 상에 배치되는 표면 강화층; 및
상기 표면 강화층 상에 배치되는 기능층을 포함하고,
상기 기능층은 상기 표면 강화층 상의 제 1 층; 및 상기 제 1 층 상의 제 2 층을 포함하고,
상기 제 1 층의 굴절률은 상기 연성 기재의 굴절률보다 크고,
상기 연성 기재의 굴절률은 상기 제 2 층의 굴절률보다 크고,
상기 연성 기재의 굴절률은 1.5 내지 1.6이고,
상기 제 1 층의 굴절률은 2.0 이상이고,
상기 2 층의 굴절률은 1.5 이하이고,
상기 제 1 층의 두께는 1㎚ 내지 25㎚이고,
상기 제 2 층의 두께는 80㎚ 내지 120㎚이고,
상기 기능층은 388㎚ 내지 700㎚의 광 파장 대역에서, 광 투과율이 평균 90% 이상이고,
상기 기능층은 250㎚ 내지 388㎚의 광 파장 대역에서, 평균 광 투과율이 90% 미만이고, 최소 광 투과율이 60% 이하이고
상기 기능층은 240㎚ 내지 340㎚의 광 파장 대역에서 상기 광 투과율이 가장 낮은 디스플레이 장치.a cover substrate including active and unactive areas;
a decoration layer disposed on the lower surface of the cover substrate corresponding to the non-effective area;
a reinforcing layer disposed on a lower surface of the cover substrate corresponding to the effective area and the non-effective area;
A polarizing layer disposed below the reinforcement layer;
a touch panel disposed below the polarizing layer; and
A display panel disposed below the touch panel,
The cover material is,
A flexible substrate including one side and another side opposite to the first side;
a surface reinforcement layer disposed on the one surface; and
It includes a functional layer disposed on the surface reinforcement layer,
The functional layer includes a first layer on the surface reinforcement layer; and a second layer on the first layer,
The refractive index of the first layer is greater than the refractive index of the flexible substrate,
The refractive index of the flexible substrate is greater than the refractive index of the second layer,
The refractive index of the soft substrate is 1.5 to 1.6,
The refractive index of the first layer is 2.0 or more,
The refractive index of the two layers is 1.5 or less,
The thickness of the first layer is 1 nm to 25 nm,
The thickness of the second layer is 80 nm to 120 nm,
The functional layer has an average light transmittance of 90% or more in the light wavelength band of 388 nm to 700 nm,
The functional layer has an average light transmittance of less than 90% and a minimum light transmittance of 60% or less in the light wavelength band of 250 nm to 388 nm.
The functional layer is a display device with the lowest light transmittance in the light wavelength band of 240 nm to 340 nm.
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