JP2006071982A

JP2006071982A - Ultraviolet ray absorbing antireflection film and image display apparatus

Info

Publication number: JP2006071982A
Application number: JP2004255377A
Authority: JP
Inventors: Tatsuji Nakajima; 達司中嶋
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2004-09-02
Filing date: 2004-09-02
Publication date: 2006-03-16

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ultraviolet ray absorbing antireflection film which can suppress deterioration of a flexible base material layer or an adhesion layer even under UV irradiation environment when used by being laminated or arranged on a surface of various kinds of display apparatuses such as a liquid crystal display apparatus, which is excellent in preservation stability, interlayer adhesion and durability and which can maintain an antireflection function and to provide an image display apparatus using the same. <P>SOLUTION: The antireflection film is constituted by forming an antireflection layer composed of a multilayer film comprising alternate lamination of a low refractive index film and a high refractive index film directly or via another layer on a flexible base material. In this antireflection film, the low refractive index film consists of any silicon compound among SiCxOy, SiOxNy and SiCxOyNz and the high refractive index film consists of TiOx and further transmissivity of the antireflection layer within a wavelength range of 200 to 350 nm is within a range of 0.1% and 50%. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、紫外線を吸収し、かつ可視光を透過する反射防止フィルム、およびそれを用いた画像表示装置に関し、さらに詳しくは、ワープロ、コンピュータ、テレビ等の各種ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板の表面、透明プラスチック類サングラスレンズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファインダーレンズなどの光学レンズ、各種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス等の表面に使用され、紫外線照射環境下において、反射防止層の劣化を防止する紫外線吸収反射防止フィルム、およびそれを用いた画像表示装置に関するものである。 The present invention relates to an antireflection film that absorbs ultraviolet light and transmits visible light, and an image display device using the same, and more particularly, various displays such as word processors, computers, and televisions, and a polarizing plate used in a liquid crystal display device. Used on surfaces such as glass surfaces, transparent plastic sunglasses lenses, optical glasses such as prescription eyeglass lenses, camera viewfinder lenses, covers for various instruments, automobiles, train windows, etc. The present invention relates to an ultraviolet absorbing antireflection film for preventing deterioration of a layer, and an image display device using the same.

従来よりカーブミラー、バックミラー、ゴーグル、窓ガラス、テレビ、パソコン・ワープロ等のディスプレイ、その他種々の商業ディスプレイ等には、ガラスやプラスチック等の透明基板が使用されている。
そして、それらの透明な基材には、基材を通して、文字や図形その他の情報を読み取るため、基材の表面で光が反射するのを防止するため、反射防止機能を付与することが行われる。
透明な基材に反射防止機能を付与するために、例えば、透明基材に、酸化珪素、酸化チタン等の無機酸化物からなり、それらは一般的に完全に酸化されており、互いに屈折率の異なる層を積層し多層膜を形成することが知られている。 Conventionally, transparent substrates such as glass and plastic have been used for curved mirrors, rearview mirrors, goggles, windows, televisions, personal computers, word processors and other displays, as well as other various commercial displays.
And in order to prevent light reflecting off the surface of a base material in order to read a character, a figure, and other information through a base material, those antireflection functions are given to those transparent base materials. .
In order to impart an antireflection function to a transparent base material, for example, the transparent base material is made of an inorganic oxide such as silicon oxide or titanium oxide, and they are generally completely oxidized and have a refractive index of each other. It is known that different layers are stacked to form a multilayer film.

そして、前記の反射防止膜の層構成としては、多層膜を構成する最外層（基材層と反対の表面）としては、光の反射を防止するために、酸化珪素等からなる屈折率の小さい層を設けることが知られており、前記の最外層の内側（基材層と最外層との層間）としては、最外層より屈折率の大きい層を１層以上形成するものが知られている。
また、前記の反射防止膜を作成する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法等の物理的蒸着方法や、プラズマＣＶＤ法等の化学的蒸着方法等が用いられることが知られている。 As the layer structure of the antireflection film, the outermost layer (surface opposite to the base material layer) constituting the multilayer film has a small refractive index made of silicon oxide or the like in order to prevent light reflection. It is known to provide a layer, and as the inside of the outermost layer (interlayer between the base material layer and the outermost layer), one that forms one or more layers having a higher refractive index than the outermost layer is known. .
In addition, as a method for forming the antireflection film, it is known that a physical vapor deposition method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method or an ion plating method, a chemical vapor deposition method such as a plasma CVD method, or the like is used. ing.

例えば、表示装置の最外部に貼り付ける反射防止フィルムとして、基材の片面に、ハードコート層、反射防止層及び防汚層がこの順に積層されてなることを特徴とする反射防止フィルムが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
上記の反射防止層としては、ＴｉＯ₂層とＳｉＯ₂層との２層積層体や、この２層積層体上に、ＴｉＯ₂層及びＳｉＯ₂層がこの順序で形成された４層積層体を設けることにより特定反射を低くすることができるので好ましい。
特開２０００−１２１８０４号公報 For example, as an antireflection film to be attached to the outermost part of a display device, an antireflection film is proposed in which a hard coat layer, an antireflection layer, and an antifouling layer are laminated in this order on one side of a substrate. (For example, refer to Patent Document 1).
The antireflection layer of the above, and 2-layer laminate of the TiO ₂ layer and the SiO ₂ layer, a two-layer laminate on a 4-layer laminate TiO ₂ layer and the SiO ₂ layer was formed in this order This is preferable because the specific reflection can be lowered.
JP 2000-121804 A

しかしながら、特許文献１の反射防止フィルムのように、高分子フィルム上に形成された反射防止層が、ＴｉＯ₂層とＳｉＯ₂層等の金属酸化物のみから形成されると、紫外線等の短波長の光を透過しやすいという特性を有する。
このため、特許文献１の反射防止フィルムは、紫外線照射環境下に長時間晒されると、紫外線のエネルギーによって、反射防止層の下地となる高分子化合物からなる可撓性基材や粘着層と接する表面の有機物質を攻撃して、酸化分解が促進されて劣化してしてしまい、高分子からなる可撓性基材層と反射防止層との層間や、粘着層と画像表示装置の表示ディスプレイ間で密着強度が低下するという欠点がある。 However, when the antireflection layer formed on the polymer film is formed only of a metal oxide such as a TiO ₂ layer and a SiO ₂ layer as in the antireflection film of Patent Document 1, a short wavelength such as ultraviolet rays is used. It is easy to transmit light.
For this reason, when the antireflection film of Patent Document 1 is exposed to an ultraviolet irradiation environment for a long time, it comes into contact with a flexible base material or an adhesive layer made of a polymer compound serving as a base of the antireflection layer by ultraviolet energy. Attacks the organic material on the surface, and the degradation is accelerated by oxidative decomposition, resulting in the interlayer between the flexible base material layer made of polymer and the antireflection layer, the display layer of the adhesive layer and the image display device There is a drawback in that the adhesion strength decreases.

本発明の目的は、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（以下「ＥＬ」ともいう。）表示装置、無機ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ（以下「ＰＤＰ」ともいう。）等の各種表示装置の表面に積層、又は、配置して使用して紫外線照射環境下においても、可撓性基材層や粘着層の劣化を抑制し、保存安定性、層間密着性、耐久性に優れ、反射防止機能を維持できる紫外線吸収反射防止フィルム、および画像表示装置を提供することにある。 An object of the present invention is to stack on the surface of various display devices such as a liquid crystal display device, an organic electroluminescence (hereinafter also referred to as “EL”) display device, an inorganic EL display device, and a plasma display (hereinafter also referred to as “PDP”). Or, it can be placed and used to suppress deterioration of the flexible base material layer and adhesive layer even under an ultraviolet irradiation environment, and has excellent storage stability, interlayer adhesion and durability, and can maintain an antireflection function. An object of the present invention is to provide an ultraviolet absorbing antireflection film and an image display device.

本発明に係る紫外線吸収反射防止フィルムは、上記の課題を解決するもので、可撓性基材の上に、直接、または、他の層を介して、低屈折率膜と高屈折率膜を交互に積層されてなる多層膜からなる反射防止層を形成する反射防止フィルムにおいて、前記の低屈折率膜が、ＳｉＣｘＯｙ（０．５≦ｘ＜１．３，０≦ｙ＜１）、ＳｉＯｘＮｙ（０．５≦ｘ≦１．５，０．２≦ｙ＜１）、ＳｉＣｘＯｙＮｚ（０．２≦ｘ＜１，０．５≦ｙ＜１，０．２≦ｚ＜１)のから選ばれるケイ素化合物からなり、前記の高屈折率膜が、ＴｉＯｘ（０．１≦ｘ＜３）からなり、かつ、波長２００〜３５０ｎｍの範囲における前記の反射防止層の透過率が、０．１％〜５０％の範囲にあることを特徴とする。 The ultraviolet-absorbing antireflection film according to the present invention solves the above-mentioned problems, and a low refractive index film and a high refractive index film are formed on a flexible substrate directly or via another layer. In the antireflection film for forming an antireflection layer composed of a multilayer film alternately laminated, the low refractive index film is composed of SiCxOy (0.5 ≦ x <1.3, 0 ≦ y <1), SiOxNy ( 0.5 ≦ x ≦ 1.5, 0.2 ≦ y <1), SiCxOyNz (0.2 ≦ x <1, 0.5 ≦ y <1, 0.2 ≦ z <1) The high-refractive-index film made of a compound is made of TiOx (0.1 ≦ x <3), and the transmittance of the antireflection layer in the wavelength range of 200 to 350 nm is 0.1% to 50 % Range.

また、本発明に係る紫外線吸収反射防止フィルムは、前記の可撓性基材上にハードコートを備えることが可能であることを特徴とする。 Moreover, the ultraviolet absorption antireflection film according to the present invention is characterized in that a hard coat can be provided on the flexible substrate.

また、本発明に係る紫外線吸収反射防止フィルムは、前記の可撓性基材、または前記のハードコート上に１種類以上の光学層が、１層〜５層形成されていることを特徴とする。 Moreover, the ultraviolet-absorption antireflection film according to the present invention is characterized in that one to five layers of one or more optical layers are formed on the flexible substrate or the hard coat. .

また、本発明に係る紫外線吸収反射防止フィルムにおいて、前記の反射防止層が、前記の可撓性基材側から酸化珪素、酸化チタン、酸化珪素を主成分とする層から構成されることを特徴とする。 Further, in the ultraviolet absorbing antireflection film according to the present invention, the antireflection layer is composed of a layer mainly composed of silicon oxide, titanium oxide, and silicon oxide from the flexible substrate side. And

また、本発明に係る紫外線吸収反射防止フィルムは、前記の反射防止層の上に防汚層が形成されていることを特徴とする。 Moreover, the ultraviolet absorption antireflection film according to the present invention is characterized in that an antifouling layer is formed on the antireflection layer.

また、本発明に係る紫外線吸収反射防止フィルムは、前記の反射防止層と反対側の前記の可撓性基材面に粘着層を形成することを特徴とする。 Moreover, the ultraviolet-absorbing antireflection film according to the present invention is characterized in that an adhesive layer is formed on the surface of the flexible substrate opposite to the antireflection layer.

また、本発明に係る画像表示装置は、上記の紫外線吸収反射防止フィルムが、表示部の観察側に積層、又は、配置されていることを特徴とする。 Moreover, the image display apparatus according to the present invention is characterized in that the ultraviolet absorbing antireflection film is laminated or disposed on the observation side of the display unit.

本発明の紫外線吸収反射防止フィルムは、反射防止層として、窒素元素や炭素元素を一定量、含有するＳｉＯ₂層を用いることによって、紫外線の透過量を抑えることが可能であるため、各種ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板の表面、透明プラスチック類サングラスレンズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファインダーレンズなどの光学レンズ、各種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス等の表面に使用され、紫外線照射環境下において、可撓性基材層や粘着層の劣化を抑制し、保存安定性、層間密着性、耐久性に優れるため、反射防止機能を維持できるという利点を有する。 Since the ultraviolet absorbing antireflection film of the present invention can suppress the amount of transmitted ultraviolet light by using a SiO ₂ layer containing a certain amount of nitrogen and carbon as an antireflection layer, various displays, Used on the surface of polarizing plates used in liquid crystal display devices, optical lenses such as transparent plastic sunglasses lenses, prescription eyeglass lenses, camera finder lenses, covers of various instruments, window glass of automobiles, trains, etc., ultraviolet rays Under the irradiation environment, the deterioration of the flexible base material layer and the pressure-sensitive adhesive layer is suppressed, and the storage stability, interlayer adhesion, and durability are excellent, so that the antireflection function can be maintained.

上記の本発明について、以下に更に詳しく説明する。
まず、本発明にかかる紫外線吸収反射防止フィルム、及び、それを使用した画像表示装置の構成を例示して図面を用いて説明すると、図１は、本発明に係る紫外線吸収反射防止フィルムの一態様である層構成を示す概略断面図であり、図２は、本発明に係る紫外線吸収反射防止フィルムにより表示面を被覆した液晶表示装置の一例を示す概略断面図であり、図３は、プラズマＣＶＤ法による本発明に係る可撓性基材上に紫外線吸収反射防止膜を形成する紫外線吸収反射防止フィルムの製造方法を説明するための概略図である。 The present invention will be described in more detail below.
First, the configuration of an ultraviolet absorption antireflection film according to the present invention and an image display device using the same will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows one embodiment of the ultraviolet absorption antireflection film according to the present invention. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a layer structure of FIG. 2, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a liquid crystal display device having a display surface covered with an ultraviolet-absorbing antireflection film according to the present invention, and FIG. It is the schematic for demonstrating the manufacturing method of the ultraviolet absorption antireflection film which forms an ultraviolet absorption antireflection film on the flexible base material based on this invention by a method.

図１は、本発明に係る紫外線吸収反射防止フィルム３６の一態様である層構成を示す概略断面図である。
図１に示すように、本発明に係る紫外線吸収反射防止フィルム３６は、可撓性基材層３０の上に紫外線吸収反射防止層を複数層形成するものであり、層構成、低屈折率層３２／高屈折率層３３／低屈折率層３２／可撓性基材層３０からなる。
低屈折率層３２と高屈折率層３３は、相互に屈折率の差が大きい層を積層することによって、夫々の屈折率の違いにより可視光域の広い範囲で光の反射を効率よく防止することができる。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration which is an embodiment of the ultraviolet absorbing antireflection film 36 according to the present invention.
As shown in FIG. 1, the ultraviolet absorbing and antireflective film 36 according to the present invention is formed by forming a plurality of ultraviolet absorbing and antireflective layers on a flexible base layer 30. 32 / high refractive index layer 33 / low refractive index layer 32 / flexible substrate layer 30.
The low-refractive index layer 32 and the high-refractive index layer 33 are formed by laminating layers having a large difference in refractive index from each other, thereby efficiently preventing light reflection in a wide range of the visible light region due to the difference in refractive index. be able to.

また、本発明に係る反射防止層において、波長２００ｎｍ〜３５０ｎｍの紫外線領域の透過率が、０．１％〜５０％の範囲であることが好ましく、０．１％〜１０％であることがより好ましい。このことによって、反射防止層で紫外線を吸収することが可能であり、下地の高分子フィルムや粘着層の劣化を防止することができるという効果を奏する。
また、本発明に係る反射防止層は、波長４００ｎｍ以上の可視光領域の吸収が少ない方が画面表示に優れるので好ましい。 In the antireflection layer according to the present invention, the transmittance in the ultraviolet region having a wavelength of 200 nm to 350 nm is preferably in the range of 0.1% to 50%, more preferably 0.1% to 10%. preferable. As a result, the antireflection layer can absorb ultraviolet rays, and it is possible to prevent deterioration of the underlying polymer film or adhesive layer.
In addition, it is preferable that the antireflection layer according to the present invention has less absorption in the visible light region having a wavelength of 400 nm or more because it is excellent in screen display.

また、本発明の反射防止層の厚さは、特に限定されるものではなく、反射防止効果を奏することができればいかなる厚さでもよいが、３０ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ〜２００ｎｍがより好ましい。
層の厚さが３０ｎｍより薄いと、反射防止効果をほとんど期待できないため好ましくなく、一方、層の厚さが５００ｎｍより厚いと可視光線透過率が低くなるため好ましくない。 In addition, the thickness of the antireflection layer of the present invention is not particularly limited, and may be any thickness as long as an antireflection effect can be obtained, but is preferably 30 nm to 500 nm, and more preferably 50 nm to 200 nm.
If the thickness of the layer is less than 30 nm, the antireflection effect can hardly be expected, which is not preferable. On the other hand, if the thickness of the layer is more than 500 nm, the visible light transmittance is lowered, which is not preferable.

本発明に係る紫外線吸収機能を有する反射防止層の最外層（可撓性基材と反対側の表面）に設けられる低屈折率層としては、反射防止フィルムの光学特性（反射防止機能）を向上せしめ、かつ、紫外線の透過量を抑制せしめるために設けられるものである。
上記において、低屈折率層は、組成式ＳｉＣｘＯｙ（０．５≦ｘ＜１．３、０≦ｙ＜１)、ＳｉＯｘＮｙ（０．５≦ｘ≦１．５、０．２≦ｙ＜１)、ＳｉＣｘＯｙＮｚ（０．２≦ｘ＜１、０．５≦ｙ＜１、０．２≦ｚ＜１)のいずれかからなるケイ素化合物からなることが必要である。
本発明に係る低屈折率層３２は、上記の組成式から構成されることによって、紫外線等の短波長での吸収が大きいため、結晶の伝導帯と荷電子帯間の光学的バンドギャップ以上のエネルギー（紫外線等の励起光源）が与えられても、下地の高分子フィルム（可撓性基材層）表面の酸化分解による劣化の進行を抑制し、可撓性基材層と反射防止層との層間密着性の保存安定性に優れるという利点を有する。
また、本発明における反射防止層を構成する低屈折率層の光学的バンドギャップが狭く、エネルギーの高い紫外線等の短波長光を通しにくいため、下地の高分子フィルムや粘着層の劣化を防止することが可能であり、反射防止層、可撓性基材層および、粘着層の層間密着性に優れるという利点を有する。
また、当該低屈折率層を最外層に設けることにより、効率よく光を透過することができ、紫外線の吸収を効率よく行うことができるという利点を有する。
上記のＳｉＣｘＯｙの組成式において、炭素元素ｘが０．５未満であると、紫外線吸収機能の低下を招くため好ましくなく、ｘが１を超えると、酸化珪素膜が黄色に着色したり、酸化珪素膜の透明度が低下してしまい、反射防止フィルムの反射防止機能多層膜として好適に用いることができなくなるため好ましくない。
上記のＳｉＯｘＮｙの組成式において、窒素元素ｙが０．２未満であると、紫外線吸収機能の低下を招くため、好ましくなく、窒素元素ｙが１を超えると、低屈折率層の層間密着性に劣るため好ましくない。
上記のＳｉＣｘＯｙＮｚの組成式において、炭素元素ｘおよび窒素元素ｚが０．２未満であると、紫外線吸収機能の低下を招くため好ましくなく、炭素元素ｘおよび窒素元素ｚが１を超えると、酸化珪素膜が着色したり、酸化珪素膜の透明度が低下してしまい、低屈折率層の層間密着性に劣るため好ましくない。
前記の低屈折率層３２の厚さは、０．５ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、２．０ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましい。これらの厚さは他の反射防止層との組み合わせによって最適な反射防止フイルムとなるように適宜選択使用される。 As a low refractive index layer provided on the outermost layer (surface opposite to the flexible substrate) of the antireflection layer having an ultraviolet absorption function according to the present invention, the optical properties (antireflection function) of the antireflection film are improved. It is provided in order to reduce the amount of ultraviolet light transmitted.
In the above, the low refractive index layer is composed of the composition formula SiCxOy (0.5 ≦ x <1.3, 0 ≦ y <1), SiOxNy (0.5 ≦ x ≦ 1.5, 0.2 ≦ y <1). , SiCxOyNz (0.2 ≦ x <1, 0.5 ≦ y <1, 0.2 ≦ z <1).
Since the low refractive index layer 32 according to the present invention is composed of the above composition formula and has a large absorption at a short wavelength such as ultraviolet rays, the low refractive index layer 32 exceeds the optical band gap between the conduction band and the valence band of the crystal. Even if energy (excitation light source such as ultraviolet rays) is applied, the progress of deterioration due to oxidative decomposition of the surface of the underlying polymer film (flexible base material layer) is suppressed, and the flexible base material layer and the antireflection layer It has the advantage of being excellent in storage stability of the interlayer adhesion.
In addition, since the optical band gap of the low refractive index layer constituting the antireflection layer in the present invention is narrow and it is difficult to transmit short wavelength light such as high energy ultraviolet rays, it prevents deterioration of the underlying polymer film or adhesive layer. And has an advantage of excellent interlayer adhesion between the antireflection layer, the flexible base material layer, and the adhesive layer.
Further, by providing the low refractive index layer as the outermost layer, there is an advantage that light can be efficiently transmitted and ultraviolet rays can be efficiently absorbed.
In the composition formula of SiCxOy, it is not preferable that the carbon element x is less than 0.5 because the ultraviolet absorption function is deteriorated, and when x exceeds 1, the silicon oxide film is colored yellow or silicon oxide. The transparency of the film is lowered, and it is not preferable because it cannot be suitably used as the antireflection functional multilayer film of the antireflection film.
In the composition formula of SiOxNy, if the nitrogen element y is less than 0.2, the ultraviolet absorption function is deteriorated. Therefore, if the nitrogen element y exceeds 1, the interlayer adhesion of the low refractive index layer is not preferable. Since it is inferior, it is not preferable.
In the composition formula of SiCxOyNz, when the carbon element x and the nitrogen element z are less than 0.2, the ultraviolet absorption function is deteriorated, which is not preferable. When the carbon element x and the nitrogen element z exceed 1, silicon oxide This is not preferable because the film is colored or the transparency of the silicon oxide film is lowered and the interlayer adhesion of the low refractive index layer is poor.
The thickness of the low refractive index layer 32 is preferably 0.5 nm to 200 nm, and more preferably 2.0 nm to 100 nm. These thicknesses are appropriately selected and used so that an optimum antireflection film can be obtained by combination with other antireflection layers.

酸化珪素の原料としては、有機シリコーンが反射防止層の密着性も向上することができ、歩留まりを向上することができ、低コストであるという理由で好ましく、具体的には、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、メチルトリメトキシシラン（ＭＴＭＯＳ）、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、テトラメトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラエトキシシラン等である。 As a raw material for silicon oxide, organosilicone is preferable because it can improve the adhesion of the antireflection layer, improve the yield, and is low in cost. Specifically, hexamethyldisiloxane ( HMDSO), tetramethyldisiloxane (TMDSO), methyltrimethoxysilane (MTMOS), methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, phenylsilane, tetramethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, octamethylcyclotetra Examples thereof include siloxane and tetraethoxysilane.

本発明に係る反射防止層において、屈折率、１．８以上（５５０ｎｍ）の高屈折率層３３としては、例えば、酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛等を使用することができるが、本発明において、中でも酸化チタンを使用することが屈折率が高いという理由で好ましい。 In the antireflection layer according to the present invention, examples of the high refractive index layer 33 having a refractive index of 1.8 or more (550 nm) include titanium oxide, indium oxide, tin oxide, niobium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, and zinc oxide. In the present invention, it is preferable to use titanium oxide because of its high refractive index.

前記の酸化チタン層を形成するための原料としては、Ｔｉ（ｉ−ＯＣ₃Ｈ₇）₄（チタンテトラｉ−プロポキシド）、Ｔｉ（ＯＣＨ₃）₄（チタンテトラメトキシド）、Ｔｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄（チタンテトラエトキシド）、Ｔｉ（ｎ−ＯＣ₃Ｈ₇）₄（チタンテトラｎ−プロポキシド）、Ｔｉ（ｎ−ＯＣ₄Ｈ₉）₄（チタンテトラｎ−ブトキシド）、Ｔｉ（ｔ−ＯＣ₄Ｈ₉）₄（チタンテトラｔ−ブトキシド）、Ｔｉ（ｓｅｃ−ＯＣ₄Ｈ₉）₄（チタンテトラｓｅｃ−ブトキシド）のチタンアルコキシド、およびＴｉＣｌ₄（四塩化チタン）が挙げられる。その中でも、Ｔｉ（ｉ−ＯＣ₃Ｈ₇）₄（チタンテトラｉ−プロポキシド）、Ｔｉ（ｔ−ＯＣ₄Ｈ₉）₄（チタンテトラｔ−ブトキシド）は、蒸気圧が高く、真空製膜時に取り扱いやすいという理由で好適である。 As a raw material for forming the titanium oxide layer, Ti (i-OC ₃ H ₇ ) ₄ (titanium tetra i-propoxide), Ti (OCH ₃ ) ₄ (titanium tetramethoxide), Ti (OC ₂ ) H ₅ ) ₄ (titanium tetraethoxide), Ti (n—OC ₃ H ₇ ) ₄ (titanium tetra n-propoxide), Ti (n—OC ₄ H ₉ ) ₄ (titanium tetra n-butoxide), Ti ( Examples include t-OC ₄ H ₉ ) ₄ (titanium tetra t-butoxide), titanium alkoxide of Ti (sec-OC ₄ H ₉ ) ₄ (titanium tetra sec-butoxide), and TiCl ₄ (titanium tetrachloride). Among them, Ti (i-OC ₃ H ₇ ) ₄ (titanium tetra i-propoxide) and Ti (t-OC ₄ H ₉ ) ₄ (titanium tetra t-butoxide) have a high vapor pressure and are used during vacuum film formation. It is suitable because it is easy to handle.

次に、本発明に係る反射防止フィルムの可撓性基材層３０としては、当該反射防止フィルムの土台となる部分である。
可撓性基材層３０は、可視光域で透明な高分子フィルムであれば特に限定されるものではなく、具体的に、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリスチレン系樹脂フィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネイト系樹脂フィルム、ポリスルホンフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム、ポリエーテルフィルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォン系フィルム、アクリロニトリルフィルム、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂（ＡＳ樹脂）フィルム、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体樹脂（ＡＢＳ樹脂）フィルム、ポリアミド系樹脂フィルム、フッ素系樹脂フィルム、アセタール系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム等が使用できる。
中でも、無色透明の延伸フィルムが好ましく、一軸または二軸延伸ポリエステルフィルムが透明性、耐熱性に優れていることからより好ましい。
また、光学異方性のない点でトリアセチルセルロースも好ましい。
基材の厚みとしては、通常は６μｍ〜３００μｍ程度のものが好ましい。
なお、本発明における基材は、本質的に透明である限り着色されていてもよく、印刷などで模様や文字などが付与されていてもよい。 Next, as the flexible base material layer 30 of the antireflection film according to the present invention, it is a portion that becomes the foundation of the antireflection film.
The flexible substrate layer 30 is not particularly limited as long as it is a polymer film that is transparent in the visible light range. Specifically, for example, a triacetyl cellulose film, a diacetyl cellulose film, an acetate butyrate cellulose film, Polyethersulfone film, polystyrene resin film, polyacrylic resin film, polyurethane resin film, polyester film, polycarbonate resin film, polysulfone film, cyclic olefin resin film, polyether film, trimethylpentene film, polyether Ketone film, polyether sulfone film, acrylonitrile film, acrylonitrile-styrene copolymer resin (AS resin) film, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer Coalescing resin (ABS resin) film, polyamide resin film, fluororesin film, acetal resin film, a cellulose-based resin film or the like can be used.
Among these, a colorless and transparent stretched film is preferable, and a uniaxial or biaxially stretched polyester film is more preferable because it is excellent in transparency and heat resistance.
Further, triacetyl cellulose is also preferable from the viewpoint of no optical anisotropy.
The thickness of the substrate is usually preferably about 6 μm to 300 μm.
In addition, the base material in this invention may be colored as long as it is essentially transparent, and a pattern, a character, etc. may be provided by printing etc.

また、反射防止フィルム３６としては、ハードコート層３１も設けることができる。
本発明に用いられるハードコート層３１は、本発明の反射防止フィルムに強度を持たせることを目的として形成される層である。従って、反射防止フィルムの用途によっては必須の層ではない。 Further, as the antireflection film 36, a hard coat layer 31 can also be provided.
The hard coat layer 31 used in the present invention is a layer formed for the purpose of imparting strength to the antireflection film of the present invention. Therefore, it is not an essential layer depending on the use of the antireflection film.

ハードコート層３１を形成するための材料としては、同様に可視光域で透明な材料であり反射防止フィルムに強度をもたせることができるものであれば特に限定されるものではなく、その強度としては、ＪＩＳＫ５６００−５−４で示す鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すことが好ましい。
具体的には、熱硬化型樹脂、及び／又は、電離放射線硬化型樹脂を用いることが好ましく、さらに具体的には、アクリレート系の官能基をもつもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル、ポリエーテル、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン、ポリチオールポリエン系樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート（以下、アクリレートとメタアクリレートとを（メタ）アクリレートと記載する。）等のオリゴマー又はプレポリマー及び反応性の希釈剤であるエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、へキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を含むものが好適に用いられる。
前記のハードコート層の膜厚としては、通常１〜３０μｍの範囲のものが好適に用いられる。
その形成方法は、通常のコーティング方法を用いることが可能であり、特に限定されるものではない。 The material for forming the hard coat layer 31 is not particularly limited as long as it is a transparent material in the visible light region and can give strength to the antireflection film. It is preferable to show a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test shown in JIS K5600-5-4.
Specifically, it is preferable to use a thermosetting resin and / or an ionizing radiation curable resin, and more specifically, those having an acrylate functional group, for example, a relatively low molecular weight polyester, Ether, acrylic resin, epoxy resin, polyurethane, alkyd resin, spiroacetal resin, polybutadiene, polythiol polyene resin, polyfunctional compound (meth) acrylate (hereinafter referred to as acrylate and methacrylate (meth) Monofunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, vinyltoluene, N-vinylpyrrolidone and the like, which are reactive diluents and oligomers or prepolymers such as acrylate) Monomers, such as trimethylol Lopantri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6 -What contains hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, etc. is used suitably.
As the film thickness of the hard coat layer, those in the range of usually 1 to 30 μm are preferably used.
The formation method can use a normal coating method, and is not particularly limited.

また、ハードコート層３１を設ける位置であるが、ハードコートを設ける目的は反射防止フィルムを構成する基材層の強度を向上させることであり、反射防止機能を向上せしめるためのものではないため、最上層のシリカ層から離れた位置であって、基材のすぐ上に設置することが好ましい。 Moreover, although it is the position where the hard coat layer 31 is provided, the purpose of providing the hard coat is to improve the strength of the base material layer constituting the antireflection film, and not to improve the antireflection function. It is preferable to install it immediately above the substrate at a position away from the uppermost silica layer.

本発明の反射防止フィルムとしては、最上層の低屈折率層３２の更に上に防汚層３５を設けてもよい。
防汚層３５は、ディスプレイパネルの前面に配置した反射防止フィルムにごみや汚れが付着するのを防止し、あるいは付着しても除去しやすくするために形成される。具体的には、反射防止機能を低下させない範囲でフッ素系界面活性剤等の界面活性剤、フッ素系樹脂を含む塗料、シリコーンオイル等の剥離剤、もしくはワックス等をごく薄く塗布し、余剰分を拭い除去しておく。
防汚層３５は、恒久的な層として形成してもよいが、必要の都度、塗布して形成してもよい。防汚層３５の厚みとしては、１〜３０ｎｍが好ましい。
３０ｎｍを超えると、光学的な影響が生じ、反射防止フィルムとしての光学特性を低下せしめるため、好ましくない。 As the antireflection film of the present invention, an antifouling layer 35 may be provided on the uppermost low refractive index layer 32.
The antifouling layer 35 is formed to prevent dust or dirt from adhering to the antireflection film disposed on the front surface of the display panel, or to make it easy to remove even if adhering. Specifically, apply a very thin coating of a surfactant such as a fluorosurfactant, a paint containing a fluororesin, a release agent such as silicone oil, or wax within a range that does not degrade the antireflection function. Wipe away.
Although the antifouling layer 35 may be formed as a permanent layer, it may be formed by coating as necessary. The thickness of the antifouling layer 35 is preferably 1 to 30 nm.
If it exceeds 30 nm, an optical effect is produced, and the optical properties as an antireflection film are deteriorated.

本発明の反射防止フィルムとしては、前記の可撓性基材もおいて紫外線吸収反射防止層を形成しない面に、粘着層を設けることができる。
本発明にかかる粘着層は、透明であって、ガラス等の反射防止すべき対象物、に貼着して用いるために十分な接着強度を有すれば、いずれの接着剤、粘着剤を用いても良いが、好ましくは、ガラス転移温度の低い粘着性樹脂やゴム弾性を有する熱可塑性エラストマーとワックスとの混合物からなるものを用いることができる。
具体的に、ガラス転移温度の低い粘着性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂が用いられ、ゴム弾性を有する熱可塑性エラストマーとしては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ニトリルゴム、ニトリル−ブタジエンゴム、ハイスチレンゴム、アクリルゴム等の合成ゴム、天然ゴム等を使用することができる。
また、粘着層は、ロールコータ、ダイコータ、ブレードコータ等により形成する。 As the antireflection film of the present invention, an adhesive layer can be provided on the surface of the flexible base material on which the ultraviolet absorbing antireflection layer is not formed.
The adhesive layer according to the present invention is transparent, and any adhesive or adhesive can be used as long as the adhesive layer has sufficient adhesive strength to be used by sticking to an object to be antireflective such as glass. However, it is preferable to use an adhesive resin having a low glass transition temperature or a mixture of a thermoplastic elastomer having rubber elasticity and a wax.
Specifically, for example, acrylic resins and silicone resins are used as adhesive resins having a low glass transition temperature, and examples of thermoplastic elastomers having rubber elasticity include ethylene-vinyl acetate copolymers and butadiene rubbers. Synthetic rubber such as styrene-butadiene rubber, nitrile rubber, nitrile-butadiene rubber, high styrene rubber, acrylic rubber, natural rubber, and the like can be used.
The adhesive layer is formed by a roll coater, a die coater, a blade coater or the like.

本発明に係る反射防止層を構成する高屈折率層、及び、低屈折率層を可撓性基材層の上に形成する方法としては、例えば、前記の材料をプラズマ化学蒸着（ＣＶＤ）法、熱ＣＶＤ法、真空蒸着法、スパッタリング法、ゾルゲル法等のウェットコーティング法、イオンプレーティング法等の薄膜形成法で形成あるいは積層することができる。
中でも、プラズマＣＶＤ法を用いることにより、反射防止層を形成する際の膜厚、屈折率等の条件を比較的容易に管理することができ、特に有機物を含有する原料を形成する際には、原料をガス状にして用いるプラズマＣＶＤ法、スパッタ法が安定した薄膜を形成することができ、また、複数の薄層を同時に形成することができるため、生産性の向上を図ることができるという利点を有するため好ましいものである。 As a method for forming the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the antireflection layer according to the present invention on the flexible substrate layer, for example, the above-mentioned materials are formed by plasma chemical vapor deposition (CVD). Further, it can be formed or laminated by a thin film forming method such as a thermal CVD method, a vacuum deposition method, a sputtering method, a wet coating method such as a sol-gel method, or an ion plating method.
Among them, by using the plasma CVD method, it is possible to relatively easily manage conditions such as a film thickness and a refractive index when forming the antireflection layer, and particularly when forming a raw material containing an organic substance. Advantages of improving productivity because it is possible to form a stable thin film by a plasma CVD method and a sputtering method using a raw material in a gaseous state, and a plurality of thin layers can be formed simultaneously. This is preferable.

図３は、プラズマＣＶＤ法による本発明に係る可撓性基材層上に光学機能性膜を形成する反射防止フィルムの製造方法を説明するための概略図である。
図３に示すように、プラズマＣＶＤ装置を用いて可撓性基材層上に光学機能性膜を形成したフィルムの製造方法としては、まず、ウエッブ状の高分子フィルム（可撓性基材層）１が基材巻き出し部２より巻きだされて、真空容器３中のプラズマＣＶＤの反応室４に導入される。
この反応容器３の全体は、真空ポンプ５により排気される。また、同時に反応室４には、原料ガス導入口６より規定流量の有機チタン化合物ガスと酸素ガスが供給され、反応室４の内部は、常に一定圧力のこれらのガスで満たされている。 FIG. 3 is a schematic view for explaining a method for producing an antireflection film in which an optical functional film is formed on the flexible substrate layer according to the present invention by plasma CVD.
As shown in FIG. 3, as a method for producing a film in which an optical functional film is formed on a flexible base layer using a plasma CVD apparatus, first, a web-like polymer film (flexible base layer) ) 1 is unwound from the substrate unwinding section 2 and introduced into the plasma CVD reaction chamber 4 in the vacuum vessel 3.
The entire reaction vessel 3 is evacuated by a vacuum pump 5. At the same time, the reaction chamber 4 is supplied with an organic titanium compound gas and oxygen gas at a predetermined flow rate from the raw material gas inlet 6, and the interior of the reaction chamber 4 is always filled with these gases at a constant pressure.

次に、基材巻き出し部２より巻き出され、反応室４に導入された高分子フィルム１は、反転ロール７を経て、成膜用ドラム８に巻き付き、成膜用ドラム８の回転と同期しながら反転ロール７’の方向に送られていく。
次に、電極９と成膜用ドラム８との間には、電源１０によりＲＦ電圧が印加される。
このとき、電源の周波数は、ラジオ波に限らず、直流からマイクロ波まで適当な周波数を使用することも可能である。
そして、電極９と成膜用ドラム８の間にＲＦ電圧を印加することにより、この両電極の周辺にプラズマ１１が発生する。
そして、このプラズマ１１中で原料ガスが反応し、化合物を生成して成膜用ドラム８に巻き付いた高分子フィルム１上に堆積して、紫外線吸収反射防止膜１２が形成される。
その後、反射防止膜１２が表面に形成された高分子フィルム１は、反転ロール７’を経て、基材巻き取り部２’で巻き取られる。
本発明のプラズマＣＶＤ法においては、温度、材料ガス流量・圧力、放電条件、高分子フィルム１の送りスピートのコントロールにより、形成される反射防止膜１２の屈折率、膜厚等を広範囲でコントロールしうるため、所望の光学特性の膜を得ることができる。 Next, the polymer film 1 unwound from the substrate unwinding section 2 and introduced into the reaction chamber 4 is wound around the film-forming drum 8 through the reverse roll 7 and is synchronized with the rotation of the film-forming drum 8. While being sent in the direction of the reverse roll 7 '.
Next, an RF voltage is applied between the electrode 9 and the film forming drum 8 by the power supply 10.
At this time, the frequency of the power source is not limited to a radio wave, and an appropriate frequency from a direct current to a microwave can be used.
Then, by applying an RF voltage between the electrode 9 and the film forming drum 8, plasma 11 is generated around these electrodes.
Then, the raw material gas reacts in the plasma 11 to generate a compound, which is deposited on the polymer film 1 wound around the film-forming drum 8, thereby forming the ultraviolet absorbing antireflection film 12.
Thereafter, the polymer film 1 having the antireflection film 12 formed on the surface thereof is wound up by the substrate winding portion 2 ′ through the reverse roll 7 ′.
In the plasma CVD method of the present invention, the refractive index, film thickness, and the like of the formed antireflection film 12 are controlled over a wide range by controlling the temperature, material gas flow rate / pressure, discharge conditions, and feeding speed of the polymer film 1. Therefore, a film having desired optical characteristics can be obtained.

図４は、プラズマＣＶＤ法による本発明に係る反射防止フィルムの製造方法を説明するための別態様の概略図である。
反射防止フィルムの作製には、図４に示すようなプラズマＣＶＤ装置を用いることも可能である。
当該プラズマＣＶＤ装置は容量結合型のプラズマＣＶＤ装置であり、その基本的構造及び原理は図３の装置と同様である。
従って、当該装置においてもウェブ状の高分子フィルム２１は基材巻き出し部２２より巻きだされて、真空容器２３中の反応室（ａ，ｂ，ｃ）に導入される。そして、当該反応室内の成膜用ドラム２４上で所定の膜が形成され、基材巻き取り部２６により巻き取られる。 FIG. 4 is a schematic view of another embodiment for explaining the production method of the antireflection film according to the present invention by the plasma CVD method.
For the production of the antireflection film, a plasma CVD apparatus as shown in FIG. 4 can also be used.
The plasma CVD apparatus is a capacitively coupled plasma CVD apparatus, and its basic structure and principle are the same as those of the apparatus of FIG.
Therefore, also in the apparatus, the web-like polymer film 21 is unwound from the substrate unwinding portion 22 and introduced into the reaction chambers (a, b, c) in the vacuum vessel 23. Then, a predetermined film is formed on the film-forming drum 24 in the reaction chamber, and is taken up by the substrate take-up unit 26.

従って、当該装置においてもウェブ状の高分子フィルム２１は基材巻き出し部２２より巻きだされて、真空容器２３中の反応室（ａ，ｂ，ｃ）に導入される。そして、当該反応室内の成膜用ドラム２４上で所定の膜が形成され、基材巻き取り部２６により巻き取られる。 Therefore, also in the apparatus, the web-like polymer film 21 is unwound from the substrate unwinding portion 22 and introduced into the reaction chambers (a, b, c) in the vacuum vessel 23. Then, a predetermined film is formed on the film-forming drum 24 in the reaction chamber, and is taken up by the substrate take-up unit 26.

図４に示す装置と図３に示す装置との差は、図３に示す装置においては、フィルム上に反射防止膜を形成するための反応室は一つしか設置されていないが、図４に示すプラズマＣＶＤ装置は、複数（３つ）の反応室を有している点にある。夫々の反応室（ａ，ｂ，ｃ）は隔離壁２５で隔離されることで形成されている。ここで、以下の説明の便宜上、当該３つの反応室を右側から反応室ａ、反応室ｂ、反応室ｃとする。そして、各反応室には、夫々電極版ａ１、ｂ１、ｃ１及び原料ガス導入口ａ２、ｂ２、ｃ２が設置されている。 The difference between the apparatus shown in FIG. 4 and the apparatus shown in FIG. 3 is that the apparatus shown in FIG. 3 has only one reaction chamber for forming an antireflection film on the film. The plasma CVD apparatus shown has a plurality of (three) reaction chambers. Each reaction chamber (a, b, c) is formed by being isolated by an isolation wall 25. Here, for convenience of the following description, the three reaction chambers are referred to as a reaction chamber a, a reaction chamber b, and a reaction chamber c from the right side. In each reaction chamber, electrode plates a1, b1, c1 and source gas inlets a2, b2, c2 are installed, respectively.

各反応室（ａ，ｂ，ｃ）は、成膜用ドラム２４の外周に沿って設置されている。これは、積層膜が形成されるプラスティックフィルムは、図５に示す例で説明したように成膜用ドラム２４と同期しながら反応室内に挿入され、かつ成膜用ドラム上において多層膜を形成するものであることから、このように配置することにより連続して各膜を積層することができるからである。
なお、図５に示す装置では反応室の数を３室としたが、本発明の反射防止フィルムの製造方法に用いるプラズマＣＶＤ装置としてはこれに限定されるものではなく、必要に応じて変更することができる。 Each reaction chamber (a, b, c) is installed along the outer periphery of the film-forming drum 24. This is because the plastic film on which the laminated film is formed is inserted into the reaction chamber in synchronism with the film-forming drum 24 as described in the example shown in FIG. 5, and a multilayer film is formed on the film-forming drum. This is because each film can be laminated continuously by arranging in this manner.
In the apparatus shown in FIG. 5, the number of reaction chambers is three. However, the plasma CVD apparatus used in the method for producing an antireflection film of the present invention is not limited to this, and may be changed as necessary. be able to.

上述したようなプラズマＣＶＤ装置によれば、各反応室へ導入する原料ガスを変化させることにより、夫々の反応室内で独立して膜を形成することが可能であることから、例えば、低屈折率層と高屈折率層との多層膜をプラスティックフィルム上に形成する場合は、反応室ａに有機チタン化合物を含むガスを導入し、反応室ｂと反応室ｃにはケイ素を含むガスを導入することにより、プラスティックフィルム２１が成膜用ドラム２５を経て基材巻き取り部２６へ巻き取られるまでに当該プラスティックフィルム２１上に低屈折率層と高屈折率層を組み合わせた紫外線吸収反射防止層が形成された反射防止フィルムを形成することができる。 According to the plasma CVD apparatus as described above, a film can be formed independently in each reaction chamber by changing the raw material gas introduced into each reaction chamber. When forming a multilayer film of a layer and a high refractive index layer on a plastic film, a gas containing an organic titanium compound is introduced into the reaction chamber a, and a gas containing silicon is introduced into the reaction chamber b and the reaction chamber c. Thus, an ultraviolet-absorbing antireflection layer in which a low-refractive index layer and a high-refractive index layer are combined on the plastic film 21 until the plastic film 21 is wound around the substrate winding portion 26 via the film-forming drum 25. The formed antireflection film can be formed.

さらに、上記の場合において反応室ｂと反応室ｃとに導入されたガスは、ケイ素を含むガスであるが、各々の反応室内の条件、例えばガスの流量や圧力、放電条件等を変化させることにより、反応室ｂと反応室ｃとで形成される低屈折率層の特性を変化させることも可能である。当該装置により低屈折率層、および高屈折率層、または、これらの膜の厚さ、膜の組成、密度、および屈折率等を自在に組み合わせることが可能となる。 Further, in the above case, the gas introduced into the reaction chamber b and the reaction chamber c is a gas containing silicon, but the conditions in each reaction chamber, for example, the flow rate and pressure of the gas, the discharge conditions, etc. are changed. Thus, it is possible to change the characteristics of the low refractive index layer formed by the reaction chamber b and the reaction chamber c. With this device, it is possible to freely combine the low refractive index layer and the high refractive index layer, or the thickness, composition, density and refractive index of these films.

また、必ずしも夫々の反応室に異なる原料ガスを導入する必要もなく、例えば図５に示す反応室ａ，ｂ，ｃ全てに有機チタン化合物を含むガスを導入することで酸化チタン膜（高屈折率層）を形成し、その後に一旦反応室ａ，ｂ，ｃに導入されたガスを全て抜き、改めてケイ素を含むガスを反応室ａ，ｂ，ｃに導入して上記酸化チタン膜（高屈折率層）の上にシリカ膜（低屈折率層）を形成することも可能である。 Further, it is not always necessary to introduce different source gases into the respective reaction chambers. For example, by introducing a gas containing an organic titanium compound into all of the reaction chambers a, b, and c shown in FIG. After that, all the gases once introduced into the reaction chambers a, b, and c are removed, and a gas containing silicon is introduced again into the reaction chambers a, b, and c, and the titanium oxide film (high refractive index) It is also possible to form a silica film (low refractive index layer) on the layer.

本発明においては、上述した図３に示すような装置で複数回プラスティックフィルムを処理することにより、プラスティックフィルム上に低屈折率層と高屈折率層とが形成された積層フィルムを形成するようにしてもよいし、上述したように図４に示す装置を用いて一回でプラスティックフィルムを処理することにより、プラスティックフィルム上に低屈折率層と高屈折率層とが形成された反射防止フィルムを形成するようにしてもよい。また、図４に示す装置を用いて複数回プラスティックフィルムを処理することにより、低屈折率層と高屈折率層とが交互に複数層積層された反射防止フィルムを得ることも可能である。 In the present invention, a laminated film in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are formed on a plastic film is formed by processing the plastic film multiple times with the apparatus shown in FIG. 3 described above. As described above, an antireflection film in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are formed on a plastic film by processing the plastic film at a time using the apparatus shown in FIG. You may make it form. Moreover, it is also possible to obtain an antireflection film in which a plurality of low refractive index layers and high refractive index layers are alternately laminated by processing a plastic film a plurality of times using the apparatus shown in FIG.

図２は、本発明に係る反射防止フィルムをガラス基板の表示面に被覆した画像表示装置の一例を示す概略断面図である。
本発明に係る画像表示装置としては、図３に示すように、液晶表示素子上に、反射防止フィルム層３６／偏光素子３８／トリアセチルセルロースフィルム層３７からなる層構成の偏光板がラミネートされており、また液晶表示素子の他方の面には、トリアセチルセルロースフィルム層３７／偏光素子３８／トリアセチルセルロースフィルム層３７からなる層構成の偏光板がラミネートされている。 FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of an image display device in which the display surface of a glass substrate is coated with the antireflection film according to the present invention.
As an image display device according to the present invention, as shown in FIG. 3, a polarizing plate having a layer structure composed of an antireflection film layer 36 / a polarizing element 38 / a triacetyl cellulose film layer 37 is laminated on a liquid crystal display element. In addition, a polarizing plate having a layer structure composed of a triacetyl cellulose film layer 37 / a polarizing element 38 / a triacetyl cellulose film layer 37 is laminated on the other surface of the liquid crystal display element.

具体的には、上記で得られた図１の反射防止フィルム層を最外層（基材と接する層の反対側の層）とし、この反射防止フィルム層から可撓性基材層の方向へ向かって、反射防止フィルム層、例えば、防汚層３５／低屈折率層３２／高屈折率層３３／低屈折率層４２／ハードコート層３１／可撓性基材層３０からなる層構成の反射防止フィルム層３６と、偏光素子３８と、可撓性基材層３０としてのトリアセチルセルロースフィルム３７とを順次積層し、層構成、反射防止フィルム層３６／偏光素子３８／トリアセチルセルロースフィルム層３７とするものである。
なお、本発明の反射防止フィルムの下面には、粘着剤が塗布されていてもよく、この場合、反射防止フィルムは反射防止すべき対象物、例えば、ガラスに貼着して用いることができる。又、バックライト４１は、図２の下側から照射される。
本発明の反射防止フィルムは通常バックライト４１の出射側に配置されるが、最下面のトリアセチルセルロースフィルムの代わりに本発明の反射防止フィルムを更に用いてもよい。
尚、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入される。また、この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられる。 Specifically, the antireflection film layer of FIG. 1 obtained above is the outermost layer (the layer on the opposite side of the layer in contact with the base material), and this antireflection film layer is directed toward the flexible base material layer. Reflection of an antireflection film layer, for example, a layer structure comprising an antifouling layer 35 / low refractive index layer 32 / high refractive index layer 33 / low refractive index layer 42 / hard coat layer 31 / flexible substrate layer 30 The anti-reflection film layer 36, the polarizing element 38, and the triacetyl cellulose film 37 as the flexible base material layer 30 are sequentially laminated, and the layer configuration, the anti-reflection film layer 36 / the polarizing element 38 / the triacetyl cellulose film layer 37. It is what.
In addition, the adhesive may be apply | coated to the lower surface of the antireflection film of this invention, In this case, an antireflection film can be stuck and used for the object which should be antireflective, for example, glass. Moreover, the backlight 41 is irradiated from the lower side of FIG.
The antireflection film of the present invention is usually disposed on the emission side of the backlight 41, but the antireflection film of the present invention may further be used in place of the triacetyl cellulose film on the bottom surface.
In the STN liquid crystal display device, a retardation plate is inserted between the liquid crystal display element and the polarizing plate. In addition, an adhesive layer is provided between the layers of the liquid crystal display device as necessary.

本発明に係る画像表示装置を構成する偏光素子３８としては、ヨウ素または染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマーフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができる。
このラミネート処理にあたって接着性を増すため及び静電防止のために、前記の反射防止フィルムの透明基材フィルムが、例えば、トリアセチルセルロースフィルムである場合には、トリアセチルセルロースフィルムにケン化処理を行なう。このケン化処理は、トリアセチルセルロースフィルムにハードコート層を施す前後のどちらでもよい。 As the polarizing element 38 constituting the image display device according to the present invention, a polyvinyl alcohol film, a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, an ethylene-vinyl acetate copolymer saponified film which is dyed with iodine or dye and stretched. Etc. can be used.
In order to increase adhesiveness and prevent static electricity in the laminating process, when the transparent base film of the antireflection film is, for example, a triacetyl cellulose film, the triacetyl cellulose film is saponified. Do. This saponification treatment may be performed before or after the hard coat layer is applied to the triacetyl cellulose film.

而して、本発明に係る反射防止フィルムや、偏光素子等を使用して上記の液晶表示装置以外に、図示しないが、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置、無機ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ、フレキシブルな各種ディスプレイの表面の材料等に使用することができ、本発明に係る反射防止フィルムを画像表示部の観察側に積層、または、配置して使用して、紫外線照射環境下でも、紫外線の吸収を抑制することによって、紫外線吸収反射防止層の下地である可撓性基材や粘着層の劣化を抑制することが可能であるため、紫外線吸収反射防止層、可撓性基材層、および粘着層の各層間密着性、耐久性に優れ、反射防止等の光学機能性を維持できるものである。 Thus, in addition to the above liquid crystal display device using the antireflection film or polarizing element according to the present invention, although not shown, an organic EL (electroluminescence) display device, an inorganic EL display device, a plasma display, a flexible display It can be used as a material for various display surfaces, etc., and the antireflection film according to the present invention is laminated or arranged on the observation side of the image display unit to absorb ultraviolet rays even in an ultraviolet irradiation environment. By suppressing the deterioration of the flexible base material and the adhesive layer which are the bases of the ultraviolet light absorption antireflection layer, the ultraviolet light absorption antireflection layer, the flexible base material layer, and the adhesive It is excellent in adhesion between layers and durability, and can maintain optical functionality such as antireflection.

可撓性基材層（高分子フィルム）３０としては、８０μｍのケン化処理を施したトリアセチルセルロースフィルム（製品名：フジタック、富士写真フィルム製、屈折率１．５０）上に、ハードコート樹脂を塗布及び乾燥し、電離放射線により硬化させ、厚み６μｍのハードコート層３１を形成した。このハードコート層の屈折率は１．５２であった。
また、プラズマＣＶＤ法にて、図４に示す反応室ａでは珪素化合物膜３２（第１層）を、反応室ｂでは酸化チタン膜３３（第２層）を、ｃでは珪素化合物膜３２（第３層）を形成するようにした。
高周波電源として１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源を用いた。その他の条件は、以下に示す通りである。 The flexible substrate layer (polymer film) 30 is a hard coat resin on a triacetyl cellulose film (product name: Fujitac, manufactured by Fuji Photo Film, refractive index: 1.50) subjected to a saponification treatment of 80 μm. Was applied and dried, and cured by ionizing radiation to form a hard coat layer 31 having a thickness of 6 μm. The refractive index of this hard coat layer was 1.52.
Further, by the plasma CVD method, the silicon compound film 32 (first layer) is formed in the reaction chamber a shown in FIG. 4, the titanium oxide film 33 (second layer) is formed in the reaction chamber b, and the silicon compound film 32 (second layer) is formed in c. 3 layers).
A RF power source of 13.56 MHz was used as the high frequency power source. Other conditions are as follows.

〔第１層：珪素化合物膜の成膜条件（反応室ａ）〕
原料：珪素化窒素
原料ガス：酸素、アルゴン、窒素
印加電力：５ｋＷ
成膜圧力：０．３Ｐａ [First layer: deposition condition of silicon compound film (reaction chamber a)]
Material: Nitrogenated silicon material gas: Oxygen, Argon, Nitrogen Applied power: 5 kW
Deposition pressure: 0.3 Pa

〔第２層：酸化チタン膜の成膜条件（反応室ｂ）〕
原料：チタン
原料ガス：酸素、アルゴン、窒素
印加電力：５ｋＷ
成膜圧力：０．３Ｐａ [Second layer: conditions for forming titanium oxide film (reaction chamber b)]
Raw material: Titanium raw material gas: Oxygen, argon, nitrogen Applied power: 5kW
Deposition pressure: 0.3 Pa

〔第３層：珪素化合物膜の成膜条件（反応室ｃ）〕
原料：珪素化窒素
原料ガス：酸素、アルゴン
印加電力：５ｋＷ
成膜圧力：０．３Ｐａ [Third layer: deposition condition of silicon compound film (reaction chamber c)]
Raw material: Nitride silicon source gas: Oxygen, Argon Applied power: 5kW
Deposition pressure: 0.3 Pa

〔第１層：珪素化合物膜の測定結果〕
膜厚６９ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）１．７０
窒素含有量２５ａｔｍ％ [First layer: measurement result of silicon compound film]
Film thickness 69nm
Refractive index (λ = 550 nm) 1.70
Nitrogen content 25atm%

〔第２層：酸化チタン膜の測定結果〕
膜厚１０６ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）２．２
窒素含有量２ａｔｍ％ [Second layer: measurement result of titanium oxide film]
Film thickness 106nm
Refractive index (λ = 550 nm) 2.2
Nitrogen content 2atm%

〔第３層：珪素化合物膜の測定結果〕
膜厚９０ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）１．４５
窒素含有量０ａｔｍ％ [Third layer: measurement result of silicon compound film]
Film thickness 90nm
Refractive index (λ = 550 nm) 1.45
Nitrogen content 0 atm%

〔紫外線吸収性反射防止膜の測定結果〕
層構成：珪素化合物膜／酸化チタン膜／珪素化合物膜
視感度反射率：０．１８％ [Measurement results of UV-absorbing antireflection film]
Layer structure: silicon compound film / titanium oxide film / silicon compound film Visibility reflectance: 0.18%

〔紫外線吸収性反射防止膜測定に使用した装置〕
屈折率・視感度反射率・膜厚分光光度計
型番ＵＶ−３１００ＰＣメーカー島津製作所 [Apparatus used for measuring UV-absorbing antireflection film]
Refractive index / Visibility reflectance / Film thickness Spectrophotometer model number UV-3100PC Manufacturer Shimadzu

層構成、珪素化合物膜（第３層）／酸化チタン膜（第２層）／珪素化合物膜（第１層）／ハードコート層／トリアセチルセルロースフィルムからなる本発明に係る紫外線吸収性反射防止フィルムを得た。
以上に示した紫外線吸収性反射防止膜の分光測定の結果、波長３５０ｎｍにおける透過率、２２％を最大値として、波長３５０ｎｍ以下の短波長における透過率が大幅に減少した。このことによって、波長２００〜３５０ｎｍの範囲における紫外線の透過を抑えることが可能であるため、反射防止層、可撓性基材層、および粘着層の各層間の膜剥がれもなく、層間密着性、耐久性に優れるものであった。 UV-absorbing antireflection film according to the present invention comprising layer structure, silicon compound film (third layer) / titanium oxide film (second layer) / silicon compound film (first layer) / hard coat layer / triacetyl cellulose film Got.
As a result of the spectroscopic measurement of the ultraviolet-absorbing antireflection film described above, the transmittance at a wavelength of 350 nm and the transmittance at a short wavelength of 350 nm or less with a maximum value of 22% were significantly reduced. By this, since it is possible to suppress the transmission of ultraviolet rays in the wavelength range of 200 to 350 nm, there is no film peeling between each layer of the antireflection layer, the flexible base material layer, and the adhesive layer, the interlayer adhesion, It was excellent in durability.

〔紫外線照射後の密着性試験〕
更に、上記で得られた実施例１の紫外線吸収性反射防止フィルムと、ガラス基板とを、光学粘着材（製品名：ＨＪ−９１５０Ｗ、日東電工製）を介して、貼着し、紫外線照射試験は、サンシャインウェザーメーターを用い、光源としてカーボンアークランプを用い、ブラックパネル温度６０℃、３００時間の条件で行った。
その後、カッターによって約１ｍｍ間隔で１００個クロスハッチ（升目）を入れる。その後のその升目状の表面にセロハンテープ（ニチバン製）を貼りつけ表面から９０度の方向にテープを剥離した。これを３回繰り返した。この時のクロスハッチの剥がれなかった個数を計測することで評価した。 [Adhesion test after UV irradiation]
Furthermore, the ultraviolet-absorbing antireflection film of Example 1 obtained above and a glass substrate were adhered via an optical adhesive (product name: HJ-9150W, manufactured by Nitto Denko), and an ultraviolet irradiation test. Was performed using a sunshine weather meter, a carbon arc lamp as the light source, and a black panel temperature of 60 ° C. for 300 hours.
After that, 100 cross hatches are formed with a cutter at intervals of about 1 mm. A cellophane tape (manufactured by Nichiban Co., Ltd.) was then applied to the grid-like surface, and the tape was peeled in a direction of 90 degrees from the surface. This was repeated three times. Evaluation was made by measuring the number of cross hatches that were not peeled off.

〔紫外線照射後の密着性試験に使用した装置〕
耐光性試験機：サンシャインウェザーＯ
メーカー：スガ試験機（株） [Apparatus used for adhesion test after UV irradiation]
Light resistance tester: Sunshine weather O
Manufacturer: Suga Testing Machine Co., Ltd.

密着性試験を行った結果、本発明に係る実施例１の紫外線吸収性反射防止フィルムは、紫外線照射環境下で、反射防止層、可撓性基材層、および粘着層の各層間の膜剥がれもなく、層間密着性、耐久性に優れるものであった。 As a result of the adhesion test, the ultraviolet-absorbing antireflection film of Example 1 according to the present invention was peeled off between the antireflection layer, the flexible base material layer, and the adhesive layer in an ultraviolet irradiation environment. No interlaminar adhesion and durability.

〔比較例１〕
反射防止膜の製膜条件以外は実施例１と同様の材料、製造方法を用いて、プラズマＣＶＤ法にて、図４に示す反応室ａでは酸化珪素膜（第１層）を、反応室ｂでは酸化チタン膜（第２層、第４層）を、ｃでは酸化珪素膜（第３層）を形成するようにした。
成膜条件は、以下に示す通りである。 [Comparative Example 1]
Except for the film forming conditions for the antireflection film, the same material and manufacturing method as in Example 1 were used, and a plasma CVD method was used to form a silicon oxide film (first layer) in the reaction chamber a shown in FIG. In FIG. 2, a titanium oxide film (second layer and fourth layer) is formed, and in c, a silicon oxide film (third layer) is formed.
The film forming conditions are as shown below.

〔第１層：酸化チタン膜の成膜条件（反応室ａ）〕
原料：チタン
原料ガス：酸素、アルゴン
印加電力：５ｋＷ
成膜圧力：０．３Ｐａ [First layer: Titanium oxide film formation conditions (reaction chamber a)]
Raw material: Titanium raw material gas: Oxygen, argon Applied power: 5kW
Deposition pressure: 0.3 Pa

〔第２層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｂ）〕
原料：珪素
原料ガス：酸素、アルゴン
印加電力：５ｋＷ
成膜圧力：０．３Ｐａ [Second layer: deposition conditions of silicon oxide film (reaction chamber b)]
Raw material: Silicon raw material gas: Oxygen, argon Applied power: 5kW
Deposition pressure: 0.3 Pa

〔第３層：酸化チタン膜の成膜条件（反応室ｃ）〕
原料：チタン
原料ガス：酸素、アルゴン
印加電力：５ｋＷ
成膜圧力：０．３Ｐａ [Third layer: Titanium oxide film formation conditions (reaction chamber c)]
Raw material: Titanium raw material gas: Oxygen, argon Applied power: 5kW
Deposition pressure: 0.3 Pa

〔第４層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｂ）〕
原料：珪素
原料ガス：酸素、アルゴン
印加電力：５ｋＷ
成膜圧力：０．３Ｐａ [Fourth layer: deposition condition of silicon oxide film (reaction chamber b)]
Raw material: Silicon raw material gas: Oxygen, argon Applied power: 5kW
Deposition pressure: 0.3 Pa

〔第１層：酸化チタン膜の測定結果〕
膜厚２０ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）２．４
窒素含有量２ａｔｍ％ [First layer: measurement result of titanium oxide film]
Film thickness 20nm
Refractive index (λ = 550 nm) 2.4
Nitrogen content 2atm%

〔第２層：酸化珪素膜の測定結果〕
膜厚４３ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）１．４５
窒素含有量２５ａｔｍ％ [Second layer: measurement result of silicon oxide film]
Film thickness 43nm
Refractive index (λ = 550 nm) 1.45
Nitrogen content 25atm%

〔第３層：酸化チタン膜の測定結果〕
膜厚３３ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）２．４
窒素含有量２ａｔｍ％ [Third layer: measurement result of titanium oxide film]
Film thickness 33nm
Refractive index (λ = 550 nm) 2.4
Nitrogen content 2atm%

〔第４層：酸化珪素膜の測定結果〕
膜厚１１０ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）１．４５
窒素含有量０ａｔｍ％ [Fourth layer: measurement result of silicon oxide film]
Film thickness 110nm
Refractive index (λ = 550 nm) 1.45
Nitrogen content 0 atm%

〔反射防止膜の測定結果〕
層構成：酸化チタン膜／酸化珪素膜／酸化チタン膜／酸化珪素膜
視感度反射率：０．１８％ [Measurement results of antireflection film]
Layer structure: titanium oxide film / silicon oxide film / titanium oxide film / silicon oxide film Visibility reflectance: 0.18%

層構成、酸化珪素膜（第４層）／酸化チタン膜（第３層）／酸化珪素膜（第２層）／酸化チタン膜（第１層）／ハードコート層／トリアセチルセルロースフィルムからなる本発明に係る反射防止フィルムを得た。
なお、反射防止膜の測定装置、および紫外線照射後の密着性試験に使用した装置は、実施例１と同じものを使用した。
以上に示した比較例１の反射防止膜の分光測定の結果、波長３５０ｎｍにおける透過率、５２％を最大値として、波長３５０ｎｍ以下の短波長においても透過率が５０％程度であり、実施例１と比較して大きく、波長２００〜３５０ｎｍの範囲における紫外線の透過した。
この結果、比較例１の反射防止フィルムは、紫外線照射環境下で、反射防止層と可撓性基材層との層間で膜剥がれを生じた。 Book consisting of layer structure, silicon oxide film (fourth layer) / titanium oxide film (third layer) / silicon oxide film (second layer) / titanium oxide film (first layer) / hard coat layer / triacetyl cellulose film An antireflection film according to the invention was obtained.
In addition, the measuring apparatus of an anti-reflective film and the apparatus used for the adhesiveness test after ultraviolet irradiation used the same thing as Example 1. FIG.
As a result of the spectroscopic measurement of the antireflection film of Comparative Example 1 shown above, the transmittance at a wavelength of 350 nm was 52%, and the transmittance was about 50% even at a short wavelength of 350 nm or less. Compared to the above, ultraviolet rays were transmitted in the wavelength range of 200 to 350 nm.
As a result, in the antireflection film of Comparative Example 1, film peeling occurred between the layers of the antireflection layer and the flexible base material layer in an ultraviolet irradiation environment.

本発明に係る多層反射防止膜を形成する反射防止フィルムの一態様である層構成を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the layer structure which is one aspect | mode of the antireflection film which forms the multilayer antireflection film which concerns on this invention. 本発明に係る多層型反射防止フィルムにより表示面を被覆した液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the liquid crystal display device which coat | covered the display surface with the multilayer type antireflection film which concerns on this invention. プラズマＣＶＤ法による本発明に係る可撓性基材上に反射防止膜を形成する反射防止フィルムの製造方法を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the manufacturing method of the antireflection film which forms an antireflection film on the flexible base material based on this invention by plasma CVD method. プラズマＣＶＤ法による本発明に係る可撓性基材上に反射防止膜を形成する反射防止フィルムの製造方法を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the manufacturing method of the antireflection film which forms an antireflection film on the flexible base material based on this invention by plasma CVD method.

符号の説明Explanation of symbols

１、２１、３０高分子フィルム（可撓性基材層）
２、２２基材巻きだし部
２'、２６基材巻き取り部
３、２３真空容器
４、ａ、ｂ、ｃ反応室
５、２７真空ポンプ
６、ａ２、ｂ２、ｃ２原料ガス導入口
７、７' 反転ロール
８、２４成膜用ドラム
９、ａ１、ｂ１、ｃ１電極
１０電源
１１プラズマ
１２紫外線吸収性反射防止膜
２５隔離壁
３１ハードコート層
３２珪素化合物膜（低屈折率層）
３３酸化チタン層（高屈折率層）
３５防汚層
３６紫外線吸収性反射防止フィルム
３７トリアセチルセルロースフィルム（基材層）
３８偏光素子
３９液晶表示素子
４０偏光板
４１バックライトユニット
４２粘着層
1, 21, 30 Polymer film (flexible substrate layer)
2, 22 Substrate unwinding part 2 ', 26 Substrate winding part 3, 23 Vacuum vessel 4, a, b, c Reaction chamber 5, 27 Vacuum pump 6, a2, b2, c2 Source gas inlets 7, 7 ′ Reversing rolls 8 and 24 Film forming drums 9, a 1, b 1 and c 1 Electrode 10 Power supply 11 Plasma 12 Ultraviolet absorbing antireflection film 25 Separating wall 31 Hard coat layer 32 Silicon compound film (low refractive index layer)
33 Titanium oxide layer (high refractive index layer)
35 Antifouling layer 36 UV-absorbing antireflection film 37 Triacetyl cellulose film (base material layer)
38 Polarizing element 39 Liquid crystal display element 40 Polarizing plate 41 Backlight unit 42 Adhesive layer

Claims

可撓性基材の上に、直接、または、他の層を介して、低屈折率膜と高屈折率膜を交互に積層されてなる多層膜からなる反射防止層を形成する反射防止フィルムにおいて、
前記の低屈折率膜が、ＳｉＣｘＯｙ（０．５≦ｘ＜１．３，０≦ｙ＜１)、ＳｉＯｘＮｙ（０．５≦ｘ≦１．５，０．２≦ｙ＜１)、ＳｉＣｘＯｙＮｚ（０．２≦ｘ＜１，０．５≦ｙ＜１，０．２≦ｚ＜１)のいずれかからなるケイ素化合物からなり、前記の高屈折率膜が、ＴｉＯｘ（０．１≦ｘ＜３）からなり、
かつ、波長２００〜３５０ｎｍの範囲における前記の反射防止層の透過率が、０．１％〜５０％の範囲にあることを特徴とする紫外線吸収反射防止フィルム。 In an antireflection film for forming an antireflection layer comprising a multilayer film in which a low refractive index film and a high refractive index film are alternately laminated on a flexible substrate directly or via another layer ,
The low refractive index film includes SiCxOy (0.5 ≦ x <1.3, 0 ≦ y <1), SiOxNy (0.5 ≦ x ≦ 1.5, 0.2 ≦ y <1), SiCxOyNz ( 0.2 ≦ x <1, 0.5 ≦ y <1, 0.2 ≦ z <1), and the high refractive index film is made of TiOx (0.1 ≦ x < 3)
And the transmittance | permeability of the said antireflection layer in the wavelength range of 200-350 nm exists in the range of 0.1%-50%, The ultraviolet absorption antireflection film characterized by the above-mentioned.

前記の可撓性基材上にハードコートを備えることが可能であることを特徴とする請求項１記載の紫外線吸収反射防止フィルム。 The ultraviolet-absorbing antireflection film according to claim 1, wherein a hard coat can be provided on the flexible substrate.

前記の可撓性基材、または前記のハードコート上に１種類以上の光学層が、１層〜５層形成されていることを特徴とする請求項１〜２記載の紫外線吸収反射防止フィルム。 The ultraviolet-absorbing antireflection film according to claim 1, wherein one to five optical layers are formed on the flexible substrate or the hard coat.

前記の反射防止層が、前記の可撓性基材側から酸化珪素、酸化チタン、酸化珪素を主成分とする層から構成されることを特徴とする請求項１〜３に記載の紫外線吸収反射防止フィルム。 The ultraviolet ray absorbing / reflecting according to claim 1, wherein the antireflection layer is composed of a layer mainly composed of silicon oxide, titanium oxide, and silicon oxide from the flexible substrate side. Prevention film.

前記の反射防止層の上に防汚層が形成されていることを特徴とする請求項１〜４記載の紫外線吸収反射防止フィルム。 5. The ultraviolet absorbing antireflection film according to claim 1, wherein an antifouling layer is formed on the antireflection layer.

前記の反射防止層と反対側の前記の可撓性基材面に粘着層を形成することを特徴とする請求項１〜５に記載の紫外線吸収反射防止フィルム。 6. The ultraviolet absorbing antireflection film according to claim 1, wherein an adhesive layer is formed on the surface of the flexible base opposite to the antireflection layer.

請求項１〜６のいずれか記載の紫外線吸収反射防止フィルムが、表示部の観察側に積層、又は、配置されていることを特徴とする画像表示装置。
7. An image display device, wherein the ultraviolet-absorbing antireflection film according to claim 1 is laminated or arranged on the observation side of the display unit.