KR102604832B1 - Sterilization processing apparatus and method including closed loop type circulation flow path - Google Patents
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Abstract
본 발명의 일 실시예는, 내부가 중공이며 피처리물을 수용가능하고, 상기 피처리물에 대해 멸균 처리가능한 처리챔버부와, 처리챔버부와 연결되며, 처리챔버부로 유입되는 멸균제를 기화시키는 기화유닛과, 전원을 인가받아 플라즈마 방전이 가능한 플라즈마 방전부와, 처리챔버부의 내부 압력을 조정하는 압력조정부 및 처리챔버부, 플라즈마 방전부 및 기화유닛을 연결하며 폐회로 구조로 형성되고, 유체가 순환가능하도록 유동 경로를 제공하는 순환유로부를 포함하는, 폐회로 구조의 순환유로부를 포함하는 멸균 처리장치 및 처리방법을 제공한다.One embodiment of the present invention has a processing chamber part that is hollow inside, can accommodate objects to be treated, and is capable of sterilizing the objects to be treated, and is connected to the processing chamber part, and vaporizes the sterilant flowing into the processing chamber part. A closed-circuit structure is formed by connecting the vaporization unit, a plasma discharge unit that receives power and can discharge plasma, a pressure adjustment unit that adjusts the internal pressure of the processing chamber unit, the processing chamber unit, the plasma discharge unit, and the vaporization unit, and the fluid Provided is a sterilization processing device and processing method including a circulation passage portion of a closed circuit structure, including a circulation passage portion providing a flow path to enable circulation.
Description
본 발명은 피처리물을 멸균, 건조 처리하는 폐회로 구조의 순환유로부를 포함하며 멸균제, 오존 등의 유체가 멸균에 적합한 온도를 가지며 순환할 수 있어 처리챔버부 내에서 수분 건조, 멸균에 적합한 환경을 조성할 수 있는 멸균 처리장치 및 처리방법에 관한 것이다.The present invention includes a circulation flow section with a closed circuit structure for sterilizing and drying the object to be treated, and fluids such as sterilant and ozone can circulate at a temperature suitable for sterilization, creating an environment suitable for moisture drying and sterilization within the processing chamber. It relates to a sterilization processing device and processing method that can create.
일반적으로 멸균(sterilization)이란 세척 또는 소독과는 다르게 살아있는 모든 종류의 미생물을 완전히 제거하는 것을 의미한다. 멸균 작용은 다양한 물리적, 화학적 작용을 통하여 이루어지며 특히 의료기구 분야에서 필수적으로 요구된다.In general, sterilization, unlike cleaning or disinfection, refers to the complete removal of all types of living microorganisms. Sterilization is achieved through various physical and chemical actions and is especially essential in the medical device field.
각종 피처리물을 멸균할 때는 건열(dry heat) 또는 수증기에 의해 제공되는 열을 사용하거나, 산화에틸렌 가스, 과산화수소와 같은 화학물질로 된 멸균재를 증기상태로 만든 다음 사용한다. When sterilizing various objects to be treated, heat provided by dry heat or water vapor is used, or sterilizing materials made of chemicals such as ethylene oxide gas or hydrogen peroxide are converted into steam and then used.
종래 이러한 멸균 처리장치에서 피처리물의 멸균에 적합한 온도로 상승시키기 위해 많은 열에너지가 필요하며, 멸균 처리를 하는 과정에서 공기, 기화된 멸균제 등과 같은 유체가 유동됨에 따라 열에너지가 손실되는 문제점이 있었다.
본 발명의 배경기술은 대한민국 공개특허공보 제10-2019-0128915호(2019.11.19. 공개, 발명의 명칭: 난기류를 이용한 멸균장치)에 게시되어 있다.Conventionally, in such sterilization equipment, a lot of heat energy is required to raise the temperature to a temperature suitable for sterilization of the object to be treated, and there is a problem in that heat energy is lost as fluids such as air and vaporized sterilant flow during the sterilization process.
The background technology of the present invention is published in Republic of Korea Patent Publication No. 10-2019-0128915 (published on November 19, 2019, title of invention: Sterilization device using turbulence).
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 처리챔버부, 플라즈마 방전부, 기화유닛을 연결하며 폐회로 구조로 형성되는 순환유로부로 고온의 멸균제, 오존 등 기체가 순환 유동가능함으로 인하여 건조와 함께 피처리물의 멸균 처리 효율을 향상시킬 수 있는 멸균 처리장치 및 처리방법을 제공하는 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is to sterilize objects to be treated along with drying due to the circulation flow of high-temperature sterilants, ozone, and other gases through the circulation flow section that connects the processing chamber section, plasma discharge section, and vaporization unit and is formed in a closed circuit structure. The goal is to provide a sterilization processing device and processing method that can improve processing efficiency.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 내부가 중공이며 피처리물을 수용가능하고, 상기 피처리물에 대해 멸균 처리가능한 처리챔버부; 상기 처리챔버부와 연결되며, 상기 처리챔버부로 유입되는 멸균제를 기화시키는 기화유닛; 전원을 인가받아 플라즈마 방전이 가능한 플라즈마 방전부; 상기 처리챔버부의 내부 압력을 조정하는 압력조정부; 및 상기 처리챔버부, 상기 플라즈마 방전부 및 상기 기화유닛을 연결하며 폐회로 구조로 형성되고, 유체가 순환가능하도록 유동 경로를 제공하는 순환유로부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 멸균 처리장치를 제공한다.According to one embodiment of the present invention, a processing chamber part is hollow on the inside and can accommodate an object to be treated, and is capable of sterilizing the object to be treated; a vaporization unit connected to the processing chamber and vaporizing the sterilizing agent flowing into the processing chamber; A plasma discharge unit capable of generating plasma discharge by receiving power; a pressure adjusting unit that adjusts the internal pressure of the processing chamber unit; and a circulation passage portion connecting the processing chamber portion, the plasma discharge portion, and the vaporization unit and forming a closed circuit structure, and providing a flow path for fluid to circulate. .
본 발명에 있어서, 상기 기화유닛은 상기 처리챔버부와 상기 플라즈마 방전부 사이에 배치될 수 있다.In the present invention, the vaporization unit may be disposed between the processing chamber portion and the plasma discharge portion.
본 발명에 있어서, 상기 기화유닛은, 내부가 중공이며, 상기 처리챔버부와 상기 플라즈마 방전부와 연결되는 기화챔버본체; 및 상기 기화챔버본체에 설치되며 상기 기화챔버본체로 열을 전달하는 기화챔버히터;를 포함할 수 있다.In the present invention, the vaporization unit includes: a vaporization chamber main body that is hollow inside and connected to the processing chamber portion and the plasma discharge portion; and a vaporization chamber heater installed in the vaporization chamber body and transferring heat to the vaporization chamber body.
본 발명에 있어서, 상기 처리챔버부는, 피처리물이 수용되는 처리챔버본체; 및 상기 처리챔버본체를 커버가능한 챔버커버부;를 포함할 수 있다.In the present invention, the processing chamber portion includes a processing chamber main body in which an object to be processed is accommodated; and a chamber cover part capable of covering the processing chamber body.
본 발명에 있어서, 상기 챔버커버부는, 상기 처리챔버본체에 연결가능한 챔버커버본체; 및 상기 챔버커버본체에 설치되며, 상기 처리챔버본체로 열을 전달하는 커버히터;를 포함할 수 있다.In the present invention, the chamber cover unit includes a chamber cover main body connectable to the processing chamber main body; and a cover heater installed on the chamber cover body and transferring heat to the processing chamber body.
본 발명에 있어서, 상기 처리챔버부는, 상기 처리챔버본체에 설치되며, 상기 처리챔버본체로 열을 전달하는 챔버히터;를 더 포함할 수 있다.In the present invention, the processing chamber unit may further include a chamber heater that is installed in the processing chamber body and transmits heat to the processing chamber body.
본 발명에 있어서, 상기 순환유로부에는 적어도 하나 이상의 밸브유닛이 배치되며 상기 순환유로부 내에서의 유체의 유동을 제어할 수 있다.In the present invention, at least one valve unit is disposed in the circulation passage portion and can control the flow of fluid in the circulation passage portion.
본 발명에 있어서, 상기 기화유닛과 연결되며, 상기 기화유닛으로 멸균제를 공급가능한 멸균제공급부;를 더 포함할 수 있다.In the present invention, it may further include a sterilizing agent supply unit connected to the vaporization unit and capable of supplying a sterilizing agent to the vaporization unit.
본 발명에 있어서, 상기 멸균제공급부는, 외부로부터 멸균제를 공급받는 멸균제투입부; 상기 멸균제투입부와 연통가능하며, 상기 멸균제투입부로부터 멸균제를 공급받는 멸균제수용부; 및 상기 멸균제수용부에서 상기 기화유닛으로의 멸균제의 유동을 제어하는 유동제어부;를 포함할 수 있다.In the present invention, the sterilizing agent supply unit includes a sterilizing agent input unit that receives a sterilizing agent from the outside; a sterilizing agent receiving portion capable of communicating with the sterilizing agent input portion and receiving a sterilizing agent from the sterilizing agent input portion; and a flow control unit that controls the flow of the sterilant from the sterilant receiving unit to the vaporization unit.
본 발명에 있어서, 상기 플라즈마 방전부는, 내부가 중공이며, 플라즈마 방전을 통해 생성되는 플라즈마가 수용되는 플라즈마챔버본체; 전원을 발생시키는 전원부; 및 상기 플라즈마챔버본체에 배치되며, 상기 전원부로부터 전원을 인가받아 플라즈마 방전을 발생시키는 전극부;를 포함할 수 있다.In the present invention, the plasma discharge unit includes a plasma chamber body that is hollow on the inside and accommodates plasma generated through plasma discharge; A power supply unit that generates power; and an electrode unit disposed in the plasma chamber main body and generating plasma discharge by receiving power from the power supply unit.
본 발명에 있어서, 상기 플라즈마 방전부는, 상기 플라즈마챔버본체에 설치되고, 상기 플라즈마챔버본체로 열을 전달하는 플라즈마챔버히터;를 더 포함할 수 있다.In the present invention, the plasma discharge unit may further include a plasma chamber heater that is installed in the plasma chamber body and transfers heat to the plasma chamber body.
본 발명에 있어서, 상기 플라즈마 방전부와 연결되며, 상기 플라즈마 방전부로의 흡기 또는 배기되는 유체를 필터링하는 필터부;를 더 포함할 수 있다.In the present invention, it may further include a filter unit connected to the plasma discharge unit and filtering fluid sucked into or exhausted from the plasma discharge unit.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 처리챔버부의 내부를 배기하는 배기단계; 상기 처리챔버부로 유입되는 공기를 가열하는 공기 가열단계; 및 상기 처리챔버부의 내부에 수용되는 피처리물을 멸균시키는 멸균단계;를 포함하고, 상기 처리챔버부로 유입되는 공기는, 상기 처리챔버부에서 배기되는 공기가 폐회로 구조로 형성되는 순환유로부를 통해 유동되며, 상기 공기 가열단계에서 가열된 후 상기 처리챔버부로 유입되는 것을 특징으로 하는 멸균 처리방법을 제공한다.According to one embodiment of the present invention, an exhaust step of exhausting the inside of the processing chamber unit; an air heating step of heating air flowing into the processing chamber; and a sterilization step of sterilizing the object to be processed accommodated inside the processing chamber unit, wherein the air flowing into the processing chamber unit, and the air exhausted from the processing chamber unit, flows through a circulation passage unit formed in a closed circuit structure. It provides a sterilization method characterized in that the air is heated in the air heating step and then introduced into the processing chamber.
본 발명에 있어서, 상기 멸균단계는, 멸균제를 상기 처리챔버부와 연결되는 기화유닛에 공급하는 멸균제 공급단계; 상기 기화유닛과 연결되는 플라즈마 방전부가 전원을 인가받아, 플라즈마 방전으로 오존을 생성하는 오존 생성단계; 및 상기 오존 생성단계 이후에 생성된 오존을 기화유닛을 통과시켜 상기 처리챔버부로 공급하는 오존 공급단계;를 더 포함할 수 있다.In the present invention, the sterilization step includes supplying a sterilizing agent to a vaporization unit connected to the processing chamber portion; An ozone generation step in which a plasma discharge unit connected to the vaporization unit receives power and generates ozone through plasma discharge; and an ozone supply step of passing the ozone generated after the ozone generation step through a vaporization unit and supplying it to the processing chamber unit.
본 발명에 있어서, 상기 공기 가열단계는, 상기 처리챔버부, 상기 기화유닛 및 상기 플라즈마 방전부로 열을 전달할 수 있다.In the present invention, the air heating step may transfer heat to the processing chamber unit, the vaporization unit, and the plasma discharge unit.
본 발명의 실시예들에 따른 멸균 처리장치는, 처리챔버부, 기화유닛, 플라즈마 방전부를 연결하며, 폐회로 구조로 형성되는 순환유로부로 인하여, 기화되는 멸균제, 플라즈마 방전으로 생성되는 오존 등의 유체가 멸균에 적합한 온도를 가지며 순환할 수 있어 처리챔버부 내에서 수분 건조, 멸균에 적합한 환경을 조성할 수 있는 효과가 있다.The sterilization apparatus according to embodiments of the present invention connects the processing chamber unit, the vaporization unit, and the plasma discharge unit, and due to the circulation passage part formed in a closed circuit structure, fluids such as vaporized sterilant and ozone generated by plasma discharge Since it can circulate at a temperature suitable for sterilization, it has the effect of creating an environment suitable for moisture drying and sterilization within the processing chamber.
또한, 유체의 순환 과정에서 투입한 멸균제가 완전히 기화되어 처리챔버부로 유입되므로, 기화유닛에 잔류하는 멸균제로 인한 오염을 방지하는 효과가 있다. In addition, since the sterilant added during the fluid circulation process is completely vaporized and flows into the processing chamber, it is effective in preventing contamination due to the sterilant remaining in the vaporization unit.
뿐만 아니라, 순환유로부를 통해 플라즈마 방전으로 생성되는 오존도 함께 처리챔버부로 유입됨으로 인하여 부가적인 살균 효과를 가질 수 있다.In addition, ozone generated by plasma discharge also flows into the processing chamber through the circulation passage, so it can have an additional sterilizing effect.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균 처리장치를 도시한 개념도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균제공급부를 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균 처리장치에서 처리챔버부 내 공기를 배기하는 배기단계를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균 처리장치에서 처리챔버부로 가열된 공기를 유입시키는 공기 가열단계를 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균 처리장치에서 유체가 순환유로부를 통해 순환하며 유동되는 상태를 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균 처리방법을 도시한 순서도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균단계를 도시한 순서도이다.1 is a conceptual diagram showing a sterilization processing device according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a diagram showing a sterilizing agent supply unit according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a diagram showing an exhaust step of exhausting air within the processing chamber in the sterilization processing device according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is a diagram showing the air heating step of introducing heated air into the processing chamber in the sterilization processing device according to an embodiment of the present invention.
Figure 5 is a diagram showing a state in which fluid circulates and flows through a circulation passage in a sterilization processing device according to an embodiment of the present invention.
Figure 6 is a flowchart showing a sterilization method according to an embodiment of the present invention.
Figure 7 is a flowchart showing the sterilization steps according to an embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 이하의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, the following embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings. When describing with reference to the drawings, identical or corresponding components will be assigned the same reference numerals and duplicate descriptions thereof will be omitted.
본 발명의 기술적 사상은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 이를 상세히 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명의 기술적 사상을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 기술적 사상의 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Since the technical idea of the present invention can be subject to various changes and can have various embodiments, specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail. However, this is not intended to limit the technical idea of the present invention to specific embodiments, and should be understood to include all changes, equivalents, and substitutes included in the scope of the technical idea of the present invention.
본 발명의 기술적 사상을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 본 명세서의 설명 과정에서 이용되는 숫자(예를 들어, 제1, 제2 등)는 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구분하기 위한 식별기호에 불과하다.In explaining the technical idea of the present invention, if it is determined that a detailed description of related known technology may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted. In addition, numbers (eg, first, second, etc.) used in the description of this specification are merely identifiers to distinguish one component from another component.
또한, 본 명세서에서, 일 구성요소가 다른 구성요소와 "연결된다" 거나 "접속된다" 등으로 언급된 때에는, 상기 일 구성요소가 상기 다른 구성요소와 직접 연결되거나 또는 직접 접속될 수도 있지만, 특별히 반대되는 기재가 존재하지 않는 이상, 중간에 또 다른 구성요소를 매개하여 연결되거나 또는 접속될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In addition, in this specification, when a component is referred to as "connected" or "connected" to another component, the component may be directly connected or directly connected to the other component, but specifically Unless there is a contrary description, it should be understood that it may be connected or connected through another component in the middle.
또한, 본 명세서에 기재된 "~부", "~기", "~자", "~모듈" 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미하며, 이는 프로세서(Processor), 마이크로 프로세서(Micro Processer), 마이크로 컨트롤러(Micro Controller), CPU(Central Processing Unit), GPU(Graphics Processing Unit), APU(Accelerate Processor Unit), DSP(Drive Signal Processor), ASIC(Application Specific Integrated Circuit), FPGA(Field Programmable Gate Array) 등과 같은 하드웨어나 소프트웨어 또는 하드웨어 및 소프트웨어의 결합으로 구현될 수 있으며, 적어도 하나의 기능이나 동작의 처리에 필요한 데이터를 저장하는 메모리(memory)와 결합되는 형태로 구현될 수도 있다.In addition, terms such as “unit”, “unit”, “unit”, and “module” used in this specification refer to a unit that processes at least one function or operation, which refers to a processor, micro Processor (Micro Processer), Micro Controller, CPU (Central Processing Unit), GPU (Graphics Processing Unit), APU (Accelerate Processor Unit), DSP (Drive Signal Processor), ASIC (Application Specific Integrated Circuit), FPGA It may be implemented as hardware or software, such as a Field Programmable Gate Array, or a combination of hardware and software, and may also be implemented in a form combined with a memory that stores data necessary for processing at least one function or operation. .
그리고 본 명세서에서의 구성부들에 대한 구분은 각 구성부가 담당하는 주기능 별로 구분한 것에 불과함을 명확히 하고자 한다. 즉, 이하에서 설명할 2개 이상의 구성부가 하나의 구성부로 합쳐지거나 또는 하나의 구성부가 보다 세분화된 기능별로 2개 이상으로 분화되어 구비될 수도 있다. 그리고 이하에서 설명할 구성부 각각은 자신이 담당하는 주기능 이외에도 다른 구성부가 담당하는 기능 중 일부 또는 전부의 기능을 추가적으로 수행할 수도 있으며, 구성부 각각이 담당하는 주기능 중 일부 기능이 다른 구성부에 의해 전담되어 수행될 수도 있음은 물론이다.In addition, it is intended to be clear that the division of components in this specification is merely a division according to the main function each component is responsible for. That is, two or more components, which will be described below, may be combined into one component, or one component may be divided into two or more components for more detailed functions. In addition to the main functions it is responsible for, each of the components described below may additionally perform some or all of the functions handled by other components, and some of the main functions handled by each component may be performed by other components. Of course, it can also be carried out exclusively by .
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균 처리장치를 도시한 개념도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균제공급부를 도시한 도면이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균 처리장치에서 처리챔버부 내 공기를 배기하는 배기단계를 도시한 도면이다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균 처리장치에서 처리챔버부로 가열된 공기를 유입시키는 공기 가열단계를 도시한 도면이다. 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균 처리장치에서 유체가 순환유로부를 통해 순환하며 유동되는 상태를 도시한 도면이다.1 is a conceptual diagram showing a sterilization processing device according to an embodiment of the present invention. Figure 2 is a diagram showing a sterilizing agent supply unit according to an embodiment of the present invention. Figure 3 is a diagram showing an exhaust step of exhausting air within the processing chamber in the sterilization processing device according to an embodiment of the present invention. Figure 4 is a diagram showing the air heating step of introducing heated air into the processing chamber in the sterilization processing device according to an embodiment of the present invention. Figure 5 is a diagram showing a state in which fluid circulates and flows through a circulation passage in a sterilization processing device according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 멸균 처리장치(1)는 피처리물(OB)을 건조, 멸균 처리하는 것으로, 피처리물(OB)은 의료기구를 비롯하여 멸균이 필요한 모든 물품일 수 있다.Referring to FIG. 1, the
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균 처리장치(1)는 처리챔버부(100), 기화유닛(200), 플라즈마 방전부(300), 멸균제공급부(400), 압력조정부(500), 순환유로부(600), 압력센서부(710), 온도센서부(750), 필터부(800)를 포함할 수 있다.Referring to Figure 1, the
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 처리챔버부(100)는 내부가 중공이며 피처리물(OB)을 수용가능한 것으로, 피처리물(OB)에 대해 멸균 처리가 가능하다. 처리챔버부(100)의 내부에서 피처리물(OB)에 대한 건조, 멸균 처리가 행해질 수 있다.Referring to FIG. 1, the
도 1을 참조하면, 처리챔버부(100)는 뒤에 설명할 순환유로부(600)를 통해 기화유닛(200), 플라즈마 방전부(300)와 연결될 수 있으며, 플라즈마 방전부(300)에서 플라즈마 방전으로 생성되는 오존, 가열된 공기, 기화된 멸균제(ST) 등의 유체(F)가 폐회로 구조로 형성되는 순환유로부(600)를 통해 유동됨으로 인하여 피처리물(OB)에 대한 건조, 멸균 효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. 본 명세서에서 '유체(F)'는 오존, 가열된 공기, 기화된 멸균제(ST) 등 기체를 의미한다.Referring to FIG. 1, the
도 1을 참조하면, 처리챔버부(100)는 처리챔버본체(110), 챔버커버부(130), 챔버히터(150)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1 , the
처리챔버본체(110)는 내부가 중공이며, 피처리물(OB)이 수용될 수 있다. 처리챔버본체(110)는 순환유로부(600)와 연통될 수 있으며, 순환유로부(600)를 통해 처리챔버본체(110)의 내부 공기가 배기될 수 있고, 플라즈마 방전부(300), 기화유닛(200)을 통과한 공기, 오존, 기화된 멸균제(ST) 등의 유체(F)가 유입될 수 있다.The processing chamber
도 1을 참조하면, 처리챔버본체(110)는 일측(도 1 기준 상측)에 개구부(도면부호 미설정)가 형성될 수 있고, 뒤에 설명할 챔버커버부(130)가 처리챔버본체(110)에 형성되는 개구부를 커버할 수 있다.Referring to FIG. 1, the
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 챔버커버부(130)는 처리챔버본체(110)를 커버하는 것으로, 처리챔버본체(110)에 회전가능하게 연결될 수 있다. 구체적으로 챔버커버부(130)는 처리챔버본체(110)에 힌지가능하게 연결될 수 있다. Referring to FIG. 1, the
도 1을 참조하면, 챔버커버부(130)는 챔버커버본체(131), 커버히터(135)를 포함할 수 있다. 챔버커버본체(131)는 챔버커버부(130)의 외관을 형성하는 것으로, 처리챔버본체(110)에 회전가능하게 연결될 수 있다.Referring to FIG. 1, the
커버히터(135)는 챔버커버본체(131)에 설치되는 것으로, 처리챔버본체(110)를 마주보는 챔버커버본체(131)의 일면에 배치될 수 있다. 커버히터(135)는 외부로부터 전원을 인가받아 열을 발생시키는 것으로, 처리챔버본체(110)의 내부로 열을 전달할 수 있다.The
이로 인하여 처리챔버본체(110)의 내부에 수용되는 피처리물(OB)을 건조시킬 수 있고, 처리챔버본체(110)의 내부에 수용되는 공기를 가열시킬 수 있는 효과가 있다.This has the effect of drying the object OB accommodated inside the processing chamber
본 발명의 일 실시예에 따른 커버히터(135)는 챔버커버본체(131)의 일면에 전체적으로 또는 부분적으로 설치될 수 있다. The
도 1을 참조하면, 챔버히터(150)는 처리챔버본체(110)에 설치되는 것으로, 외부로부터 전원을 인가받아 열을 발생시킬 수 있고, 처리챔버본체(110)로 열을 전달할 수 있다.Referring to FIG. 1, the
이로 인하여 처리챔버본체(110)의 내부에 수용되는 피처리물(OB)을 건조시킬 수 있고, 처리챔버본체(110)의 내부에 수용되는 공기를 가열시킬 수 있는 효과가 있다.This has the effect of drying the object OB accommodated inside the processing chamber
선택적 실시예로서, 챔버히터(150)는 커버히터(135)와 서로 마주보며 배치될 수 있고, 외부로부터 전원을 인가받아 열을 발생시키고, 처리챔버본체(110)에 열을 전달함으로써 처리챔버본체(110)의 내부를 통과하는 유체(F)의 온도를 신속하게 상승시킬 수 있는 효과가 있다.As an optional embodiment, the
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기화유닛(200)은, 처리챔버부(100)와 연결되는 것으로, 처리챔버부(100)로 유입되는 멸균제(ST)를 기화시킬 수 있다. 구체적으로 멸균제(ST)는 기화유닛(200)에서 온도가 상승하게 됨에 따라 기화되고, 처리챔버부(100)로 유입되는 멸균제(ST)는 기화된 멸균제(ST)를 의미한다.Referring to FIG. 1, the
도 1을 참조하면, 기화유닛(200)은 기화챔버본체(210), 기화챔버히터(230)를 포함할 수 있다. 기화챔버본체(210)는 내부가 중공인 것으로, 처리챔버부(100), 플라즈마 방전부(300), 멸균제공급부(400)와 연결될 수 있다. Referring to FIG. 1, the
구체적으로 기화챔버본체(210)는 순환유로부(600)를 통해 처리챔버부(100), 플라즈마 방전부(300)와 연결될 수 있고, 플라즈마 방전부(300)에서 플라즈마 방전으로 생성되는 오존, 가열된 공기 등의 유체(F)가 폐회로 구조로 형성되는 순환유로부(600)를 통해 유동됨으로 인하여 피처리물(OB)에 대한 건조, 멸균 효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.Specifically, the
도 1을 참조하면, 기화챔버본체(210)는 멸균제공급부(400)와 연결될 수 있고, 멸균제공급부(400)로부터 미리 설정되는 양의 멸균제(ST)를 공급받을 수 있다. 기화챔버본체(210)에 유입되는 멸균제(ST)는 뒤에 설명할 기화챔버히터(230)에서 발생하여 기화챔버본체(210)로 전달되는 열에 의해 기화되며, 기화된 멸균제(ST)는 처리챔버부(100), 구체적으로 처리챔버본체(110)로 공급될 수 있다.Referring to FIG. 1, the vaporization chamber
도 1을 참조하면, 기화챔버히터(230)는 기화챔버본체(210)에 설치되는 것으로, 외부로부터 전원을 인가받아 열을 발생시킬 수 있다. Referring to FIG. 1, the
기화챔버히터(230)에서 발생된 열은 기화챔버본체(210)로 전달되며, 기화챔버본체(210)의 내부를 통과하는 멸균제(ST)를 기화시킬 수 있고, 플라즈마 방전부(300)에서 플라즈마 방전에 의해 생성되는 오존의 온도를 상승시킬 수 있으며, 처리챔버부(100)에서 배기되며, 순환유로부(600)를 통해 플라즈마 방전부(300)를 통과하여 유입되는 공기의 온도를 상승시킬 수 있다.The heat generated in the
도 1을 참조하면, 멸균제공급부(400)는 제3밸브유닛(V3)을 포함할 수 있고, 제3밸브유닛(V3)은 유동제어부(450)와 전기적으로 연결되며, 제어부로부터 전기적 신호를 전달받아 개폐 구동될 수 있다.Referring to FIG. 1, the sterilizing
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 방전부(300)는, 전원을 인가받아 플라즈마 방전이 가능한 것으로, 순환유로부(600)를 통해 기화유닛(200), 처리챔버부(100)와 연결될 수 있다. Referring to FIG. 1, the
이로 인하여 처리챔버부(100)에서 배기되는 공기는 순환유로부(600)를 통해 플라즈마 방전부(300)로 유입되고, 다시 기화유닛(200)을 통과하여 처리챔버부(100)로 유입될 수 있다.As a result, the air exhausted from the
이러한 공기의 순환을 통해 최초 기화 과정에서 기화되지 않았거나 기화된 상태로 기화유닛(200)의 내부에 잔류하던 멸균제(ST)를 처리챔버부(100)로 유입시킬 수 있으므로, 기화유닛(200)에 잔류하는 멸균제로 인한 오염 및 기화유닛(200)의 손상을 방지할 수 있다. Through this circulation of air, the sterilizing agent (ST) remaining inside the
도 1을 참조하면, 플라즈마 방전부(300)는 플라즈마챔버본체(310), 전극부(330), 전원부(350)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1 , the
도 1을 참조하면, 플라즈마챔버본체(310)는 내부가 중공이며, 플라즈마 방전을 통해 생성되는 플라즈마를 생성할 수 있고, 플라즈마 방전을 통해 생성되는 오존이 수용될 수 있다. Referring to FIG. 1, the
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마챔버본체(310)에는 유입구(311), 토출구(315)가 형성될 수 있고, 유입구(311)를 통해 외부에서 공기 등의 유체(F)를 공급받을 수 있고, 토출구(315)를 통해 플라즈마챔버본체(310)의 내부에서 외부로 공기 등 유체(F)를 토출할 수 있다.Referring to FIG. 1, an
플라즈마챔버본체(310)에는 유입구(311)와 연결되는 유입유로(IP)가 형성될 수 있고, 토출구(315)와 연결되는 토출유로(OP)가 형성될 수 있다. 유입유로(IP) 상에는 뒤에 설명할 제1필터(810), 제4밸브유닛(V4)이 배치될 수 있고, 토출유로(OP) 상에는 뒤에 설명할 제2필터(850), 제5밸브유닛(V5)가 배치될 수 있다.An inlet passage (IP) connected to the
도 1을 참조하면, 제4밸브유닛(V4), 제5밸브유닛(V5)는 각각 유입유로(IP), 토출유로(OP)를 개폐하는 것으로, 유입유로(IP), 토출유로(OP)를 통해 유동하는 공기 등의 유체(F)의 유동을 제어할 수 있다. Referring to Figure 1, the fourth valve unit (V4) and the fifth valve unit (V5) open and close the inflow passage (IP) and discharge passage (OP), respectively. It is possible to control the flow of fluid (F) such as air flowing through.
도면에 도시하지는 않았지만, 제4밸브유닛(V4), 제5밸브유닛(V5)는 제어부와 전기적으로 연결될 수 있고, 제어부로부터 전기적 신호를 전달받아 개폐될 수 있다.Although not shown in the drawings, the fourth valve unit (V4) and the fifth valve unit (V5) may be electrically connected to the control unit and may be opened and closed by receiving an electrical signal from the control unit.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 전극부(330)는 플라즈마챔버본체(310)에 설치되는 것으로, 뒤에 설명할 전원부(350)로부터 전원을 인가받아 전기장을 형성할 수 있고, 플라즈마 방전을 발생시킬 수 있다.Referring to FIG. 1, the
전극부(330)는 고전압 전극인 제1전극(도면부호 미설정)과, 접지전극인 제2전극을 포함할 수 있고, 고전압 전원 장치인 전원부(350)로부터 전원을 인가받아 전기장을 형성하고, 플라즈마 방전을 발생시킬 수 있다. The
플라즈마 방전을 통해 오존이 생성될 수 있고, 생성된 오존은 순환유로부(600)를 통해 기화유닛(200), 구체적으로 기화챔버본체(210)로 유입될 수 있고, 기화챔버히터(230)에서 발생한 열을 전달받아 온도가 상승하여 처리챔버부(100), 구체적으로 처리챔버본체(110)로 유입될 수 있다.Ozone can be generated through plasma discharge, and the generated ozone can flow into the
이로 인하여 처리챔버본체(110)의 내부에 수용되는 피처리물(OB)에 대해 오존 살균 처리가 가능한 효과가 있다.This has the effect of enabling ozone sterilization treatment for the object to be treated (OB) accommodated inside the processing chamber
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 전원부(350)는 전극부(330)와 전기적으로 연결되는 것으로, 전극부(330)로 전원을 인가할 수 있다.Referring to FIG. 1, the
선택적 실시예로서, 전원부(350)는 고전압 전원 장치(high voltage power supply, HVPS)일 수 있다. 그러나 이에 한정하는 것은 아니고, 전극부(330)에 전원을 인가하여 플라즈마챔버본체(310)의 내부에 전기장을 형성하고, 플라즈마 방전을 발생시킬 수 있는 기술적 사상 안에서 다양한 변형 실시가 가능하다.As an optional embodiment, the
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마챔버히터(370)는 플라즈마챔버본체(310)에 설치되는 것으로, 외부로부터 전원을 인가받아 열을 발생시킬 수 있고, 플라즈마챔버본체(310)로 열을 전달할 수 있다.Referring to FIG. 1, the
플라즈마챔버히터(370)가 플라즈마챔버본체(310)로 열을 전달함으로 인하여 플라즈마챔버히터(370) 내 공기, 오존 등 유체(F)의 온도를 효과적으로 상승시킬 수 있다. As the
즉, 처리챔버부(100)에서 배출되어 순환유로부(600)를 통해 플라즈마챔버본체(310)로 유입되는 공기는 플라즈마챔버본체(310)의 내부에서 가열되며, 기화유닛(200)으로 전달될 수 있다. That is, the air discharged from the
또한, 플라즈마챔버본체(310)에 열이 전달됨으로 인하여 플라즈마 방전 시 오존 생성량이 증가될 수 있고, 생성된 오존이 순환유로부(600)를 통해 기화유닛(200), 처리챔버부(100)로 유입됨에 따라 처리챔버부(100), 구체적으로 처리챔버본체(110)의 내부에 수용되는 피처리물(OB)에 대한 멸균 처리가 효율적으로 일어날 수 있다.In addition, as heat is transferred to the plasma chamber
도 1, 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균제공급부(400)는 기화유닛(200)과 연결되는 것으로, 기화유닛(200)으로 멸균제(ST)를 공급할 수 있다. 멸균제(ST)는 과산화수소 일 수 있다. 그러나 이에 한정하는 것은 아니고, 이산화질소, 산화에틸렌 가스 등 멸균 효과를 가지는 물질로 형성될 수 있는 등 다양한 변형 실시가 가능하다.Referring to Figures 1 and 2, the sterilizing
도 1, 도 2를 참조하면, 멸균제공급부(400)는 멸균제투입부(410), 멸균제수용부(430), 유동제어부(450)를 포함할 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 2 , the sterilizing
멸균제투입부(410)는 외부로부터 멸균제(ST)를 공급받는 것으로, 멸균제(ST)가 수용되는 별도의 멸균제카세트(CS)가 안착될 수 있도록 안착홈부(도면부호 미설정)가 형성될 수 있다. The sterilizing
사용자는 피처리물(OB)의 멸균 처리가 필요한 경우, 처리챔버부(100)의 내부에 피처리물(OB)을 배치하고, 멸균제투입부(410)에 멸균제카세트(CS)를 배치시킬 수 있다. If the user needs to sterilize the object (OB), place the object (OB) inside the
멸균제수용부(430)는 멸균제카세트(CS)로부터 멸균제(ST)를 공급받아 수용하는 것으로, 멸균제투입부(410)와 연결될 수 있다. The sterilizing
도면에는 도시하지 않았지만, 멸균제공급부(400)는 멸균제수용부(430) 및 멸균제투입부(410)와 통신이 가능한 통신부(도면 미도시)를 포함할 수 있고, 통신부는 뒤에 설명할 유동제어부(450)와 전기적으로 연결이 가능하다.Although not shown in the drawing, the sterilizing
통신부는 사용자의 통신 단말기와 통신이 가능하며, 유동제어부(450)에 전기적 신호를 전달할 수 있고, 멸균제수용부(430) 및 멸균제투입부(410)는 유동제어부(450)로부터 전기적 신호를 전달받아 멸균제투입부(410)에 배치되는 멸균제카세트(CS)로부터 멸균제수용부(430)로 멸균제(ST)가 전달될 수 있도록 멸균제공급부(400)가 구동될 수 있다.The communication unit is capable of communicating with the user's communication terminal and can transmit electrical signals to the
유동제어부(450)는 멸균제수용부(430), 멸균제투입부(410)와 전기적으로 연결되는 것으로, 멸균제(ST)의 유동량을 제어할 수 있다. The
구체적으로 유동제어부(450)는 멸균 처리의 대상이 되는 피처리물(OB)에 관한 정보를 전달받아 그에 대응하는 멸균제(ST)의 양을 산정하여 기화유닛(200)에 미리 설정되는 양의 멸균제(ST)가 공급될 수 있도록 멸균제(ST)의 유동량을 제어할 수 있다.Specifically, the
도 1, 도 3 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 압력조정부(500)는 순환유로부(600)에 설치되는 것으로, 처리챔버부(100)의 내부 압력을 조정할 수 있다. Referring to FIGS. 1 and 3 to 5 , the
구체적으로 압력조정부(500)는 처리챔버부(100)의 내부를 진공에 가까운 저압 상태로 만들 수 있고, 처리챔버부(100)의 내부에서 공기를 배기시킬 수 있다. Specifically, the
본 발명에서는 압력조정부(500)가 진공 펌프 방식으로 처리챔버부(100), 구체적으로 처리챔버본체(110)의 내부 압력을 조정하고, 공기를 배기시키는 역할을 하지만, 이에 한정하는 것은 아니고 처리챔버본체(110)의 내부를 진공에 가까운 저압 상태로 형성할 수 있는 기술적 사상 안에서 다양한 변형 실시가 가능하다.In the present invention, the
도 1, 도 3 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 순환유로부(600)는 처리챔버부(100), 플라즈마 방전부(300), 기화유닛(200)을 연결하며 폐회로 구조로 형성되는 것으로, 유체(F)가 순환가능하도록 유동 경로를 제공할 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 3 to 5, the
본 발명의 일 실시예에 따른 순환유로부(600)는 제1유로(610), 제2유로(630), 제3유로(650)를 포함할 수 있다.The
도 1, 도 3 내지 도 5를 참조하면, 제1유로(610)는 처리챔버부(100), 구체적으로 처리챔버본체(110)와 플라즈마 방전부(300), 구체적으로 플라즈마챔버본체(310)를 연결하는 것으로, 제1유로(610) 상에 압력조정부(500)가 설치될 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 3 to 5 , the
도 3을 참조하면, 제1유로(610)를 통해 처리챔버부(100)의 내부에서 공기가 배기될 수 있다. 제1유로(610) 상에는 제1밸브유닛(V1)이 배치될 수 있고, 제1밸브유닛(V1)에 의해 제1유로(610)에서의 공기 등 유체(F)의 유동이 제어될 수 있다.Referring to FIG. 3, air may be exhausted from the inside of the
도 1, 도 3 내지 도 5를 참조하면, 제2유로(630)는 플라즈마 방전부(300)와 기화유닛(200)을 연결하는 것으로, 플라즈마 방전부(300)에서 토출되는 유체(F)가 유입될 수 있다. 제2유로(630) 상에는 제2밸브유닛(V2)이 배치될 수 있고, 제2밸브유닛(V2)에 의해 제2유로(630)에서 공기, 오존 등의 유체(F)의 유동이 제어될 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 3 to 5, the
도 1, 도 3 내지 도 5를 참조하면, 제3유로(650)는 기화유닛(200)과 처리챔버부(100)를 연결하는 것으로, 기화유닛(200)의 내부에 수용되는 기화된 멸균제(ST), 플라즈마 방전부(300)에서 유입되는 오존, 처리챔버부(100)에서 토출되어 순환유로부(600), 구체적으로 제1유로(610), 제2유로(630)를 통해 기화유닛(200)으로 유입되는 공기 등의 유체(F)가 유동되도록 경로를 제공할 수 있다. Referring to Figures 1 and 3 to 5, the
도 1, 도 5를 참조하면, 순환유로부(600), 구체적으로 제1유로(610), 제2유로(630), 제3유로(650)는 처리챔버부(100), 플라즈마 방전부(300), 기화유닛(200)을 연결하며, 폐회로 순환 구조를 형성할 수 있다. 1 and 5, the
이로 인하여 제1유로(610) 상에 배치되는 제1밸브유닛(V1), 제2유로(630) 상에 형성되는 제2밸브유닛(V2)이 유로를 개방하고, 플라즈마 방전부(300), 구체적으로 플라즈마챔버본체(310)에 형성되는 유입유로(IP), 토출유로(OP) 상에 각각 배치되는 제4밸브유닛(V4), 제5밸브유닛(V5)이 유입유로(IP), 토출유로(OP)를 폐쇄하는 경우, 유체(F)는 순환유로부(600), 즉, 제1유로(610), 제2유로(630), 제3유로(650)를 따라 유동하며 순환할 수 있다.As a result, the first valve unit (V1) disposed on the
이에 더하여 압력조정부(500)가 구동됨에 따라 진공챔버부에서 배기되는 공기는 제1유로(610)를 따라 플라즈마챔버본체(310)로 유입되고, 플라즈마챔버본체(310)의 내부에서 플라즈마 방전 처리되며, 플라즈마챔버히터(370)로부터 열을 전달받아 가열되며 온도가 상승할 수 있다.In addition, as the
이에 더하여 상승한 공기는 제2유로(630)를 따라 기화챔버본체(210)로 유입되고, 멸균제공급부(400)로부터 공급받은 멸균제(ST)가 기화챔버히터(230)로부터 열을 전달받아 기화챔버본체(210)의 내부에서 기화될 때 함께 가열되며, 제3유로(650)를 따라 피처리물(OB)이 수용되는 처리챔버본체(110)로 유입될 수 있다.In addition, the rising air flows into the
이때, 제3유로(650)를 따라 가열된 공기, 기화된 멸균제(ST), 플라즈마 방전(PD)을 통해 생성된 오존 등의 유체(F)가 유입됨으로 인하여 진공 상태로 형성되는 처리챔버본체(110)의 내부에서 수분 건조 처리, 멸균에 적합한 온도 및 플라즈마 방전(PD)으로 인해 생성된 오존을 통한 살균 효과까지 도모할 수 있어 효율적인 멸균 처리가 가능한 효과가 있다. At this time, the processing chamber body is formed in a vacuum state due to the inflow of fluid (F) such as heated air, vaporized sterilizing agent (ST), and ozone generated through plasma discharge (PD) along the
즉, 폐회로 구조로 형성되는 순환유로부(600)로 인하여 처리챔버부(100)에서 배기되는 공기를 플라즈마 처리하면서 승온(가열)시키고, 이 플라즈마 방전 처리된 공기에 멸균제(ST)를 분사하여 기화챔버본체(210)에서 기화시키며, 다시 처리챔버본체(110)로 재주입하는 과정을 한 번에 수행할 수 있고, 고속 멸균 처리가 가능한 효과가 있다.That is, the temperature of the air discharged from the
이에 더하여 처리챔버부(100)의 내부를 건조시켜 제습 처리를 함과 동시에 처리챔버부(100)의 내부 온도를 멸균에 적합한 온도로 유지할 수 있는 효과가 있다.In addition, there is an effect of drying the inside of the
도 1, 도 3 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 압력센서부(710)는 처리챔버부(100)에 설치되는 것으로, 처리챔버부(100), 구체적으로 처리챔버본체(110)의 내부 압력을 측정하여 제어부(도면 미도시)에 전기적 신호로 전달할 수 있다. 1 and 3 to 5, the
제어부는 압력센서부(710)로부터 처리챔버부(100)의 내부 압력에 관한 정보를 전달받아 밸브유닛(V1, V2, V4, V5)의 구동을 제어하여 순환유로부(600)에서 유동하는 유체(F)의 유동량을 제어할 수 있다. The control unit receives information about the internal pressure of the
도 1, 도 3 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 온도센서부(750)는 처리챔버부(100)에 설치되는 것으로, 처리챔버부(100), 구체적으로 처리챔버부(100)의 내부 온도를 측정하여 제어부(도면 미도시)에 전기적 신호로 전달할 수 있다. Referring to Figures 1 and 3 to 5, the
제어부는 온도센서부(750)로부터 처리챔버부(100)의 내부 온도에 관한 정보를 전달받아 피처리물(OB)의 종류에 따라 멸균에 적합한 온도로 설정할 수 있고, 상기 온도에 도달할 때까지 커버히터(135), 챔버히터(150), 기화챔버히터(230), 플라즈마챔버히터(370)의 구동을 제어할 수 있다.The control unit receives information about the internal temperature of the
도 1, 도 3 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 필터부(800)는 플라즈마 방전부(300)와 연결되는 것으로, 제1필터(810), 제2필터(850)를 포함할 수 있다. Referring to FIGS. 1 and 3 to 5, the
도 1을 참조하면, 제1필터(810)는 플라즈마챔버본체(310)에 형성되는 유입유로(IP) 상에 배치될 수 있고, 제2필터(850)는 플라즈마챔버본체(310)에 형성되는 토출유로(OP) 상에 배치될 수 있다. Referring to FIG. 1, the
제1필터(810), 제2필터(850)를 통해 플라즈마 방전부(300)로 유입되거나, 플라즈마 방전부(300)로부터 토출되는 유체(F)를 필터링할 수 있는 효과가 있다. There is an effect of filtering the fluid F flowing into the
구체적으로 제2필터(850)를 통해 플라즈마 방전부(300)로부터 토출되는 오존의 토출량을 적정 농도로 제어할 수 있는 효과가 있고, 제1필터(810)를 통해 플라즈마 방전부(300)로 유입되는 공기 등 기체에서 이물질을 제거할 수 있는 효과가 있다.Specifically, there is an effect of controlling the discharge amount of ozone discharged from the
상기와 같은 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균 처리장치를 이용한 멸균 처리방법에 관하여 설명한다.A sterilization method using a sterilization device according to an embodiment of the present invention as described above will be described.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균 처리방법을 도시한 순서도이다. 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 멸균단계를 도시한 순서도이다. Figure 6 is a flowchart showing a sterilization method according to an embodiment of the present invention. Figure 7 is a flowchart showing the sterilization steps according to an embodiment of the present invention.
도 1 내지 도 5를 참조하면, 멸균 처리장치(1)는 처리챔버부(100), 기화유닛(200), 플라즈마 방전부(300), 멸균제공급부(400), 압력조정부(500), 순환유로부(600), 압력센서부(710), 온도센서부(750), 필터부(800)를 포함할 수 있다.1 to 5, the
도 6을 참조하면, 멸균 처리방법은 처리챔버부의 내부를 배기하는 배기단계(S10), 순환유로부 내 공기를 가열하는 공기 가열단계(S20), 처리챔버부에 수용되는 피처리물을 멸균시키는 멸균단계(S30), 처리챔버부의 내부 온도를 조절하는 유체순환단계(S40)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 6, the sterilization method includes an exhaust step (S10) of exhausting the inside of the processing chamber, an air heating step (S20) of heating the air in the circulation passage, and sterilizing the object to be processed contained in the processing chamber. It may include a sterilization step (S30) and a fluid circulation step (S40) for controlling the internal temperature of the processing chamber.
도 3, 도 6을 참조하면, 처리챔버부의 내부를 배기하는 배기단계(S10)는, 처리챔버부(100), 구체적으로 처리챔버본체(110)의 내부에서 유체(F)를 외부로 배기하는 단계로서, 압력조정부(500)가 구동됨에 따라 처리챔버본체(110)의 내부를 진공에 가까운 저압 상태로 형성할 수 있다.Referring to FIGS. 3 and 6, the exhaust step (S10) of exhausting the inside of the processing chamber unit involves exhausting the fluid F from the inside of the
순환유로부(600), 구체적으로 제1유로(610) 상에 배치되는 제1밸브유닛(V1)이 개방되고, 처리챔버본체(110)의 내부에서 공기가 제1유로(610)를 따라 배기될 수 있다. The
제1유로(610)를 따라 유동하는 공기는 플라즈마 방전부(300)를 통과하고, 플라즈마챔버본체(310)에 형성되는 토출구(315)와 연결되는 토출유로(OP)를 통해 외부로 토출될 수 있다. 이때, 토출유로(OP) 상에 배치되는 제5밸브유닛(V5)은 개방된 상태이다.The air flowing along the
도 4, 도 6을 참조하면, 순환유로부 내 공기를 가열하는 공기 가열단계(S20)는 처리챔버부(100)로 유입되는 공기를 가열하는 단계로서, 제1유로(610) 상에 배치되는 제1밸브유닛(V1), 플라즈마 방전부(300)에 형성되는 토출유로(OP), 유입유로(IP) 상에 배치되는 제4밸브유닛(V4), 제5밸브유닛(V5)은 폐쇄된 상태로, 제2유로(630) 상에 배치되는 제2밸브유닛(V2)은 개방된 상태로 형성될 수 있다.Referring to FIGS. 4 and 6, the air heating step (S20) of heating the air in the circulation passage portion is a step of heating the air flowing into the
제1유로(610)를 통해 플라즈마챔버본체(310)의 내부로 유입된 공기는 플라즈마챔버히터(370)에 의해 가열되고, 가열된 공기는 제2유로(630)를 통해 기화챔버본체(210)에 유입되고, 다시 기화챔버히터(230)로부터 열을 전달받아 가열될 수 있다. The air introduced into the plasma chamber
이렇게 가열된 공기는 제3유로(650)를 통해 처리챔버부(100), 구체적으로 처리챔버본체(110)로 유입될 수 있고, 처리챔버본체(110)의 내부를 멸균에 적합한 온도가 되도록 할 수 있다. The heated air can flow into the
이때, 온도센서부(750)는 처리챔버본체(110)의 내부 온도를 측정하고, 온도에 관한 정보를 제어부에 전달할 수 있다. 제어부는 기화챔버히터(230), 플라즈마챔버히터(370) 등에 전기적 신호를 전달하여 순환유로부(600)를 통해 유동하는 공기를 멸균에 적합한 미리 설정되는 온도까지 가열할 수 있다.At this time, the
이에 더하여, 처리챔버본체(110)에 연결되는 챔버히터(150) 및 챔버커버본체(131)에 연결되는 커버히터(135)로부터 열을 전달받아 처리챔버본체(110)의 내부로 유입되는 공기를 가열할 수 있다.In addition, heat is transferred from the
도 7을 참조하면, 처리챔버부에 수용되는 피처리물을 멸균시키는 멸균단계(S30)는 피처리물(OB)을 멸균 처리하는 단계로서, 멸균제를 기화유닛에 공급하는 멸균제 공급단계(S31), 플라즈마 방전으로 오존을 생성하는 오존 생성단계(S33), 오존을 처리챔버부로 공급하는 오존 공급단계(S35)을 포함할 수 있다.Referring to Figure 7, the sterilization step (S30) of sterilizing the object to be treated accommodated in the processing chamber portion is a step of sterilizing the object to be treated (OB), and includes a sterilizing agent supply step of supplying the sterilizing agent to the vaporization unit ( It may include S31), an ozone generation step (S33) of generating ozone by plasma discharge, and an ozone supply step (S35) of supplying ozone to the processing chamber.
도 2, 도 5을 참조하면, 멸균제를 기화유닛에 공급하는 멸균제 공급단계(S31)에서는 기화유닛(200)과 연결되는 멸균제공급부(400)로부터 멸균제(ST)를 공급받을 수 있다. 멸균제(ST)를 수용하는 멸균제카세트(CS)가 멸균제투입부(410)에 안착되고, 멸균제카세트(CS)로부터 멸균제(ST)가 멸균제수용부(430)로 유입될 수 있다.Referring to FIGS. 2 and 5, in the sterilizing agent supply step (S31) of supplying the sterilizing agent to the vaporization unit, the sterilizing agent (ST) can be supplied from the sterilizing
유동제어부(450)는 피처리물(OB)의 크기, 형상에 따라 미리 설정되는 유동량만큼 멸균제(ST)가 기화유닛(200)에 공급될 수 있도록 유동량을 제어할 수 있다. The
도 5를 참조하면, 오존 생성단계(S33)에서는 플라즈마 방전부(300)에서 플라즈마 방전(PD)이 발생됨에 따라 오존이 함께 생성될 수 있다. 오존 공급단계(S35)에서 생성된 오존은 순환유로부(600), 구체적으로 제2유로(630)를 통해 기화유닛(200)으로 유입되고, 멸균제(ST)와 함께 제3유로(650)를 통해 처리챔버부(100)로 유입될 수 있다. Referring to FIG. 5, in the ozone generation step (S33), ozone may be generated as plasma discharge (PD) is generated in the
도 5를 참조하면, 멸균단계(S30)에서는 순환유로부(600), 제1유로(610), 제2유로(630), 제3유로(650)가 전부 개방, 즉, 제1밸브유닛(V1), 제2밸브유닛(V2)가 모두 개방된 상태로 유체(F)가 폐회로 순환 유동될 수 있다.Referring to Figure 5, in the sterilization step (S30), the
또한, 커버히터(135), 챔버히터(150), 기화챔버히터(230), 플라즈마챔버히터(370)가 전원을 인가받아 열을 발생시킴으로 인하여 폐회로 구조로 형성되는 순환유로부(600)를 따라 유동하는 유체(F)의 온도를 상승시킬 수 있다.In addition, the
선택적 실시예로서, 처리챔버부(100)는 55℃, 플라즈마 방전부(300)는 120℃, 기화유닛(200)은 80℃의 온도를 가지도록 커버히터(135), 챔버히터(150), 기화챔버히터(230), 플라즈마챔버히터(370)가 구동될 수 있다.As an optional embodiment, the
도 5, 도 6을 참조하면, 유체순환단계(S40)에서는 처리챔버부(100)에 연결되는 온도센서부(750)로부터 처리챔버부(100)의 내부 온도에 관한 정보를 전달받고, 커버히터(135), 챔버히터(150), 기화챔버히터(230), 플라즈마챔버히터(370)를 구동시켜, 폐회로 구조로 형성되는 순환유로부(600)의 내부에서 유동하는 공기, 오존 등의 기체의 온도를 상승시켜 처리챔버부(100)의 내부 온도가 피처리물(OB)의 멸균에 적합한 온도로 조절할 수 있다.Referring to FIGS. 5 and 6, in the fluid circulation step (S40), information about the internal temperature of the
본 발명의 일 실시예에 따른 멸균 처리방법은, 폐회로 순환 구조를 가지며 처리챔버부(100), 플라즈마 방전부(300), 기화유닛(200)을 연결하는 순환유로부(600)로 인하여 상대적으로 높은 온도를 유지하면서 공기, 오존, 기화된 멸균제(ST) 등의 유체(F)가 처리챔버부(100)로 유입됨에 따라 고속으로 피처리물(OB)을 멸균 처리할 수 있는 효과가 있다. The sterilization method according to an embodiment of the present invention has a closed-circuit circulation structure and is relatively inexpensive due to the
또한, 순환유로부(600)를 따라 순환하며 연속적으로 가열된 공기, 기화된 멸균제(ST), 플라즈마 방전(PD)을 통해 생성된 오존 등의 유체(F)가 유입됨으로 인하여 진공 상태로 형성되는 처리챔버본체(110)의 내부에서 수분 건조 처리, 멸균에 적합한 온도 및 플라즈마 방전으로 인해 생성된 오존을 통한 살균 효과까지 도모할 수 있어 효율적인 멸균 처리가 가능한 효과가 있다. In addition, a fluid (F) such as heated air, vaporized sterilant (ST), and ozone generated through plasma discharge (PD) flows in while circulating along the
즉, 폐회로 구조로 형성되는 순환유로부(600)로 인하여 처리챔버부(100)에서 배기되는 공기를 플라즈마 처리하면서 승온(가열)시키고, 이 플라즈마 방전 처리된 공기에 멸균제(ST)를 분사하여 기화챔버본체(210)에서 기화시키고, 다시 처리챔버본체(110)로 재주입하는 과정을 한 번에 수행할 수 있고, 고속 멸균 처리가 가능한 효과가 있다.That is, the temperature of the air discharged from the
이에 더하여 처리챔버부(100)의 내부를 건조시켜 제습 처리를 함과 동시에 처리챔버부(100)의 내부 온도를 멸균에 적합한 온도로 유지할 수 있는 효과가 있다.In addition, there is an effect of drying the inside of the
이상, 본 발명을 바람직한 실시 예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시 예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상 및 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러가지 변형 및 변경이 가능하다.Above, the present invention has been described in detail with preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications and changes can be made by those skilled in the art within the technical spirit and scope of the present invention. This is possible.
1: 멸균 처리장치 CS: 멸균제카세트
F: 유체 IP: 유입유로
OB: 피처리물 OP: 토출유로
ST: 멸균제 V1, V2, V3, V4, V5: 밸브유닛
100: 처리챔버부 110: 처리챔버본체
130: 챔버커버부 131: 챔버커버본체
135: 커버히터 150: 챔버히터
200: 기화유닛 210: 기화챔버본체
230: 기화챔버히터 300: 플라즈마 방전부
310: 플라즈마챔버본체 311: 유입구
315: 토출구 330: 전극부
350: 전원부 370: 플라즈마챔버히터
400: 멸균제공급부 410: 멸균제투입부
430: 멸균제수용부 450: 유동제어부
500: 압력조정부 600: 순환유로부
610: 제1유로 630: 제2유로
650: 제3유로 710: 압력센서부
750: 온도센서부 800: 필터부
810: 제1필터 850: 제2필터1: Sterilization processing device CS: Sterilizer cassette
F: Fluid IP: Inlet flow path
OB: object to be treated OP: discharge flow path
ST: Sterilizer V1, V2, V3, V4, V5: Valve unit
100: processing chamber part 110: processing chamber body
130: Chamber cover part 131: Chamber cover body
135: cover heater 150: chamber heater
200: vaporization unit 210: vaporization chamber body
230: Vaporization chamber heater 300: Plasma discharge unit
310: Plasma chamber body 311: Inlet
315: discharge port 330: electrode portion
350: Power supply unit 370: Plasma chamber heater
400: Sterilizing agent supply unit 410: Sterilizing agent input unit
430: Sterilizing agent receiving part 450: Flow control part
500: pressure adjustment unit 600: circulation flow unit
610: 1st Euro 630: 2nd Euro
650: Third flow path 710: Pressure sensor unit
750: Temperature sensor unit 800: Filter unit
810: first filter 850: second filter
Claims (15)
상기 처리챔버부와 연결되며, 상기 처리챔버부로 유입되는 멸균제를 기화시키는 기화유닛;
전원을 인가받아 플라즈마 방전이 가능한 플라즈마 방전부;
상기 처리챔버부의 내부 압력을 조정하는 압력조정부; 및
상기 처리챔버부, 상기 플라즈마 방전부 및 상기 기화유닛을 연결하며 폐회로 순환 구조로 형성되고, 유체가 순환가능하도록 유동 경로를 제공하는 순환유로부;를 포함하고,
상기 기화유닛은 상기 처리챔버부와 상기 플라즈마 방전부 사이에 배치되며,
상기 순환유로부는, 상기 처리챔버부와 상기 플라즈마 방전부를 연결하는 제1유로와; 상기 플라즈마 방전부와 상기 기화유닛을 연결하는 제2유로; 및 상기 기화유닛과 상기 처리챔버부를 연결하는 제3유로;를 포함하며,
상기 처리챔버부에서 배기되며 멸균제를 포함하는 유체는, 상기 제1유로를 통해 상기 플라즈마 방전부로 유입되고, 상기 플라즈마 방전부에서 상기 제2유로를 통해 상기 기화유닛으로 공급되며, 상기 기화유닛에서 상기 제3유로를 통해 상기 처리챔버부로 공급되며 순환하는 것을 특징으로 하는 멸균 처리장치.A processing chamber portion that is hollow on the inside and can accommodate an object to be treated, and is capable of sterilizing the object to be treated;
a vaporization unit connected to the processing chamber and vaporizing the sterilizing agent flowing into the processing chamber;
A plasma discharge unit capable of generating plasma discharge by receiving power;
a pressure adjusting unit that adjusts the internal pressure of the processing chamber unit; and
It includes a circulation passage part that connects the processing chamber part, the plasma discharge part, and the vaporization unit and is formed in a closed circuit circulation structure, and provides a flow path so that the fluid can circulate,
The vaporization unit is disposed between the processing chamber portion and the plasma discharge portion,
The circulation passage portion includes a first passage connecting the processing chamber portion and the plasma discharge portion; a second passage connecting the plasma discharge unit and the vaporization unit; And a third flow path connecting the vaporization unit and the processing chamber unit,
The fluid discharged from the processing chamber and containing a sterilizing agent flows into the plasma discharge unit through the first flow path and is supplied from the plasma discharge part to the vaporization unit through the second flow path, and the vaporization unit A sterilization processing device characterized in that it is supplied to the processing chamber portion through the third flow path and circulates.
상기 기화유닛은,
내부가 중공이며, 상기 처리챔버부와 상기 플라즈마 방전부와 연결되는 기화챔버본체; 및
상기 기화챔버본체에 설치되며 상기 기화챔버본체로 열을 전달하는 기화챔버히터;를 포함하는 것을 특징으로 하는 멸균 처리장치.According to paragraph 1,
The vaporization unit is,
a vaporization chamber body that is hollow on the inside and connected to the processing chamber portion and the plasma discharge portion; and
A sterilization processing device comprising a vaporization chamber heater that is installed in the vaporization chamber body and transmits heat to the vaporization chamber body.
상기 처리챔버부는,
피처리물이 수용되는 처리챔버본체; 및
상기 처리챔버본체를 커버가능한 챔버커버부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 멸균 처리장치.According to paragraph 1,
The processing chamber part,
A processing chamber body in which the object to be treated is accommodated; and
A sterilization processing device comprising a chamber cover portion capable of covering the processing chamber body.
상기 챔버커버부는,
상기 처리챔버본체에 연결가능한 챔버커버본체; 및
상기 챔버커버본체에 설치되며, 상기 처리챔버본체로 열을 전달하는 커버히터;를 포함하는 것을 특징으로 하는 멸균 처리장치.According to clause 4,
The chamber cover part,
A chamber cover body connectable to the processing chamber body; and
A sterilization processing device comprising a cover heater installed on the chamber cover body and transmitting heat to the processing chamber body.
상기 처리챔버부는, 상기 처리챔버본체에 설치되며, 상기 처리챔버본체로 열을 전달하는 챔버히터;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 멸균 처리장치.According to clause 4,
The processing chamber unit is installed in the processing chamber body and transmits heat to the processing chamber body. The sterilization processing device further includes a chamber heater.
상기 순환유로부에는 적어도 하나 이상의 밸브유닛이 배치되며 상기 순환유로부 내에서의 유체의 유동을 제어가능한 것을 특징으로 하는 멸균 처리장치.According to paragraph 1,
A sterilization device, characterized in that at least one valve unit is disposed in the circulation passage portion and is capable of controlling the flow of fluid within the circulation passage portion.
상기 기화유닛과 연결되며, 상기 기화유닛으로 멸균제를 공급가능한 멸균제공급부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 멸균 처리장치.According to paragraph 1,
A sterilizing agent supply unit connected to the vaporization unit and capable of supplying a sterilizing agent to the vaporization unit.
상기 멸균제공급부는,
외부로부터 멸균제를 공급받는 멸균제투입부;
상기 멸균제투입부와 연통가능하며, 상기 멸균제투입부로부터 멸균제를 공급받는 멸균제수용부; 및
상기 멸균제수용부에서 상기 기화유닛으로의 멸균제의 유동을 제어하는 유동제어부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 멸균 처리장치.According to clause 8,
The sterilizing agent supply department,
A sterilizing agent input unit that receives a sterilizing agent from the outside;
a sterilizing agent receiving portion capable of communicating with the sterilizing agent input portion and receiving a sterilizing agent from the sterilizing agent input portion; and
A sterilization processing device comprising a flow control unit that controls the flow of the sterilizing agent from the sterilizing agent receiving unit to the vaporization unit.
상기 플라즈마 방전부는,
내부가 중공이며, 플라즈마 방전을 통해 생성되는 플라즈마가 수용되는 플라즈마챔버본체;
전원을 발생시키는 전원부; 및
상기 플라즈마챔버본체에 배치되며, 상기 전원부로부터 전원을 인가받아 플라즈마 방전을 발생시키는 전극부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 멸균 처리장치.According to paragraph 1,
The plasma discharge unit,
A plasma chamber body that is hollow on the inside and accommodates plasma generated through plasma discharge;
A power supply unit that generates power; and
A sterilization device comprising: an electrode unit disposed in the plasma chamber main body and generating plasma discharge by receiving power from the power supply unit.
상기 플라즈마 방전부는, 상기 플라즈마챔버본체에 설치되고, 상기 플라즈마챔버본체로 열을 전달하는 플라즈마챔버히터;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 멸균 처리장치.According to clause 10,
The plasma discharge unit is installed in the plasma chamber main body and transmits heat to the plasma chamber main body. The sterilization processing device further includes a.
상기 플라즈마 방전부와 연결되며, 상기 플라즈마 방전부로의 흡기 또는 배기되는 유체를 필터링하는 필터부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 멸균 처리장치.According to paragraph 1,
A sterilization device further comprising a filter unit connected to the plasma discharge unit and filtering fluid sucked into or discharged from the plasma discharge unit.
상기 처리챔버부의 내부를 배기하는 배기단계;
상기 처리챔버부로 유입되는 공기를 가열하는 공기 가열단계; 및
상기 처리챔버부의 내부에 수용되는 피처리물을 멸균시키는 멸균단계;를 포함하고,
상기 처리챔버부로 유입되는 공기는, 상기 처리챔버부에서 배기되는 공기가 상기 순환유로부를 통해 유동되며, 상기 공기 가열단계에서 가열된 후 상기 처리챔버부로 유입되고,
상기 순환유로부는, 상기 처리챔버부, 상기 플라즈마 방전부 및 상기 기화유닛을 연결하며 폐회로 순환 구조로 형성되고, 유체가 순환가능하도록 유동 경로를 제공하며,
상기 기화유닛은 상기 처리챔버부와 상기 플라즈마 방전부 사이에 배치되고,
상기 순환유로부는, 상기 처리챔버부와 상기 플라즈마 방전부를 연결하는 제1유로와; 상기 플라즈마 방전부와 상기 기화유닛을 연결하는 제2유로; 및 상기 기화유닛과 상기 처리챔버부를 연결하는 제3유로;를 포함하며,
상기 처리챔버부에서 배기되며 멸균제를 포함하는 유체는, 상기 제1유로를 통해 상기 플라즈마 방전부로 유입되고, 상기 플라즈마 방전부에서 상기 제2유로를 통해 상기 기화유닛으로 공급되며, 상기 기화유닛에서 상기 제3유로를 통해 상기 처리챔버부로 공급되며 순환하는 것을 특징으로 하는 멸균 처리방법.In a sterilization treatment method using a sterilization processing device including a processing chamber unit, a vaporization unit, a plasma discharge unit, a pressure adjustment unit, and a circulation passage unit,
An exhaust step of exhausting the inside of the processing chamber unit;
an air heating step of heating air flowing into the processing chamber; and
A sterilization step of sterilizing the object to be treated accommodated inside the processing chamber portion,
The air flowing into the processing chamber section is the air exhausted from the processing chamber section, flows through the circulation passage section, is heated in the air heating step, and then flows into the processing chamber section,
The circulation passage part connects the processing chamber part, the plasma discharge part, and the vaporization unit and is formed in a closed circuit circulation structure, and provides a flow path so that the fluid can circulate,
The vaporization unit is disposed between the processing chamber portion and the plasma discharge portion,
The circulation passage portion includes a first passage connecting the processing chamber portion and the plasma discharge portion; a second passage connecting the plasma discharge unit and the vaporization unit; And a third flow path connecting the vaporization unit and the processing chamber unit,
The fluid discharged from the processing chamber and containing a sterilizing agent flows into the plasma discharge unit through the first flow path and is supplied from the plasma discharge part to the vaporization unit through the second flow path, and the vaporization unit A sterilization treatment method characterized in that the sterilization process is supplied to the processing chamber unit through the third flow path and circulates.
상기 멸균단계는,
멸균제를 상기 처리챔버부와 연결되는 상기 기화유닛에 공급하는 멸균제 공급단계;
상기 기화유닛과 연결되는 상기 플라즈마 방전부가 전원을 인가받아, 플라즈마 방전으로 오존을 생성하는 오존 생성단계; 및
상기 오존 생성단계 이후에 생성된 오존을 상기 기화유닛을 통과시켜 상기 처리챔버부로 공급하는 오존 공급단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 멸균 처리방법.According to clause 13,
The sterilization step is,
A sterilizing agent supply step of supplying a sterilizing agent to the vaporization unit connected to the processing chamber portion;
An ozone generation step in which the plasma discharge unit connected to the vaporization unit receives power and generates ozone through plasma discharge; and
A sterilization method further comprising an ozone supply step of passing the ozone generated after the ozone generation step through the vaporization unit and supplying it to the processing chamber unit.
상기 공기 가열단계는, 상기 처리챔버부, 상기 기화유닛 및 상기 플라즈마 방전부로 열을 전달하는 것을 특징으로 하는 멸균 처리방법.According to clause 14,
The air heating step is a sterilization method characterized in that it transfers heat to the processing chamber unit, the vaporization unit, and the plasma discharge unit.
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Citations (5)
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|---|---|---|---|---|
| KR20080081102A (en) * | 2004-11-26 | 2008-09-05 | 주식회사 휴먼메디텍 | Hydrogen peroxide vapor sterilizer and sterilizing methods using the same |
| KR20120065503A (en) * | 2010-12-13 | 2012-06-21 | (주)메디칼어플라이언스 | Sterilizing apparatus in airtight space using hydrogen peroxide |
| KR20120140278A (en) * | 2011-06-21 | 2012-12-31 | 한신메디칼 주식회사 | Plasma sterillization method |
| KR20190032741A (en) * | 2017-09-20 | 2019-03-28 | 주식회사 큐브인스트루먼트 | Sterilization method using low-temperature sterilizer |
| KR20190128915A (en) * | 2018-05-09 | 2019-11-19 | 한소 주식회사 | Sterilization system and method with turbulence |
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20080081102A (en) * | 2004-11-26 | 2008-09-05 | 주식회사 휴먼메디텍 | Hydrogen peroxide vapor sterilizer and sterilizing methods using the same |
| KR20120065503A (en) * | 2010-12-13 | 2012-06-21 | (주)메디칼어플라이언스 | Sterilizing apparatus in airtight space using hydrogen peroxide |
| KR20120140278A (en) * | 2011-06-21 | 2012-12-31 | 한신메디칼 주식회사 | Plasma sterillization method |
| KR20190032741A (en) * | 2017-09-20 | 2019-03-28 | 주식회사 큐브인스트루먼트 | Sterilization method using low-temperature sterilizer |
| KR20190128915A (en) * | 2018-05-09 | 2019-11-19 | 한소 주식회사 | Sterilization system and method with turbulence |
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