KR102603487B1

KR102603487B1 - optical film

Info

Publication number: KR102603487B1
Application number: KR1020207002414A
Authority: KR
Inventors: 치에 사카우에; 아이 고바시; 유지 아사츠
Original assignee: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Priority date: 2017-06-27
Filing date: 2018-06-21
Publication date: 2023-11-16
Also published as: JP2019008292A; TW201910823A; CN110799865B; KR20200019236A; WO2019004041A1; CN110799865A; JP7320926B2

Abstract

광 선택 흡수층에 포함되는 400 ㎚ 부근의 단파장의 가시광을 선택적으로 흡수하는 화합물이 광 선택 흡수층 이외의 층으로 이행하지 않아, 위상차 필름의 열화를 억제할 수 있어, 양호한 표시 특성을 부여할 수 있는 광학 필름을 제공한다.
활성 에너지선 경화성 조성물로 형성되는 광 선택 흡수층을 적어도 1층 포함하고, 또한 하기 식 (1)을 만족하는 광학 필름.
A(405)≥0.5 (1)
[식 (1) 중, A(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.] Optics that can suppress deterioration of the retardation film and provide good display characteristics because the compound that selectively absorbs visible light with a short wavelength around 400 nm contained in the light selective absorption layer does not transfer to layers other than the light selective absorption layer. Provides film.
An optical film comprising at least one light selective absorption layer formed of an active energy ray curable composition and satisfying the following formula (1).
A(405)≥0.5 (1)
[In formula (1), A(405) represents the absorbance at a wavelength of 405 nm.]

Description

광학 필름optical film

본 발명은 적어도 1층의 광 선택 흡수층을 포함하는 광학 필름에 관한 것이다.The present invention relates to an optical film comprising at least one light selective absorption layer.

유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치 등의 표시 장치(FPD: 플랫 패널 디스플레이)에는, 유기 EL 소자, 액정 셀 등의 표시 소자나 편광판 등의 광학 필름 등 여러 가지 부재가 이용되고 있다. 이들 부재에 이용되는 유기 EL 화합물 및 액정 화합물 등은 유기물이기 때문에, 자외선(UV)에 의한 열화가 문제가 되기 쉽다. 이러한 문제를 해결하기 위해, 예컨대, 특허문헌 1에는 370 ㎚ 이하의 파장역의 자외선 흡수능이 우수한 자외선 흡수제를 편광판의 보호 필름에 첨가한 편광판이 기재되어 있다.Various members such as display elements such as organic EL elements and liquid crystal cells and optical films such as polarizers are used in display devices (FPD: flat panel displays) such as organic EL displays and liquid crystal displays. Since the organic EL compounds and liquid crystal compounds used in these members are organic materials, deterioration by ultraviolet rays (UV) tends to be a problem. To solve this problem, for example, Patent Document 1 describes a polarizing plate in which an ultraviolet absorber excellent in absorbing ultraviolet rays in a wavelength range of 370 nm or less is added to the protective film of the polarizing plate.

특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2006-308936호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Publication No. 2006-308936

최근의 표시 장치의 박형화가 진행되는 중, 중합성 액정 화합물을 배향·광 경화시켜 이루어지는 액정계 위상차 필름의 개발이 진행되고 있다. 이들 액정계 위상차 필름이나 유기 EL 발광 소자는 자외선에 의한 열화만이 아니라, 단파장의 가시광에 있어서도 열화하는 경향이 있는 것이 밝혀져 왔다. 그러나, 특허문헌 1에 기재된 편광판은, 370 ㎚ 이하의 파장역의 자외선 흡수능이 우수하여도, 400 ㎚ 부근의 단파장의 가시광의 흡수 성능이 낮아, 액정계 위상차 필름이나 유기 EL 발광 소자의 열화 억제가 충분하지 않은 경우가 있었다.While display devices are becoming thinner in recent years, the development of liquid crystal retardation films made by aligning and photocuring polymerizable liquid crystal compounds is progressing. It has been revealed that these liquid crystal retardation films and organic EL light-emitting devices tend to deteriorate not only due to ultraviolet rays, but also to short-wavelength visible light. However, although the polarizing plate described in Patent Document 1 is excellent in the ultraviolet ray absorption ability in the wavelength range of 370 nm or less, the absorption performance of visible light with a short wavelength around 400 nm is low, making it difficult to suppress the deterioration of the liquid crystal retardation film or organic EL light-emitting device. There were cases where it wasn't enough.

그래서, 400 ㎚ 부근의 단파장의 가시광의 흡수 성능을 갖는 점착제층을 배치함으로써, 액정계 위상차 필름이나 유기 EL 발광 소자의 열화를 억제할 수 없는 것인지 검토를 행하였다. 검토의 결과, 점착제층에 400 ㎚ 부근의 단파장의 가시광의 흡수 성능을 갖는 화합물을 함유시키면, 점착제층에 포함되는 400 ㎚ 부근의 단파장의 가시광의 흡수 성능을 갖는 화합물이, 다른 층으로 이행함으로써 위상차 필름이나 편광판의 열화를 생기게 하여 버리는 경향이 있는 것이 밝혀졌다.Therefore, a study was conducted to determine whether deterioration of the liquid crystal retardation film or organic EL light emitting device could be suppressed by disposing an adhesive layer that has the ability to absorb visible light with a short wavelength around 400 nm. As a result of the examination, when the adhesive layer contains a compound having the ability to absorb visible light with a short wavelength around 400 nm, the compound contained in the adhesive layer and the ability to absorb visible light with a short wavelength around 400 nm transfers to another layer, thereby creating a phase difference. It has been revealed that there is a tendency to cause deterioration of films and polarizing plates.

본 발명은 이하에 기재의 발명을 포함한다.The present invention includes the invention described below.

[1] 광학 필름을 제공하는 활성 에너지선 경화성 조성물로 형성되는 광 선택 흡수층을 적어도 1층 포함하고, 또한 하기 식 (1)을 만족하는 광학 필름.[1] An optical film that includes at least one light selective absorption layer formed of an active energy ray curable composition that provides an optical film and satisfies the following formula (1).

A(405)≥0.5 (1)A(405)≥0.5 (1)

[식 (1) 중, A(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.][In formula (1), A(405) represents the absorbance at a wavelength of 405 nm.]

[2] 또한, 하기 식 (2)를 만족하는 [1]에 기재된 광학 필름.[2] The optical film according to [1], which also satisfies the following formula (2).

A(440)≤0.1 (2)A(440)≤0.1 (2)

[식 (2) 중, A(440)은 파장 440 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.][In formula (2), A(440) represents the absorbance at a wavelength of 440 nm.]

[3] 하기 식 (3)을 만족하는 [1] 또는 [2]에 기재된 광학 필름.[3] The optical film according to [1] or [2], which satisfies the following formula (3).

A(405)/A(440)≥5 (3)A(405)/A(440)≥5 (3)

[식 (3) 중, A(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타내고, A(440)은 파장 440 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.][In formula (3), A(405) represents the absorbance at a wavelength of 405 nm, and A(440) represents the absorbance at a wavelength of 440 nm.]

[4] 광 선택 흡수층의 23℃에 있어서의 저장 탄성률(E)이 100 ㎫ 이상인 [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름.[4] The optical film according to any one of [1] to [3], wherein the light selective absorption layer has a storage modulus (E) of 100 MPa or more at 23°C.

[5] 광 선택 흡수층이, 광 경화성 성분(A), 광 선택 흡수 화합물(B) 및 광 중합 개시제(C)를 함유하는 활성 에너지선 경화성 조성물로 형성되는 층인 [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 층.[5] Any of [1] to [4], wherein the light selective absorption layer is a layer formed of an active energy ray curable composition containing a light curable component (A), a light selective absorption compound (B), and a photo polymerization initiator (C). Floor listed in one.

[6] 광 선택 흡수 화합물(B)의 함유량이, 광 경화성 성분(A) 100 질량부에 대하여, 0.01∼20 질량부인 [5]에 기재된 광학 필름.[6] The optical film according to [5], wherein the content of the light selective absorption compound (B) is 0.01 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the photocurable component (A).

[7] 광 선택 흡수 화합물(B)이 하기 식 (4)를 만족하는 화합물인 [5] 또는 [6]에 기재된 광학 필름.[7] The optical film according to [5] or [6], wherein the light selective absorption compound (B) is a compound satisfying the following formula (4).

ε(405)≥20 (4)ε(405)≥20 (4)

[식 (4) 중, ε(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.][In formula (4), ε(405) represents the gram extinction coefficient of the compound at a wavelength of 405 nm. The unit of gram extinction coefficient is L/(g·cm).]

[8] 광 선택 흡수 화합물(B)은 식 (5)를 만족하는 화합물인 [7]에 기재된 광학 필름.[8] The optical film according to [7], wherein the light selective absorption compound (B) is a compound satisfying formula (5).

ε(405)/ε(440)≥20 (5)ε(405)/ε(440)≥20 (5)

[식 (5) 중, ε(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)은 파장 440 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타낸다.][In equation (5), ε (405) represents the gram extinction coefficient of the compound at a wavelength of 405 nm, and ε (440) represents the gram extinction coefficient at a wavelength of 440 nm.]

[9] 광 경화성 성분(A)이, (메타)아크릴로일옥시기 함유 화합물 및 에폭시 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 [6]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름.[9] The optical film according to any one of [6] to [8], wherein the photocurable component (A) contains at least one selected from the group consisting of (meth)acryloyloxy group-containing compounds and epoxy compounds.

[10] [1]∼[9]에 기재된 광학 필름의 적어도 한쪽의 면에, 점착제층을 갖는 점착제층 부착 광학 필름.[10] An optical film with an adhesive layer having an adhesive layer on at least one side of the optical film according to [1] to [9].

[11] [10]에 기재된 점착제층 부착 광학 필름을 갖는 표시 장치.[11] A display device having the optical film with an adhesive layer according to [10].

본 발명의 광학 필름은, 광 선택 흡수층에 포함되는 400 ㎚ 부근의 단파장의 가시광을 선택적으로 흡수하는 화합물이 광 선택 흡수층 이외의 층으로 이행하지 않아, 위상차 필름의 열화를 억제할 수 있어, 양호한 표시 특성을 부여할 수 있다.In the optical film of the present invention, the compound that selectively absorbs visible light with a short wavelength around 400 nm contained in the light selective absorption layer does not migrate to layers other than the light selective absorption layer, and deterioration of the retardation film can be suppressed, providing good display. Characteristics can be given.

도 1은 본 발명에 따른 광학 필름의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 광학 적층체의 층 구성의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 광학 적층체의 층 구성의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 광학 적층체의 층 구성의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 5는 본 발명에 따른 광학 적층체의 층 구성의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 6은 본 발명에 따른 광학 적층체의 층 구성의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an optical film according to the present invention.
Figure 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of an optical laminate according to the present invention.
Figure 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of an optical laminate according to the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of an optical laminate according to the present invention.
Figure 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of an optical laminate according to the present invention.
Figure 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of an optical laminate according to the present invention.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해서, 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기서 설명하는 실시형태에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 취지를 손상시키지 않는 범위에서 여러 가지의 변경을 할 수 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In addition, the scope of the present invention is not limited to the embodiments described herein, and various changes can be made without impairing the spirit of the present invention.

본 발명의 광학 필름은, 활성 에너지선 경화 수지 조성물로 형성되는 광 선택 흡수층을 적어도 1층 포함하고, 하기 식 (1)을 만족하는 광학 필름이다.The optical film of the present invention is an optical film that includes at least one light selective absorption layer formed of an active energy ray cured resin composition and satisfies the following formula (1).

A(405)≥0.5 (1)A(405)≥0.5 (1)

[파장 405 ㎚에 있어서의 광학 필름의 흡광도를 나타낸다.][Indicates the absorbance of the optical film at a wavelength of 405 nm.]

A(405)의 값은 클수록 파장 405 ㎚에 있어서의 흡수가 큰 것을 나타낸다. A(405)의 값이 1 미만이면, 파장 405 ㎚에 있어서의 흡수가 낮아, 단파장의 가시광에 있어서의 위상차 필름이나 유기 EL 소자 등의 표시 장치의 열화를 억제하는 효과가 작다. A(405)의 값은, 내후 열화 억제의 관점에서, 바람직하게는 0.6 이상이고, 보다 바람직하게는 0.8 이상이고, 특히 바람직하게는 1.0 이상이다.The larger the value of A(405), the greater the absorption at a wavelength of 405 nm. If the value of A (405) is less than 1, absorption at a wavelength of 405 nm is low, and the effect of suppressing deterioration of display devices such as retardation films and organic EL elements in short-wavelength visible light is small. The value of A (405) is preferably 0.6 or more, more preferably 0.8 or more, and particularly preferably 1.0 or more from the viewpoint of suppressing weathering deterioration.

본 발명의 광학 필름은, 또한 하기 식 (2)를 만족하는 것이 바람직하다.It is preferable that the optical film of the present invention further satisfies the following formula (2).

A(440)≤0.1 (2)A(440)≤0.1 (2)

A(440)의 값이 작을수록 파장 440 ㎚에 있어서의 흡수가 낮은 것을 나타낸다. A(440)의 값이 0.1을 넘으면, 표시 장치에 있어서의 양호한 색채 표현을 손상시키는 경향이 있다. 또한, 표시 장치의 발광을 저해하는 경향이 있기 때문에, 표시 장치의 휘도도 저하할 가능성이 있다. A(440)의 값은, 표시 장치의 발광 저해를 억제하는 관점에서, 바람직하게는 0.05 이하이고, 보다 바람직하게는 0.04 이하이고, 특히 바람직하게는 0.03 이하이다.The smaller the value of A(440), the lower the absorption at a wavelength of 440 nm. If the value of A (440) exceeds 0.1, good color expression in the display device tends to be impaired. Additionally, since there is a tendency to inhibit light emission of the display device, there is a possibility that the luminance of the display device may also decrease. The value of A (440) is preferably 0.05 or less, more preferably 0.04 or less, and particularly preferably 0.03 or less from the viewpoint of suppressing inhibition of light emission of the display device.

본 발명의 광학 필름은, 또한 식 (3)을 만족하는 것이 바람직하다.It is preferable that the optical film of the present invention further satisfies equation (3).

하기 식 (3)을 만족하는 청구항 1 또는 2에 기재된 광학 필름.The optical film according to claim 1 or 2, which satisfies the following formula (3).

A(405)/A(440)≥5 (3)A(405)/A(440)≥5 (3)

A(405)/A(440)의 값은, 파장 440 ㎚에 있어서의 흡수의 크기에 대한 파장 405 ㎚의 흡수의 크기를 나타낸다. A(405)/A(440)의 값이 클수록 405 ㎚ 부근의 파장역에 특이적인 흡수가 있는 것을 나타낸다. A(405)/A(440)의 값은 10 이상인 것이 바람직하고, 30 이상인 것이 보다 바람직하고, 특히 바람직하게는 60 이상이다.The value of A(405)/A(440) represents the magnitude of absorption at a wavelength of 405 nm relative to the magnitude of absorption at a wavelength of 440 nm. The larger the value of A(405)/A(440), the more specific absorption occurs in the wavelength range around 405 nm. The value of A(405)/A(440) is preferably 10 or more, more preferably 30 or more, and particularly preferably 60 or more.

<본 발명의 광학 적층체><Optical laminate of the present invention>

본 발명의 광학 적층체의 층 구성의 일례의 단면 모식도를 도 1에 나타내었다.A cross-sectional schematic diagram of an example of the layer structure of the optical laminate of the present invention is shown in Figure 1.

도 1에 나타내는 본 발명의 광학 필름(10)은, 수지 필름(2)[예컨대, 후술하는 수지 필름(a)] 중 적어도 한쪽의 면에 광 선택 흡수층(1)이 형성된다. 광 선택 흡수층(1)은, 단층이어도 좋고, 다층이어도 좋다. 또한, 수지 필름(2)과 광 선택 흡수층(1) 사이에 접착제층 또는 점착제층이 있어도 좋다. 이 경우의 접착제층은, 공지의 접착제(수계 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제)로 형성되는 접착제층이면 좋고, 점착제층도 공지의 점착제로 형성되는 점착제층이면 좋다.In the optical film 10 of the present invention shown in FIG. 1, a light selective absorption layer 1 is formed on at least one side of the resin film 2 (for example, the resin film (a) described later). The light selective absorption layer 1 may be a single layer or may be a multilayer. Additionally, there may be an adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer between the resin film 2 and the light selective absorption layer 1. The adhesive layer in this case may be an adhesive layer formed of a known adhesive (water-based adhesive, active energy ray-curable adhesive), and the adhesive layer may also be an adhesive layer formed of a known adhesive.

도 2에 기재된 광학 적층체(10A)는, 본 발명의 광학 필름(10)과 편광판 필름을 포함하는 광학 적층체이다. 도 2에 나타낸 광 선택 흡수층(1)은, 접착제층으로서도 기능한다.The optical laminated body 10A shown in FIG. 2 is an optical laminated body containing the optical film 10 of the present invention and a polarizing plate film. The light selective absorption layer 1 shown in FIG. 2 also functions as an adhesive layer.

도 3에 기재된 광학 적층체(10B)는, 수지 필름(2), 광 선택 흡수층(1), 편광 필름(3), 접착제층(4), 보호 필름(5)을 포함하는 광학 적층체이다. 접착제층(4)은, 공지의 접착제로 형성된 접착제층이어도 좋고, 본원의 광 선택 흡수층(2)을 접착제층으로서 이용하여도 좋다. 보호 필름(5)은, 위상차를 갖는 필름(위상차 필름)이어도 좋다.The optical laminated body 10B shown in FIG. 3 is an optical laminated body including a resin film 2, a light selective absorption layer 1, a polarizing film 3, an adhesive layer 4, and a protective film 5. The adhesive layer 4 may be an adhesive layer formed of a known adhesive, or the light selective absorption layer 2 of the present application may be used as the adhesive layer. The protective film 5 may be a film having a phase difference (retardation film).

도 4에 기재된 광학 적층체(10C) 및 도 5에 기재된 광학 적층체(10D)는, 수지 필름(2), 광 선택 흡수층(1), 편광 필름(3), 접착제층(4), 보호 필름(5), 점착제층(6), 광학 필름(40), 점착제층(30), 발광 소자(110)를 포함하는 광학 적층체이다. 접착제층(4)은, 공지의 접착제로 형성된 접착제층이어도 좋고, 본원의 광 선택 흡수층(2)을 접착제층으로서 이용하여도 좋다.The optical laminated body 10C shown in FIG. 4 and the optical laminated body 10D shown in FIG. 5 include a resin film 2, a light selective absorption layer 1, a polarizing film 3, an adhesive layer 4, and a protective film. (5), It is an optical laminate including an adhesive layer (6), an optical film (40), an adhesive layer (30), and a light emitting element (110). The adhesive layer 4 may be an adhesive layer formed of a known adhesive, or the light selective absorption layer 2 of the present application may be used as the adhesive layer.

도 6에 기재된 광학 적층체(10E)는, 광 선택 흡수층(1), 수지 필름(2), 접착제층(4), 편광 필름(3), 접착제층(4), 수지 필름(2)을 포함하는 광학 적층체이다. 도 6에 있어서, 광 선택 흡수층(1)은, 표면 처리층으로서도 기능한다.The optical laminate 10E shown in FIG. 6 includes a light selective absorption layer 1, a resin film 2, an adhesive layer 4, a polarizing film 3, an adhesive layer 4, and a resin film 2. It is an optical laminate that In Fig. 6, the light selective absorption layer 1 also functions as a surface treatment layer.

즉, 본 발명의 광 선택 흡수층(1)은, 접착제층으로서도 기능하고, 표면 처리층으로서도 기능한다.That is, the light selective absorption layer 1 of the present invention functions both as an adhesive layer and as a surface treatment layer.

본 발명의 광 선택 흡수층(1)의 두께는, 통상 0.1∼30 ㎛이다.The thickness of the light selective absorption layer 1 of the present invention is usually 0.1 to 30 μm.

광 선택 흡수층(1)이, 표면 처리층으로서 사용되는 경우의 두께는, 5∼15 ㎛인 것이 바람직하다. 5 ㎛ 미만이면, 경도가 불충분해질 우려가 있다. 15 ㎛를 넘으면, 잔류 용제가 남거나, 도막 밀착성이 저하할 우려가 있다.The thickness of the light selective absorption layer 1 when used as a surface treatment layer is preferably 5 to 15 μm. If it is less than 5 μm, there is a risk that hardness may become insufficient. If it exceeds 15 μm, there is a risk that residual solvent may remain or the coating film adhesion may decrease.

광 선택 흡수층(1)이, 접착제층으로서 사용되는 경우의 두께는, 통상 20 ㎛ 이하, 바람직하게는 10 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 5 ㎛ 이하, 특히 바람직하게는 3 ㎛ 이하이다.When the light selective absorption layer 1 is used as an adhesive layer, the thickness is usually 20 μm or less, preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less, and particularly preferably 3 μm or less.

광 선택 흡수층의 23℃에 있어서의 저장 탄성률(E')이 100 ㎫ 이상인 것이 바람직하고, 500 ㎫ 이상인 것이 보다 바람직하고, 1000 ㎫ 이상인 것이 더욱 바람직하고, 100000 ㎫ 이하인 것이 바람직하다. 또한 광 선택 흡수층의 80℃에 있어서의 저장 탄성률이, 600 ㎫ 이상인 것이 바람직하고, 1000 ㎫ 이상인 것이 보다 바람직하고, 1500 ㎫ 이상인 것이 더욱 바람직하고, 10000 ㎫ 이하인 것이 바람직하다.The storage modulus (E') of the light selective absorption layer at 23°C is preferably 100 MPa or more, more preferably 500 MPa or more, still more preferably 1,000 MPa or more, and preferably 100,000 MPa or less. Furthermore, the storage modulus of the light selective absorption layer at 80°C is preferably 600 MPa or more, more preferably 1000 MPa or more, still more preferably 1500 MPa or more, and preferably 10000 MPa or less.

광 선택 흡수층(1)이 표면 처리 필름으로서 기능하는 경우, 광 선택 흡수층의 경도가, JIS K5600-5-4(1999)에 따른 연필 경도 시험(하중 4.9 N)에 있어서, H 이상인 것이 바람직하고, 3H 이상인 것이 보다 바람직하고, 4H 이상인 것이 보다 더욱 바람직하다.When the light selective absorption layer 1 functions as a surface treatment film, the hardness of the light selective absorption layer is preferably H or higher in a pencil hardness test (load 4.9 N) according to JIS K5600-5-4 (1999), It is more preferable that it is 3H or more, and it is even more preferable that it is 4H or more.

<광 선택 흡수층><Light selective absorption layer>

본 발명의 광학 필름은, 활성 에너지선 경화성 조성물로 형성되는 광 선택 흡수층을 적어도 1층 포함한다. 상기 광 선택 흡수층을 포함함으로써, 본 발명의 광학 필름은 식 (1)을 만족한다. 광 선택 흡수층은, 전술한 식 (1)을 만족하는 것이 바람직하고, 전술한 식 (1) 및 식 (2)를 만족하는 것이 보다 바람직하고, 전술한 식 (1), 식 (2) 및 식 (3)을 만족하는 것이 더욱 바람직하다.The optical film of the present invention includes at least one light selective absorption layer formed from an active energy ray curable composition. By including the light selective absorption layer, the optical film of the present invention satisfies equation (1). The light selective absorption layer preferably satisfies the above-mentioned equation (1), more preferably satisfies the above-mentioned equations (1) and (2), and the above-mentioned equations (1), (2), and It is more desirable to satisfy (3).

광 선택 흡수층은, 수지 필름[이하, 수지 필름(a)이라고 하는 경우가 있음]의 적어도 한쪽의 면에 형성된다.The light selective absorption layer is formed on at least one side of the resin film (hereinafter sometimes referred to as resin film (a)).

활성 에너지선 경화성 조성물이란, 활성 에너지선의 조사를 받아 경화하는 조성물을 나타낸다. 활성 에너지선으로서는, 자외선, 전자선, X선, 가시광 등을 들 수 있고, 바람직하게는 자외선이다. 자외선 광원으로서는, 파장 400 ㎚ 이하에 발광 분포를 갖는 광원이 바람직하고, 예컨대, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 케미컬 램프, 블랙 라이트 램프, 마이크로웨이브 여기 수은등, 메탈 할라이드 램프 등을 들 수 있다.An active energy ray-curable composition refers to a composition that is cured by receiving irradiation of active energy rays. Examples of active energy rays include ultraviolet rays, electron beams, X-rays, and visible light, with ultraviolet rays being preferred. As an ultraviolet light source, a light source having an emission distribution at a wavelength of 400 nm or less is preferable, and examples include low-pressure mercury lamps, medium-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high pressure mercury lamps, chemical lamps, black light lamps, microwave-excited mercury lamps, and metal halide lamps. You can.

활성 에너지선 경화성 조성물은, 광 경화성 성분(A), 광 선택 흡수 화합물(B) 및 광 중합 개시제(C)를 함유한다.The active energy ray curable composition contains a photocurable component (A), a light selective absorption compound (B), and a photopolymerization initiator (C).

광 경화성 성분(A)으로서는, 활성 에너지선의 조사에 의해 라디칼 중합 반응에 의해 경화하는 화합물 또는 올리고머(라디칼 중합성 화합물)와, 또는 활성 에너지선의 조사에 의해 양이온 중합 반응에 의해 경화하는 화합물(양이온 중합성 화합물) 등을 들 수 있다.The photocurable component (A) includes a compound or oligomer (radically polymerizable compound) that hardens by a radical polymerization reaction upon irradiation of active energy rays, or a compound that hardens by a cationic polymerization reaction (cationic polymerization) by irradiation of active energy rays. compound) and the like.

<라디칼 중합성 화합물><Radically polymerizable compound>

라디칼 중합성 화합물로서는, 라디칼 중합성 (메타)아크릴계 화합물 등을 들 수 있다. 본 명세서에 있어서 「(메타)아크릴계 화합물」이란, 분자 내에 1개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 말한다. 「(메타)아크릴로일기」란, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기에서 선택되는 적어도 한쪽을 의미한다. 「(메타)아크릴로일옥시기」나 「(메타)아크릴」, 「(메타)아크릴레이트」 등이라고 말할 때에 대해서도 동일하다. 활성 에너지선 경화성 접착제 조성물은, 라디칼 중합성 (메타)아크릴계 화합물을 1종 또는 2종 이상 함유할 수 있다.Examples of radically polymerizable compounds include radically polymerizable (meth)acrylic compounds. In this specification, “(meth)acrylic compound” refers to a compound having one or more (meth)acryloyl groups in the molecule. “(meth)acryloyl group” means at least one selected from acryloyl group and methacryloyl group. The same applies to “(meth)acryloyloxy group”, “(meth)acryl”, “(meth)acrylate”, etc. The active energy ray-curable adhesive composition may contain one or two or more types of radically polymerizable (meth)acrylic compounds.

(메타)아크릴계 화합물로서는, 분자 내에 적어도 1개의 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 모노머, (메타)아크릴아미드 모노머 및 분자 내에 적어도 2개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 (메타)아크릴 올리고머 등의 (메타)아크릴로일기 함유 화합물을 들 수 있다. (메타)아크릴 올리고머는 바람직하게는, 분자 내에 적어도 2개의 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 올리고머이다. (메타)아크릴계 화합물은, 1종만을 단독으로 이용하여도 좋고 2종 이상을 병용하여도 좋다.Examples of (meth)acrylic compounds include (meth)acrylate monomer, (meth)acrylamide monomer, which has at least one (meth)acryloyloxy group in the molecule, and (meth)acryloyloxy group, which has at least two (meth)acryloyl groups in the molecule. ) (meth)acryloyl group-containing compounds such as acrylic oligomers can be mentioned. The (meth)acrylic oligomer is preferably a (meth)acrylate oligomer having at least two (meth)acryloyloxy groups in the molecule. One type of (meth)acrylic compound may be used individually, or two or more types may be used together.

(메타)아크릴레이트 모노머로서는, 분자 내에 1개의 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 단작용 (메타)아크릴레이트 모노머, 분자 내에 2개의 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 2작용 (메타)아크릴레이트 모노머, 분자 내에 3개 이상의 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 다작용 (메타)아크릴레이트 모노머를 들 수 있다.Examples of (meth)acrylate monomers include monofunctional (meth)acrylate monomers having one (meth)acryloyloxy group in the molecule, and bifunctional (meth)acrylate monomers having two (meth)acryloyloxy groups in the molecule. Monomers include polyfunctional (meth)acrylate monomers having three or more (meth)acryloyloxy groups in the molecule.

단작용 (메타)아크릴레이트 모노머로서는, 알킬(메타)아크릴레이트를 들 수 있다. 알킬(메타)아크릴레이트에 있어서, 그 알킬기는 탄소수 3 이상이면 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 좋다. 알킬(메타)아크릴레이트로서는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 이소프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또한, 단작용 (메타)아크릴레이트 모노머로서는, 벤질(메타)아크릴레이트 등의 아랄킬(메타)아크릴레이트; 이소보르닐(메타)아크릴레이트 등의 테르펜알코올의 (메타)아크릴레이트; 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트 등의 테트라히드로푸르푸릴 구조를 갖는 (메타)아크릴레이트; 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헥실메틸메타크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디메탄올모노아크릴레이트 등의 알킬기 부위에 시클로알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트; N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 아미노알킬(메타)아크릴레이트; 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메타)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트 등의 알킬 부위에 에테르 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트 등도 들 수 있다.Examples of monofunctional (meth)acrylate monomers include alkyl (meth)acrylate. In alkyl (meth)acrylate, the alkyl group may be linear, branched, or cyclic as long as it has 3 or more carbon atoms. Examples of alkyl (meth)acrylate include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, and t-butyl (meth)acrylate. ) Acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, etc. can be mentioned. In addition, examples of monofunctional (meth)acrylate monomers include aralkyl (meth)acrylates such as benzyl (meth)acrylate; (meth)acrylates of terpene alcohols such as isobornyl (meth)acrylate; (meth)acrylates having a tetrahydrofurfuryl structure, such as tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate; A cycloalkyl group is added to the alkyl group such as cyclohexyl (meth)acrylate, cyclohexylmethyl methacrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, and 1,4-cyclohexanedimethanol monoacrylate. (meth)acrylate having; Aminoalkyl (meth)acrylates such as N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate; Having an ether bond at the alkyl portion, such as 2-phenoxyethyl (meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, ethylcarbitol (meth)acrylate, and phenoxypolyethylene glycol (meth)acrylate. (meth)acrylate etc. are also mentioned.

또한, 작용 (메타)아크릴레이트 모노머로서는, 알킬 부위에 수산기를 갖는 단작용 (메타)아크릴레이트; 알킬 부위에 카르복실기를 갖는 단작용 (메타)아크릴레이트를 들 수 있다. 알킬 부위에 수산기를 갖는 단작용 (메타)아크릴레이트로서는, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2- 또는 3-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판모노(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨모노(메타)아크릴레이트를 들 수 있다. 알킬 부위에 카르복실기를 갖는 단작용 (메타)아크릴레이트로서는, 2-카르복시에틸(메타)아크릴레이트, ω-카르복시-폴리카프로락톤(n=2)모노(메타)아크릴레이트, 1-[2-(메타)아크릴로일옥시에틸]프탈산, 1-[2-(메타)아크릴로일옥시에틸]헥사히드로프탈산, 1-[2-(메타)아크릴로일옥시에틸]숙신산, 4-[2-(메타)아크릴로일옥시에틸]트리멜리트산, N-(메타)아크릴로일옥시-N',N'-디카르복시메틸-p-페닐렌디아민 등을 들 수 있다.Furthermore, examples of the functional (meth)acrylate monomer include monofunctional (meth)acrylate having a hydroxyl group at the alkyl moiety; Examples include monofunctional (meth)acrylates having a carboxyl group at the alkyl moiety. Monofunctional (meth)acrylates having a hydroxyl group at the alkyl portion include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2- or 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate. , 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, trimethylolpropane mono(meth)acrylate, and pentaerythritol mono(meth)acrylate. Examples of monofunctional (meth)acrylates having a carboxyl group at the alkyl moiety include 2-carboxyethyl (meth)acrylate, ω-carboxy-polycaprolactone (n=2) mono(meth)acrylate, 1-[2-( meta)acryloyloxyethyl]phthalic acid, 1-[2-(meth)acryloyloxyethyl]hexahydrophthalic acid, 1-[2-(meth)acryloyloxyethyl]succinic acid, 4-[2-( Meta)acryloyloxyethyl]trimellitic acid, N-(meth)acryloyloxy-N',N'-dicarboxymethyl-p-phenylenediamine, etc. are mentioned.

(메타)아크릴아미드 모노머는, 바람직하게는 N-위에 치환기를 갖는 (메타)아크릴아미드이다. 그 N-위의 치환기의 전형적인 예는 알킬기이지만, (메타)아크릴아미드의 질소 원자와 함께 고리를 형성하고 있어도 좋고, 이 고리는, 탄소 원자 및 (메타)아크릴아미드의 질소 원자에 더하여, 산소 원자를 고리 구성원으로서 가져도 좋다. 또한, 그 고리를 구성하는 탄소 원자에는, 알킬이나 옥소(=O)와 같은 치환기가 결합하고 있어도 좋다.The (meth)acrylamide monomer is preferably (meth)acrylamide having a substituent on N-. A typical example of the substituent on N- is an alkyl group, but it may form a ring with the nitrogen atom of (meth)acrylamide, and this ring contains an oxygen atom in addition to the carbon atom and the nitrogen atom of (meth)acrylamide. You may have as a ring member. Additionally, a substituent such as alkyl or oxo (=O) may be bonded to the carbon atom constituting the ring.

N-치환(메타)아크릴아미드로서는, N-메틸(메타)아크릴아미드, N-에틸(메타)아크릴아미드, N-이소프로필(메타)아크릴아미드, N-n-부틸(메타)아크릴아미드, N-t-부틸(메타)아크릴아미드, N-헥실(메타)아크릴아미드와 같은 N-알킬(메타)아크릴아미드; N,N-디메틸(메타)아크릴아미드, N,N-디에틸(메타)아크릴아미드와 같은 N,N-디알킬(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 또한, N-치환기는 수산기를 갖는 알킬기여도 좋고, 그 예로서, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-(2-히드록시에틸)(메타)아크릴아미드, N-(2-히드록시프로필)(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 또한, 상기한 5원 고리 또는 6원 고리를 형성하는 N-치환 (메타)아크릴아미드의 구체적인 예로서는, N-아크릴로일피롤리딘, 3-아크릴로일-2-옥사졸리디논, 4-아크릴로일모르폴린, N-아크릴로일피페리딘, N-메타크릴로일피페리딘 등을 들 수 있다.Examples of N-substituted (meth)acrylamide include N-methyl (meth)acrylamide, N-ethyl (meth)acrylamide, N-isopropyl (meth)acrylamide, N-n-butyl (meth)acrylamide, and N-t-butyl. N-alkyl (meth)acrylamide such as (meth)acrylamide and N-hexyl (meth)acrylamide; N,N-dialkyl (meth)acrylamide such as N,N-dimethyl(meth)acrylamide and N,N-diethyl(meth)acrylamide can be mentioned. Additionally, the N-substituent may be an alkyl group having a hydroxyl group, examples of which include N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, N-(2-hydroxyethyl)(meth)acrylamide, and N-(2-hydroxy Propyl) (meth)acrylamide, etc. can be mentioned. In addition, specific examples of N-substituted (meth)acrylamide forming the above-described 5-membered ring or 6-membered ring include N-acryloylpyrrolidine, 3-acryloyl-2-oxazolidinone, and 4-acryloylpyrrolidine. Examples include morpholine, N-acryloylpiperidine, and N-methacryloylpiperidine.

2작용 (메타)아크릴레이트 모노머로서는,As a bifunctional (meth)acrylate monomer,

에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트 및 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 알킬렌글리콜디(메타)아크릴레이트;Ethylene glycol di(meth)acrylate, 1,3-butanediol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9- Alkylene glycol di(meth)acrylates such as nonanediol di(meth)acrylate and neopentyl glycol di(meth)acrylate;

디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트 및 폴리테트라메틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 폴리옥시알킬렌글리콜디(메타)아크릴레이트;Diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, poly Polyoxyalkylene glycol di(meth)acrylates such as propylene glycol di(meth)acrylate and polytetramethylene glycol di(meth)acrylate;

테트라플루오로에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 할로겐 치환 알킬렌글리콜의 디(메타)아크릴레이트;Di(meth)acrylates of halogen-substituted alkylene glycols such as tetrafluoroethylene glycol di(meth)acrylate;

트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트 등의 지방족 폴리올의 디(메타)아크릴레이트;Di(meth)acrylates of aliphatic polyols such as trimethylolpropane di(meth)acrylate, ditrimethylolpropane di(meth)acrylate, and pentaerythritol di(meth)acrylate;

수첨 디시클로펜타디에닐디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트 등의 수첨 디시클로펜타디엔 또는 트리시클로데칸디알칸올의 디(메타)아크릴레이트;Hydrogenated dicyclopentadiene or di(meth)acrylates of tricyclodecane dialkanol, such as hydrogenated dicyclopentadienyl di(meth)acrylate and tricyclodecane dimethanol di(meth)acrylate;

1,3-디옥산-2,5-디일디(메타)아크릴레이트〔별칭: 디옥산글리콜디(메타)아크릴레이트〕 등의 디옥산글리콜 또는 디옥산디알칸올의 디(메타)아크릴레이트;Di(meth)acrylates of dioxane glycol or dioxane dialkanol, such as 1,3-dioxane-2,5-diyldi(meth)acrylate [alias: dioxane glycol di(meth)acrylate];

비스페놀 A 에틸렌옥사이드 부가물 디아크릴레이트물, 비스페놀 F 에틸렌옥사이드 부가물 디아크릴레이트물 등의 비스페놀 A 또는 비스페놀 F의 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메타)아크릴레이트;Di(meth)acrylates of alkylene oxide adducts of bisphenol A or bisphenol F, such as bisphenol A ethylene oxide adduct diacrylates and bisphenol F ethylene oxide adduct diacrylates;

비스페놀 A 디글리시딜에테르의 아크릴산 부가물, 비스페놀 F 디글리시딜에테르의 아크릴산 부가물 등의 비스페놀 A 또는 비스페놀 F의 에폭시디(메타)아크릴레이트; 실리콘디(메타)아크릴레이트;Epoxy di(meth)acrylates of bisphenol A or bisphenol F, such as acrylic acid adduct of bisphenol A diglycidyl ether and acrylic acid adduct of bisphenol F diglycidyl ether; Silicone di(meth)acrylate;

히드록시피발산네오펜틸글리콜에스테르의 디(메타)아크릴레이트;Di(meth)acrylate of hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester;

2,2-비스[4-(메타)아크릴로일옥시에톡시에톡시페닐]프로판;2,2-bis[4-(meth)acryloyloxyethoxyethoxyphenyl]propane;

2,2-비스[4-(메타)아크릴로일옥시에톡시에톡시시클로헥실]프로판;2,2-bis[4-(meth)acryloyloxyethoxyethoxycyclohexyl]propane;

2-(2-히드록시-1,1-디메틸에틸)-5-에틸-5-히드록시메틸-1,3-디옥산〕의 디(메타)아크릴레이트;di(meth)acrylate of [2-(2-hydroxy-1,1-dimethylethyl)-5-ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane];

트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트디(메타)아크릴레이트; 등을 들 수 있다.Tris(hydroxyethyl)isocyanurate di(meth)acrylate; etc. can be mentioned.

3작용 이상의 다작용 (메타)아크릴레이트 모노머로서는, 글리세린트리(메타)아크릴레이트, 알콕시화글리세린트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등의 3작용 이상의 지방족 폴리올의 폴리(메타)아크릴레이트; 3작용 이상의 할로겐 치환 폴리올의 폴리(메타)아크릴레이트; 글리세린의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메타)아크릴레이트; 트리메틸올프로판의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메타)아크릴레이트; 1,1,1-트리스[(메타)아크릴로일옥시에톡시에톡시]프로판; 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of trifunctional or higher multifunctional (meth)acrylate monomers include glycerin tri(meth)acrylate, alkoxylated glycerin tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and ditrimethylolpropane tri(meth)acrylate. Latex, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta( poly(meth)acrylates of trifunctional or higher aliphatic polyols such as meta)acrylate and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate; Poly(meth)acrylates of trifunctional or higher halogen-substituted polyols; Tri(meth)acrylate of alkylene oxide adduct of glycerin; Tri(meth)acrylate of alkylene oxide adduct of trimethylolpropane; 1,1,1-tris[(meth)acryloyloxyethoxyethoxy]propane; Tris(hydroxyethyl)isocyanurate tri(meth)acrylate, etc. are mentioned.

(메타)아크릴 올리고머로서는, 우레탄(메타)아크릴 올리고머, 폴리에스테르(메타)아크릴 올리고머, 에폭시(메타)아크릴 올리고머 등을 들 수 있다.Examples of the (meth)acrylic oligomer include urethane (meth)acrylic oligomer, polyester (meth)acrylic oligomer, and epoxy (meth)acrylic oligomer.

우레탄(메타)아크릴 올리고머란, 분자 내에 우레탄 결합(-NHCOO-) 및 적어도 2개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이다. 구체적으로는, 분자 내에 적어도 1개의 (메타)아크릴로일기 및 적어도 1개의 수산기를 각각 갖는 수산기 함유 (메타)아크릴 모노머와 폴리이소시아네이트의 우레탄화 반응 생성물이나, 폴리올을 폴리이소시아네이트와 반응시켜 얻어지는 말단 이소시아나토기 함유 우레탄 화합물과, 분자 내에 적어도 1개의 (메타)아크릴로일기 및 적어도 1개의 수산기를 각각 갖는 (메타)아크릴 모노머의 우레탄화 반응 생성물 등일 수 있다.A urethane (meth)acrylic oligomer is a compound that has a urethane bond (-NHCOO-) and at least two (meth)acryloyl groups in the molecule. Specifically, it is a urethanization reaction product of a hydroxyl group-containing (meth)acrylic monomer each having at least one (meth)acryloyl group and at least one hydroxyl group in the molecule and polyisocyanate, or a terminal isocyanate obtained by reacting polyol with polyisocyanate. It may be a urethanization reaction product of a urethane compound containing a cyanato group and a (meth)acrylic monomer each having at least one (meth)acryloyl group and at least one hydroxyl group in the molecule.

상기 우레탄화 반응에 이용되는 수산기 함유 (메타)아크릴 모노머는, 예컨대 수산기 함유 (메타)아크릴레이트 모노머일 수 있고, 그 구체예는, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트를 포함한다. 수산기 함유 (메타)아크릴레이트 모노머 이외의 구체예는, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드, N-메틸올(메타)아크릴아미드 등의 N-히드록시알킬(메타)아크릴아미드 모노머를 포함한다.The hydroxyl group-containing (meth)acrylic monomer used in the urethanization reaction may be, for example, a hydroxyl group-containing (meth)acrylate monomer, and specific examples include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and 2-hydroxypropyl. (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate, trimethylolpropane di(meth)acrylate , pentaerythritol tri(meth)acrylate, and dipentaerythritol penta(meth)acrylate. Specific examples other than hydroxyl group-containing (meth)acrylate monomers include N-hydroxyalkyl (meth)acrylamide monomers such as N-hydroxyethyl (meth)acrylamide and N-methylol (meth)acrylamide. .

수산기 함유 (메타)아크릴 모노머와의 우레탄화 반응에 제공되는 폴리이소시아네이트로서는, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 크실렌디이소시아네이트, 이들 디이소시아네이트 중 방향족의 이소시아네이트류를 수소 첨가하여 얻어지는 디이소시아네이트(예컨대, 수소 첨가 톨릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 크실렌디이소시아네이트 등), 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 디벤질벤젠트리이소시아네이트 등의 디- 또는 트리-이소시아네이트 및 상기 디이소시아네이트를 다량화시켜 얻어지는 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다.Examples of the polyisocyanate used in the urethanization reaction with a hydroxyl group-containing (meth)acrylic monomer include hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, and xylene diisocyanate. Among isocyanates, diisocyanates obtained by hydrogenating aromatic isocyanates (e.g., hydrogenated tolylene diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate, etc.), di- or tri-isocyanates such as triphenylmethane triisocyanate and dibenzylbenzene triisocyanate, and and polyisocyanate obtained by bulking the above diisocyanate.

또한, 폴리이소시아네이트와의 반응에 의해 말단 이소시아나토기 함유 우레탄 화합물로 하기 위해 이용되는 폴리올로서는, 방향족, 지방족 또는 지환식의 폴리올 외에, 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올 등을 사용할 수 있다. 지방족 및 지환식의 폴리올로서는, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 디메틸올헵탄, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산, 글리세린, 수첨 비스페놀 A 등을 들 수 있다.In addition, as a polyol used to form a urethane compound containing a terminal isocyanato group by reaction with polyisocyanate, in addition to aromatic, aliphatic or alicyclic polyols, polyester polyol, polyether polyol, etc. can be used. Examples of aliphatic and alicyclic polyols include 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolethane, trimethylolpropane, and ditrimethylol. Propane, pentaerythritol, dipentaerythritol, dimethylolheptane, dimethylolpropionic acid, dimethylolbutanoic acid, glycerin, hydrogenated bisphenol A, etc. are mentioned.

폴리에스테르폴리올은, 상기한 폴리올과 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물의 탈수 축합 반응에 의해 얻어지는 것이다. 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물의 예를, 무수물일 수 있는 것에 「(무수)」를 붙여 나타내면, (무수)숙신산, 아디프산, (무수)말레산, (무수)이타콘산, (무수)트리멜리트산, (무수)피로멜리트산, (무수)프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 헥사히드로(무수)프탈산 등이 있다.Polyester polyol is obtained by dehydration condensation reaction of the above-mentioned polyol and polybasic carboxylic acid or its anhydride. Examples of polybasic carboxylic acids or their anhydrides are indicated by adding “(anhydrous)” to those that may be anhydrides: (anhydrous) succinic acid, adipic acid, (anhydrous) maleic acid, (anhydrous) itaconic acid, (anhydrous) These include trimellitic acid, pyromellitic acid (anhydride), phthalic acid (anhydride), isophthalic acid, terephthalic acid, and hexahydrophthalic acid (anhydride).

폴리에테르폴리올은, 폴리알킬렌글리콜 외에, 상기한 폴리올 또는 디히드록시벤젠류와 알킬렌옥사이드의 반응에 의해 얻어지는 폴리옥시알킬렌 변성 폴리올 등일 수 있다.In addition to polyalkylene glycol, the polyether polyol may be the polyol described above or a polyoxyalkylene-modified polyol obtained by reaction of dihydroxybenzenes and alkylene oxide.

폴리에스테르(메타)아크릴레이트 올리고머란, 분자 내에 에스테르 결합과 적어도 2개의 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 올리고머를 의미한다.Polyester (meth)acrylate oligomer refers to an oligomer having an ester bond and at least two (meth)acryloyloxy groups in the molecule.

폴리에스테르(메타)아크릴레이트 올리고머는, 예컨대, (메타)아크릴산, 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물 및 폴리올을 탈수 축합 반응시킴으로써 얻을 수 있다.Polyester (meth)acrylate oligomer can be obtained, for example, by subjecting (meth)acrylic acid, polybasic carboxylic acid or its anhydride, and polyol to a dehydration condensation reaction.

다염기성 카르복실산 또는 그 무수물로서는, 무수숙신산, 아디프산, 무수말레산, 무수이타콘산, 무수트리멜리트산, 무수피로멜리트산, 헥사히드로무수프탈산, 프탈산, 숙신산, 말레산, 이타콘산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, 헥사히드로프탈산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등을 들 수 있다.Polybasic carboxylic acids or their anhydrides include succinic anhydride, adipic acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, phthalic acid, succinic acid, maleic acid, itaconic acid, Examples include trimellitic acid, pyromellitic acid, hexahydrophthalic acid, phthalic acid, isophthalic acid, and terephthalic acid.

폴리올로서는, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 디메틸올헵탄, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산, 글리세린, 수첨 비스페놀 A 등을 들 수 있다.Polyols include 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, and pentaerythritol. , dipentaerythritol, dimethylolheptane, dimethylolpropionic acid, dimethylolbutanoic acid, glycerin, hydrogenated bisphenol A, etc.

에폭시(메타)아크릴 올리고머는, 폴리글리시딜에테르와 (메타)아크릴산의 부가 반응에 의해 얻을 수 있다. 에폭시(메타)아크릴 올리고머는, 분자 내에 적어도 2개의 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는다.Epoxy (meth)acrylic oligomer can be obtained by addition reaction of polyglycidyl ether and (meth)acrylic acid. Epoxy (meth)acrylic oligomers have at least two (meth)acryloyloxy groups in the molecule.

폴리글리시딜에테르로서는, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 비스페놀 A 디글리시딜에테르 등을 들 수 있다.Examples of polyglycidyl ethers include ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, and bisphenol A diglycidyl. Ether, etc. can be mentioned.

광 선택 흡수층을 표면 처리층으로서 이용하는 경우는, 광 선택 흡수층의 경도를 높이기 위해, 2작용 (메타)아크릴레이트 모노머 및 다작용 (메타)아크릴레이트 모노머의 합계 함유량이 광 경화성 성분(A) 100 질량부에 대하여, 50 질량부 이상, 바람직하게는 60 질량부 이상, 더욱 바람직하게는 80 질량부 이상이다.When using the light selective absorption layer as a surface treatment layer, in order to increase the hardness of the light selective absorption layer, the total content of difunctional (meth)acrylate monomer and polyfunctional (meth)acrylate monomer is 100 mass of photocurable component (A). Part by mass, it is 50 parts by mass or more, preferably 60 parts by mass or more, and more preferably 80 parts by mass or more.

광 선택 흡수층을 접착제층으로서 이용하는 경우, 밀착성의 관점에서, 단작용 (메타)아크릴레이트 모노머의 함유량이, 광 경화성 성분(A) 100 질량부에 대하여 50 질량부 이상, 바람직하게는 60 질량부 이상, 더욱 바람직하게는 60 질량부 이상이다.When using the light selective absorption layer as an adhesive layer, from the viewpoint of adhesion, the content of the monofunctional (meth)acrylate monomer is 50 parts by mass or more, preferably 60 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the photocurable component (A). , more preferably 60 parts by mass or more.

[양이온 중합성 화합물][Cationic polymerizable compound]

양이온 중합성 화합물은, 자외선, 가시광, 전자선, X선 등의 활성 에너지선의 조사나 가열에 의해 양이온 중합 반응이 진행하여, 경화하는 화합물 또는 올리고머를 나타낸다. 양이온 중합성 화합물로서는, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 비닐 화합물 등을 들 수 있다. 양이온 중합성 화합물은, 바람직하게는 에폭시 화합물이다. 에폭시 화합물이란, 분자 내에 1개 이상(바람직하게는 2개 이상)의 에폭시기를 갖는 화합물이다. 에폭시 화합물은, 1종만을 단독으로 사용하여도 좋고 2종 이상을 병용하여도 좋다.A cationically polymerizable compound refers to a compound or oligomer that undergoes a cationic polymerization reaction and hardens upon irradiation or heating of active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, or X-rays. Examples of cationically polymerizable compounds include epoxy compounds, oxetane compounds, and vinyl compounds. The cationically polymerizable compound is preferably an epoxy compound. An epoxy compound is a compound that has one or more (preferably two or more) epoxy groups in the molecule. Epoxy compounds may be used individually as one type or may be used in combination of two or more types.

에폭시 화합물로서는, 지환식 에폭시 화합물, 방향족 에폭시 화합물, 수소화 에폭시 화합물, 지방족 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 내후성, 경화 속도 및 접착성의 관점에서, 에폭시 화합물은, 지환식 에폭시 화합물 및 지방족 에폭시 화합물인 것이 바람직하고, 지환식 에폭시 화합물인 것이 보다 바람직하다.Examples of the epoxy compound include alicyclic epoxy compounds, aromatic epoxy compounds, hydrogenated epoxy compounds, and aliphatic epoxy compounds. Among them, from the viewpoint of weather resistance, curing speed, and adhesiveness, the epoxy compound is preferably an alicyclic epoxy compound or an aliphatic epoxy compound, and is more preferably an alicyclic epoxy compound.

지환식 에폭시 화합물은, 지환식 고리에 결합한 에폭시기를 분자 내에 1개 이상 갖는 화합물이다. 「지환식 고리에 결합한 에폭시기」란, 하기 식 (I)로 나타내는 구조에 있어서의 다리의 산소 원자 -O-를 의미한다. 하기 식 (I) 중, m은 2∼5의 정수이다.An alicyclic epoxy compound is a compound that has one or more epoxy groups bonded to an alicyclic ring in the molecule. “Epoxy group bonded to an alicyclic ring” means the oxygen atom -O- of the bridge in the structure represented by the following formula (I). In the following formula (I), m is an integer of 2 to 5.

상기 식 (I)에 있어서의 (CH₂)_m 중의 1개 또는 복수개의 수소 원자를 제거한 형태의 기가 다른 화학 구조에 결합하고 있는 화합물이, 지환식 에폭시 화합물이 될 수 있다. (CH₂)_m 중의 1개 또는 복수개의 수소 원자는, 메틸기나 에틸기와 같은 직쇄상 알킬기로 적절하게 치환되어 있어도 좋다.A compound in which one or more hydrogen atoms of (CH ₂ ) _m in the formula (I) is removed and is bonded to another chemical structure may be an alicyclic epoxy compound. One or more hydrogen atoms in (CH ₂ ) _m may be appropriately substituted with a linear alkyl group such as a methyl group or an ethyl group.

그 중에서도, 에폭시시클로펜탄 구조〔상기 식 (I)에 있어서 m=3인 것〕나, 에폭시시클로헥산 구조〔상기 식 (I)에 있어서 m=4인 것〕를 갖는 지환식 에폭시 화합물은, 경화물의 유리 전이 온도가 높아, 접착성의 면에서도 유리하다. 이하에, 지환식 에폭시 화합물의 구체적인 예를 든다. 여기서는, 먼저 화합물명을 들고, 그 후, 각각에 대응하는 화학식을 나타내는 것으로 하고, 화합물명과 그것에 대응하는 화학식에는 동일한 부호를 붙인다.Among them, alicyclic epoxy compounds having an epoxycyclopentane structure [m=3 in the formula (I)] and epoxycyclohexane structures [m=4 in the formula (I)] are hardened. The glass transition temperature of water is high, so it is also advantageous in terms of adhesiveness. Below, specific examples of alicyclic epoxy compounds are given. Here, the compound name is first given, followed by the corresponding chemical formula, and the same symbol is given to the compound name and the corresponding chemical formula.

A: 3,4-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트,A: 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate,

B: 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥산카르복실레이트,B: 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl 3,4-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate,

C: 에틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트),C: ethylenebis(3,4-epoxycyclohexanecarboxylate),

D: 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸) 아디페이트,D: bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate,

E: 비스(3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸) 아디페이트,E: bis(3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate,

F: 디에틸렌글리콜비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸에테르),F: Diethylene glycol bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl ether),

G: 에틸렌글리콜비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸에테르),G: ethylene glycol bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl ether),

H: 2,3,14,15-디에폭시-7,11,18,21-테트라옥사트리스피로[5.2.2.5.2.2]헨이코산,H: 2,3,14,15-diepoxy-7,11,18,21-tetraoxatrispiro[5.2.2.5.2.2]henicosane,

I: 3-(3,4-에폭시시클로헥실)-8,9-에폭시-1,5-디옥사스피로[5.5]운데칸,I: 3-(3,4-epoxycyclohexyl)-8,9-epoxy-1,5-dioxaspiro[5.5]undecane,

J: 4-비닐시클로헥센디옥사이드,J: 4-vinylcyclohexene dioxide,

K: 리모넨디옥사이드,K: limonene dioxide,

L: 비스(2,3-에폭시시클로펜틸)에테르,L: Bis(2,3-epoxycyclopentyl)ether,

M: 디시클로펜타디엔디옥사이드.M: Dicyclopentadiene dioxide.

방향족 에폭시 화합물은, 분자 내에 방향족 고리와 에폭시기를 갖는 화합물이다. 방향족 에폭시 화합물로서는, 비스페놀 A의 디글리시딜에테르, 비스페놀 F의 디글리시딜에테르, 비스페놀 S의 디글리시딜에테르 등의 비스페놀형 에폭시 화합물 또는 그 올리고머; 페놀노볼락에폭시 수지, 크레졸노볼락에폭시 수지, 히드록시벤즈알데히드페놀노볼락에폭시 수지 등의 노볼락형의 에폭시 수지; 2,2',4,4'-테트라히드록시디페닐메탄의 글리시딜에테르, 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논의 글리시딜에테르 등의 다작용형의 에폭시 화합물; 에폭시화폴리비닐페놀 등의 다작용형의 에폭시 수지 등을 들 수 있다.An aromatic epoxy compound is a compound that has an aromatic ring and an epoxy group in the molecule. Examples of the aromatic epoxy compound include bisphenol-type epoxy compounds or oligomers thereof such as diglycidyl ether of bisphenol A, diglycidyl ether of bisphenol F, and diglycidyl ether of bisphenol S; Novolak-type epoxy resins such as phenol novolac epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, and hydroxybenzaldehyde phenol novolac epoxy resin; Multifunctional epoxy compounds such as glycidyl ether of 2,2',4,4'-tetrahydroxydiphenylmethane and glycidyl ether of 2,2',4,4'-tetrahydroxybenzophenone. ; and multifunctional epoxy resins such as epoxidized polyvinyl phenol.

수소화 에폭시 화합물은, 지환식 고리를 갖는 폴리올의 글리시딜에테르이고, 방향족 폴리올을 촉매의 존재 하, 가압 하에서 방향 고리에 선택적으로 수소화 반응을 행함으로써 얻어지는 핵수첨 폴리히드록시 화합물을 글리시딜에테르화한 것일 수 있다. 방향족 폴리올의 구체예는, 예컨대, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S 등의 비스페놀형 화합물; 페놀노볼락 수지, 크레졸노볼락 수지, 히드록시벤즈알데히드페놀노볼락 수지 등의 노볼락형 수지; 테트라히드록시디페닐메탄, 테트라히드록시벤조페논, 폴리비닐페놀 등의 다작용형의 화합물을 포함한다. 방향족 폴리올의 방향 고리에 수소화 반응을 행하여 얻어지는 지환식 폴리올에 에피클로로히드린을 반응시킴으로써, 글리시딜에테르로 할 수 있다. 수소화 에폭시 화합물 중에서도 바람직한 것으로서, 수소화된 비스페놀 A의 디글리시딜에테르를 들 수 있다.A hydrogenated epoxy compound is a glycidyl ether of a polyol having an alicyclic ring, and a nuclear hydrogenated polyhydroxy compound obtained by selectively hydrogenating an aromatic polyol to an aromatic ring under pressure in the presence of a catalyst is glycidyl ether. It may be angry. Specific examples of aromatic polyols include bisphenol-type compounds such as bisphenol A, bisphenol F, and bisphenol S; Novolak-type resins such as phenol novolak resin, cresol novolak resin, and hydroxybenzaldehyde phenol novolak resin; It includes multifunctional compounds such as tetrahydroxydiphenylmethane, tetrahydroxybenzophenone, and polyvinylphenol. Glycidyl ether can be obtained by reacting epichlorohydrin with an alicyclic polyol obtained by hydrogenating the aromatic ring of an aromatic polyol. Among the hydrogenated epoxy compounds, a preferred one is the diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol A.

지방족 에폭시 화합물은, 지방족 탄소 원자에 결합하는 옥시란 고리(3원의 환상 에테르)를 분자 내에 적어도 1개 갖는 화합물이다. 예컨대, 부틸글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르 등의 단작용의 에폭시 화합물; 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르 등의 2작용의 에폭시 화합물; 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 펜타에리트리톨테트라글리시딜에테르 등의 3작용 이상의 에폭시 화합물; 4-비닐시클로헥센디옥사이드, 리모넨디옥사이드 등의, 지환식 고리에 직접 결합하는 에폭시기 1개와, 지방족 탄소 원자에 결합하는 옥시란 고리를 갖는 에폭시 화합물 등이 있다. 그 중에서도, 접착성의 관점에서, 지방족 탄소 원자에 결합하는 옥시란 고리를 분자 내에 2개 갖는 2작용의 에폭시 화합물(지방족 디에폭시 화합물이라고도 함)이 바람직하다. 이러한 적합한 지방족 디에폭시 화합물은, 예컨대, 하기 식 (II)로 나타낼 수 있다.An aliphatic epoxy compound is a compound that has at least one oxirane ring (three-membered cyclic ether) bonded to an aliphatic carbon atom in the molecule. For example, monofunctional epoxy compounds such as butyl glycidyl ether and 2-ethylhexyl glycidyl ether; Bifunctional epoxy compounds such as 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, and neopentyl glycol diglycidyl ether; trifunctional or higher epoxy compounds such as trimethylolpropane triglycidyl ether and pentaerythritol tetraglycidyl ether; There are epoxy compounds, such as 4-vinylcyclohexene dioxide and limonene dioxide, which have one epoxy group directly bonded to an alicyclic ring and an oxirane ring bonded to an aliphatic carbon atom. Among them, from the viewpoint of adhesiveness, bifunctional epoxy compounds (also referred to as aliphatic diepoxy compounds) having two oxirane rings in the molecule that are bonded to aliphatic carbon atoms are preferable. Such suitable aliphatic diepoxy compounds can be represented, for example, by the following formula (II).

상기 식 (II) 중의 Y는, 탄소수 2∼9의 알킬렌기, 에테르 결합이 개재하고 있는 총탄소수 4∼9의 알킬렌기, 또는 지환 구조를 갖는 탄소수 6∼18의 2가의 탄화수소기이다.Y in the formula (II) is an alkylene group having 2 to 9 carbon atoms, an alkylene group having 4 to 9 total carbon atoms through an ether bond, or a divalent hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms having an alicyclic structure.

상기 식 (II)로 나타내는 지방족 디에폭시 화합물로서는, 알칸디올의 디글리시딜에테르, 반복수 4 정도까지의 올리고알킬렌글리콜의 디글리시딜에테르, 또는 지환식 디올의 디글리시딜에테르 등을 들 수 있다.Examples of the aliphatic diepoxy compound represented by the formula (II) include diglycidyl ether of an alkanediol, diglycidyl ether of an oligoalkylene glycol with a repeating number of up to about 4, or diglycidyl ether of an alicyclic diol, etc. can be mentioned.

옥세탄 화합물은, 분자 내에 1개 이상의 옥세탄 고리(옥세타닐기)를 함유하는 화합물이다. 옥세탄 화합물로서는, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄, 2-에틸헥실옥세탄, 1,4-비스〔{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}메틸〕벤젠, 3-에틸-3〔{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}메틸〕옥세탄, 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄, 3-(시클로헥실옥시)메틸-3-에틸옥세탄 등을 들 수 있다. 옥세탄 화합물은, 양이온 중합성 화합물의 주성분으로서 이용하여도 좋고, 에폭시 화합물과 병용하여도 좋다. 옥세탄 화합물을 병용함으로써, 경화 속도나 접착성을 향상할 수 있는 경우가 있다.An oxetane compound is a compound containing one or more oxetane rings (oxetanyl group) in the molecule. As oxetane compounds, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 2-ethylhexyloxetane, 1,4-bis[{(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy}methyl]benzene, 3 -Ethyl-3[{(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy}methyl]oxetane, 3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane, 3-(cyclohexyloxy)methyl-3 -Ethyloxetane, etc. can be mentioned. The oxetane compound may be used as a main component of a cationically polymerizable compound, or may be used in combination with an epoxy compound. By using an oxetane compound together, the curing speed and adhesiveness may be improved.

비닐 화합물로서는, 지방족 또는 지환식의 비닐에테르 화합물을 들 수 있다. 비닐 화합물로서는, n-아밀비닐에테르, i-아밀비닐에테르, n-헥실비닐에테르, n-옥틸비닐에테르, 2-에틸헥실비닐에테르, n-도데실비닐에테르, 스테아릴비닐에테르, 올레일비닐에테르 등의 탄소수 5∼20의 알킬 또는 알케닐알코올의 비닐에테르; 2-히드록시에틸비닐에테르, 3-히드록시프로필비닐에테르, 4-히드록시부틸비닐에테르 등의 수산기 함유 비닐에테르; 시클로헥실비닐에테르, 2-메틸시클로헥실비닐에테르, 시클로헥실메틸비닐에테르, 벤질비닐에테르 등의 지방족 고리 또는 방향족 고리를 갖는 모노알코올의 비닐에테르; 글리세롤모노비닐에테르, 1,4-부탄디올모노비닐에테르, 1,4-부탄디올디비닐에테르, 1,6-헥산디올디비닐에테르, 네오펜틸글리콜디비닐에테르, 펜타에리트리톨디비닐에테르, 펜타에리트리톨테트라비닐에테르, 트리메틸올프로판디비닐에테르, 트리메틸올프로판트리비닐에테르, 1,4-디히드록시시클로헥산모노비닐에테르, 1,4-디히드록시시클로헥산디비닐에테르, 1,4-디히드록시메틸시클로헥산모노비닐에테르, 1,4-디히드록시메틸시클로헥산디비닐에테르 등의 다가 알코올의 모노∼폴리비닐에테르; 디에틸렌글리콜디비닐에테르, 트리에틸렌글리콜디비닐에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸모노비닐에테르 등의 폴리알킬렌글리콜모노∼디비닐에테르; 글리시딜비닐에테르, 에틸렌글리콜비닐에테르메타크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of vinyl compounds include aliphatic or alicyclic vinyl ether compounds. Examples of vinyl compounds include n-amyl vinyl ether, i-amyl vinyl ether, n-hexyl vinyl ether, n-octyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, n-dodecyl vinyl ether, stearyl vinyl ether, and oleyl vinyl ether. Vinyl ethers of alkyl or alkenyl alcohols having 5 to 20 carbon atoms, such as ether; hydroxyl group-containing vinyl ethers such as 2-hydroxyethyl vinyl ether, 3-hydroxypropyl vinyl ether, and 4-hydroxybutyl vinyl ether; Vinyl ethers of monoalcohols having an aliphatic ring or aromatic ring, such as cyclohexyl vinyl ether, 2-methylcyclohexyl vinyl ether, cyclohexylmethyl vinyl ether, and benzyl vinyl ether; Glycerol monovinyl ether, 1,4-butanediol monovinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, neopentyl glycol divinyl ether, pentaerythritol divinyl ether, pentaerythritol Tetravinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, 1,4-dihydroxycyclohexane monovinyl ether, 1,4-dihydroxycyclohexane divinyl ether, 1,4-dihyde Mono-polyvinyl ethers of polyhydric alcohols such as oxymethylcyclohexane monovinyl ether and 1,4-dihydroxymethylcyclohexane divinyl ether; Polyalkylene glycol mono-divinyl ethers such as diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, and diethylene glycol monobutyl monovinyl ether; Glycidyl vinyl ether, ethylene glycol vinyl ether methacrylate, etc. can be mentioned.

비닐 화합물은, 양이온 중합성 화합물의 주성분으로서 이용하여도 좋고, 에폭시 화합물, 또는 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물과 병용하여도 좋다. 비닐 화합물을 병용함으로써, 경화 속도나 접착제의 저점도화를 향상할 수 있는 경우가 있다.The vinyl compound may be used as a main component of a cationically polymerizable compound, or may be used in combination with an epoxy compound, or an epoxy compound and an oxetane compound. By using a vinyl compound together, the curing speed and lower viscosity of the adhesive may be improved.

광 경화성 성분(A)은, 라디칼 중합성 화합물과 양이온 중합성 화합물을 병용하여도 좋다.The photocurable component (A) may be a combination of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound.

광 경화성 성분(A)의 함유량은, 활성 에너지선 경화성 조성물 100 질량％에 대하여, 통상 50∼99.5 질량％이고, 바람직하게는 70∼97 질량％이다.The content of the photocurable component (A) is usually 50 to 99.5% by mass, preferably 70 to 97% by mass, based on 100% by mass of the active energy ray curable composition.

<광 선택 흡수 화합물(B)><Light selective absorption compound (B)>

광 선택 흡수 화합물(B)로서는, 파장 405 ㎚의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물이며, 식 (5)를 만족하는 화합물인 것이 바람직하고, 또한 식 (6)을 만족하는 화합물인 것이 보다 바람직하다.The light selective absorption compound (B) is a compound that selectively absorbs light with a wavelength of 405 nm, and is preferably a compound that satisfies Formula (5), and more preferably is a compound that satisfies Formula (6).

ε(405)≥20 (5)ε(405)≥20 (5)

[식 (5) 중, ε(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.][In formula (5), ε(405) represents the gram extinction coefficient of the compound at a wavelength of 405 nm. The unit of gram extinction coefficient is L/(g·cm).]

ε(405)/ε(440)≥20 (6)ε(405)/ε(440)≥20 (6)

[식 (6) 중, ε(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)은 파장 440 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타낸다.][In equation (6), ε (405) represents the gram extinction coefficient of the compound at a wavelength of 405 nm, and ε (440) represents the gram extinction coefficient at a wavelength of 440 nm.]

또한, 그램 흡광 계수는, 실시예에 기재된 방법으로 측정한다.In addition, the gram extinction coefficient is measured by the method described in the Examples.

ε(405)의 값이 큰 화합물일수록 파장 405 ㎚의 광을 흡수하기 쉬워, 자외선이나 단파장의 가시광에 의한 열화 억제 기능을 발현하기 쉽다. ε(405)의 값이 20 L/(g·㎝) 미만이면, 위상차 필름이나 유기 EL 발광 소자의 자외선이나 단파장의 가시광에 의한 열화 억제 기능을 발현하기 위해, 광 흡수 선택층 중의 광 선택 흡수 화합물(B)의 함유량이 증대한다. 광 선택 흡수 화합물(B)의 함유량이 증대하면, 광 선택 흡수 화합물(B)이 블리드 아웃 또는 불균일하게 분산하여 버려, 광 흡수 기능이 불충분해지는 경우가 있다. ε(405)의 값은 20 L/(g·㎝) 이상인 것이 바람직하고, 30 L/(g·㎝) 이상인 것이 보다 바람직하고, 40 L/(g·㎝) 이상인 것이 더욱 보다 바람직하고, 통상 500 L/(g·㎝) 이하이다.A compound with a larger value of ε (405) is more likely to absorb light with a wavelength of 405 nm and is more likely to exhibit a function of suppressing deterioration caused by ultraviolet rays or short-wavelength visible light. If the value of ε (405) is less than 20 L/(g·cm), the light selective absorption compound in the light absorption selective layer is used to suppress deterioration of the retardation film or organic EL light emitting device by ultraviolet rays or short-wavelength visible light. The content of (B) increases. If the content of the light selective absorption compound (B) increases, the light selective absorption compound (B) may bleed out or be dispersed unevenly, resulting in insufficient light absorption function. The value of ε (405) is preferably 20 L/(g·cm) or more, more preferably 30 L/(g·cm) or more, even more preferably 40 L/(g·cm) or more, and usually It is less than 500 L/(g·cm).

ε(405)/ε(440)의 값이 큰 화합물일수록, 표시 장치의 색채 표현을 저해하는 일없이 405 ㎚ 부근의 광을 흡수하여, 위상차 필름이나 유기 EL 소자 등의 표시 장치의 광 열화를 억제할 수 있다. ε(405)/ε(440)의 값은 20 이상이 바람직하고, 40 이상이 보다 바람직하고, 70 이상이 더욱 보다 바람직하고, 80 이상이 특히 보다 바람직하다.Compounds with a larger value of ε(405)/ε(440) absorb light around 405 nm without impairing the color expression of the display device, suppressing light degradation of display devices such as retardation films and organic EL elements. can do. The value of ε(405)/ε(440) is preferably 20 or more, more preferably 40 or more, even more preferably 70 or more, and especially more preferably 80 or more.

또한, 광 선택 흡수 화합물(B)은, 분자 내에 메로시아닌 구조를 포함하는 화합물인 것이 바람직하다. 메로시아닌 구조를 포함하는 화합물이란 -(N-C=C-C=C)-로 나타내는 부분 구조를 분자 내에 함유하고 있는 화합물로서, 예컨대, 메로시아닌계 화합물, 시아닌계 화합물, 인돌계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물 등을 들 수 있다.Additionally, the light selective absorption compound (B) is preferably a compound containing a merocyanine structure in the molecule. A compound containing a merocyanine structure is a compound that contains a partial structure represented by -(N-C=C-C=C)- in the molecule, for example, merocyanine-based compounds, cyanine-based compounds, indole-based compounds, and benzotriazole-based compounds. Compounds, etc. can be mentioned.

광 선택 흡수 화합물(B)은, 식 (I)로 나타내는 화합물[이하, 화합물 (I)이라고 하는 경우가 있음]인 것이 바람직하다.The light selective absorption compound (B) is preferably a compound represented by formula (I) (hereinafter sometimes referred to as compound (I)).

[식 중, R¹ 및 R⁵는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 좋은 탄소수 1∼25의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 좋은 탄소수 7∼15의 아랄킬기, 탄소수 6∼15의 아릴기, 복소 고리기를 나타내고, 상기 알킬기 또는 아랄킬기에 포함되는 -CH₂-는 -NR^1A-, -CO-, -SO₂-, -O- 또는 -S-로 치환되어 있어도 좋다.[In the formula, R ¹ and R ⁵ are each independently a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent, an aralkyl group of 7 to 15 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group of 6 to 15 carbon atoms. , represents a heterocyclic group, and -CH ₂ - contained in the alkyl group or aralkyl group may be substituted with -NR ^1A -, -CO-, -SO ₂ -, -O-, or -S-.

R^1A는, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.R ^1A represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

R², R³ 및 R⁴는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 좋은 탄소수 1∼6의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 좋은 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 좋은 방향족 복소 고리기를 나타내고, 상기 알킬기에 포함되는 -CH₂-는 -NR^1B-, -CO-, -NO₂-, -O- 또는 -S-로 치환되어 있어도 좋다.R ² , R ³ and R ⁴ each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent, an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent, -CH ₂ - contained in the alkyl group may be substituted with -NR ^1B -, -CO-, -NO ₂ -, -O-, or -S-.

R^1B는, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.R ^1B represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

R⁶ 및 R⁷은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼25의 알킬기 또는 전자 흡인성 기를 나타내거나, R⁶ 및 R⁷은 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋다.R ⁶ and R ⁷ each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, or an electron-withdrawing group, or R ⁶ and R ⁷ may be connected to each other to form a ring structure.

R¹ 및 R²는 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋고, R² 및 R³은 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋고, R² 및 R⁴는 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋고, R³ 및 R⁶은, 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋다.]R ¹ and R ² may be connected to each other to form a ring structure, R ² and R ³ may be connected to each other to form a ring structure, and R ² and R ⁴ may be connected to each other to form a ring structure. , R ³ and R ⁶ may be connected to each other to form a ring structure.]

R¹ 및 R⁵로 나타내는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, 2-시아노프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 1-메틸부틸기, 3-메틸부틸기, n-옥틸기, n-데실, 2-헥실-옥틸기 등을 들 수 있다.Alkyl groups having 1 to 25 carbon atoms represented by R ¹ and R ⁵ include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, 2-cyanopropyl group, n-butyl group, tert-butyl group, sec-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, 1-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, n-octyl group, n-decyl, 2-hexyl-octyl group, etc.

R¹ 및 R⁵로 나타내는 탄소수 1∼25의 알킬기가 가지고 있어도 좋은 치환기로서는, 이하의 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.Substituents that the alkyl groups having 1 to 25 carbon atoms represented by R ¹ and R ⁵ may have include groups described in Group A below.

군 A: 니트로기, 히드록시기, 카르복시기, 술포기, 시아노기, 아미노기, 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 탄소수 1∼12의 알킬실릴기, 탄소수 2∼8의 알킬카르보닐기, *-R^a1-(O-R^a2)_t1-R^a3(R^a1 및 R^a2는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼6의 알칸디일기를 나타내고, R^a3은 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, s1은 1∼3의 정수를 나타낸다.)으로 나타내는 기 등을 들 수 있다.Group A: nitro group, hydroxy group, carboxyl group, sulfo group, cyano group, amino group, halogen atom, alkoxy group with 1 to 6 carbon atoms, alkylsilyl group with 1 to 12 carbon atoms, alkylcarbonyl group with 2 to 8 carbon atoms, *-R ^a1 -(OR ^a2 ) _t1 -R ^a3 (R ^a1 and R ^a2 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, R ^a3 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and s1 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. A group represented by (indicates an integer), etc. can be mentioned.

탄소수 1∼12의 알킬실릴기로서는, 메틸실릴기, 에틸실릴, 프로필실릴기 등의 모노알킬실릴기; 디메틸실릴기, 디에틸실릴기, 메틸에틸실릴기 등의 디알킬실릴기; 트리메틸실릴, 트리에틸실릴, 트리프로필실릴기 등의 트리알킬실릴기를 들 수 있다.Examples of the alkylsilyl group having 1 to 12 carbon atoms include monoalkylsilyl groups such as methylsilyl group, ethylsilyl group, and propylsilyl group; Dialkyl silyl groups such as dimethyl silyl group, diethyl silyl group, and methyl ethyl silyl group; Examples include trialkylsilyl groups such as trimethylsilyl, triethylsilyl, and tripropylsilyl groups.

탄소수 2∼8의 알킬카르보닐기로서는, 메틸카르보닐기, 에틸카르보닐기 등을 들 수 있다.Examples of the alkylcarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms include methylcarbonyl group and ethylcarbonyl group.

할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다.Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.

R¹ 및 R⁵로 나타내는 탄소수 7∼15의 아랄킬기로서는, 벤질기, 페닐에틸기 등을 들 수 있다. 아랄킬기에 포함되는 -CH₂-가, -SO₂- 또는 -COO-로 교체된 기로서는 2-페닐아세트산에틸기 등을 들 수 있다.Examples of the aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms represented by R ¹ and R ⁵ include benzyl group and phenylethyl group. Examples of groups in which -CH ₂ - contained in the aralkyl group are replaced with -SO ₂ - or -COO- include ethyl 2-phenylacetate.

R¹ 및 R⁵로 나타내는 탄소수 7∼15의 아랄킬기가 가지고 있어도 좋은 치환기로서는, 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.Substituents that the aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms represented by R ¹ and R ⁵ may have include the groups described in Group A above.

R¹ 및 R⁵로 나타내는 탄소수 6∼15의 아릴기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있다.Examples of the aryl group having 6 to 15 carbon atoms represented by R ¹ and R ⁵ include phenyl group, naphthyl group, and anthracenyl group.

R¹ 및 R⁵로 나타내는 탄소수 6∼15의 아릴기가 가지고 있어도 좋은 치환기로서는, 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.Substituents that the aryl group having 6 to 15 carbon atoms represented by R ¹ and R ⁵ may have include the groups described in Group A above.

R¹ 및 R⁵로 나타내는 탄소수 6∼15의 복소 고리기로서는, 피리딜기, 피롤리딜기, 퀴놀릴기, 티오펜기, 이미다졸릴기, 옥사졸릴기, 피롤기, 티아졸릴기 및 푸라닐기 등의 탄소수 3∼9의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다.Heterocyclic groups having 6 to 15 carbon atoms represented by R ¹ and R ⁵ include pyridyl group, pyrrolidyl group, quinolyl group, thiophene group, imidazolyl group, oxazolyl group, pyrrole group, thiazolyl group and furanyl group. and aromatic heterocyclic groups having 3 to 9 carbon atoms.

R^1A 및 R^1B로 나타내는 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등을 들 수 있다.Alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms represented by R ^1A and R ^1B include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, tert-butyl group, sec-butyl group, n-pentyl group, n- Hexyl group, etc. can be mentioned.

R², R³ 및 R⁴로 나타내는 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, R^1B로 나타내는 탄소수 1∼6의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R ² , R ³ and R ⁴ include the same alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R ^1B .

R², R³ 및 R⁴로 나타내는 탄소수 1∼6의 알킬기가 가지고 있어도 좋은 치환기로서는, 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.Substituents that the alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms represented by R ² , R ³ and R ⁴ may have include the groups described in Group A above.

R², R³ 및 R⁴로 나타내는 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등 탄소수 6∼15의 아릴기; 벤질기, 페닐에틸기 등의 탄소수 7∼15의 아랄킬기를 들 수 있다.Examples of the aromatic hydrocarbon group represented by R ² , R ³ and R ⁴ include aryl groups having 6 to 15 carbon atoms, such as phenyl group, naphthyl group, and anthracenyl group; Examples include aralkyl groups having 7 to 15 carbon atoms, such as benzyl group and phenylethyl group.

R², R³ 및 R⁴로 나타내는 방향족 탄화수소기가 가지고 있어도 좋은 치환기로서는 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.Substituents that the aromatic hydrocarbon group represented by R ² , R ³ and R ⁴ may have include the groups described in Group A above.

R², R³ 및 R⁴로 나타내는 방향족 복소 고리로서는, 피리딜기, 피롤리딜기, 퀴놀릴기, 티오펜기, 이미다졸릴기, 옥사졸릴기, 피롤기, 티아졸릴기 및 푸라닐기 등의 탄소수 3∼9의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다.The aromatic heterocycles represented by R ² , R ³ and R ⁴ include pyridyl group, pyrrolidyl group, quinolyl group, thiophene group, imidazolyl group, oxazolyl group, pyrrole group, thiazolyl group and furanyl group. and aromatic heterocyclic groups having 3 to 9 carbon atoms.

R², R³ 및 R⁴로 나타내는 방향족 복소 고리가 가지고 있어도 좋은 치환기로서는, 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.Substituents that the aromatic heterocycles represented by R ² , R ³ and R ⁴ may have include the groups described in Group A above.

R⁶ 및 R⁷로 나타내는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는, R¹ 및 R⁵로 나타내는 탄소수 1∼25의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 25 carbon atoms represented by R ⁶ and R ⁷ include the same alkyl groups having 1 to 25 carbon atoms represented by R ¹ and R ⁵ .

R⁶ 및 R⁷로 나타내는 탄소수 1∼25의 알킬기가 가지고 있어도 좋은 치환기로서는, 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.Substituents that the alkyl group having 1 to 25 carbon atoms represented by R ⁶ and R ⁷ may have include the groups described in Group A above.

R⁶ 및 R⁷로 나타내는 전자 흡인성 기로서는, 예컨대, 시아노기, 니트로기, 할로겐 원자, 할로겐 원자로 치환된 알킬기, 식 (I-1)로 나타내는 기를 들 수 있다.Examples of the electron-withdrawing group represented by R ⁶ and R ⁷ include a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an alkyl group substituted with a halogen atom, and a group represented by formula (I-1).

[식 중, R¹¹은, 수소 원자 또는 탄소수 1∼25의 알킬기를 나타내고, 상기 알킬기에 포함되는 메틸렌기 중 적어도 하나는 산소 원자로 치환되어 있어도 좋다.[In the formula, R ¹¹ represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, and at least one of the methylene groups included in the alkyl group may be substituted with an oxygen atom.

X¹은, -CO-, -COO-, -OCO-, -NR¹²CO- 또는 CONR¹³-을 나타낸다.X ¹ represents -CO-, -COO-, -OCO-, -NR ¹² CO- or CONR ¹³ -.

R¹² 및 R¹³은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 페닐기를 나타낸다.]R ¹² and R ¹³ each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group.]

할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

할로겐 원자로 치환된 알킬기로서는, 예컨대, 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로sec-부틸기, 퍼플루오로tert-부틸기, 퍼플루오로펜틸기 및 퍼플루오로헥실기 등의 퍼플루오로알킬기 등을 들 수 있다. 할로겐 원자로 치환된 알킬기의 탄소수로서는, 통상 1∼25이다.Examples of the alkyl group substituted with a halogen atom include trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluorobutyl group, perfluorosec-butyl group, and perfluorotert. -Perfluoroalkyl groups such as butyl group, perfluoropentyl group, and perfluorohexyl group, etc. are mentioned. The number of carbon atoms of the alkyl group substituted with a halogen atom is usually 1 to 25.

R¹¹로 나타내는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는, R¹ 및 R⁵로 나타내는 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 25 carbon atoms represented by R ¹¹ include the same alkyl groups represented by R ¹ and R ⁵ .

R¹² 및 R¹³으로 나타내는 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, R^1A로 나타내는 탄소수 1∼6으로 나타내는 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R ¹² and R ¹³ include the same alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R ^1A .

R⁶ 및 R⁷은 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고 있어도 좋고, R⁶ 및 R⁷로 형성되는 고리 구조로서는, 예컨대, 멜드럼산 구조, 바르비투르산 구조, 디메돈 구조 등을 들 수 있다.R ⁶ and R ⁷ may be connected to each other to form a ring structure, and examples of the ring structure formed by R ⁶ and R ⁷ include a meldrum acid structure, a barbituric acid structure, and a dimedone structure.

R² 및 R³이 서로 결합하여 형성되는 고리 구조로서는, R²와 결합하고 있는 질소 원자를 포함하는 함질소 고리 구조이며, 예컨대, 4∼14원 고리의 함질소 복소 고리를 들 수 있다. R² 및 R³이 서로 연결하여 형성되는 고리 구조는, 단고리여도 좋고, 다고리여도 좋다. 구체적으로는, 피롤리딘 고리, 피롤린 고리, 이미다졸리딘 고리, 이미다졸린 고리, 옥사졸린 고리, 티아졸린 고리, 피페리딘 고리, 모르폴린 고리, 피페라진 고리, 인돌 고리, 이소인돌 고리 등을 들 수 있다.The ring structure formed by R ² and R ³ bonded to each other is a nitrogen-containing ring structure containing a nitrogen atom bonded to R ² , and examples include a 4- to 14-membered nitrogen-containing heterocycle. The ring structure formed by connecting R ² and R ³ to each other may be a single ring or a polycyclic ring. Specifically, pyrrolidine ring, pyrroline ring, imidazolidine ring, imidazoline ring, oxazoline ring, thiazoline ring, piperidine ring, morpholine ring, piperazine ring, indole ring, isoindole. A ring, etc. may be mentioned.

R¹ 및 R²가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조로서는, R¹ 및 R²가 결합하고 있는 질소 원자를 포함하는 함질소 고리 구조로서, 예컨대, 4∼14원 고리(바람직하게는 4∼8원 고리)의 함질소 복소 고리를 들 수 있다. R¹ 및 R²가 서로 연결하여 형성되는 고리 구조는, 단고리여도 좋고, 다고리여도 좋다. 구체적으로는, R² 및 R³이 서로 연결하여 형성되는 고리 구조와 같은 것을 들 수 있다.The ring structure formed by R ¹ and R ² bonded to each other is a nitrogen-containing ring structure containing the nitrogen atom to which R ¹ and R ² are bonded, for example, a 4- to 14-membered ring (preferably a 4- to 8-membered ring). ring) and nitrogen-containing heterocyclic rings. The ring structure formed by connecting R ¹ and R ² to each other may be a single ring or a polycyclic ring. Specifically, a ring structure formed by linking R ² and R ³ to each other may be mentioned.

R² 및 R⁴가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조로서는, 4∼14원 고리의 함질소 고리 구조를 들 수 있고, 5원 고리∼9원 고리의 함질소 고리 구조가 바람직하다. R² 및 R⁴가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조는, 단고리여도 좋고, 다고리여도 좋다. 이들 고리는 치환기를 가지고 있어도 좋고, 이러한 고리 구조로서는, 상기 R² 및 R³이 서로 연결하여 형성되는 고리 구조로서 예시한 것과 같은 것을 들 수 있다.The ring structure formed by R ² and R ⁴ bonded to each other includes a nitrogen-containing ring structure with a 4- to 14-membered ring, and a nitrogen-containing ring structure with a 5- to 9-membered ring is preferable. The ring structure formed by R ² and R ⁴ bonded to each other may be a single ring or a polycyclic ring. These rings may have substituents, and examples of such ring structures include those exemplified as ring structures formed by linking R ² and R ³ to each other.

R³ 및 R⁶이 서로 연결하여 형성되는 고리 구조로서는, R³-C=C-C=C-R⁶이 고리의 골격을 형성하는 고리 구조이다. 예컨대, 페닐기 등을 들 수 있다.The ring structure formed by linking R ³ and R ⁶ to each other is a ring structure in which R ³ -C=CC=CR ⁶ forms the skeleton of the ring. For example, a phenyl group, etc. can be mentioned.

R²와 R³이 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고 있는 식 (I)로 나타내는 화합물로서는 식 (I-A)로 나타내는 화합물을 들 수 있고, R² 및 R⁴가 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고 있는 식 (I)로 나타내는 화합물로서는, 식 (I-B)로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다.Examples of compounds represented by formula (I) in which R ² and R ³ are connected to each other to form a ring structure include compounds represented by formula (IA), and compounds in which R ² and R ⁴ are connected to each other to form a ring structure Examples of the compound represented by formula (I) include compounds represented by formula (IB).

[식 (I-A), 식 (I-B) 중, R¹, R³, R⁴, R⁵, R⁶ 및 R⁷은, 각각 상기와 같은 의미를 나타낸다.[In formula (IA) and formula (IB), R ¹ , R ³ , R ⁴ , R ⁵ , R ⁶ and R ⁷ each have the same meaning as above.

고리 W¹ 및 고리 W²는, 각각 독립적으로, 함질소 고리를 나타낸다.]Ring W ¹ and ring W ² each independently represent a nitrogen-containing ring.]

고리 W¹ 및 고리 W²는, 고리의 구성 단위로서 질소 원자를 함유하는 함질소 고리를 나타낸다. 고리 W¹ 및 고리 W²는, 각각 독립적으로, 단고리여도 좋고, 다고리여도 좋고, 질소 이외의 헤테로 원자를 고리의 구성 단위로서 포함하고 있어도 좋다. 고리 W¹ 및 고리 W²는, 각각 독립적으로, 5원 고리∼9원 고리의 고리인 것이 바람직하다.Ring W ¹ and ring W ² represent a nitrogen-containing ring containing a nitrogen atom as a ring structural unit. Ring W ¹ and ring W ² may each independently be a single ring or a polycyclic ring, and may contain a hetero atom other than nitrogen as a ring structural unit. It is preferable that ring W ¹ and ring W ² are each independently a 5-membered ring to a 9-membered ring.

식 (I-A)로 나타내는 화합물은, 식 (I-A-1)로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다.The compound represented by formula (I-A) is preferably a compound represented by formula (I-A-1).

[식 (I-A) 중, R¹, R⁴, R⁵, R⁶ 및 R⁷은, 각각 상기와 같은 의미를 나타낸다.[In formula (IA), R ¹ , R ⁴ , R ⁵ , R ⁶ and R ⁷ each have the same meaning as above.

A¹은, -CH₂-, -O-, -S- 또는 -NR^1D-를 나타낸다.A ¹ represents -CH ₂ -, -O-, -S-, or -NR ^1D -.

R¹⁴ 및 R¹⁵는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼12의 알킬기를 나타낸다.R ¹⁴ and R ¹⁵ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.

R^1D는, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.]R ^1D represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.]

식 (I-B)로 나타내는 화합물은, 식 (I-B-1)로 나타내는 화합물 및 식 (I-B-2)로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다.The compound represented by formula (I-B) is preferably a compound represented by formula (I-B-1) and a compound represented by formula (I-B-2).

[식 (I-B-1) 중, R¹, R⁶ 및 R⁷은, 각각 상기와 같은 의미를 나타낸다.[In formula (IB-1), R ¹ , R ⁶ and R ⁷ each have the same meaning as above.

R¹⁶은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼12의 알킬기, 아릴기를 나타낸다.]R ¹⁶ each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryl group.]

[식 (I-B-2) 중, R³, R⁵, R⁶ 및 R⁷은, 각각 상기와 같은 의미를 나타낸다.[In formula (IB-2), R ³ , R ⁵ , R ⁶ and R ⁷ each have the same meaning as above.

R³⁰은, 수소 원자, 시아노기, 니트로기, 할로겐 원자, 메르캅토기, 아미노기, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기, 탄소수 2∼13의 아실기, 탄소수 2∼13의 아실옥시기 또는 탄소수 2∼13의 알콕시카르보닐기를 나타낸다.R ³⁰ is a hydrogen atom, cyano group, nitro group, halogen atom, mercapto group, amino group, alkyl group with 1 to 12 carbon atoms, alkoxy group with 1 to 12 carbon atoms, aromatic hydrocarbon group with 6 to 18 carbon atoms, and 2 to 13 carbon atoms. represents an acyl group, an acyloxy group with 2 to 13 carbon atoms, or an alkoxycarbonyl group with 2 to 13 carbon atoms.

R³¹은, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 메르캅토기, 탄소수 1∼12의 알킬티오기, 치환기를 가지고 있어도 좋은 아미노기 또는 복소 고리기를 나타낸다.]R ³¹ represents an alkyl group with 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group with 1 to 12 carbon atoms, a mercapto group, an alkylthio group with 1 to 12 carbon atoms, an amino group or heterocyclic group that may have a substituent.]

R³⁰으로 나타내는 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.Examples of the halogen atom represented by R ³⁰ include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

R³⁰으로 나타내는 탄소수 2∼13의 아실기로서는, 아세틸기, 프로피오닐기 및 부티릴기 등을 들 수 있다.Examples of the acyl group having 2 to 13 carbon atoms represented by R ³⁰ include acetyl group, propionyl group, and butyryl group.

R³⁰으로 나타내는 탄소수 2∼13의 아실옥시기로서는, 메틸카르보닐옥시기, 에틸카르보닐옥시기, 프로필카르보닐옥시기, 부틸카르보닐옥시기 등을 들 수 있다.Examples of the acyloxy group having 2 to 13 carbon atoms represented by R ³⁰ include methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, propylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, etc.

R³⁰으로 나타내는 탄소수 2∼13의 알콕시카르보닐기로서는, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 부톡시카르보닐기 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms represented by R ³⁰ include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, and butoxycarbonyl group.

R³⁰으로 나타내는 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐기 등의 탄소수 6∼18의 아릴기; 벤질기, 페닐에틸기 등의 탄소수 7∼18의 아랄킬기를 들 수 있다.Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms represented by R ³⁰ include aryl groups having 6 to 18 carbon atoms such as phenyl group, naphthyl group, and biphenyl group; Examples include aralkyl groups having 7 to 18 carbon atoms, such as benzyl group and phenylethyl group.

R³⁰으로 나타내는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, R¹⁴로 나타내는 탄소수 1∼12의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R ³⁰ include the same alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R ¹⁴ .

R³⁰으로 나타내는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜톡시기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R ³⁰ include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, and pentoxy group.

R³⁰은, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 아미노기 또는 메르캅토기인 것이 바람직하다.R ³⁰ is preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an amino group, or a mercapto group.

R³¹로 나타내는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, R¹⁴로 나타내는 탄소수 1∼12의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R ³¹ include the same alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R ¹⁴ .

R³¹로 나타내는 탄소수 1∼12의 알콕시기로서는, R³⁰으로 나타내는 탄소수 1∼12의 알콕시기와 같은 것을 들 수 있다.Examples of the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms represented by R ³¹ include the same alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms represented by R ³⁰ .

R³¹로 나타내는 탄소수 1∼12의 알킬티오기로서는, 메틸티오기, 에틸티오기, 프로필티오기, 부틸티오기, 펜틸티오기, 헥실티오기 등을 들 수 있다.Examples of the alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms represented by R ³¹ include methylthio group, ethylthio group, propylthio group, butylthio group, pentylthio group, and hexylthio group.

R³¹로 나타내는 치환기를 가지고 있어도 좋은 아미노기로서는, 아미노기; N-메틸아미노기, N-에틸아미노기 등의 하나의 탄소수 1∼8의 알킬기로 치환된 아미노기; N,N-디메틸아미노기, N,N-디에틸아미노기, N,N-메틸에틸아미노기 등의 2개의 탄소수 1∼8의 알킬기로 치환된 아미노기; 등을 들 수 있다.Examples of the amino group that may have a substituent represented by R ³¹ include amino group; An amino group substituted with an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, such as N-methylamino group or N-ethylamino group; Amino groups substituted with two alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms, such as N,N-dimethylamino group, N,N-diethylamino group, and N,N-methylethylamino group; etc. can be mentioned.

R³¹로 나타내는 복소 고리로서는, 피롤리디닐기, 피페리디닐기, 모르폴리닐기 등의 탄소수 4∼9의 함질소 복소 고리기 등을 들 수 있다.Examples of the heterocyclic ring represented by R ³¹ include nitrogen-containing heterocyclic groups having 4 to 9 carbon atoms, such as pyrrolidinyl group, piperidinyl group, and morpholinyl group.

R³ 및 R⁶이 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고, 또한 R² 및 R⁴가 서로 결합하여 고리 구조를 형성하는 식 (I)로 나타내는 화합물로서는, 식 (I-C)로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the compound represented by formula (I) in which R ³ and R ⁶ are bonded to each other to form a ring structure, and R ² and R ⁴ are bonded to each other to form a ring structure include compounds represented by formula (IC), etc. there is.

[식 (I-C) 중, R¹, R⁶ 및 R⁷은 상기와 같은 의미를 나타낸다.[In formula (IC), R ¹ , R ⁶ and R ⁷ have the same meaning as above.

R²¹, R²²는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기 또는 히드록시기를 나타낸다.R ²¹ and R ²² each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a hydroxy group.

X² 및 X³은, 각각 독립적으로, -CH₂- 또는 -N(R²⁵)=를 나타낸다.X ² and X ³ each independently represent -CH ₂ - or -N(R ²⁵ )=.

R²⁵는, 수소 원자, 탄소수 1∼25의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 좋은 방향족 탄화수소기를 나타낸다.]R ²⁵ represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group that may have a substituent.]

R²⁵로 나타내는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는, R¹로 나타내는 탄소수 1∼25의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 25 carbon atoms represented by R ²⁵ include the same alkyl group having 1 to 25 carbon atoms represented by R ¹ .

R²⁵로 나타내는 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기 등의 아릴기: 벤질기, 페닐에틸기 등의 아랄킬기: 비페닐기 등을 들 수 있고, 탄소수 6∼20의 방향족 탄화수소기인 것이 바람직하다. R²⁵로 나타내는 방향족 탄화수소기가 가지고 있어도 좋은 치환기로서는, 히드록시기 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic hydrocarbon group represented by R ²⁵ include aryl groups such as phenyl and naphthyl groups, aralkyl groups such as benzyl and phenylethyl groups, and biphenyl groups, and are preferably aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms. Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon group represented by R ²⁵ may have include a hydroxy group.

R³ 및 R⁶은, 각각 독립적으로, 전자 흡인성 기인 것이 바람직하다.R ³ and R ⁶ are preferably each independently an electron-withdrawing group.

R¹ 및 R²가 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고, 또한 R³ 및 R⁶이 서로 결합하여 고리 구조를 형성하는 식 (I)로 나타내는 화합물로서는, 식 (I-D)로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the compound represented by formula (I) in which R ¹ and R ² are bonded to each other to form a ring structure, and R ³ and R ⁶ are bonded to each other to form a ring structure include compounds represented by formula (ID), etc. there is.

[식 (I-D) 중, R⁴, R⁵, R⁷은 상기와 같은 의미를 나타낸다.[In formula (ID), R ⁴ , R ⁵ , and R ⁷ have the same meaning as above.

R²⁵, R²⁶, R²⁷ 및 R²⁸은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬기, 히드록시기, 아랄킬기를 나타낸다.]R ²⁵ , R ²⁶ , R ²⁷ and R ²⁸ each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, a hydroxy group or an aralkyl group.]

R²⁵, R²⁶, R²⁷ 및 R²⁸로 나타내는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, R^1A 및 R^1B로 나타내는 탄소수 1∼12의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다. R²⁵, R²⁶, R²⁷ 및 R²⁸로 나타내는 탄소수 1∼12의 알킬기가 가지고 있어도 좋은 치환기로서는 히드록시기를 들 수 있다.Examples of the alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms represented by R ²⁵ , R ²⁶ , R ²⁷ and R ²⁸ include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms represented by R ^1A and R ^1B . Substituents that the alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms represented by R ²⁵ , R ²⁶ , R ²⁷ and R ²⁸ may have include a hydroxy group.

R²⁵, R²⁶, R²⁷ 및 R²⁸로 나타내는 아랄킬기로서는, 벤질기, 페닐에틸기 등의 탄소수 7∼15의 아랄킬기를 들 수 있다.Examples of the aralkyl group represented by R ²⁵ , R ²⁶ , R ²⁷ and R ²⁸ include aralkyl groups having 7 to 15 carbon atoms, such as benzyl group and phenylethyl group.

R⁶ 및 R⁷이 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고 있는 화합물 (I)로서는, 식 (I-E)로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다.Examples of compound (I) in which R ⁶ and R ⁷ are connected to each other to form a ring structure include compounds represented by formula (IE).

[식 (I-C) 중, R¹, R³, R⁴, R⁵는, 각각 상기와 같은 의미를 나타낸다.[In formula (IC), R ¹ , R ³ , R ⁴ , and R ⁵ each have the same meaning as above.

고리 W³은, 환상 화합물을 나타낸다.]Ring W ³ represents a cyclic compound.]

고리 W³은, 5원 고리∼9원 고리의 고리이며, 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 등의 헤테로 원자를 고리의 구성 단위로서 포함하고 있어도 좋다.Ring W ³ is a 5- to 9-membered ring, and may contain heteroatoms such as a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom as a structural unit of the ring.

식 (I-E)로 나타내는 화합물은, 식 (IE-1)로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다.The compound represented by formula (I-E) is preferably a compound represented by formula (IE-1).

[식 (IE-1) 중, R¹, R², R³ 및 R⁵는, 각각 상기와 같은 의미를 나타낸다.[In formula (IE-1), R ¹ , R ² , R ³ and R ⁵ each have the same meaning as above.

R¹⁷, R¹⁸, R¹⁹, R^q는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬기, 아랄킬기, 아릴기를 나타내고, 상기 알킬기 또는 아랄킬기에 포함되는 -CH₂-기는 -NR^2D-, -C(=O)-, -C(=S)-, -O-, -S-로 치환되어 있어도 좋고, R¹⁷ 및 R¹⁸은 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋고, R¹⁸ 및 R¹⁹는 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋고, R¹⁹ 및 R^q는, 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋다. R^2D는 수소 원자, 또는 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬기, 아랄킬기, 아릴기를 나타내고, 상기 알킬기 또는 아랄킬기에 포함되는 -CH₂-기는 -C(=O)-, -C(=S)-, -O-, -S-로 치환되어 있어도 좋다.R ¹⁷ , R ¹⁸ , R ¹⁹ , and R ^q each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, an aralkyl group, or an aryl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, and -CH ₂ contained in the alkyl group or aralkyl group. -The group may be substituted with -NR ^2D -, -C(=O)-, -C(=S)-, -O-, or -S-, and R ¹⁷ and R ¹⁸ are connected to each other to form a ring structure. , R ¹⁸ and R ¹⁹ may be connected to each other to form a ring structure, and R ¹⁹ and R ^q may be connected to each other to form a ring structure. R ^2D represents a hydrogen atom or an alkyl group, aralkyl group, or aryl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, and the -CH ₂ -group included in the alkyl group or aralkyl group is -C(=O)-, -C( =S)-, -O-, or -S- may be substituted.

m, p, q는 각각 독립적으로 1∼3의 정수를 나타낸다.]m, p, and q each independently represent integers from 1 to 3.]

식 (I)로 나타내는 화합물로서는, 이하의 화합물을 들 수 있다.Examples of the compound represented by formula (I) include the following compounds.

광 선택 흡수 화합물(B)의 함유량은, 광 경화성 성분(A) 100 질량부에 대하여, 통상 0.01∼20 질량부이고, 바람직하게는 0.05∼15 질량부이고, 보다 바람직하게는 0.1∼10 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.1∼5 질량부이다.The content of the light selective absorption compound (B) is usually 0.01 to 20 parts by mass, preferably 0.05 to 15 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the photocurable component (A). , and more preferably 0.1 to 5 parts by mass.

<광 중합 개시제(C)><Photopolymerization initiator (C)>

[라디칼 중합성 개시제][Radical polymerization initiator]

광 경화성 성분(A)이 라디칼 중합 화합물인 경우, 광 중합 개시제(C)는 광 라디칼 중합 개시제를 함유한다. 또한, 더욱, 열 라디칼 중합 개시제를 함유하고 있어도 좋다. 광 라디칼 중합 개시제는, 가시광선, 자외선, X선, 또는 전자선과 같은 활성 에너지선의 조사에 의해, 라디칼 경화성 화합물의 중합 반응을 개시시키는 것이다. 활성 에너지선 경화성 접착제 조성물은, 라디칼 중합 개시제를 1종 또는 2종 이상 함유할 수 있다.When the photocurable component (A) is a radical polymerization compound, the photopolymerization initiator (C) contains a radical photopolymerization initiator. Additionally, it may further contain a thermal radical polymerization initiator. A radical photopolymerization initiator initiates the polymerization reaction of a radically curable compound by irradiation of active energy rays such as visible light, ultraviolet rays, X-rays, or electron beams. The active energy ray-curable adhesive composition may contain one type or two or more types of radical polymerization initiator.

광 라디칼 중합 개시제 및 열 라디칼 중합 개시제로서는 종래 공지의 것을 사용할 수 있다. 광 라디칼 중합 개시제로서는, 아세토페논, 3-메틸아세토페논, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온 등의 아세토페논계 개시제; 벤조페논, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논 등의 벤조페논계 개시제; 벤조인프로필에테르, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르 등의 벤조인에테르계 개시제; 4-이소프로필티오크산톤 등의 티오크산톤계 개시제; 크산톤, 플루오레논, 캄파퀴논, 벤즈알데히드, 안트라퀴논 등을 들 수 있다.As the photo radical polymerization initiator and the thermal radical polymerization initiator, conventionally known ones can be used. As a photo radical polymerization initiator, acetophenone, 3-methylacetophenone, benzyldimethylketal, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-methyl-1-[ Acetophenone initiators such as 4-(methylthio)phenyl-2-morpholinopropan-1-one and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one; Benzophenone-based initiators such as benzophenone, 4-chlorobenzophenone, and 4,4'-diaminobenzophenone; Benzoin ether-based initiators such as benzoin propyl ether, benzoin methyl ether, and benzoin ethyl ether; Thioxanthone-based initiators such as 4-isopropylthioxanthone; Examples include xanthone, fluorenone, camphorquinone, benzaldehyde, and anthraquinone.

라디칼 중합 개시제의 함유량은, 라디칼 중합성 화합물 100 질량부에 대하여, 통상 0.5∼20 질량부이고, 바람직하게는 1∼6 질량부이다. 라디칼 중합 개시제를 0.5 중량부 이상 함유시킴으로써, 라디칼 중합성 화합물을 충분히 경화시킬 수 있다.The content of the radical polymerization initiator is usually 0.5 to 20 parts by mass, preferably 1 to 6 parts by mass, based on 100 parts by mass of the radical polymerizable compound. By containing 0.5 parts by weight or more of a radical polymerization initiator, the radical polymerizable compound can be sufficiently cured.

(양이온 중합성 개시제)(cationic polymerization initiator)

광 경화성 성분(A)이 양이온 중합성 화합물인 경우, 광 중합 개시제(C)는 광 양이온 중합 개시제이다. 광 양이온 중합 개시제는, 가시광선, 자외선, X선, 또는 전자선과 같은 활성 에너지선의 조사에 의해, 양이온종 또는 루이스산을 발생하여, 양이온 경화성 화합물의 중합 반응을 개시시키는 것이다. 광 양이온 중합 개시제는, 광에서 촉매적으로 작용하기 때문에, 광 양이온 경화성 화합물에 혼합하여도 보존 안정성이나 작업성이 우수하다. 활성 에너지선의 조사에 의해 양이온종 또는 루이스산을 생기게 하는 화합물로서, 예컨대, 방향족 요오도늄염이나 방향족 술포늄염 등의 오늄염; 방향족 디아조늄염; 철-아렌 착체 등을 들 수 있다.When the photocurable component (A) is a cationically polymerizable compound, the photopolymerization initiator (C) is a photocationic polymerization initiator. The photo cationic polymerization initiator generates cationic species or Lewis acids through irradiation of active energy rays such as visible light, ultraviolet rays, X-rays, or electron beams, and initiates the polymerization reaction of the cation-curable compound. Since the photocationic polymerization initiator acts catalytically in light, it is excellent in storage stability and workability even when mixed with a photocationic curable compound. Compounds that generate cationic species or Lewis acids upon irradiation of active energy rays include, for example, onium salts such as aromatic iodonium salts and aromatic sulfonium salts; Aromatic diazonium salt; An iron-arene complex, etc. can be mentioned.

방향족 요오도늄염은, 디아릴요오도늄 양이온을 갖는 화합물이며, 그 양이온으로서, 전형적으로는 디페닐요오도늄 양이온을 들 수 있다. 방향족 술포늄염은, 트리아릴술포늄 양이온을 갖는 화합물이며, 그 양이온으로서, 전형적으로는 트리페닐술포늄 양이온이나 4,4'-비스(디페닐술포니오)디페닐술피드 양이온 등을 들 수 있다. 방향족 디아조늄염은, 디아조늄 양이온을 갖는 화합물이며, 그 양이온으로서, 전형적으로는 벤젠디아조늄 양이온을 들 수 있다. 또한, 철-아렌 착체는, 전형적으로는 시클로펜타디에닐철(II)아렌 양이온 착염이다.An aromatic iodonium salt is a compound having a diaryliodonium cation, and the cation typically includes a diphenyliodonium cation. Aromatic sulfonium salts are compounds having a triarylsulfonium cation, and typical examples of the cation include triphenylsulfonium cation and 4,4'-bis(diphenylsulfonio)diphenylsulfide cation. there is. An aromatic diazonium salt is a compound having a diazonium cation, and the cation typically includes a benzene diazonium cation. Additionally, the iron-arene complex is typically a cyclopentadienyl iron(II) arene cation complex salt.

위에 나타낸 양이온은, 아니온(음이온)과 쌍이 되어 광 양이온 중합 개시제를 구성한다. 광 양이온 중합 개시제를 구성하는 아니온의 예를 들면, 특수 인계 아니온[(Rf)_nPF_6-n]^-, 헥사플루오로포스페이트 아니온 PF₆ ^-, 헥사플루오로안티모네이트 아니온 SbF₆ ^-, 펜타플루오로히드록시안티모네이트 아니온 SbF₅(OH)_-, 헥사플루오로아르세네이트 아니온 AsF₆ ^-, 테트라플루오로보레이트 아니온 BF₄ ^-, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 아니온 B(C₆F_{5) 4} ^- 등이 있다. 그 중에서도, 양이온 중합성 화합물의 경화성 및 얻어지는 광 선택 흡수층의 안전성의 관점에서, 특수 인계 아니온[(Rf)_nPF_6-n]^-, 헥사플루오로포스페이트 아니온 PF₆ ^-인 것이 바람직하다.The cations shown above pair with an anion to form a photocationic polymerization initiator. Examples of anions constituting the photocationic polymerization initiator include special phosphorus anion [(Rf) _n PF _6-n ] ^- , hexafluorophosphate anion PF ₆ ^- , hexafluoroantimonate anion SbF ₆ ^- , pentafluorohydroxyantimonate anion SbF ₅ (OH) _- , hexafluoroarsenate anion AsF ₆ ^- , tetrafluoroborate anion BF ₄ ^- , tetrakis(pentafluorophenyl)borate Anion B(C ₆ F _{5) 4} ^- and so on. Among them, from the viewpoint of the curability of the cationically polymerizable compound and the safety of the resulting light selective absorption layer, special phosphorus anions [(Rf) _n PF _6-n ] ^- and hexafluorophosphate anions PF ₆ ^- are preferable.

광 양이온 중합 개시제는, 1종만을 단독으로 사용하여도 좋고 2종 이상을 병용하여도 좋다. 그 중에서도, 방향족 술포늄염은, 300 ㎚ 부근의 파장 영역에서도 자외선 흡수 특성을 갖기 때문에, 경화성이 우수하여, 양호한 기계적 강도나 접착 강도를 갖는 경화물을 부여할 수 있기 때문에 바람직하게 이용된다.The photocationic polymerization initiator may be used individually as one type or may be used in combination of two or more types. Among them, aromatic sulfonium salts are preferably used because they have ultraviolet absorption characteristics even in the wavelength range around 300 nm, have excellent curability, and can provide a cured product with good mechanical and adhesive strength.

광 양이온 중합 개시제의 함유량은, 양이온 중합성 화합물 100 질량부에 대하여 통상, 0.5∼10 질량부이고, 바람직하게는 6 질량부 이하이다. 광 양이온 중합 개시제를 0.5 질량부 이상 배합함으로써, 양이온 중합성 화합물을 충분히 경화시킬 수 있다.The content of the photocationic polymerization initiator is usually 0.5 to 10 parts by mass, and preferably 6 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the cationically polymerizable compound. By blending 0.5 parts by mass or more of a photo cationic polymerization initiator, the cationically polymerizable compound can be sufficiently cured.

(임의 성분)(random component)

활성 에너지선 경화성 조성물은, 필요에 따라, 첨가제를 포함할 수 있다. 첨가제로서는, 이온 트랩제, 연쇄 이동제, 중합 촉진제, 증감제, 증감 조제, 광 안정제, 점착 부여제, 충전제, 유동 조정제, 가소제, 소포제, 레벨링제, 실란 커플링제, 투광성 미립자, 유기 용제 등의 용제, 열 중합 개시제, 블로킹제, 방오제, 계면 활성제, 가교제, 경화제, 점도 조정제, 대전 방지제, 방오제, 슬립제, 굴절률 조정제, 분산제 등을 들 수 있다.The active energy ray-curable composition may contain additives as needed. Additives include ion trapping agents, chain transfer agents, polymerization accelerators, sensitizers, sensitizing aids, light stabilizers, tackifiers, fillers, flow regulators, plasticizers, anti-foaming agents, leveling agents, silane coupling agents, light-transmitting fine particles, organic solvents, and other solvents. , thermal polymerization initiator, blocking agent, antifouling agent, surfactant, crosslinking agent, curing agent, viscosity modifier, antistatic agent, antifouling agent, slip agent, refractive index modifier, dispersant, etc.

활성 에너지선 경화성 조성물을, 하드 코트층 등의 표면 처리층의 형성에 이용하는 경우, 유기 용제를 포함하는 것이 바람직하다. 유기 용제로서는, 헥산, 시클로헥산, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, s-부탄올, t-부탄올, 벤질알코올, PGME, 에틸렌글리콜, 시클로헥산올 등의 알코올류; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 헵타논, 디이소부틸케톤, 디에틸케톤 등의 케톤류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산이소부틸 등의 에스테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 에스테르화글리콜에테르류; 2-메톡시에탄올, 2-에톡시에탄올, 2-부톡시에탄올 등의 셀로솔브류; 2-(2-메톡시에톡시)에탄올, 2-(2-에톡시에톡시)에탄올, 2-(2-부톡시에톡시)에탄올 등의 카르비톨류; 헥산, 시클로헥산 등의 지방족 탄화수소류; 메틸렌클로라이드, 클로로포름, 사염화탄소 등의 할로겐화탄화수소류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, n-메틸피롤리돈 등의 아미드류; 디에틸에테르, 디옥산, 테트라히드로푸란 등의 에테르류; 1-메톡시-2-프로판올 등의 에테르알코올류; 물 등을 들 수 있다. 유기 용매는, 점도 등을 고려하여 선택하여 이용할 수 있다. 활성 에너지선 경화성 조성물에 유기 용제를 포함함으로써, 수지 필름에 대한 도공성(塗工性)이 향상한다.When the active energy ray-curable composition is used for forming a surface treatment layer such as a hard coat layer, it is preferable that the composition contains an organic solvent. Examples of organic solvents include aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, and octane; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, isopropanol, n-butanol, s-butanol, t-butanol, benzyl alcohol, PGME, ethylene glycol, and cyclohexanol; Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, heptanone, diisobutyl ketone, and diethyl ketone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, and isobutyl acetate; Glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monoethyl ether; Esterified glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; Cellosolves such as 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, and 2-butoxyethanol; Carbitols such as 2-(2-methoxyethoxy)ethanol, 2-(2-ethoxyethoxy)ethanol, and 2-(2-butoxyethoxy)ethanol; Aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane; Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, and carbon tetrachloride; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; Amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and n-methylpyrrolidone; ethers such as diethyl ether, dioxane, and tetrahydrofuran; Ether alcohols such as 1-methoxy-2-propanol; Water, etc. may be mentioned. The organic solvent can be selected and used in consideration of viscosity, etc. By including an organic solvent in the active energy ray-curable composition, the coatability of the resin film is improved.

이들 유기 용제는, 단독으로 이용하여도 좋고, 필요에 따라 여러 종류를 혼합하여 이용하여도 좋다. 활성 에너지선 경화성 조성물이 유기 용제를 포함하는 경우에는, 도공 후에 그 유기 용제를 증발시킬 필요가 있다. 그 때문에 유기 용제는, 60℃∼160℃의 범위의 비점을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 그 20℃에 있어서의 포화 증기압은, 0.1 ㎪∼20 ㎪의 범위에 있는 것이 바람직하다.These organic solvents may be used individually, or various types may be mixed and used as needed. When the active energy ray-curable composition contains an organic solvent, it is necessary to evaporate the organic solvent after coating. Therefore, the organic solvent preferably has a boiling point in the range of 60°C to 160°C. Additionally, the saturated vapor pressure at 20°C is preferably in the range of 0.1 kPa to 20 kPa.

레벨링제로서는, 예컨대, 불소계 레벨링제, 실리콘계 레벨링제, 아크릴계 레벨링제 등의 공지의 것을 들 수 있다. 레벨링제의 함유량은, 광 경화성 성분(A) 100 질량부에 대하여 0.1∼1 질량부인 것이 바람직하다. 0.1 질량부 미만이면, 특히 광 선택 흡수층이 표면 처리층인 경우, 표면의 평면성이 나빠져, 헤이즈나 얼룩이 생기기 쉽고, 블로킹 방지성이 충분히 발휘되지 않을 우려가 있다. 한편, 1 질량부를 넘으면, 활성 에너지선 경화성 조성물의 분산성이나 포트 라이프가 나빠지기 쉽다.Examples of the leveling agent include known ones such as a fluorine-based leveling agent, a silicone-based leveling agent, and an acrylic-based leveling agent. The content of the leveling agent is preferably 0.1 to 1 part by mass per 100 parts by mass of the photocurable component (A). If it is less than 0.1 part by mass, especially when the light selective absorption layer is a surface treatment layer, the flatness of the surface deteriorates, haze or stains are likely to occur, and there is a risk that the anti-blocking properties may not be sufficiently exhibited. On the other hand, if it exceeds 1 part by mass, the dispersibility and pot life of the active energy ray-curable composition tend to worsen.

활성 에너지선 경화성 조성물은, 광 경화성 성분(A)의 종류 등에 따라서는, 접착 기능을 갖는 경우가 있어, 접착제로서 사용할 수 있다. 활성 에너지선 경화성 조성물을 접착제로서 사용하는 경우, 그 점도가 낮은 것이 바람직하다. 구체적으로는, 25℃에 있어서의 점도가, 바람직하게는 1000 m㎩·s 이하, 보다 바람직하게는 500 m㎩·s 이하, 더욱 바람직하게는 300 m㎩·s 이하이고, 통상 250 m㎩·s 이상이다. 본 발명에 따른 경화성 접착제 조성물은 무용제형일 수 있지만, 채용하는 도공 방식에 알맞은 점도로 조정하기 위해 유기 용제를 함유시켜도 좋다.The active energy ray-curable composition may have an adhesive function depending on the type of the photo-curable component (A), etc., and can be used as an adhesive. When using an active energy ray-curable composition as an adhesive, it is preferable that the viscosity is low. Specifically, the viscosity at 25°C is preferably 1000 mPa·s or less, more preferably 500 mPa·s or less, even more preferably 300 mPa·s or less, and usually 250 mPa·s. s or more. The curable adhesive composition according to the present invention may be of a non-solvent type, but may contain an organic solvent to adjust the viscosity to suit the coating method employed.

<수지 필름(a)><Resin film (a)>

수지 필름(a)으로서는, 편광 필름, 위상차 필름, 윈도우 필름 등의 광학 기능을 갖는 필름이어도 좋다. 광학 기능을 갖는 필름이란, 광선을 투과, 반사, 흡수할 수 있는 필름을 의미한다.The resin film (a) may be a film having an optical function such as a polarizing film, retardation film, or window film. A film with an optical function refers to a film that can transmit, reflect, or absorb light.

윈도우 필름이란, 플렉시블 디스플레이 등의 플렉시블 표시 장치에 있어서의 전면판을 의미하고, 일반적으로는 표시 장치의 최표면에 배치된다. 윈도우 필름은, 예컨대 폴리이미드 수지로 이루어지는 수지 필름을 들 수 있다. 윈도우 필름은, 예컨대 폴리이미드 및 실리카를 포함하는 수지 필름 등의 유기 재료와 무기 재료의 하이브리드 필름이어도 좋다. 또한, 윈도우 필름은 그 표면에, 표면 경도나 방오성, 내지문성을 기능 부여하기 위한 하드 코트층이 배치되어 있어도 좋다. 윈도우 필름으로서는, 일본 특허 공개 제2017-94488호에 기재된 필름 등을 들 수 있다.A window film refers to a front plate in a flexible display device such as a flexible display, and is generally disposed on the outermost surface of the display device. Examples of the window film include a resin film made of polyimide resin. The window film may be a hybrid film of an organic material and an inorganic material, such as a resin film containing polyimide and silica. Additionally, the window film may have a hard coat layer disposed on its surface to provide surface hardness, anti-fouling properties, and anti-fingerprint properties. Examples of the window film include the films described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-94488.

〔위상차 필름〕〔Phase difference film〕

위상차 필름이란, 광학 이방성을 나타내는 광학 필름으로서, 예컨대, 폴리비닐알코올, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀, 폴리스티렌, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리비닐리덴플루오라이드/폴리메틸메타크릴레이트, 아세틸셀룰로오스, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 비누화물, 폴리염화비닐 등으로 이루어지는 고분자 필름을 1.01∼6배 정도로 연신함으로써 얻어지는 연신 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리카보네이트 필름이나 시클로올레핀계 수지 필름을 일축 연신 또는 이축 연신한 고분자 필름인 것이 바람직하다. 또한, 위상차 필름은 중합성 액정 화합물을 경화시켜 이루어지는 위상차 필름이어도 좋다. 또한, 본 명세서에 있어서, 위상차 필름은, 제로 리타데이션 필름을 포함하고, 일축성 위상차 필름, 저광 탄성률 위상차 필름, 광시야각 위상차 필름 등으로 불리는 필름도 포함한다.Retardation film refers to an optical film that exhibits optical anisotropy, such as polyvinyl alcohol, polycarbonate, polyester, polyarylate, polyimide, polyolefin, polycycloolefin, polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, and polyvinylidene fluoride. Examples include stretched films obtained by stretching a polymer film made of polymethyl methacrylate, acetylcellulose, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl chloride, etc. by a factor of 1.01 to 6. Among these, a polymer film obtained by uniaxially stretching or biaxially stretching a polycarbonate film or a cycloolefin resin film is preferable. Additionally, the retardation film may be a retardation film formed by curing a polymerizable liquid crystal compound. In addition, in this specification, the retardation film includes a zero retardation film and also includes films called uniaxial retardation films, low light modulus retardation films, wide viewing angle retardation films, etc.

액정성 화합물의 도포·배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨 필름이나, 무기층형 화합물의 도포에 의해 광학 이방성을 발현시킨 필름으로서는, 온도 보상형 위상차 필름이라고 불리는 필름, JX 에키쇼필름 가부시키가이샤에서 판매되고 있는 「NH 필름(상품명; 봉형 액정이 경사 배향한 필름)」, 후지필름 가부시키가이샤에서 판매되고 있는 「WV 필름(상품명; 원반형 액정이 경사 배향한 필름)」, 스미토모가가쿠 가부시키가이샤에서 판매되고 있는 「VAC 필름(상품명; 완전 이축 배향형의 필름)」, 「new VAC 필름(상품명; 이축 배향형의 필름)」 등을 들 수 있다.Films that develop optical anisotropy by applying and orienting liquid crystalline compounds, and films that develop optical anisotropy by applying inorganic layer-type compounds include films called temperature-compensated retardation films, sold by JX Ekisho Film Co., Ltd. “NH film (brand name; film with obliquely oriented rod-shaped liquid crystals)” sold by Fujifilm Co., Ltd. “WV film (brand name; film with obliquely oriented disk-shaped liquid crystals)” sold by Sumitomo Chemical Co., Ltd. Examples include “VAC film (brand name; completely biaxially oriented film)” and “new VAC film (brand name; biaxially oriented film)” that are sold.

제로 리타데이션 필름이란, 정면 리타데이션(R_e)과 두께 방향의 리타데이션(R_th)이, 모두 -15∼15 ㎚이고, 광학적으로 등방인 필름을 말한다. 제로 리타데이션 필름으로서는, 셀룰로오스계 수지, 폴리올레핀계 수지(쇄형 폴리올레핀계 수지, 폴리시클로올레핀계 수지 등) 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지로 이루어지는 수지 필름을 들 수 있고, 리타데이션값의 제어가 용이하고, 입수도 용이하다고 하는 점에서, 셀룰로오스계 수지 또는 폴리올레핀계 수지가 바람직하다. 제로 리타데이션 필름은, 보호 필름으로서도 이용할 수 있다. 제로 리타데이션 필름으로서는, 후지필름(주)에서 판매되고 있는 "Z-TAC"(상품명), 코니카미놀타옵토(주)에서 판매되고 있는 "제로태크(등록 상표)", 닛폰제온(주)에서 판매되고 있는 "ZF-14"(상품명) 등을 들 수 있다.A zero retardation film refers to a film in which both the front retardation (R _e ) and the retardation (R _th ) in the thickness direction are -15 to 15 nm, and are optically isotropic. Examples of the zero retardation film include resin films made of cellulose resin, polyolefin resin (chain polyolefin resin, polycycloolefin resin, etc.), or polyethylene terephthalate resin, and the retardation value is easy to control, Cellulose resin or polyolefin resin is preferable because it is easy to obtain. The zero retardation film can also be used as a protective film. Zero retardation films include "Z-TAC" (brand name) sold by Fujifilm Co., Ltd., "Zero Tac (registered trademark)" sold by Konica Minolta Opto Co., Ltd., and Nippon Xeon Co., Ltd. Examples include “ZF-14” (brand name), which is being used.

본 발명의 광학 필름에 있어서, 위상차 필름은, 중합성 액정 화합물을 경화시켜 이루어지는 위상차 필름이 바람직하다.In the optical film of the present invention, the retardation film is preferably a retardation film formed by curing a polymerizable liquid crystal compound.

액정성 화합물의 도포·배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨 필름으로서는,As a film that develops optical anisotropy by application and orientation of a liquid crystalline compound,

제1 형태: 봉형 액정 화합물이 지지 기재에 대하여 수평 방향으로 배향한 위상차 필름,First form: a retardation film in which a rod-shaped liquid crystal compound is oriented horizontally with respect to a supporting substrate,

제2 형태: 봉형 액정 화합물이 지지 기재에 대하여 수직 방향으로 배향한 위상차 필름,Second form: a retardation film in which the rod-shaped liquid crystal compound is oriented in a vertical direction with respect to the supporting substrate,

제3 형태: 봉형 액정 화합물이 면 내에서 나선형으로 배향의 방향이 변화하고 있는 위상차 필름,Third form: Retardation film in which the rod-shaped liquid crystal compound changes the direction of orientation in a spiral manner within the plane,

제4 형태: 원반형 액정 화합물이 경사 배향하고 있는 위상차 필름,Fourth form: Retardation film in which a disc-shaped liquid crystal compound is obliquely oriented,

제5 형태: 원반형 액정 화합물이 지지 기재에 대하여 수직 방향으로 배향한 이축성의 위상차 필름을 들 수 있다.Fifth form: A biaxial retardation film in which a disk-shaped liquid crystal compound is oriented in a direction perpendicular to a support substrate.

예컨대, 유기 일렉트로루미네선스 디스플레이에 이용되는 광학 필름으로서는, 제1 형태, 제2 형태, 제5 형태가 적합하게 이용된다. 또는 이들을 적층시켜 이용하여도 좋다.For example, as an optical film used in an organic electroluminescence display, the first form, second form, and fifth form are suitably used. Alternatively, they may be used by stacking them.

위상차 필름이, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로 이루어지는 층(이하, 「광학 이방성 층」이라고 부르는 경우가 있음)인 경우, 위상차 필름은 역파장 분산성을 갖는 것이 바람직하다. 역파장 분산성이란, 단파장에서의 액정 배향 면내 위상차값 쪽이 장파장에서의 액정 배향 면내 위상차값보다 작아지는 광학 특성이며, 바람직하게는, 위상차 필름이 하기 식 (7) 및 식 (8)을 만족하는 것이다. 또한, Re(λ)는 파장 λ ㎚의 광에 대한 면내 위상차값을 나타낸다.When the retardation film is a layer made of a polymer in the aligned state of a polymerizable liquid crystal compound (hereinafter sometimes referred to as an “optical anisotropic layer”), the retardation film preferably has reverse wavelength dispersion. Inverse wavelength dispersion is an optical characteristic in which the liquid crystal orientation in-plane retardation value at a short wavelength is smaller than the liquid crystal orientation in-plane retardation value at a long wavelength, and preferably, the retardation film satisfies the following equations (7) and (8). It is done. Additionally, Re(λ) represents the in-plane retardation value for light with a wavelength of λ nm.

Re(450)/Re(550)≤1 (7)Re(450)/Re(550)≤1 (7)

1≤Re(630)/Re(550) (8)1≤Re(630)/Re(550) (8)

본 발명의 광학 필름에 있어서, 위상차 필름이 제1 형태이며 또한 역파장 분산성을 갖는 경우, 표시 장치에서의 흑표시 시의 착색이 저감하기 때문에 바람직하고, 상기 식 (7)에 있어서 0.82≤Re(450)/Re(550)≤0.93이면 보다 바람직하다. 더욱 120≤Re(550)≤150이 바람직하다.In the optical film of the present invention, when the retardation film is of the first type and has reverse wavelength dispersion, it is preferable because coloring during black display in a display device is reduced, and in the above equation (7), 0.82≤Re It is more preferable if (450)/Re(550)≤0.93. Furthermore, 120≤Re(550)≤150 is preferable.

위상차 필름이, 광학 이방성 층을 갖는 필름인 경우의 중합성 액정 화합물로서는, 액정 편람(액정 편람 편집 위원회 편저, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 「3.8.6 네트워크(완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물 중에서 중합성기를 갖는 화합물과, 일본 특허 공개 제2010-31223호 공보, 일본 특허 공개 제2010-270108호 공보, 일본 특허 공개 제2011-6360호 공보, 일본 특허 공개 제2011-207765호 공보, 일본 특허 공개 제2011-162678호, 일본 특허 공개 제2016-81035호 공보, 국제 공개 제2017/043438호 공보 및 일본 특허 공표 제2011-207765호 공보에 기재된 중합성 액정 화합물을 들 수 있다.As a polymerizable liquid crystal compound in the case where the retardation film is a film having an optically anisotropic layer, “3.8.6 Network (fully cross-linked)” in the Liquid Crystal Handbook (edited by the Liquid Crystal Handbook Editorial Committee, published by Maruzen Co., Ltd. on October 30, 2000) type)”, “6.5.1 Liquid crystal material b. Among the compounds described in “Polymerizable nematic liquid crystal materials,” compounds having a polymerizable group, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-31223, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-270108, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-6360, and Japanese Patents Polymerizable liquid crystals described in Publication No. 2011-207765, Japanese Patent Application Publication No. 2011-162678, Japanese Patent Application Publication No. 2016-81035, International Publication No. 2017/043438, and Japanese Patent Application Publication No. 2011-207765 Compounds may be mentioned.

중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로부터 위상차 필름을 제조하는 방법은, 예컨대, 일본 특허 공개 제2010-31223호 공보에 기재된 방법을 들 수 있다.Examples of the method for producing a retardation film from a polymer in the aligned state of the polymerizable liquid crystal compound include the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-31223.

제2 형태의 경우, 정면 위상차값[Re(550)]은 0∼10 ㎚의 범위로, 바람직하게는 0∼5 ㎚의 범위로 조정하면 좋고, 두께 방향의 위상차값(R_th)은, -10∼-300 ㎚의 범위로, 바람직하게는 -20∼-200 ㎚의 범위로 조정하면 좋다. 두께 방향의 굴절률 이방성을 의미하는 두께 방향의 위상차값(R_th)은, 면내의 진상축(進相軸)을 경사축으로 하여 50도 경사시켜 측정되는 위상차값(R₅₀)과 면내의 위상차값(R₀)으로부터 산출할 수 있다. 즉, 두께 방향의 위상차값(R_th)은, 면내의 위상차값(R₀), 진상축을 경사축으로 하여 50도 경사시켜 측정한 위상차값(R₅₀), 위상차 필름의 두께(d) 및 위상차 필름의 평균 굴절률(n₀)로부터, 이하의 식 (10)∼(12)에 따라 n_x, n_y 및 n_z를 구하고, 이들을 식 (9)에 대입하여, 산출할 수 있다.In the case of the second form, the front retardation value [Re(550)] may be adjusted to the range of 0 to 10 nm, preferably 0 to 5 nm, and the retardation value in the thickness direction (R _th ) is - It may be adjusted within the range of 10 to -300 nm, preferably within the range of -20 to -200 nm. The phase difference value (R _th ) in the thickness direction, which means the refractive index anisotropy in the thickness direction, is the phase difference value (R ₅₀ ) and the phase difference value in the plane measured by tilting the in-plane fast axis as the inclination axis by 50 degrees. It can be calculated from (R ₀ ). That is, the phase difference value in the thickness direction (R _th ) is the in-plane phase difference value (R ₀ ), the phase difference value measured by tilting the fast axis by 50 degrees with the tilt axis (R ₅₀ ), the thickness (d) of the phase difference film, and the phase difference From the average refractive _index ₍ n ₀ ) of the film, _n

R_th=[(n_x+n_y)/2-n_z]×d (9)R _th =[(n _x +n _y )/2-n _z ]×d (9)

R₀=(n_x-n_y)×d (10)R ₀ =(n _x -n _y )×d (10)

R₅₀=(n_x-n_y')×d/cos(φ) (11)R ₅₀ =(n _x -n _y ')×d/cos(ϕ) (11)

(n_x+n_y+n_z)/3=n₀ (12)(n _x +n _y +n _z )/3=n ₀ (12)

여기서,here,

φ=sin^-1〔sin(40°)/n₀〕ϕ=sin ^-1 〔sin(40°)/n ₀ 〕

n_y'=n_y×n_z/〔n_y ²×sin²(φ)+n_z ²×cos²(φ)〕^1/2 n _y '=n _y ×n _z /〔n _y ² ×sin ² (ϕ)+n _z ² ×cos ² (ϕ)〕 ^1/2

위상차 필름은, 2 이상의 층을 갖는 다층 필름이어도 좋다. 예컨대, 위상차 필름의 편면 또는 양면에 보호 필름이 적층된 것이나, 2 이상의 위상차 필름이 점착제 또는 접착제를 통해 적층된 것을 들 수 있다.The retardation film may be a multilayer film having two or more layers. For example, a protective film is laminated on one or both sides of a retardation film, or two or more retardation films are laminated using an adhesive or adhesive.

광학 필름(40)이 2 이상의 위상차 필름이 적층된 다층 필름인 경우, 본 발명의 광학 필름을 포함하는 광학 적층체의 구성으로서는, 도 4에 나타낸 바와 같이, 투과광에 1/4 파장분의 위상차를 부여하는 1/4 파장 위상차층(50)과 투과광에 1/2 파장분의 위상차를 부여하는 1/2 파장 위상차층(70)을, 접착제 또는 점착제(60)를 통해 적층한 광학 필름(40)을 포함하는 구성을 들 수 있다. 또한, 도 5에 나타낸 바와 같이, 1/4 파장 위상차층(50a)과 포지티브 C층(80)을, 접착제층 또는 점착제층을 통해 적층한 광학 필름(40)을 포함하는 구성도 들 수 있다.When the optical film 40 is a multilayer film in which two or more retardation films are laminated, the configuration of the optical laminate including the optical film of the present invention includes a phase difference of 1/4 wavelength to transmitted light, as shown in FIG. 4. An optical film 40 in which a 1/4 wavelength retardation layer 50 that provides a phase difference of 1/2 wavelength and a 1/2 wavelength retardation layer 70 that provides a 1/2 wavelength retardation to transmitted light are laminated through an adhesive or adhesive 60. A configuration containing a may be mentioned. In addition, as shown in FIG. 5, there is also a configuration including an optical film 40 in which a 1/4 wavelength retardation layer 50a and a positive C layer 80 are laminated through an adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer.

도 4의 1/4 파장분의 위상차를 부여하는 1/4 파장 위상차층(50) 및 투과광에 1/2 파장분의 위상차를 부여하는 1/2 파장 위상차층(70)은 상기 제1 형태의 광학 필름이어도 제5 형태의 광학 필름이어도 좋다. 도 4의 구성의 경우, 적어도 한쪽이 제5 형태인 것이 보다 바람직하다.The 1/4 wavelength retardation layer 50, which provides a phase difference of 1/4 wavelength in FIG. 4, and the 1/2 wavelength retardation layer 70, which provides a phase difference of 1/2 wavelength to transmitted light, are of the first form above. It may be an optical film or an optical film of the fifth aspect. In the case of the configuration in Fig. 4, it is more preferable that at least one side is in the fifth form.

도 5의 구성의 경우, 1/4 파장 위상차층(50a)은 상기 제1 형태의 광학 필름인 것이 바람직하고, 또한 식 (7), 식 (8)을 만족하는 것이 보다 바람직하다.In the case of the configuration in FIG. 5, the 1/4 wavelength retardation layer 50a is preferably an optical film of the first type described above, and more preferably satisfies Equations (7) and (8).

〔편광 필름〕[Polarizing film]

편광 필름은, 자연광으로부터 어떤 일방향의 직선 편광을 선택적으로 투과하는 기능을 갖는 필름이다. 예컨대, 폴리비닐알코올계 수지 필름에 2색성 색소로서의 요오드를 흡착·배향시킨 요오드계 편광 필름, 폴리비닐알코올계 수지 필름에 2색성 색소로서의 2색성 염료를 흡착·배향시킨 염료계 편광 필름 및 리오트로픽 액정 상태의 2색성 염료를 코팅하여, 배향·고정화한 도포형 편광 필름 등을 들 수 있다. 이들 편광 필름은, 자연광으로부터 어떤 일방향의 직선 편광을 선택적으로 투과하고, 다른 일방향의 직선 편광을 흡수하기 때문에 흡수형 편광 필름이라고 부르고 있다. 편광 필름은, 흡수형 편광 필름에 한정되지 않고, 자연광으로부터 어떤 일방향의 직선 편광을 선택적으로 투과하고, 다른 일방향의 직선 편광을 반사하는 반사형 편광 필름, 또는 다른 일방향의 직선 편광을 산란하는 산란형 편광 필름이어도 상관없지만, 시인성이 우수한 점에서 흡수형 편광 필름이 바람직하다. 그 중에서도, 폴리비닐알코올계 수지로 구성되는 폴리비닐알코올계 편광 필름이 보다 바람직하고, 폴리비닐알코올계 수지 필름에 요오드나 2색성 염료 등의 2색성 색소를 흡착·배향시킨 폴리비닐알코올계 편광 필름이 더욱 바람직하고, 폴리비닐알코올계 수지 필름에 요오드를 흡착·배향시킨 폴리비닐알코올계 편광 필름이 특히 바람직하다.A polarizing film is a film that has the function of selectively transmitting linearly polarized light in a certain direction from natural light. For example, an iodine-based polarizing film in which iodine as a dichroic dye is adsorbed and oriented on a polyvinyl alcohol-based resin film, a dye-based polarizing film in which iodine as a dichroic dye is adsorbed and oriented in a polyvinyl alcohol-based resin film, and lyotropic film. Examples include a coated polarizing film coated with a dichroic dye in a liquid crystal state and oriented and fixed. These polarizing films are called absorption-type polarizing films because they selectively transmit linearly polarized light in one direction from natural light and absorb linearly polarized light in another direction. The polarizing film is not limited to an absorption type polarizing film, but a reflective polarizing film that selectively transmits linearly polarized light in one direction from natural light and reflects linearly polarized light in another direction, or a scattering type that scatters linearly polarized light in another direction. It may be a polarizing film, but an absorption-type polarizing film is preferable because it has excellent visibility. Among them, a polyvinyl alcohol-based polarizing film composed of a polyvinyl alcohol-based resin is more preferable, and a polyvinyl alcohol-based polarizing film in which a dichroic dye such as iodine or a dichroic dye is adsorbed and oriented on a polyvinyl alcohol-based resin film. This is more preferable, and a polyvinyl alcohol-based polarizing film in which iodine is adsorbed and oriented on a polyvinyl alcohol-based resin film is particularly preferable.

폴리비닐알코올계 편광 필름을 구성하는 폴리비닐알코올계 수지로서는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화한 것을 이용할 수 있다. 폴리아세트산비닐계 수지로서는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외에, 아세트산비닐과 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체 등을 들 수 있다. 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체의 예는, 불포화 카르복실산류, 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화술폰산류 및 암모늄기를 갖는 (메타)아크릴아미드류 등을 포함한다.As the polyvinyl alcohol-based resin constituting the polyvinyl alcohol-based polarizing film, saponified polyvinyl acetate-based resin can be used. Examples of the polyvinyl acetate-based resin include polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, as well as copolymers of other monomers that can be copolymerized with vinyl acetate. Examples of other monomers copolymerizable with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, and (meth)acrylamides having an ammonium group.

폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는 통상, 85∼100 ㏖％ 정도이고, 98 ㏖％ 이상이 바람직하다. 폴리비닐알코올계 수지는 변성되어 있어도 좋고, 예컨대, 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말 또는 폴리비닐아세탈 등을 이용할 수도 있다. 폴리비닐알코올계 수지의 평균 중합도는 통상, 1000∼10000 정도이고, 1500∼5000 정도가 바람직하다. 폴리비닐알코올계 수지의 평균 중합도는, JIS K 6726에 준거하여 구할 수 있다.The saponification degree of the polyvinyl alcohol-based resin is usually about 85 to 100 mol%, and is preferably 98 mol% or more. The polyvinyl alcohol-based resin may be modified, and for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes may be used. The average degree of polymerization of polyvinyl alcohol-based resin is usually about 1,000 to 10,000, and is preferably about 1,500 to 5,000. The average degree of polymerization of the polyvinyl alcohol-based resin can be determined based on JIS K 6726.

이러한 폴리비닐알코올계 수지를 막 제조한 것이, 편광 필름의 원반 필름으로서 이용된다. 폴리비닐알코올계 수지를 막 제조하는 방법은, 특별히 한정되는 것이 아니며, 공지의 방법이 채용된다. 폴리비닐알코올계 원반 필름의 두께는, 예컨대 150 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 100 ㎛ 이하(예컨대 50 ㎛ 이하)이다.This polyvinyl alcohol-based resin film is used as a raw film for a polarizing film. The method for producing a polyvinyl alcohol-based resin film is not particularly limited, and known methods are employed. The thickness of the polyvinyl alcohol-based raw film is, for example, 150 μm or less, and is preferably 100 μm or less (for example, 50 μm or less).

편광 필름은, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 일축 연신하는 공정; 폴리비닐알코올계 수지 필름을 2색성 색소로 염색함으로써 2색성 색소를 흡착시키는 공정; 2색성 색소가 흡착된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 붕산 수용액으로 처리(가교 처리)하는 공정; 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정을 포함하는 방법에 따라 제조할 수 있다.A polarizing film includes a process of uniaxially stretching a polyvinyl alcohol-based resin film; A process of adsorbing a dichroic dye by dyeing a polyvinyl alcohol-based resin film with a dichroic dye; A process of treating (crosslinking) a polyvinyl alcohol-based resin film to which a dichroic dye is adsorbed with an aqueous boric acid solution; and a step of washing with water after treatment with an aqueous solution of boric acid.

폴리비닐알코올계 수지 필름의 일축 연신은, 2색성 색소의 염색 전, 염색과 동시, 또는 염색 후에 행할 수 있다. 일축 연신을 염색 후에 행하는 경우, 이 일축 연신은, 붕산 처리의 전 또는 붕산 처리 중에 행하여도 좋다. 또한, 이들 복수의 단계에서 일축 연신을 행하여도 좋다.Uniaxial stretching of the polyvinyl alcohol-based resin film can be performed before, simultaneously with, or after dyeing with a dichroic dye. When uniaxial stretching is performed after dyeing, this uniaxial stretching may be performed before or during boric acid treatment. Additionally, uniaxial stretching may be performed in these plural steps.

일축 연신에 있어서는, 주속이 상이한 롤 사이에서 일축으로 연신하여도 좋고, 열 롤을 이용하여 일축으로 연신하여도 좋다. 또한 일축 연신은, 대기 중에서 연신을 행하는 건식 연신이어도 좋고, 용제나 물을 이용하여 폴리비닐알코올계 수지 필름을 팽윤시킨 상태로 연신을 행하는 습식 연신이어도 좋다. 연신 배율은 통상, 3∼8배 정도이다.In uniaxial stretching, the material may be stretched uniaxially between rolls with different peripheral speeds, or it may be stretched uniaxially using hot rolls. In addition, uniaxial stretching may be dry stretching in which stretching is performed in the air, or wet stretching in which stretching is performed in a state in which the polyvinyl alcohol-based resin film is swollen using a solvent or water. The stretching ratio is usually about 3 to 8 times.

폴리비닐알코올계 수지 필름을 2색성 색소로 염색하는 방법으로서는, 예컨대, 그 필름을 2색성 색소가 함유된 수용액에 침지하는 방법이 채용된다. 2색성 색소로서는, 요오드나 2색성 유기 염료가 이용된다. 또한, 폴리비닐알코올계 수지 필름은, 염색 처리 전에 물에의 침지 처리를 실시해 두는 것이 바람직하다.As a method of dyeing a polyvinyl alcohol-based resin film with a dichroic dye, for example, a method of immersing the film in an aqueous solution containing a dichroic dye is adopted. As a dichroic dye, iodine or a dichroic organic dye is used. In addition, it is preferable to immerse the polyvinyl alcohol-based resin film in water before dyeing treatment.

요오드에 의한 염색 처리로서는 통상, 요오드 및 요오드화칼륨을 함유하는 수용액에, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 침지하는 방법이 채용된다. 이 수용액에 있어서의 요오드의 함유량은, 물 100 중량부당 0.01∼1 중량부 정도일 수 있다. 요오드화칼륨의 함유량은, 물 100 중량부당 0.5∼20 중량부 정도일 수 있다. 또한, 이 수용액의 온도는, 20∼40℃ 정도일 수 있다. 한편, 2색성 유기 염료에 의한 염색 처리로서는 통상, 2색성 유기 염료를 함유하는 수용액에, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 침지하는 방법이 채용된다. 2색성 유기 염료를 함유하는 수용액은, 황산나트륨 등의 무기염을 염색 조제로서 함유하고 있어도 좋다. 이 수용액에 있어서의 2색성 유기 염료의 함유량은, 물 100 중량부당 1×10^-4∼10 중량부 정도일 수 있다. 이 수용액의 온도는, 20∼80℃ 정도일 수 있다.As a dyeing treatment with iodine, a method of immersing a polyvinyl alcohol-based resin film in an aqueous solution containing iodine and potassium iodide is usually adopted. The iodine content in this aqueous solution may be about 0.01 to 1 part by weight per 100 parts by weight of water. The content of potassium iodide may be about 0.5 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of water. Additionally, the temperature of this aqueous solution may be about 20 to 40°C. On the other hand, as a dyeing treatment with a dichroic organic dye, a method of immersing a polyvinyl alcohol-based resin film in an aqueous solution containing a dichroic organic dye is usually adopted. The aqueous solution containing the dichroic organic dye may contain an inorganic salt such as sodium sulfate as a dyeing aid. The content of the dichroic organic dye in this aqueous solution may be about 1×10 ^-4 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of water. The temperature of this aqueous solution may be about 20 to 80°C.

2색성 색소에 의한 염색 후의 붕산 처리로서는 통상, 염색된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 붕산 함유 수용액에 침지하는 방법이 채용된다. 2색성 색소로서 요오드를 이용하는 경우, 이 붕산 함유 수용액은, 요오드화칼륨을 함유하는 것이 바람직하다. 붕산 함유 수용액에 있어서의 붕산의 양은, 물 100 중량부당 2∼15 중량부 정도일 수 있다. 이 수용액에 있어서의 요오드화칼륨의 양은, 물 100 중량부당 0.1∼20 중량부 정도일 수 있다. 이 수용액의 온도는, 50℃ 이상일 수 있고, 예컨대 50∼85℃이다.As boric acid treatment after dyeing with a dichroic dye, a method of immersing the dyed polyvinyl alcohol-based resin film in an aqueous solution containing boric acid is usually adopted. When using iodine as a dichroic dye, it is preferable that the boric acid-containing aqueous solution contains potassium iodide. The amount of boric acid in the aqueous solution containing boric acid may be about 2 to 15 parts by weight per 100 parts by weight of water. The amount of potassium iodide in this aqueous solution may be about 0.1 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of water. The temperature of this aqueous solution may be 50°C or higher, for example, 50 to 85°C.

붕산 처리 후의 폴리비닐알코올계 수지 필름은 통상, 수세 처리된다. 수세 처리는, 예컨대, 붕산 처리된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 물에 침지함으로써 행할 수 있다. 수세 처리에 있어서의 물의 온도는 통상, 5∼40℃ 정도이다. 수세 후에 건조 처리를 행하여, 편광 필름(30)이 얻어진다. 건조 처리는, 열풍 건조기나 원적외선 히터를 이용하여 행할 수 있다. 이 편광 필름의 편면 또는 양면에 보호 필름 등으로서의 열가소성 수지 필름을 경화성 접착제 조성물 등을 이용하여 접합함으로써, 편광판을 얻을 수 있다.The polyvinyl alcohol-based resin film after boric acid treatment is usually washed with water. The water washing treatment can be performed, for example, by immersing the polyvinyl alcohol-based resin film treated with boric acid in water. The temperature of the water in the water washing process is usually about 5 to 40 degrees Celsius. After washing with water, a drying treatment is performed, and the polarizing film 30 is obtained. Drying treatment can be performed using a hot air dryer or far-infrared heater. A polarizing plate can be obtained by bonding a thermoplastic resin film as a protective film to one or both sides of this polarizing film using a curable adhesive composition or the like.

또한, 편광 필름의 제조 방법의 다른 예로서, 예컨대, 일본 특허 공개 제2000-338329호 공보나 일본 특허 공개 제2012-159778호 공보에 기재된 방법을 들 수 있다.Moreover, as another example of the manufacturing method of a polarizing film, the method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-338329 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-159778 is mentioned, for example.

편광 필름의 두께는, 40 ㎛ 이하로 할 수 있고, 바람직하게는 30 ㎛ 이하(예컨대 20 ㎛ 이하, 더욱 15 ㎛ 이하, 또한 더욱 10 ㎛ 이하)이다. 일본 특허 공개 제2000-338329호 공보나 일본 특허 공개 제2012-159778호 공보에 기재된 방법에 따르면, 박막의 편광 필름(30)을 보다 용이하게 제조할 수 있어, 편광 필름(30)의 두께를, 예컨대 20 ㎛ 이하, 더욱 15 ㎛ 이하, 또한 더욱 10 ㎛ 이하로 하는 것이 보다 용이해진다. 편광 필름(30)의 두께는, 통상 2 ㎛ 이상이다. 편광 필름의 두께를 작게 하는 것은, 편광판, 나아가서는 화상 표시 장치의 박형화에 유리하다.The thickness of the polarizing film can be 40 μm or less, and is preferably 30 μm or less (eg, 20 μm or less, further 15 μm or less, further 10 μm or less). According to the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-338329 or Japanese Patent Application Publication No. 2012-159778, the thin polarizing film 30 can be more easily manufactured, and the thickness of the polarizing film 30 can be reduced to For example, it becomes easier to set it to 20 μm or less, further 15 μm or less, and further 10 μm or less. The thickness of the polarizing film 30 is usually 2 μm or more. Reducing the thickness of the polarizing film is advantageous for reducing the thickness of the polarizing plate and, by extension, the image display device.

편광판의 바람직한 구성으로서는, 편광 필름의 적어도 한쪽의 면에 접착제층을 통해 보호 필름이 적층된 편광판이다. 보호 필름이 편광 필름의 한쪽의 면밖에 적층되지 않는 경우, 시인측(패널과 역측)에 적층되는 것이 보다 바람직하다. 시인측에 적층된 보호 필름은, 트리아세틸셀룰로오스계 수지 또는 시클로올레핀계 수지로 이루어지는 보호 필름인 것이 바람직하다. 보호 필름은 미연신 필름이어도 좋고, 임의의 방향으로 연신되어 위상차를 가지고 있어도 좋다. 시인측에 적층된 보호 필름의 표면에는 하드 코트층이나 안티글레어층 등의 표면 처리층이 마련되어 있어도 좋다. 상기 표면 처리층이, 본 발명에 있어서의 광 선택 흡수층이어도 좋다.A preferable structure of the polarizing plate is a polarizing plate in which a protective film is laminated on at least one side of the polarizing film through an adhesive layer. When the protective film is laminated on only one side of the polarizing film, it is more preferable to be laminated on the viewing side (the side opposite to the panel). The protective film laminated on the viewing side is preferably a protective film made of triacetylcellulose resin or cycloolefin resin. The protective film may be an unstretched film or may be stretched in an arbitrary direction to have a phase difference. A surface treatment layer such as a hard coat layer or an anti-glare layer may be provided on the surface of the protective film laminated on the viewing side. The surface treatment layer may be the light selective absorption layer in the present invention.

보호 필름이 편광 필름의 양면에 적층되는 경우, 패널측(시인측과 반대측)의 보호 필름은, 트리아세틸셀룰로오스계 수지, 시클로올레핀계 수지 또는 아크릴계 수지로 이루어지는 보호 필름 또는 위상차 필름인 것이 바람직하다. 위상차 필름은 후술하는 제로 리타데이션 필름이어도 좋다.When a protective film is laminated on both sides of a polarizing film, the protective film on the panel side (opposite to the viewing side) is preferably a protective film or retardation film made of triacetylcellulose resin, cycloolefin resin, or acrylic resin. The retardation film may be a zero retardation film described later.

편광판과 패널 사이에는, 또한 그 외의 층 또는 필름이 적층되어 있어도 좋다. 유기 EL 디스플레이용의 원 편광판으로서 이용하는 경우는, 1/4 파장 위상차층과 1/2 파장 위상차층을 갖는 위상차층, 후술하는 역파장 분산성의 1/4 파장층이 적층되어 있는 것이 바람직하다. 위상차층은 박막화의 관점에서 액정계 위상차 필름인 것이 바람직하다.Another layer or film may be further laminated between the polarizing plate and the panel. When used as a circular polarizing plate for an organic EL display, it is preferable that a retardation layer having a 1/4 wavelength retardation layer, a 1/2 wavelength retardation layer, and a 1/4 wavelength layer with reverse wavelength dispersion described later are laminated. The retardation layer is preferably a liquid crystal retardation film from the viewpoint of thinning.

<광 선택 흡수층의 제조 방법><Method for manufacturing light selective absorption layer>

활성 에너지선 경화성 조성물을, 상기 수지 필름(a) 상에 도포하여 도막을 형성하고, 필요에 따라 건조시킨 후, 상기 도막을 경화시킴으로써, 광 선택 흡수층을 형성할 수 있어, 본 발명의 광학 필름을 제조할 수 있다. 활성 에너지선 경화성 조성은, 그 성분에 따라, 접착 기능을 갖는 경우가 있다.The active energy ray-curable composition is applied on the resin film (a) to form a coating film, dried as necessary, and then cured, thereby forming a light selective absorption layer, thereby forming the optical film of the present invention. It can be manufactured. Depending on its components, the active energy ray-curable composition may have an adhesive function.

활성 에너지선 경화성 조성물을 도포하여 도막을 형성하는 방법으로서는, 예컨대, 스핀 코트법, 딥법, 스프레이법, 다이 코트법, 바 코트법, 롤 코터법, 메니스커스 코터법, 플렉소 인쇄법, 스크린 인쇄법, 비드 코터법 등의 공지의 각종 방법을 들 수 있다.Methods for forming a coating film by applying an active energy ray curable composition include, for example, spin coat method, dip method, spray method, die coat method, bar coat method, roll coater method, meniscus coater method, flexo printing method, and screen method. Various known methods such as a printing method and a bead coater method can be mentioned.

건조의 방법으로서는 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로 건조 온도 30∼80℃에서, 건조 시간 3∼120초로 행하면 좋다. 상기 건조 온도가 30℃ 미만이면, 표면 처리 필름의 제조에 장시간을 요하고, 또한, 제조 비용이 비싸지는 경우가 있다. 한편, 상기 건조 온도가 80℃를 넘으면, 표면 처리 필름의 제조 비용이 비싸지는 문제가 있고, 또한, 개시제, 용제 등이 건조로 내 등에 부착하여 외관을 악화시킬 우려가 있다. 또한, 상기 건조 시간이 3초 미만이면, 기재 필름과 표면 처리층의 밀착성이 뒤떨어지거나, 간섭 무늬가 발생하거나 하는 경우가 있다. 한편, 상기 건조 시간이 120초를 넘으면, 상기 도막의 건조에 장시간을 요하여, 제조 비용이 비싸지는 경우가 있다.The drying method is not particularly limited, but generally, it can be carried out at a drying temperature of 30 to 80°C and a drying time of 3 to 120 seconds. If the drying temperature is less than 30°C, a long time may be required to manufacture the surface treatment film, and the manufacturing cost may be high. On the other hand, if the drying temperature exceeds 80°C, there is a problem that the manufacturing cost of the surface treatment film becomes expensive, and there is also a risk that initiators, solvents, etc. may adhere to the inside of the drying furnace and deteriorate the appearance. Additionally, if the drying time is less than 3 seconds, the adhesion between the base film and the surface treatment layer may be poor, or interference patterns may occur. On the other hand, if the drying time exceeds 120 seconds, a long time is required to dry the coating film, and the manufacturing cost may become expensive.

활성 에너지선 조사 강도는, 경화성 조성물마다 결정되지만, 광 중합 개시제의 활성화에 유효한 파장 영역의 광 조사 강도가 0.1∼1000 ㎽/㎠가 되도록 하는 것이 바람직하다. 광 조사 강도가 지나치게 작으면, 반응 시간이 길어지고, 한편으로 그 광 조사 강도가 지나치게 크면, 램프로부터 복사되는 열 및 경화성 조성물의 중합 시의 발열에 의해, 경화층의 황변이나 편광 필름의 열화, 또는 보호 필름의 표면 불량을 발생시킬 가능성이 있다. 또한, 경화성 조성물에의 광 조사 시간도, 경화성 조성물마다 제어되지만, 광 조사 강도와 광 조사 시간의 곱으로서 나타나는 적산 광량이 10∼5000 mJ/㎠가 되도록 설정되는 것이 바람직하다. 적산 광량이 지나치게 작으면, 광 중합 개시제 유래의 활성종의 발생이 충분하지 않아, 얻어지는 경화층의 경화가 불충분해질 가능성이 있고, 한편으로 그 적산 광량이 지나치게 크면, 광 조사 시간이 매우 길어져 생산성 향상에는 불리해지기 쉽다.The active energy ray irradiation intensity is determined for each curable composition, but it is preferable that the light irradiation intensity in the wavelength range effective for activating the photopolymerization initiator is 0.1 to 1000 mW/cm2. If the light irradiation intensity is too small, the reaction time becomes long. On the other hand, if the light irradiation intensity is too large, the heat radiated from the lamp and the heat generated during polymerization of the curable composition cause yellowing of the cured layer, deterioration of the polarizing film, Alternatively, there is a possibility that surface defects of the protective film may occur. In addition, the light irradiation time to the curable composition is also controlled for each curable composition, but it is preferably set so that the accumulated light amount expressed as the product of the light irradiation intensity and the light irradiation time is 10 to 5000 mJ/cm2. If the accumulated light amount is too small, the generation of active species derived from the photopolymerization initiator is not sufficient, and curing of the resulting cured layer may become insufficient. On the other hand, if the accumulated light amount is too large, the light irradiation time becomes very long, thereby improving productivity. It is easy to be at a disadvantage.

(표시 장치)(display device)

본 발명의 광학 필름은, 유기 EL 소자, 액정 셀 등의 표시 소자에 적층시켜, 유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치 등의 표시 장치(FPD: 플랫 패널 디스플레이)에 이용할 수 있다.The optical film of the present invention can be laminated on a display element such as an organic EL element or a liquid crystal cell and used in a display device (FPD: flat panel display) such as an organic EL display device or a liquid crystal display device.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예를 나타내어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이들 예에 의해 한정되는 것이 아니다. 예 중, 함유량 내지 사용량을 나타내는 ％ 및 부는, 특별히 언급이 없는 한 중량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by referring to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, % and parts indicating content or usage are based on weight unless otherwise specified.

<광 선택 흡수성 화합물의 합성><Synthesis of light-selective absorbing compounds>

[합성예 1] 광 선택 흡수성 화합물 (1)의 합성[Synthesis Example 1] Synthesis of light selective absorption compound (1)

딤로드 냉각관, 온도계를 설치한 200 mL-4구 플라스크 내를 질소 분위기로 하여, 특허문헌(일본 특허 공개 제2014-194508)을 참고로 합성한 식 (aa)로 나타내는 화합물 10 g, 무수아세트산(와코쥰야쿠고교 가부시키가이샤 제조) 3.6 g, 시아노아세트산2-에틸헥실(도쿄가세이고교 가부시키가이샤 제조) 6.9 g 및 아세토니트릴(와코쥰야쿠고교 가부시키가이샤 제조) 60 g을 넣고, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 내부 온도 25℃에서 DIPEA(도쿄가세이고교 가부시키가이샤 제조) 4.5 g을 적하 깔때기로부터 1시간 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후에 내부 온도 25℃로 더욱 2시간 보온하였다. 반응 종료 후, 감압 증발기를 이용하여 아세토니트릴을 제거하고, 컬럼 크로마토그래피(실리카 겔)에 제공하여 정제하고, 식 (aa1)로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물을 포함하는 유출액을, 감압 증발기를 이용하여 용매를 제거하여, 황색 결정을 얻었다. 상기 결정을 60℃ 감압 건조함으로써, 황색 분말로 하여 식 (aa1)로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물 (1)을 4.6 g 얻었다. 수율은 50％였다.10 g of a compound represented by formula (aa) synthesized with reference to the patent document (Japanese Patent Publication No. 2014-194508) in a nitrogen atmosphere in a 200 mL-4-neck flask equipped with a dimrod cooling pipe and a thermometer, acetic anhydride Add 3.6 g (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 2-ethylhexyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 6.9 g, and 60 g of acetonitrile (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), It was stirred with a magnetic stirrer. At an internal temperature of 25°C, 4.5 g of DIPEA (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise over 1 hour from a dropping funnel, and after the dropwise addition was completed, the temperature was kept at an internal temperature of 25°C for an additional 2 hours. After completion of the reaction, acetonitrile was removed using a reduced pressure evaporator, purified by subjecting to column chromatography (silica gel), and the effluent containing the photoselective absorbing compound represented by formula (aa1) was purified using a reduced pressure evaporator. was removed to obtain yellow crystals. By drying the crystals under reduced pressure at 60°C, 4.6 g of light selective absorption compound (1) represented by formula (aa1) was obtained as a yellow powder. The yield was 50%.

¹H-NMR 해석을 행한 바, 이하의 피크가 관측되었기 때문에, 광 선택 흡수성 화합물 1이 생성된 것이 확인되었다. ¹ H-NMR analysis was performed, and the following peaks were observed, confirming that the photoselective absorption compound 1 was produced.

¹H-NMR(CDCl3)δ: 0.87-0.94(m, 6H), 1.32-1.67(m, 8H), 1.59-1.66(m, 2H), 2.09(quin, 2H), 3.00(m, 5H), 3.64(t, 2H), 4.10(dd, 2H), 5.52(d, 2H), 7.87(d, 2H) ¹ H-NMR(CDCl3)δ: 0.87-0.94 (m, 6H), 1.32-1.67 (m, 8H), 1.59-1.66 (m, 2H), 2.09 (quin, 2H), 3.00 (m, 5H), 3.64(t, 2H), 4.10(dd, 2H), 5.52(d, 2H), 7.87(d, 2H)

<그램 흡광 계수(ε) 측정><Measurement of gram extinction coefficient (ε)>

얻어진 광 선택 흡수성 화합물 (1)의 그램 흡광 계수를 측정하기 위해, 광 선택 흡수성 화합물 (1)을 2-부타논에 용해시켰다. 얻어진 용액(농도; 0.006 g·L^-1)을 1 ㎝의 석영 셀에 넣고, 석영 셀을 분광 광도계 UV-2450(가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼 제조)에 셋트하고, 더블빔법에 따라 1 ㎚ 스텝 300∼800 ㎚의 파장 범위에서 흡광도를 측정하였다. 얻어진 흡광도의 값과, 용액 중의 광 흡수성 화합물 농도, 석영 셀의 광로 길이로부터, 파장마다의 그램 흡광 계수를 하기 식을 이용하여 산출하였다.To measure the gram extinction coefficient of the obtained photoselective absorption compound (1), the photoselective absorption compound (1) was dissolved in 2-butanone. The obtained solution (concentration: 0.006 g·L ^-1 ) was placed in a 1 cm quartz cell, the quartz cell was set on a spectrophotometer UV-2450 (manufactured by Shimadzu Corporation), and the double beam method was used in steps of 1 nm. Absorbance was measured in the wavelength range of 300 to 800 nm. From the obtained absorbance value, the light-absorbing compound concentration in the solution, and the optical path length of the quartz cell, the gram extinction coefficient for each wavelength was calculated using the following equation.

ε(λ)=A(λ)/CLε(λ)=A(λ)/CL

〔식 중, ε(λ)는 파장 λ ㎚에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수[L/(g·㎝)]를 나타내고, A(λ)는 파장 λ ㎚에 있어서의 흡광도를 나타내고, C는 농도(g/L)를 나타내고, L은 석영 셀의 광로 길이(㎝)를 나타낸다.〕[In the formula, ε(λ) represents the gram extinction coefficient [L/(g·cm)] of the compound at the wavelength λ nm, A(λ) represents the absorbance at the wavelength λ nm, and C is the concentration. (g/L), and L represents the optical path length (cm) of the quartz cell.]

광 선택 흡수성 화합물 (1)의 흡수 극대 파장(λmax)을 측정한 바, λmax=389 ㎚(2-부타논 중)이고, ε(405)의 값은 47 L/(g·㎝)이고, ε(440)의 값은 0.1 L/(g·㎝) 이하이고, ε(405)/ε(440)의 값은 80 이상이었다.The absorption maximum wavelength (λmax) of the photoselective absorptive compound (1) was measured, and λmax = 389 nm (in 2-butanone), the value of ε (405) was 47 L/(g·cm), and ε The value of (440) was 0.1 L/(g·cm) or less, and the value of ε(405)/ε(440) was 80 or more.

[합성예 2] 광 선택 흡수성 화합물 (2)의 합성[Synthesis Example 2] Synthesis of light selective absorption compound (2)

딤로드 냉각관, 온도계를 설치한 200 mL-4구 플라스크 내에, 질소 분위기에 있어서, 일본 특허 공개 제2014-194508을 참고로 합성한 식 (aa)로 나타내는 화합물 10 g, 무수아세트산(와코쥰야쿠고교 가부시키가이샤 제조) 3.6 g, 시아노아세트산2-부틸옥틸(도쿄가세이고교 가부시키가이샤 제조) 10 g 및 아세토니트릴(와코쥰야쿠고교 가부시키가이샤 제조) 60 g을 넣고, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 내부 온도 25℃에서 DIPEA(도쿄가세이고교 가부시키가이샤 제조) 4.5 g을, 얻어진 혼합물에 1시간 걸쳐 적하한 후, 내부 온도 25℃로 더욱 2시간 보온하였다. 그 후, 감압 증발기를 이용하여 아세토니트릴을 제거하고, 컬럼 크로마토그래피(실리카 겔)에 제공하여 정제하고, 식 (aa2)로 나타내는 화합물을 포함하는 유출액을, 감압 증발기를 이용하여 용매를 제거하여, 황색 결정을 얻었다. 상기 결정을 60℃ 감압 건조함으로써, 황색 분말로서 식 (aa2)로 나타내는 화합물[광 선택 흡수 화합물 (2)]을 4.6 g 얻었다. 수율은 56％였다.In a 200 mL-4-necked flask equipped with a dimrod cooling tube and a thermometer, in a nitrogen atmosphere, 10 g of a compound represented by formula (aa) synthesized with reference to Japanese Patent Publication No. 2014-194508 and acetic anhydride (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Add 3.6 g of 2-butyloctyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 10 g of acetonitrile (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and 60 g of acetonitrile (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and stir with a magnetic stirrer. It was stirred. At an internal temperature of 25°C, 4.5 g of DIPEA (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise to the resulting mixture over 1 hour, and then kept warm at an internal temperature of 25°C for a further 2 hours. Thereafter, acetonitrile was removed using a reduced pressure evaporator, purified by subjecting it to column chromatography (silica gel), and the solvent was removed from the distillate containing the compound represented by formula (aa2) using a reduced pressure evaporator, Yellow crystals were obtained. By drying the crystal under reduced pressure at 60°C, 4.6 g of a compound represented by the formula (aa2) (light selective absorption compound (2)) was obtained as a yellow powder. The yield was 56%.

상기와 같은 방법으로 그램 흡광도 계수를 구하면, 식 (aa2)로 나타내는 화합물의 ε(405)의 값은 45 L/(g·㎝)이고, ε(420)의 값은 2.1 L/(g·㎝)였다.If the gram absorbance coefficient is calculated in the same way as above, the value of ε(405) of the compound represented by formula (aa2) is 45 L/(g·cm), and the value of ε(420) is 2.1 L/(g·cm) ) was.

<활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 조제><Preparation of active energy ray curable resin composition>

(조제예 1) 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A1의 조제(Preparation Example 1) Preparation of active energy ray-curable resin composition A1

각 성분을 이하의 비율로 혼합하여, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A1을 조제하였다.Each component was mixed in the following ratio to prepare active energy ray-curable resin composition A1.

N-히드록실에틸아크릴아미드 80부N-hydroxylethylacrylamide 80 parts

펜타에리트리톨트리아크릴레이트 12부Pentaerythritol triacrylate 12 parts

다작용 우레탄화아크릴레이트 8부Multifunctional urethanated acrylate 8 parts

(헥사메틸렌디이소시아네이트와 펜타에리트리톨트리아크릴레이트의 반응 생성물)(Reaction product of hexamethylene diisocyanate and pentaerythritol triacrylate)

이가큐어 500[BASF(주)로부터 입수] 3부Igacure 500 [obtained from BASF Co., Ltd.] 3 copies

합성예 1에서 얻은 광 선택 흡수성 화합물 (1) 1부1 part of light selective absorption compound (1) obtained in Synthesis Example 1

(조제예 2) 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A2의 조제(Preparation Example 2) Preparation of active energy ray-curable resin composition A2

N-히드록실에틸아크릴아미드 80부N-hydroxylethylacrylamide 80 parts

합성예 2에서 얻은 광 선택 흡수성 화합물 (2) 1부1 part of light selective absorption compound (2) obtained in Synthesis Example 2

(조제예 3) 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 B의 조제(Preparation Example 3) Preparation of active energy ray-curable resin composition B

각 성분을 이하의 비율로 혼합하여, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 B를 조제하였다.Each component was mixed in the following ratio to prepare active energy ray-curable resin composition B.

N-히드록실에틸아크릴아미드 80부N-hydroxylethylacrylamide 80 parts

(실시예 1) 광학 필름 A1의 제작(Example 1) Production of optical film A1

두께 23 ㎛의 환상 폴리올레핀계 수지로 이루어지는 수지 필름〔상품명 「ZEONOR」, 닛폰제온 가부시키가이샤 제조; 이하 COP 수지 필름이라고 하는 경우가 있다.〕을 2장 준비하였다. COP 수지 필름의 표면에 코로나 방전 처리를 실시하고, 그 코로나 방전 처리면에, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A1을 바 코터를 이용하고 경화 후의 막 두께가 약 5.0 ㎛가 되도록 도공하였다. 다른 1장의 COP 수지 필름의 표면에도 코로나 방전 처리를 실시하고, 그 코로나 방전 처리면과의 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A를 도공한 면을 접합하고, 벨트 컨베이어 부착 자외선 조사 장치〔램프는 퓨젼 UV 시스템즈사 제조의 「H 벌브」 사용〕를 이용하여 조도 250 ㎽/㎠, 적산 광량이 250 mJ/㎠(UVB)가 되도록 자외선을 조사하여, 광학 필름 A1을 얻었다. 광학 필름 A1은, COP 수지 필름/활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A1의 경화층/COP 수지 필름의 층 구성을 갖는다.Resin film made of cyclic polyolefin resin with a thickness of 23 μm [brand name “ZEONOR”, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.; Hereinafter, it may be referred to as COP resin film.] Two sheets were prepared. The surface of the COP resin film was subjected to corona discharge treatment, and active energy ray-curable resin composition A1 was applied to the corona discharge-treated surface using a bar coater so that the film thickness after curing was about 5.0 μm. Corona discharge treatment is also applied to the surface of another COP resin film, the corona discharge treated surface and the surface coated with the active energy ray curable resin composition A are bonded, and an ultraviolet irradiation device with a belt conveyor [lamp is from Fusion UV Systems. Using "H Bulb" manufactured by the company], ultraviolet rays were irradiated so that the illuminance was 250 mW/cm2 and the accumulated light amount was 250 mJ/cm2 (UVB), and optical film A1 was obtained. Optical film A1 has a layer structure of COP resin film/cured layer of active energy ray-curable resin composition A1/COP resin film.

(실시예 2) 광학 필름 A2의 제작(Example 2) Production of optical film A2

활성 에너지선 경화성 수지 조성물을, 제조예 2에서 얻어진 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A2로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 광학 필름 A2를 제작하였다. 광학 필름 A2는, COP 수지 필름/활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A2의 경화층/COP 수지 필름의 층 구성을 갖는다.Optical film A2 was produced in the same manner as in Example 1, except that the active energy ray-curable resin composition was changed to the active energy ray-curable resin composition A2 obtained in Production Example 2. Optical film A2 has a layer structure of COP resin film/cured layer of active energy ray-curable resin composition A2/COP resin film.

[제조예 1] 편광 필름의 제작[Production Example 1] Production of polarizing film

평균 중합도 약 2400, 비누화도 99.9 몰％, 두께 30 ㎛의 폴리비닐알코올 필름〔(주)쿠라레 제조의 상품명 「쿠라레비닐론 VF-PE＃3000」〕을, 37℃의 순수에 침지한 후, 요오드와 요오드화칼륨을 포함하는 수용액(요오드/요오드화칼륨/물(중량비)=0.04/1.5/100)에 30℃로 침지하였다. 그 후, 요오드화칼륨과 붕산을 포함하는 수용액(요오드화칼륨/붕산/물(중량비)=12/3.6/100)에 56.5℃로 침지하였다. 필름을 10℃의 순수로 세정한 후, 85℃로 건조하여, 폴리비닐알코올에 요오드가 흡착배향된 두께 약 12 ㎛의 편광자를 얻었다. 연신은, 주로, 요오드 염색 및 붕산 처리의 공정에서 행하고, 토탈의 연신 배율은 5.3배였다.A polyvinyl alcohol film with an average degree of polymerization of about 2400, a degree of saponification of 99.9 mol%, and a thickness of 30 μm [trade name “Kurare Vinylon VF-PE#3000” manufactured by Kuraray Co., Ltd.] was immersed in pure water at 37°C. It was immersed in an aqueous solution containing iodine and potassium iodide (iodine/potassium iodide/water (weight ratio) = 0.04/1.5/100) at 30°C. After that, it was immersed in an aqueous solution containing potassium iodide and boric acid (potassium iodide/boric acid/water (weight ratio) = 12/3.6/100) at 56.5°C. After washing the film with pure water at 10°C, it was dried at 85°C to obtain a polarizer with a thickness of about 12 μm in which iodine was adsorbed onto polyvinyl alcohol. Stretching was mainly performed in the steps of iodine dyeing and boric acid treatment, and the total stretching ratio was 5.3 times.

(실시예 3) 편광판 A1의 제작(Example 3) Production of polarizer A1

두께 23 ㎛의 환상 폴리올레핀계 수지로 이루어지는 수지 필름〔상품명 「ZEONOR」, 닛폰제온 가부시키가이샤 제조; 이하 COP 수지 필름이라고 하는 경우가 있다.〕의 표면에 코로나 방전 처리를 실시하고, 그 코로나 방전 처리면에, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A1을 바 코터를 이용하여 경화 후의 막 두께가 약 5.0 ㎛가 되도록 도공하였다. 그 도공면에, 제조예 1에서 제작한 편광 필름을 접합하여, 보호 필름 부착 편광 필름(1)을 얻었다.Resin film made of cyclic polyolefin resin with a thickness of 23 μm [brand name “ZEONOR”, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.; Hereinafter, it may be referred to as a COP resin film.] The surface of the film is subjected to corona discharge treatment, and the active energy ray curable resin composition A1 is applied to the corona discharge treated surface using a bar coater so that the film thickness after curing is about 5.0 ㎛. Pottery was done as much as possible. The polarizing film produced in Production Example 1 was bonded to the coated surface to obtain a polarizing film (1) with a protective film.

계속해서, 두께 40 ㎛의 트리아세틸셀룰로오스계 수지로 이루어지는 위상차 필름〔상품명 「KC4CW」, 코니카미놀타 가부시키가이샤 제조; 이하 TAC 필름이라고 하는 경우가 있다.〕의 표면에 코로나 방전 처리를 실시하고, 그 코로나 방전 처리면에, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A1을 경화 후의 막 두께가 약 5.0 ㎛가 되도록 바 코터를 이용하여 도공하였다. 그 도공면과, 보호 필름 부착 편광 필름(1)의 편광 필름측을 접합하여 적층체를 얻었다. 이 적층체에 있어서의 보호 필름측으로부터, 벨트 컨베이어 부착 자외선 조사 장치〔램프는 퓨젼 UV 시스템즈사 제조의 「H 벌브」 사용〕를 이용하여 조도 250 ㎽/㎠, 적산 광량이 250 mJ/㎠(UVB)가 되도록 자외선을 조사하여, 경화성 접착제 조성물을 경화시켜, 편광판을 제작하였다. 이것을 편광판 A1로 한다. 편광판 A1은, COP 수지 필름/활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A1의 경화층/편광 필름/활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A1의 경화층/TAC 필름의 구성을 갖는다.Next, a retardation film made of triacetylcellulose-based resin with a thickness of 40 μm [product name “KC4CW”, manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.; Hereinafter, it may be referred to as a TAC film.] The surface of the film is subjected to corona discharge treatment, and the active energy ray curable resin composition A1 is applied to the corona discharge treated surface using a bar coater so that the film thickness after curing is about 5.0 ㎛. Pottery was carried out. The coated surface and the polarizing film side of the polarizing film with a protective film (1) were bonded together to obtain a laminate. From the protective film side of this laminate, an ultraviolet irradiation device with a belt conveyor (the lamp uses “H Bulb” manufactured by Fusion UV Systems) was used to obtain an illuminance of 250 mW/cm2 and an accumulated light amount of 250 mJ/cm2 (UVB). ), the curable adhesive composition was cured by irradiating ultraviolet rays to produce a polarizing plate. This is referred to as polarizer A1. Polarizing plate A1 has the structure of COP resin film/cured layer of active energy ray-curable resin composition A1/polarizing film/cured layer of active energy ray-curable resin composition A1/TAC film.

(실시예 4) 편광판 A2의 제작(Example 4) Production of polarizer A2

활성 에너지선 경화성 수지 조성물을, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A2로 바꾼 것 이외에는, 실시예 3과 동일하게 하여 편광판 A2를 제작하였다. 편광판 A2는 COP 수지 필름/활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A2의 경화층/편광 필름/활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A2의 경화층/TAC 필름의 구성을 갖는다.Polarizing plate A2 was produced in the same manner as in Example 3, except that the active energy ray-curable resin composition was changed to active energy ray-curable resin composition A2. Polarizing plate A2 has the structure of COP resin film/cured layer of active energy ray curable resin composition A2/polarizing film/cured layer of active energy ray curable resin composition A2/TAC film.

(비교예 1) 편광판 B의 제작(Comparative Example 1) Production of Polarizer B

활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 B로 한 것 이외에, 편광판 A와 동일하게 하여 편광판 B를 제작하였다. 편광판 B는, COP 수지 필름/활성 에너지선 경화성 수지 조성물 B의 경화층/편광 필름/활성 에너지선 경화성 수지 조성물 B의 경화층/TAC 필름의 구성을 갖는다.Polarizing plate B was produced in the same manner as polarizing plate A, except that the active energy ray-curable resin composition was used as active energy ray-curable resin composition B. Polarizing plate B has the structure of COP resin film/cured layer of active energy ray-curable resin composition B/polarizing film/cured layer of active energy ray-curable resin composition B/TAC film.

(합성예 3) (메타)아크릴계 수지의 합성(Synthesis Example 3) Synthesis of (meth)acrylic resin

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응 용기에, 용매로서 아세트산에틸 81.8부, 단량체로서 아크릴산부틸 70.4부, 아크릴산메틸 20.0부 및 아크릴산2-페녹시에틸 8.0부, 그리고 아크릴산2-히드록시에틸 1.0부 및 아크릴산 0.6부와 혼합하여 얻어진 용액을 넣었다. 반응 용기 내의 공기를 질소 가스로 치환한 후, 내부 온도를 60℃로 하였다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴 0.12부를 아세트산에틸 10부에 용해시킨 용액을 첨가하였다. 1시간 동온도로 유지한 후, 내부 온도를 54∼56℃로 유지하면서, 첨가 속도 17.3부/Hr로 아세트산에틸을, 중합체의 농도가 거의 35％가 되도록 반응 용기 내에 연속적으로 부가하였다. 아세트산에틸의 첨가 개시로부터 12시간 경과할 때까지 내부 온도를 54∼56℃로 유지한 후, 아세트산에틸을 부가하여 중합체의 농도가 20％가 되도록 조정하여, (메타)아크릴계 수지의 아세트산에틸 용액을 얻었다. (메타)아크릴계 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은 139만, 중량 평균 분자량(Mw)과 수평균 분자량(Mn)의 비(Mw/Mn)는 5.32였다.In a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer, and a stirrer, 81.8 parts of ethyl acetate as a solvent, 70.4 parts of butyl acrylate, 20.0 parts of methyl acrylate, and 8.0 parts of 2-phenoxyethyl acrylate as monomers, and 2-hyde acrylate. A solution obtained by mixing 1.0 part of roxethyl and 0.6 part of acrylic acid was added. After replacing the air in the reaction vessel with nitrogen gas, the internal temperature was set to 60°C. After that, a solution in which 0.12 parts of azobisisobutyronitrile was dissolved in 10 parts of ethyl acetate was added. After maintaining the same temperature for 1 hour, while maintaining the internal temperature at 54 to 56°C, ethyl acetate was continuously added into the reaction vessel at an addition rate of 17.3 parts/Hr so that the polymer concentration was approximately 35%. After maintaining the internal temperature at 54 to 56°C until 12 hours have elapsed from the start of addition of ethyl acetate, ethyl acetate was added to adjust the polymer concentration to 20%, and an ethyl acetate solution of (meth)acrylic resin was prepared. got it The weight average molecular weight (Mw) of the (meth)acrylic resin was 1.39 million, and the ratio (Mw/Mn) between the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) was 5.32.

또한, 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량의 측정은, GPC 장치에 컬럼으로서 「TSK gel XL(도소(주) 제조)」을 4개 및 「Shodex GPC KF-802(쇼와덴꼬(주) 제조)」를 1개, 계 5개를 직렬로 이어 배치하고, 용출액으로서 테트라히드로푸란을 이용하여, 시료 농도 5 ㎎/mL, 시료 도입량 100 μL, 온도 40℃, 유속 1 mL/분의 조건으로 행하여, 표준 폴리스티렌 환산에 따라 산출하였다.In addition, the weight average molecular weight and number average molecular weight were measured using four columns of “TSK gel XL (manufactured by Tosoh Corporation)” and “Shodex GPC KF-802 (manufactured by Showa Denko Co., Ltd.)” as columns in the GPC device. Arrange one unit and five units in series, use tetrahydrofuran as an eluent, and perform the procedure under the conditions of sample concentration of 5 mg/mL, sample introduction amount of 100 μL, temperature of 40°C, and flow rate of 1 mL/min, and standard Calculated according to polystyrene conversion.

(합성예 4) (메타)아크릴계 수지 점착제 조성물 A의 합성(Synthesis Example 4) Synthesis of (meth)acrylic resin adhesive composition A

합성예 3에서 얻어진 (메타)아크릴계 수지의 아세트산에틸 용액(수지 농도: 20％)에, 상기 용액의 고형분 100부에 대하여, 가교제(콜로네이트 L, 고형분 75％: 도소 제조) 0.4부 및 실란 화합물(신에츠가가쿠고교 제조: KBM-4030) 0.4부를 혼합하고, 또한 고형분 농도가 14％가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여 점착제 조성물을 얻었다. 또한, 상기 가교제의 배합량은, 유효 성분으로서의 중량부수이다.To the ethyl acetate solution (resin concentration: 20%) of the (meth)acrylic resin obtained in Synthesis Example 3, 0.4 parts of a crosslinking agent (Colonate L, solid content: 75%: manufactured by Tosoh) based on 100 parts of the solid content of the solution, and a silane compound. (KBM-4030 manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry) was mixed, and ethyl acetate was added so that the solid content concentration was 14% to obtain an adhesive composition. In addition, the compounding amount of the crosslinking agent is the number of parts by weight as an active ingredient.

또한, 합성예 4에서 사용한 가교제 및 실란 화합물의 상세는 이하와 같다.In addition, details of the crosslinking agent and silane compound used in Synthesis Example 4 are as follows.

가교제: 톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체의 아세트산에틸 용액(고형분 농도 75％), 도소 가부시키가이샤에서 입수한 상품명 「콜로네이트 L」.Crosslinking agent: Ethyl acetate solution (75% solid content) of trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate, brand name “Colonate L” obtained from Tosoh Corporation.

실란 화합물: 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 신에츠가가쿠고교 가부시키가이샤에서 입수한 상품명 「KBM403」.Silane compound: 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, brand name “KBM403” obtained from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

<점착제층 A의 제작><Production of adhesive layer A>

점착제 조성물 A를, 이형 처리가 실시된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로 이루어지는 세퍼레이트 필름〔린테크(주)로부터 입수한 상품명 「PLR-382190」〕의 이형 처리면에, 어플리케이터를 이용하여 건조 후의 두께가 20 ㎛가 되도록 도포하고, 100℃에서 1분간 건조하여 점착제층 A를 제작하였다.Apply adhesive composition A to the release-treated surface of a separate film made of polyethylene terephthalate film to which release treatment has been performed (brand name "PLR-382190" obtained from Lintech Co., Ltd.) using an applicator so that the thickness after drying is 20 ㎛. and dried at 100°C for 1 minute to produce adhesive layer A.

(합성예 5) (메타)아크릴계 수지 점착제 조성물 B1의 합성(Synthesis Example 5) Synthesis of (meth)acrylic resin adhesive composition B1

합성예 3에서 얻어진 (메타)아크릴계 수지의 아세트산에틸 용액(수지 농도: 20％)에, 상기 용액의 고형분 100부에 대하여, 가교제(콜로네이트 L, 고형분 75％:도소 제조) 0.4부, 실란 화합물(신에츠가가쿠고교 제조: KBM-4030) 0.4부 및 합성예 1에서 얻어진 광 선택 흡수성 화합물 (1) 2부를 혼합하고, 또한 고형분 농도가 14％가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여 점착제 조성물 B1을 얻었다. 또한, 상기 가교제의 배합량은, 유효 성분으로서의 중량부수이다.To the ethyl acetate solution (resin concentration: 20%) of the (meth)acrylic resin obtained in Synthesis Example 3, 0.4 parts of a crosslinking agent (Colonate L, solid content 75%: manufactured by Tosoh), based on 100 parts of the solid content of the solution, and a silane compound. (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.: KBM-4030) 0.4 parts and 2 parts of the light selective absorption compound (1) obtained in Synthesis Example 1 were mixed, and ethyl acetate was added so that the solid content concentration was 14% to obtain adhesive composition B1. In addition, the compounding amount of the crosslinking agent is the number of parts by weight as an active ingredient.

(합성예 6) (메타)아크릴계 수지 점착제 조성물 B2의 합성(Synthesis Example 6) Synthesis of (meth)acrylic resin adhesive composition B2

광 선택 흡수성 화합물 (1) 2부 대신에, 광 선택 흡수성 화합물 (2) 1부를 이용한 것 이외에는, 합성예 5와 동일하게 하여 점착제 조성물 B2를 얻었다.Adhesive composition B2 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 5, except that 1 part of the light selectively absorptive compound (2) was used instead of 2 parts of the light selectively absorptive compound (1).

<점착제층 B1의 제작><Production of adhesive layer B1>

점착제 조성물 B1을, 이형 처리가 실시된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로 이루어지는 세퍼레이트 필름〔린테크(주)로부터 입수한 상품명 「PLR-382190」〕의 이형 처리면에, 어플리케이터를 이용하여 건조 후의 두께가 20 ㎛가 되도록 도포하고, 100℃에서 1분간 건조하여 점착제층 B1을 제작하였다.The pressure-sensitive adhesive composition B1 was applied to the release-treated surface of a separate film made of a polyethylene terephthalate film to which release treatment had been performed (brand name “PLR-382190” obtained from Lintech Co., Ltd.) using an applicator, so that the thickness after drying was 20 μm. and dried at 100°C for 1 minute to produce adhesive layer B1.

점착제 조성물 B1을, 점착제 조성물 B2로 바꾼 것 이외에는 동일하게 하여 점착제층 B2를 제작하였다.Adhesive layer B2 was produced in the same manner except that adhesive composition B1 was replaced with adhesive composition B2.

<점착제층 부착 편광판의 제작><Production of polarizer with adhesive layer>

(실시예 5) 점착제층 부착 편광판 A1의 제작(Example 5) Production of polarizer A1 with adhesive layer

편광판 A1의 트리아세틸셀룰로오스계 수지 필름의 표면에, 코로나 처리를 실시하고, 상기에서 제조한 점착제층 A를 라미네이터에 의해 접합한 후, 온도 23℃, 상대 습도 65％의 조건에서 7일간 양생하여, 점착제층 부착 편광판 A1을 얻었다.Corona treatment is performed on the surface of the triacetylcellulose-based resin film of polarizing plate A1, the adhesive layer A prepared above is bonded using a laminator, and then cured for 7 days under conditions of a temperature of 23° C. and a relative humidity of 65%. Polarizing plate A1 with an adhesive layer was obtained.

(실시예 6) 점착제층 부착 편광판 A2의 제작(Example 6) Production of polarizer A2 with adhesive layer

편광판 A1을 편광판 A2로 바꾼 것 이외에는, 실시예 5와 동일하게 하여 점착제층 부착 편광판 A2를 얻었다.Polarizing plate A2 with an adhesive layer was obtained in the same manner as in Example 5, except that polarizing plate A1 was replaced with polarizing plate A2.

(비교예 2) 점착제층 부착 편광판 B1의 제작(Comparative Example 2) Production of polarizer B1 with adhesive layer

편광판 B의 트리아세틸셀룰로오스계 수지 필름의 표면에, 코로나 처리를 실시하여, 상기에서 제조한 점착제층 B1을 라미네이터에 의해 접합한 후, 온도 23℃, 상대 습도 65％의 조건에서 7일간 양생하여, 점착제층 부착 편광판 B1을 얻었다.Corona treatment was performed on the surface of the triacetylcellulose-based resin film of polarizing plate B, and the adhesive layer B1 prepared above was bonded using a laminator, followed by curing for 7 days under conditions of a temperature of 23°C and a relative humidity of 65%. Polarizing plate B1 with an adhesive layer was obtained.

(비교예 3) 점착제층 부착 편광판 B2의 제작(Comparative Example 3) Production of polarizer B2 with adhesive layer

점착제층 B1을 점착제층 B2로 바꾼 것 이외에, 비교예 2와 동일하게 하여 점착제층 부착 편광판 B2를 얻었다.Polarizing plate B2 with an adhesive layer was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that adhesive layer B1 was replaced with adhesive layer B2.

<광학 필름의 흡광도 측정><Measurement of absorbance of optical film>

광학 필름 A1을 30 ㎜×30 ㎜의 크기로 재단하여, 이것을 샘플로 하였다. 제작한 샘플의 파장 300∼800 ㎚ 범위의 흡광도를, 분광 광도계(UV-2450: 가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼 제조)를 이용하여 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.Optical film A1 was cut into a size of 30 mm x 30 mm, and this was used as a sample. The absorbance of the produced sample in the wavelength range of 300 to 800 nm was measured using a spectrophotometer (UV-2450: manufactured by Shimadzu Corporation). The results are shown in Table 1.

측정 후의 샘플을, 온도 95℃의 오븐에 48시간 보관하여, 내열 평가 시험을 실시하였다. 보관 후의 샘플의 흡광도를 측정하여, 광학 필름 A1의 흡광도 유지율을 하기 식에 기초하여 흡광도 유지율을 구하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. 흡광도 유지율이 높을수록, 광 선택 흡수 기능의 열화가 없고 양호한 내열성을 나타낸다. 또한, COP 수지 필름 단체의 흡광도는 거의 0이었다.The sample after measurement was stored in an oven at a temperature of 95°C for 48 hours, and a heat resistance evaluation test was performed. The absorbance of the sample after storage was measured, and the absorbance retention rate of optical film A1 was determined based on the following equation. The results are shown in Table 1. The higher the absorbance retention rate, the less the light selective absorption function deteriorates and the better the heat resistance. Additionally, the absorbance of the COP resin film alone was almost 0.

흡광도 유지율=(내구 시험 후의 A(405)/내구 시험 전의 A(405))×100Absorbance retention rate = (A(405) after durability test/A(405) before durability test) × 100

광학 필름 A1을 광학 필름 A2로 바꾼 것 이외에, 상기와 동일하게 하여 흡광도를 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.The absorbance was measured in the same manner as above, except that optical film A1 was replaced with optical film A2. The results are shown in Table 1.

<점착제 부착 편광판의 흡광도 측정><Measurement of absorbance of polarizer with adhesive>

점착제층 부착 편광판 A1을 30 ㎜×30 ㎜의 크기로 재단하여, 점착제층과 무알칼리 유리〔코닝사 제조의 상품명 "EAGLE XG"〕를 접합하여, 이것을 샘플로 하였다. 작성한 샘플의 파장 300∼800 ㎚ 범위의 흡광도를, 분광 광도계(UV-2450: 가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼 제조)를 이용하여 측정하였다. A(405)는 0.6, A(440)은 0.05, A(405)/A(440)은 12.7이었다.Polarizing plate A1 with an adhesive layer was cut to a size of 30 mm x 30 mm, the adhesive layer and alkali-free glass (trade name "EAGLE The absorbance of the prepared sample in the wavelength range of 300 to 800 nm was measured using a spectrophotometer (UV-2450: manufactured by Shimadzu Corporation). A(405) was 0.6, A(440) was 0.05, and A(405)/A(440) was 12.7.

측정 후의 샘플을, 온도 95℃의 오븐에 48시간 보관하여, 내열 평가 시험을 실시하였다. 보관 후의 샘플의 흡광도를 측정하여, 점착제층 부착 편광판 A1의 흡광도 유지율을 상기와 같이 하여 구하였다. 결과는 94％였다.The sample after measurement was stored in an oven at a temperature of 95°C for 48 hours, and a heat resistance evaluation test was performed. The absorbance of the sample after storage was measured, and the absorbance retention rate of polarizing plate A1 with an adhesive layer was determined as described above. The result was 94%.

또한, TAC 필름 단체, COP 수지 필름 단체 및 무알칼리 유리의 각각의 파장 405 ㎚, 파장 440 ㎚에 있어서의 흡광도는 거의 0이었다.Additionally, the absorbance of the TAC film alone, the COP resin film alone, and the alkali-free glass at a wavelength of 405 nm and 440 nm, respectively, was almost 0.

점착제층 부착 편광판 A1을 점착제층 부착 편광판 A2로 바꾼 것 이외에, 상기와 동일한 방법으로, 각각 흡광도를 측정하였다. 결과는, A(405)는 0.5, A(440)은 0.05, A(405)/A(440)은 9.5, 흡광도 유지율은 98％였다.The absorbance was measured in the same manner as above, except that polarizing plate A1 with an adhesive layer was replaced with polarizing plate A2 with an adhesive layer. The results were 0.5 for A(405), 0.05 for A(440), 9.5 for A(405)/A(440), and the absorbance retention rate was 98%.

<광 선택 흡수 화합물의 이행성 평가><Evaluation of transitivity of light selective absorption compounds>

이하의 방법에 따라, 필름에의 광 선택 흡수 화합물의 이행성을 평가하였다.According to the following method, the transferability of the light selective absorption compound to the film was evaluated.

장치명: 푸리에 변환 적외 분광 광도계 Cary 660 FTIR(Agilent Technologies 제조)Device name: Fourier transform infrared spectrophotometer Cary 660 FTIR (manufactured by Agilent Technologies)

방법: 검출기로서 MCT(텔루륨화카드뮴수은)를 이용한 ATR법(결정: 다이아몬드)Method: ATR method using MCT (mercuric cadmium telluride) as a detector (crystal: diamond)

실시예 3에서 제작한 편광판 A1로부터 트리아세틸셀룰로오스를 박리하고, 박리 후의 트리아세틸셀룰로오스면을 ATR법으로 FTIR 측정을 행하였다. 광 선택 흡수성 화합물 (1) 유래의 1550∼1560 ㎝^-1의 피크를 확인하였다.Triacetylcellulose was peeled from polarizing plate A1 produced in Example 3, and FTIR measurement was performed on the triacetylcellulose surface after peeling by the ATR method. A peak at 1550 to 1560 cm ^-1 derived from the photoselective absorptive compound (1) was confirmed.

계속해서, 편광판 A1을 온도 95℃의 오븐에 48시간 보관한 후, 동일한 방법을 이용하여 FTIR 측정을 행한 결과, 트리아세틸셀룰로오스면에 광 선택 흡수성 화합물 (1) 유래의 1550∼1560 ㎝^-1의 피크의 증대는 확인할 수 없었다.Subsequently, after storing the polarizing plate A1 in an oven at a temperature of 95°C for 48 hours, FTIR measurement was performed using the same method. As a result, the triacetylcellulose surface was found to have 1550 to 1560 cm ^-1 derived from the photoselective absorptive compound (1). An increase in the peak could not be confirmed.

가열 후에 트리아세틸셀룰로오스면에 표층에 광 선택성 흡수 화합물 (1) 유래의 피크의 증대를 확인하지 못한 것으로부터, 광 선택 흡수성 화합물 (1)의 이행이 없다고 판단하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.Since no increase in the peak derived from the photoselective absorption compound (1) was confirmed in the surface layer of the triacetylcellulose surface after heating, it was determined that there was no migration of the photoselective absorption compound (1). The results are shown in Table 2.

비교예 2에서 제작한 편광판 B1로부터 점착제층을 물리적으로 제거하고, 제거 후의 트리아세틸셀룰로오스면을 상기 방법으로 확인한 바, 광 선택 흡수성 화합물 (1) 유래의 1550∼1560 ㎝^-1의 피크를 확인하였다.The adhesive layer was physically removed from the polarizing plate B1 produced in Comparative Example 2, and the triacetylcellulose surface after removal was confirmed by the above method. A peak at 1550 to 1560 cm ^-1 derived from the photoselective absorptive compound (1) was confirmed. .

계속해서, 편광판 B1을 온도 95℃의 오븐에 48시간 보관한 후, 동일한 방법을 이용하여 FTIR 측정을 행한 결과, 트리아세틸셀룰로오스면에 광 선택 흡수성 화합물 (1) 유래의 1550∼1560 ㎝^-1의 피크의 증대가 확인할 수 있었다.Subsequently, after storing the polarizing plate B1 in an oven at a temperature of 95°C for 48 hours, FTIR measurement was performed using the same method. As a result, the triacetylcellulose surface was found to have 1550 to 1560 cm ^-1 derived from the photoselective absorptive compound (1). An increase in the peak was confirmed.

가열 후에 트리아세틸셀룰로오스 표층에 광 선택성 흡수 화합물 (1) 유래의 피크의 증대를 확인하였기 때문에, 광 선택 흡수성 화합물 (1)의 이행이 있었다고 판단하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.Since an increase in the peak derived from the photoselective absorption compound (1) was confirmed on the triacetylcellulose surface layer after heating, it was determined that there was migration of the photoselective absorption compound (1). The results are shown in Table 2.

상기와 동일하게 하여, 실시예 3에서 제작한 편광판 A1, 비교예 3에서 제작한 편광판 B2에 있어서의 광 선택 흡수 화합물의 이행성 평가를 행하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.In the same manner as above, the transferability of the light selective absorption compound in polarizing plate A1 produced in Example 3 and polarizing plate B2 produced in Comparative Example 3 was evaluated. The results are shown in Table 2.

본 발명의 광학 필름은, 파장 400 ㎚ 부근(405 ㎚)의 광을 선택적으로 흡수하는 기능이 높을 뿐만 아니라, 파장 400 ㎚ 부근(405 ㎚)의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물이 그 외의 층으로 이행하지 않아, 위상차 필름 등의 열화를 억제할 수 있다.The optical film of the present invention not only has a high function of selectively absorbing light with a wavelength around 400 nm (405 nm), but also the compound that selectively absorbs light with a wavelength around 400 nm (405 nm) transfers to other layers. By doing so, deterioration of the retardation film, etc. can be suppressed.

본 발명의 광학 필름은, 양호한 표시 특성을 가지며, 또한 단파장의 가시광에 의한 광학 필름의 열화를 억제하는 것이 가능하다.The optical film of the present invention has good display characteristics and can suppress deterioration of the optical film caused by short-wavelength visible light.

10 광학 필름
10A, 10B, 10C 광학 적층체
1 광 선택 흡수층
2 수지 필름(a)
3 편광 필름
4, 7, 60 접착제층
5 보호 필름
6 편광 필름
30 점착제층
40 광학 필름
50, 50a 1/4 파장 위상차층
70 1/2 파장 위상차층
80 포지티브 C층
110 발광 소자10 optical film
10A, 10B, 10C optical laminate
1 Light selective absorption layer
2 Resin film (a)
3 polarizing film
4, 7, 60 adhesive layers
5 protective film
6 polarizing film
30 Adhesive layer
40 optical film
50, 50a 1/4 wavelength retardation layer
70 1/2 wavelength retardation layer
80 Positive C layer
110 light emitting device

Claims

활성 에너지선 경화성 조성물로 형성되는 광 선택 흡수층을 적어도 1층 포함하고, 또한 하기 식 (1) 및 식 (3')을 만족하는 광학 필름.
A(405)≥0.5 (1)
[식 (1) 중, A(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.]
A(405)/A(440)≥60 (3')
[식 (3') 중, A(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타내고, A(440)은 파장 440 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.]An optical film comprising at least one light selective absorption layer formed of an active energy ray curable composition and satisfying the following formulas (1) and (3').
A(405)≥0.5 (1)
[In formula (1), A(405) represents the absorbance at a wavelength of 405 nm.]
A(405)/A(440)≥60 (3')
[In formula (3'), A(405) represents the absorbance at a wavelength of 405 nm, and A(440) represents the absorbance at a wavelength of 440 nm.]

제1항에 있어서, 또한, 하기 식 (2)를 만족하는 광학 필름.
A(440)≤0.1 (2)
[식 (2) 중, A(440)은 파장 440 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.]The optical film according to claim 1, which further satisfies the following formula (2).
A(440)≤0.1 (2)
[In formula (2), A(440) represents the absorbance at a wavelength of 440 nm.]

제1항에 있어서, 광 선택 흡수층의 23℃에 있어서의 저장 탄성률(E)이 100 ㎫ 이상인 광학 필름.The optical film according to claim 1, wherein the light selective absorption layer has a storage modulus (E) of 100 MPa or more at 23°C.

제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 광 선택 흡수층이, 광 경화성 성분(A), 광 선택 흡수 화합물(B) 및 광 중합 개시제(C)를 함유하는 활성 에너지선 경화성 조성물로 형성되는 층인 광학 필름.The light selective absorption layer according to any one of claims 1 to 3, wherein the light selective absorption layer is formed from an active energy ray curable composition containing a light curable component (A), a light selective absorption compound (B), and a photo polymerization initiator (C). Optical film, which is the layer that becomes the

제4항에 있어서, 광 선택 흡수 화합물(B)의 함유량이, 광 경화성 성분(A) 100 질량부에 대하여, 0.01∼20 질량부인 광학 필름.The optical film according to claim 4, wherein the content of the light selective absorption compound (B) is 0.01 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the photocurable component (A).

제4항에 있어서, 광 선택 흡수 화합물(B)이 하기 식 (4)를 만족하는 화합물인 광학 필름.
ε(405)≥20 (4)
[식 (4) 중, ε(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.]The optical film according to claim 4, wherein the light selective absorption compound (B) is a compound satisfying the following formula (4).
ε(405)≥20 (4)
[In formula (4), ε(405) represents the gram extinction coefficient of the compound at a wavelength of 405 nm. The unit of gram extinction coefficient is L/(g·cm).]

제6항에 있어서, 광 선택 흡수 화합물(B)은 식 (5)를 만족하는 화합물인 광학 필름.
ε(405)/ε(440)≥20 (5)
[식 (5) 중, ε(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)은 파장 440 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타낸다.]The optical film according to claim 6, wherein the light selective absorption compound (B) is a compound that satisfies equation (5).
ε(405)/ε(440)≥20 (5)
[In equation (5), ε (405) represents the gram extinction coefficient of the compound at a wavelength of 405 nm, and ε (440) represents the gram extinction coefficient at a wavelength of 440 nm.]

제5항에 있어서, 광 경화성 성분(A)이, (메타)아크릴로일옥시기 함유 화합물 및 에폭시 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 광학 필름.The optical film according to claim 5, wherein the photocurable component (A) contains at least one selected from the group consisting of (meth)acryloyloxy group-containing compounds and epoxy compounds.

제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름의 적어도 한쪽의 면에 점착제층을 갖는 점착제층 부착 광학 필름.An optical film with an adhesive layer having an adhesive layer on at least one side of the optical film according to any one of claims 1 to 3.

제9항에 기재된 점착제층 부착 광학 필름을 갖는 표시 장치.A display device having the optical film with an adhesive layer according to claim 9.

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