KR102598732B1 - 증가된 스캐닝 주파수를 갖는 라이다 장치, 그리고 스캐닝 영역의 스캐닝 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하나 이상의 빔으로 스캐닝 영역을 스캐닝하기 위한 라이다 장치에 관한 것이며, 상기 라이다 장치는 하나 이상의 빔을 생성하기 위한 하나 이상의 빔원과, 회전축을 중심으로 회전될 수 있으면서 회전축에 대해 수직으로 배향된 검출기 상으로 객체에서 반사된 빔들을 편향시키기 위한 2개 이상의 미러들을 포함하며, 2개 이상의 미러들은 각각의 파장 범위에 대해 반사율을 보유하며, 회전축의 영역에서 소정의 각도로 상호 간에 연결될 수 있다. 또한, 본 발명은 라이다 장치를 이용하여 스캐닝 영역을 스캐닝하기 위한 방법에 관한 것이다.

Description

증가된 스캐닝 주파수를 갖는 라이다 장치, 그리고 스캐닝 영역의 스캐닝 방법
본 발명은 하나 이상의 빔으로 스캐닝 영역을 스캐닝하기 위한 라이다 장치(LiDAR device), 그리고 라이다 장치를 이용하여 스캐닝 영역을 스캐닝하기 위한 방법에 관한 것이다.
통용되는 라이다(LiDAR: Light detection and ranging; 광 검출 및 거리 측정) 장치들은 빔을 생성하기 위한 레이저 또는 빔원을 사용하며, 그에 뒤이어 빔은 스캐닝 영역을 제어되면서 스캐닝하기 위한 편향 유닛을 통해 편향된다. 편향 유닛은, 미러 상으로 방출된 빔들을 스캐닝 영역의 방향으로 차례로 편향시키는 복수의 회전 가능한 미러들의 형태로 형성될 수 있다. 이런 경우, 통상, 빔원은 미러들의 회전축에 대해 수직으로 배치된다. 객체들이 스캐닝 영역 내에 배치되는 점에 한해, 편향된 빔들은 객체들 상에서 라이다 장치 쪽으로 다시 반사되거나 산란될 수 있다. 반사된 빔들은 미러들을 통해 검출기 쪽으로 편향될 수 있고, 그에 기인하는 측정 데이터는 그에 뒤이어 평가될 수 있다. 이 경우, 빔원뿐만 아니라 검출기 역시도 위치 고정되어 배치될 수 있다. 스캐닝 영역의 스캐닝 주파수를 높이기 위해, 예컨대 더 많은 회전 가능한 미러가 이용될 수 있거나, 또는 미러들이 보다 더 높은 회전 속도로 회전될 수 있다. 그러나 보다 더 높은 회전 속도를 가능하게 하기 위해, 보다 더 고성능이고 그에 따라 보다 더 큰 구동 모터들이 이용되어야 한다. 추가적인 미러들을 이용할 경우, 미러들은 상호 간에 방해가 될 수 있다. 그로 인해 회전하는 미러들의 개수가 증가할 수록 스캐닝 영역은 점점 더 작아지게 된다.
본 발명의 기초가 되는 과제는, 치수가 변함없는 조건에서 증가된 스캐닝 주파수를 갖는 라이다 장치, 그리고 상기 유형의 라이다 장치를 작동시키기 위한 방법을 제공하는 것에 있다.
상기 과제는 독립 청구항들의 각각의 대상에 의해 해결된다. 본 발명의 바람직한 구현예들은 각각의 종속 청구항들의 대상이다.
본 발명의 일 양태에 따라서, 하나 이상의 빔으로 스캐닝 영역을 스캐닝하기 위한 라이다 장치가 제공된다. 라이다 장치는 하나 이상의 빔을 생성하기 위한 하나 이상의 빔원을 포함한다. 또한, 라이다 장치는, 회전축을 중심으로 회전될 수 있으면서 미러들의 회전축에 대해 수직으로 배향된 검출기 상으로 객체 상에서 반사된 빔들을 편향시키기 위한 2개 이상의 미러들을 포함한다. 본 발명에 따라서, 2개 이상의 미러들은 각각의 파장 범위에 대해 반사율을 보유하며, 회전축의 영역에서 소정의 각도로 상호 간에 연결될 수 있다.
동일한 장착 공간 또는 동일한 치수의 조건에서 수신 출력의 손실 없이 라이다 장치가 보다 더 높은 스캐닝 주파수를 보유하도록 하기 위해, 바로 빔들을 반사하기 위해 이용되지 않는 미러들의 반사는 검출을 방해하지 않아야 한다. 이는, 특히 정의된 파장 범위 이내의 파장을 갖는 빔들을 반사할 수 있는 미러들을 통해 실현될 수 있다. 이와 반대로, 정의된 파장 범위를 벗어나는 파장을 갖는 빔들은 하나 이상의 미러를 통해 투과된다. 상기 유형의 파장 선택형 미러들은 추가로 미러 상에서 빔의 입사 각도에 대한 파장 범위의 의존성을 나타낸다. 2개 이상의 미러들의 각각의 회전 위치에 따라서, 빔들은 하나 이상의 미러에 의해 반사될 수 있거나, 또는 하나 이상의 미러를 투과할 수 있다. 각각의 미러들의 파장 범위는, 개별 미러들이 서로 방해하지 않거나 상호 간에 어둡지 않게 하는 방식으로 설정될 수 있다. 이로써, 스캐닝 주파수를 높이기 위해 복수의 미러들을 이용할 수 있다. 미러들의 이용되는 장착 공간 및 회전 속도는 변함없이 유지될 수 있다. 따라서, 라이다 장치의 N배 더 높은 스캐닝 속도(scanning rate)가 달성될 수 있다(N = 미러 표면의 개수). 이는, 스캐닝 주파수의 증대 외에도, 특히 히스토그램 형성(histogram formation)이 예컨대 SPAD 검출기들(SPAD: single photon avalanche diode; 단광자 애벌런치 다이오드)의 경우에서와 같은 펄스 검출을 통해 실현될 수 있는 것인 디지털 검출기 원리들을 위해 이용될 수 있다.
본원의 라이다 장치의 바람직한 실시예에 따라서, 2개 이상의 미러들은 브래그 미러(Bragg mirror)이다. 브래그 미러들은 각각 정해진 각도 범위에 대해서만 반사성이다. 객체에 의해 후방 산란되거나 반사된 빔이 정해진 각도로 미러에 부딪친다면, 브래그 미러는 상기 광을 검출기 상으로 반사한다. 반사된 빔들은 예컨대 미러들의 회전축에 대해 수직으로 반사된다. 예컨대 반사된 빔들이 다른 각도로 하나 이상의 브래그 미러 상에 도달한다면, 반사된 빔은 투과되며, 그리고 반사된 빔을 검출기 상으로 반사할 수 있도록 하기 위해 바로 "정확한" 각도로 위치해 있는 미러 표면 상에 도달할 수 있다. 브래그 미러의 상대적으로 제한되는 파장 범위를 통해, 검출기의 상류에 연결되는 추가 필터는 생략될 수 있는데, 그 이유는 간섭광 대부분이 브래그 미러들 중 어느 것에 의해서도 검출기 상으로 반사될 수 없기 때문이다.
본원의 라이다 장치의 또 다른 실시예에 따라서, 2개 이상의 미러들은 유입되는 빔들을 교호적으로 검출기 상으로 반사한다. 이로써, 회전 가능한 미러들은 정의된 회전 속도로 단방향으로 회전될 수 있다. 따라서, 미러들의 회전 이동의 방향 전환은 필요하지 않다.
본원의 라이다 장치의 또 다른 실시예에 따라서, 각각의 미러는 회전축을 중심으로 하는 유효 각도 범위(active angle range)를 보유한다. 유효 각도 범위 이내에서, 유입되는 빔들은 검출기 상으로 반사될 수 있다. 빔의 입사 각도에 대한 미러들의 파장 범위의 의존성을 기반으로, 정의된 입사 각도에서, 또는 정의된 입사 각도 범위에서 정해진 파장을 갖는 빔들만이 제1 단계에서 미러에 의해 반사될 수 있으며, 그리고 제2 단계에서는, 빔이 검출기 상에 부딪치는 정도의 각도로 반사될 수 있다. 그에 기인하여, 정해진 파장을 갖는 빔들이 검출기 상으로 편향되거나 반사될 수 있는 미러의 각도 범위가 결정된다. 따라서, 미러들에 필터 기능을 할당할 수 있고 간섭광을 감소시키거나 차단할 수 있다.
본원의 라이다 장치의 또 다른 실시예에 따라서, 각각의 미러는, 유효 각도 범위를 벗어나서, 유입되는 빔들을 투과시켜 하나 이상의 추가 미러 상으로 전달한다. 검출기가 미러들의 회전축에 대해 수직으로 배향될 때, 미러가 복수 개인 경우, 미러들이 부분적으로 중첩되고 그에 따라 빔들의 일부분을 검출기 쪽으로 반사할 수 없는 미러들의 회전 각도가 항상 존재한다. 빔들이 각각의 미러의 유효 각도 범위를 벗어나는 각도를 보유하는 본 발명에 따른 미러에 부딪치면, 빔들은 상기 미러에 의해 투과된다. 이로써, 복수의 미러들은 상호 간에 어둡게 할 수 없다. 빔들은, 단지 그 빔들이 검출기 상에도 부딪칠 수 있을 때에만 반사된다.
본원의 라이다 장치의 또 다른 실시예에 따라서, 하나 이상의 빔원은 회전축에 대해 수직으로 배향되며, 하나 이상의 생성된 빔은 스캐닝 영역을 스캐닝하기 위한 2개 이상의 미러들을 통해 편향될 수 있다. 따라서, 객체들 상에서 반사된 빔들이 검출기 쪽으로 편향될 수 있을 뿐만 아니라, 하나 이상의 빔원에 의해 생성된 빔들 역시도 라이다 장치에 의해 스캐닝 영역 내로 방사될 수 있다. 따라서, 본원의 라이다 장치는, 동시에, 생성된 빔들을 송신할 수 있고 반사된 빔들 또는 라이다 장치 쪽으로 후방 산란된 빔들을 수신할 수도 있다.
본원의 라이다 장치의 또 다른 실시예에 따라서, 2개 이상의 미러들은 각각의 파장 범위에 대해 양면 반사율을 보유한다. 특히 브래그 미러로서 형성되어 회전 가능한 미러들은 양면으로 이용될 수 있다. 이는 라이다 장치의 스캐닝 주파수를 배가시킬 수 있다. 미러들의 양면 반사율은 예컨대 코팅의 형태로 실행될 수 있다.
본원의 라이다 장치의 또 다른 바람직한 실시예에 따라서, 2개 이상의 빔원들은 상이한 파장들을 갖는 2개 이상의 빔들을 생성하기 위해 이용될 수 있다. 예컨대 연속해서 배치되는 2개의 미러들에 대한 유효 각도 범위들은 중첩되거나, 또는 심지어 동일할 수 있기 때문에, 상이한 파장들을 갖는 빔들을 생성할 수 있는 복수의 빔원들을 이용하는 것이 바람직하다. 따라서, 상이한 유효 각도 범위들 및/또는 파장 범위들을 갖는 미러들이 교호적으로 회전 가능하게 배치될 수 있다. 각각의 미러들은, 미러들에 매칭되는 빔들을 스캐닝 영역의 방향으로 반사할 수 있다.
본원의 라이다 장치의 또 다른 실시예에 따라서, 2개 이상의 빔들은 2개 이상의 빔원들을 통해 순차적으로 생성될 수 있다. 따라서 이용되는 회전 가능한 미러들에 매칭되는 상이한 파장들을 갖는 빔들이 교호적으로 연속해서 생성된다. 교호적인 펄스 순서를 통해, 이용되는 미러들의 각각의 반사 영역들은 최적으로 활용될 수 있다. 생성된 빔들이 객체에 의해 라이다 장치 쪽으로 다시 반사되는 점에 한해, 상기 반사된 빔들은 검출기에 의해 기록될 수 있고, 교호적인 파장들을 통해 기술적으로 보다 더 간단하게 평가될 수 있다. 이로써, 반사를 위해 적합한 미러들의 각각의 파장 범위들 역시도 검출기 데이터의 평가 동안 분명하게 구분될 수 있다.
본원의 라이다 장치의 또 다른 실시예에 따라서, 검출기는, 2개 이상의 미러들의 파장 범위들에 적어도 상응하는 스펙트럼 검출 범위를 보유한다. 미러들의 반사 영역들 또는 파장 범위들의 완전한 분리를 보장하기 위해, 필요한 스펙트럼 검출 범위는 이용되는 미러 표면들의 개수 또는 대응하는 파장들과 더불어 증가할 수 있다. 이로써, 검출기가 자신 상으로 지향되는 모든 빔들을 완전하게 기록할 수 있는 점이 보장될 수 있다.
본 발명의 또 다른 양태에 따라서, 본 발명의 전술한 양태에 따른 라이다 장치를 이용하여 입체각을 스캐닝하기 위한 방법이 제공된다. 제1 단계에서, 하나 이상의 빔이 생성된다. 하나 이상의 빔은 입체각을 스캐닝하기 위해 이용된다. 객체 상에서 반사되는 하나 이상의 빔은 회전축을 중심으로 회전 가능한 2개 이상의 미러들에 의해 검출기 상으로 지향되며, 2개 이상의 미러들의 회전 위치에 따라서 반사된 빔들은 제1 미러를 투과하여 하나 이상의 제2 미러 상으로 전달되고 이 하나 이상의 제2 미러에 의해서는 검출기 상으로 반사되거나, 또는 반사된 빔들은 제1 미러를 통해 검출기 상으로 반사된다.
객체가 스캐닝 영역 내에 포지셔닝되는 점에 한해, 생성되어 스캐닝 영역 내로 송신되는 생성된 빔들은 객체 상에서 반사될 수 있다. 이런 경우, 회전하는 미러들은 반사된 빔들을 수신하여 검출기 상으로 편향시킬 수 있다. 미러들은 바람직하게는 파장 선택형 반사율 및/또는 입사 각도 선택형 반사율을 보유할 수 있다. 이렇게, 예컨대 빔들은, 단지 빔들이 정해진 파장을 보유하며, 정의된 입사 각도로 미러 상에 부딪칠 때에만, 미러들에 의해 반사될 수 있다. 이런 경우, 반사율은 입사 각도들 및/또는 파장들의 범위 이내에 존재할 수 있다. 예컨대 유입되는 빔이 각각의 미러의 사양을 벗어나는 광학 특성들을 보유한다면, 상기 빔은 반사되지 않는다. 이로써, 예컨대 반사된 빔들이 검출기에 닿지 못하거나 간섭 반사가 검출기 상으로 지향되는 점은 방지될 수 있다. 따라서, 회전하는 미러들은 필터를 대체할 수 있다. 제1 미러에 의해 반사되지 않는 반사된 빔은, 바람직한 방식으로, 방해 없이 제1 미러를 투과하여, 반사된 빔의 광로 내에 배치된 추가 미러 상으로 전달될 수 있다. 바람직하게 추가 미러는, 투과된 빔이 검출기 쪽으로 편향될 수 있는 방식으로, 검출기에 상대적으로 배향된다. 이로써, 특히 미러들이 상호 간에 어둡게 하거나 방해할 수 있는 점은 방지될 수 있다. 스캐닝 주파수를 높이기 위해 회전 가능한 미러들의 개수가 보다 많은 경우에도, 스캐닝 영역은 제한 없이 조명될 수 있다. 이런 조치를 통해, 복수의 미러들의 이용에도 불구하고, 상기 유형의 라이다 장치의 치수들은 일정하게 유지될 수 있다.
하기에서는, 매우 간소화된 개략도들에 따라서, 본 발명의 바람직한 실시예들이 더 상세하게 설명된다.
도 1은 제1 실시예에 따른 라이다 장치의 개략도이다.
도 2는 제2 실시예에 따른 라이다 장치의 개략도이다.
도 3은 제3 실시예에 따른 라이다 장치의 회전 가능한 미러들의 개략도이다.
도 4는 제1 실시예에 따른 라이다 장치의 회전 가능한 미러들의 개략도이다.
도 5a 및 5b는 파장들에 따른 회전 가능한 미러들의 반사율을 각각 개략적으로 나타낸 그래프이다.
도면들에서, 동일한 구조적 요소들은 각각 동일한 도면부호들을 갖는다.
도 1에는, 제1 실시예에 따른 라이다 장치(1)의 개략도가 도시되어 있다. 라이다 장치(1)는, 적외선 레이저(2)로서 형성된 빔원(2)을 포함한다. 빔원(2)은 펄스 방식으로 빔들(3)을 생성하며, 이 빔들은 편향 유닛(4)의 회전축(R)의 방향에서 수직으로 지향되는 방식으로 방출된다.
편향 유닛(4)은, 상기 실시예에 따라서, 구동 샤프트(8) 상의 회전축(R)의 영역에서 간접적으로 회전 대칭으로 상호 간에 연결되어 있는 4개의 브래그 미러들(6, 7)을 포함한다. 미러들(6, 7)은 예컨대 각각 교호적으로 상이한 굴절률을 갖는 복수의 λ/2 영역들로 구성된 양면 코팅을 포함할 수 있다. 이런 경우, λ는 각각의 생성된 빔(3)의 파장에 상응한다. 브래그 미러들(6, 7)의 코팅을 기반으로, 유입되는 빔들(3)은, 단지 정해진 입사 각도(α)로만, 그리고 정해진 파장(λ)으로만, 반사된 빔들(5)이 구조적인 간섭(constructive interference)을 통해 발생하여 라이다 장치(1)의 하우징(10)에서부터 스캐닝 영역(A)의 방향으로 방출될 수 있는 방식으로, 브래그 미러들(7) 상에서 반사될 수 있다. 빔(3)의 입사 각도(α) 또는 파장(λ)이 코팅 또는 브래그 미러(6)의 파장 범위와 다른 경우, 빔들(3)을 위한 미러들(6)은 유입되는 빔들(3)에 대해 투명하다. 따라서, 빔들(3)은, 빔들(3)에 대해 투명한 미러(6)의 하류에 연결된 미러(7) 상에 도달할 수 있고 이 미러(7) 상에서 스캐닝 영역(A)의 방향으로 반사될 수 있다. 편향 유닛(4)은 회전축(R)을 중심으로 정의된 회전 속도로 회전한다. 이로써, 라이다 장치(1)는 반사된 빔들(5)로 스캐닝 영역(A)을 조명하거나 스캐닝할 수 있다.
그와 반대로, 편향 유닛(4)은 생성된 빔들(3)을 라이다 장치(1)에서부터 송신할 수 있을 뿐만 아니라, 유입되는 빔들(13)을 수신하여 수신된 빔들(15)을 검출기(12) 상으로 안내할 수 있다. 이런 경우, 유입되거나, 또는 객체(14) 상에서 반사된 빔들(13)은, 라이다 장치(1)에서 방출된 빔들(5)의 반사광 또는 산란광으로서 형성된다. 미러들(6, 7)의 양면 코팅을 통해, 미러들(6, 7)의 반사된 빔들(13)은 편향 유닛(4) 또는 각각의 미러들(6, 7)의 각각의 회전 위치에 따라서 미러들(6, 7)을 투과할 수 있거나, 검출기(12) 쪽으로 반사될 수 있다. 이런 경우, 미러들(6, 7)은 필터로서 이용될 수 있는데, 그 이유는 의도되지 않는 산란광이 미러들(6, 7) 상에서의 반사를 위한 기준들을 충족하지 않기 때문이다.
이런 경우, 편향 유닛(4)의 방향으로 유입되는 빔들(3, 13)은, 반사를 위한 기준들이 충족될 때까지, 복수의 미러들(6, 7) 역시도 차례로 투과할 수 있다. 따라서, 회전 속도가 변함없는 조건에서 스캐닝 영역(A)의 보다 더 높은 스캐닝 주파수를 가능하게 하기 위해, 미러들(6, 7)의 개수는 증가될 수 있다.
도 2에는, 제2 실시예에 따른 라이다 장치(1)의 개략도가 도시되어 있다. 제1 실시예와 달리, 라이다 장치(1)는, 교호적으로 차례로 빔들(3)을 생성하여 편향 유닛(4)의 방향으로 방출하는 2개의 빔원들(2)을 포함한다. 이로써, 상이하게 코팅된 미러들(6, 7)은 이 미러들(6, 7)에 각각 매칭되는 파장들(λ)을 갖는 빔들(3)로 조명될 수 있다. 따라서, 편향 유닛(4)의 각각의 회전 각도 위치(β)에 따라서, 양면이 코팅된 미러들(6, 7) 역시도 적합한 파장들(λ)을 갖는 빔들(3)을 통해 투과될 수 있다. 이로써, 편향 유닛(4)의 회전 각도 위치(β)에 따라서, 상이한 빔원들(2)은, 빔들(5)로 스캐닝 영역(A)을 조명할 수 있도록 하기 위해 제어될 수 있다.
도 3에는, 제3 실시예에 따른 라이다 장치(1)의 회전 가능한 미러들(6, 7)의 개략도가 도시되어 있다. 여기서, 편향 유닛(4)의 이용되는 미러들(6, 7)은 일면의 파장 선택형 반사율을 보유한다.
도 4에는, 제1 실시예에 따른 라이다 장치(1)의 회전 가능한 미러들(6, 7)의 개략도가 도시되어 있다. 여기서는, 생성된 빔들(3)이 동시에 복수의 미러들(7)을 조명할 수도 있고 이렇게 예컨대 스캐닝 영역(A)의 방향으로 반사된 복수의 빔들(5)이 동시에 방출될 수 있거나, 또는 빔들(5)이 선의 형태로 방출될 수 있는 점이 설명된다. 생성된 빔들(3) 및 반사된 빔들(5)의 광로 내에 포지셔닝된 미러들(6)은 손실 없이 투과되는데, 그 이유는 반사를 위한 전제조건들이 충족되지 않기 때문이다.
도 5a 및 5b에는, 각각의 회전 가능한 미러들(6, 7)의 반사율들이 파장들(λ)에 따라서 백분율로 도시되어 있는 그래프가 각각 개략적으로 도시되어 있다. 이는, 예컨대 제1 실시예에 따른 라이다 장치(1)의 미러들(6, 7)일 수 있다. 여기서는, 특히 미러들(6, 7) 상으로 빔들(3)의 입사 각도(α)가 상이할 때 파장 범위들의 변위가 설명되어 있다. 간소화를 위해, 0° 및 90°의 입사 각도(α)만이 도시되어 있다.

Claims (11)

  1. 하나 이상의 빔(5)으로 스캐닝 영역(A)을 스캐닝하기 위한 라이다 장치(1)로서, 하나 이상의 빔(3, 5)을 생성하기 위한 하나 이상의 빔원(2)과, 회전축(R)을 중심으로 회전될 수 있으면서 회전축(R)에 대해 수직으로 배향된 검출기(12) 상으로 객체(14)에서 반사된 빔들(13)을 편향시키기 위한 2개 이상의 미러들(6, 7)을 포함하는 상기 라이다 장치에 있어서,
    2개 이상의 미러들(6, 7)은 각각의 파장 범위에 대해 반사율을 보유하고, 2개 이상의 미러들(6, 7)의 각각의 파장 범위는 각 미러가 서로 방해하지 않도록 또는 서로 가리지 않도록 설정되며, 2개 이상의 미러들(6, 7)은 회전축(R, 8)의 영역에서 소정의 각도로 상호 간에 연결될 수 있고,
    하나 이상의 빔원(2)은 회전축(R)에 대해 수직으로 배향되며, 그리고 하나 이상의 생성된 빔(3)은 스캐닝 영역(A)을 스캐닝하기 위한 2개 이상의 미러들(6, 7)을 통해 편향될 수 있고,
    2개 이상의 미러들(6, 7)은 브래그 미러(6, 7)이고,
    각각의 미러(6, 7)는 회전축(R)을 중심으로 하는 유효 각도 범위를 보유하며, 그리고 상기 유효 각도 범위 이내에서, 유입되는 빔들(13)은 검출기(12) 상으로 반사될 수 있고,
    각각의 미러(6, 7)는, 유효 각도 범위를 벗어나서, 유입되는 빔들(13)을 투과시켜 하나 이상의 추가 미러(6, 7) 상으로 전달하는 것을 특징으로 하는, 라이다 장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 2개 이상의 미러들(6, 7)은 유입되는 빔들(13)을 교호적으로 검출기(12) 상으로 반사하는, 라이다 장치.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서, 2개 이상의 미러들(6, 7)은 각각의 파장 범위에 대해 양면 반사율을 보유하는, 라이다 장치.
  8. 제1항에 있어서, 2개 이상의 빔원들(2)은 상이한 파장들(λ)을 갖는 2개 이상의 빔들(3)을 생성하기 위해 이용될 수 있는, 라이다 장치.
  9. 제8항에 있어서, 2개 이상의 빔들(3)은 2개 이상의 빔원들(2)을 통해 순차적으로 생성될 수 있는, 라이다 장치.
  10. 제1항에 있어서, 검출기(12)는, 2개 이상의 미러들(6, 7)의 파장 범위들에 적어도 상응하는 스펙트럼 검출 범위를 보유하는, 라이다 장치.
  11. 제1항에 따른 라이다 장치(1)를 이용하여 스캐닝 영역(A)을 스캐닝하기 위한 방법으로서, 하나 이상의 빔(3)이 생성되고, 하나 이상의 빔(5)에 의해 스캐닝 영역(A)이 스캐닝되며, 객체(14) 상에서 반사된 하나 이상의 빔(13)은 회전축(R)을 중심으로 회전될 수 있는 2개 이상의 미러들(6, 7)에 의해 검출기(12) 상으로 지향되는, 상기 스캐닝 영역의 스캐닝 방법에 있어서,
    2개 이상의 미러들(6, 7)의 회전 위치에 따라서, 반사된 빔들(13)은
    - 제1 미러(6)를 투과하여 하나 이상의 제2 미러(7) 상으로 전달되고 하나 이상의 제2 미러(7)에 의해서는 검출기(12) 상으로 반사되거나, 또는
    - 제1 미러(6)를 통해 검출기(12) 상으로 반사되는 것을
    특징으로 하는, 스캐닝 영역의 스캐닝 방법.
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