KR102589418B1 - 점착 시트, 및 점착 시트의 제조 방법 - Google Patents

점착 시트, 및 점착 시트의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

기재 상에 수지를 포함하는 수지층을 갖고, 주성분으로서 수지를 포함하는 수지 부분 (X) 와, 미립자로 이루어지는 입자 부분 (Y) 를 포함하는 수지층을 갖고, 적어도 그 기재가 형성된 측과는 반대측의 그 수지층의 표면 (α) 가 점착성을 갖는 점착 시트로서, 그 기재의 MD 방향의 굽힘 응력 계수 k 가 20 N·mm 이하이고, 또한 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가 260 N/15 mm 이하이고, 그 수지층의 표면 (α) 상에 특정 요건을 만족하는 오목부를 갖는 점착 시트, 및 그 점착 시트의 제조 방법.

Description

점착 시트, 및 점착 시트의 제조 방법
본 발명은 점착 시트, 및 점착 시트의 제조 방법에 관한 것이다.
일반적인 점착 시트는, 기재와, 그 기재 상에 형성된 점착제층과, 필요에 따라 그 점착제층 상에 형성된 박리재로 구성되어 있고, 사용 시에는, 박리재가 형성되어 있는 경우에는 그 박리재를 박리하고, 점착제층을 피착체에 맞닿게 하여 첩부 (貼付) 한다.
그런데, 예를 들어 식별용, 장식용, 도장 마스킹용, 금속판 등의 표면 보호용 등에 사용하는 첩부 면적이 큰 점착 시트는, 피착체에 첩부할 때에 점착제층과 피착체 사이에 공기 고임이 발생하기 쉽고, 그 부분이 「팽창」이 되어, 점착 시트가 피착체에 깔끔하게 첩부되기 어렵다는 문제가 있다.
이와 같은 문제를 해결하기 위해서, 예를 들어 특허문헌 1 에는, 점착제층의 표면에 미세한 엠보스 패턴을 갖는 박리재를 접촉시켜, 점착제층의 표면에 특정 형상의 홈을 소정 패턴으로 인공적으로 배치시켜 이루어지는 점착 시트가 개시되어 있다.
이와 같은 점착 시트를 사용함으로써, 피착체와의 첩부 시에 발생한 「공기 고임」은, 점착제층의 표면에 인공적으로 형성된 홈을 통하여 외부로 빠져나갈 수 있게 되어 있다.
일본 공표특허공보 2001-507732호
그러나, 특허문헌 1 등에 기재된 바와 같은, 특정 형상의 홈이 소정 패턴으로 배치된 점착제층을 갖는 점착 시트는, 홈의 폭이 좁으면 공기가 방출되기 어렵고, 홈의 폭이 넓으면 표면 기재가 움푹 패여 외관이 열등하다 (이하, 간단히 「외관 불량」이라고도 한다.) 는 문제가 있다.
이와 같은 문제는, 예를 들어 도장 대체나 표지 등의 마킹과 같은 목적, 자동차 등의 차량의 도장이나 외관 향상 등의 목적으로 사용되는 점착 시트에 있어서 특히 문제가 된다. 그리고, 점착 시트를 첩부하는 피착체는, 단일의 평면을 갖는 것으로 한정되지 않는다. 그 때문에, 점착 시트는 피착체의 형상에 맞춰 접히면서 첩부되는 경우가 많다. 이와 같은 피착체에, 점착 시트를 접으면서 첩부한 경우, 점착 시트와 피착체 사이에 간극이 발생 (이하, 간단히 「들뜸」이라고도 한다.) 하거나, 나아가서는 점착 시트가 피착체로부터 벗겨져 버린다 (이하, 간단히 「벗겨짐」이라고도 한다.) 는 문제가 발생한다. 따라서, 당해 용도에 사용되는 점착 시트에는, 상기 서술한 외관 불량의 억제와 함께, 우수한 접힘 첩부성이 요구된다.
본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 피착체에 첩부했을 때에, 생길 수 있는 공기 고임을 용이하게 제거할 수 있는 우수한 에어 방출성을 가짐과 함께, 외관 불량이 없고, 또한 우수한 접힘 첩부성을 갖는, 점착 시트, 및 당해 점착 시트의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 특정 기재 상에, 주성분으로서 수지를 포함하는 수지 부분과, 미립자로 이루어지는 입자 부분을 포함하는 수지층을 갖고, 당해 수지층의 표면 상의 특정 영역 내에 최대 0.5 ㎛ 이상의 고저차를 갖는 오목부를 복수 갖고, 또한 추가로 좁은 특정 영역 내에 당해 오목부가 1 개 이상 존재하는 점착 시트가, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.
즉, 본 발명은, 하기 [1] ∼ [23] 을 제공하는 것이다.
[1] 기재 상에 수지를 포함하는 수지층을 갖고, 주성분으로서 수지를 포함하는 수지 부분 (X) 와, 미립자로 이루어지는 입자 부분 (Y) 를 포함하는 수지층을 갖고, 적어도 상기 기재가 형성된 측과는 반대측의 그 수지층의 표면 (α) 가 점착성을 갖는 점착 시트로서,
그 기재의 MD 방향의 굽힘 응력 계수 k 가 20 N·mm 이하이고, 또한 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가 260 N/15 mm 이하이고,
그 수지층의 표면 (α) 상의 임의로 선택된 한 변 5 mm 의 정방형으로 둘러싸인 영역 (P) 내에, 최대 0.5 ㎛ 이상의 고저차를 갖는 오목부가 복수 존재하고, 또한,
표면 (α) 상의 임의로 선택된 한 변 600 ㎛ 의 정방형으로 둘러싸인 영역 (U) 내에, 상기 오목부가 1 개 이상 존재하는, 점착 시트.
[2] 상기 기재의 MD 방향의 영률이 7,000 MPa 이하인, 상기 [1] 에 기재된 점착 시트.
[3] 상기 기재의 MD 방향의 영률이 3,000 MPa 이하인, 상기 [2] 에 기재된 점착 시트.
[4] 상기 기재의 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가 50 N/15 mm 이하인, 상기 [1] ∼ [3] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[5] 상기 미립자가, 실리카 입자, 산화금속 입자, 및 스멕타이트에서 선택되는 1 종 이상인, 상기 [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[6] 상기 수지층을 800 ℃ 에서 30 분간 가열한 후의 질량 유지율이 3 ∼ 90 질량% 인, 상기 [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[7] 입자 부분 (Y) 를 구성하는 상기 미립자의 체적 평균 2 차 입자경이, 상기 수지층의 두께의 1 ∼ 70 % 인, 상기 [1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[8] 상기 미립자의 체적 평균 2 차 입자경이 0.5 ∼ 10 ㎛ 인, 상기 [1] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[9] 상기 수지층이, 상기 기재가 형성된 측으로부터, 주로 수지 부분 (X) 를 포함하는 층 (Xβ), 입자 부분 (Y) 를 15 질량% 이상 포함하는 층 (Y1), 및 주로 수지 부분 (X) 를 포함하는 층 (Xα) 를 이 순서로 적층한 다층 구조체인, 상기 [1] ∼ [8] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[10] 상기 오목부가, 엠보스 패턴의 전사에 의해 형성된 것이 아닌, 상기 [1] ∼ [9] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[11] 상기 오목부의 형상이 부정형인, 상기 [1] ∼ [10] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[12] 상기 수지층의 표면 (α) 를 피착체에 첩부하여 표면 (α) 를 평면으로봤을 때에, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (Vs) 내에 존재하는 모든 오목부의 전체 면적에 대한, 영역 (Vs) 내에 존재하는 다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적의 비율이 95.0 % 이상인, 상기 [1] ∼ [11] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[13] 상기 수지층의 표면 (α) 측으로부터 관찰한 표면 (α) 상에 존재하는 평탄면의 형상이, 부정형인, 상기 [1] ∼ [12] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[14] 상기 수지층의 표면 (α) 를 피착체에 첩부했을 때의 피착체와의 첩부면 면적률이 10 ∼ 95 % 인, 상기 [1] ∼ [13] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[15] 상기 수지층의 표면 (α) 를 평면으로 봤을 때에, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 의 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 내에 존재하는 평탄면의 전체 면적이, 1.0 ㎟ 이상인 상기 [1] ∼ [14] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[16] 상기 수지층의 표면 (α) 를 평면으로 봤을 때에, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 의 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 내에, 직경 100 ㎛ 의 원으로 둘러싸인 영역을 선택 가능한 넓이를 갖는 적어도 1 개의 평탄면이 존재하는, 상기 [1] ∼ [15] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[17] 상기 수지층의 표면 (α) 를 평면으로 봤을 때에, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 의 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 내에, 0.1 ㎟ 이상의 면적을 갖는 평탄면이 적어도 1 개 이상 존재하는, 상기 [1] ∼ [16] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[18] 상기 수지가 점착성 수지를 포함하는, 상기 [1] ∼ [17] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[19] 상기 수지층의 표면 (α) 를 피착체에 첩부했을 때에, 상기 점착 시트의 기재측으로부터는 육안에 의해 상기 오목부의 형상이 확인되지 않는, 상기 [1] ∼ [18] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[20] 도장 대체 테이프, 마킹 필름, 또는 차량 첩부용 테이프에 사용하는, 상기 [1] ∼ [19] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트.
[21] 상기 [1] ∼ [20] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트를 제조하는 방법으로서, 적어도 하기 공정 (1) 및 (2) 를 갖는, 점착 시트의 제조 방법.
공정 (1) : 주성분으로서 수지를 포함하는 조성물 (x) 로 이루어지는 도막 (x'), 및 상기 미립자를 15 질량% 이상 포함하는 조성물 (y) 로 이루어지는 도막 (y') 를 형성하는 공정
공정 (2) : 공정 (1) 에서 형성한 도막 (x') 및 도막 (y') 를 동시에 건조시키는 공정
[22] 상기 [21] 에 기재된 점착 시트를 제조하는 방법으로서, 적어도 하기 공정 (1A) 및 (2A) 를 갖는, 점착 시트의 제조 방법.
공정 (1A) : 박리재 또는 MD 방향의 굽힘 응력 계수 k 가 20 N·mm 이하이고, 또한 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가 260 N/15 mm 이하인 기재 상에, 주성분으로서 수지를 포함하는 조성물 (xβ) 로 이루어지는 도막 (xβ'), 상기 미립자를 15 질량% 이상 포함하는 조성물 (y) 로 이루어지는 도막 (y'), 및 주성분으로서 수지를 포함하는 조성물 (xα) 로 이루어지는 도막 (xα') 를 이 순서로 적층하여 형성하는 공정
공정 (2A) : 공정 (1A) 에서 형성한 도막 (xβ'), 도막 (y'), 및 도막 (xα') 를 동시에 건조시키는 공정
[23] 상기 [21] 에 기재된 점착 시트를 제조하는 방법으로서, 적어도 하기 공정 (1B) 및 (2B) 를 갖는, 점착 시트의 제조 방법.
공정 (1B) : 박리재 또는 MD 방향의 굽힘 응력 계수 k 가 20 N·mm 이하이고, 또한 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가 260 N/15 mm 이하인 기재 상에 형성된, 주로 수지 부분 (X) 를 포함하는 층 (Xβ) 상에, 상기 미립자를 15 질량% 이상 포함하는 조성물 (y) 로 이루어지는 도막 (y'), 및 주성분으로서 수지를 포함하는 조성물 (xα) 로 이루어지는 도막 (xα') 를 이 순서로 적층하여 형성하는 공정
공정 (2B) : 공정 (1B) 에서 형성한 도막 (y') 및 도막 (xα') 를 동시에 건조시키는 공정
본 발명에 의하면, 피착체에 첩부했을 때에, 생길 수 있는 공기 고임을 용이하게 제거할 수 있는 우수한 에어 방출성을 가짐과 함께, 외관 불량이 없고, 또한 우수한 접힘 첩부성을 갖는, 점착 시트를 제공할 수 있다.
도 1 은 본 발명의 점착 시트의 구성의 일례를 나타내는, 그 점착 시트의 단면 모식도이다.
도 2 는 본 발명의 점착 시트가 갖는 수지층의 표면 (α) 측의 형상의 일례를 나타내는, 그 수지층의 단면 모식도이다.
도 3 은 본 발명의 점착 시트가 갖는 수지층의 표면 (α) 의 일례를 나타내는, 그 표면 (α) 의 평면 모식도이다.
도 4 는 수지층의 표면 (α) 와, 평활면을 갖는 투광성 피착체의 당해 평활면을 첩부했을 때의 구성의 일례를 나타내는, 점착 시트의 단면 모식도이다.
도 5 는 디지털 현미경으로, 실시예 1 에서 제작한 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 와, 평활면을 갖는 투광성 피착체의 당해 평활면을 첩부하고, 투광성 피착체측으로부터 표면 (α) 를 관찰했을 때의 디지털 화상을 취득하고, 당해 디지털 화상의 임의로 선택한 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (Vs) 의 화상 (도 5 (a)), 그리고 당해 화상에 대해, 화상 처리 (2 치화 처리) 를 실시하여 얻은, 2 치화 화상 (도 5 (b)) 이다.
도 6 은 디지털 현미경으로, 실시예 1 에서 제작한 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 를 관찰했을 때의 디지털 화상을 취득하고, 당해 디지털 화상의 임의로 선택한 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 의 화상 (도 6 (a)), 그리고 당해 화상에 대해, 화상 처리 (2 치화 처리) 를 실시하여 얻은, 2 치화 화상 (도 6 (b)) 이다.
도 7 은 각 실시예 및 각 비교예에서 실시한 접힘 첩부성 시험의 일부분을 나타내는 모식도이다.
도 8 은 실시예 4 에서 제작한 점착 시트를 주사형 전자현미경으로 관찰했을 때의 화상으로서, (a) 는 당해 점착 시트의 단면 화상, (b) 는 당해 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 의 사시 화상이다.
도 9 는 비교예 2 에서 제작한 점착 시트를 주사형 전자현미경으로 관찰했을 때의 화상으로서, 당해 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 의 사시 화상이다.
본 발명에 있어서, 예를 들어, 「주성분으로서 XX 성분을 포함하는 YY」나 「주로 XX 성분으로 이루어지는 YY」라는 기재는, 「YY 에 포함되는 성분 중, 가장 함유량이 많은 성분은 XX 성분이다」라는 것을 의미하고 있다. 당해 기재에 있어서의 구체적인 XX 성분의 함유량으로는, YY 의 전체량 (100 질량%) 에 대해, 통상 50 질량% 이상, 바람직하게는 65 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 75 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 85 ∼ 100 질량% 이다.
또, 본 발명에 있어서, 예를 들어 「(메트)아크릴산」이란, 「아크릴산」과「메타크릴산」쌍방을 나타내고, 다른 유사 용어도 동일하다.
또, 기재의 「MD 방향」이란, 기재 성형 시의 흐름 방향 (Machine Direction). 예를 들어, 기재가 되는 시트 또는 필름 등을 장척으로 성형한 경우, 당해 시트 또는 필름을 반송하는 방향을 따른 축과 평행한 방향) 을 나타낸다.
또한, 바람직한 수치 범위 (예를 들어, 함유량 등의 범위) 에 대해, 단계적으로 기재된 하한값 및 상한값은, 각각 독립적으로 조합할 수 있다. 예를 들어, 「바람직하게는 10 ∼ 90, 보다 바람직하게는 30 ∼ 60」이라는 기재로부터, 「바람직한 하한값 (10)」 과 「보다 바람직한 상한값 (60)」을 조합하여 「10 ∼ 60」으로 할 수도 있다.
〔점착 시트의 구성〕
먼저, 본 발명의 점착 시트의 구성에 대해 설명한다.
본 발명의 점착 시트는, 기재 상에, 주성분으로서 수지를 포함하는 수지 부분 (X) 와, 미립자로 이루어지는 입자 부분 (Y) 를 포함하는 수지층을 갖고, 적어도 그 기재가 형성된 측과는 반대측의 그 수지층의 표면 (α) 가 점착성을 갖는 점착 시트이다. 그리고, 그 기재의 MD 방향의 굽힘 응력 계수 k 가 20 N·mm 이하이고, 또한 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가 260 N/15 mm 이하이다. 또한, 그 수지층의 표면 (α) 상의 임의로 선택된 한 변 5 mm 의 정방형으로 둘러싸인 영역 (P) 내에, 최대 0.5 ㎛ 이상의 고저차를 갖는 오목부가 복수 존재한다. 그리고, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 한 변 600 ㎛ 의 정방형으로 둘러싸인 영역 (U) 내에, 상기 오목부가 1 개 이상 존재한다.
도 1 은, 본 발명의 점착 시트의 구성의 일례를 나타내는, 그 점착 시트의 단면 모식도이고, 당해 점착 시트는, 미립자 함유층을 포함하는 3 층 구조체로 이루어지는 수지층을 갖는 구성의 일례이다.
본 발명의 일 양태인 점착 시트의 구체적인 구성으로서, 예를 들어 도 1 (a) 에 나타내는 바와 같은, 기재 (11) 상에, 수지층 (12) 을 갖는 점착 시트 (1a) 를 들 수 있다.
그리고, 본 발명의 일 양태인 점착 시트는, 적어도 기재 (11) 가 형성된 측과는 반대측의 수지층 (12) 의 표면 (α)(12a)(이하, 간단히 「표면 (α)」라고도 한다.) 는 점착성을 갖는다.
그 때문에, 본 발명의 일 양태인 점착 시트로는, 취급성의 관점에서, 도 1 에 나타내는 점착 시트 (1a) 에 대해, 수지층 (12) 의 표면 (α)(12a) 상에 추가로 박리재 (14) 를 형성한, 도 1 (b) 에 나타내는 바와 같은, 점착 시트 (1b) 와 같은 구성을 갖는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 일 양태인 점착 시트에 있어서, 기재 (11) 가 형성된 측의 수지층 (12) 의 표면 (β)(12b)(이하, 간단히 「표면 (β)」라고도 한다.) 도 점착성을 가지고 있어도 된다. 표면 (β) 도 점착성을 가짐으로써, 도 1 (a) 및 (b) 에 나타내는 점착 시트 (1a, 1b) 이면, 수지층 (12) 과 기재 (11) 의 밀착성을 보다 양호하게 할 수 있다.
본 발명의 점착 시트가 갖는 수지층 (12) 은, 주성분으로서 수지를 포함하는 수지 부분 (X) 와, 미립자로 이루어지는 입자 부분 (Y) 를 포함하는 층이다. 수지층 (12) 중에 입자 부분 (Y) 가 포함됨으로써, 형상 안정성을 유지할 수 있고, 에어 방출성을 유지할 수 있다.
수지층 (12) 중의 수지 부분 (X) 와 입자 부분 (Y) 의 분포의 구성으로는, 수지 부분 (X) 와 입자 부분 (Y) 가 대략 균등하게 분포한 구성이어도 되고, 국소 적으로 주로 수지 부분 (X) 로 이루어지는 지점과, 주로 입자 부분 (Y) 로 이루어지는 지점으로 나누어지는 구성이어도 된다.
또, 도 1 (a) 및 (b) 에 나타내는 바와 같이, 수지층 (12) 중 표면 (α) 상에 오목부 (13) 가 형성되어 있는 지점에 있어서는, 입자 부분 (Y) 가 차지하는 비율이 다른 곳에 비하여 적어지는 분포여도 되고, 입자 부분 (Y) 가 부분적으로 존재하지 않아도 된다.
수지층 (12) 의 바람직한 일 양태로는, 2 종 이상의 층으로 구성된 다층 구조체여도 된다.
이와 같은 다층 구조체인 수지층으로는, 예를 들어 도 1 의 점착 시트 (1a 및 1b) 와 같은, 기재가 형성된 측으로부터, 주로 수지 부분 (X) 를 포함하는 층 (Xβ), 입자 부분 (Y) 를 15 질량% 이상 포함하는 층 (Y1), 및 주로 수지 부분 (X) 를 포함하는 층 (Xα) 를 이 순서로 적층한 다층 구조를 갖는 수지층을 들 수 있다.
또한, 수지층의 다층 구조체의 구성에 있어서는, 적층하는 2 개의 층의 경계가 판별되지 않고, 혼층된 상태여도 된다.
요컨대, 도 1 의 점착 시트 (1a) 가 갖는 수지층 (12) 에 있어서는, 층 (Xβ) 와 층 (Y1) 의 경계, 및/또는 층 (Y1) 과 층 (Xα) 의 경계가 판별되지 않고, 혼층된 구성이어도 된다.
이하, 도 1 의 점착 시트 (1a) 가 갖는, 층 (Xβ), 층 (Y1), 및 층 (Xα) 의 3 층으로 구성된 수지층 (12) 을 일례로 하여, 다층 구조체인 수지층의 구성에 대해 설명한다.
또한, 층 (Y1) 은, 당해 수지층 (12) 의 최외층 이외에 형성되는 것이 바람직하다. 또, 표면 (α) 는 층 (Y1) 이외의 층에 포함된다. 표면 (α) 가 층 (Y1) 이외의 층에 포함됨으로써, 점착성 및 외관의 저하, 그리고 피착체를 흠집 낼 우려가 저감한다.
또한, 상기 층 (Xα), 상기 층 (Y1), 및 상기 층 (Xβ) 는, 각각 1 종의 조성물로 형성된 단층체여도 되고, 2 종 이상의 조성물로 형성된 복층체여도 된다.
또, 도 1 의 점착 시트 (1a 및 1b) 와 같이, 상기 층 (Y1) 은, 기재의 수평면 방향에 대해, 미립자가 밀집한 부분과, 미립자가 존재하지 않는 부분이 단속적으로 존재하는 것이 바람직하다.
층 (Xβ) 및 층 (Xα) 는, 주로 수지 부분 (X) 를 포함하는 층이지만, 입자 부분 (Y) 를 포함하고 있어도 된다. 단, 층 (Xβ) 및 층 (Xα) 중의 입자 부분 (Y) 의 함유량은, 각각 독립적으로 층 (Xβ) 또는 층 (Xα) 의 전체 질량 (100 질량%) 에 대해, 15 질량% 미만이고, 또한 층 (Xβ) 또는 층 (Xα) 중의 수지의 함유량보다 적다.
요컨대, 입자 부분 (Y) 의 함유량의 점에 있어서, 층 (Xβ) 및 층 (Xα) 와, 층 (Y1) 은 구별된다.
또한, 층 (Xβ) 및 층 (Xα) 는, 수지 부분 (X) 및 입자 부분 (Y) 이외에, 추가로 후술하는 공극 부분 (Z) 를 가져도 된다.
층 (Xβ) 및 층 (Xα) 중의 수지 부분 (X) 의 함유량으로는, 각각 독립적으로 층 (Xβ) 또는 층 (Xα) 의 전체 질량 (100 질량%) 에 대해, 통상 85 질량% 초과이고, 바람직하게는 87 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 90 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 95 ∼ 100 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 100 질량% 이다.
또한, 상기 「수지 부분 (X) 의 함유량」은, 층 (Xβ) 또는 층 (Xα) 중에 포함되는 수지 부분 (X) 를 구성하는, 수지, 점착 부여제, 가교제, 및 범용 첨가제 등의 미립자 이외의 성분의 합계 함유량을 의미한다.
층 (Xβ) 및 층 (Xα) 중의 입자 부분 (Y) 를 구성하는 미립자의 함유량으로는, 각각 독립적으로 층 (Xβ) 또는 층 (Xα) 의 전체 질량 (100 질량%) 에 대해, 15 질량% 미만이지만, 바람직하게는 0 ∼ 13 질량%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 10 질량%, 더욱 바람직하게는 0 ∼ 5 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 0 질량% 이다.
또한, 본 발명에 있어서, 「층 (Xβ) 및 층 (Xα) 중의 미립자의 함유량」은, 당해 층 (Xβ) 또는 층 (Xα) 의 형성 재료인 수지 조성물의 전체량 (100 질량% (단, 희석 용매를 제외한다)) 중의 미립자의 함유량으로 간주할 수도 있다.
층 (Xα) 중의 수지의 함유량으로는, 층 (Xα) 의 전체 질량 (100 질량%) 에 대해, 통상 30 ∼ 100 질량%, 바람직하게는 40 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 50 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 60 ∼ 100 질량% 이다.
한편, 층 (Xβ) 중의 수지의 함유량으로는, 층 (Xβ) 의 전체 질량 (100 질량%) 에 대해, 통상 50 ∼ 100 질량%, 바람직하게는 65 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 75 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 85 ∼ 100 질량% 이다.
또한, 본 발명에 있어서, 「층 (Xβ) 및 층 (Xα) 중의 수지의 함유량」은, 당해 층 (Xβ) 또는 층 (Xα) 의 형성 재료인 수지 조성물의 전체량 (100 질량% (단, 희석 용매를 제외한다)) 중의 수지의 함유량으로 간주할 수 있다.
층 (Y1) 은, 입자 부분 (Y) 만으로 이루어지는 층이어도 되고, 입자 부분 (Y) 와 함께 수지 부분 (X) 를 포함하는 층이어도 되고, 추가로 공극 부분 (Z) 를 갖는 층이어도 된다.
층 (Y1) 중의 입자 부분 (Y) 를 구성하는 미립자의 함유량으로는, 층 (Y1) 의 전체 질량 (100 질량%) 에 대해, 15 질량% 이상이지만, 바람직하게는 20 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 25 ∼ 90 질량%, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 85 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 35 ∼ 80 질량% 이다.
층 (Y1) 중의 수지의 함유량으로는, 층 (Y1) 의 전체 질량 (100 질량%) 에 대해, 통상 0 ∼ 85 질량%, 바람직하게는 1 ∼ 80 질량%, 보다 바람직하게는 5 ∼ 75 질량%, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 70 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 20 ∼ 65 질량% 이다.
또한, 본 발명에 있어서, 「층 (Y1) 중의 미립자의 함유량」및 「층 (Y1) 중의 수지의 함유량」은, 당해 층 (Y1) 의 형성 재료인 조성물의 전체량 (100 질량% (단, 희석 용매를 제외한다)) 중의 미립자 또는 수지의 함유량으로 간주할 수도 있다.
본 발명의 일 양태에 있어서, 층 (Xα) 는, 수지를 포함하고, 미립자의 함유량이 15 질량% 미만인 조성물 (xα) 로 형성된 층인 것이 바람직하다.
마찬가지로, 층 (Xβ) 도, 수지를 포함하고, 미립자의 함유량이 15 질량% 미만인 조성물 (xβ) 로 형성된 층인 것이 바람직하다.
또, 상기 층 (Y1) 은, 미립자를 15 질량% 이상 포함하는 조성물 (y) 로 형성된 층인 것이 바람직하다 (최대 100 질량%).
또한, 조성물 (xα), 조성물 (xβ), 및 조성물 (y1) 의 바람직한 양태 (함유 성분, 함유량 등) 에 대해서는, 후술하는 바와 같다.
본 발명의 점착 시트는, 도 1 (a) 및 (b) 에 나타내는 바와 같이, 수지층 (12) 의 표면 (α)(12a) 상에는 오목부 (13) 가 존재한다.
표면 (α) 상에 존재하는 오목부 (13) 는, 본 발명의 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 를 피착체에 첩부할 때에 생기는 「공기 고임」을, 외부로 빠져나가게 하기 위한 공기 배출 통로로서의 역할을 담당하는 것이다.
또한, 표면 (α) 상에 존재하는 오목부 (13) 를 평면으로 본 경우에 있어서의 당해 오목부 (13) 의 길이는, 특별히 제한은 없다. 요컨대, 오목부 (13) 는, 비교적 긴 홈 형상의 것이나, 비교적 짧은 오목 형상의 것이 포함된다.
또, 수지층의 표면 (α) 상의 오목부는, 에어 방출성, 외관, 및 점착 특성 등의 각종 특성을 밸런스 양호하게 향상시킨 점착 시트로 하는 관점에서, 예를 들어 수지층의 표면에 엠보스 패턴이 실시된 박리재를 가압하여 형성하는 등의 엠보스 패턴의 전사에 의해 형성된 것이 아닌 것이 바람직하다.
또, 본 발명의 일 양태에 있어서, 에어 방출성, 외관, 및 점착 특성 등의 각종 특성을 밸런스 양호하게 향상시킨 점착 시트로 하는 관점에서, 상기 오목부의 형상이 부정형인 것이 바람직하다.
여기서, 본 발명에 있어서 「오목부의 형상이 부정형」이란, 평면으로 보거나 혹은 입체로 본 오목부의 형상이, 원이나 타원 등의 중심을 작도 가능한 도형, 및 다각형 등과 같은 정형의 형상을 갖지 않고, 형태에 규칙성이 없고, 개개의 형상에 유사성이 보이지 않는 형상인 것을 의미하고, 구체적으로는 도 3 에 나타내는 평탄면 (15) 및 오목부 (13) 의 형상이 해당한다.
당해 오목부의 형상이 부정형이면, 에어 방출성이나 점착 특성 등의 각종 특성을 밸런스 양호하게 향상시킨 점착 시트로 할 수 있다.
또, 부정형의 오목부가 복수 존재함으로써, 일정 방향으로부터의 압력이 가해져, 표면 (α) 에 존재하는 오목부의 일부의 형상이 붕괴된 경우에 있어서도, 표면 (α) 에는 형상이 유지된 오목부 (13) 또는 오목부 (130) 가 존재하기 쉬워, 에어 방출의 경로가 소실되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 여기서 말하는, 부정형의 형상으로부터 제외하고 있는 「다각형」이란, 그 내부에 (외부로는 돌출되지 않고) 대각선을 작도 가능한 도형으로서, 내각의 합이 180 × n (도)(n 은 자연수) 의 직선으로 둘러싸인 도형를 가리킨다. 당해 다각형은, 그 코너부가 라운드상의 만곡 형상인 것도 포함된다.
또한, 「표면 (α) 상의 오목부의 형상이 부정형인지 여부」의 판단은, 당해 오목부의 형상을 육안 또는 디지털 현미경 (배율 : 30 ∼ 100 배) 으로 관찰하고 판단하는 것이 원칙이다. 또한, 당해 오목부를 표면 (α) 측으로부터 평면으로 봤을 때의 오목부의 형상이 부정형이라고 판단되면, 「당해 오목부의 형상은 부정형이다」라고 간주할 수도 있다.
단, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 를 10 영역 선택하고, 각 영역 (V) 내에 존재하는 오목부의 형상을 육안 또는 디지털 현미경 (배율 : 30 ∼ 100 배) 으로 표면 (α) 측으로부터 평면으로 보아 (필요에 따라 입체로 보아) 관찰했을 때, 선택한 10 영역의 어디에 있어서도, 각 영역에 존재하는 오목부의 형상이 부정형이라고 판단되면, 「수지층의 표면 (α) 상에 존재하는 오목부의 형상은 부정형이다」라고 간주할 수도 있다.
당해 영역 (V) 가 디지털 현미경의 촬영 가능 영역보다 큰 경우에는, 서로 이웃하는 촬영 가능 영역을 촬영한 복수의 화상을 서로 연결시킨 화상을, 영역 (V) 내를 관찰한 화상으로 하여, 상기 판단에 이용해도 된다. 또, 당해 오목부의 형상이 부정형인 것이, 수지층의 표면 (α) 측으로부터 육안에 의해 시인할 수 있는 것이 바람직하다.
또한, 본 명세서의 기재에서, 각종 형상의 관찰을 실시할 때에 사용하는 디지털 현미경으로는, 예를 들어 주식회사 키엔스 제조의 제품명 「디지털 마이크로스코프 VHX-1000」이나 「디지털 마이크로스코프 VHX-5000」등을 들 수 있다.
또, 에어 방출성을 향상시킨 점착 시트로 하는 관점에서, 당해 오목부의 부정형의 형상이, 표출된 수지층의 표면 (α) 측으로부터 육안에 의해 시인할 수 있는 것이 바람직하다. 또한, 도 1 (b) 에 나타내는 바와 같은, 수지층 (12) 의 표면 (α)(12a) 상에 추가로 박리재 (14) 를 형성한 점착 시트 (1b) 에서는, 박리재 (14) 를 박리하고, 표출된 표면 (α) 측으로부터 육안에 의해 시인할 수 있는 것이 바람직하다.
또, 상기 오목부는, 상기 수지층의 자기 형성화에 의해 형성된 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서 「자기 형성화」란, 수지층의 자율적인 형성 과정에 있어서, 자연스럽게 무질서한 형상을 만들어 내는 현상을 의미하고, 보다 상세하게는, 수지층의 형성 재료인 조성물로 형성된 도막을 건조시키고, 수지층의 자율적인 형성 과정에 있어서, 자연스럽게 무질서한 형상을 만들어 내는 현상을 의미한다.
또한, 이와 같이 수지층의 자기 형성화에 의해 형성된 오목부의 형상은, 건조 조건이나 수지층의 형성 재료인 조성물 중의 성분의 종류나 함유량을 조정함으로써 어느 정도의 조정은 가능하기는 하지만, 엠보스 패턴의 전사에 의해 형성되는 홈과는 달리, 「완전히 동일한 형상의 것을 재현하는 것은 사실상 가능하지 않다」고 말할 수 있다. 그 때문에, 수지층의 자기 형성화에 의해 형성된 오목부는, 부정형이라고 할 수 있다. 또, 부정형의 오목부가 형성됨으로써, 평탄면의 형상도 부정형이 된다.
수지층의 자기 형성화에 의해 형성된 오목부의 형성 과정은, 이하와 같이 생각된다.
먼저, 수지층의 형성 재료가 되는 조성물로 이루어지는 도막의 형성 시에 있어서, 도막을 건조시키는 공정에서, 도막 내부에 수축 응력이 발생하여, 수지의 결합력이 약해진 부분에서, 도막 내에서 균열이 생긴다. 그리고, 이 균열 부분의 주변의 수지가, 균열에 의해 일시적으로 생긴 공간으로 유입됨으로써, 수지층의 표면 (α) 상에 오목부가 형성된다고 생각된다.
수지의 함유량이 상이한 다층의 도막을 형성한 후, 당해 다층의 도막을 동시에 건조시킴으로써, 건조시킬 때에 도막 내부에 수축 응력차가 발생하고, 도막의 균열을 일으키기 쉬워진다고 생각된다.
또한, 오목부를 형성하기 쉽게 하는 관점에서, 이하의 사항을 적절히 고려한 후에 조정하는 것이 바람직하다. 이들 사항에 의한 요인이 복합적으로 작용하여, 오목부가 형성되기 쉬워지는 것이라고 생각된다. 덧붙여서, 오목부를 형성하기 쉽게 하기 위한 각 사항의 바람직한 양태는, 후술의 해당 항목에서 기재된 바와 같다.
·도막의 형성 재료인 조성물 중에 포함되는 수지의 종류, 구성 모노머, 분자량, 함유량.
·도막의 형성 재료인 조성물 중에 포함되는 가교제의 종류, 용매의 종류.
·도막의 형성 재료인 조성물의 점도, 고형분 농도.
·형성하는 도막의 두께. (복층인 경우에는, 각 도막의 두께.)
·형성한 도막의 건조 온도, 건조 시간.
또한, 일반적인 점착 시트의 점착제층의 형성에 있어서는, 평탄한 표면을 갖는 점착제층을 형성하는 것을 목적으로 하여, 상기 사항을 적절히 설정하고 있는 경우가 많다.
한편, 본 발명에서는, 점착 시트의 에어 방출성의 향상에 기여할 수 있는 오목부가 의도적으로 형성되도록 상기 사항을 설정하고 있어, 일반적인 점착 시트의 점착제층의 설계 방법과는 완전히 상이하다.
상기 사항은, 형성되는 도막 중에 포함되는 수지의 유동성 등을 고려하여, 적절히 설정되는 것이 바람직하다.
예를 들어, 조성물 중에 미립자를 포함하는 경우, 미립자를 많이 포함하는 조성물로 이루어지는 도막의 점도를 적당한 범위로 조정함으로써, 도막 중에서의 미립자의 소정의 유동성을 유지하면서도, 다른 도막 (수지를 많이 포함하는 도막) 과의 뒤섞임을 적당히 억제할 수 있다. 이와 같이 조정함으로써, 수지를 많이 포함하는 도막에 있어서, 수평 방향으로 균열이 생겨, 오목부가 형성되기 쉬워지는 경향이 있다.
그 결과, 표면 (α) 상에 있어서의, 형성되는 오목부가 차지하는 비율을 증가시킬 수 있음과 함께, 서로 연결되어 있는 오목부의 비율도 증가시켜, 보다 우수한 에어 방출성을 갖는 점착 시트로 할 수 있다.
또, 상기 사항 중에서도, 수지를 많이 포함하는 도막에 포함되는 수지가 적당한 점탄성을 갖도록 당해 수지의 종류, 구성 모노머, 분자량, 수지의 함유량을 적절히 조정하는 것이 바람직하다.
요컨대, 도막의 경도 (수지의 점탄성, 도포액의 점도 등의 인자에 의해 정해지는 경도) 를 적당히 단단하게 함으로써, 수지 부분 (X) 의 수축 응력이 강해져, 오목부가 형성되기 쉬워진다. 당해 도막의 경도가 단단할수록 수축 응력이 강해져, 오목부가 발생하기 쉬워지지만, 지나치게 단단하면 도포 적성이 저하한다. 또, 수지의 탄성을 지나치게 높이면, 도막으로 형성되는 수지층의 점착력이 저하하는 경향이 있다. 그 점을 고려하여, 수지의 점탄성을 적당히 조정하는 것이 바람직하다.
또, 조성물이나 도막 중에 미립자를 포함하는 경우, 미립자의 분산 상태를 적절화함으로써, 미립자에 의한 수지층의 두께의 부풀어오름의 정도나, 오목부의 자기 형성력을 조절하고, 결과적으로 표면 (α) 상에 오목부를 형성하기 쉽게 조정할 수 있는 것이라고 생각된다.
또한, 형성한 도막 (혹은 형성 재료인 조성물) 의 가교 속도를 고려하여, 상기 사항을 적절히 설정하는 것이 바람직하다.
요컨대, 도막의 가교 속도가 지나치게 빠른 경우에는, 오목부가 형성되기 전에 도막이 경화하여 버릴 우려가 있다. 또, 도막의 균열의 크기 및 오목부의 크기에도 영향을 미친다.
도막의 가교 속도는, 형성 재료인 조성물 중의 가교제의 종류 및 용매의 종류나, 도막의 건조 시간 및 건조 온도를 적절히 설정함으로써 조정 가능하다.
또한, 본 발명의 점착 시트가 갖는 수지층의 표면 (α) 상에 존재하는 오목부는, 소정의 패턴을 갖는 것이 아닌 것이 바람직하다. 여기서, 「소정 패턴」이란, 1 개의 오목부의 형상에 주목했을 때에, 당해 오목부가 갖는 일정한 반복 단위가 되는 형상을 의미한다.
본 발명의 점착 시트는, 도 1 (a) 및 (b) 에 나타내는 바와 같이, 기재 (11) 가 형성된 측과는 반대측의 수지층 (12) 의 표면 (α) 상에는, 오목부 (13) 를 복수 갖는다. 표면 (α) 상에 존재하는 오목부 (13) 는, 본 발명의 점착 시트를 피착체에 첩부할 때에 생기는 「공기 고임」을 외부로 빠져나가게 하기 위한 공기 배출 통로로서의 역할을 담당하는 것이다.
그리고, 본 발명의 점착 시트는, 표면 (α) 가, 하기 요건 (I) 및 (II) 를 만족하는 것이다.
요건 (I) : 표면 (α) 상의 임의로 선택된 한 변 5 mm 의 정방형으로 둘러싸인 영역 (P) 내에, 최대 0.5 ㎛ 이상의 고저차를 갖는 오목부가 복수 존재한다.
요건 (II) : 표면 (α) 상의 임의로 선택된 한 변 600 ㎛ 의 정방형으로 둘러싸인 영역 (U) 내에, 상기 오목부가 1 개 이상 존재한다.
이하, 상기 요건 (I) 및 (II) 에 대해 상세히 서술한다.
<요건 (I)>
도 2 는, 본 발명의 점착 시트가 갖는 수지층의 표면 (α) 측의 형상의 일례를 나타내는, 그 수지층의 단면 모식도이다.
도 2 (a) 에 나타낸 오목부 (13) 와 같이, 통상적인 오목부의 형상으로는, 2 개의 산 부분 (M1), (M2) 과, 계곡 부분 (N) 을 갖는다. 본 발명에 있어서 오목부의 「고저차」란, 수지층 (12) 의 두께 방향에 대해, 2 개의 산 부분 (M1), (M2) 중 가장 높은 위치 (m)(도 2 (a) 에서는 산 부분 (M1) 의 극대점) 와, 가장 낮은 위치 (n)(도 2 (a) 에서는 계곡 부분 (N) 의 극소점) 의 차 (h) 의 길이를 의미한다
또, 도 2 (b) 와 같은 경우에는, 2 개의 산 부분 (M11), (M12) 과, 계곡 부분 (N1) 을 갖는 오목부 (131) 와, 2 개의 산 부분 (M12), (M13) 과 계곡 부분 (N2) 을 갖는 오목부 (132) 의 2 개의 오목부를 가지고 있다고 생각된다. 이 경우, 산 부분 (M11) 의 극대점과 계곡 부분 (N1) 의 극소점의 차 (h1) 의 길이가 오목부 (131) 의 고저차를 나타내고, 산 부분 (M13) 의 극대점과 계곡 부분 (N2) 의 극소점의 차 (h2) 의 길이가 오목부 (132) 의 고저차를 나타낸다.
상기 요건 (I) 에서 규정하는 「오목부」란, 최대 0.5 ㎛ 이상의 고저차를 갖는 패인 곳을 가리킨다. 당해 요건 (I) 에서 규정하는 「오목부」로는, 0.5 ㎛ 이상의 고저차를 갖는 지점이 오목부 중 어느 부분에 존재하고 있으면 되고, 당해 오목부의 전체 영역에 걸쳐서 당해 고저차를 가지고 있을 필요는 없다.
또, 당해 요건 (I) 을 만족하는 오목부가 복수 존재하고 있는지 여부의 판단은, 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 상의 임의로 선택된 한 변 5 mm 의 정방형으로 둘러싸인 영역 (P) 내를 전자현미경으로 관찰함으로써 판단하지만, 보다 구체적으로는 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 판단한다.
당해 1 개의 오목부의 고저차의 최대값으로는, 점착 시트의 에어 방출성 향상의 관점, 점착 시트의 외관을 양호하게 유지하는 관점, 그리고 점착 시트의 형상 안정성의 관점에서, 바람직하게는 1.0 ㎛ 이상 수지층의 두께 이하이고, 보다 바람직하게는 3.0 ㎛ 이상 수지층의 두께 이하, 더욱 바람직하게는 5.0 ㎛ 이상 수지층의 두께 이하이다.
또한, 영역 (P) 내에 존재하는 복수의 오목부의 고저차의 값 중 최대값과 수지층의 두께의 비〔고저차의 최대값/수지층의 두께〕로는, 바람직하게는 1/100 ∼ 100/100, 보다 바람직하게는 5/100 ∼ 99/100, 더욱 바람직하게는 10/100 ∼ 96/100, 보다 더욱 바람직하게는 15/100 ∼ 90/100 이다.
또, 당해 오목부의 폭의 평균값으로는, 점착 시트의 에어 방출성 향상의 관점, 그리고 점착 시트의 점착성을 양호하게 하는 관점에서, 바람직하게는 1 ∼ 500 ㎛, 보다 바람직하게는 3 ∼ 400 ㎛, 더욱 바람직하게는 5 ∼ 300 ㎛ 이다.
또한, 본 발명에 있어서 당해 오목부의 폭이란, 2 개의 산 부분의 극대점 간의 거리를 의미하고, 도 2 (a) 에 나타낸 오목부 (13) 에 있어서는, 산 부분 (M1) 과 산 부분 (M2) 의 거리 L 을 가리킨다. 또, 도 2 (b) 에 나타낸 오목부 (131) 에 있어서는, 산 부분 (M11) 과 산 부분 (M12) 의 거리 L1 을 가리키고, 오목부 (132) 에 있어서는, 산 부분 (M13) 과 산 부분 (M12) 의 거리 L2 를 가리킨다.
또, 본 발명의 점착 시트를 평면으로 봤을 때에 (바로 위로부터 봤을 때에), 오목부가 장변과 단변을 갖는 경우에는, 단변을 폭이라고 한다.
당해 1 개의 오목부의 고저차의 최대값과 폭의 평균값의 비〔고저차의 최대값/폭의 평균값〕(도 2 (a) 에 나타낸 오목부 (13) 에 있어서는, 「h/L」을 가리킨다.) 로는, 점착 시트의 에어 방출성 향상의 관점, 그리고 점착 시트의 점착성을 양호하게 하는 관점에서, 바람직하게는 1/500 ∼ 100/1, 보다 바람직하게는 3/400 ∼ 70/3, 더욱 바람직하게는 1/60 ∼ 10/1 이다.
<요건 (II)>
본 발명의 점착 시트는, 도 3 (a) 에 나타내는 바와 같이, 상기 요건 (II) 와 같이, 표면 (α)(12a) 상의 임의로 선택된 한 변 600 ㎛ 의 정방형 (50) 으로 둘러싸인 영역 (U) 내에, 오목부 (13), 또는 오목부 (130) 가 1 개 이상 존재한다. 도 3 (a) 에 있어서는, 당해 영역 (U) 내에, 8 개의 오목부가 존재하고 있다.
이와 같이, 표면 (α) 상의 영역 (U) 내에 상기 서술한 오목부를 1 개 이상 가짐으로써, 점착 시트의 에어 방출성을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서, 표면 (α) 상의 영역 (U) 내에 존재하는 오목부의 수는, 1 개 이상이지만, 상기 관점에서, 바람직하게는 2 개 이상, 보다 바람직하게는 3 개 이상이며, 한편 외관 및 점착 특성을 양호하게 유지하는 관점에서, 바람직하게는 1,000 개 이하, 보다 바람직하게는 500 개 이하, 더욱 바람직하게는 300 개 이하, 보다 더욱 바람직하게는 100 개 이하이다.
또, 점착 시트의 에어 방출성을 향상시키는 관점에서, 도 3 (a) 에 나타내는 바와 같이, 표면 (α)(12a) 상의 영역 (U) 내에 존재하는 오목부 (13), 또는 오목부 (130) 의 1 개 이상이, 영역 (U) 의 경계선인 한 변 600 ㎛ 의 정방형 (50) 의 어느 변까지 연장되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 도 3 에 있어서, 오목부 (13), 또는 오목부 (130) 가 연장되어, 영역 (U) 의 경계선인 한 변 600 ㎛ 의 정방형 (50) 의 어느 변과의 교차 지점 (13a) 의 수는 전부 9 지점 있다.
이와 같은 오목부와 영역 (U) 의 경계선인 한 변 600 ㎛ 인 정방형의 어느 변과의 교차 지점의 수는, 바람직하게는 1 지점 이상이지만, 보다 바람직하게는 2 지점 이상, 더욱 바람직하게는 3 지점 이상이다.
또, 에어 방출성 및 외관을 보다 향상시킨 점착 시트로 하는 관점에서, 본 발명의 일 양태의 점착 시트가 갖는 수지층의 표면 (α) 상의 영역 (U) 내에 존재하는 오목부의 1 개 이상이, 당해 영역 (U) 와 인접하는 한 변 600 ㎛ 의 정방형으로 둘러싸인 1 이상의 다른 영역 (U') 내까지 연속적으로 연장된 형상인 것이 바람직하고, 2 이상의 다른 영역 (U') 내까지 연속적으로 연장된 형상인 것이 보다 바람직하며, 3 이상의 다른 영역 (U') 내까지 연속적으로 연장된 형상인 것이 더욱 바람직하다.
예를 들어, 도 3 (b) 에 있어서, 표면 (α)(12a) 상의 임의로 선택된 한 변 600 ㎛ 의 정방형 (50) 으로 둘러싸인 영역 (U) 내에 주목했을 때, 「당해 영역 (U) 와 인접하는 한 변 600 ㎛ 의 정방형으로 둘러싸인 다른 영역 (U')」란, 한 변 600 ㎛ 의 정방형 (501) 으로 둘러싸인 영역 (U'1), 한 변 600 ㎛ 의 정방형 (502) 으로 둘러싸인 영역 (U'2), 한 변 600 ㎛ 의 정방형 (503) 으로 둘러싸인 영역 (U'3), 및 한 변 600 ㎛ 의 정방형 (504) 으로 둘러싸인 영역 (U'4) 를 가리킨다.
또한, 도 3 (b) 에 나타낸 「오목부 (130)」에 주목하면, 「오목부 (130)」는, 한 변 600 ㎛ 의 정방형 (50) 으로 둘러싸인 영역 (U) 내에 존재하는 오목부이지만, 당해 영역 (U) 와 인접하는 한 변 600 ㎛ 의 정방형 (501) 으로 둘러싸인 영역 (U'1) 내, 한 변 600 ㎛ 의 정방형 (502) 으로 둘러싸인 영역 (U'2) 내, 및 한 변 600 ㎛ 의 정방형 (504) 으로 둘러싸인 영역 (U'4) 내까지 연장된 형상을 가지고 있다.
도 3 (b) 에 나타낸 「오목부 (130)」와 같이, 영역 (U) 내뿐만 아니라, 당해 영역 (U) 와 인접하는 다른 영역 (U') 까지 연장된 형상을 갖는 오목부가 표면 (α) 상에 존재함으로써, 에어 방출성을 보다 향상시킨 점착 시트가 된다.
또, 수지층의 표면 (α) 상의 영역 (U) 내에 존재하는 오목부는, 당해 영역 (U) 와 인접하는 1 이상의 다른 영역 (U') 뿐만 아니라, 또한 다른 영역 (U') 와 인접하는 영역 (U) 이외의 영역 (U'') 로도, 더욱 연속적으로 연장된 형상인 것이 바람직하다.
예를 들어, 도 3 (b) 에 나타낸 「오목부 (130)」는, 영역 (U) 와 인접하는 영역 (U'4) 뿐만 아니라, 영역 (U'4) 와 인접하는 영역 (U'5) 로도, 더욱 연속적으로 연장된 형상을 가지고 있다.
<그 밖의 바람직한 요건>
또, 본 발명의 점착 시트는, 표면 (α) 상에 있어서의 복수의 오목부의 존재하는 위치가 주기성을 갖지 않는 것이 바람직하다.
도 3 (a) 및 (b) 는, 본 발명의 일 양태인 점착 시트가 갖는 수지층의 표면 (α) 의 일례를 나타내는, 그 표면 (α) 의 평면 모식도이다. 도 3 (a) 에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 점착 시트의 수지층 (12) 의 표면 (α)(12a) 상에는 오목부 (13, 130) 가 복수 존재하고 있다.
여기서, 본 발명의 점착 시트는, 도 3 (a) 에 나타내는 바와 같이, 상기한 바와 같이, 수지층 (12) 의 표면 (α)(12a) 상에, 복수의 오목부가 존재하고, 당해 복수의 오목부가 존재하는 위치가 주기성을 갖지 않는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서, 「복수의 오목부가 존재하는 위치가 주기성을 갖지 않는다」란, 복수의 오목부가 존재하는 위치가, 동일한 반복 패턴을 가지지 않고, 불규칙 (랜덤) 인 상태를 의미한다. 요컨대, 특허문헌 1 에 기재된 홈, 요컨대 엠보스 패턴을 갖는 박리재를 수지층의 표면에 가압하는 등의 엠보스 패턴의 전사에 의해 형성된 홈과 같이, 일정한 규칙성에 기초하여 「배치」된 것과는 상이하다.
또한, 「복수의 오목부가 존재하는 위치가 주기성을 갖지 않는다」인지 여부의 판단은, 대상이 되는 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 상에 존재하는 복수의 오목부의 위치를 육안 또는 디지털 현미경 (배율 : 30 ∼ 100 배) 으로 관찰하고 판단하는 것이 원칙이다.
단, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 를 10 영역 선택하고, 각 영역 (V) 내에 존재하는 「복수의 오목부의 위치」를 육안 또는 디지털 현미경 (배율 : 30 ∼ 100 배) 으로 관찰하고 판단해도 된다. 요컨대, 선택한 10 영역의 어디에 있어서도, 각 영역에 존재하는 「복수의 오목부의 위치」에 일정한 주기성이 없는 경우에는, 대상이 되는 점착 시트는 「복수의 오목부가 존재하는 위치가 주기성을 갖지 않는다」 는 것으로 간주할 수 있다.
또, 상기 서술한 복수의 오목부의 형성 위치의 관찰은, 상기 배율로 직접 디지털 현미경으로 관찰하는 방법이라도 되고, 상기 배율로 디지털 현미경을 사용하여 화상을 취득하고, 당해 화상에 나타난 복수의 오목부가 존재하는 위치를 육안으로 관찰하는 방법이라도 된다.
또, 에어 방출성, 외관, 점착 특성, 및 펀칭 가공성 등의 특성을 밸런스 양호하게 향상시킨 점착 시트로 하는 관점에서, 본 발명의 일 양태인 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 상의 평탄면의 형상이, 부정형인 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서 「표면 (α) 상의 평탄면」이란, 수지층의 표면 (α) 상에 있어서, 복수의 오목부가 차지하는 범위를 제외한 표면으로서, 피착체와 첩부 시에 당해 피착체와 첩합 (貼合) 하는 면을 의미한다. 그 때문에, 당해 표면 (α) 에 존재하는 평탄면은, 점착 시트의 점착력에 영향을 미치는 지점이다.
도 3 (a) 에 나타낸 평면 모식도에 있어서, 「평탄면」이란, 수지층의 표면 (α)(12a) 중, 복수의 오목부 (13) 를 제외한 망점 부분 (15) 을 가리킨다.
또, 「평탄면의 형상이 부정형」이란, 평탄면의 형상이, 도 3 (a) 에 나타내는 수지층의 표면 (α)(12a) 의 망점 부분 (15), 및 도 6 (a) 의 디지털 현미경 사진 상에 나타내는 평탄면 (15) 등의 형상과 같이, 원이나 타원 등의 중심을 작도 가능한 도형, 및 다각형 등과 같은 정형의 형상을 갖지 않고, 형태에 규칙성이 없고, 개개의 형상에 유사성이 보이지 않는 형상인 것을 의미하고, 구체적으로는 도 3 에 나타내는 평탄면 (15) 및 오목부 (13) 의 형상이 해당한다.
또한, 여기서 말하는, 부정형의 형상으로부터 제외하고 있는 「다각형」이란, 그 내부에 (외부로는 돌출되지 않고) 대각선을 작도 가능한 도형으로서, 내각의 합이 180 × n (도)(n 은 자연수) 의 직선으로 둘러싸인 도형을 가리킨다. 당해 다각형은, 그 각부 (角部) 가 라운드상의 만곡 형상인 것도 포함된다.
또, 원이나 타원 등의 중심을 작도 가능한 도형, 및 다각형 등과 같은 정형의 형상을 갖지 않고, 소정의 반복 패턴을 가지지 않는 형상인 것을 의미한다. 요컨대, 엠보스 패턴을 갖는 박리재를 수지층의 표면에 가압하는 등의 엠보스 패턴의 전사에 의해 형성되는 평탄면의 형상은 제외된다.
또한, 「표면 (α) 상의 평탄면의 형상이 부정형이다」인지 여부의 판단은, 대상이 되는 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 측으로부터 표면 (α) 상의 평탄면의 형상을 육안 또는 디지털 현미경 (배율 : 30 ∼ 100 배) 으로 관찰하고 판단하는 것이 원칙이다.
단, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 를 10 영역 선택하고, 각 영역 (V) 내에 존재하는 「평탄면의 형상」을 육안 또는 디지털 현미경 (배율 : 30 ∼ 100 배) 으로, 표면 (α) 측으로부터 평면으로 보아 (필요에 따라 입체로 보아) 관찰했을 때, 선택한 10 영역의 어디에 있어서도, 각 영역에 존재하는 「평탄면의 형상」이 부정형이라고 판단된 경우에는, 대상이 되는 점착 시트는, 표면 (α) 상의 평탄면의 형상이 부정형이라는 요건을 만족하는 것으로 간주할 수 있다. 당해 영역 (V) 가 디지털 현미경의 촬영 가능 영역보다 큰 경우에는, 서로 이웃하는 촬영 가능 영역을 촬영한 복수의 화상을 서로 연결한 화상을, 영역 (V) 내를 관찰한 화상으로 하여 상기 판단에 사용해도 된다.
또, 상기 서술한 평탄면의 형상 관찰은, 상기 배율로 직접 디지털 현미경으로 관찰하는 방법이라도 되고, 상기 배율로 디지털 현미경을 사용하여 화상을 취득하고, 당해 화상에 나타난 평탄면의 형상을 육안으로 관찰하는 방법이라도 된다. 또, 당해 평탄부의 형상이 부정형인 것이, 수지층의 표면 (α) 측으로부터 육안에 의해 시인할 수 있는 것이 바람직하다.
또, 본 발명의 점착 시트의 상기 수지층의 표면 (α) 를 피착체에 첩부했을 때의 피착체와의 첩부면 면적의 비율 (이하, 「첩부면 면적률」이라고도 한다.) 은, 바람직하게는 10 ∼ 95 % 이다.
여기서, 당해 피착체와의 첩부면 면적의 비율이 10 % 이상이면, 수지층의 표면 (α) 와 피착체의 접착면을 충분히 확보할 수 있어, 점착 특성이 향상되고, 벗겨짐이 발생할 가능성을 저감할 수 있다.
한편, 당해 피착체와의 첩부면 면적의 비율이 95 % 이하이면, 점착 시트의 에어 방출성이 충분해져, 피착체에 첩부했을 때에 생길 수 있는 공기 고임을 제거하기 쉬워진다.
상기 관점에서, 상기 서술한 피착체와의 첩부면 면적의 비율은, 보다 바람직하게는 20 ∼ 93 %, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 90 %, 보다 더욱 바람직하게는 35 ∼ 85 %, 보다 더욱 바람직하게는 40 ∼ 80 % 이며, 보다 더욱 바람직하게는 45 ∼ 75 % 이다.
본 발명에 있어서, 「본 발명의 점착 시트의 상기 수지층의 표면 (α) 를 피착체에 첩부했을 때의 피착체와의 첩부면 면적의 비율」의 값이란, 구체적으로는 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정된 값을 의미한다.
또, 본 발명의 일 양태의 점착 시트에 있어서, 상기 수지층의 표면 (α) 를 피착체에 첩부하고 표면 (α) 를 평면으로 봤을 때에, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (Vs) 내에 존재하는 모든 오목부의 전체 면적에 대한, 영역 (Vs) 내에 존재하는 다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적의 비율이, 바람직하게는 95 % 이상, 보다 바람직하게는 98 % 이상, 더욱 바람직하게는 100 % 이다.
당해 피착체에 첩부했을 때의 수지층의 표면 (α) 를 평면으로 봤을 때에, 영역 (Vs) 내에 존재하는 모든 오목부의 전체 면적에 대한, 영역 (Vs) 내에 존재하는 다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적의 비율의 확인 방법은, 다음과 같다. 즉, 대상이 되는 점착 시트에 대해, 피착체에 첩부했을 때의 수지층의 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 의 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (Vs) 내에 존재하는 복수의 오목부의 형상을, 디지털 현미경 (배율 : 30 ∼ 100 배) 으로 관찰하여 그들의 면적을 측정해, 당해 영역 (Vs) 내에서 관찰된 당해 복수의 오목부의 면적의 합계 면적에 대해, 다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부 (즉, 상기 서술한 서로 상이한 형상을 갖는 오목부에 상당) 의 면적의 합계 면적이 바람직하게는 95 % 이상 (보다 바람직하게는 98 % 이상, 더욱 바람직하게는 100 %) 이면, 영역 (Vs) 내에 존재하는 모든 오목부의 전체 면적에 대한, 영역 (Vs) 내에 존재하는 다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적의 비율이 95 % 이상을 만족하는 점착 시트라고 판단한다. 또한, 상기 서술한 영역 (Vs) 내에 존재하는 다른 오목부와는 상이한지 여부의 판단은, 상기 배율로 디지털 현미경을 사용하여 화상을 취득하고, 당해 오목부의 면적이나 주위 길이를 측정하여 수치가 동일한지 여부로 판단해도 되고, 당해 화상에 나타난 복수의 오목부의 형상을 육안으로 관찰하고 판단하는 방법이라도 된다.
여기서, 「다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적의 비율이 100 %」란, 「영역 (Vs) 내에서 관찰된 복수의 오목부의 모두가 서로 상이한 형상을 가지고 있다」는 것을 의미한다.
상기 관찰을 실시하는 경우에 사용하는 피착체로는, 「평활면을 갖는 투광성 피착체」를 사용한다. 당해 「평활면을 갖는 투광성 피착체」의 「평활면」이란, JIS B0601 : 2001 에서 규정하는 중심선 평균 거침도 (Ra75) 가 0.1 ㎛ 이하인 면을 의미한다.
또, 「투광성」이란, JIS K7105 에 준거하여 측정되는 전광선 투과율이 70 % 이상인 특성을 의미한다.
당해 투광성 피착체의 재료는, 특별히 제한은 없지만, 상기 규정의 평활면을 갖는 투광성 피착체로 하기 쉽다는 관점 및 육안 또는 디지털 현미경으로 관찰하는 관점에서, 유리가 바람직하다.
상기의 평가 결과로는, 보다 구체적으로는 후술하는 실시예에 기재된 방법에 근거하여 판단한다.
또한, 본 발명의 점착 시트의 첩부 대상이 되는 피착체로는, 평활면의 유무나, 투광성의 유무는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 곡면으로 이루어지는 투광성의 피착체여도 된다.
또, 에어 방출성을 향상시킨 점착 시트로 하는 관점에서, 표면 (α) 에 있어서의 투광성 피착체의 평활면과의 상기 접촉 부분의 형상이, 표면 (α) 와 투광성 피착체의 평활면을 첩부했을 때에, 투광성 피착체측으로부터 육안에 의해 시인할 수 있는 것이 바람직하다.
또, 본 발명의 일 양태의 점착 시트에 있어서, 상기 수지층의 표면 (α) 를 평면으로 봤을 때에, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 내에 존재하는 평탄면의 전체 면적이, 바람직하게는 1.0 ㎟ 이상, 보다 바람직하게는 2.0 ㎟ 이상, 더욱 바람직하게는 3.0 ㎟ 이상, 보다 더욱 바람직하게는 4.0 ㎟ 이상, 보다 더욱 바람직하게는 5.0 ㎟ 이상이다. 또, 바람직하게는 8.5 ㎟ 이하, 보다 바람직하게는 7.3 ㎟ 이하, 더욱 바람직하게는 6.2 ㎟ 이하, 보다 더욱 바람직하게는 5.8 ㎟ 이하이다.
또, 본 발명의 일 양태인 점착 시트에 있어서, 상기 수지층의 표면 (α) 를 평면으로 봤을 때에, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 내에, 표면 (α) 상에 직경 100 ㎛ 의 원으로 둘러싸인 영역을 선택 가능한 넓이를 갖는 적어도 1 개의 평탄면이 존재하는 것이 바람직하고, 직경 150 ㎛ 의 원으로 둘러싸인 영역을 선택 가능한 넓이를 갖는 적어도 1 개의 평탄면이 존재하는 것이 보다 바람직하며, 직경 200 ㎛ 의 원으로 둘러싸인 영역을 선택 가능한 넓이를 갖는 적어도 1 개의 평탄면이 존재하는 것이 더욱 바람직하다.
또, 본 발명의 일 양태의 점착 시트에 있어서, 상기 수지층의 표면 (α) 를 평면으로 봤을 때에, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 내에, 0.1 ㎟ 이상의 면적을 갖는 평탄면이 적어도 1 개 이상 존재하는 것이 바람직하고, 0.2 ㎟ 이상의 면적을 갖는 평탄면이 적어도 1 개 이상 존재하는 것이 보다 바람직하며, 0.3 ㎟ 이상의 면적을 갖는 평탄면이 적어도 1 개 이상 존재하는 것이 더욱 바람직하고, 0.5 ㎟ 이상의 면적을 갖는 평탄면이 적어도 1 개 이상 존재하는 것이 보다 더욱 바람직하며, 1.0 ㎟ 이상의 면적을 갖는 평탄면이 적어도 1 개 이상 존재하는 것이 보다 더욱 바람직하다. 또, 평탄면의 면적의 최대값으로는, 바람직하게는 8.5 ㎟ 이하, 보다 바람직하게는 7.3 ㎟ 이하, 더욱 바람직하게는 6.2 ㎟ 이하, 보다 더욱 바람직하게는 5.8 ㎟ 이하이다.
당해 수지층의 표면 (α) 를 평면으로 봤을 때에, 영역 (V) 내에 존재하는 각 평탄면의 면적, 직경 100 ㎛ 의 원 (150 ㎛ 의 원, 또는 200 ㎛ 의 원) 으로 둘러싸인 영역을 선택 가능한 넓이를 갖는 적어도 1 개의 평탄면이 존재하는지 여부의 판단, 및 모든 평탄면의 면적 (전체 면적) 의 확인 방법은, 다음과 같다. 즉, 대상이 되는 점착 시트에 대해, 피착체에 첩부하기 전의 수지층의 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 내에 존재하는 복수의 평탄면의 형상을, 디지털 현미경 (배율 : 30 ∼ 100 배) 으로 관찰하여 그들의 면적을 측정하고, 당해 영역 (V) 내에서 관찰된 당해 복수의 평탄면의 면적의 합계 면적을 평탄면의 전체 면적으로 한다. 또한, 당해 영역 (V) 내의 각 평탄면의 면적, 및 모든 평탄면의 면적 (전체 면적) 의 확인에는, 상기 배율로 디지털 현미경을 사용하여 화상을 취득하고, 당해 화상에 나타난 평탄면의 면적을 측정함으로써 확인할 수 있다. 또, 직경 100 ㎛ 의 원 (150 ㎛ 의 원, 또는 200 ㎛ 의 원) 으로 둘러싸인 영역을 선택 가능한 넓이를 갖는 적어도 1 개의 평탄면이 존재하는지 여부의 판단은, 당해 화상 또는 화상 해석 소프트를 사용하여 2 치화한 화상으로부터 확인할 수 있다. 보다 구체적으로는, 후술하는 실시예에 기재된 방법에 근거하여 판단한다.
이하, 본 발명의 점착 시트의 각 구성에 대해 설명한다.
〔기재〕
본 발명에서 사용하는 기재는, MD 방향의 굽힘 응력 계수 k 가 20.0 N·mm 이하이고, 또한 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가 260 N/15 mm 이하이다.
여기서 굽힘 응력 계수 k 란, 기재의 영률과 두께로부터 산출되는 계수로서, 하기 식 (1) 에 의해 얻어지는 값이다.
k = E × h3 ···(1)
(k : 굽힘 응력 계수 [N·mm], E : 영률 [N/㎟], h : 두께 [mm])
보다 구체적으로는, 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 얻어진다.
본 발명에서 사용하는 기재의 MD 방향의 굽힘 응력 계수 k 가, 20.0 N·mm 를 초과하면, 본 발명의 점착 시트의 접힘 첩부성이 악화된다. 따라서, 점착 시트의 우수한 접힘 첩부성을 얻는 관점에서, 당해 MD 방향의 굽힘 응력 계수 k 의 값은, 바람직하게는 10.0 N·mm 이하, 보다 바람직하게는 3.5 N·mm 이하, 더욱 바람직하게는 1.50 N·mm 이하, 보다 더욱 바람직하게는 1.00 N·mm 이하, 보다 더욱 바람직하게는 0.90 N·mm 이하이다.
또한, 그 하한은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에 있어서 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 0.005 N·mm 이상, 보다 바람직하게는 0.01 N·mm 이상이다.
또, 본 발명에서 사용하는 기재의 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가 260 N/15 mm 를 초과하면, 본 발명의 점착 시트의 접힘 첩부성이 악화된다. 따라서, 점착 시트의 우수한 접힘 첩부성을 얻는 관점에서, 당해 MD 방향의 10 % 신장 시 강도는, 바람직하게는 210 N/15 mm 이하, 보다 바람직하게는 150 N/15 mm 이하, 더욱 바람직하게는 100 N/15 mm 이하, 보다 더욱 바람직하게는 50 N/15 mm 이하이다.
또한, 그 하한은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에 있어서 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 0.5 N/15 mm 이상, 보다 바람직하게는 1.0 N/15 mm 이상이다.
또, 본 발명에서 사용하는 기재는, MD 방향의 영률 E 가, 점착 시트의 보다 양호한 접힘 첩부성을 얻는 관점에서, 바람직하게는 7,000 MPa 이하, 보다 바람직하게는 4,500 MPa 이하, 더욱 바람직하게는 3,000 MPa 이하, 보다 더욱 바람직하게는 2,000 MPa 이하, 보다 더욱 바람직하게는 1,500 MPa 이하이다.
또한, 그 하한은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에 있어서 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 50 MPa 이상, 보다 바람직하게는 100 MPa 이상이다.
본 발명에서 사용하는 기재로는, MD 방향의 굽힘 응력 계수 k, 및 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가, 상기 서술한 수치 범위를 만족하는 한은 특별히 제한은 없고, 예를 들어 종이 기재, 수지 필름 또는 시트, 종이 기재를 수지로 라미네이트 한 기재 등을 들 수 있고, 본 발명의 일 양태의 점착 시트의 용도에 따라 적절히 선택할 수 있다.
종이 기재를 구성하는 종이로는, 예를 들어 박엽지, 중질지, 상질지, 함침지, 코트지, 아트지, 황산지, 글라신지 등을 들 수 있다.
수지 필름 또는 시트를 구성하는 수지로는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀 수지 ; 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-비닐알코올 공중합체 등의 비닐계 수지 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지 ; 폴리스티렌 ; 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체 ; 3 아세트산셀룰로오스 ; 폴리카보네이트 ; 폴리우레탄, 아크릴 변성 폴리우레탄 등의 우레탄 수지 ; 폴리메틸펜텐 ; 폴리술폰 ; 폴리에테르에테르케톤 ; 폴리에테르술폰 ; 폴리페닐렌술파이드 ; 폴리에테르이미드, 폴리이미드 등의 폴리이미드계 수지 ; 폴리아미드계 수지 ; 아크릴 수지 ; 불소계 수지 등을 들 수 있다.
종이 기재를 수지로 라미네이트한 기재로는, 상기 종이 기재를, 폴리에틸렌 등의 열가소성 수지로 라미네이트한 라미네이트지 등을 들 수 있다.
이들 기재 중에서도, 상기 MD 방향의 영률 E, MD 방향의 굽힘 응력 계수 k, 및 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가, 상기 서술한 수치 범위로 조정하는 것이 용이한 관점에서, 수지 필름 또는 시트가 바람직하고, 폴리올레핀계 수지로 이루어지는 필름 또는 시트, 폴리에스테르계 수지로 이루어지는 필름 또는 시트, 폴리염화비닐로 이루어지는 필름 또는 시트가 보다 바람직하고, 폴리올레핀계 수지로 이루어지는 필름 또는 시트, 폴리염화비닐로 이루어지는 필름 또는 시트가 더욱 바람직하다.
또, 본 발명의 점착 시트를 내열성이 요구되는 용도에 사용하는 경우에는, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 폴리이미드계 수지에서 선택되는 수지로 구성되는 필름 또는 시트가 바람직하고, 내후성이 요구되는 용도에 사용하는 경우에는, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 아크릴 수지, 및 불소 수지에서 선택되는 수지로 구성되는 필름 또는 시트가 바람직하다.
기재의 두께는, 본 발명의 점착 시트의 용도에 따라 적절히 설정되지만, 상기 MD 방향의 굽힘 응력 계수 k, 및 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가, 상기 서술한 수치 범위로 조정하는 것이 용이한 관점에서, 바람직하게는 5 ∼ 1,000 ㎛, 보다 바람직하게는 10 ∼ 500 ㎛, 더욱 바람직하게는 12 ∼ 250 ㎛, 보다 더욱 바람직하게는 15 ∼ 150 ㎛ 이다.
또한, 기재에는, 추가로 자외선 흡수제, 광 안정제, 산화 방지제, 대전 방지제, 슬립제, 안티 블로킹제, 착색제 등의 각종 첨가제를 함유하고 있어도 된다.
또, 본 발명에서 사용하는 기재로는, 상기 서술한 수지 필름 또는 시트의 표면 상에 금속층을 갖는 기재여도 된다.
당해 금속층의 형성하는 금속으로는, 예를 들어 알루미늄, 주석, 크롬, 티탄 등의 금속 광택을 갖는 금속을 들 수 있다.
당해 금속층의 형성 방법으로는, 예를 들어 상기 금속을 진공 증착, 스퍼터링, 이온 플레이팅 등의 PVD 법에 의해 증착하는 방법, 또는 상기 금속으로 이루어지는 금속박을 일반적인 점착제를 사용하여 첩부하는 방법 등을 들 수 있고, 상기 금속을 PVD 법에 의해 증착하는 방법이 바람직하다.
또한, 기재로서 수지 필름 또는 시트를 사용하는 경우, 이들 수지 필름 또는 시트 상에 적층하는 수지층과의 밀착성을 향상시키는 관점에서, 수지 필름 또는 시트의 표면에 대해, 산화법이나 요철화법 등에 의한 표면 처리, 혹은 프라이머 처리를 실시해도 된다.
산화법으로는, 예를 들어 코로나 방전 처리, 플라즈마 방전 처리, 크롬산 처리 (습식), 열풍 처리, 오존, 및 자외선 조사 처리 등을 들 수 있고, 요철화법으로는, 예를 들어 샌드 블라스트법, 용제 처리법 등을 들 수 있다.
〔수지층〕
본 발명의 점착 시트가 갖는 수지층은, 주성분으로서 수지를 포함하는 수지 부분 (X) 와, 미립자로 이루어지는 입자 부분 (Y) 를 포함하고, 상기 서술한 표면 (α) 에 관한 요건 (I) 및 (II) 를 만족하는 것이면, 특별히 제한되지 않는다.
또, 본 발명의 점착 시트는, 적어도 기재가 형성된 측과는 반대측의 당해 수지층의 표면 (α) 가 점착성을 가지고 있지만, 기재가 형성된 측의 당해 수지층의 표면 (β) 도 점착성을 가지고 있어도 된다.
또한, 당해 수지층이 포함하는 수지란, 예를 들어 후술하는 수지 부분 (X) 중에 포함되는 수지를 들 수 있다.
본 발명의 점착 시트가 갖는 수지층의 바람직한 일 양태로는, 수지 부분 (X) 및 입자 부분 (Y) 이외에, 추가로 공극 부분 (Z) 를 갖는 것이 바람직하다. 수지층 중에 공극 부분 (Z) 를 가짐으로써, 점착 시트의 내블리스터성을 향상시킬 수 있다.
이 공극 부분 (Z) 는, 상기 미립자끼리의 사이에 존재하는 공극이나, 상기 미립자가 2 차 입자인 경우, 당해 2 차 입자 내에 존재하는 공극 등도 포함된다.
또한, 당해 수지층이 다층 구조를 갖는 경우, 수지층의 형성 과정이나 형성 직후에 있어서 공극 부분 (Z) 가 존재하고 있었다고 해도, 공극 부분 (Z) 에 수지 부분 (X) 가 유입되고, 공극이 소실되어, 공극 부분 (Z) 가 없는 수지층이 되는 경우도 있다.
그러나, 이와 같이 수지층 중에 일시기 존재하고 있던 공극 부분 (Z) 가 소실된 경우라도, 본 발명의 일 양태인 점착 시트가 갖는 수지층은, 표면 (α) 상에 오목부를 가지므로, 에어 방출성 및 내블리스터성이 우수한 것이 될 수 있다.
또, 본 발명의 일 양태인 점착 시트가 갖는 수지층의 100 ℃ 에 있어서의 전단 저장 탄성률은, 점착 시트의 에어 방출성 및 내블리스터성 향상의 관점에서, 바람직하게는 9.0 × 103 Pa 이상, 보다 바람직하게는 1.0 × 104 Pa 이상, 더욱 바람직하게는 2.0 × 104 Pa 이상이다.
또한, 본 발명에 있어서, 수지층의 100 ℃ 에 있어서의 전단 저장 탄성률은, 점탄성 측정 장치 (예를 들어, Rheometrics 사 제조, 장치명 「DYNAMIC ANALYZER RDA II」) 를 사용하여, 주파수 1 Hz 로 측정함으로써 측정한 값을 의미한다.
수지층의 두께는, 바람직하게는 1 ∼ 300 ㎛, 보다 바람직하게는 5 ∼ 150 ㎛, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 75 ㎛ 이다.
본 발명의 점착 시트의 일 양태인 점착 시트의 표면 (α) 를, 피착체에 첩부했을 때의 점착력으로는, 바람직하게는 0.5 N/25 mm 이상, 보다 바람직하게는 2.0 N/25 mm 이상, 더욱 바람직하게는 3.0 N/25 mm 이상, 보다 더욱 바람직하게는 4.0 N/25 mm 이상, 보다 더욱 바람직하게는 7.0 N/25 mm 이상이다.
또한, 당해 점착력의 값은, 구체적으로는 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정된 값을 의미한다.
<수지층의 다층 구조체>
수지층으로는, 2 종 이상의 층으로 구성된 다층 구조체여도 된다.
이와 같은 다층 구조체인 수지층의 예와, 그 바람직한 구성에 대해서는,〔점착 시트의 구성〕 에서 상기 서술한 바와 같다. 이하, 수지 부분 (X) 및 입자 부분 (Y) 에 대해 더욱 설명한다.
<수지 부분 (X)>
상기 수지층을 구성하는 수지 부분 (X) 는, 주성분으로서 수지를 포함한다.
또한, 본 발명에 있어서 수지 부분 (X) 는, 수지층 중에 포함되는 미립자 이외의 성분을 포함하는 부분으로서, 그 점에서 입자 부분 (Y) 와는 구별된다.
수지 부분 (X) 는, 수지를 주성분으로 하고, 수지 이외에도 가교제나 범용 첨가제가 포함되어 있어도 된다.
수지 부분 (X) 중의 수지의 함유량은, 수지 부분 (X) 의 전체량 (100 질량%) 에 대해, 통상 40 질량% 이상, 바람직하게는 50 질량% 이상, 보다 바람직하게는 65 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 75 질량% 이상, 보다 더욱 바람직하게는 85 질량% 이상, 보다 더욱 바람직하게는 90 질량% 이상이며, 또 바람직하게는 100 질량% 이하, 보다 바람직하게는 99.9 질량% 이하이다.
또한, 본 발명에 있어서, 수지 부분 (X) 의 형성 재료가 되는 수지 조성물의 전체량 (100 질량% (단, 희석 용매를 제외한다)) 중의 수지의 함유량의 값을, 상기 「수지 부분 (X) 중의 수지의 함유량」으로 간주할 수도 있다.
수지 부분 (X) 에 포함되는 상기 수지로는, 형성되는 수지층의 표면 (α) 에 점착성을 발현시키는 관점에서, 점착성 수지를 포함하는 것이 바람직하다.
특히, 도 1 (a) 의 점착 시트 (1a) 등과 같이, 수지층이, 기재측으로부터 층 (Xβ), 층 (Y1), 및 층 (Xα) 를 이 순서로 적층한 다층 구조를 갖는 경우에는, 상기 관점에서 적어도 층 (Xα) 는, 점착성 수지를 포함하는 것이 바람직하다.
당해 점착성 수지로는, 예를 들어 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 고무계 수지, 실리콘계 수지 등을 들 수 있다.
이들 점착성 수지 중에서도, 점착 특성 및 내후성이 양호하고, 형성되는 수지층의 표면 (α) 에, 상기 서술한 요건 (I) 및 (II) 를 만족하는 복수의 오목부를 형성하기 쉽게 하는 관점에서, 아크릴계 수지를 포함하는 것이 바람직하다.
아크릴계 수지의 함유량은, 수지 부분 (X) 에 포함되는 상기 수지의 총량 (100 질량%) 에 대해, 바람직하게는 25 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 50 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 80 ∼ 100 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 100 질량% 이다.
또, 형성되는 수지층의 표면 (α) 에, 상기 서술한 요건 (I) 및 (II) 를 만족하는 복수의 오목부를 형성하기 쉽게 하는 관점에서, 수지 부분 (X) 가, 관능기를 갖는 수지를 포함하는 것이 바람직하고, 관능기를 갖는 아크릴계 수지를 포함하는 것이 보다 바람직하다.
특히, 도 1 (a) 의 점착 시트 (1a) 등과 같이, 수지층이, 기재측으로부터 층 (Xβ), 층 (Y1), 및 층 (Xα) 를 이 순서로 적층한 다층 구조체인 경우에는, 상기 관점에서, 적어도 층 (Y1) 은, 관능기를 갖는 수지를 포함하는 것이 바람직하다.
당해 관능기는, 가교제와의 가교 기점이 되는 기로서, 예를 들어 하이드록시기, 카르복시기, 에폭시기, 아미노기, 시아노기, 케토기, 알콕시실릴기 등을 들 수 있지만, 카르복시기가 바람직하다.
또한, 수지 부분 (X) 가, 상기 관능기를 갖는 수지와 함께, 추가로 가교제를 함유하는 것이 바람직하다. 특히, 수지층이 상기 다층 구조체인 경우에는, 적어도 층 (Y1) 은, 상기 관능기를 갖는 수지와 함께, 가교제를 함유하는 것이 바람직하다.
당해 가교제로는, 예를 들어 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 아지리딘계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있다.
이소시아네이트계 가교제는, 예를 들어 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트 등의 방향족 폴리이소시아네이트 ; 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 지방족 폴리이소시아네이트 ; 이소포론디이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트 등의 지환식 폴리이소시아네이트 ; 그리고, 이들 화합물의 뷰렛체, 이소시아누레이트체, 및 저분자 활성 수소 함유 화합물 (에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올프로판, 피마자유 등) 과의 반응물인 어덕트체 ; 등을 들 수 있다.
에폭시계 가교제로는, 예를 들어 에틸렌글리콜글리시딜에테르, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-자일릴렌디아민, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판디글리시딜에테르, 디글리시딜아닐린, 디글리시딜아민 등을 들 수 있다.
아지리딘계 가교제로는, 예를 들어 디페닐메탄-4,4'-비스(1-아지리딘카복사미드), 트리메틸올프로판트리-β-아지리디닐프로피오네이트, 테트라메틸올메탄트리-β-아지리디닐프로피오네이트, 톨루엔-2,4-비스(1-아지리딘카복사미드), 트리에틸렌멜라민, 비스이소프탈로일-1-(2-메틸아지리딘), 트리스-1-(2-메틸아지리딘)포스핀, 트리메틸올프로판트리-β-(2-메틸아지리딘)프로피오네이트 등을 들 수 있다.
금속 킬레이트계 가교제에는, 금속 원자가 알루미늄, 지르코늄, 티타늄, 아연, 철, 주석 등인 킬레이트 화합물을 들 수 있지만, 상기 서술한 요건 (I) 및 (II) 를 만족하는 복수의 오목부를 형성하기 쉽게 하는 관점에서, 알루미늄 킬레이트계 가교제가 바람직하다.
알루미늄 킬레이트계 가교제로는, 예를 들어 디이소프로폭시알루미늄모노올레일아세토아세테이트, 모노이소프로폭시알루미늄비스올레일아세토아세테이트, 모노이소프로폭시알루미늄모노올리에이트모노에틸아세토아세테이트, 디이소프로폭시알루미늄모노라우릴아세토아세테이트, 디이소프로폭시알루미늄모노스테아릴아세토아세테이트, 디이소프로폭시알루미늄모노이소스테아릴아세토아세테이트 등을 들 수 있다.
또한, 이들 가교제는, 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
이들 중에서도, 형성되는 수지층의 표면 (α) 에, 상기 서술한 요건 (I) 및 (II) 를 만족하는 복수의 오목부를 형성하기 쉽게 하는 관점에서, 수지 부분 (X) 가, 금속 킬레이트계 가교제, 에폭시계 가교제에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 것이 바람직하고, 금속 킬레이트계 가교제를 포함하는 것이 보다 바람직하며, 알루미늄 킬레이트계 가교제를 포함하는 것이 더욱 바람직하다.
가교제의 함유량은, 관능기를 갖는 수지 100 질량부에 대해, 바람직하게는 0.01 ∼ 15 질량부, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 10 질량부, 더욱 바람직하게는 0.3 ∼ 7.0 질량부이다.
또, 본 발명의 수지층의 일 양태로는, 수지층의 표면 (α) 에 오목부를 형성하기 쉽게 하는 관점에서, 수지 부분 (X) 가, 금속 킬레이트계 가교제 및 에폭시계 가교제를 함께 포함하는 것이 바람직하고, 알루미늄 킬레이트계 가교제 및 에폭시계 가교제를 함께 포함하는 것이 바람직하다.
수지 부분 (X) 가 금속 킬레이트계 가교제 및 에폭시계 가교제를 함께 포함하는 경우, 상기 관점에서, 금속 킬레이트계 가교제와 에폭시계 가교제의 함유비 [금속 킬레이트계 가교제/에폭시계 가교제] 로는, 질량비로, 바람직하게는 10/90 ∼ 99.5/0.5, 보다 바람직하게는 50/50 ∼ 99.0/1.0, 더욱 바람직하게는 65/35 ∼ 98.5/1.5, 보다 더욱 바람직하게는 75/25 ∼ 98.0/2.0 이다.
또, 수지 부분 (X) 에는, 범용 첨가제를 함유하고 있어도 된다.
범용 첨가제로는, 예를 들어 점착 부여제, 산화 방지제, 연화제 (가소제), 방청제, 안료, 염료, 지연제, 반응 촉진제, 자외선 흡수제 등을 들 수 있다.
또한, 이들 범용 첨가제는, 각각 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
이들 범용 첨가제를 함유하는 경우, 각각의 범용 첨가제의 함유량은, 수지 100 질량부에 대해, 바람직하게는 0.0001 ∼ 60 질량부, 보다 바람직하게는 0.001 ∼ 50 질량부이다.
수지 부분 (X) 에 포함되는 상기 수지는, 1 종만이라도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
본 발명의 점착 시트가 갖는 수지층의 수지 부분 (X) 의 형성 재료로는, 관능기를 갖는 점착성 수지를 포함하는 점착제인 것이 바람직하고, 관능기를 갖는 아크릴계 수지 (A)(이하, 간단히 「아크릴계 수지 (A)」라고도 한다) 를 포함하는 아크릴계 점착제인 것이 보다 바람직하며, 관능기를 갖는 아크릴계 수지 (A) 및 가교제 (B) 를 포함하는 아크릴계 점착제인 것이 더욱 바람직하다.
당해 아크릴계 점착제는, 용매형, 에멀션형 중 어느 것이라도 된다.
이하, 수지 부분 (X) 를 형성 재료로서 바람직한, 상기 아크릴계 점착제에 대해 설명한다.
당해 아크릴계 점착제 중에 포함되는 아크릴계 수지 (A) 로는, 예를 들어 직사슬 또는 분기 사슬의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트에서 유래하는 구성 단위를 갖는 중합체, 고리형 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트에서 유래하는 구성 단위를 갖는 중합체 등을 들 수 있다.
아크릴계 수지 (A) 의 질량 평균 분자량 (Mw) 으로는, 바람직하게는 5 만 ∼ 150 만, 보다 바람직하게는 15 만 ∼ 130 만, 더욱 바람직하게는 25 만 ∼ 110 만, 보다 더욱 바람직하게는 35 만 ∼ 90 만이다.
아크릴계 수지 (A) 로는, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트 (a1')(이하, 「모노머 (a1')」라고도 한다) 에서 유래하는 구성 단위 (a1), 및 관능기 함유 모노머 (a2')(이하, 「모노머 (a2')」라고도 한다) 에서 유래하는 구성 단위 (a2) 를 갖는 아크릴계 공중합체 (A1) 을 포함하는 것이 바람직하고, 아크릴계 공중합체 (A1) 인 것이 보다 바람직하다.
아크릴계 공중합체 (A1) 의 함유량은, 아크릴계 점착제 중의 아크릴계 수지 (A) 의 전체량 (100 질량%) 에 대해, 바람직하게는 50 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 70 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 80 ∼ 100 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 90 ∼ 100 질량% 이다.
또한, 아크릴계 공중합체 (A1) 의 공중합의 형태는, 특별히 한정되지 않고, 블록 공중합체, 랜덤 공중합체, 그래프트 공중합체 중 어느 것이라도 된다.
모노머 (a1') 가 갖는 알킬기의 탄소수로는, 점착 특성 향상의 관점에서, 보다 바람직하게는 4 ∼ 12, 더욱 바람직하게는 4 ∼ 8, 보다 더욱 바람직하게는 4 ∼ 6 이다.
모노머 (a1') 로는, 예를 들어 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 트리데실(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트가 바람직하고, 부틸(메트)아크릴레이트가 보다 바람직하다.
구성 단위 (a1) 의 함유량은, 아크릴계 공중합체 (A1) 의 전체 구성 단위 (100 질량%) 에 대해, 바람직하게는 50 ∼ 99.5 질량%, 보다 바람직하게는 60 ∼ 99 질량%, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 95 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 80 ∼ 93 질량% 이다.
모노머 (a2') 로는, 예를 들어 하이드록시기 함유 모노머, 카르복시기 함유 모노머, 에폭시기 함유 모노머, 아미노기 함유 모노머, 시아노기 함유 모노머, 케토기 함유 모노머, 알콕시실릴기 함유 모노머 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 카르복시기 함유 모노머가 보다 바람직하다.
카르복시기 함유 모노머로는, (메트)아크릴산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산 등을 들 수 있고, (메트)아크릴산이 바람직하다.
구성 단위 (a2) 의 함유량은, 아크릴계 공중합체 (A1) 의 전체 구성 단위 (100 질량%) 에 대해, 바람직하게는 0.5 ∼ 50 질량%, 보다 바람직하게는 1 ∼ 40 질량%, 더욱 바람직하게는 5 ∼ 30 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 7 ∼ 20 질량% 이다.
또한, 아크릴계 공중합체 (A1) 은, 상기 모노머 (a1') 및 (a2') 이외의 기타 모노머 (a3') 에서 유래하는 구성 단위 (a3) 을 가지고 있어도 된다.
기타 모노머 (a3') 으로는, 예를 들어 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 이미드(메트)아크릴레이트 등의 고리형 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트, 아세트산비닐, 아크릴로니트릴, 스티렌 등을 들 수 있다.
구성 단위 (a3) 의 함유량은, 아크릴계 공중합체 (A1) 의 전체 구성 단위 (100 질량%) 에 대해, 바람직하게는 0 ∼ 30 질량%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 질량%, 더욱 바람직하게는 0 ∼ 10 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 0 ∼ 5 질량% 이다.
또한, 상기 서술한 모노머 (a1') ∼ (a3') 는, 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.
아크릴계 공중합체 (A1) 성분의 합성 방법에 대해서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 원료 모노머를 용매 중에 용해하여, 중합 개시제, 연쇄 이동제 등의 존재하에서 용액 중합하는 방법이나, 유화제, 중합 개시제, 연쇄 이동제, 분산제 등의 존재하에서, 원료 모노머를 사용하여 수계로 에멀션 중합하는 방법으로 제조된다.
상기 아크릴계 점착제 중에 포함되는 가교제 (B) 로는, 상기 서술한 것을 들 수 있지만, 점착 특성을 양호하게 하는 관점, 그리고 형성되는 수지층의 표면 (α) 에, 상기 서술한 요건 (I) 및 (II) 를 만족하는 복수의 오목부를 형성하기 쉽게 하는 관점에서, 금속 킬레이트계 가교제 및 에폭시계 가교제에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 것이 바람직하고, 금속 킬레이트계 가교제를 포함하는 것이 보다 바람직하며, 알루미늄 킬레이트계 가교제를 포함하는 것이 더욱 바람직하다.
또, 수지층의 표면 (α) 상의 복수의 오목부의 형상 유지성을 양호하게 하는 관점에서, 가교제 (B) 로는, 금속 킬레이트계 가교제 및 에폭시계 가교제를 함께 포함하는 것이 바람직하고, 알루미늄 킬레이트계 가교제 및 에폭시계 가교제를 함께 포함하는 것이 바람직하다.
가교제 (B) 의 함유량은, 상기 아크릴계 점착제 중의 아크릴계 수지 (A) 100 질량부에 대해, 바람직하게는 0.01 ∼ 15 질량부, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 10 질량부, 더욱 바람직하게는 0.3 ∼ 7.0 질량부이다.
금속 킬레이트계 가교제 및 에폭시계 가교제를 병용하는 경우, 금속 킬레이트계 가교제와 에폭시계 가교제의 함유비 [금속 킬레이트계 가교제/에폭시계 가교제] 로는, 질량비로, 바람직하게는 10/90 ∼ 99.5/0.5, 보다 바람직하게는 50/50 ∼ 99.0/1.0, 더욱 바람직하게는 65/35 ∼ 98.5/1.5, 보다 더욱 바람직하게는 75/25 ∼ 98.0/2.0 이다.
아크릴계 점착제에는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에 있어서, 범용 첨가제를 함유해도 된다. 범용 첨가제로는, 상기 서술한 것을 들 수 있고, 또 당해 범용 첨가제의 함유량도, 상기 서술한 바와 같다.
본 발명의 일 양태에서 사용하는 아크릴계 점착제에는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에 있어서, 아크릴계 수지 (A) 이외의 점착성 수지 (예를 들어, 우레탄계 수지, 고무계 수지, 실리콘계 수지 등) 를 함유하고 있어도 된다.
아크릴계 점착제 중의 아크릴계 수지 (A) 의 함유량은, 아크릴계 점착제에 포함되는 점착성 수지의 총량 (100 질량%) 에 대해, 바람직하게는 50 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 70 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 80 ∼ 100 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 100 질량% 이다.
<입자 부분 (Y)>
상기 수지층을 구성하는 입자 부분 (Y) 는 미립자로 이루어진다.
당해 미립자의 평균 입경으로는, 점착 시트의 에어 방출성 향상, 외관 향상, 및 내블리스터성 향상의 관점, 그리고 형성되는 수지층의 표면 (α) 에, 상기 서술한 요건 (I) 및 (II) 를 만족하는 복수의 오목부를 형성하기 쉽게 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 ∼ 100 ㎛, 보다 바람직하게는 0.05 ∼ 25 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.1 ∼ 10 ㎛ 이다.
또 입자 부분 (Y) 를 구성하는 상기 미립자의 체적 평균 2 차 입자경이, 상기 수지층의 두께의 1 ∼ 70 % 인 것이 바람직하다. 당해 미립자의 체적 평균 2 차 입자경을, 상기 수지층의 두께의 1 % 이상으로 함으로써, 수지층 중에 미립자가 적당히 배치되기 때문에, 수지층의 응집력에 부분적으로 차를 둠으로써, 건조 공정에 있어서 수지층이 할단되기 쉬워지고, 결과적으로 오목부의 자기 형성화가 용이해진다. 또, 미립자의 체적 평균 2 차 입자경을, 상기 수지층의 두께의 70 % 이하로 함으로써, 수지층 표면으로 입자가 표출되기 어렵게 할 수 있기 때문에, 점착력의 저하를 억제할 수 있다. 당해 미립자의 체적 평균 2 차 입자경은, 바람직하게는 수지층의 두께의 2 ∼ 50 % 의 입자경, 보다 바람직하게는 3 ∼ 30 % 의 입자경, 더욱 바람직하게는 4 ∼ 20 % 의 입자경, 보다 더욱 바람직하게는 5 ∼ 15 % 의 입자경이다.
당해 미립자의 체적 평균 2 차 입자경의 값은, 멀티사이저 ·쓰리기 등을 사용하여, 쿨터 카운터법에 의한 입도 분포를 측정하는 것 등에 의해 구할 수 있다. 또, 수지층의 두께는, JISK7130 : 1999 에 준해, 정압 두께 측정기 (주식회사 테크록 제조, 제품명 「PG-02J」) 등을 사용하여 측정할 수 있다.
본 발명의 일 양태에서 사용하는 미립자로는, 특별히 제한은 없고, 예를 들어 실리카 입자, 금속 미립자, 산화금속 입자, 광물 (예를 들어, 스멕타이트, 벤토나이트), 황산바륨, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 수산화알루미늄, 규산알루미늄, 규산칼슘, 유리 비즈 등의 무기 입자나, 아크릴 비즈 등의 유기 입자 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서의 금속이란, 주기표에 있어서의 1 족 (H 를 제외한다), 2 ∼ 11 족, 12 족 (Hg 를 제외한다), 13 족 (B 를 제외한다), 14 족 (C, 및 Si 를 제외한다), 15 족 (N, P, As, 및 Sb 를 제외한다), 또는 16 족 (O, S, Se, Te, 및 To 를 제외한다) 에 속하는 원소로 이루어지는 입자를 말한다.
산화금속 입자로는, 예를 들어 산화티탄, 알루미나, 베마이트, 산화크롬, 산화니켈, 산화구리, 산화티탄, 산화지르코늄, 산화인듐, 산화아연, 및 이들의 복합 산화물에서 선택되는 산화금속으로 이루어지는 입자 등을 들 수 있고, 이들 산화금속으로 이루어지는 졸 입자도 포함된다.
스멕타이트로는, 예를 들어 몬모릴로나이트, 바이델라이트, 헥토라이트, 사포나이트, 스티븐사이트, 논트로나이트, 소코나이트 등을 들 수 있다.
이들 미립자 중에서도, 내블리스터성의 관점에서, 바람직하게는 실리카 입자, 산화금속 입자, 및 스멕타이트에서 선택되는 1 종 이상, 보다 바람직하게는 실리카 입자, 알루미나, 베마이트, 및 스멕타이트에서 선택되는 1 종 이상, 더욱 바람직하게는 실리카 입자, 알루미나, 베마이트, 및 헥토라이트에서 선택되는 1 종 이상, 보다 더욱 바람직하게는 실리카 입자이다.
본 발명의 일 양태에서 사용하는 실리카 입자는, 건식 실리카 및 습식 실리카 중 어느 것이어도 된다.
또, 본 발명의 일 양태에서 사용하는 실리카 입자는, 반응성 관능기를 갖는 유기 화합물 등으로 표면 수식된 유기 수식 실리카, 알루민산나트륨이나 수산화나트륨 등의 무기 화합물로 표면 처리된 무기 수식 실리카, 그리고 이들 유기 화합물 및 무기 화합물로 표면 처리된 유기 무기 수식 실리카, 실란 커플링제 등의 유기 무기 하이브리드 재료로 표면 처리된 유기 무기 수식 실리카 등이어도 된다.
또한, 이들 실리카 입자는, 2 종 이상으로 이루어지는 혼합물이어도 된다.
실리카 입자 중에 있어서의 실리카의 질량 농도는, 실리카 입자의 전체량 (100 질량%) 에 대해, 바람직하게는 50 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 60 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 100 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 85 ∼ 100 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 90 ∼ 100 질량% 이다.
또, 본 발명의 일 양태에서 사용하는 미립자의 체적 평균 2 차 입자경은, 점착 시트의 에어 방출성, 외관, 및 내블리스터성 향상의 관점, 그리고 형성되는 수지층의 표면 (α) 에, 상기 서술한 요건 (I) 및 (II) 를 만족하는 복수의 오목부를 형성하기 쉽게 하는 관점에서, 바람직하게는 50 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 30 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 10 ㎛ 이하, 보다 더욱 바람직하게는 8 ㎛ 이하, 보다 더욱 바람직하게는 5 ㎛ 이하이며, 또 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 1.5 ㎛ 이상이다.
또한, 본 발명에 있어서, 미립자의 체적 평균 2 차 입자경의 값은, 멀티사이저 쓰리기 (베크만 쿨터사 제조) 등을 사용하여, 쿨터 카운터법에 의한 입도 분포의 측정을 실시함으로써 구한 값이다.
특히, 당해 미립자가 실리카 입자인 경우, 그 체적 평균 2 차 입자경의 적합 범위는, 상기 서술한 미립자의 적합 범위와 동일하만, 이들 중에서도, 바람직하게는 10 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 8 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 5 ㎛ 이하이고, 또 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 1.5 ㎛ 이상이다. 또, 바람직하게는 0.5 ∼ 10 ㎛, 보다 바람직하게는 1 ∼ 8 ㎛, 더욱 바람직하게는 1.5 ∼ 5 ㎛ 이다.
본 발명의 일 양태인 점착 시트가 갖는 수지층을 800 ℃ 에서 30 분간 가열한 후의 질량 유지율은, 바람직하게는 3 ∼ 90 질량%, 보다 바람직하게는 5 ∼ 80 질량%, 더욱 바람직하게는 7 ∼ 70 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 9 ∼ 60 질량% 이다.
당해 질량 유지율은, 수지층 중에 포함되는 미립자의 함유량 (질량%) 을 나타낸다고 간주할 수 있다.
당해 질량 유지율이 3 질량% 이상이면, 에어 방출성, 및 내블리스터성이 우수한 점착 시트가 될 수 있다. 또, 본 발명의 일 양태인 점착 시트의 제조 시에 있어서, 형성되는 수지층의 표면 (α) 에, 상기 서술한 요건 (I) 및 (II) 를 만족하는 복수의 오목부가 형성되기 쉬워진다. 한편, 당해 질량 유지율이 90 질량% 이하이면, 수지층의 막강도가 높아, 외관, 내수성, 및 내약품성이 우수한 점착 시트가 될 수 있다.
〔박리재〕
본 발명의 점착 시트의 일 양태로는, 상기 서술한 수지층 상에, 추가로 박리재를 가지고 있어도 된다. 사용하는 박리재로는, 양면 박리 처리가 된 박리 시트나, 편면 박리 처리된 박리 시트 등이 이용되고, 박리재용의 기재 상에 박리제를 도포한 것 등을 들 수 있다. 또한, 당해 박리 처리면은, 요철 형상이 형성되어 있지 않고, 평탄한 박리재 (예를 들어, 엠보스 패턴이 실시되어 있지 않은 박리재) 가 바람직하다.
박리재용의 기재로는, 예를 들어 본 발명의 일 양태의 점착 시트가 갖는 기재로서 사용되는 상기 서술한 종이 기재나, 수지 필름 또는 시트, 종이 기재를 수지로 라미네이트한 기재 등을 들 수 있다.
박리제로는, 예를 들어 실리콘계 수지, 올레핀계 수지, 이소프렌계 수지, 부타디엔계 수지 등의 고무계 엘라스토머, 장사슬 알킬계 수지, 알키드계 수지, 불소계 수지 등을 들 수 있다.
박리재의 두께는, 특별히 제한 없지만, 바람직하게는 10 ∼ 200 ㎛, 보다 바람직하게는 25 ∼ 170 ㎛, 더욱 바람직하게는 35 ∼ 80 ㎛ 이다.
[점착 시트의 제조 방법]
다음으로, 본 발명의 점착 시트의 제조 방법에 대해 설명한다.
본 발명의 점착 시트의 제조 방법으로는, 특별히 제한은 없지만, 생산성의 관점, 그리고 형성되는 수지층의 표면 (α) 에, 상기 서술한 요건 (I) 및 (II) 를 만족하는 복수의 오목부를 형성하기 쉽게 하는 관점에서, 적어도 하기 공정 (1) 및 (2) 를 갖는 방법이 바람직하다.
공정 (1) : 주성분으로서 수지를 포함하는 조성물 (x) 로 이루어지는 도막 (x'), 및 상기 미립자를 15 질량% 이상 포함하는 조성물 (y) 로 이루어지는 도막 (y') 를 형성하는 공정
공정 (2) : 공정 (1) 에서 형성한 도막 (x') 및 도막 (y') 를 동시에 건조시키는 공정
<공정 (1)>
공정 (1) 은, 주성분으로서 수지를 포함하는 조성물 (x) 로 이루어지는 도막 (x'), 및 상기 미립자를 15 질량% 이상 포함하는 조성물 (y) 로 이루어지는 도막 (y') 를 형성하는 공정이다.
조성물 (x) 는, 수지 부분 (X) 의 형성 재료이고, 상기 서술한 수지와 함께, 가교제를 함유하는 것이 바람직하고, 추가로 상기 서술한 범용 첨가제를 함유해도 된다.
또, 조성물 (y) 는, 입자 부분 (Y) 의 형성 재료이지만, 추가로 수지나 가교제, 상기 서술한 범용 첨가제가 포함되어 있어도 된다. 이들 수지 등의 성분이 포함되어 있는 조성물 (y) 는, 수지 부분 (X) 의 형성 재료로도 된다.
(조성물 (x))
조성물 (x) 중에 함유하는 수지로는, 상기 서술한 수지 부분 (X) 를 구성하는 수지를 들 수 있고, 관능기를 갖는 점착성 수지가 바람직하고, 상기 서술한 관능기를 갖는 아크릴계 수지 (A) 가 보다 바람직하며, 상기 서술한 아크릴계 공중합체 (A1) 이 더욱 바람직하다.
조성물 (x) 중의 수지의 함유량은, 조성물 (x) 의 전체량 (100 질량% (단, 희석 용매를 제외한다)) 에 대해, 통상 40 질량% 이상, 바람직하게는 50 질량% 이상, 보다 바람직하게는 65 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 75 질량% 이상, 보다 더욱 바람직하게는 85 질량% 이상, 보다 더욱 바람직하게는 90 질량% 이상이고, 또 바람직하게는 100 질량% 이하, 보다 바람직하게는 95 질량% 이하이다.
또, 조성물 (x) 중에 함유하는 가교제로는, 상기 서술한 수지 부분 (X) 중에 함유하는 가교제를 들 수 있지만, 금속 킬레이트계 가교제 및 에폭시계 가교제에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 것이 바람직하고, 금속 킬레이트계 가교제를 포함하는 것이 보다 바람직하며, 알루미늄 킬레이트계 가교제를 포함하는 것이 더욱 바람직하다.
또, 형성되는 수지층의 표면 (α) 상의 복수의 오목부의 형상 유지성을 양호하게 하는 관점에서, 수지 부분 (X) 가, 금속 킬레이트계 가교제 및 에폭시계 가교제를 함께 포함하는 것이 바람직하고, 알루미늄 킬레이트계 가교제 및 에폭시계 가교제를 함께 포함하는 것이 보다 바람직하다.
조성물 (x) 가 금속 킬레이트계 가교제 및 에폭시계 가교제를 함께 포함하는 경우, 조성물 (x) 중의 금속 킬레이트계 가교제와 에폭시계 가교제의 함유비 [금속 킬레이트계 가교제/에폭시계 가교제] 로는, 질량비로, 바람직하게는 10/90 ∼ 99.5/0.5, 보다 바람직하게는 50/50 ∼ 99.0/1.0, 더욱 바람직하게는 65/35 ∼ 98.5/1.5, 보다 더욱 바람직하게는 75/25 ∼ 98.0/2.0 이다.
가교제의 함유량은, 조성물 (x) 중에 함유하는 수지 100 질량부에 대해, 바람직하게는 0.01 ∼ 15 질량부, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 10 질량부, 더욱 바람직하게는 0.3 ∼ 7.0 질량부이다.
조성물 (x) 로는, 상기 서술한 관능기를 갖는 아크릴계 수지 (A) 및 가교제 (B) 를 포함하는 아크릴계 점착제인 것이 바람직하고, 상기 서술한 아크릴계 공중합체 (A1) 및 가교제 (B) 를 포함하는 아크릴계 점착제인 것이 보다 바람직하다.
또한, 상기 아크릴계 점착제의 자세한 것은, 상기 서술한 바와 같다.
조성물 (x) 중에는, 상기 서술한 미립자를 함유하고 있어도 되지만, 당해 미립자의 함유량은 15 질량% 미만이고, 또한 조성물 (x) 중에 포함되는 수지의 함유량보다 적다.
구체적인 미립자의 함유량으로는, 조성물 (x) 의 전체량 (100 질량% (단, 희석 용매를 제외한다)) 에 대해, 15 질량% 미만이지만, 바람직하게는 0 ∼ 13 질량%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 10 질량%, 더욱 바람직하게는 0 ∼ 5 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 0 질량% 이다.
(조성물 (y))
조성물 (y) 는, 입자 부분 (Y) 의 형성 재료이고, 적어도 상기 서술한 미립자를 15 질량% 이상 포함하지만, 미립자의 분산성의 관점에서, 미립자와 함께 수지를 함유하는 것이 바람직하고, 또한 당해 수지와 함께 가교제를 함유하는 것이 보다 바람직하다. 또, 조성물 (y) 는, 범용 첨가제를 포함해도 된다.
또한, 이들 수지, 가교제, 및 범용 첨가제는, 수지 부분 (X) 의 형성 재료가 된다.
조성물 (y) 중에 포함되는 미립자로는, 상기 서술한 것을 들 수 있지만, 수지층 중에 공극 부분 (Z) 를 형성하고, 내블리스터성을 향상시킨 점착 시트로 하는 관점에서, 실리카 입자, 산화금속 입자, 및 스멕타이트에서 선택되는 1 종 이상이 바람직하다.
조성물 (y) 중의 미립자의 함유량은, 수지층의 표면 (α) 상에, 수지층의 자기 형성화에 의해 형성되는 부정형의 오목부를 형성하기 쉽게 하는 관점에서, 조성물 (y) 의 전체량 (100 질량% (단, 희석 용매를 제외한다)) 에 대해, 15 질량% 이상이지만, 바람직하게는 20 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 25 ∼ 90 질량%, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 85 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 35 ∼ 80 질량% 이다.
조성물 (y) 중에 포함되는 수지로는, 상기 서술한 조성물 (x) 에 포함되는 수지와 동일한 것을 들 수 있고, 조성물 (x) 와 같은 수지를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 이들 수지는, 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
또, 조성물 (y) 중에 포함되는 보다 구체적인 수지로는, 관능기를 갖는 수지가 바람직하고, 상기 서술한 관능기를 갖는 아크릴계 수지 (A) 가 보다 바람직하고, 상기 서술한 아크릴계 공중합체 (A1) 이 더욱 바람직하다.
조성물 (y) 중의 수지의 함유량은, 조성물 (y) 의 전체량 (100 질량% (단, 희석 용매를 제외한다)) 에 대해, 통상 0 ∼ 85 질량%, 바람직하게는 1 ∼ 80 질량%, 보다 바람직하게는 5 ∼ 75 질량%, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 70 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 20 ∼ 65 질량% 이다.
또, 조성물 (y) 중에 함유하는 가교제로는, 상기 서술한 수지 부분 (X) 중에 함유하는 가교제를 들 수 있지만, 금속 킬레이트계 가교제 및 에폭시계 가교제에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 것이 바람직하고, 금속 킬레이트계 가교제를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 또, 금속 킬레이트계 가교제 및 에폭시계 가교제를 함께 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 또, 당해 금속 킬레이트계 가교제로는, 알루미늄 킬레이트계 가교제가 바람직하다.
또한, 조성물 (y) 가 금속 킬레이트계 가교제 및 에폭시계 가교제를 함께 포함하는 경우, 금속 킬레이트계 가교제와 에폭시계 가교제의 바람직한 함유비 (질량비) 의 범위는, 상기 서술한 조성물 (x) 와 동일하다.
가교제의 함유량은, 조성물 (y) 중에 함유하는 수지 100 질량부에 대해, 바람직하게는 0.01 ∼ 15 질량부, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 10 질량부, 더욱 바람직하게는 0.3 ∼ 7.0 질량부이다.
(도막 (x'), (y') 의 형성 방법)
또한, 도막을 형성할 때에, 도막을 형성하기 쉽게 하기 위해, 조성물 (x) 및 (y) 에, 용매를 배합하여, 조성물 용액의 형태로 하는 것이 바람직하다.
이와 같은 용매로는, 물이나 유기 용매 등을 들 수 있다.
당해 유기 용매로는, 예를 들어 톨루엔, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, tert-부탄올, sec-부탄올, 아세틸아세톤, 시클로헥산온, n-헥산, 시클로헥산 등을 들 수 있다. 또한, 이들 용매는, 단독으로 또는 2 종 이상을 병용해도 된다.
본 공정에서 형성되는 도막 (x') 및 (y') 의 적층하는 순서는 특별히 한정되지 않지만, 도막 (y') 상에 도막 (x') 가 적층되도록 형성되는 것이 바람직하다.
도막 (x') 및 (y') 의 형성 방법으로는, 도막 (y') 를 형성한 후, 도막 (y') 상에, 도막 (x') 를 축차 형성하는 방법이라도 되고, 또, 생산성의 관점에서, 도막 (y') 및 도막 (x') 를 다층 코터로 동시 도포하여 형성하는 방법이라도 된다.
축차 형성할 때에 사용하는 코터로는, 예를 들어, 스핀 코터, 스프레이 코터, 바 코터, 나이프 코터, 롤 코터, 나이프 롤 코터, 블레이드 코터, 그라비어 코터, 커튼 코터, 다이 코터 등을 들 수 있다.
다층 코터로 동시 도포할 때에 사용하는 코터로는, 예를 들어 커튼 코터, 다이 코터 등을 들 수 있지만, 이들 중에서도 조작성의 관점에서 다이 코터가 바람직하다.
또한, 본 공정 (1) 에 있어서, 도막 (x') 및 도막 (y') 의 적어도 일방의 형성 후에, 공정 (2) 로 이행하기 전에, 당해 도막의 경화 반응이 진행되지 않을 정도의 프리건조 처리를 실시해도 된다.
본 공정 (1) 에 있어서의, 당해 프리건조 처리를 실시할 때의 건조 온도로는, 통상은 형성한 도막의 경화가 진행되지 않을 정도의 온도 범위에서 적절히 설정되지만, 바람직하게는 공정 (2) 에서의 건조 온도 미만이다. 「공정 (2) 에서의 건조 온도 미만」이라는 규정이 나타내는 구체적인 건조 온도로는, 바람직하게는 10 ∼ 45 ℃, 보다 바람직하게는 10 ∼ 34 ℃, 더욱 바람직하게는 15 ∼ 30 ℃ 이다.
<공정 (2)>
공정 (2) 는, 공정 (1) 에서 형성한 도막 (x') 및 도막 (y') 를 동시에 건조시키는 공정이다.
본 공정에서, 형성한 도막 (x') 및 도막 (y') 를 동시에 건조시킴으로써, 수지 부분 (X) 와 입자 부분 (Y) 를 포함하는 수지층이 형성됨과 함께, 당해 수지층의 표면 (α) 에는, 복수의 오목부가 형성된다.
본 공정에 있어서의 건조 온도로는, 형성되는 수지층의 표면 (α) 에, 상기 서술한 요건 (I) 및 (II) 를 만족하는 복수의 오목부를 형성하기 쉽게 하는 관점에서, 바람직하게는 35 ∼ 200 ℃, 보다 바람직하게는 60 ∼ 180 ℃, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 160 ℃, 보다 더욱 바람직하게는 80 ∼ 140 ℃ 이다.
당해 건조 온도가 35 ℃ 이상이면, 에어 방출성이 양호한 점착 시트를 얻을 수 있다. 한편, 당해 건조 온도가 200 ℃ 이하이면, 점착 시트가 갖는 기재나 박리재가 수축한다는 문제를 억제할 수 있다.
또한, 당해 건조 온도가 낮을수록, 형성되는 오목부의 고저차가 커지지만, 형성되는 오목부의 수가 감소하는 경향이 있다.
또한, 본 공정에 의해 형성되는 수지층의 입자 부분 (Y) 의 주변에 있어서, 공극 부분 (Z) 가 형성되기 쉽다. 또, 상기 서술한 조성물 (y) 중에 함유하는 미립자로서, 실리카 입자, 산화금속 입자, 및 스멕타이트에서 선택되는 1 종 이상을 사용함으로써, 공극 부분 (Z) 가 용이하게 형성되기 쉬워진다.
또, 도 1 (a) 의 점착 시트 (1a) 등과 같이, 주로 수지 부분 (X) 를 포함하는 층 (Xβ), 입자 부분 (Y) 를 15 질량% 이상 포함하는 층 (Y1), 및 주로 수지 부분 (X) 를 포함하는 층 (Xα) 를 이 순서로 적층한 다층 구조체인 수지층을 갖는 점착 시트를 제조하는 경우에는, 이하에 나타내는 제 1 및 제 2 양태의 제조 방법이 바람직하다.
또한, 이하의 제 1 및 제 2 양태의 제조 방법의 기재에 있어서, 「주성분으로서 수지를 포함하는 조성물 (xβ) 또는 (xα)」는, 상기 서술한 조성물 (x) 와 동일하고, 조성물 (xβ) 또는 (xα) 중에 포함되는 각 성분의 상세 (성분의 종류, 바람직한 성분, 성분의 함유량 등) 도 동일하다. 또, 「미립자를 15 질량% 이상 포함하는 조성물 (y)」도, 상기 서술한 바와 같다.
〔제 1 양태의 제조 방법〕
제 1 양태의 제조 방법으로는, 적어도 하기 공정 (1A) 및 (2A) 를 갖는다.
공정 (1A) : 박리재 또는 MD 방향의 굽힘 응력 계수 k 가 20 N·mm 이하이고, 또한 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가 260 N/15 mm 이하인 기재 상에, 주성분으로서 수지를 포함하는 조성물 (xβ) 로 이루어지는 도막 (xβ'), 상기 미립자를 15 질량% 이상 포함하는 조성물 (y) 로 이루어지는 도막 (y'), 및 주성분으로서 수지를 포함하는 조성물 (xα) 로 이루어지는 도막 (xα') 를 이 순서로 적층하여 형성하는 공정
공정 (2A) : 공정 (1A) 에서 형성한 도막 (xβ'), 도막 (y'), 및 도막 (xα') 를 동시에 건조시키는 공정
공정 (1A) 에 있어서도, 조성물 (xβ), 조성물 (y), 및 조성물 (xα) 에는, 상기 서술한 용매를 배합하여, 조성물 용액의 형태로 한 후, 도포하는 것이 바람직하다.
도막 (xβ'), 도막 (y'), 및 도막 (xα') 의 형성 방법으로는, 상기 기재 또는 박리재 상에, 도막 (xβ') 를 형성한 후, 도막 (xβ') 상에 도막 (y') 를 형성하고, 또한 도막 (y') 상에 도막 (xα') 를 형성한다고 한 바와 같이, 상기 서술한 코터를 사용하여 축차 형성하는 방법이라도 되고, 도막 (xβ'), 도막 (y') 및 도막 (xα') 를, 상기 서술한 다층 코터를 사용하여 동시 도포하여 형성하는 방법이라도 된다.
또한, 본 공정 (1A) 에 있어서, 도막 (xβ'), 도막 (y'), 및 도막 (xα') 의 1 층 이상의 도막을 형성 후에, 공정 (2A) 로 이행하기 전에, 당해 도막의 경화 반응이 진행되지 않을 정도의 프리건조 처리를 실시해도 된다.
예를 들어, 도막 (xβ'), 도막 (y'), 및 도막 (xα') 의 각각의 도막의 형성 후에, 그때마다 상기 프리건조 처리를 실시해도 되고, 도막 (xβ') 및 도막 (y') 의 형성 후에, 일괄하여 상기 프리건조 처리를 실시한 후, 도막 (xα') 를 형성해도 된다.
본 공정 (1A) 에 있어서의, 당해 프리건조 처리를 실시할 때의 건조 온도로는, 통상은 형성한 도막의 경화가 진행되지 않을 정도의 온도 범위에서 적절히 설정되지만, 바람직하게는 공정 (2A) 에서의 건조 온도 미만이다. 「공정 (2A) 에서의 건조 온도 미만」이라는 규정이 나타내는 구체적인 건조 온도로는, 바람직하게는 10 ∼ 45 ℃, 보다 바람직하게는 10 ∼ 34 ℃, 더욱 바람직하게는 15 ∼ 30 ℃ 이다.
공정 (2A) 는, 공정 (1A) 에서 형성한 도막 (xβ'), 도막 (y'), 및 도막 (xα') 를 동시에 건조시키는 공정이지만, 본 공정에 있어서의 건조 온도의 바람직한 범위는, 상기 서술한 공정 (2) 과 동일하다. 본 공정에 의해, 수지 부분 (X) 와 입자 부분 (Y) 를 포함하는 수지층이 형성된다.
〔제 2 양태의 제조 방법〕
제 2 양태의 제조 방법으로는, 적어도 하기 공정 (1B) 및 (2B) 를 갖는다.
공정 (1B) : 박리재 또는 MD 방향의 굽힘 응력 계수 k 가 20 N·mm 이하이고, 또한 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가 260 N/15 mm 이하인 기재 상에 형성된, 주로 수지 부분 (X) 를 포함하는 층 (Xβ) 상에, 상기 미립자를 15 질량% 이상 포함하는 조성물 (y) 로 이루어지는 도막 (y'), 및 주성분으로서 수지를 포함하는 조성물 (xα) 로 이루어지는 도막 (xα') 를 이 순서로 적층하여 형성하는 공정
공정 (2B) : 공정 (1B) 에서 형성한 도막 (y') 및 도막 (xα') 를 동시에 건조시키는 공정
공정 (1B) 에 있어서, 「주로 수지 부분 (X) 를 포함하는 층 (Xβ)」는, 상기 서술한 주성분으로서 수지를 포함하는 조성물 (xβ) 로 이루어지는 도막 (xβ') 를 건조시켜 형성할 수 있다.
층 (Xβ) 가 조성물 (xβ) 로 형성되기 때문에, 층 (Xβ) 에는, 수지 이외에도 가교제나 범용 첨가제 등이 함유되어 있어도 된다. 층 (Xβ) 중의 수지 부분 (X) 의 함유량으로는, 상기 서술한 바와 같다.
층 (Xβ) 의 형성 방법으로는, 상기 기재 또는 박리재 상에, 주성분으로서 수지를 포함하는 조성물 (xβ) 로 이루어지는 도막 (xβ') 를 형성하고, 그 도막 (xβ') 를 건조시켜 형성할 수 있다.
이때의 건조 온도로는, 특별히 제한은 없고, 바람직하게는 35 ∼ 200 ℃, 보다 바람직하게는 60 ∼ 180 ℃, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 160 ℃, 보다 더욱 바람직하게는 80 ∼ 140 ℃ 이다.
또한, 본 양태에 있어서는, 도막 (xβ') 상이 아니라, 건조 후에 얻어진 층 (Xβ) 상에, 도막 (y') 및 도막 (xα') 를 이 순서로 형성하는 점에서, 상기 서술한 제 1 양태와는 상이하다.
공정 (1B) 에 있어서도, 조성물 (y) 및 조성물 (xα) 에는, 상기 서술한 용매를 배합하여, 조성물 용액의 형태로 한 후, 도포하는 것이 바람직하다.
도막 (y') 및 도막 (xα') 의 형성 방법으로는, 층 (Xβ) 상에, 도막 (y') 를 형성한 후, 도막 (y') 상에 도막 (xα') 를 형성한다고 한 바와 같이, 상기 서술한 코터를 사용하여 축차 형성하는 방법이라도 되고, 도막 (y') 및 도막 (xα') 를, 상기 서술한 다층 코터를 사용하여 동시 도포하여 형성하는 방법이라도 된다.
또한, 본 공정 (1B) 에 있어서, 도막 (y') 의 형성 후, 혹은 도막 (y') 및 도막 (xα') 의 형성 후에, 공정 (2B) 로 이행하기 전에, 당해 도막의 경화 반응이 진행되지 않을 정도의 프리건조 처리를 실시해도 된다.
본 공정 (1B) 에 있어서의, 당해 프리건조 처리를 실시할 때의 건조 온도로는, 통상은 형성한 도막의 경화가 진행되지 않을 정도의 온도 범위에서 적절히 설정되지만, 바람직하게는 공정 (2B) 에서의 건조 온도 미만이다. 「공정 (2B) 에서의 건조 온도 미만」이라는 규정이 나타내는 구체적인 건조 온도로는, 바람직하게는 10 ∼ 45 ℃, 보다 바람직하게는 10 ∼ 34 ℃, 더욱 바람직하게는 15 ∼ 30 ℃ 이다.
공정 (2B) 는, 공정 (1B) 에서 형성한 도막 (y') 및 도막 (xα') 를 동시에 건조시키는 공정이지만, 본 공정에 있어서의 건조 온도의 바람직한 범위는, 상기 서술한 공정 (2) 와 동일하다. 본 공정에 의해, 수지 부분 (X) 와 입자 부분 (Y) 를 포함하는 수지층이 형성된다.
상기 서술한 제조 방법에 있어서, 수지층을 박리재 (이하, 「제 1 박리재」라고도 한다.) 상에 형성한 경우, 수지층을 형성한 후에 당해 수지층을 다른 박리재 (이하, 「제 2 박리재」라고도 한다.) 와 첩합하고, 그 후 제 1 박리재를 제거하여, 표출된 수지층을 상기 서술한 요건을 만족시키는 기재와 첩합해도 된다.
[점착 시트의 사용 방법]
본 발명의 일 양태인 점착 시트는, 에어 방출성, 외관, 및 접힘 첩부성 모두가 양호하기 때문에, 예를 들어 도장 대체 테이프, 마킹 필름, 및 차량 첩부용 테이프 (예를 들어, 자동차의 외장이나 내장을 장식하는 장식용 테이프나, 블랙 아웃 테이프 등) 에 바람직하게 사용할 수 있다. 특히, 외관 및 접힘 첩부성이 양호한 점에서, 차량 등의 접힘부를 갖는 형상면에 첩부할 때에 사용하는 테이프로서 유용하다.
본 발명의 일 양태인 점착 시트를 사용하는 때는, 대상이 되는 피착체에 대해 테이프를 첩부할 때에 통상 사용하는 방법을 사용할 수 있고, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 상기 수지층의 표면 (α) 가 표출되는 면을 피착체에 대해 첩부하고, 스퀴지 등을 사용하여 당해 표면 (α) 와 피착체 사이의 에어를 빼내면서 압착하여 첩부하는 방법을 사용할 수 있다.
실시예
본 발명에 대해, 이하의 실시예에 의해 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예로 한정되는 것이 아니다. 또한, 이하의 제조예 및 실시예에 있어서의 물성값은, 이하의 방법에 의해 측정한 값이다.
<수지의 질량 평균 분자량 (Mw)>
겔 침투 크로마토그래프 장치 (토소 주식회사 제조, 제품명 「HLC-8020」) 를 사용하여, 하기 조건하에서 측정하고, 표준 폴리스티렌 환산으로 측정한 값을 사용하였다.
(측정 조건)
·칼럼 : 「TSK guard column HXL-L」 「TSK gel G2500HXL」 「TSK gel G2000HXL」 「TSK gel G1000HXL」(모두 토소 주식회사 제조) 을 순차 연결한 것.
·칼럼 온도 : 40 ℃
·전개 용매 : 테트라하이드로푸란
·유속 : 1.0 mL/min
<실리카 입자의 체적 평균 2 차 입자경>
실리카 입자의 체적 평균 2 차 입자경은, 멀티사이저 쓰리기 (베크만 쿨터사 제조) 를 사용하여, 쿨터 카운터법에 의한 입도 분포의 측정을 실시함으로써 구하였다.
제조예 1 ∼ 3
(수지 조성물의 용액 (x-1) ∼ (x-3) 의 조제)
표 1 에 기재된 종류 및 고형분량의 아크릴계 수지의 용액 100 질량부에 대해, 표 1 에 기재된 종류 및 배합량의 가교제 및 희석 용매를 첨가하고, 표 1 에 기재된 고형분 농도의 수지 조성물의 용액 (x-1) ∼ (x-3) 을 각각 조제하였다.
또한, 수지 조성물의 용액 (x-1) ∼ (x-3) 의 조제에 사용한 표 1 에 기재된 각 성분의 자세한 것은 이하와 같다.
<아크릴계 수지의 용액>
·용액 (i) : 아크릴계 수지 (x-i)(부틸아크릴레이트 (BA) 및 아크릴산 (AA) 에서 유래하는 구성 단위를 갖는 아크릴계 공중합체, BA/AA = 90/10 (질량%), Mw : 63 만) 을 고형분 농도 34.0 질량% 로 함유하는, 그 아크릴계 수지 (x-i), 톨루엔, 및 아세트산에틸의 혼합 용액.
·용액 (ii) : 아크릴계 수지 (x-ii)(부틸아크릴레이트 (BA) 및 아크릴산 (AA) 에서 유래하는 구성 단위를 갖는 아크릴계 공중합체, BA/AA = 90/10 (질량%), Mw : 46 만) 를 고형분 농도 37.0 질량% 로 함유하는, 그 아크릴계 수지 (x-ii), 톨루엔, 및 아세트산에틸의 혼합 용액.
·용액 (iii) : 아크릴계 수지 (x-iii)(부틸아크릴레이트 (BA), 아세트산비닐 (VAc), 및 아크릴산 (AA) 에서 유래하는 구성 단위를 갖는 아크릴계 공중합체, BA/VAc/AA = 85/10/5 (질량%), Mw : 37 만) 을 고형분 농도 43.0 질량% 로 함유하는, 그 아크릴계 수지 (x-iii), 아세트산에틸, 헥산, 및 아세톤의 혼합 용액.
<가교제>
·알루미늄 킬레이트계 가교제 : 제품명 「M-5A」, 소켄 화학 주식회사 제조, 고형분 농도 = 4.95 질량%.
·에폭시계 가교제 : 「TETRAD (등록상표)-C」(제품명, 미츠비시 가스 화학 주식회사 제조) 를 톨루엔으로 희석하여, 고형분 농도 5 질량% 로 한 에폭시계 가교제의 용액.
<희석 용매>
·IPA : 이소프로필알코올.
·혼합 용매 (I) : 아세트산에틸 및 이소프로필알코올 (IPA) 로 이루어지는 혼합 용매 (아세트산에틸/IPA = 49/51 (질량비)).
Figure 112018030372963-pct00001
제조예 4
(미립자 분산액 (f-1) 의 조제)
아크릴계 수지의 용액 (부틸아크릴레이트 (BA) 및 아크릴산 (AA) 에서 유래하는 구성 단위를 갖는 아크릴계 공중합체 (BA/AA = 90/10 (질량%), Mw : 47 만) 를 함유하는 고형분 농도 33.6 질량% 의 톨루엔과 아세트산에틸의 혼합 용액) 100 질량부 (고형분 : 33.6 질량부) 에 대해, 미립자로서, 실리카 입자 (제품명 「닙실 E-200A」, 토소 실리카사 제조, 체적 평균 2 차 입자경 : 3 ㎛) 를 50.4 질량부 (고형분 : 50.4 질량부) 및 톨루엔을 첨가하고, 미립자를 분산시켜, 아크릴계 수지 및 실리카 입자를 포함하는 고형분 농도 27 질량% 의 미립자 분산액 (f-1) 을 조제하였다.
제조예 5
(미립자 분산액 (f-2) 의 조제)
아크릴계 수지의 용액 (부틸아크릴레이트 (BA) 및 아크릴산 (AA) 에서 유래하는 구성 단위를 갖는 아크릴계 공중합체 (BA/AA = 90/10 (질량%), Mw : 47 만) 을 함유하는 고형분 농도 33.6 질량% 의 톨루엔과 아세트산에틸의 혼합 용액) 100 질량부 (고형분 : 33.6 질량부) 에 대해, 미립자로서, 실리카 입자 (제품명 「닙실 E-200A」, 토소 실리카사 제조, 체적 평균 2 차 입자경 : 3 ㎛) 를 50.4 질량부 (고형분 : 50.4 질량부) 및 톨루엔을 첨가하고, 미립자를 분산시켜, 아크릴계 수지 및 실리카 입자를 포함하는 고형분 농도 30 질량% 의 미립자 분산액 (f-2) 를 조제하였다.
제조예 6
(도막 (y') 형성용 도포액 (y-1) 의 조제)
표 2 에 기재된 배합량 (고형분량) 의 제조예 4 에서 조제한 미립자 분산액 (f-1) 에 대해, 표 2 에 기재된 종류 및 배합량의 아크릴계 수지의 용액, 가교제, 및 희석 용매를 첨가하여, 표 2 에 기재된 고형분 농도의 도막 (y') 형성용 도포액 (y-1) 을 조제하였다.
제조예 7
(도막 (y') 형성용 도포액 (y-2) 의 조제)
표 2 에 기재된 배합량 (고형분량) 의 제조예 5 에서 조제한 미립자 분산액 (f-2) 에 대해, 표 2 에 기재된 종류 및 배합량의 아크릴계 수지의 용액, 가교제, 및 희석 용매를 첨가하여, 표 2 에 기재된 고형분 농도의 도막 (y') 형성용 도포액 (y-2) 를 조제하였다.
또한, 도막 (y') 형성용 도포액 (y-1), (y-2) 의 조제에 사용한 표 2 에 기재된 각 성분의 자세한 것은 이하와 같다.
<아크릴계 수지의 용액>
·용액 (i) : 아크릴계 수지 (x-i) 을 고형분 농도 34.0 질량% 로 함유하는, 그 아크릴계 수지 (x-i), 톨루엔, 및 아세트산에틸의 혼합 용액 (자세한 것은 상기한 바와 같다).
·용액 (iii) : 아크릴계 수지 (x-iii) 을 고형분 농도 43.0 질량% 로 함유하는, 그 아크릴계 수지 (x-iii), 아세트산에틸, 헥산, 및 아세톤의 혼합 용액 (자세한 것은 상기한 바와 같다).
<가교제>
·알루미늄 킬레이트계 가교제 : 제품명 「M-5A」, 소켄 화학 주식회사 제조, 고형분 농도 = 4.95 질량%.
·에폭시계 가교제 : 「TETRAD (등록상표)-C」(제품명, 미츠비시 가스 화학 주식회사 제조) 를 톨루엔으로 희석하여, 고형분 농도 5 질량% 로 한 에폭시계 가교제의 용액.
<희석 용매>
·혼합 용매 (II) : 이소프로필알코올 (IPA), 및 시클로헥산온으로 이루어지는 혼합 용매 (IPA/시클로헥산온 = 95/5 (질량비)).
·혼합 용매 (III) : 이소프로필알코올 (IPA) 및 시클로헥산온으로 이루어지는 혼합 용매 (IPA/시클로헥산온 = 60/40 (질량비)).
Figure 112018030372963-pct00002
실시예 1 ∼ 11, 비교예 1
제 1 박리재인 박리 필름 (린텍 주식회사 제조, 제품명 「SP-PET381031」, 두께 38 ㎛, PET 필름의 편면에 실리콘계 박리제층을 형성한 것) 의 박리제층 상에, 제조예 1 에서 조제한 수지 조성물의 용액 (x-1) 과, 제조예 6 에서 조제한 도막 (y') 형성용 도포액 (y-1) 과, 제조예 2 에서 조제한 수지 조성물의 용액 (x-2) 를, 박리제층 상으로부터 이 순서로 다층 다이 코터 (폭 : 250 mm) 를 사용하여 동시에 도포하여, 도막 (xβ'), 도막 (y') 및 도막 (xα') 를 동시에 형성하였다. 또한, 도막 (xβ'), 도막 (y') 및 도막 (xα') 를 형성하기 위한 각 용액 (도포액) 의 유량 및 도포 속도는, 표 3 에 기재된 바와 같다.
그리고, 3 층의 도막 (xβ'), 도막 (y'), 도막 (xα') 를, 건조 온도 100 ℃ 에서 2 분간, 동시에 건조시켜, 수지 부분 (X) 와 입자 부분 (Y) 를 포함하는, 표 3 에 나타내는 두께의 수지층을 형성하였다. 그리고, 형성한 수지층의 표면 (α) 상에, 제 2 박리재인 박리 필름 (린텍 주식회사 제조, 제품명 「SP-PET386040」) 의 박리제층의 표면을 첩합하도록 라미네이트하여, 기재가 없는 점착 시트를 제작하였다.
이어서, 이 기재가 없는 점착 시트를 23 ℃ 환경하에서 1 주간 가만히 정지시킨 후, 제 1 박리재를 제거하고, 표출된 수지층의 표면 (β) 를, 표 3 에 기재된 기재 표면에 각각 첩합하여, 기재가 부착된 점착 시트를 제작하였다.
또한, 실시예 6 에서는, 알루미늄 증착층을 형성한 PET 필름을 사용했지만, 당해 수지층의 표면 (β) 와, 당해 알루미늄 증착층의 표면을 첩합하도록 라미네이트하였다.
비교예 2
제 1 박리재인 박리 필름 (린텍 주식회사 제조, 제품명 「SP-PET381031」, 두께 38 ㎛, PET 필름의 편면에 실리콘계 박리제층을 형성한 것) 의 박리제층 상에, 제조예 3 에서 조제한 수지 조성물의 용액 (x-3) 과, 제조예 7 에서 조제한 도막 (y') 형성용 도포액 (y-2) 와, 제조예 3 에서 조제한 수지 조성물의 용액 (x-3) 을, 박리제층 상으로부터 이 순서로 다층 다이 코터 (폭 : 250 mm) 를 사용하여 동시에 도포하여, 도막 (xβ'), 도막 (y') 및 도막 (xα') 를 동시에 형성하였다. 또한, 도막 (xβ'), 도막 (y') 및 도막 (xα') 를 형성하기 위한 각 용액 (도포액) 의 유량 및 도포 속도는, 표 3 에 기재된 바와 같다.
그리고, 3 층의 도막 (xβ'), 도막 (y'), 도막 (xα') 를, 건조 온도 100 ℃ 에서 2 분간, 동시에 건조시켜, 수지 부분 (X) 와 입자 부분 (Y) 를 포함하는, 표 3 에 나타내는 두께의 수지층을 갖는 점착 시트를 제작하였다.
형성한 수지층의 표면 (α) 상에, 제 2 박리재인 박리 필름 (린텍 주식회사 제조, 제품명 「SP-PET386040」) 의 박리제층의 표면을 첩합하도록 라미네이트하여, 기재가 없는 점착 시트를 제작하였다.
이어서, 이 기재가 없는 점착 시트를 23 ℃ 환경하에서 1 주간 가만히 정지시킨 후, 제 1 박리재를 제거하고, 표출된 수지층의 표면 (β) 를, 표 3 에 기재된 기재에 첩합하여, 기재가 부착된 점착 시트를 제작하였다.
각 실시예 및 각 비교예에서 제작한 각 점착 시트에 사용한 기재의 종류, 그리고 수지층의 구성 및 도포 조건을 하기 표 3 에 나타낸다.
또한, 각 실시예 및 각 비교예에서 사용한 표 3 및 표 4 에 나타내는 각 기재는, 이하에 나타내는 바와 같다.
기재 No.1 : 백색 폴리염화비닐 (PVC) 필름, 제품명 「PVC 500OWM-3(GI)」, 오카모토 주식회사 제조.
기재 No.2 : 백색 PVC 필름, 제품명 「하이에스 페인트 (등록상표) M5011 백색」, 닛폰 카바이드 공업 주식회사 제조.
기재 No.3 : 흑색 비PVC 필름, 제품명 「아트플라이 (등록상표) #100 SW001」, 미츠비시 수지 주식회사 제조.
기재 No.4 : 흑색 PVC 필름, 제품명 「비니반 (등록상표) BK0.09 63670」, 반도 화학 주식회사 제조.
기재 No.5 : 백색 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름, 제품명 「루미러 (등록상표) E20 #50」, 토오레 주식회사 제조.
기재 No.6 : 알루미늄 증착 PET 필름 (제품명 「루미러 (등록상표) T60 #50」(토오레 주식회사 제조) 의 필름 편면에 알루미늄 증착을 실시한 것을 사용).
기재 No.7 : PET 필름, 제품명 「루미러 (등록상표) T60 #38」, 토오레 주식회사 제조 (이하, 모델이 상이한 「루미러」에 대해서도, 마찬가지로 토오레 주식회사 제조).
기재 No.8 : PET 필름, 제품명 「루미러 (등록상표) T60 #50」.
기재 No.9 : PET 필름, 제품명 「루미러 (등록상표) T60 #75」.
기재 No.10 : PET 필름, 제품명 「루미러 (등록상표) T60 #100」.
기재 No.11 : PET 필름, 제품명 「루미러 (등록상표) T60 #125」.
기재 No.12 : PET 필름, 제품명 「루미러 (등록상표) T60 #188」.
각 실시예 및 각 비교예에서 제작한 각 점착 시트에 사용한 기재, 수지층, 및 점착 시트에 관한 각 특성은, 이하의 방법으로 측정 또는 관찰하였다. 이들 결과를 표 3 및 표 4 에 나타낸다.
<기재의 두께 h, 및 수지층의 두께 (수지층 총두께)>
기재의 두께 h, 및 수지층의 총두꼐는, 주식회사 테크록 제조의 정압 두께 측정기 (모델 : 「PG-02J」, 표준 규격 : JIS K6783 : 1994, JIS Z1702 : 1994, JIS Z1709 : 1995 에 준거) 를 사용하여, 측정하였다.
수지층의 총두께는, 얻어진 점착 시트의 두께를 측정하고, 미리 측정한 기재의 두께 h 를 뺀 값을 사용하였다.
Figure 112018030372963-pct00003
각 실시예 및 각 비교예에서 제작한 각 점착 시트에 사용한 기재에 관한 각 특성은, 이하의 방법으로 측정하였다. 이들 결과를 하기 표 4 에 나타낸다.
<기재의 영률 E 및 굽힘 응력 계수 k>
각 실시예 및 각 비교예에서 사용한 기재에 대해, 하기 조건에 따라, JIS K7127 : 1999 에 준거하여 인장 탄성률을 측정하고, 당해 값을 기재의 영률 E 로 하였다.
또, 각 기재의 굽힘 응력 계수 k 를, 당해 영률 E 및 상기 서술한 기재의 두께 h 의 값으로부터,
기재의 굽힘 응력 계수 k = 기재의 영률 E × (기재의 두께 h)3
의 식에 기초하여 산출하였다.
·측정 장치 : 주식회사 오리엔테크 제조 「TENSILON (등록상표) RTA-100」
·시험편 (타입 2) 의 폭 : 15 mm
· 척 사이의 초기 거리 : 100 mm
·시험 속도 : 200 mm/분
<기재의 10 % 신장 시 강도>
상기 서술한 기재의 영률 및 굽힘 응력 계수의 측정을 실시할 때에, 10 % 신장했을 때 (척 사이 거리가 110 mm 가 된 시점) 에 있어서의, 인장 강도를 측정하고, 당해 값을 기재의 10 % 신장 시 강도로 하였다.
각 실시예 및 각 비교예에서 제작한 각 점착 시트에 대해, 이하의 방법에 기초하여, 표면 (α) 상의 오목부의 관찰, 점착 시트의 수지층의 질량 유지율, 다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적의 비율, 표면 (α) 와 피착체의 첩부면 면적의 비율 (첩부면 면적률), 평탄면의 각 면적 및 최대 면적, 및 평탄면의 합계 면적을 평가하였다. 이들 결과를 표 4 에 나타낸다.
<표면 (α) 상의 오목부의 관찰>
각 실시예 및 각 비교예에서 제작한 각 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 상의 각 요건에서 규정한 특정 영역에 있어서, 하기 요건 (I) 및 (II) 를 만족하는 오목부가 형성되어 있는지를, 주사형 전자현미경 (주식회사 히타치 제작소 제조, 제품명 「S-4700」) 또는 디지털 현미경 (주식회사 키엔스 제조, 제품명 「디지털 마이크로스코프 VHX-5000」) 을 사용하여 관찰하였다.
표 4 중에는, 각 요건을 만족한 오목부가 형성되어 있다고 판단하는 경우에는 「A」, 각 요건을 만족한 오목부의 존재가 보이지 않는다고 판단하는 경우에는 「F」라고 기재하고 있다.
요건 (I) : 표면 (α) 상의 임의로 선택된 한 변 5 mm 의 정방형으로 둘러싸인 영역 (P) 내에, 최대 0.5 ㎛ 이상의 고저차를 갖는 오목부가 복수 존재한다.
요건 (II) : 표면 (α) 상의 임의로 선택된 한 변 600 ㎛ 의 정방형으로 둘러싸인 영역 (U) 내에, 상기 오목부가 1 개 이상 존재한다.
요건 (I) 에 대해서는, 상기 주사형 전자현미경을 사용하여, 배율 30 배로 관찰하였다. 또한, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 한 변 5 mm 의 정방형으로 둘러싸인 영역 (P) 내에 존재하는 오목부의 고저차의 값에 대해서는, 상기 주사형 전자현미경을 사용하여, 실시예 및 비교예에서 제작한 점착 시트의 단면을 배율 250 배로 관찰하여 측정하였다. 또한, 여기서 측정한 「오목부의 최대 고저차」란, 예를 들어, 도 2 (a) 에 나타내는 오목부 (13) 에 대해 「h」로 나타내는 길이를 가리킨다. 또, 도 2 (b) 에 나타내는 바와 같이, 2 개의 오목부 (131, 132) 가 연속하고 있는 경우에 있어서는, 오목부 (131) 에 대해서는 「h1」로 나타내는 길이, 오목부 (132) 에 대해서는 「h2」로 나타나는 길이를, 각각 측정하였다. 표 4 에는, 상기 영역 (P) 내에 존재하는 복수의 오목부의 최대 고저차의 값을 각각 측정하고, 이들 값 중 최대값을 「고저차의 최대값」으로서 기재하고 있다.
또, 요건 (II) 에 대해서는, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 한 변 600 ㎛ 의 정방형으로 둘러싸인 영역 (U) 내에 존재하는 오목부에 대해, 요건 (I) 과 마찬가지로 관찰하였다.
또, 각 실시예 및 각 비교예에서 제작한 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 상에 있어서 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 를 임의로 10 영역 선택하고, 각 영역 (V) 내에 존재하는 오목부에 대해, 오목부가 존재하는 위치의 주기성 유무를 육안 및 디지털 현미경 (배율 : 100 배) 에 의해 관찰하였다. 또한, 선택한 10 영역에 있어서의 오목부의 형상, 오목부의 수, 복수의 오목부가 존재하는 위치가 주기성을 갖지 않는지 여부의 확인, 및 평탄면의 형상에 대해서도, 육안 및 디지털 현미경 (배율 : 100 배) 에 의해 관찰, 확인하였다.
<점착 시트의 수지층의 질량 유지율>
상기 서술한 기재 대신에, 박리 필름 (린텍 주식회사 제조, 제품명 「SP-PET381031」, 편면에 실리콘계 박리제층을 형성한 PET 필름, 두께 38 ㎛) 의 박리제층의 표면 상에, 각각의 실시예 및 비교예의 방법에 따라 수지층을 형성한 후, 당해 박리 필름을 제거하여, 수지층의 단체를 얻었다.
그리고, 가열 전의 수지층의 질량을 측정한 후, 당해 수지층을 머플로 (덴켄사 제조, 제품명 「KDF-P90」) 내에 투입하고, 800 ℃ 에서 30 분간 가열하였다. 그리고, 가열 후의 수지층의 질량을 측정하고, 하기 식에 의해 수지층의 질량 유지율을 산출하였다.
수지층의 질량 유지율 (%) = [가열 후의 수지층의 질량]/[가열 전의 수지층의 질량] × 100
<다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적 비율>
이하에 나타내는 조작 (i) ∼ (iii) 방법에 의해, 각 실시예 및 각 비교예에서 제작한 각 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 를 투광성 피착체의 평활면 상에 첩부한 경우로서, 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (Vs) 내에 존재하는 모든 오목부의 전체 면적에 대한, 영역 (Vs) 내에 존재하는 다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적의 비율을 측정하고, 당해 값을 「다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적의 비율」로서, 표 4 에 기재하였다.
처음에, 이하의 조작 (i) 에 의해, 도 4 의 구성을 제작하였다.
조작 (i) : 도 4 에 나타내는 바와 같이, 투광성 피착체 (100) 의 평활면 (100a) 상에, 각 실시예 및 각 비교예에서 제작한 각 점착 시트가 갖는 수지층 (12) 의 표면 (α)(12a) 가 접하도록 가만히 정지시켰다. 그리고, 당해 점착 시트의 기재 (11) 측에 대해, 2 kg 롤러 (JIS Z 0237 : 2000 10.2.4 에 규정된 압착 장치) 로 5 왕복하고, 수지층 (12) 의 표면 (α)(12a) 와 투광성 피착체 (100) 의 평활면 (100a) 의 첩부를 실시하여, 도 4 에 나타내는 바와 같은 방향으로 설치한 적층체를 얻었다.
또한, 상기 투광성 피착체로는, 「평활면을 갖는 투광성 피착체」로서, 무알칼리 유리 (제품명 「이글 XG (등록상표)」, 코닝 주식회사 제조) 를 사용하였다.
계속해서, 하기 조작 (ii) 및 (iii) 에 의해, 다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적 비율을 산출하였다.
조작 (ii) : 조작 (i) 에서 얻은 적층체의 투광성 피착체 (100) 측으로부터 수지층의 표면 (α)(12a) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (Vs) 내를, 디지털 현미경 (주식회사 키엔스 제조, 제품명 「디지털 마이크로스코프 VHX-5000」, 고해상도 줌 렌즈 VHX-ZST 100 배, 배율 : 100 배) 을 사용하여, 도 4 의 W 방향으로부터, 투광성 피착체 (100) 의 평활면 (100a) 과 수지층의 표면 (α)(12a) 의 계면을 하기 촬영 조건에서 촬영하고, 선택한 당해 영역 (Vs) 의 디지털 화상을 촬영하였다. 또한, 당해 영역 (Vs) 는, 상이한 4 영역의 디지털 화상을 취득하였다. 디지털 화상 촬영 시의 촬영 조건을 이하에 나타낸다. 또한, 점착 시트가 갖는 기재의 종류나 색, 장치의 환경에 따라 적합한 촬영 조건이 상이하므로, 적절히 첩부면이 양호하게 관찰되는 조건을 선택할 필요가 있지만, 촬영 조건의 일례로서, 실시예 1 ∼ 5 에서 촬영했을 때의 조건을 이하에 나타낸다.
(촬영 조건)
·셔터 스피드 : 오토 93
·게인 : 매뉴얼 0.0 dB
·화이트 밸런스 : 푸쉬 세트
·낙사 (落射) 조명 : ON
·스테이지 투과 조명 : OFF
·에지 강조 : ON 1.0
·감마 : OFF
·오프셋 : OFF
·모노크롬 : OFF
·선예 화상 모드 : OFF
·시야 보정 : OFF
당해 촬영 화상의 일례로서, 실시예 1 의 점착 시트를 촬영했을 때의 화상을 도 5 (a) 에 나타낸다. 또한, 희게 보이는 지점이 오목부이다. 또, 도 5 (a) 의 화상에서는, 당해 화상 중의 우측 아래에 기재된 1 눈금분으로 1,000 ㎛ 의 길이를 나타낸다.
조작 (iii) : 얻어진 4 영역분의 각 디지털 화상에 대해, 상기 디지털 현미경을 사용하여, 자동 면적 계측을 실시하고, 다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적의 비율을 계측하였다. 당해 4 영역분을 측정하여 얻어진 당해 면적 비율의 평균값을, 「다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적의 비율」로서, 하기 표 4 에 기재하였다.
자동 면적 계측은, 첩부면과 오목부를 화상 처리 (2 치화 처리) 하여, 2 치화 화상을 얻은 후, 얻어진 2 치화 화상에 대해 각 오목부의 면적 및 주위 길이를 측정하였다. 구체적으로는, 첩부면과 오목부의 디지털 화상의 휘도의 차로부터 자동으로 분리 도포를 실시한 후, 에어리어 확인 기능을 사용하여, 2 치화하기 전의 디지털 화상을 확인하면서 육안으로 첩부면이라고 판단할 수 있는 부분은 수동으로 분리 도포를 실시하고, 수정을 가함으로써 화상 처리에 의한 2 치화를 실시하였다. 당해 화상 처리 시, 측정하는 점착 시트가 갖는 기재의 종류나 색에 따라, 가령 수지층이 동일한 것이어도 표면 (α) 상의 첩부면의 휘도에 차가 나오는 경우가 있다. 그 때문에, 상기한 바와 같이 적절히 2 치화 전의 디지털 화상을 육안으로 확인하면서, 명확하게 첩부면이라고 판단할 수 있는 경우에는, 그 판단에 따라 첩부면이라고 하여 수정을 실시하였다.
2 치화 화상으로부터 영역 (Vs) 내에 존재하는 각 오목부의 면적 및 주위 길이를 계측하고, 면적 및 주위 길이의 값이 다른 오목부와 동일한 오목부에 대해, 당해 오목부의 합계 면적을 구하였다. 또한, 영역 (Vs) 의 범위 밖으로까지 연장되어 있는 오목부에 대해서는, 영역 (Vs) 내에 존재하는 당해 오목부의 윤곽과, 영역 (Vs) 를 둘러싸는 장방형의 각 변의 일부분에 의해 잘라내어지는 형상의 면적 및 주위 길이를 측정하였다.
그리고, 계산식 「다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적 비율 =〔(영역 (Vs) 내에 존재하는 오목부의 합계 면적 - 다른 오목부와 면적 및 주위 길이가 동일한 오목부의 합계 면적)/영역 (Vs) 내에 존재하는 오목부의 합계 면적〕× 100」으로부터, 표면 (α) 상의 다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적 비율을 산출하였다.
자동 면적 계측 시의 계측 조건을 이하에 나타낸다. 또한, 점착 시트가 갖는 기재의 종류나 색, 장치의 환경에 따라 적합한 촬영 조건이 상이하므로, 적절히 첩부면이 양호하게 관찰되는 조건을 선택할 필요가 있지만, 촬영 조건의 일례로서, 실시예 1 ∼ 5 에서 촬영했을 때의 조건을 이하에 나타낸다.
(자동 면적 계측 조건)
·추출 모드 : 휘도 (노이즈 제거 약)
·휘도 추출 영역 : 밝은 영역
·임계값 : 0
·구멍 메움 : OFF
·소립자 제거 : OFF
·추출 영역 : 수치 지정 (사각형) 으로, 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 로 이루어지는 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 장방형을 추출
·추출 영역의 정형 : 입 (粒) 제거 (면적 100 ㎛2 이하 제거)
당해 자동 면적 계측 시에, 상기 조작 (ii) 에서 얻어진 디지털 화상을 2 치화하여 얻어진 화상의 예로서, 실시예 1 의 점착 시트의 2 치화 화상을 도 5 (b) 에 나타낸다. 또한, 검게 보이는 지점이 오목부이다. 또, 도 5 (b) 의 화상에서는, 당해 화상 중의 우측 아래에 기재된 1 눈금분으로 1,000 ㎛ 의 길이를 나타낸다.
또한, 상기 계측 조건에 기재된 바와 같이, 100 ㎛2 이하의 면적을 나타내는형상은 면적 비율의 산출에는 이용하지 않는 것으로 하였다.
<표면 (α) 와 피착체의 첩부면 면적의 비율 (첩부면 면적률)>
이하의 조작 (i), (ii) 및 (iv) 를 거쳐 산출한 값을, 대상이 되는 점착 시트의 「표면 (α) 를 피착체에 첩부한 경우의, 표면 (α) 와 피착체의 첩부면 면적의 비율 (첩부면 면적률)」로 간주하였다. 각 실시예 및 각 비교예의 측정 결과를, 「첩부면 면적률」로서 표 4 에 나타낸다.
조작 (i) : 상기 「표면 (α) 상의 다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적 비율」의 조작 (i) 과 동일하게 하여, 도 4 에 나타내는 바와 같은 방향으로 설치한 적층체를 얻었다.
조작 (ii) : 조작 (i) 에서 얻은 적층체의 투광성 피착체 (100) 측으로부터, 표면 (α)(12a) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 로 이루어지는 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (Vs) 내를, 상기 디지털 현미경 (주식회사 키엔스 제조, 제품명 「디지털 마이크로스코프 VHX-5000」, 고해상도 줌 렌즈 VHX-ZST 100 배, 배율 : 100 배) 을 사용하여, 도 4 의 W 방향으로부터, 투광성 피착체 (100) 의 평활면 (100a) 과 수지층의 표면 (α)(12a) 의 계면을 촬영하여, 선택한 당해 영역 (Vs) 의 디지털 화상을 얻었다. 또한, 당해 영역 (Vs) 는, 상이한 4 영역의 디지털 화상을 취득하였다.
조작 (iv) : 얻어진 4 영역분의 각 디지털 화상에 대해, 상기 디지털 현미경을 사용하여, 자동 면적 계측을 실시하고, 첩부면 면적의 비율을 계측하였다. 당해 4 영역분을 측정하여 얻어진 당해 첩부면 면적의 비율의 평균값을, 「첩부면 면적률」로서, 하기 표 4 에 기재하였다.
자동 면적 계측은, 첩부면과 오목부를 화상 처리 (2 치화 처리) 하여, 2 치화 화상을 얻었다. 구체적으로는, 첩부면과 오목부의 디지털 화상의 휘도의 차로부터 자동으로 분리 도포를 실시한 후, 에어리어 확인 기능을 사용하여, 2 치화하기 전의 디지털 화상을 확인하면서 육안으로 첩부면이라고 판단할 수 있는 부분은 수동으로 분리 도포를 실시하고, 수정을 가함으로써 화상 처리에 의한 2 치화를 실시하였다. 당해 화상 처리 시, 측정하는 점착 시트가 갖는 기재의 종류나 색에 따라, 가령 수지층이 동일한 것이어도 표면 (α) 상의 첩부면의 휘도에 차가 나오는 경우가 있다. 그 때문에, 적절히 2 치화 전의 디지털 화상을 육안으로 확인하면서, 명확하게 첩부면이라고 판단할 수 있는 경우에는, 그 판단에 따라, 첩부면이라고 하여 수동으로 분리 도포를 실시하여 수정하였다. 또, 영역 (Vs) 의 범위 밖으로까지 연장되어 있는 평탄면에 대해서는, 영역 (Vs) 내에 존재하는 부분의 면적만을 측정하였다.
그리고, 당해 2 치화 화상을 기초로, 선택한 당해 영역 (Vs) 의 전체 면적 중의 투광성 피착체의 평활면과 접촉하고 있는 첩부면의 면적 S 를 구하고, 계산식 「[첨부면의 면적 비율 (%)] = S/선택한 당해 영역 (Vs) 의 전체 면적 × 100」에 기초하여, 선택한 당해 영역 (Vs) 에 있어서의 투광성 피착체와의 첩부면의 면적 비율을 산출하였다.
<평탄면의 각 면적 및 최대 면적, 및 평탄면의 합계 면적>
이하의 조작 (v) ∼ (vii) 을 거쳐 산출한 값을, 점착 시트의 표면 (α) 의 「평탄면 합계 면적」 및 「평탄면 최대 면적」으로 간주하였다. 각 실시예 및 각 비교예의 측정 결과를, 표 4 에 나타낸다.
조작 (v) : 점착 시트의 굴곡 등의 영향을 배제하기 위해, 평활한 피착체인 상기 투광성 피착체의 평활면 상에 양면 테이프를 붙이고, 측정 대상이 되는 점착 시트의 기재 표면을 첩부하고 나서, 이하의 조작을 실시하였다.
조작 (vi) : 각 실시예 및 각 비교예에서 제작한 각 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 를, 디지털 현미경 (주식회사 키엔스 제조, 제품명 「디지털 마이크로스코프 VHX-5000」, 고해상도 줌 렌즈 VHX-ZST 100 배, 배율 : 100 배) 을 사용하여, 표면 (α) 측 (기재에 대해 직각인 방향) 으로부터, 육안으로 평탄하다고 판단한 부위의 상방으로부터 순서대로 초점을 이동하고, 처음에 초점이 맞은 부분을 평탄면으로서 촬영하여, 영역 (V) 의 디지털 화상을 촬영하였다. 당해 영역 (V) 는, 상이한 4 영역의 디지털 화상을 취득하였다. 또한, 점착 시트가 갖는 기재의 종류나 색, 장치의 환경에 따라 적합한 촬영 조건이 상이하므로, 적절히 평탄면이 양호하게 관찰되는 조건을 선택할 필요가 있지만, 이하에, 각 예에서 공통되는 조건을 나타낸다.
(촬영 조건)
·낙사 조명 : ON
·스테이지 투과 조명 : OFF
·조명 변경 : 동축 낙사
·에지 강조 : OFF
당해 촬영 화상의 일례로서, 실시예 1 의 점착 시트를 촬영했을 때의 화상을 도 6 (a) 에 나타낸다. 또한, 희게 보이는 지점이 평탄부이다. 또, 도 6 (a) 의 화상에서는, 당해 화상 중의 우측 아래에 기재된 1 눈금분으로 1,000 ㎛ 의 길이를 나타낸다.
조작 (vii) : 얻어진 4 영역분의 각 디지털 화상에 대해, 동일 디지털 현미경을 사용하여, 자동 면적 계측을 실시하고, 각 평탄면의 면적을 계측하고, 영역마다 평탄면의 최대 면적 및 평탄면의 합계 면적을 산출하였다. 당해 4 영역분을 측정하여 얻어진 당해 평탄면의 최대 면적 및 평탄면의 합계 면적의 평균값을 「평탄면의 최대 면적」 및 「평탄면의 합계 면적」으로서, 하기 표 4 에 기재하였다.
자동 면적 계측은, 평탄면과 오목부를 화상 처리로 2 치화한 후, 얻어진 2 치화 화상의 수치 (면적) 의 계측을 실시하고, 평탄면과 오목부의 면적을 측정하였다. 평탄면이 각각 복수 존재하는 경우에는, 각각의 평탄면의 면적의 계측을 실시하였다. 구체적으로는, 평탄면과 오목부의 디지털 화상의 휘도의 차로부터 자동으로 분리 도포를 실시한 후, 에어리어 확인 기능에 의해, 원래의 디지털 화상을 확인하면서 육안으로 평탄면이라고 판단할 수 있는 부분은 수동으로 분리 도포를 실시하고, 수정을 가함으로써 화상 처리에 의해 2 치화를 실시하였다.
또, 화상의 육안으로, 평탄면인지 여부를 판단할 수 없는 경우에는, 수지층의 표면 (α) 에 평활면을 갖는 투광성 피착체를 가능한 한 하중을 가하지 않도록 스퀴지로 수동으로 부착하고, 도 4 의 W 방향으로부터, 투광성 피착체의 평활면을 통하여, 수지층의 표면 (α) 를 촬영하고, 투광성 피착체의 평활면에 수지층의 표면 (α) 가 첩부된 부분이 평탄면이라고 판단하였다.
자동 면적 계측의 조건은, 이하와 같다.
자동 면적 계측은, 조작 (vi) 에서 얻어진 디지털 화상의 평탄면과 오목부를 화상 처리 (2 치화 처리) 하여, 2 치화 화상을 얻은 후, 얻어진 2 치화 화상에 대해 평탄면의 면적을 측정하였다. 평탄면이 복수 존재하는 경우에는, 각각의 평탄면의 면적을 측정하였다. 또, 영역 (V) 의 범위 밖으로까지 연장되어 있는 평탄면에 대해서는, 영역 (V) 내에 존재하는 부분의 면적만 측정하였다.
구체적으로는, 평탄면과 오목부의 디지털 화상의 휘도의 차로부터 자동으로 분리 도포를 실시한 후, 에어리어 확인 기능을 사용하여, 2 치화하기 전의 디지털 화상을 확인하면서 육안으로 평탄면이라고 판단할 수 있는 부분은 수동으로 분리 도포를 실시하고, 수정을 가함으로써 화상 처리에 의한 2 치화를 실시하였다. 당해 화상 처리 시, 측정하는 점착 시트가 갖는 기재의 종류나 색에 따라, 가령 수지층이 동일한 것이어도 표면 (α) 상의 평탄면의 휘도에 차가 나오는 경우가 있다. 그 때문에, 적절히 2 치화 전의 디지털 화상을 육안으로 확인하면서, 명확하게 평탄면이라고 판단할 수 있는 경우에는, 그 판단에 따라 평탄면이라고 하여 수정을 실시하였다.
자동 면적 계측 시의 계측 조건을 이하에 나타낸다. 또한, 점착 시트가 갖는 기재의 종류나 색, 장치의 환경에 따라 적합한 촬영 조건이 상이하므로, 적절히 평탄면이 양호하게 관찰되는 조건을 선택할 필요가 있지만, 이하에 공통되는 조건을 나타낸다.
(자동 면적 계측 조건)
·추출 모드 : 휘도 (노이즈 제거 약)
·추출 영역 : 수치 지정 (사각형) 으로, 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 로 이루어지는 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 장방형을 추출
·추출 영역의 정형 : 입 제거 (면적 100 ㎛2 이하 제거)
당해 자동 면적 계측 시에, 상기 조작 (vi) 에서 얻어진 디지털 화상을 2 치화하여 얻어진 화상의 예로서, 실시예 1 의 점착 시트의 2 치화 화상을 도 6(b) 에 나타낸다. 또한, 검게 보이는 지점이 평탄면이다.
또한, 상기 계측 조건에 기재된 바와 같이, 100 ㎛2 이하의 면적을 나타내는형상은 면적 비율의 산출에는 이용하지 않는 것으로 하였다.
각 실시예 및 각 비교예에서 제작한 각 점착 시트에 대해, 이하의 방법에 근거하여, 「에어 방출성」, 「외관」, 「접힘 첩부성」, 및 「점착력」을 평가하였다. 이들 결과를 표 4 에 나타낸다.
<에어 방출성>
세로 50 mm × 가로 50 mm 의 크기로 한 점착 시트를, 공기 고임이 생기도록, 피착체인 멜라민 도장판에 첩부하였다. 그리고, 스퀴지를 사용하여 압착한 후의 공기 고임의 유무를 관찰하고, 이하의 기준에 의해, 각 점착 시트의 에어 방출성을 평가하였다.
A : 공기 고임이 소실되어 있고, 에어 방출성이 우수하다.
F : 공기 고임이 남아 있고, 에어 방출성이 열등하다.
<외관>
세로 50 mm × 가로 50 mm 의 크기로 한 점착 시트를, 피착체인 아크릴 도장판 (제품명 「아크릴 도장 (편면/백색) SPCC-SD φ5-1」, 사이즈 : 가로 70 mm × 세로 150 mm × 두께 0.4 mm, 주식회사 팔텍 제조) 에 첩부하였다. 그리고, 스퀴지를 사용하여 압착한 후, 기재의 표면측으로부터 외관을 관찰하고, 이하의 기준에 의해, 각 점착 시트의 외관을 평가하였다.
A : 수지층 표면 (α) 상의 요철에서 기인하는 외관 불량이 확인되지 않았다.
F : 수지층 표면 (α) 상의 요철에서 기인하는 외관 불량이 확인되었다.
<접힘 첩부성>
각 실시예 및 각 비교예에서 제작한 각 점착 시트를 가로 25 mm × 세로 50 mm 의 크기로 절단한 후, 당해 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 상에, 23 ℃, 50 %RH (상대습도) 의 환경하에서, 아크릴 도장판 (제품명 「아크릴 도장 (편면/흰색) SPCC-SD φ5-1」, 사이즈 : 가로 70 mm × 세로 150 mm × 두께 0.4 mm, 주식회사 팔텍 제조) 에, 당해 아크릴 도장판의 아크릴 도장측 이면으로부터 표면에 걸쳐, 점착 시트를 접으면서 30 N 의 하중을 가한 스퀴지를 사용하여 압착하고, 동일한 환경하에서 24 시간 가만히 정지시켰다.
또한, 점착 시트 첩부 시에는, 당해 점착 시트의 세로 방향의 단부 (端部) 로부터 35 mm 의 지점부터 접히도록 첩부하였다 (도 7 을 참조). 24 시간 가만히 정지시킨 후, 이하의 기준에 의해, 각 점착 시트의 외관을 평가하였다.
A : 접힘부의 피착체로부터의 들뜸나 박리가 확인되지 않았다.
B : 접힘부의 피착체로부터의 들뜸이, 약간 확인되었다.
C : 접힘부의 피착체로부터의 들뜸이 확인되었다.
D : 접힘부의 피착체로부터의 박리가 확인되었다.
<점착력>
각 실시예 및 각 비교예에서 제작한 기재가 부착된 점착 시트를 가로 25 mm × 세로 300 mm 의 크기로 절단한 후, 당해 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 를, 23 ℃, 50 %RH (상대습도) 의 환경하에서, 멜라민 도장판 (제품명 「멜라민 도장 (편면/흰색) SPCC-SD φ5-1」, 사이즈 : 가로 70 mm × 세로 150 mm × 두께 0.4 mm, 주식회사 팔텍 제조) 의 멜라민 도장측에 첩부하고, 동일한 환경하에서 24 시간 가만히 정지시켰다. 가만히 정지시킨 후, JIS Z0237 : 2000 에 근거하고, 180°박리법에 의해, 인장 속도 300 mm/분으로, 각 점착 시트의 점착력을 측정하였다.
Figure 112018030372963-pct00004
표 4 에 의해, 실시예 1 ∼ 11 에서 제작한 점착 시트는, 사용한 기재의 10 % 신장 시 강도의 값이 250 N/15 mm 이하, 및 굽힘 응력 계수 k 도 20 N·mm 이하, 그리고 표면 (α) 상의 오목부 형상에 관한 상기 요건 (I) 및 (II) 를 만족하는 것이 확인되고, 에어 방출성, 외관, 및 접힘 첩부성 모두가 양호하였다.
또한, 실시예 1 ∼ 11 및 비교예 1 ∼ 2 에서 제작한 점착 시트의 어느 것에 있어서도, 표면 (α) 상의 영역 (V) 내를 상기 디지털 현미경 (배율 : 100 배) 으로 관찰했을 때, 오목부의 형상이 부정형인 것, 복수의 오목부가 존재하는 위치가 주기성을 갖지 않는 것, 및 평탄면의 형상도 부정형인 것이 확인되었다.
또, 실시예 1 ∼ 11 및 비교예 1 ∼ 2 에서 제작한 점착 시트의 어느 것에 있어서도, 표면 (α) 상의 영역 (Vs) 내에, 직경 100 ㎛ 의 원으로 둘러싸인 영역을 선택 가능한 넓이를 갖는 평탄면이 존재하는 것이 확인되었다.
또한, 실시예 1 ∼ 11 및 비교예 1 에서 제작한 점착 시트의 어느 것에 있어서도, 수지층의 표면 (α) 상의 영역 (U) 내에 존재하는 오목부의 1 개 이상이, 당해 영역 (U) 의 경계선인 한 변 1 mm 의 정방형의 어느 변까지 연장되어 있고, 또한 당해 영역 (U) 와 인접하는 한 변 600 ㎛ 의 정방형으로 둘러싸인 다른 영역 (U') 내까지 연속적으로 연장된 형상을 가지고 있는 것이 확인되었다. 이것은, 예를 들어 도 8(b) 의 수지층의 표면 (α) 의 사시 화상으로부터도 확인할 수 있다.
도 8 은, 실시예 4 에서 제작한 점착 시트를 주사형 전자현미경으로 관찰했을 때의 화상으로서, (a) 는 당해 점착 시트의 단면 화상, (b) 는 당해 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 의 사시 화상이다.
도 8 에 나타낸 화상은, 실시예 4 에서 제작한 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 의 화상이지만, 다른 실시예의 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 에도, 복수의 오목부가 존재하는 위치가 주기성을 갖지 않고, 또 표면 (α) 상의 평탄면의 형상도 부정형인 것을 알 수 있다.
한편, 비교예 1 에서 제작한 점착 시트는, 사용한 기재의 10 % 신장 시 강도의 값이 260 N/15 mm 를 초과하고, 굽힘 응력 계수 k 도 20 N·mm 를 초과하는 것이었기 때문에, 접힘 첩부성 및 점착력이 현저하게 열등한 결과가 되었다.
또, 비교예 2 에서 제작한 점착 시트는, 수지층의 표면 (α) 상의 영역 (U) 내에, 상기 오목부가 1 개 이상 존재하고 있는 것이 확인되지 않고, 비교예 2 의 점착 시트는 외관이 열등한 결과가 되었다.
도 9 는, 비교예 2 에서 제작한 점착 시트를 주사형 전자현미경으로 관찰했을 때의 화상으로서, 당해 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 의 사시 화상이다. 도 9 에 나타낸 화상과 같이, 비교예 2 에서 제작한 점착 시트의 수지층의 표면 (α) 에는, 수지층의 표면 (α) 상의 영역 (U) 내에, 오목부의 형성이 보이지 않았다.
본 발명의 일 양태의 점착 시트는, 에어 방출성, 외관, 및 접힘 첩부성 모두가 양호하기 때문에, 예를 들어 도장 대체 테이프, 마킹 필름, 및 차량 첩부용 테이프에 바람직하게 사용할 수 있다. 특히, 외관 및 접힘 첩부성이 양호한 점에서, 차량 등의 접힘부를 갖는 형상면에 첩부할 때에 사용하는 테이프로서 유용하다.
1a, 1b : 점착 시트
11 : 기재
12 : 수지층
12a : 표면 (α)
12b : 표면 (β)
(X) : 수지 부분 (X)
(Y) : 입자 부분 (Y)
(Xβ) : 주로 수지 부분 (X) 를 포함하는 층 (Xβ)
(Xα) : 주로 수지 부분 (X) 를 포함하는 층 (Xα)
(Y1) : 입자 부분 (Y) 를 15 질량% 이상 포함하는 층 (Y1)
13, 130, 131, 132 : 오목부
13a : 교차 지점
14 : 박리재
15 : 평탄면
50, 501, 502, 503, 504 : 1 변 600 ㎛ 의 정방형
100 : 투광성 피착체
100a : 평활면
101 : 피착체와의 첩부 부분 (첩부면)
102 : 피착체와의 비첩부 부분
201 : 아크릴 도장판
202 : 접힘 첩부성 시험용 점착 시트 시험편

Claims (23)

  1. 기재 상에 수지를 포함하는 수지층을 갖고, 수지를 50 질량% 이상 포함하는 수지 부분 (X) 와, 미립자로 이루어지는 입자 부분 (Y) 를 포함하는 수지층을 갖고, 적어도 상기 기재가 형성된 측과는 반대측의 그 수지층의 표면 (α) 가 점착성을 갖는 점착 시트로서,
    그 기재의 MD 방향의 굽힘 응력 계수 k 가 20 N·mm 이하이고, 또한 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가 260 N/15 mm 이하이고,
    그 수지층의 표면 (α) 상의 임의로 선택된 한 변 5 mm 의 정방형으로 둘러싸인 영역 (P) 내에, 최대 0.5 ㎛ 이상의 고저차를 갖는 오목부가 복수 존재하고, 또한,
    표면 (α) 상의 임의로 선택된 한 변 600 ㎛ 의 정방형으로 둘러싸인 영역 (U) 내에, 상기 오목부가 1 개 이상 존재하는, 점착 시트.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재의 MD 방향의 영률이 7,000 MPa 이하인, 점착 시트.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 기재의 MD 방향의 영률이 3,000 MPa 이하인, 점착 시트.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재의 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가 50 N/15 mm 이하인, 점착 시트.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 미립자가, 실리카 입자, 산화금속 입자, 및 스멕타이트에서 선택되는 1 종 이상인, 점착 시트.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지층을 800 ℃ 에서 30 분간 가열한 후의 질량 유지율이 3 ∼ 90 질량% 인, 점착 시트.
  7. 제 1 항에 있어서,
    입자 부분 (Y) 를 구성하는 상기 미립자의 체적 평균 2 차 입자경이, 상기 수지층의 두께의 1 ∼ 70 % 인, 점착 시트.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 미립자의 체적 평균 2 차 입자경이 0.5 ∼ 10 ㎛ 인, 점착 시트.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지층이, 상기 기재가 형성된 측으로부터, 수지 부분 (X) 를 50 질량% 이상 포함하는 층 (Xβ), 입자 부분 (Y) 를 15 질량% 이상 포함하는 층 (Y1), 및 수지 부분 (X) 를 50 질량% 이상 포함하는 층 (Xα) 를 이 순서로 적층한 다층 구조체인, 점착 시트.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 오목부가, 엠보스 패턴의 전사에 의해 형성된 것이 아닌, 점착 시트.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 오목부의 형상이 부정형인, 점착 시트.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지층의 표면 (α) 를 피착체에 첩부하고 표면 (α) 를 평면으로 봤을 때에, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (Vs) 내에 존재하는 모든 오목부의 전체 면적에 대한, 영역 (Vs) 내에 존재하는 다른 오목부와는 상이한 형상을 갖는 오목부의 합계 면적의 비율이 95.0 % 이상인, 점착 시트.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지층의 표면 (α) 측으로부터 관찰한 표면 (α) 상에 존재하는 평탄면의 형상이, 부정형인, 점착 시트.
  14. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지층의 표면 (α) 를 피착체에 첩부했을 때의 피착체와의 첩부면 면적률이 10 ∼ 95 % 인, 점착 시트.
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지층의 표면 (α) 를 평면으로 봤을 때에, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 내에 존재하는 평탄면의 전체 면적이, 1.0 ㎟ 이상인 점착 시트.
  16. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지층의 표면 (α) 를 평면으로 봤을 때에, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 내에, 직경 100 ㎛ 의 원으로 둘러싸인 영역을 선택 가능한 넓이를 갖는 적어도 1 개의 평탄면이 존재하는, 점착 시트.
  17. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지층의 표면 (α) 를 평면으로 봤을 때에, 표면 (α) 상의 임의로 선택된 장변이 3.45 mm, 단변이 2.59 mm 인 장방형으로 둘러싸인 8.93 ㎟ 의 면적을 갖는 영역 (V) 내에, 0.1 ㎟ 이상의 면적을 갖는 평탄면이 적어도 1 개 이상 존재하는, 점착 시트.
  18. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지가 점착성 수지를 포함하는, 점착 시트.
  19. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지층의 표면 (α) 를 피착체에 첩부했을 때에, 상기 점착 시트의 기재측으로부터는 육안에 의해 상기 오목부의 형상이 확인되지 않는, 점착 시트.
  20. 제 1 항에 있어서,
    도장 대체 테이프, 마킹 필름, 또는 차량 첩부용 테이프에 사용하는, 점착 시트.
  21. 제 1 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 기재된 점착 시트를 제조하는 방법으로서, 적어도 하기 공정 (1) 및 (2) 를 갖는, 점착 시트의 제조 방법.
    공정 (1) : 수지를 50 질량% 이상 포함하는 조성물 (x) 로 이루어지는 도막 (x'), 및 상기 미립자를 15 질량% 이상 포함하는 조성물 (y) 로 이루어지는 도막 (y') 를 형성하는 공정
    공정 (2) : 공정 (1) 에서 형성한 도막 (x') 및 도막 (y') 를 동시에 건조시키는 공정
  22. 제 21 항에 있어서,
    적어도 하기 공정 (1A) 및 (2A) 를 갖는, 점착 시트의 제조 방법.
    공정 (1A) : 박리재 또는 MD 방향의 굽힘 응력 계수 k 가 20 N·mm 이하이고, 또한 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가 260 N/15 mm 이하인 기재 상에, 수지를 50 질량% 이상 포함하는 조성물 (xβ) 로 이루어지는 도막 (xβ'), 상기 미립자를 15 질량% 이상 포함하는 조성물 (y) 로 이루어지는 도막 (y'), 및 수지를 50 질량% 이상 포함하는 조성물 (xα) 로 이루어지는 도막 (xα') 를 이 순서로 적층하여 형성하는 공정
    공정 (2A) : 공정 (1A) 에서 형성한 도막 (xβ'), 도막 (y'), 및 도막 (xα') 를 동시에 건조시키는 공정
  23. 제 21 항에 있어서,
    적어도 하기 공정 (1B) 및 (2B) 를 갖는, 점착 시트의 제조 방법.
    공정 (1B) : 박리재 또는 MD 방향의 굽힘 응력 계수 k 가 20 N·mm 이하이고, 또한 MD 방향의 10 % 신장 시 강도가 260 N/15 mm 이하인 기재 상에 형성된, 수지 부분 (X) 를 50 질량% 이상 포함하는 층 (Xβ) 상에, 상기 미립자를 15 질량% 이상 포함하는 조성물 (y) 로 이루어지는 도막 (y'), 및 수지를 50 질량% 이상 포함하는 조성물 (xα) 로 이루어지는 도막 (xα') 를 이 순서로 적층하여 형성하는 공정
    공정 (2B) : 공정 (1B) 에서 형성한 도막 (y') 및 도막 (xα') 를 동시에 건조시키는 공정
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