KR102367455B1 - 재단 특성과 단차 흡수성이 우수한 광학용 점착 시트 - Google Patents

재단 특성과 단차 흡수성이 우수한 광학용 점착 시트 Download PDF

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Abstract

본 발명은 재단 특성과 단차 흡수성이 우수한 광학용 점착 시트에 관한 것으로, 본 발명에 따른 광학용 점착 시트는, 중간층과 점착층의 다층으로 구성하고, 이러한 다층의 저장 탄성률을 조절함으로써 재단 특성과 단차 흡수성을 모두 개선할 수 있다는 특징이 있다.

Description

재단 특성과 단차 흡수성이 우수한 광학용 점착 시트{Optical adhesive sheet having excellent cutting property and step absorption property}
본 발명은 재단 특성과 단차 흡수성이 우수한 광학용 점착 시트에 관한 것이다.
디스플레이 장치에서, 빛이 발생하는 패널과 프레임 또는 전면 글래스와의 접합을 위하여 광학용 필름의 하나인 OCA 필름(optically clear adhesive film)이 사용되고 있다. 예를 들어, 윈도우 글래스와 모듈 사이의 점착을 위해 OCA 필름이 사용되고 있다.
OCA 필름이 사용되는 방식은, 일반적으로 패널과 프레임(또는 전면 글래스) 사이에 OCA 필름을 적층한 후 압착하고, 필요에 따라 OCA 필름을 경화하여 패널과 프레임을 접합하는 방식이다. 이를 위하여 OCA 필름은 일반적으로 광학용 점착 시트로 제조되고 있다.
이러한 광학용 점착 시트를 광학용 부재에 점착시키기 위해서는 통상 두 단계가 필요한데, 먼저 광학용 점착 시트를 광학용 부재에 맞추어 재단하는 단계와, 이를 광학용 부재 상에 점착하는 단계가 필요하다.
그런데, 전자의 경우, 재단하는 과정에서 광학용 점착 시트의 일부가 재단 수단(예를 들어, 재단 칼 등)에 묻어 나오는 현상이 발생하는데, 이는 최종적으로 광학용 점착 시트가 원하는 크기로 재단되지 않는 문제로 이어져, 광학용 시트가 광학용 부재에 완전한 접착이 이루어지지 않는 결과로 이어진다.
또한, 후자의 경우, 패널의 테두리(bezel)에 인쇄된 층이 존재하는 경우가 있는데, 광학용 점착 시트가 인쇄된 부분과 인쇄되지 않은 부분의 경계를 모두 채우지 못하는 현상이 발생하는 문제가 있다. 뿐만 아니라, 광학용 부재가 완전한 평면이 아닌 경우, 예를 들어 최근에는 모바일 기기의 표면에 렌즈부 등이 돌출되는 형태로 제조되는 경우에도, 마찬가지로 돌출된 부분의 경계에서 광학용 점착 시트가 부분적으로 채우지 못하는 현상이 발생할 수 있다.
상기 두 가지 문제는 서로 트레이드-오프(trade-off) 관계에 있는 것으로, 즉 상기 전자를 해결하기 위해서는 광학용 점착 시트를 딱딱하게(hard) 만들어야 하는데 이는 단차가 있는 표면에 광학용 점착 시트의 점착을 어렵게 만들며, 상기 후자를 해결하기 위해서는 반대로 광학용 점착 시트를 부드럽게(soft) 만들어야 하는데 이는 재단 특성을 떨어뜨리는 주요 요인이 된다.
이에 본 발명자들은, 상기와 같은 재단 특성과 단차 흡수성을 모두 개선할 수 있는 광학용 점착 시트를 제조하기 위하여 예의 노력한 결과, 후술할 바와 같이 광학용 점착 시트를 다층(중간층 및 점착층)으로 구성하고, 이러한 다층의 저장 탄성률을 조절함으로써, 상기의 문제가 해결됨을 확인하여 본 발명을 완성하였다.
본 발명은 본 발명은 재단 특성과 단차 흡수성이 우수한 광학용 점착 시트를 제공하기 위한 것이다.
상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 하기의 광학용 점착 시트를 제공한다:
중간층; 및
상기 중간층의 상면 및 하면에 각각 형성되는 점착층을 포함하는,
광학용 점착 시트에 있어서,
상기 중간층의 저장 탄성률은 0.100 내지 0.400 MPa이고,
상기 점착층의 저장 탄성률은 0.001 내지 0.040 MPa이고,
상기 광학용 점착 시트의 투과율은 90% 이상인,
광학용 점착 시트.
본 발명에서 사용하는 용어 '광학용 점착 시트'란, 광학용 부재 상에 점착되어 이를 보호하는 역할을 하는 시트를 의미한다.
본 발명에 따른 광학용 점착 시트는, 재단 특성과 단차 흡수성이 우수한 것으로, 본 발명에서 사용하는 용어 '재단 특성'이란 광학용 점착 시트를 특정 크기로 재단할 때 원하는 크기로 정확하게 재단되는 특성을 의미하며, 다시 말하여 재단 과정에서 광학용 점착 시트의 일부가 제거되지 않는 것을 의미한다. 또한, 본 발명에서 사용하는 용어 '단차 흡수성'이란, 광학용 점착 시트가 점착되는 피착물의 단차에도 광학용 점착 시트가 점착되는 것을 의미한다.
이에 본 발명을 이하 상세히 설명한다.
중간층
본 발명에 따른 중간층은, 본 발명에 따른 광학용 점착 시트의 가운데에 형성된 층으로서, 후술할 점착층의 사이에 형성된다. 상기 중간층은 후술할 점착층 대비 높은 저장 탄성률을 가짐으로써 광학용 점착 시트에 딱딱한(hard) 성질을 부여하여 재단 특성을 향상시키는 역할을 한다.
구체적으로, 상기 중간층의 저장 탄성률은 0.100 내지 0.400 MPa이다. 상기 저장 탄성률이 0.100 MPa 미만인 경우에는 딱딱한 성질을 충분히 발현하지 못하여 재단 특성이 개선되지 않으며, 0.400 MPa 초과인 경우에는 딱딱한 성질이 과도하게 발현되어 단차 흡수성이 저하된다.
바람직하게는, 상기 중간층의 저장 탄성률을 0.130 내지 0.300 MPa이고, 보다 바람직하게는 0.200 내지 0.250 MPa이다. 한편, 상기 저장 탄성률의 측정 방법은 후술할 실시예에서 구체화 할 수 있다.
또한, 상기 중간층의 저장 탄성률은 후술한 점착층의 저장 탄성률 보다 높은 것으로, 바람직하게는 상기 중간층의 저장 탄성률은 상기 점착층의 저장 탄성률 대비 9 내지 80배이고, 보다 바람직하게는 9 내지 60배, 9 내지 50배, 또는 9 내지 30배이다.
상기 중간층은 하나 이상의 아크릴레이트계 단량체로 제조될 수 있으며, 상기 사용할 수 있는 아크릴레이트계 단량체로는 2-에틸헥실 아크릴레이트, 이소옥틸 아크릴레이트, 이소데실 아크릴레이트, 4-하이드록시부틸 아크릴레이트, 하이드록시프로필 아크릴레이트, 이소보닐 아크릴레이트, N,N-디메틸아크릴아미드, 이소부틸 메타크릴레이트, 아크릴아미드, 또는 메틸 메타크릴레이트 등을 들 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 바람직하게는, 상기 중간층의 제조를 위하여 상기 아크릴레이트계 단량체 총 중량 대비 20% 이상을 2-에틸헥실 아크릴레이트를 사용하고, 높은 저장 탄성률을 위하여 이소부틸 메타크릴레이트, 아크릴아미드, 또는 메틸 메타크릴레이트를 후술할 점착층의 제조시 보다 상대적으로 많은 양을 사용한다.
상기 아크릴레이트계 단량체 및 중합 개시제와 함께 UV를 조사하여 중간층을 제조할 수 있다. 상기 중간층의 제조 방법을 후술할 실시예에서 보다 구체화할 수 있다.
한편, 상기 중간층의 두께는 50 ㎛ 내지 200 ㎛이다.
점착층
본 발명에 따른 점착층은, 상술한 중간층의 상면 및 하면에 각각 형성된다. 상기 점착층은 점착 특성과 함께 상술한 중간층 대비 낮은 저장 탄성률을 가짐으로써 광학용 점착 시트에 부드러운(soft) 성질을 부여하여 단차 흡수성을 향상시키는 역할을 한다.
구체적으로, 상기 점착층의 저장 탄성률은 0.001 내지 0.040 MPa이다. 상기 저장 탄성률이 0.001 MPa 미만인 경우에는 부드러운 성질을 과도하게 발현되어 재단 특성이 개선되지 않으며, 0.040 MPa 초과인 경우에는 딱딱한 성질이 과도하게 발현되어 단차 흡수성이 저하된다.
바람직하게는, 상기 점착층의 저장 탄성률을 0.010 내지 0.035 MPa이고, 보다 바람직하게는 0.020 내지 0.030 MPa이다. 한편, 상기 저장 탄성률의 측정 방법은 후술할 실시예에서 구체화 할 수 있다.
상기 점착층은 하나 이상의 아크릴레이트계 단량체로 제조될 수 있으며, 상기 사용할 수 있는 아크릴레이트계 단량체로는 2-에틸헥실 아크릴레이트, 이소옥틸 아크릴레이트, 이소데실 아크릴레이트, 4-하이드록시부틸 아크릴레이트, 하이드록시프로필 아크릴레이트, 이소보닐 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 에틸 아세테이트 등을 들 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 바람직하게는, 상기 점착층의 제조를 위하여 상기 아크릴레이트계 단량체 총 중량 대비 20% 이상을 2-에틸헥실 아크릴레이트를 사용한다. 또한, 낮은 저장 탄성률을 위하여 에틸 아세테이트를 추가로 사용한다. 상기 에틸 아세테이트의 사용량은 상기 아크릴레이트계 단량체 총 중량 대비 1:2 내지 2:1을 사용한다.
상기 아크릴레이트계 단량체, 에틸 아세테이트 및 중합 개시제를 용매에 첨가하고 UV를 조사하여 점착층을 제조할 수 있다. 상기 점착층의 제조 방법을 후술할 실시예에서 보다 구체화할 수 있다.
한편, 상기 점착층의 두께는 5 ㎛ 내지 50 ㎛이다.
광학용 점착 시트
본 발명에 따른 광학용 점착 시트는, 상술한 중간층과 점착층으로 이루어지는 점착 시트이다. 상기 광학용 점착 시트는, 상기 중간층과 점착층을 각각 제조한 다음, 중간층의 상면 및 하면에 각각 점착층을 적층하여 제조할 수 있다.
본 발명에 따른 광학용 점착 시트는, 광학용 부재에 사용되는 것으로 투과율이 우수하다. 바람직하게는, 상기 광학용 점착 시트의 투과율은 90% 이상이고, 보다 바람직하게는 91% 이상, 또는 92% 이상이다. 또한, 바람직하게는, 상기 광학용 점착 시트의 헤이즈는 0.5% 이하이다. 상기 투과율 및 헤이즈의 측정 방법은 후술할 실시예에서 보다 구체화할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 광학용 점착 시트는 점착력이 우수하다. 바람직하게는, 상기 광학용 점착 시트의 점착력은 2000 gf/25 mm 이상이다. 상기 점착력의 측정 방법은 후술할 실시예에서 보다 구체화할 수 있다. 또한, 상기 광학용 점착 시트의 점착력은 그 값이 높을수록 우수하여 실질적인 상한의 제안은 없으나, 일례로 3000 gf/25 mm 이하이다.
한편, 상기 광학용 점착 시트는 필요에 따라 이형 라이너를 추가로 포함하여, 광학용 점착 시트의 점착층을 보호할 수 있다. 또한, 광학용 부재에 상기 광학용 점착 시트를 부착시킨 이후에는 UV를 조사하여 후경화 할 수 있으며, 후경화를 통하여 점착 정도를 강화하고 또한 저장 탄성률도 높일 수 있다.
구체적으로, 본 발명에 따른 광학용 점착 시트의 저장 탄성률은, 상술한 중간층 및 점착층의 저장 탄성률과 각 층의 두께로 조절되며, 바람직하게는 0.050 내지 0.200 MPa이다. 이러한 광학용 점착 시트에 UV를 조사하여 경화하면, 상기 저장 탄성률은 UV 경화 전에 비하여 0.010 내지 0.100 MPa 높아질 수 있다.
후술할 실시예와 같이, 본 발명에 따른 중간층과 점착층을 사용한 경우 이를 각각 사용한 경우에 비하여, 광학 특성과 점착 특성을 유지하면서도 재단 특성과 단차 흡수성이 모두 개선됨을 확인할 수 있었다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 광학용 점착 시트는, 중간층과 점착층의 다층으로 구성하고, 이러한 다층의 저장 탄성률을 조절함으로써 재단 특성과 단차 흡수성을 모두 개선할 수 있다는 특징이 있다.
도 1은, 단차 흡수성 평가를 위한 테스트 시편을 나타낸 것이다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 이에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.
제조예 1: 중간층 1 내지 5의 제조
하기 표 1의 아크릴레이트계 단량체를 정량하여 혼합한 다음, 반응 조절제 및 개시제를 투입하여 혼합하였다. 이때, 상기 혼합물 내부에 존재하는 산소를 제거하기 위해 질소 가스를 주입하면서 혼합하였다. 산소를 제거한 후, BL lamp (300 ~ 450 nm wavelength)를 사용하여 UV를 조사하여 시럽을 제조하였다. 이때, UV를 조사하면 혼합물의 온도가 상승하게 되며, 하기 표 1의 반응 온도에 도달하였을 때 UV 조사를 멈추고 산소를 투입시켜 반응을 종결시켰다. 반응 온도는 시럽이 1,000 ~ 2,000 cPs 점도를 가지도록 조절하였다. 하기 표 1에서 반응 온도를 제외한 나머지는 중량부를 의미한다.
중간층1 중간층 2 중간층 3 중간층 4 중간층 5
2-Ethyl hexyl acrylate 30 30 25 35 30
Isooctyl acrylate 5 15 10 15 10
Isodecyl acrylate 15 5 10 10 10
4-hydroxy butyl acrylate 10 10 15 5 10
Hydroxypropyl acrylate 5 5 5 5 5
Isobornyl acrylate 10 30 10 15 5
N,N-Dimethylacrylamide 10 - 10 - 10
Isobutyl methacrylate 5 - 5 5 5
Acrylamide 5 5 5 5 10
Methyl methacrylate 5 - 5 5 5
Hydroxy cyclohexyl phenyl ketone (제 1광개시제) 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
반응 온도(△T, ℃) 30 30 30 30 30
상기 제조한 시럽 100 중량부에 하기 표 2의 첨가제를 혼합하고, 이를 이형 라이너에 도포한 뒤 BL lamp (300 ~ 450nm wavelength)를 사용하여 UV 조사시켜 UV 반응을 통해 두께 125 ㎛의 중간층을 제조하였다. 각 제조한 중간층의 저장 탄성률, SR ratio 및 Creep을 후술할 실험예와 같이 측정하였으며, 이를 표 2에 나타내었다.
중간층1 중간층 2 중간층 3 중간층 4 중간층 5
시럽 100 100 100 100 100
2,4,6-Trimethylbenzoyl-diphenyl phosphine 0.05 0.05 0.05 0.05 0.03
Trimethylolpropane triacrylate 0.15 0.20 0.20 0.15 0.15
1,6-hexanediol diacrylate 0.15 0.10 0.10 0.15 0.15
Ethylene glycol dimethacrylate 0.05 0.05 0.2 0.05 0.05
3-glycidoxypropyltrimethoxysilane 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
Modulus (G', 25℃) 0.230 0.135 0.298 0.186 0.267
SR ratio 0.432 0.411 0.450 0.406 0.428
Creep (%) 3.27 3.81 2.50 3.80 2.80
제조예 2: 점착층 1 내지 5의 제조
하기 표 3의 아크릴레이트계 단량체를 정량하여 혼합한 다음, 개시제를 투입하였다. 용매로 에틸 아세테이트를 상기 단량체 총 중량과 동일한 중량으로 투입하고 혼합하였다. 이때, 상기 혼합물 내부에 존재하는 산소를 제거하기 위하여 질소 가스를 주입하면서 혼합하였다. 산소가 제거된 후 BL lamp (300 ~ 450 nm wavelength)를 사용하여 UV 조사하여 시럽을 제조한다. 이때 혼합물의 온도가 상승하면 용매가 증발하는 것을 막기 위해 반응기에 냉각기를 연결하여 용매가 응축되면서 순환하도록 하였다. 반응 온도가 55℃에 도달한 후, 50℃까지 감소하면 반응을 종결시켜 시럽을 제조하였다.
점착층 1 점착층 2 점착층 3 점착층 4 점착층 5
2-Ethyl hexyl acrylate 30 25 45 40 45
Isooctyl acrylate 20 20 20 30 15
Isodecyl acrylate 20 20 15 10 15
4-hydroxy butyl acrylate 10 10 5 5 10
Hydroxypropyl acrylate 5 5 5 - 10
Isobornyl acrylate 10 20 10 10 -
Methyl methacrylate 5 - - 5 5
Ethyl acetate 100 100 100 100 100
Hydroxy cyclohexyl phenyl ketone(제 1광개시제) 0.12 0.12 0.12 0.12 0.12
고형분 (%) 50 50 50 50 50
반응 온도 (△T,℃) 55 55 55 55 55
상기 제조한 시럽 100 중량부에 하기 표 4의 첨가제를 혼합하고(이때, 에틸 아세테이트의 첨가에 따라 고형분이 40%로 조절되었음), 이를 이형 라이너에 도포한 뒤 140℃에서 가열 및 건조하여 열 경화 반응을 통하여 두께 25 ㎛의 점착층을 제조하였다. 각 제조한 점착층의 저장 탄성률, SR ratio 및 Creep을 후술할 실험예와 같이 측정하였으며, 이를 표 4에 나타내었다.
점착층 1 점착층 2 점착층 3 점착층 4 점착층 5
시럽 100 100 100 100 100
2,4,6-Trimethylbenzoyl-diphenyl phosphine 0.05 0.05 0.05 0.05 0.05
Trimethylolpropane triacrylate 3 3 3 1 2
1,6-hexanediol diacrylate 2 2 2 1 3
이소시아네이트 경화제
(코스모텍社NA-24)		 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
Ethyl acetate 25 25 25 25 25
고형분 (%) 40 40 40 40 40
Modulus (G', 25℃) 0.020 0.035 0.015 0.010 0.005
SR ratio 0.008 0.130 0.110 0.007 0.008
Creep (%) 20.8 15.6 22.6 21.0 22.8
실시예 1 내지 9
하기 표 5에 기재된 중간층과 점착층을 사용하여 광학용 점착 시트를 제조하였다. 구체적으로, 중간층의 이형 라이너 한 면을 박리한 뒤 박리한 면에 점착층을 적층하고, 반대면의 중간층의 이형 라이너를 박리한 뒤 점착층을 적층하였다. 이어, 각 제조한 광학용 점착 시트를 60℃에서 24시간 동안 보관하였다.
비교예 1
제조예 1의 중간층 1과 동일한 방법으로 제조하되, 두께를 175 ㎛으로 조절하여 광학용 점착 시트를 제조하였다.
비교예 2
제조예 2의 점착층 1을 7번 적층하여 두께 175 ㎛의 광학용 점착 시트를 제조하였다.
실험예
상기 실시예 및 비교예에서 제조한 광학용 점착 시트에 대하여, UV 경화 전 및 UV 경화 후에 대해 아래와 같은 테스트를 진행하였다. UV경화는 UV 경화기(SMV社 C17015)의 metal halide lamp (365 nm wavelength)를 사용하였고, 5500 mJ/cm2의 누적 광량을 조사하였다.
(1) 저장 탄성률(Storage Modulus; G')
광학용 점착 시트를 두께가 500 ㎛이 되도록 적층하여 시편을 제조하였다. 상기 시편을 지름 8 mm의 원형 모양으로 자르고, 이를 rheometer(TA Instruments社 DHR-2)의 8 mm geometry에 부착하였다. Axial force 1N, strain 1% 및 frequency 1 Hz를 설정한 뒤, 5℃/min의 승온 속도로 -25℃ ~ 105℃ 온도 범위의 저장 탄성률을 측정하였고, 25℃에서 측정된 저장 탄성율을 취하였다.
(2) SR ratio (Stress-relaxation ratio)
광학용 점착 시트를 두께가 500 ㎛이 되도록 적층하여 시편을 제조하였다. 제작된 시편을 지름 25 mm 원형 모양으로 자르고, 이를 rheometer(TA Instruments社 DHR-2)의 25 mm geometry에 부착하였다. 측정 온도 70℃, axial force 1N로 설정하고, strain 10%로 일정하게 가하면서 시간에 따른 modulus 변화를 측정하였다. 이어, 하기 식으로 SR ratio를 측정하였다.
Figure 112020050539402-pat00001
(3) Creep
광학용 점착 시트를 두께가 500 ㎛이 되도록 적층하여 시편을 제조하였다. 제작된 시편을 지름 8 mm 원형 모양으로 잘라주고, 이를 rheometer(TA Instruments社 DHR-2)의 8 mm geometry에 부착하였다. 측정 온도 25℃, axial force 1N 및 frequency 1Hz를 설정한 뒤, 50 uN·m의 일정한 힘을 가하면서 시간에 따른 creep 변화를 측정하였다.
(4) 점착력
광학용 점착 시트를 두께 25 ㎛ PET film 상에 적층한 후, 25 mm 폭으로 재단하였다. 2 kg 롤러를 이용하여 PET film의 반대 면을 피착제(두께 3 mm Glass)에 부착하였다. 부착한 샘플을 오토클레이브를 사용하여 30℃에서 압력 3.5 kgf의 조건으로 7분 동안 압착시켰다. 상온에서 30분 방치하고, 이를 만능 재료 시험기(LLOYD社 LR5K plus)를 이용하여 300 mm/min 속도로 180° 박리하여 점착력을 측정하였다.
(5) 광학특성(투과율 및 헤이즈)
광학용 점착 시트를 quartz(50 × 50 mm)에 부착하여 테스트 시편을 제작하였다. 이를 분광측색계(Spectrophotometer, KONICA MINOLTA社 CM-3600A)를 이용하여 ASTM D1003-97에 따라 투과율 및 haze를 측정하였다.
(6) 단차 흡수성
도 1의 테스트 시편을 제조하였다.
구체적으로, 두께 188 ㎛ polarizer film에 광학용 점착 시트를 적층한 다음, polarizer film 면에 두께 0.7 mm glass를 부착하여 테스트 시편을 제조하였다. 상기 테스트 시편을 10 ㎛ 단위의 10 ~ 50 ㎛ Window glass와 30℃에서 압력 0.2 MPa의 조건으로 60초 동안 진공 접합하였다. 이를 오토클레이브를 사용하여 30℃에서 압력 0.35 MPa의 조건으로 7분 동안 압착하고, 단차 흡수성을 하기와 같이 평가하였다.
◎: 50 ㎛ 인쇄 glass 메꿔짐
○: 40 ㎛ 인쇄 glass 메꿔짐
△: 30 ㎛ 인쇄 glass 메꿔짐
×: 20 ㎛ 인쇄 glass 메꿔짐
(7) 재단 특성
광학용 점착 시트를 100 × 100 mm의 크기로 재단한 뒤, 재단 칼에 상기 시편이 묻어남의 정도를 이하와 같이 평가하였다.
◎: 재단 칼에 광학용 점착 시트가 묻어나지 않음
○: 재단 칼에 광학용 점착 시트가 약간 묻어남
△: 재단 칼에 광학용 점착 시트가 상당히 묻어남
×: 재단 칼에 광학용 점착 시트가 다량 묻어남
상기 테스트 결과를 하기 표 5에 나타내었다.
실시예 번호 비교예 번호
1 2 3 4 5 6 7 8 9 1 2
중간층 번호 1 2 3 4 5 1 1 1 1 1 -
점착층 번호 1 1 1 1 1 2 3 4 5 - 2
헤이즈(%) 경화 전 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5
경화 후 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5
투과율(%) 경화 전 >92 >92 >92 >92 >92 >92 >92 >92 >92 >92 >92
경화 후 >92 >92 >92 >92 >92 >92 >92 >92 >92 >92 >92
점착력(gf/25mm) 경화 전 >2400 >2400 >2400 >2200 >2400 >2400 >2200 >2200 >2200 >1800 >800
경화 후 >2400 >2600 >2600 >2400 >2600 >2600 >2400 >2400 >2400 >2000 >1000
Modulus (G' MPa, 25℃) 경화 전 0.100 0.060 0.150 0.085 0.126 0.180 0.140 0.080 0.075 0.217 0.010
경화 후 0.124 0.100 0.209 0.110 0.160 0.210 0.186 0.125 0.111 - -
SR ratio 경화 전 0.012 0.011 0.210 0.010 0.080 0.100 0.054 0.011 0.090 0.421 0.008
경화 후 0.190 0.190 0.330 0.183 0.280 0.260 0.200 0.150 0.140 - -
Creep
(%)		 경화 전 9.8 10.2 6.5 10.9 7.0 6.8 6.5 11.1 10.0 3.8 20.8
경화 후 3.2 4.2 0.2 4.9 1.8 1.6 0.2 5.7 5.1 - -
단차 흡수성
(경화 전)		 ◎ ◎ △ ◎ ○ △ △ ◎ ◎ X ◎
재단 특성
(경화 전)		 ◎ △ ◎ ○ ◎ ◎ ◎ ○ ○ ◎ △

Claims (11)

  1. 중간층; 및
    상기 중간층의 상면 및 하면에 각각 형성되는 점착층을 포함하는,
    광학용 점착 시트에 있어서,
    상기 중간층의 저장 탄성률은 0.100 내지 0.400 MPa이고,
    상기 점착층의 저장 탄성률은 0.001 내지 0.040 MPa이고,
    상기 광학용 점착 시트의 투과율은 90% 이상이고,
    상기 중간층의 저장 탄성률은 상기 점착층의 저장 탄성률 대비 9 내지 80배인,
    광학용 점착 시트.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 중간층의 저장 탄성률은 0.130 내지 0.300 MPa인,
    광학용 점착 시트.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 중간층의 저장 탄성률은 0.200 내지 0.250 MPa인,
    광학용 점착 시트.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 점착층의 저장 탄성률은 0.010 내지 0.035 MPa인,
    광학용 점착 시트.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 점착층의 저장 탄성률은 0.020 내지 0.030 MPa인,
    광학용 점착 시트.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 광학용 점착 시트의 점착력은 2000 gf/25 mm 이상인,
    광학용 점착 시트.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 광학용 점착 시트의 헤이즈는 1 % 이하인,
    광학용 점착 시트.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 광학용 점착 시트의 저장 탄성률은 0.050 내지 0.200 MPa인,
    광학용 점착 시트.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 중간층의 두께는 50 ㎛ 내지 200 ㎛인,
    광학용 점착 시트.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 점착층의 두께는 5 ㎛ 내지 50 ㎛인,
    광학용 점착 시트.
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